JP2008129558A - 露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源とマスクを相対的に回転させてマスク背後に配置したレジストを露光することでマイクロレンズ等の曲面を製造する方法の提供。
【解決手段】透明開口２を設けたマスク１の背後に配置されたフォトレジスト層３に透明開口２を通して照明光を照射し、フォトレジスト層３の露光された部分を硬化させるか分解することで、フォトレジスト層３に曲面構造を作製する曲面製造方法であり、照明光の光源５として光が照射される角度範囲が制限される指向性のある光源をアレイ状に配置してなる光源アレイ６を用い、マスク１とその背後に配置されたフォトレジスト層３とからなる被加工基板４と光源アレイ６とを対向配置し、被加工基板４を光源アレイ６に対して基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させながら、マスク１の透明開口２を通してレジスト３を露光する曲面製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法に関し、例えばマイクロレンズアレイ等の微細な光学部品の製造に適用できる曲面製造方法に関するものである。

マイクロレンズや光通信用導波路等の微細な光学部品を製作するためには、ミクロンオーダーの曲面製造法が必要である。現在実用化されている曲面製造法としては、機械加工やリソグラフィ技術を用いた方法等があるが、機械加工によりガラスやプラスチックを研削・研磨する手法は量産性に劣り、射出成形する方法は高価な精密金型が必要となり時間とコスト面での課題が残る。

また、リソグラフィ技術を用いた曲面製造法としては、レジスト材料を熱溶解させ表面張力を利用して曲面を形成する方法や、グレイスケールマスクを用いて紫外線の透過率を変化させ感光性材料に曲面を形成する方法がある（非特許文献１）。前者は、スピンコーティングしたレジストを溶かして曲面を形成するため高さ数ミクロン、直径数１０ミクロンの大きさにまでしか対応できないという問題があり、後者はグレイスケールマスクが高価な上、形状を制御するためにはプロセス条件を厳密に管理する必要があり、さらに光学素子で問題となる表面荒れや起こしやすいといった課題がある。これに加え、超高圧水銀灯を光源とする平行露光源を用いるため、数１０ｃｍを超える大面積に一括で曲面構造を製造するのが困難という問題があった。

さらに、平行な照明光（紫外線、Ｘ線）中で開口を形成したマスク板を傾斜させて回転させながらマスク板背後のレジストあるいはガラス基板を露光することで、逆円錐状の三次元構造体や屈折率分布型のマイクロレンズを製造する方法も提案されている（非特許文献２、特許文献１）。
特開平１１−２９５５０４号公報 Ｒｉｃｏｈ Ｔｅｃｈｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ Ｎｏ．２９（Ｄｅｃｅｍｂｅｒ，２００３）ｐｐ．１３〜２０ 電学論Ｅ，１２６巻６号，２００６年，２２２〜２２７頁

本発明は従来技術のこのような状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＵＶ−ＬＥＤのような指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源とマスクを相対的に回転させてマスク背後に配置したレジスト（フォトレジスト）を露光することで、マイクロレンズ等の曲面製造方法を提供することである。

上記目的を達成するための本発明の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法は、所定形状の透明開口を設けたマスクの背後に配置されたフォトレジスト層に前記透明開口を通して照明光を照射し、フォトレジスト層の露光された部分を硬化させるか分解することで、前記フォトレジスト層に曲面構造を作製する曲面製造方法において、
前記照明光の光源として光が照射される角度範囲が制限される指向性のある光源をアレイ状に配置してなる光源アレイを用い、前記マスクとその背後に配置されたフォトレジスト層とからなる被加工基板と前記光源アレイとを対向配置し、前記被加工基板を前記光源アレイに対して基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させるか、基板面に垂直な軸の周りの閉じた軌跡に沿って相対的に平行移動させながら、前記マスクの前記透明開口を通して前記レジストを露光することを特徴とする方法である。

