JP2008127053A - Manufacturing method for plastic container coated with oxide film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost manufacturing method for a plastic container coated with a gas barrier thin film, whereby a low cost material can be used, a gas barrier thin film can be formed safely at a high speed and executed by using a manufacturing device that requires no expensive equipment and material. <P>SOLUTION: The manufacturing method includes the step in which the inside of a vacuum chamber 6 storing the plastic container 11 is set to a predetermined pressure equal to or below atmospheric pressure, the step in which power is supplied to the wire 18 disposed in the vacuum chamber and heated to a predetermined temperature or above, thereby making the wire hot, and the step in which ozone gas and a non-spontaneous combustible material containing a silicon or metallic element, supplied into the vacuum chamber, are heated by the hot wire, then it is brought into contact with the internal or external surface of the plastic container, thereby forming an oxide thin film from the non-spontaneous combustion material. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、内容物として、例えば、品質面から酸化を嫌い且つ容器壁から炭酸ガスの逃散がないことを必要とするビール等のアルコール飲料又は同様に酸化を嫌う清涼飲料を入れることに適した、酸素ガス及び炭酸ガスのバリア性を有する飲料用プラスチック容器に関する。より詳しくは酸素ガス及び炭酸ガスのバリア層として、外表面と内表面の少なくとも一方に、食品・飲料分野でも安全かつ低コストで成膜可能な酸化物薄膜を被覆した、 軽量で、耐衝撃性があり、リサイクル性に優れたプラスチック容器の製造方法に関する。あるいはガスバリア性以外にも、呈色・光沢面から透光/遮光性・美粧性・識別性において機能性のある酸化物薄膜を比較的容易かつ低コストで被覆するための、上記長所を有するプラスチック容器の製造方法に関する。   The present invention is suitable for containing, for example, an alcoholic beverage such as beer or the like, which does not oxidize from the quality aspect and requires no escape of carbon dioxide from the container wall, or a soft drink which similarly dislikes oxidation. The present invention also relates to a plastic container for beverages having oxygen gas and carbon dioxide gas barrier properties. More specifically, as an oxygen gas and carbon dioxide gas barrier layer, at least one of the outer and inner surfaces is coated with an oxide thin film that can be deposited safely and at low cost in the food and beverage fields, and is lightweight and impact resistant. And relates to a method for producing a plastic container excellent in recyclability. In addition to the gas barrier property, the plastic having the above-mentioned advantages for coating an oxide thin film having functionality in terms of color transmission / glossiness, translucency / light-shielding properties, cosmetic properties, and discrimination properties relatively easily and at low cost The present invention relates to a container manufacturing method.

近年、PETボトルにコートされた単層薄膜としてDLC(Diamond Like
Carbon)膜が実用化されてきている。このDLC膜は、炭素原子及び水素原子による非晶性の三次元構造からなる膜で、硬く、絶縁性に優れ、高屈折率で、非常に滑らかなモルフォロジを有する硬質炭素膜である。
In recent years, DLC (Diamond Like) as a single layer thin film coated on PET bottles.
Carbon) membranes have been put into practical use. This DLC film is a film having an amorphous three-dimensional structure of carbon atoms and hydrogen atoms, and is a hard carbon film that is hard, excellent in insulation, has a high refractive index, and has a very smooth morphology.

従来、このようなDLC膜の形成技術をプラスチック容器に適用した例がある(例えば特許文献1を参照。)。特許文献1に記載された一般的なDLC膜の形成装置は、次の通りである。すなわち、図1に示すように、炭素源ガスの導入口1Aと排気口1Bを有する反応室1内に配置された外部電極2の中に、プラスチック容器5が収容される。そして導入口1Aから炭素源ガスが導入された後、内部電極3と外部電極2との間に高周波電源4から高周波が印加され、炭素源ガスが励起されて発生するプラズマにより、プラスチック容器5の内面にDLC膜が形成される。   Conventionally, there is an example in which such a DLC film forming technique is applied to a plastic container (see, for example, Patent Document 1). A general DLC film forming apparatus described in Patent Document 1 is as follows. That is, as shown in FIG. 1, a plastic container 5 is housed in an external electrode 2 disposed in a reaction chamber 1 having a carbon source gas introduction port 1A and an exhaust port 1B. Then, after the carbon source gas is introduced from the introduction port 1A, a high frequency is applied between the internal electrode 3 and the external electrode 2 from the high frequency power source 4, and the carbon source gas is excited to generate plasma. A DLC film is formed on the inner surface.

また、DLC膜の代わりに酸化ケイ素薄膜(SiOx)を小型プラスチック容器に形成する技術がある(例えば、特許文献2を参照。)。特許文献2では、特許文献1と同様にプラズマCVD法によって、酸化ケイ素薄膜を成膜する。   In addition, there is a technique for forming a silicon oxide thin film (SiOx) in a small plastic container instead of a DLC film (see, for example, Patent Document 2). In Patent Document 2, a silicon oxide thin film is formed by plasma CVD as in Patent Document 1.

また、プラズマCVD法以外の成膜方法である触媒化学蒸着法によって、プラスチックフィルムの表面に窒化シリコン膜を成膜する技術がある(例えば特許文献3を参照。)。特許文献3にも記載されているとおり、窒化シリコン膜を成膜する場合、原料ガスとしてメチルシラン、ジメチルシラン若しくはトリメチルシランを使用する(特許文献3、段落0004、段落0022)。   Further, there is a technique for forming a silicon nitride film on the surface of a plastic film by catalytic chemical vapor deposition which is a film forming method other than plasma CVD (see, for example, Patent Document 3). As described in Patent Document 3, when a silicon nitride film is formed, methylsilane, dimethylsilane, or trimethylsilane is used as a source gas (Patent Document 3, Paragraph 0004, Paragraph 0022).

特許2788412号公報Japanese Patent No. 2788412 実開平5−35660号公報Japanese Utility Model Publication No. 5-35660 特開2004‐217966号公報(段落0004、段落0022)JP 2004-217966 A (paragraph 0004, paragraph 0022)

しかし、プラズマCVD成膜装置は、比較的高価な機材を使用するため、必ずしも安価で、ガスバリア性を有するプラスチック容器を製造できるとは限らない。   However, since the plasma CVD film forming apparatus uses relatively expensive equipment, it is not always inexpensive and can produce a plastic container having gas barrier properties.

触媒化学蒸着法は、高周波電源等の高価な機材を使用する必要がないため、装置自体のコストはプラズマCVD成膜装置のコストよりも少ない。   In the catalytic chemical vapor deposition method, it is not necessary to use expensive equipment such as a high-frequency power source, so the cost of the apparatus itself is less than the cost of the plasma CVD film forming apparatus.

