JP4983009B2 - Method for producing difluorobenzene derivative - Google Patents

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Description

本発明はジフルオロベンゼン誘導体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a difluorobenzene derivative.

液晶表示素子は、低電圧作動、薄型表示等の優れた特徴から現在広く用いられている。従来の液晶表示素子の表示方式にはTN(ねじれネマチック)、STN(超ねじれネマチック)、又はTNをベースにしたアクティブマトリックス(TFT:薄膜トランジスタ)等があり、これらは誘電率異方性値が正の液晶組成物を利用するものである。しかし、これら表示方式の欠点の一つとして視野角の狭さがあり、近年高まっている液晶パネルの大型化の要求に伴い、その改善が大きな課題となっている。   Liquid crystal display elements are currently widely used because of their excellent features such as low voltage operation and thin display. Conventional liquid crystal display element display methods include TN (twisted nematic), STN (super twisted nematic), or active matrix (TFT: thin film transistor) based on TN, and these have positive dielectric anisotropy values. The liquid crystal composition is used. However, one of the disadvantages of these display methods is a narrow viewing angle, and with the increasing demand for larger liquid crystal panels in recent years, the improvement has become a major issue.

この解決策として近年、垂直配向方式、IPS(インプレインスイッチング)等の表示方式が新たに実用化されてきた。垂直配向方式は液晶分子の垂直配向を利用して視野角の改善を図った方式であり、誘電異方性値が負の液晶組成物が使用される。またIPSは、ガラス基板に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせることで視野角の改善を図った方法であり、誘電異方性値が正又は負の液晶組成物が使用される。このように、視野角改善のために有効な表示方式である垂直配向方式及びIPSには誘電率異方性値が負である液晶化合物ならびに液晶組成物が必要であり、強く要望されるようになってきた。   In recent years, display methods such as vertical alignment and IPS (in-plane switching) have been newly put to practical use as a solution. The vertical alignment method is a method in which the viewing angle is improved by utilizing the vertical alignment of liquid crystal molecules, and a liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy value is used. IPS is a method of improving viewing angle by switching liquid crystal molecules using a horizontal electric field in the horizontal direction with respect to a glass substrate, and a liquid crystal composition having a positive or negative dielectric anisotropy value is used. Is done. As described above, the vertical alignment method and the IPS, which are effective display methods for improving the viewing angle, require a liquid crystal compound and a liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy value. It has become.

誘電率異方性が負の液晶組成物に使用される液晶化合物としては、2,3-ジフルオロベンゼン誘導体が挙げられる(特許文献1参照)。しかしながら、特許文献1は側鎖がアルキル基の化合物のみが開示されており、側鎖にアルケニル基を有する化合物の開示は全くなく、製造方法は知られていなかった。また、ベンゼン環の1位および4位にシクロヘキシルメトキシ基を有する化合物は化学的に不安定で液晶材料として使用できないとの知見(非特許文献1参照)により、当該化合物の製造方法の開発は進行していなかった。   Examples of the liquid crystal compound used in the liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy include 2,3-difluorobenzene derivatives (see Patent Document 1). However, Patent Document 1 discloses only a compound having an alkyl group in the side chain, and does not disclose any compound having an alkenyl group in the side chain, and the production method has not been known. In addition, the development of a method for producing the compound has progressed due to the knowledge that a compound having a cyclohexylmethoxy group at the 1-position and 4-position of the benzene ring is chemically unstable and cannot be used as a liquid crystal material (see Non-Patent Document 1). I did not.

特公表2−503568号公報Special Publication No. 2-503568 沼田、「液晶材料の動向」、月刊ディスプレイ、1998年3月、第4巻、第3号(5頁)Numata, “Trends in Liquid Crystal Materials,” Monthly Display, March 1998, Volume 4, Issue 3 (5 pages)

側鎖にアルケニル基を有するジフルオロベンゼン誘導体の製造方法を提供することである。また、側鎖にアルケニル基を有するジフルオロベンゼン誘導体の製造に有用な中間体化合物を提供することである。   It is to provide a method for producing a difluorobenzene derivative having an alkenyl group in the side chain. Another object of the present invention is to provide an intermediate compound useful for the production of a difluorobenzene derivative having an alkenyl group in the side chain.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本件発明を完成するに至った。
本発明は、一般式(1)
As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.
The present invention relates to general formula (1)

Figure 0004983009
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基またはプロピル基を表すか、R1およびR2は-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-または-CH2C(CH3)2CH2-を表し、X1は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。)で表される化合物に2,3-ジフルオロフェノールより調製されるフェノラートを反応させることにより一般式(2)
Figure 0004983009
(Wherein R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group or a propyl group, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 — or —CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —, and X 1 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group. By reacting a phenolate prepared from 2,3-difluorophenol with the compound represented by the general formula (2)

Figure 0004983009
(式中、R1およびR2は一般式(1)と同じ意味を表す。)で表される化合物とし、この化合物を脱保護して式(3)
Figure 0004983009
(Wherein R 1 and R 2 represent the same meaning as in the general formula (1)), and this compound is deprotected to give the formula (3)

Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物をメトキシメチルリンイリドと反応させた後加水分解することにより式(4)
Figure 0004983009
By reacting this compound with methoxymethyl phosphorylide and then hydrolyzing it, the compound represented by formula (4)

Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物にアルキルリンイリドを反応させることにより一般式(5)
Figure 0004983009
By reacting this compound with an alkyl phosphorus ylide, the compound represented by the general formula (5)

Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
The compound represented by general formula (6)

Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)

Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting

Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法を提供する。また、各製造中間体化合物もあわせて提供する。
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)). Each production intermediate compound is also provided.