この場合、前記透明開口に平均透過率が分布しているグレイスケールマスクが設けられているものを用いてもよい。

また、前記マスクには形状が同じか異なる複数の前記透明開口が設けられていてもよい。

また、前記フォトレジスト層に形成された曲面構造の複製を取るようにすることができる。

また、前記フォトレジスト層としては、ネガ型、ポジ型何れでもよい。

また、前記透明開口として円形開口を用い、マイクロレンズを作製することができる。

また、前記透明開口として長方形開口を用い、シリンドリカルマイクロレンズを作製することができる。

以上の本発明で、曲面構造の制御と一括大面積露光が可能で、さらに、化学増感型レジストを裏面より露光することで、高さ数１０〜数１００μｍ、直径数１００μｍ〜数ｍｍの平滑な曲面を持つ光学素子等の曲面構造の作製が可能となる。さらに、同一平面で高さ・曲率を変えたマイクロレンズアレイの製造も可能となる。

微細な曲面構造は、マイクロレンズや光通信における導波路等、光学部品の分野において大きな需要がある。本発明の曲面製造方法においては、例えばＬＥＤ露光源を用いて回転露光を行うことで、曲面構造の制御と一括大面積露光、製造工程の簡易化・低コスト化が可能となる。また、同一平面上で連続的に高さや曲率を変えたマイクロレンズ、半円錐のような特殊な曲面も製作可能であり、光学素子のみならず、光ファイバのガイドラインや、バイオ・化学分析デバイス分野のマイクロ流路等への応用も可能である。

以下、本発明の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法の原理と実施例を説明する。

本発明の曲面製造方法においては、露光光源としてＬＥＤ等の指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源アレイを用い、透明開口を設けたマスクの背面にレジストを塗布した被加工基板を回転ステージ上に取り付け、被加工基板を基板面に垂直な軸の周りで回転させながらマスクの開口を通してレジストの露光を行う方法である。なお、被加工基板を固定し、光源アレイを回転させる構成でもよい。

この方法は、光源アレイと被加工基板の間に相対的な回転動作を与えることによって、指向性のある光源を固定配置で露光する場合に問題となる照度むらを均一化することができる。さらに、従来用いられている平行露光光源とは異なり、露光光が放射状に広がる光源の指向特性によって、平行光だけではなく、ある角度範囲に光がまんべんなく含まれた従来にない特殊な光源となっている。このため、マスクの下のレジストは、遮蔽パターンからの距離と深さにより露光量が連続的になだらかに変化する。この特性を利用して、露光時間を適切にとることにより、高さ・曲率を変えた曲面構造を容易に製作することが可能となる。

以下に、本発明の曲面製造方法により曲面構造を製作する原理について説明する。本発明の方法で曲面構造が製作されるのは、マスク開口部の下のレジストにおいて、露光量が均一ではなく、位置によって異なるためである。この露光量の差は露光に寄与する光強度が遮蔽パターンからの距離によって変化するために生じる。

図１は、本発明の曲面製造方法を実施するための配置の１例を示す斜視図であり、回転ステージ７は透明なものとし、その上に被加工基板４を取り付け、回転ステージ７を通して下から見上げる配置の斜視図である。この配置は、光源アレイ６を用い、その光源アレイ６の指向性のある照明光の照射方向に光源アレイ６と平行であって図の太い矢印方向に回転する回転ステージ７を配置し、その回転ステージ７上に被加工基板４をマスク１を上にして取り付け、被加工基板４を回転させながらマスク１の開口２を通してレジスト３の露光を行う。

ここで、光源アレイ６は、図２に示すような発光方向に指向性があるＬＥＤ等の光源５を縦横に均等なピッチでアレイ状に並べてなるものであり、光源５は例えば中心軸を含む何れの断面内でも実質的に角度αの角度範囲内にだけ光を放射する特性のものである。

また、被加工基板４は、図３に断面を示すように、所定形状の透明開口２を設けたマスク１の下側にレジスト３を塗布してなるものである。

図４は、このような配置で、光源アレイ６から被加工基板４のマスク１の透明開口２を通してマスク１の下側のレジスト３に光源アレイ６から照明光が入射する範囲を示す図であり、光源アレイ６の各光源５からマスク１の透明開口２を通して角度範囲α内に照明光が達する。