しかし、触媒化学蒸着法によって、例えば酸化ケイ素薄膜を成膜する場合、本発明者の検討によれば、原料ガスとしてメチルシラン、ジメチルシラン若しくはトリメチルシランを使用すると、酸素雰囲気下であっても充分な酸化反応を起こさせることができず、プラスチック基板上に密着する酸化ケイ素薄膜を成膜することができなかった。一方、モノシラン、ジシラン又はトリシラン等の水素化ケイ素を原料ガスとすると、自然発火性に代表される爆発性・危険性が高く、安全装置にコストがかかってしまい、プラズマCVD成膜装置に対してコストメリットが薄すれてしまう。さらに、酸化ケイ素薄膜を成膜する場合、原料ガスと酸化ガスを一緒に供給する必要があるが、熱触媒体としてタングステンワイヤーを使用すれば(特許文献3、段落0059)、タングステンが酸化されて劣化するという問題がある。   However, when a silicon oxide thin film is formed by catalytic chemical vapor deposition, for example, according to the study by the present inventor, when methylsilane, dimethylsilane or trimethylsilane is used as a source gas, it is sufficient even in an oxygen atmosphere. An oxidation reaction could not be caused and a silicon oxide thin film adhered on a plastic substrate could not be formed. On the other hand, if silicon hydride such as monosilane, disilane, or trisilane is used as the source gas, the explosiveness and danger represented by pyrophoric properties are high, and the safety device is expensive. Cost merit is diminished. Furthermore, when forming a silicon oxide thin film, it is necessary to supply a source gas and an oxidizing gas together. However, if tungsten wire is used as a thermal catalyst (Patent Document 3, paragraph 0059), tungsten is oxidized. There is a problem of deterioration.

また、触媒化学蒸着法は、プラスチックシートのような平面形状の対象に成膜できても、プラスチック容器のような立体形状を対象に成膜できるという報告はない。   Further, even though the catalytic chemical vapor deposition method can form a film on a planar object such as a plastic sheet, there is no report that a film can be formed on a three-dimensional object such as a plastic container.

ここで、本発明は飲料・食品分野向けのプラスチック容器を主な対象とする。当該分野では、飲料・食品をとり扱うことに関連して、製品にかけられるコストの制約が大きく、また 生産工程及び製品容器に対して安全性の高い方法・材料を用いることを特徴とする。 したがって、上記のシラン類やアルキルアルミ類に代表される自然発火性の原料を用いることは、安全管理に対するコストや安全意識の観点から実用性がない。このような原料は、例えば、我が国では特殊高圧ガスや危険物第三類に指定されている。同様の理由及び環境への配慮から、当該分野では、ハロゲン類を含む原料は、一般に使用が避けられ、本発明の観点からは実用性がない。   Here, the present invention is mainly directed to plastic containers for the beverage / food field. In this field, there are significant cost constraints on products related to handling beverages and foods, and the use of safe methods and materials for production processes and product containers. Therefore, the use of pyrophoric raw materials typified by the above silanes and alkylaluminums is not practical from the viewpoints of safety management cost and safety awareness. Such raw materials are, for example, designated as special high-pressure gas and hazardous material type 3 in Japan. For the same reason and consideration for the environment, the use of raw materials containing halogens is generally avoided in this field and is not practical from the viewpoint of the present invention.

そこで本発明の目的は、これらの実用性がない原料に頼ることなく、ガスバリア性薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法において、室温のプラスチック製の立体形状を有している容器に、非自然発火性の原料とオゾンを使用し、安全かつ高速でガスバリア性を有する薄膜を低温で成膜することが可能であって、しかも高価な機材を必要としない製造装置で稼動しうる安価な製法を提供することである。   Therefore, the object of the present invention is to make the container having a three-dimensional shape made of plastic at room temperature non-pyrophoric in the method for producing a gas barrier thin film-coated plastic container without relying on these impractical raw materials. To provide a low-cost production method that uses raw materials and ozone, enables safe, high-speed, gas-barrier thin film deposition at low temperatures, and that can be operated on production equipment that does not require expensive equipment. It is.

加えて、飲料・食品分野の容器には、内容物の保護、品質の目視確認や、外観上の美観向上のために透光/遮光性や呈色が求められる。このような課題に対し、直接樹脂を着色することなく、実用性のある透光/遮光性や呈色を、比較的自由度高く容易に制御でき、安価で、かつリサイクル性高く、薄膜によってプラスチック容器に付与する製法を提供することも、本発明の目的とするところである。   In addition, containers in the beverage / food field are required to have translucency / light-shielding properties and coloration to protect the contents, visually check the quality, and improve the appearance. For such problems, practical translucent / light-shielding properties and coloration can be controlled with a high degree of freedom, without being colored directly, and it is inexpensive and highly recyclable. It is also an object of the present invention to provide a manufacturing method applied to the container.

本発明者が、上記課題を解決すべく鋭意開発したところ、ワイヤーを通電発熱させ、安全性が高い非自然発火性原料をオゾンガスとともにこのホットワイヤーで加熱した後、プラスチック容器の被成膜面に接触させたところ、非自然発火性原料に由来するガスバリア性を有する酸化物が密着性よく成膜できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventor has eagerly developed to solve the above-mentioned problems. After heating the wire with heat and heating a non-pyrophoric raw material with high safety together with ozone gas with this hot wire, the film is deposited on the surface of the plastic container. As a result of contact, it was found that an oxide having a gas barrier property derived from a non-pyrophoric material can be formed with good adhesion, and the present invention was completed.

ここで、本発明においては、ワイヤーとは、一般的な工業用電源を用いて電気抵抗体を数百度以上に通電により加熱することができる物体を意味する。典型的には、金属製の針金であるが、導電性の金属化合物や炭素の棒状体・繊維体も本概念に含まれる。さらには、これらの物体に担持体・塗布物がある物体も、本概念に含まれる。いずれも、プラスチック容器表面への成膜においては、複雑な立体形状に対して、容器表面各箇所への熱負荷の大きさ・成膜物質の流れが成膜に適するように抵抗加熱体を配置できる点で共通しているためである。関連して、本発明においては、ホットワイヤーとは、これら通電によって抵抗加熱されたワイヤーを意味する。   Here, in this invention, a wire means the object which can heat an electrical resistor to several hundred degrees or more by electricity supply using a general industrial power supply. Typically, it is a metal wire, but a conductive metal compound or carbon rod-like body / fiber body is also included in this concept. Furthermore, an object having a carrier or a coating on these objects is also included in the concept. In any case, when forming a film on the surface of a plastic container, the resistance heating element is arranged so that the heat load on each part of the container surface and the flow of the film forming material are suitable for film formation, even for complicated three-dimensional shapes. This is because they are in common. Relatedly, in the present invention, a hot wire means a wire that is resistance-heated by energization.

具体的には、本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器を収容した真空チャンバの内部を大気圧以下の所定圧力とする工程と、前記真空チャンバの内部に配置されているワイヤーに通電して所定温度以上に発熱させてホットワイヤーとする工程と、前記真空チャンバの内部に供給された、ケイ素若しくは金属元素を構成元素として含む非自然発火性原料及びオゾンガスを、前記ホットワイヤーで加熱し、その後、前記プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方に接触させて、前記非自然発火性原料由来の酸化物薄膜を形成させる工程と、を有することを特徴とする。   Specifically, the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention includes a step of setting the inside of a vacuum chamber containing the plastic container to a predetermined pressure equal to or lower than atmospheric pressure, and disposing the plastic container inside the vacuum chamber. A process of energizing the wire being heated to generate heat above a predetermined temperature to form a hot wire, and a non-pyrophoric raw material and ozone gas containing silicon or a metal element as a constituent element supplied to the inside of the vacuum chamber, Heating with the hot wire, and then contacting the inner surface or the outer surface of the plastic container to form an oxide thin film derived from the non-pyrophoric raw material. And