本発明の製造方法は、ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法として有用である。また、本発明の化合物は、ジフルオロベンゼン誘導体の製造中間体として有用である。   The production method of the present invention is useful as a production method of a difluorobenzene derivative. In addition, the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing a difluorobenzene derivative.

2,3-ジフルオロフェノールに塩基を作用させてフェノラートとし、その後一般式(1)で表される化合物と反応させることによって一般式(2)で表される化合物を得るが、使用する塩基としては金属水素化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、金属カルボン酸塩、金属アミドおよび金属等を挙げることができ、中でもアルカリ金属水素化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アミドおよびアルカリ金属が好ましく、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物およびアルカリ金属炭酸塩は更に好ましい。アルカリ金属水素化物としては水素化リチウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウムを、アルカリ金属リン酸塩としてはリン酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウムおよび炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。   A compound represented by the general formula (2) is obtained by reacting a base with 2,3-difluorophenol to form a phenolate and then reacting with the compound represented by the general formula (1). Metal hydrides, metal carbonates, metal phosphates, metal hydroxides, metal carboxylates, metal amides, metals, etc. can be mentioned, among others alkali metal hydrides, alkali metal phosphates, alkali metal phosphoric acids Salts, alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides, alkali metal amides and alkali metals are preferred, and alkali metal phosphates, alkali metal hydrides and alkali metal carbonates are more preferred. Lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride as alkali metal hydrides, tripotassium phosphate as alkali metal phosphates, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, cesium carbonate, potassium carbonate as alkali metal carbonates And potassium hydrogen carbonate can be preferably mentioned.

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジクロロエタンおよび四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒およびN,N-ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。   Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably. Ether solvents, chlorine solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents, and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether and t-butyl methyl ether. Examples of chlorine solvents include dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride. Examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and polar solvents such as N, N-dimethylformamide, Preferable examples include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane. Among these, ether solvents such as tetrahydrofuran and diethyl ether and polar solvents such as N, N-dimethylformamide are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.

反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から150℃が好ましく、30℃から120℃がより好ましい。なお、生成したフェノラートを一度単離してから一般式(1)で表される化合物と反応させてもよく、単離せずに反応させてもよいが、作業の容易さから単離せずに反応させたほうがよい。   The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably from 0 ° C to 150 ° C, more preferably from 30 ° C to 120 ° C. The phenolate produced may be isolated once and then reacted with the compound represented by the general formula (1), or may be reacted without isolation, but it is allowed to react without isolation for ease of work. Better.

なお、R1およびR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基またはプロピル基を表すかまたは、R1およびR2は-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-または-CH2C(CH3)2CH2-を表すが、R1およびR2が共にメチル基であるか、R1およびR2が-CH2CH2-または-CH2CH2CH2-であることが好ましい。X1は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表すが、臭素またはメタンスルホニルオキシ基が好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group or a propyl group, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 — or —CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 — represents that R 1 and R 2 are both methyl groups, or R 1 and R 2 are —CH 2 CH 2 — or —CH 2 CH 2 CH 2 —. Is preferred. X 1 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, preferably bromine or methanesulfonyloxy group.

一般式(2)で表される化合物の脱保護は、酸性条件下で行うことが好ましい。使用する酸としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、しゅう酸、p-トルエンスルホン酸等のプロトン酸および三フッ化ほう素等のルイス酸等が挙げられるが、ギ酸を用いるのが好ましい。   The deprotection of the compound represented by the general formula (2) is preferably performed under acidic conditions. Examples of the acid used include protonic acids such as formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, and p-toluenesulfonic acid, and Lewis acids such as boron trifluoride. Formic acid is preferably used.

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができ、無溶媒で反応させてもよい。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルムおよび四塩化炭素等を、ケトン系溶媒としてはアセトンおよび2-ブタノン等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはアセトニトリルおよびジメチルスルホキシド等を好例として挙げることができる。中でも、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等の炭化水素系溶媒およびベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒等がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から100℃が好ましく、30℃から60℃がより好ましい。
Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but ether solvents, chlorine solvents, ketone solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, polar solvents, and the like are preferably used. And may be reacted without solvent. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of chlorine solvents include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. Acetone, 2-butanone and the like as ketone solvents, pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane as hydrocarbon solvents, and benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dibenzene as aromatic solvents. Preferable examples include chlorobenzene and acetonitrile, dimethyl sulfoxide and the like as polar solvents. Of these, hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane, and aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably 30 ° C to 60 ° C.