ＬＥＤ等の指向性のある光源５からの放射光には方位角方向の照度むらがあるが、図１に示すように、被加工基板４を光源アレイ６に対して相対的に回転させることで、角度範囲α内の方位角方向で放射光は平均化され、光源５の指向特性によって決まる角度範囲αの光がまんべんなく混ざって透明開口２を経てレジスト３に入射することになり、透明開口２の方位角方向の照明光の照明むらがなくなる。

上記のように、被加工基板４を光源アレイ６に対して相対的に回転させて方位角方向の平均化をした場合でも、マスク１の透明開口２内の下の位置によって露光量が変化する。この点を説明する。

図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、透明開口２の下のレジスト３内での位置が透明開口２に対して、それぞれ右端近傍、中心近傍、左端近傍にある場合の照明光の角度範囲と入射する光源の範囲を示す図であり、図５（ｂ）の中心近傍では、マスク１の開口周辺の遮光部による遮光の影響は最も少ないため、光源アレイ６から光が入射する光源５の範囲は最も広くなり、照明光の角度範囲は光源５の指向特性によって決まる角度範囲αと略等しくなって露光量も最も多くなる。これに対して、図５（ａ）の右端近傍、（ｃ）の左端近傍では、マスク１の開口周辺の遮光部による遮光の影響はそれぞれ右に行く程、左に行く程徐々に大きくなるため、入射する光源５の範囲も徐々に狭くなり、照明光の角度範囲α’は中心部の角度範囲αより狭くなって露光量も徐々に少なくなる。開口端部に近い程遮光される領域は広く、中心部程遮光される領域は狭いということから、露光量は端部から中心部へと滑らかに増加すること、あるいは、中心部から端部へと滑らかに減少することになる。この露光量を矢印の長さによって模式的に表すと、図６のようになる。

レジスト３としてネガレジストを用いると、露光量によって硬化するレジスト（構造体）３’の高さが決まるため、露光後現像することによって、図７に示すような滑らかな曲面１０を作製することができる。

ところで、マスク１の透明開口２の形状としては、円形開口に限定されず、スリット開口（長方形開口）、台形形状の開口、リング状開口、矩形開口等何れの形状でもよい。透明開口２の形状と作製される曲面１０の例示を図８に示す。

図８（ａ）は、マスク１の透明開口２が円形開口２₁ 〜２₄ として形成され、その開口径が順次小さくなる場合のマスク１形状（図の上段）と、その場合に形成される構造体の曲面１０₁ 〜１０₄ （図の下段）を示しており、円形開口２₁ 〜２₄ の場合、回転対称な凸レンズ面形状の曲面１０₁ 〜１０₄ が得られる。曲面１０₁ 〜１０₄ の直径は対応する円形開口２₁ 〜２₄ の直径に応じて変わっている。また、凸レンズ面の高さも円形開口２₁ 〜２₄ の直径に応じて変わっている。このように曲面１０₁ 〜１０₄ の高さが異なるのは、開口２₁ 〜２₄ の面積が広い程レジスト３へ入射する光量は多くなるためである。このように、マスク１に形状が同じか異なる複数の透明開口２を設けておき、一括露光により同じ形状の曲面１０又は異なる曲面１０を作製可能であることは本発明の曲面製造方法の大きな特徴である。例えば、マスク１に一定ピッチで同じ形状の円形開口２₁ を多数設けて一括露光することで、マイクロレンズアレイを作製することができる。

図８（ｂ）は、マスク１の透明開口２がスリット開口２₅ （図の上段）として形成されている場合に、そのスリット開口２₅ を通して露光することで半円柱状の曲面１０₅ （図の下段）が形成される例を示している。

図８（ｃ）は、マスク１の透明開口２がスリット開口の一端を細くしたような台形形状の開口２₆ （図の上段）として形成されている場合に、その台形形状の開口２₆ を通して露光することで半円錐状の曲面１０₆ （図の下段）が形成される例を示している。