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ内に差圧機構を介して搬入される工程と、前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ内の搬送経路に設置された前記ワイヤーに対して前記プラスチック容器の表面が所望の距離まで近づくように、前記搬送経路上を搬送される工程と、前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ外へ差圧機構を介して搬出される工程と、をさらに有することが好ましい。酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器を量産することも可能である。   In the method of manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the plastic container is carried into the vacuum chamber via a differential pressure mechanism, and the plastic container is transported in the vacuum chamber. A step of being transported on the transport path so that the surface of the plastic container approaches a desired distance from the wire installed in the path, and the plastic container is moved out of the vacuum chamber via a differential pressure mechanism. It is preferable to further include a step of unloading. It is also possible to mass-produce plastic containers coated with oxide thin films.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記プラスチック容器の内表面又は外表面と前記ホットワイヤーとの距離を5〜50mmとし、かつ、真空チャンバ内の圧力を10〜100Paとすることが好ましい。非自然発火性原料の分解による気相中での粒子化を防止するとともに、プラスチック容器の表面に酸化物薄膜を高速で成膜することができる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the distance between the inner surface or outer surface of the plastic container and the hot wire is 5 to 50 mm, and the pressure in the vacuum chamber is 10 to 100 Pa. It is preferable that It is possible to prevent particle formation in the gas phase due to decomposition of the non-pyrophoric raw material and to form an oxide thin film on the surface of the plastic container at high speed.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法は、前記酸化物薄膜を形成させる工程において、前記プラスチック容器に紫外線を照射することが好ましい。プラスチック容器の表面を殺菌処理することができる。また、紫外線の照射によってオゾンの分解を促進して酸化力を高め、非自然発火性原料の酸化を促進させることができる。このとき、ホットワイヤーによって非自然発火性原料とオゾンガスを加熱するが、ホットワイヤーによって紫外線の照射が妨げられることがないので、効率よく反応を進めることができる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, it is preferable that the plastic container is irradiated with ultraviolet rays in the step of forming the oxide thin film. The surface of the plastic container can be sterilized. Moreover, the decomposition of ozone can be promoted by irradiation with ultraviolet rays to increase the oxidizing power, and the oxidation of non-pyrophoric raw materials can be promoted. At this time, the non-pyrophoric raw material and the ozone gas are heated by the hot wire, but since the irradiation of ultraviolet rays is not hindered by the hot wire, the reaction can be efficiently advanced.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記非自然発火性原料として非自然発火性のケイ化有機化合物を使用し、前記ホットワイヤーで熱分解反応又は触媒反応によって分解させて、前記酸化物薄膜としてSiO薄膜を形成するか、或いは、前記非自然発火性原料として非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物を使用し、前記ホットワイヤーで熱分解反応又は触媒反応によって分解させて、前記酸化物薄膜としてAlO薄膜を形成することが好ましい。非自然発火性のケイ化有機化合物若しくは非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物は、シラン系原料若しくはトリメチルアルミニウム等の自然発火性原料と異なり、安全であるため安全装置に費用をかけなくて済み、結果として安価である。また、これらの非自然発火性原料は、酸素と同時に供給してホットワイヤーで加熱しても、プラスチック基板上に密着性のあるSiO薄膜若しくはAlO薄膜は形成されない。本発明のように非自然発火性原料とオゾンガスを同時に供給してホットワイヤーで加熱してはじめて、熱分解・酸化が十分に進み、基板との密着性のよいSiO薄膜若しくはAlO薄膜が形成される。 In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, a non-pyrophoric silicified organic compound is used as the non-pyrophoric raw material, and the hot wire is decomposed by a thermal decomposition reaction or catalytic reaction. Then, a SiO x thin film is formed as the oxide thin film, or a non-pyrophoric aluminum-containing organic compound is used as the non-pyrophoric raw material and decomposed by a thermal decomposition reaction or catalytic reaction with the hot wire. Thus, it is preferable to form an AlO x thin film as the oxide thin film. Unlike non-pyrophoric silicified organic compounds or non-pyrophoric aluminum-containing organic compounds, unlike pyrophoric raw materials such as silane-based materials or trimethylaluminum, safety is not required, As a result, it is inexpensive. Further, even if these non-pyrophoric materials are supplied simultaneously with oxygen and heated with a hot wire, an adherent SiO x thin film or AlO x thin film is not formed on the plastic substrate. Only when non-pyrophoric raw materials and ozone gas are simultaneously supplied and heated with a hot wire as in the present invention, thermal decomposition and oxidation are sufficiently advanced to form a SiO x thin film or an AlO x thin film with good adhesion to the substrate. Is done.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記オゾンガスの供給量は、前記酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量であることが好ましい。オゾンガスの供給量が少ないと酸化物薄膜中に炭素が残留し、充分若しくはそれ以上の供給量であれば、酸化物薄膜中に炭素は残留しない。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the supply amount of the ozone gas is preferably such that carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero. If the supply amount of ozone gas is small, carbon remains in the oxide thin film. If the supply amount is sufficient or more, carbon does not remain in the oxide thin film.