式(3)で表される化合物をメトキシメチルリンイリドと反応させた後加水分解することにより式(4)で表される化合物を得ることができる。リンイリドはホスホニウム塩、ホスホン酸エステル等から調整することができるが、メトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩から調整することが好ましい。   The compound represented by the formula (3) can be obtained by reacting the compound represented by the formula (3) with methoxymethyl phosphorylide and then hydrolyzing it. The phosphorus ylide can be prepared from a phosphonium salt, a phosphonic acid ester, or the like, but is preferably prepared from a methoxymethyltriphenylphosphonium salt.

メトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩を用いてイリドを調整する場合塩基を作用させて行うが、使用する塩基としてはカリウム-t-ブトキシド、n-ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化ナトリウム等が好ましく、カリウム-t-ブトキシドがより好ましい。反応溶媒はエーテル系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド等を好例として挙げることができる。中でもテトラヒドロフランおよびトルエンがより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、-40℃から30℃が好ましく、-20℃から20℃がより好ましい。得られたイリドは単離することなく式(3)で表される化合物と反応させるのが好ましい。また、メトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩および式(3)で表される化合物の混合物に対して塩基を加えてもよい。
When adjusting ylide using methoxymethyltriphenylphosphonium salt, it is carried out by allowing a base to act. As the base to be used, potassium tert-butoxide, n-butyllithium, phenyllithium, sodium hydride and the like are preferable. t-Butoxide is more preferred. As the reaction solvent, ether solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, and the like as polar solvents. A good example is N, N-dimethylformamide. Of these, tetrahydrofuran and toluene are more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably -40 ° C to 30 ° C, more preferably -20 ° C to 20 ° C. The obtained ylide is preferably reacted with the compound represented by the formula (3) without isolation. Further, a base may be added to the mixture of the methoxymethyltriphenylphosphonium salt and the compound represented by the formula (3).

加水分解は酸触媒下で行うことができる。使用する酸としては、希塩酸、硫酸水溶液等を好例として挙げることができる。反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等を好ましく用いることができ、無溶媒で反応させてもよい。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフランがより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から80℃が好ましい。
Hydrolysis can be carried out under an acid catalyst. Examples of the acid to be used include dilute hydrochloric acid and sulfuric acid aqueous solution. Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, but ether solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents and the like can be preferably used, and the reaction may be performed without solvent. . Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, and octane. Examples of the group solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like. Of these, tetrahydrofuran is more preferable. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used.
The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably from 0 ° C to 80 ° C.

こうして得られる式(4)で表される化合物は、シクロヘキサン環に関するシス体およびトランス体の混合物として得られるが、液晶化合物の中間体として使用するためにはトランス体であることが好ましい。式(4)で表される化合物のシクロヘキサン環に関しては、塩基を作用させることによりシス−トランス異性化を行うことができ、トランス体を過剰に得ることができる。この際使用する塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が好ましく、反応溶媒はメタノール、エタノールおよびテトラヒドロフラン等が好ましく、反応温度は-40℃から20℃が好ましく、-20℃から10℃がより好ましい。   The compound represented by the formula (4) thus obtained is obtained as a mixture of a cis isomer and a trans isomer relating to a cyclohexane ring, but is preferably a trans isomer for use as an intermediate of a liquid crystal compound. With respect to the cyclohexane ring of the compound represented by the formula (4), cis-trans isomerization can be performed by acting a base, and an excess of trans isomer can be obtained. The base used at this time is preferably sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like, the reaction solvent is preferably methanol, ethanol or tetrahydrofuran, the reaction temperature is preferably -40 ° C to 20 ° C, more preferably -20 ° C to 10 ° C. preferable.

式(4)で表される化合物にアルキルリンイリドを反応させることによって一般式(5)で表される化合物を得ることができる。リンイリドはホスホニウム塩、ホスホン酸エステル等から調整することができるが、アルキルトリフェニルホスホニウム塩から調整することが好ましい。   A compound represented by the general formula (5) can be obtained by reacting the compound represented by the formula (4) with an alkyl phosphorus ylide. The phosphorus ylide can be adjusted from a phosphonium salt, a phosphonic acid ester or the like, but is preferably adjusted from an alkyltriphenylphosphonium salt.

アルキルトリフェニルホスホニウム塩を用いてイリドを調整する場合塩基を作用させて行うが、使用する塩基としてはカリウム-t-ブトキシド、n-ブチルリチウム、フェニルリチウム、水素化ナトリウム等が好ましく、カリウム-t-ブトキシドがより好ましい。反応溶媒はエーテル系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド等を好例として挙げることができる。テトラヒドロフランおよびトルエンがより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、-40℃から30℃が好ましく、-20℃から20℃がより好ましい。得られたイリドは単離することなく式(4)で表される化合物と反応させるのが好ましい。また、アルキルトリフェニルホスホニウム塩および式(4)で表される化合物の混合物に対して塩基を加えてもよい。アルキルトリフェニルホスホニウム塩としてはメチルトリフェニルホスホニウム塩が好ましい。   When adjusting an ylide using an alkyltriphenylphosphonium salt, a base is allowed to act. As the base to be used, potassium-t-butoxide, n-butyllithium, phenyllithium, sodium hydride and the like are preferable, and potassium-t -Butoxide is more preferred. As the reaction solvent, ether solvents, aromatic solvents, polar solvents and the like can be preferably used. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, and the like as polar solvents. A good example is N, N-dimethylformamide. Tetrahydrofuran and toluene are more preferred. Each of the above solvents may be used alone, or two or more solvents may be mixed and used. The reaction temperature can be in the range from the freezing point of the solvent to the reflux temperature, but is preferably -40 ° C to 30 ° C, more preferably -20 ° C to 20 ° C. The obtained ylide is preferably reacted with the compound represented by the formula (4) without isolation. Further, a base may be added to the mixture of the alkyltriphenylphosphonium salt and the compound represented by the formula (4). As the alkyltriphenylphosphonium salt, methyltriphenylphosphonium salt is preferable.