本発明の曲面製造方法によって作製される構造体の曲面１０の形状は、透明開口２のパターン、露光時間、光源の強度、光源アレイ６とマスク１の距離、マスク１とレジスト３の距離、光源５の指向特性（指向角度α）、レジスト３の感光特性等といった条件を変えることで制御可能である。

さらには、透明開口２内に透過率分布を持つようなグレイスケールマスクを併用することで、作製される構造体の曲面１０の形状を制御することが可能である。その例を図９〜図１１を参照にして説明する。図９（ａ）はマスク１に設けた透明開口２₁ が単純な円形開口である場合を示し、その円形開口２₁ を通して露光することで図９（ｂ）に示すような断面略円弧状の曲面１０₁ が形成されるが、図１０（ａ）に示すように、マスク１に設けた円形開口に径方向に半径が大きくなるにつれて透過率が小さくなるグレイスケールマスクを設けてなる円形開口２₇ 、あるいは、図１０（ｂ）に示すように、平均透過率が半径が大きくなるにつれて小さくなるように、不透明細線密度が半径が大きくなるにつれて上がるようなマスクを設けてなる円形開口２₈ を用いると、図１０（ｃ）に示すように、単純な円形開口２₁ を用いた場合に得られる断面略円弧状の曲面１０₁ （図９（ｂ））に比べて、周辺部の曲率半径が大きくなるか反転するような曲面１０₇ が得られる。

また、図１１は図８（ｂ）に対応する場合であるが、図１１（ａ）に示すように、マスク１に設けたスリット開口の長手方向に沿って一方へ行くに従って透過率が小さくなるグレイスケールマスクを設けてなるスリット開口２₉ を用いると、図１１（ｂ）に示すように、グレイスケールマスクの透過率がより小さい部分ではできる半円柱状の曲面の高さと幅が小さくなるため、図８（ｃ）の場合と同様な半円錐状の曲面１０₆ （図の下段）が形成される。

なお、以上の本発明の曲面製造方法では、光源アレイ６に対して被加工基板４を基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させながら露光を行うとしていたが、その代わりに、図１２に示すように、光源アレイ６に対して被加工基板４を基板面に垂直な軸の周りの閉じた軌跡、最も典型的には円形軌跡１１に沿って相対的に平行移動させながら、露光を行うようにしてもよい。

以上の本発明の曲面製造方法では、曲面製造方法によって作製される構造体の高さあるいは曲面１０の高さは露光量で決定されるため、レジスト３の膜厚をスピンコートで厳密に制御する必要はなく、膜厚がある高さ以上であればレジスト表面が多少凹凸があっても支障はなく、１ｍｍ近くの膜厚に塗布したものでも可能である。化学増感型レジストは感度が通常のレジストより高いため、光源アレイ６の光源５として中心波長３７０ｎｍ、光強度２ｍＷ程度の砲弾型ＵＶ−ＬＥＤを用いた場合で、２０分程度の露光時間で、高さ数１０μｍから数１００μｍ程度の曲面形状が形成可能であった。曲面１０形状の寸法は、マスクによって数μｍから数ｍｍ程度まで任意に制御できる。また、光源アレイ６を大きくすることは容易であり、数１０ｃｍ以上のサイズの被加工基板４に対しても容易に対応できる。

以下、本発明の曲面製造方法の具体的な実施例を説明する。

マスク１は、パソコン上でデザインしたパターンを透明フィルムに印刷し、簡易マスク製作機を用いてエマルジョン乾板に１／５縮小転写するという手法で作製した。マスクパターンは、円形開口２が格子状に並んだものとし、直径２００μｍ、３００μｍ、４００μｍ、５００μｍのものを作製した。

レジスト３は、ネガ型の化学増感型レジストＳＵ−８ １０（マイクロケム社製）を用いた。これを厚さ１００μｍのガラス基板上に流すことで約７００〜８００μｍ程度の膜厚にし、１００℃前後に熱したホットプレート上で４時間程プリベークを行った。これを十分に冷ました後、ガラス面とマスク面を接触させて固定し、マスク面を上、レジスト面を下にして厚さ１００μｍのガラス基板を透過させて露光を行った。