そして、酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロであるとガスバリア性が最も良好となる。ここで、炭素が実質的にゼロであるとは、具体例としてSiOx薄膜の場合、酸化物薄膜中の炭素量が5atom%以下をさす。   When the carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero, the gas barrier property is the best. Here, the fact that carbon is substantially zero means that, in the case of a SiOx thin film as a specific example, the amount of carbon in the oxide thin film is 5 atom% or less.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記オゾンガスの供給量は、前記酸化物薄膜の成膜開始時には前記酸化物薄膜中に炭素が残留する量に設定し、その後供給量を増加させて前記酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量に設定して、前記酸化物薄膜を、その厚さ方向に炭素含有量が異なる傾斜組成薄膜とすることが好ましい。オゾンガスの供給量が少ないと酸化物薄膜中に炭素が残留し、充分な若しくはそれ以上の供給量であれば、酸化物薄膜中に炭素は残留しない。そして、酸化物薄膜中に炭素が残留すると基板との密着性が強固となり、一方、酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロであるとガスバリア性が最も良好となる。したがって、基板表面側の酸化物薄膜に炭素を残留させ、酸化物薄膜の表面側には炭素が残留しないように傾斜組成膜とすることで、基板に対して密着性に優れ、かつ、ガスバリア性が良好な酸化物薄膜とすることができる。   In the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the supply amount of the ozone gas is set to an amount in which carbon remains in the oxide thin film at the start of the formation of the oxide thin film, and then supplied. Increasing the amount to set the amount of carbon remaining in the oxide thin film to substantially zero, and making the oxide thin film a gradient composition thin film having a different carbon content in the thickness direction preferable. If the supply amount of ozone gas is small, carbon remains in the oxide thin film. If the supply amount is sufficient or more, carbon does not remain in the oxide thin film. When carbon remains in the oxide thin film, the adhesion to the substrate becomes strong. On the other hand, when the carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero, the gas barrier property is the best. Therefore, by making the gradient composition film so that carbon remains on the oxide thin film on the substrate surface side and carbon does not remain on the surface side of the oxide thin film, it has excellent adhesion to the substrate and has a gas barrier property. Can be a good oxide thin film.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに、実質的に揮発しない金属又は炭素を主成分として形成されてなることが好ましい。ワイヤーの組成に左右されず、非自然発火性原料が熱分解・酸化した酸化物薄膜が得られる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the wire is preferably formed of a metal or carbon that does not volatilize substantially as a main component when the hot wire is used. Regardless of the composition of the wire, an oxide thin film obtained by pyrolyzing and oxidizing a non-pyrophoric raw material can be obtained.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーは、金属若しくは導電性金属化合物若しくは炭素を主成分として形成され、かつ、前記ホットワイヤーとしたときに炭素、ケイ素又は金属元素を揮発させ、かつ、前記炭素、ケイ素又は金属元素が前記酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となることが好ましい。非自然発火性原料由来の成分を主成分とし、ワイヤー由来の成分を添加成分とすることで、形成可能な機能性薄膜の種類を容易に多様化できる。   In the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the wire is formed of a metal, a conductive metal compound, or carbon as a main component, and carbon, silicon, or metal when the hot wire is used. It is preferable that the element is volatilized and the carbon, silicon, or metal element is incorporated into the oxide thin film and becomes an additive component. By using a component derived from a non-pyrophoric raw material as a main component and a component derived from a wire as an additive component, the types of functional thin films that can be formed can be easily diversified.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記添加成分が、カラーセンターとして機能する態様を選択できる。酸化物薄膜に呈色を施すことができるからである。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, a mode in which the additive component functions as a color center can be selected. This is because the oxide thin film can be colored.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記カラーセンターとして機能する前記金属元素が、コバルト、マンガン、銅、鉄、クロム、アンチモン、カドニウム、硫黄、セレン、金、ニッケル、ウラン、バナジウム、銀、モリブデン、錫、タングステン、ビスマス又はエルビウムである場合が含まれる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the metal element functioning as the color center is cobalt, manganese, copper, iron, chromium, antimony, cadmium, sulfur, selenium, gold, nickel, Examples include uranium, vanadium, silver, molybdenum, tin, tungsten, bismuth or erbium.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記添加成分が、前記酸化物薄膜において架橋材として機能する態様を選択できる。酸化物薄膜の物理化学的安定性を向上させ、又は、屈折率の調整をすることができるからである。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, a mode in which the additive component functions as a crosslinking material in the oxide thin film can be selected. This is because the physicochemical stability of the oxide thin film can be improved or the refractive index can be adjusted.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記架橋材として機能する前記添加成分が、ナトリウム、カリウム、リチウム、鉛、炭素又はチタンである場合が含まれる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the case where the additive component that functions as the cross-linking material is sodium, potassium, lithium, lead, carbon, or titanium is included.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーの表面に揮発性物質を塗布又は担持し、前記ホットワイヤーとしたときに前記揮発性物質が揮発して、前記酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となる態様を選択できる。非自然発火性原料由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分が添加成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。   In the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, a volatile substance is applied or supported on the surface of the wire, and the volatile substance is volatilized when the hot wire is formed. The mode which is taken into the thin film and becomes an additive component can be selected. This is because it is possible to form an oxide thin film in which a component derived from a non-pyrophoric raw material is a main component and a component derived from a volatile substance supported on a wire is an additional component.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなり、かつ、前記ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気が、非自然発火性のケイ化有機化合物又は非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物などの前記非自然発火性原料とともに、非自然発火性原料となり、前記蒸気が酸化して前記酸化物薄膜の主成分の一つを構成する態様を選択できる。非自然発火性原料由来の成分が主成分となり、また、ワイヤー由来の成分も主成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。   In the method of manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the wire is a metal containing at least one of carbon, silicon, and metal that volatilizes when the hot wire is used, or a conductive metal. A vapor formed of a compound or carbon as a main component and containing at least one component of carbon, silicon or metal volatilized from the hot wire is a non-spontaneous silicified organic compound or non-spontaneous ignition In addition to the non-pyrophoric raw material such as a functional aluminum-containing organic compound, it is possible to select an embodiment that becomes a non-pyrophoric raw material and that the vapor is oxidized to constitute one of the main components of the oxide thin film. This is because an oxide thin film in which a component derived from a non-pyrophoric material is a main component and a component derived from a wire is also a main component can be formed.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなり、かつ、前記非自然発火性原料が、前記ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気であり、前記酸化物薄膜は、前記蒸気が酸化した酸化物薄膜である態様を選択できる。ワイヤー由来の成分が主成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。ワイヤー由来の蒸気であれば、安全性をさらに高め、また、原料導入手段が簡素となる。また、ワイヤーの組成を調整することで薄膜の組成を容易に制御することができる。   In the method of manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the wire is a metal containing at least one of carbon, silicon, and metal that volatilizes when the hot wire is used, or a conductive metal. The oxide thin film is formed of a compound or carbon as a main component, and the non-pyrophoric raw material is a vapor containing at least one component of carbon, silicon or metal volatilized from the hot wire, Can select an embodiment in which the vapor is an oxidized oxide thin film. This is because an oxide thin film whose main component is a wire-derived component can be formed. If it is the steam derived from a wire, safety | security will be improved further and a raw material introduction means will become simple. Moreover, the composition of the thin film can be easily controlled by adjusting the composition of the wire.

本発明に係る、上述したワイヤー成分が添加された酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記蒸気は、2000℃以下で飽和蒸気圧が10−4Pa以上の金属の単体又は該金属を含む化合物の蒸気であることが好ましい。充分な成膜速度、例えば2.5nm/秒以上の成膜速度を得ることができる。 In the method for producing a plastic container coated with the oxide thin film to which the wire component is added according to the present invention, the vapor is a simple metal or a metal having a saturated vapor pressure of 10 −4 Pa or more at 2000 ° C. or less. Vapor of a compound containing A sufficient film formation rate, for example, a film formation rate of 2.5 nm / second or more can be obtained.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記蒸気が、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀、ケイ素、炭素、ナトリウム、カリウム、リチウム、鉛又はチタン或いはこれらを含む化合物であり、かつ、前記酸化物薄膜はモリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素の酸化物が主成分であることが好ましい。金属種によって色の異なる酸化物薄膜が得られる。また、主成分となる蒸気(モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素を含む蒸気)のみのほか、これらの蒸気に添加成分となる蒸気(ナトリウム、カリウム、リチウム、炭素、鉛又はチタンを含む蒸気)が加わっても良い。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the vapor contains molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, silicon, carbon, sodium, potassium, lithium, lead, titanium, or these. The oxide thin film is preferably a compound, and an oxide of molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver or silicon is the main component. Oxide thin films with different colors depending on the metal species are obtained. In addition to the main component vapor (molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver or silicon-containing vapor), these additional vapors (sodium, potassium, lithium, carbon, lead or titanium) (Steam containing) may be added.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記ワイヤーの表面に揮発性物質を塗布又は担持し、前記ホットワイヤーとしたときに前記揮発性物質が揮発して、前記酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となるか、或いは、前記ワイヤーの表面に揮発性物質を塗布又は担持し、前記ホットワイヤーとしたときに前記揮発性物質が揮発して、該揮発性物質が前記ワイヤーから揮発した前記蒸気とともに、前記非自然発火性原料として、前記酸化物薄膜の主成分となる態様を選択できる。ワイヤー由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分が添加成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。また、ワイヤー由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分も主成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。   In the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, a volatile substance is applied or supported on the surface of the wire, and the volatile substance is volatilized when the hot wire is formed. Incorporated into a thin film to become an additive component, or when a volatile substance is applied or supported on the surface of the wire to form the hot wire, the volatile substance evaporates, and the volatile substance becomes the wire. The aspect which becomes the main component of the oxide thin film as the non-pyrophoric raw material together with the vapor volatilized from can be selected. This is because an oxide thin film in which a component derived from a wire is a main component and a component derived from a volatile substance carried on the wire is an additive component can be formed. Moreover, it is because the component derived from a wire becomes a main component and the oxide thin film which becomes a main component also from the component derived from the volatile substance carry | supported by the wire can be formed into a film.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記非自然発火性原料は、前記ワイヤーの表面に塗布又は担持された揮発性物質であり、前記ホットワイヤーとしたときに前記揮発性物質が揮発して、前記酸化物薄膜の主成分となるとなる態様を選択できる。揮発性物質由来の成分が主成分となる酸化物薄膜を成膜することができるからである。揮発性物質に由来すれば安全性が高く、また、原料導入手段が簡素となる。   In the method of manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the non-pyrophoric raw material is a volatile substance applied or supported on the surface of the wire, and the volatilization occurs when the hot wire is used. A mode in which the active substance is volatilized and becomes the main component of the oxide thin film can be selected. This is because an oxide thin film whose main component is a component derived from a volatile substance can be formed. If derived from a volatile substance, the safety is high and the raw material introduction means is simplified.