一般式(5)で表される化合物の酸化は、有機金属試薬により脱プロトン化した後ほう酸トリアルキルと反応させてほう素化合物とし、その後酸化剤を作用させることによって行うことができる。反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒および炭化水素系溶媒等を挙げることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテル等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。有機金属試薬としてはn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、メチルリチウムおよびリチウムジイソプロピルアミド等を挙げることができ、入手および取り扱いの容易さからn-ブチルリチウムおよびsec-ブチルリチウムが好ましく、効率的に脱プロトン化が可能であるsec-ブチルリチウムがより好ましい。また、脱プロトン化の際には、上記有機金属試薬と共にカリウム-t-ブトキシド、テトラメチルエチレンジアミン等の塩基を添加剤として用いてもよい。脱プロトン化の際の反応温度は-100℃から-20℃が好ましく、-78℃から-40℃がより好ましい。   The oxidation of the compound represented by the general formula (5) can be carried out by deprotonation with an organometallic reagent and then reacting with a trialkyl borate to form a boron compound, followed by the action of an oxidizing agent. Any reaction solvent may be used as long as it allows the reaction to proceed suitably, and examples thereof include ether solvents and hydrocarbon solvents. Examples of ether solvents include 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and t-butyl methyl ether. Examples of hydrocarbon solvents include pentane, hexane, cyclohexane, heptane, and octane. Of these, tetrahydrofuran is preferred. Examples of the organometallic reagent include n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, methyllithium and lithium diisopropylamide, and n-butyllithium and sec-butyllithium are Preferably, sec-butyllithium that can be efficiently deprotonated is more preferable. In the deprotonation, a base such as potassium tert-butoxide or tetramethylethylenediamine may be used as an additive together with the organometallic reagent. The reaction temperature at the time of deprotonation is preferably -100 ° C to -20 ° C, more preferably -78 ° C to -40 ° C.

ほう酸トリアルキルとしては、ほう酸トリメチルを用いるのが好ましい。ほう素化の際の反応温度は-100℃から-20℃が好ましく、-78℃から-40℃がより好ましい。得られたほう素化合物は一度単離してもよく、単離せずそのまま酸化剤と反応させてもよい。また、得られたほう素化合物を加水分解してほう酸化合物へと変換した後に酸化剤と反応させても構わない。   Trimethyl borate is preferably used as the trialkyl borate. The reaction temperature during boriding is preferably from -100 ° C to -20 ° C, more preferably from -78 ° C to -40 ° C. The obtained boron compound may be isolated once or may be reacted with an oxidizing agent without isolation. Further, the obtained boron compound may be hydrolyzed and converted into a boric acid compound and then reacted with an oxidizing agent.

酸化剤としては、過酸化水素水、過酢酸または過ギ酸を用いるのが好ましい。反応温度は-78℃から70℃が好ましく、0℃から50℃がより好ましい。また、酸化剤との反応時には、溶媒に水が含まれていても構わない。   As the oxidizing agent, it is preferable to use hydrogen peroxide, peracetic acid or performic acid. The reaction temperature is preferably -78 ° C to 70 ° C, more preferably 0 ° C to 50 ° C. Moreover, water may be contained in the solvent at the time of reaction with an oxidizing agent.

一般式(6)で表される化合物を一般式(8)で表される化合物に変換する反応は、一般式(1)で表される化合物を一般式(2)へ変換する反応(前述)と同様に行うことができる。この際X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表すが、臭素またはメタンスルホニルオキシ基が好ましい。 The reaction for converting the compound represented by the general formula (6) into the compound represented by the general formula (8) is a reaction for converting the compound represented by the general formula (1) into the general formula (2) (described above). Can be done as well. X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, preferably bromine or methanesulfonyloxy group.