回転ステージ７は回転軸がＬＥＤアレイ（光源アレイ）６の中心にくるようにして、ステージ７とＬＥＤアレイ６が平行となるように設置した。ＬＥＤアレイ６と回転ステージ７の距離は３ｃｍとした。被加工基板４はパターンの中心位置の回転半径が５ｃｍ程度となるように回転ステージ７上に固定した。被加工基板４の回転速度は１００ｒｐｍに設定し、回転させながら所定時間間露光を行った。

今回用いたＬＥＤアレイ６のＬＥＤ光源５は、中心波長３７０ｎｍの砲弾型ＵＶ−ＬＥＤで、集光するためのレンズはなく、指向角度は４５°である。光強度は１．８ｍＷ、光強度の公差は１０％で、ＬＥＤアレイ６のピッチは１２．５ｍｍで、配列個数は２５×３２個となっている。ＬＥＤ光源５の指向特性（ナイトライド・セミコンダクター社製ＮＳ３７０Ｌ−５ＣＦＡ）を図１３に示す。

露光後は、１００℃前後に熱したホットプレート上で５分間ポストベークを行った。この後、ＳＵ−８現像液に１時間程度浸けて現像を行った。

以上のプロセス条件において、直径２００μｍ、３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの円形開口パターンに対して、露光時間を１４分から２２分まで２分刻みで変えて試作を行った。マスクの開口直径毎の露光時間と作製したレンズ形状直径の実測値の関係を図１４に示す。

この結果から、どの露光時間においても、マスクの開口直径よりも作製したレンズ形状直径の実測値の方が大きくなっていることが確認できた。これは、マスクとレジストの間に厚さ１００μｍのガラス基板があるためと考えられる。

次に、マスクの開口直径毎の露光時間と作製したレンズ形状の球面高さの関係を図１５に示す。

この結果から、露光時間により球面高さが制御可能であることが確認できた。また、１８分以降では、露光時間を増やしても余り球面高さが変わらないという結果が得られた。これは、露光時間を増やしても、照明光はレジストのある値の深さまでしか届かないためと考えられる。

露光時間を増やしていくと、球面頂点部の高さは余り変化がなくなるが、頂点周辺部の高さはある程度高くなり続けるため、曲率半径は変化していくことが確認できた。図１６は、露光時間を変えることでレンズ形状がどのように変化していくかを模式図で示す図である。図１６の（ａ）→（ｃ）までは球面高さが変化しているが、頂点部の高さはある程度に達すると変化し難くなる。よって、（ｃ）→（ｄ）では頂点部の高さは変わらず、頂点周辺部の高さが高くなってきている。

露光時間と作製したレンズ形状の曲率半径の関係を図１７に示す。曲率半径はレンズ形状が球面でないと測定できないため、円形開口直径２００μｍのマスクを用いた場合の露光時間１４分から１８分の場合のみ示した。

この結果から、露光時間によって曲率が制御可能であることが確認できた。

ところで、以上の本発明の曲面製造方法において、レジスト３としてネガレジストの代わりにポジレジスト（露光部分が分解して可溶化するレジスト）を用いると、作製される曲面１０の形状は凸面の代わりに凹面が得られる。その形成された曲面構造は、用いたレジスト３が透明性を持っていれば、光学素子としてそのまま使用可能であるが、作製される曲面１０の構造体に電鋳を行うか、紫外線硬化樹脂で複製を取って金型とし、その金型を成形型として樹脂成形すれば、光学素子等の量産をすることが可能となる。

以上の本発明では、露光時に相対的な回転動作を加えることで、ＬＥＤのような指向性のある光源をアレイ状に並べた際に生じる照度むらを均一化して、光が放射状に広がるというＬＥＤのような光源の指向特性を活用して、滑らかな曲面構造を作製することを可能にしている。この形状は、上記したように、露光時間、光源の強度、光源アレイとマスクの距離、マスクとレジストの距離、光源の指向特性、レジストの感光特性等といった条件を変えること、及び、グレイスケールマスクと併用することで、曲面の大きさ、曲率の制御も可能である。このため、従来特に作製が困難であった高さの異なる半球面構造や、半円錐のような曲面形状作製にも応用できる。加えて、露光源はアレイ状のＬＥＤを用いることができることから、大面積化も容易で、量産性に適し、製造コストの低減も可能となる。