本発明に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、前記揮発性物質が、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素或いはこれらを含む化合物であることが好ましい。金属種によって色の異なる酸化物薄膜が得られる。   In the method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present invention, the volatile substance is preferably molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, silicon, or a compound containing these. Oxide thin films with different colors depending on the metal species are obtained.

本発明によって、ガスバリア薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法において、室温のプラスチック製の立体形状を有している容器に、非自然発火性の原料とオゾンを使用し、安全かつ高速でガスバリア性を有する薄膜を低温で成膜することができる。この製法は、高価な機材を必要としない製造装置で稼動しうる安価な製法である。   According to the present invention, in a method for producing a gas barrier thin film-coated plastic container, a non-pyrophoric raw material and ozone are used in a container having a three-dimensional shape made of plastic at room temperature, and a thin film having a gas barrier property at a safe and high speed. Can be formed at a low temperature. This manufacturing method is an inexpensive manufacturing method that can be operated with a manufacturing apparatus that does not require expensive equipment.

添付の図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下に説明する実施の形態は本発明の構成の例であり、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。まず、本実施形態に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法を説明する前に、使用する成膜装置について図2〜図11を参照しながら説明する。なお、共通の部位・部品には同一符号を付した。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiment described below is an example of the configuration of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment. First, before explaining the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to this embodiment, a film forming apparatus to be used will be described with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol was attached | subjected to the common site | part and components.

(第1形態:容器の内表面への成膜)
まず、容器の内表面に酸化物薄膜を成膜できる第1形態に係る成膜装置について説明する。図2は、第1形態に係る成膜装置を示す概略図であり、(a)はワイヤーが直線形状の場合、(b)はワイヤーがコイルばね形状の場合、(c)はワイヤーがジグザク線形状の場合、である。ただし、図2(b)(c)は、原料ガス供給管23の部分拡大図である。なお、以下特に断らない限り「図2」は「図2(a)」として説明する。図2に示した成膜装置100は、プラスチック容器11を収容する真空チャンバ6と、真空チャンバ6を真空引きする排気ポンプ(不図示)と、プラスチック容器11の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器11の内部へ原料ガス(非自然発火性原料)及びオゾンガスを供給する、絶縁且つ耐熱の材料で形成された原料ガス供給管23と、原料ガス供給管23に支持されたワイヤー18と、ワイヤー18に通電して発熱させるヒータ電源20と、を有する。
(First form: film formation on the inner surface of the container)
First, a film forming apparatus according to a first embodiment capable of forming an oxide thin film on the inner surface of a container will be described. 2A and 2B are schematic views showing the film forming apparatus according to the first embodiment, where FIG. 2A is a wire having a linear shape, FIG. 2B is a wire having a coil spring shape, and FIG. 2C is a zigzag wire. In the case of shape. 2B and 2C are partial enlarged views of the source gas supply pipe 23. FIG. Note that “FIG. 2” will be described as “FIG. 2A” unless otherwise specified. The film forming apparatus 100 shown in FIG. 2 is disposed in a vacuum chamber 6 that accommodates a plastic container 11, an exhaust pump (not shown) that evacuates the vacuum chamber 6, and a plastic container 11 that can be inserted and removed. A raw material gas supply pipe 23 made of an insulating and heat-resistant material for supplying a raw material gas (non-pyrophoric raw material) and ozone gas to the inside of the plastic container 11; a wire 18 supported by the raw material gas supply pipe 23; And a heater power source 20 that energizes the wire 18 to generate heat.

真空チャンバには、その内部にプラスチック容器11を収容する空間が形成されており、この空間は薄膜形成のための反応室12となる。真空チャンバ6は、下部チャンバ13と、この下部チャンバ13の上部に着脱自在に取り付けられて下部チャンバ13の内部をOリング14で密閉するようになっている上部チャンバ15とから構成されている。上部チャンバ15には図示していない上下の駆動機構があり、プラスチック容器11の搬入・搬出に伴い上下する。下部チャンバ13の内部空間は、そこに収容されるプラスチック容器11の外形よりも僅かに大きくなるように形成されている。このプラスチック容器11は、飲料用ボトルであるが、他の用途に使用される容器であってもよい。   In the vacuum chamber, a space for accommodating the plastic container 11 is formed, and this space becomes a reaction chamber 12 for forming a thin film. The vacuum chamber 6 includes a lower chamber 13 and an upper chamber 15 that is detachably attached to the upper portion of the lower chamber 13 and seals the inside of the lower chamber 13 with an O-ring 14. The upper chamber 15 has an upper and lower drive mechanism (not shown) and moves up and down as the plastic container 11 is carried in and out. The internal space of the lower chamber 13 is formed to be slightly larger than the outer shape of the plastic container 11 accommodated therein. The plastic container 11 is a beverage bottle, but may be a container used for other purposes.

真空チャンバ6の内側、特に下部チャンバ13の内側は、ワイヤー18の発熱に伴って放射される光の反射を防ぐために、内面28が黒色内壁となっているか或いは内面が表面粗さ(Rmax)0.5μm以上の凹凸を有していることが好ましい。表面粗さ(Rmax)は、例えば表面粗さ測定器(アルバックテクノ(株)製、DEKTAX3)を用いて測定する。内面28を黒色内壁とするためには、黒ニッケルメッキ・黒クロームメッキなどのメッキ処理、レイデント・黒染などの化成皮膜処理、又は、黒色塗料を塗布して着色する方法がある。さらに、冷却水が流される冷却管等の冷却手段29を真空チャンバ6の内部(不図示)又は外部(図2)に設けて、下部チャンバ13の温度上昇を防止することが好ましい。真空チャンバ6のうち特に下部チャンバ13を対象とするのはワイヤー18がプラスチック容器11に挿入されているときに、ちょうど下部チャンバ13の内部空間に収容された状態となるからである。光の反射の防止及び真空チャンバ6の冷却を行なうことで、プラスチック容器11の温度上昇と、それに伴う熱変形を抑制できる。さらに、通電されたワイヤー18から発生した放射光が通過できる透明体からなるチャンバ30、例えばガラス製チャンバを下部チャンバ13の内側に配置すると、プラスチック容器11に接するガラス製チャンバの温度が上昇しにくいため、プラスチック容器11に与える熱的影響をさらに軽減させることができる。   The inside of the vacuum chamber 6, particularly the inside of the lower chamber 13, has an inner surface 28 that is a black inner wall or an inner surface that has a surface roughness (Rmax) 0 in order to prevent reflection of light emitted as the wire 18 generates heat. It is preferable to have unevenness of 5 μm or more. The surface roughness (Rmax) is measured using, for example, a surface roughness measuring device (DEKTAX 3 manufactured by ULVAC TECHNO CORPORATION). In order to make the inner surface 28 a black inner wall, there are a plating process such as black nickel plating and black chrome plating, a chemical film treatment such as radiant and black dyeing, or a method of coloring by applying a black paint. Furthermore, it is preferable to provide a cooling means 29 such as a cooling pipe through which cooling water is flowed inside (not shown) or outside (FIG. 2) the vacuum chamber 6 to prevent the temperature of the lower chamber 13 from rising. The reason why the lower chamber 13 of the vacuum chamber 6 is particularly targeted is that when the wire 18 is inserted into the plastic container 11, the vacuum chamber 6 is in a state of being accommodated in the inner space of the lower chamber 13. By preventing the reflection of light and cooling the vacuum chamber 6, the temperature rise of the plastic container 11 and the accompanying thermal deformation can be suppressed. Furthermore, when a chamber 30 made of a transparent material through which the radiated light generated from the energized wire 18 can pass, for example, a glass chamber, is disposed inside the lower chamber 13, the temperature of the glass chamber in contact with the plastic container 11 is unlikely to rise. Therefore, the thermal influence on the plastic container 11 can be further reduced.