一般式(7)および一般式(8)において、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表すが、炭素原子数1から12のアルキル基または炭素原子数2から12のアルケニル基が好ましく、炭素原子数1から7のアルキル基を表す化合物の製造が特に好ましい。 In General Formula (7) and General Formula (8), R 4 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 carbon atoms. To an alkenyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferred is the production of a compound representing an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、質量スペクトル(MS)等により確認した。
化合物記載に下記の略号を使用する。
THF :テトラヒドロフラン
DMF :N, N-ジメチルホルムアミド
Me :メチル基
Et :エチル基
Bu :ブチル基
Ph :フェニル基
Ms :メタンスルホニル基
(実施例1)1-((4’,4’-エチレンジオキシ)シクロヘキシル)メトキシ-2,3-ジフルオロベンゼン(Ia)の合成
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples. The structure of the compound was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum (NMR), mass spectrum (MS) and the like.
The following abbreviations are used in compound descriptions.
THF: tetrahydrofuran
DMF: N, N-dimethylformamide
Me: methyl group
Et: ethyl group
Bu: Butyl group
Ph: phenyl group
Ms: Methanesulfonyl group (Example 1) Synthesis of 1-((4 ′, 4′-ethylenedioxy) cyclohexyl) methoxy-2,3-difluorobenzene (Ia)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

メタンスルホン酸 ((4’,4’-エチレンジオキシ)シクロヘキシル)メチル721 g、2,3-ジフルオロフェノール393 g、炭酸ナトリウム320 gおよびDMF 2.1 Lを混合し、130℃で2時間攪拌した。水4.2 Lを加え、ヘキサン/トルエン=1/1で抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、カラムクロマトグラフィーに付し、溶媒を減圧留去した。残渣を再結晶により精製し、1-((4’, 4’-エチレンジオキシ)シクロヘキシル)メトキシ-2,3-ジフルオロベンゼン(Ia)493 gを得た。化合物(Ia)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 284 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 3.8 4.0 (m, 6 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例2)2,3-ジフルオロ-1-(4-オキソシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ib)の合成
Methanesulfonic acid ((4 ′, 4′-ethylenedioxy) cyclohexyl) methyl (721 g), 2,3-difluorophenol (393 g), sodium carbonate (320 g) and DMF (2.1 L) were mixed and stirred at 130 ° C. for 2 hours. After adding 4.2 L of water and extracting with hexane / toluene = 1/1, the organic layer was washed with water and saturated brine and then subjected to column chromatography, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by recrystallization to obtain 493 g of 1-((4 ′, 4′-ethylenedioxy) cyclohexyl) methoxy-2,3-difluorobenzene (Ia). Compound (Ia) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 284 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 3.8 4.0 (m, 6 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
Example 2 Synthesis of 2,3-difluoro-1- (4-oxocyclohexyl) methoxybenzene (Ib)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

1-((4’, 4’-エチレンジオキシ)シクロヘキシル)メトキシ-2,3-ジフルオロベンゼン(Ia)493 gをトルエン1 Lに溶解し、ギ酸1 Lを加えて室温で2時間攪拌後、50℃で1.5時間攪拌した。室温まで冷却後、水および飽和食塩水を加えて有機層を分取し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィーに付した後溶媒を減圧留去して2,3-ジフルオロ-1-(4-オキソシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ib)412.4 gを得た。化合物(Ib)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 240 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.6 1.9 (m, 4 H), 2.0 2.4 (m, 5 H), 3.8 4.0(m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例3)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ホルミルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ic)の合成
493 g of 1-((4 ′, 4′-ethylenedioxy) cyclohexyl) methoxy-2,3-difluorobenzene (Ia) was dissolved in 1 L of toluene, 1 L of formic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Stir at 50 ° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, water and saturated brine were added, and the organic layer was separated, washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, subjected to column chromatography, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. Thus, 412.4 g of 3-difluoro-1- (4-oxocyclohexyl) methoxybenzene (Ib) was obtained. Compound (Ib) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 240 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 1.6 1.9 (m, 4 H), 2.0 2.4 (m, 5 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
Example 3 Synthesis of 2,3-difluoro-1- (trans-4-formylcyclohexyl) methoxybenzene (Ic)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