本発明の曲面製造方法を実施するための配置の１例を示す斜視図である。 光源アレイの指向性を説明するための図である。 被加工基板の構成を示す断面図である。 光源アレイから被加工基板のマスクの透明開口を通してレジストに照明光が入射する範囲を示す図である。 レジスト内での位置に応じて照明光の角度範囲と入射する光源の範囲を示す図である。 レジスト内での露光量分布を模式的に示す図である。 ネガレジストを用いた場合の作製される曲面を示す図である。 透明開口の形状と作製される曲面を例示する図である。 透明開口が円形開口の場合の作製される曲面を示す図である。 グレイスケールマスク及び不透明細線密度を使用したマスクを設けてなる円形開口の場合の作製される曲面を示す図である。 グレイスケールマスクを設けてなるスリット開口の場合の作製される曲面を示す図である。 光源アレイに対して被加工基板を閉じた軌跡に沿って相対的に平行移動させながら露光を行う配置を示す斜視図である。 本発明の曲面製造方法の具体的な実施例におけるＬＥＤ光源の指向特性を示す図である。 本発明の曲面製造方法の具体的な実施例において得られたマスクの開口直径毎の露光時間と作製したレンズ形状直径の実測値の関係を示す図である。 本発明の曲面製造方法の具体的な実施例において得られたマスクの開口直径毎の露光時間と作製したレンズ形状の球面高さの関係を示す図である。 露光時間を変えることでレンズ形状がどのように変化していくかを模式図で示す図である。 本発明の曲面製造方法の具体的な実施例において得られた露光時間と作製したレンズ形状の曲率半径の関係を示す図である。

符号の説明

１…マスク
２…透明開口
２₁ 〜２₄ …円形開口
２₅ …スリット開口
２₆ …台形形状の開口
２₇ …グレイスケールマスクを設けてなる円形開口
２₈ …不透明細線密度を使用したマスクを設けてなる円形開口
２₉ …グレイスケールマスクを設けてなるスリット開口
３…レジスト
４…被加工基板
５…光源
６…光源アレイ
７…回転ステージ
１０₁ 〜１０₄ …凸レンズ面形状の曲面
１０₅ …半円柱状の曲面
１０₆ …半円錐状の曲面
１０₇ …周辺部の曲率半径が大きくなるか反転するような凸レンズ面形状の曲面
１１…円形軌跡

Claims (8)

1. 所定形状の透明開口を設けたマスクの背後に配置されたフォトレジスト層に前記透明開口を通して照明光を照射し、フォトレジスト層の露光された部分を硬化させるか分解することで、前記フォトレジスト層に曲面構造を作製する曲面製造方法において、
   前記照明光の光源として光が照射される角度範囲が制限される指向性のある光源をアレイ状に配置してなる光源アレイを用い、前記マスクとその背後に配置されたフォトレジスト層とからなる被加工基板と前記光源アレイとを対向配置し、前記被加工基板を前記光源アレイに対して基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させるか、基板面に垂直な軸の周りの閉じた軌跡に沿って相対的に平行移動させながら、前記マスクの前記透明開口を通して前記レジストを露光することを特徴とする露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
2. 前記透明開口に平均透過率が分布しているグレイスケールマスクが設けられていることを特徴とする請求項１記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
3. 前記マスクには形状が同じか異なる複数の前記透明開口が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
4. 前記フォトレジスト層に形成された曲面構造の複製を取ることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
5. 前記フォトレジスト層がネガ型であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
6. 前記フォトレジスト層がポジ型であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
7. 前記透明開口として円形開口を用い、マイクロレンズを作製することを特徴とする請求項１から６の何れか１項記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。
8. 前記透明開口として長方形開口を用い、シリンドリカルマイクロレンズを作製することを特徴とする請求項１から６の何れか１項記載の露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法。

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