原料ガス供給管23は、上部チャンバ15の内側天井面の中央において下方に垂下するように支持されている。原料ガス供給管23には、流量調整器24a〜24bとバルブ25a〜25cを介して非自然発火性原料及びオゾンガスが流入される。原料ガス供給管23は、冷却管を有し、一体に形成されていることが好ましい。このような原料ガス供給管23の構造としては、例えば二重管構造がある。原料ガス供給管23において、二重管の内側管路は原料ガス流路17となっており、その一端は上部チャンバ15に設けられたガス供給口16に接続されていて、その他端はガス吹き出し孔17xとなっている。これにより原料ガス及びオゾンガスはガス供給口16に接続された原料ガス流路17の先端のガス吹き出し孔17xから吹き出されるようになっている。一方、二重管の外側管路は、原料ガス供給管23を冷却するための冷却水流路27であり、冷却管として役割をなしている。そして、ワイヤー18が通電され発熱してホットワイヤーとなっているとき、原料ガス流路17の温度が上昇する。これを防止するため、冷却水流路27に冷却水が循環している。すなわち、冷却水流路27の一端では、上部チャンバ15に接続された不図示の冷却水供給手段から冷却水の供給がなされ、同時に冷却水供給手段に冷却を終えた冷却水が戻される。一方、冷却水流路27の他端は、ガス吹き出し孔17x付近において封止されていて、ここで冷却水が折り返して戻される。冷却水流路27によって、原料ガス供給管23全体が冷却される。冷却することでプラスチック容器11に与える熱的影響を低減させることができる。したがって、原料ガス供給管23の材質は絶縁体で熱伝導率が大きいものが良い。例えば、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素又は酸化アルミニウムを主成分とする材料で形成されたセラミック管であるか、或いは、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素又は酸化アルミニウムを主成分とする材料で表面が被覆された金属管であることが好ましい。ワイヤーに安定して通電することができ、耐久性があり、且つ、ワイヤーで発生した熱を熱伝導によって効率よく排熱させることができる。   The source gas supply pipe 23 is supported so as to hang downward at the center of the inner ceiling surface of the upper chamber 15. The non-pyrophoric raw material and ozone gas flow into the raw material gas supply pipe 23 through the flow rate adjusters 24a to 24b and the valves 25a to 25c. The source gas supply pipe 23 preferably has a cooling pipe and is integrally formed. As a structure of such a source gas supply pipe 23, for example, there is a double pipe structure. In the source gas supply pipe 23, the inner pipe line of the double pipe is a source gas channel 17, one end of which is connected to the gas supply port 16 provided in the upper chamber 15, and the other end is a gas blowout. It is a hole 17x. As a result, the raw material gas and the ozone gas are blown out from the gas blowing hole 17 x at the tip of the raw material gas flow path 17 connected to the gas supply port 16. On the other hand, the outer pipe line of the double pipe is a cooling water flow path 27 for cooling the source gas supply pipe 23, and plays a role as a cooling pipe. When the wire 18 is energized and generates heat to form a hot wire, the temperature of the source gas channel 17 rises. In order to prevent this, the cooling water circulates in the cooling water passage 27. That is, at one end of the cooling water flow path 27, cooling water is supplied from a cooling water supply means (not shown) connected to the upper chamber 15, and at the same time, the cooled cooling water is returned to the cooling water supply means. On the other hand, the other end of the cooling water passage 27 is sealed in the vicinity of the gas blowing hole 17x, and here, the cooling water is folded back. The entire raw material gas supply pipe 23 is cooled by the cooling water passage 27. By cooling, the thermal influence on the plastic container 11 can be reduced. Therefore, the material of the source gas supply pipe 23 is preferably an insulator and has a high thermal conductivity. For example, a ceramic tube formed of a material mainly containing aluminum nitride, silicon carbide, silicon nitride, or aluminum oxide, or a surface made of a material mainly containing aluminum nitride, silicon carbide, silicon nitride, or aluminum oxide Is preferably a coated metal tube. The wire can be energized stably, has durability, and can efficiently exhaust heat generated by the wire by heat conduction.

原料ガス供給管23について、不図示の他形態として、次のようにしても良い。すなわち、原料ガス供給管を二重管とし、その外側管を原料ガス流路として外側管の側壁に孔、好ましくは複数の孔を開ける。一方、原料ガス供給管の二重管の内側管は、緻密な管で形成し、冷却水流路として冷却水を流す。ワイヤーは原料ガス供給管の側壁に沿って配線されるが、側壁に沿った部分のワイヤーに、外側管の側壁に設けた孔を通った原料ガス及びオゾンが接触し、熱分解した原料を効率よく酸化させることができる。   The source gas supply pipe 23 may be configured as follows as another form (not shown). That is, the source gas supply pipe is a double pipe, the outer pipe is used as a source gas flow path, and a hole, preferably a plurality of holes, is formed in the side wall of the outer pipe. On the other hand, the inner pipe of the double pipe of the source gas supply pipe is formed by a dense pipe, and the cooling water flows as a cooling water flow path. The wire is routed along the side wall of the source gas supply pipe, but the part of the wire along the side wall is in contact with the source gas and ozone through the hole provided in the side wall of the outer pipe, and the pyrolyzed raw material is efficiently used. Can be oxidized well.

ガス吹き出し孔17xは、プラスチック容器11の底と離れすぎていると、プラスチック容器11の内部に薄膜を形成することが難しい。本実施形態では、原料ガス供給管23の長さは、ガス吹き出し孔17xからプラスチック容器11の底までの距離L1が5〜50mmとなるように形成することが好ましい。15〜30mmとなるように形成することがより好ましい。膜厚の均一性が向上する。5〜50mmの距離とすることで均一な薄膜をプラスチック容器11の内表面に成膜することができる。距離が50mmより大きいとプラスチック容器11の底に薄膜が形成しにくくなり、距離が5mmより小さいと原料ガスの吹き出しが困難になったり、プラスチック容器11の内表面のうち、ガス吹き出し孔17xの近傍の成膜が過剰となりやすくなる。   If the gas blowing hole 17 x is too far from the bottom of the plastic container 11, it is difficult to form a thin film inside the plastic container 11. In the present embodiment, the length of the source gas supply pipe 23 is preferably formed such that the distance L1 from the gas blowing hole 17x to the bottom of the plastic container 11 is 5 to 50 mm. More preferably, the thickness is 15 to 30 mm. The uniformity of the film thickness is improved. By setting the distance to 5 to 50 mm, a uniform thin film can be formed on the inner surface of the plastic container 11. If the distance is larger than 50 mm, it is difficult to form a thin film on the bottom of the plastic container 11, and if the distance is smaller than 5 mm, it is difficult to blow out the source gas, or the inside of the plastic container 11 is near the gas blowing hole 17 x. Film formation tends to be excessive.