2,3-ジフルオロ-1-(4-オキソシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ib)412.4 gおよびメトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド706 gをTHF 1200 mLに分散し、カリウム-t-ブトキシド231 gのTHF(450 mL)溶液を内温-10〜5℃で加え、30分攪拌した。水50 mLを加えた後溶媒を減圧留去し、残渣に50%メタノール水溶液およびヘキサンを加えて有機層を分取した。有機層を50%メタノール水溶液および飽和食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィーに付した後溶媒を減圧留去した。残渣にTHF 800 mLおよび10%塩酸400 mLを加え、1.5時間加熱還流した。室温まで冷却後THF/ヘキサン混合溶媒で抽出し、有機層を飽和食塩水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残渣に水酸化ナトリウム20 gのメタノール(1 L)溶液を加え、内温-20〜-5℃で1時間攪拌した。水1 L、飽和食塩水500 mL、THF 200 mLおよび酢酸エチル500 mLを加えて有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を減圧留去して2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ホルミルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ic)363 gを得た。化合物(Ic)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 254 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 2.2 2.4 (m, 1 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H), 9.6 9.8 (m, 1 H)
(実施例4)2,3-ジフルオロ-1- (トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Id)の合成
Disperse 412.4 g of 2,3-difluoro-1- (4-oxocyclohexyl) methoxybenzene (Ib) and 706 g of methoxymethyltriphenylphosphonium chloride in 1200 mL of THF, and add 231 g of potassium-t-butoxide in THF (450 mL). ) The solution was added at an internal temperature of -10 to 5 ° C and stirred for 30 minutes. After adding 50 mL of water, the solvent was distilled off under reduced pressure, 50% aqueous methanol and hexane were added to the residue, and the organic layer was separated. The organic layer was washed with 50% aqueous methanol solution and saturated brine, subjected to column chromatography, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. 800 mL of THF and 400 mL of 10% hydrochloric acid were added to the residue, and the mixture was heated to reflux for 1.5 hours. After cooling to room temperature, the mixture was extracted with a THF / hexane mixed solvent, and the organic layer was washed with saturated brine and saturated aqueous sodium hydrogencarbonate, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. A solution of 20 g of sodium hydroxide in methanol (1 L) was added to the residue, and the mixture was stirred at an internal temperature of −20 to −5 ° C. for 1 hour. 1 L of water, 500 mL of saturated brine, 200 mL of THF and 500 mL of ethyl acetate were added to separate the organic layer, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give 363 g of 2,3-difluoro-1- (trans-4-formylcyclohexyl) methoxybenzene (Ic). Obtained. Compound (Ic) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 254 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 2.2 2.4 (m, 1 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H), 9.6 9.8 ( m, 1 H)
Example 4 Synthesis of 2,3-difluoro-1- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (Id)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

メチルトリフェニルホスホニウムクロリド612 gおよび2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ホルミルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ic)363 gをTHF 1 Lに分散し、カリウム-t-ブトキシド192 gのTHF(200 mL)溶液を内温-10℃で滴下し、30分攪拌した。水50 mLを加えた後溶媒を減圧留去し、残渣に50%メタノール水溶液およびヘキサンを加えて有機層を分取した。有機層を50%メタノール水溶液および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー、減圧蒸留および再結晶により精製し、無色結晶として2,3-ジフルオロ-1- (トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Id)146.8 gを得た。化合物(Id)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
沸点 125℃/0.4 mmHg
MS m/z : 252 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例5)2,3-ジフルオロ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシフェノール(Ie)の合成
612 g of methyltriphenylphosphonium chloride and 363 g of 2,3-difluoro-1- (trans-4-formylcyclohexyl) methoxybenzene (Ic) were dispersed in 1 L of THF, and 192 g of potassium-t-butoxide (200 g) mL) The solution was added dropwise at an internal temperature of −10 ° C. and stirred for 30 minutes. After adding 50 mL of water, the solvent was distilled off under reduced pressure, 50% aqueous methanol and hexane were added to the residue, and the organic layer was separated. The organic layer was washed with 50% aqueous methanol solution and saturated brine, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography, distillation under reduced pressure and recrystallization to obtain 146.8 g of 2,3-difluoro-1- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (Id) as colorless crystals. The compound (Id) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
Boiling point 125 ° C / 0.4 mmHg
MS m / z: 252 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.4 6.6 ( m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
Example 5 Synthesis of 2,3-difluoro-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxyphenol (Ie)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

2,3-ジフルオロ-1- (トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Id)146.8 gをTHF 500 mLに溶解し、sec-ブチルリチウム(1.0 M in hexane, cyclohexane)611 mLを内温-40〜-55℃で滴下し、内温を保ったまま20分攪拌した。ほう酸トリメチル66.5 gを内温-40〜-55℃で滴下し、0℃まで昇温した。30%過酸化水素水99 mLを5分で滴下し、40℃で2時間攪拌した。希塩酸を加えてしばらく攪拌し、ヘキサン/THF混合溶媒で抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、ほぼ無色結晶として2,3-ジフルオロ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシフェノール(Ie)165 gを得た。化合物(Ie)は、液晶化合物の製造中間体として有用である。
MS m/z : 268 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.3 6.5 (m, 2 H), 4.0 6.0 (s, 1 H)
(実施例6)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(If)の合成
Dissolve 146.8 g of 2,3-difluoro-1- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (Id) in 500 mL of THF, and add 611 mL of sec-butyllithium (1.0 M in hexane, cyclohexane) to an internal temperature of -40. The solution was added dropwise at ˜−55 ° C. and stirred for 20 minutes while maintaining the internal temperature. 66.5 g of trimethyl borate was added dropwise at an internal temperature of -40 to -55 ° C, and the temperature was raised to 0 ° C. 99 mL of 30% hydrogen peroxide solution was added dropwise over 5 minutes, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours. Dilute hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred for a while and extracted with a hexane / THF mixed solvent. The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give 2,3-difluoro-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxyphenol as almost colorless crystals ( Ie) 165 g was obtained. Compound (Ie) is useful as an intermediate for producing a liquid crystal compound.
MS m / z: 268 (M + )
1 H-NMR (60 MHz, CDCl 3 )
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.3 6.5 ( m, 2 H), 4.0 6.0 (s, 1 H)
Example 6 Synthesis of 2,3-difluoro-1- (trans-4-butylcyclohexyl) methoxy-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (If)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

2,3-ジフルオロ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシフェノール(Ie)80 g 、(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)ブロモメタン83.4 g、リン酸三カリウム76 gおよびDMF 240 mLを混合し、100 110℃で4.5時間攪拌した。室温まで冷却後、水、トルエンおよびヘキサンを加えて有機層を分取した。水層をトルエン/ヘキサン混合溶媒で抽出し、有機層を合わせて水および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。残渣を再結晶およびカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色結晶として2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(If)を得た。
相転移温度 : C 55.2 N 95.8 I
MS m/z : 420 (M+), 146 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.80 1.35 (m, 15 H), 0.889 (t, J = 6.8 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 11 H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.85 5.05 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.6 Hz, 2 H)
(実施例7)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-(トランス-4-エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(IIf)の合成
2,3-difluoro-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxyphenol (Ie) 80 g, (trans-4-butylcyclohexyl) bromomethane 83.4 g, tripotassium phosphate 76 g and DMF 240 mL were mixed, The mixture was stirred at 110 ° C. for 4.5 hours. After cooling to room temperature, water, toluene and hexane were added to separate the organic layer. The aqueous layer was extracted with a toluene / hexane mixed solvent, the organic layers were combined and washed with water and saturated brine, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by recrystallization and column chromatography to give 2,3-difluoro-1- (trans-4-butylcyclohexyl) methoxy-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (If) as colorless crystals. It was.
Phase transition temperature: C 55.2 N 95.8 I
MS m / z: 420 (M + ), 146 (100)
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 )
δ: 0.80 1.35 (m, 15 H), 0.889 (t, J = 6.8 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 11 H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.85 5.05 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.6 Hz, 2 H)
Example 7 Synthesis of 2,3-difluoro-1- (trans-4- (trans-4-ethylcyclohexyl) cyclohexyl) methoxy-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (IIf)

Figure 0004983009
Figure 0004983009

実施例6において、(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)ブロモメタンの代わりにメタンスルホン酸 (トランス-4-(トランス-4-エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)メチルを用い、同様の操作を行うことにより、2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-(トランス-4-エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(IIf)を得た。
相転移温度 : C 75.6 N 195.2 I
MS m/z : 474 (M+), 146 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.75 1.25 (m, 17 H), 0.86 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 15 H), 3.75 (d, J = 6.8 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.87 5.03 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.2 Hz, 2 H)
In Example 6, the same operation was carried out by using methanesulfonic acid (trans-4- (trans-4-ethylcyclohexyl) cyclohexyl) methyl in place of (trans-4-butylcyclohexyl) bromomethane, and performing the same procedure. -Difluoro-1- (trans-4- (trans-4-ethylcyclohexyl) cyclohexyl) methoxy-4- (trans-4-vinylcyclohexyl) methoxybenzene (IIf) was obtained.
Phase transition temperature: C 75.6 N 195.2 I
MS m / z: 474 (M + ), 146 (100)
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 )
δ: 0.75 1.25 (m, 17 H), 0.86 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 15 H), 3.75 (d, J = 6.8 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.87 5.03 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.2 Hz, 2 H)

本発明の製造方法は、液晶化合物の製造方法として有用である。また、本発明の化合物は、液晶化合物の製造中間体として有用である。

The production method of the present invention is useful as a production method of a liquid crystal compound. Moreover, the compound of this invention is useful as a manufacturing intermediate of a liquid crystal compound.

Claims (19)