ワイヤー18は、通電発熱させてホットワイヤーとすることで、非自然発火性原料とオゾンガスとを熱分解する。熱分解したオゾンによって非自然発火性原料の酸化を促進し、プラスチック容器11の内表面に酸化物薄膜を成膜させる。本実施形態においては、ワイヤー18は、金属、特に耐酸化性金属からなることが好ましく、例えば、Ir線、Re線、ニクロム線、Pt線又はAu線、或いは、Ir基合金線、Re基合金線、Pt基線又はAu基線である。またワイヤー18は炭素を主成分とする物体、例えば炭素繊維としても良い。導電性を有するので、通電によりそれ自体を発熱させることが可能となる。ワイヤー18は、単なる加熱手段のホットワイヤーであるのみならず、触媒化学蒸着法による熱触媒体であっても良い。ただし、触媒化学蒸着法の熱触媒体として通常使用されるタングステンワイヤーは、酸化されると劣化するため、オゾンガス含有雰囲気下では避けるべきである。ワイヤー18は配線形状に形成され、原料ガス供給管23の上部チャンバ15における固定箇所の下方に設けた、配線19とワイヤー18との接続箇所となる接続部26aに、ワイヤー18の一端が接続される。そして先端部分であるガス吹き出し孔17xに設けた絶縁セラミックス部材35で支持される。さらに、折り返して、接続部26bにワイヤー18の他端が接続される。このように、ワイヤー18は原料ガス供給管23の側面に沿って支持されているため、下部チャンバ13の内部空間のほぼ主軸上に位置するように配置されることとなる。図2(a)では、ワイヤー18は、原料ガス供給管23の軸と平行となるように原料ガス供給管23の周囲に沿って配置された場合を示したが、接続部26aを起点として原料ガス供給管23の側面に螺旋状に巻きつけ、ガス吹き出し孔17x付近に固定された絶縁セラミックス35で支持したあと、接続部26bに向けて折り返して戻しても良い。ここでワイヤー18は、絶縁セラミックス35に引っ掛けることで原料ガス供給管23に固定されている。図2(a)では、ワイヤー18は、原料ガス供給管23のガス吹き出し孔17x付近において、ガス吹き出し孔17xの外側に配置されている場合を示した。これによって、ガス吹き出し孔17xから吹き出た非自然発火性原料及びオゾンガスはワイヤー18と接触しやすくなるため、非自然発火性原料を効率よく熱分解及び酸化させることができる。ここで、ワイヤー18は、原料ガス供給管23の側面から僅かに離して配置することが好ましい。原料ガス供給管23の急激な温度上昇を防止するためである。また、ガス吹き出し孔17xから吹き出た非自然発火性原料及びオゾンガス並びに反応室12にある非自然発火性原料及びオゾンガスとの接触機会を増やすことができる。このワイヤー18を含む原料ガス供給管23の外径は、プラスチック容器の口部21の内径よりも小さいことが必要である。ワイヤー18を含む原料ガス供給管23をプラスチック容器の口部21から挿入するためである。したがって、必要以上にワイヤー18を原料ガス供給管23の表面から離すと、原料ガス供給管23をプラスチック容器の口部21から挿入するときに接触しやすくなってしまう。ワイヤー18の横幅は、プラスチック容器の口部21から挿入する時の位置ズレを考慮すると、10mm以上、(口部21の内径−6)mm以下が適当である。ここで口部21の内径はおおよそ21.7〜39.8mmである。   The wire 18 is heated by energization to form a hot wire, thereby thermally decomposing the non-pyrophoric raw material and ozone gas. Oxidation of the non-pyrophoric raw material is promoted by the pyrolyzed ozone, and an oxide thin film is formed on the inner surface of the plastic container 11. In this embodiment, the wire 18 is preferably made of a metal, particularly an oxidation-resistant metal. For example, an Ir wire, a Re wire, a nichrome wire, a Pt wire or an Au wire, an Ir-based alloy wire, or a Re-based alloy. Line, Pt baseline or Au baseline. The wire 18 may be an object mainly composed of carbon, for example, carbon fiber. Since it has conductivity, it becomes possible to generate heat by energization. The wire 18 is not only a hot wire for heating means, but may also be a thermal catalyst by a catalytic chemical vapor deposition method. However, tungsten wires that are normally used as thermal catalyst bodies for catalytic chemical vapor deposition are deteriorated when oxidized, and should be avoided in an atmosphere containing ozone gas. The wire 18 is formed in a wiring shape, and one end of the wire 18 is connected to a connection portion 26 a that is provided below the fixed portion in the upper chamber 15 of the source gas supply pipe 23 and serves as a connection portion between the wiring 19 and the wire 18. The And it is supported with the insulating ceramic member 35 provided in the gas blowing hole 17x which is a front-end | tip part. Further, it is folded back and the other end of the wire 18 is connected to the connecting portion 26b. Thus, since the wire 18 is supported along the side surface of the source gas supply pipe 23, the wire 18 is disposed so as to be positioned substantially on the main axis of the internal space of the lower chamber 13. FIG. 2A shows the case where the wire 18 is arranged along the periphery of the source gas supply pipe 23 so as to be parallel to the axis of the source gas supply pipe 23. However, the source 18 starts from the connection portion 26a. It may be wound around the side surface of the gas supply pipe 23 in a spiral manner and supported by the insulating ceramics 35 fixed in the vicinity of the gas blowing hole 17x, and then folded back toward the connecting portion 26b. Here, the wire 18 is fixed to the source gas supply pipe 23 by being hooked on the insulating ceramic 35. In FIG. 2A, the case where the wire 18 is disposed outside the gas blowing hole 17x in the vicinity of the gas blowing hole 17x of the source gas supply pipe 23 is shown. As a result, the non-pyrophoric raw material and ozone gas blown out from the gas blowing hole 17x are likely to come into contact with the wire 18, so that the non-pyrophoric raw material can be efficiently decomposed and oxidized. Here, it is preferable that the wire 18 be disposed slightly away from the side surface of the source gas supply pipe 23. This is to prevent a rapid temperature rise of the source gas supply pipe 23. Moreover, the opportunity of contact with the non-pyrophoric raw material and ozone gas blown out from the gas blowing hole 17x and the non-pyrophoric raw material and ozone gas in the reaction chamber 12 can be increased. The outer diameter of the source gas supply pipe 23 including the wire 18 needs to be smaller than the inner diameter of the mouth portion 21 of the plastic container. This is because the source gas supply pipe 23 including the wire 18 is inserted from the mouth portion 21 of the plastic container. Therefore, if the wire 18 is separated from the surface of the source gas supply pipe 23 more than necessary, it will be easy to contact when the source gas supply pipe 23 is inserted from the mouth portion 21 of the plastic container. The lateral width of the wire 18 is suitably 10 mm or more and (inner diameter of the mouth part -6) mm or less in consideration of positional deviation when inserted from the mouth part 21 of the plastic container. Here, the inner diameter of the mouth portion 21 is approximately 21.7 to 39.8 mm.