一般式(1)
Figure 0004983009
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基またはプロピル基を表すか、R1およびR2は一緒になって-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-または-CH2C(CH3)2CH2-を表し、X1は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。)で表される化合物に2,3-ジフルオロフェノールより調製されるフェノラートを反応させることにより一般式(2)
Figure 0004983009
(式中、R1およびR2は一般式(1)と同じ意味を表す。)で表される化合物とし、この化合物を脱保護して式(3)
Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物をメトキシメチルリンイリドと反応させた後加水分解することにより式(4)
Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物にアルキルリンイリドを反応させることにより一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (1)
Figure 0004983009
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group or a propyl group, or R 1 and R 2 together represent —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 -Or -CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2- , wherein X 1 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group. By reacting a phenolate prepared from 2,3-difluorophenol with the compound represented by formula (2)
Figure 0004983009
(Wherein R 1 and R 2 represent the same meaning as in the general formula (1)), and this compound is deprotected to give the formula (3)
Figure 0004983009
By reacting this compound with methoxymethyl phosphorylide and then hydrolyzing it, the compound represented by formula (4)
Figure 0004983009
By reacting this compound with an alkyl phosphorus ylide, the compound represented by the general formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
The compound represented by general formula (6)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
一般式(2)
Figure 0004983009
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立的にメチル基、エチル基またはプロピル基を表すか、R1およびR2は一緒になって-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-または-CH2C(CH3)2CH2-を表す。)で表される化合物を脱保護して式(3)
Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物をメトキシメチルリンイリドと反応させた後加水分解することにより式(4)
Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物にアルキルリンイリドを反応させることにより一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 0004983009
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group or a propyl group, or R 1 and R 2 together represent —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 -Or -CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2- represents a compound represented by the formula (3)
Figure 0004983009
By reacting this compound with methoxymethyl phosphorylide and then hydrolyzing it, the compound represented by formula (4)
Figure 0004983009
By reacting this compound with an alkyl phosphorus ylide, the compound represented by the general formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
The compound represented by general formula (6)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
式(3)
Figure 0004983009
で表される化合物をメトキシメチルリンイリドと反応させた後加水分解することにより式(4)
Figure 0004983009
で表される化合物とし、この化合物にアルキルリンイリドを反応させることにより一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (3)
Figure 0004983009
The compound represented by formula (4) is reacted with methoxymethyl phosphorylide and then hydrolyzed.
Figure 0004983009
By reacting this compound with an alkyl phosphorus ylide, the compound represented by the general formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
The compound represented by general formula (6)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
式(4)
Figure 0004983009
で表される化合物にアルキルリンイリドを反応させることにより一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (4)
Figure 0004983009
By reacting an alkyl phosphorus ylide with a compound represented by general formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
The compound represented by general formula (6)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物を酸化して一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
Oxidizing the compound represented by general formula (6)
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
And a phenolate prepared from this compound is represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (5), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
Figure 0004983009
(式中、X2は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R4は炭素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数2から12のアルケニル基、炭素原子数1から12のアルコキシ基、炭素原子数3から12のアルケニルオキシ基を表し、nは1または2を表す。)で表される化合物と反応させることによる一般式(8)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(6)と同じ意味を表し、R4およびnは一般式(7)と同じ意味を表す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (6)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
A phenolate prepared from the compound represented by the general formula (7)
Figure 0004983009
(Wherein X 2 represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or trifluoromethanesulfonyloxy group, and R 4 represents alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 12 carbon atoms, and n represents 1 or 2. General formula (8) by reacting
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents the same meaning as in general formula (6), and R 4 and n represent the same meaning as in general formula (7)).
一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物を酸化することによる一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は一般式(5)と同じ意味を表す。)
で表される化合物の製造方法。
General formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
General formula (6) by oxidizing a compound represented by
Figure 0004983009
(In the formula, R 3 represents the same meaning as in general formula (5).)
The manufacturing method of the compound represented by these.
メトキシメチルリンイリドがメトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩より調製されるイリドである請求項1、2、3又は4記載の製造方法。 The process according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein the methoxymethyl phosphorus ylide is an ylide prepared from a methoxymethyl triphenylphosphonium salt. アルキルリンイリドがアルキルトリフェニルホスホニウム塩より調製されるイリドである請求項1、2又は3記載の製造方法。 4. The process according to claim 1, 2, or 3, wherein the alkyl phosphorus ylide is an ylide prepared from an alkyl triphenylphosphonium salt. 一般式(5)で表される化合物を酸化する方法が、一般式(5)で表される化合物の4位を有機金属試薬により脱プロトン化し、ほう酸トリアルキルと反応させた後、過酸化物を反応させることによる請求項1、2、3、4、5または7の何れかに記載の製造方法。 In the method of oxidizing the compound represented by the general formula (5), the 4-position of the compound represented by the general formula (5) is deprotonated with an organometallic reagent, reacted with a trialkyl borate, and then peroxide. The manufacturing method in any one of Claim 1, 2, 3, 4, 5 or 7 by making this react. 有機金属試薬としてn-ブチルリチウムまたはsec-ブチルリチウムを用い、ほう酸トリアルキルとしてほう酸トリメチルを用いる請求項10記載の製造方法。 The production method according to claim 10 , wherein n-butyl lithium or sec-butyl lithium is used as the organometallic reagent, and trimethyl borate is used as the trialkyl borate. 酸化剤として過酸化水素、過ギ酸または過酢酸を用いる請求項8または9記載の製造方法。 The production method according to claim 8 or 9, wherein hydrogen peroxide, performic acid or peracetic acid is used as the oxidizing agent. X1が臭素またはメタンスルホニルオキシ基を表す請求項1記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein X 1 represents bromine or a methanesulfonyloxy group. X2が臭素またはメタンスルホニルオキシ基を表す請求項1から6の何れかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 6, wherein X 2 represents bromine or a methanesulfonyloxy group. R1およびR2が共にメチル基を表すかまたは、R1およびR2が一緒になって-CH2CH2-または-CH2CH2CH2-を表す請求項1または2に記載の製造方法。 The production according to claim 1 or 2, wherein R 1 and R 2 both represent a methyl group, or R 1 and R 2 together represent -CH 2 CH 2 -or -CH 2 CH 2 CH 2-. Method. 式(3)
Figure 0004983009
で表される化合物。
Formula (3)
Figure 0004983009
A compound represented by
式(4)
Figure 0004983009
で表される化合物。
Formula (4)
Figure 0004983009
A compound represented by
一般式(5)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物。
General formula (5)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
A compound represented by
一般式(6)
Figure 0004983009
(式中、R3は水素原子または炭素原子数1から5のアルキル基を表す。)
で表される化合物。
General formula (6)
Figure 0004983009
(Wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
A compound represented by
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