ワイヤー18を発熱させたときの上限温度は、そのワイヤーが軟化する温度以下とすることが好ましい。ホットワイヤーとして作動させる温度は、ワイヤーの材料によって異なり、Irであればその軟化する温度まで昇温可能であるが、例えば300〜1800℃であることが好ましく、800〜1100℃であることがより好ましい。なお、非自然発火性原料とともにオゾンガスを供給することによって、触媒化学蒸着法でなくホットワイヤー法であっても上述のとおり300℃という低温での反応が可能である。一般に、ワイヤー及び基板をある程度加熱した方が、膜質が良好になる傾向がある。しかし、プラスチック基板には、熱変形しないように、あまり熱負荷をかけられない。この点、800〜1100℃であれば、PET樹脂をはじめとする飲料・食品分野における一般的なプラスチック材料製の容器に対し、数百秒以上、ワイヤーからの熱負荷による問題が生じないため、好ましい設定となる。   It is preferable that the upper limit temperature when the wire 18 is heated is not more than the temperature at which the wire softens. The temperature to operate as a hot wire varies depending on the material of the wire, and if it is Ir, the temperature can be raised to the softening temperature, but it is preferably, for example, 300 to 1800 ° C, more preferably 800 to 1100 ° C. preferable. In addition, by supplying ozone gas together with the non-pyrophoric raw material, a reaction at a low temperature of 300 ° C. can be performed as described above even when the hot wire method is used instead of the catalytic chemical vapor deposition method. Generally, the film quality tends to be better when the wire and the substrate are heated to some extent. However, the plastic substrate cannot be subjected to much heat load so as not to be thermally deformed. In this respect, if it is 800 to 1100 ° C., a problem caused by a thermal load from the wire does not occur for several hundred seconds or more for a container made of a general plastic material in the beverage / food field including PET resin, This is a preferable setting.

また、ワイヤー18は、非自然発火性原料及びオゾンガスとの接触機会を増やすために、図2(b)に示したように線材をコイルばね形状に加工した部分を有していることが好ましい。コイルばね形状には、円筒状のみならず、円錐形、たる形又はつづみ形を含み、さらにこれらの巻線間のピッチを変えた不等ピッチ形を含む。また、図2(c)に示したように線材をジグザク線形状に加工した部分を有していても良い。或いは、線材を波線形状に加工した部分を有していても良い(不図示)。これらのいずれの形態においても、ワイヤー18は、非自然発火性原料及びオゾンガスの吹き出し方向に沿って配置されていることが好ましい。これによって、非自然発火性原料及びオゾンガス33はワイヤー18と接触する機会が増加する。   Moreover, in order to increase the contact opportunity with a non-pyrophoric raw material and ozone gas, it is preferable that the wire 18 has the part which processed the wire into the coiled spring shape as shown in FIG.2 (b). The coil spring shape includes not only a cylindrical shape but also a conical shape, a barrel shape, or a hook shape, and further includes an unequal pitch shape in which the pitch between these windings is changed. Moreover, you may have the part which processed the wire into the zigzag line shape as shown in FIG.2 (c). Or you may have the part which processed the wire into the wavy line shape (not shown). In any of these forms, it is preferable that the wire 18 is disposed along the blowing direction of the non-pyrophoric raw material and ozone gas. This increases the chance that the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 come into contact with the wire 18.

ワイヤー18の原料ガス供給管23の固定方法について、不図示の他形態として、次のようにしても良い。すなわち、原料ガス供給管を二重管とし、その外側管を原料ガス流路として気孔率10〜40%の多孔質からなる管で形成する。この多孔質の外側管に直接ワイヤーを巻きつけても良い。ワイヤーの固定の安定性が向上するとともに、非自然発火性原料及びオゾンガスがガス吹き出し孔と共に外側管の側壁からも放出されるために、ワイヤーへの接触効率が向上する。この場合、原料ガス供給管の二重管の内側管は、緻密な管で形成し、冷却水流路として冷却水を流す。   About the fixing method of the source gas supply pipe | tube 23 of the wire 18, you may make it as follows as another form not shown. That is, the raw material gas supply pipe is a double pipe, and the outer pipe is formed of a porous pipe having a porosity of 10 to 40% using a raw material gas flow path. A wire may be directly wound around the porous outer tube. The stability of fixing the wire is improved, and the non-pyrophoric raw material and ozone gas are released from the side wall of the outer tube together with the gas blowing holes, so that the contact efficiency with the wire is improved. In this case, the inner pipe of the double pipe of the source gas supply pipe is formed by a dense pipe, and the cooling water flows as a cooling water flow path.

図3にワイヤー18と原料ガス供給管23との位置関係の他形態を示した。図3では、原料ガス供給管23の管内にワイヤー18が配置されている。ワイヤー18は、非自然発火性原料及びオゾンガス33の吹き出し方向に沿って2列に配置されている。これによって、非自然発火性原料及びオゾンガス33はワイヤー18と接触する機会が増加する。また、ワイヤー18が原料ガス供給管の内部に配置されているため、ワイヤーとプラスチック容器の表面との距離を大きくとることができるので、プラスチック容器の熱変形の発生を抑制できる。図3で示したように、ワイヤー18a,18bはそれぞれ線材部分が異なる方向を向くように配置されることが好ましい。図3では、線材は縦横の互い違いの関係にある。なお、原料ガス供給管23の管の横断面の形状は、図3では正方形であるが、円形、楕円形又は長方形であっても良い。また、管径は、プラスチック容器の内表面に成膜するためにプラスチック容器の口部から挿入するのであれば、口部径よりも小さくする必要がある。一方、プラスチック容器の外表面に成膜する場合には、管径を大きくとって、ガス流速を太くすることが好ましい。   FIG. 3 shows another form of the positional relationship between the wire 18 and the source gas supply pipe 23. In FIG. 3, the wire 18 is disposed in the source gas supply pipe 23. The wires 18 are arranged in two rows along the blowing direction of the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33. This increases the chance that the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 come into contact with the wire 18. In addition, since the wire 18 is disposed inside the source gas supply pipe, the distance between the wire and the surface of the plastic container can be increased, so that occurrence of thermal deformation of the plastic container can be suppressed. As shown in FIG. 3, the wires 18 a and 18 b are preferably arranged such that the wire portions face in different directions. In FIG. 3, the wires are in a vertical and horizontal alternating relationship. In addition, although the shape of the cross section of the pipe | tube of the source gas supply pipe | tube 23 is a square in FIG. 3, circular, an ellipse, or a rectangle may be sufficient. Further, if the tube diameter is inserted from the mouth of the plastic container in order to form a film on the inner surface of the plastic container, it is necessary to make it smaller than the diameter of the mouth. On the other hand, when forming a film on the outer surface of the plastic container, it is preferable to increase the gas flow rate by increasing the tube diameter.

ワイヤー18には、接続部26a,26b及び配線19を介して、ヒータ電源20が接続されている。ヒータ電源20によってワイヤー18に電気を流すことで、ワイヤー18が発熱する。   A heater power source 20 is connected to the wire 18 via connection portions 26 a and 26 b and a wiring 19. By causing electricity to flow through the wire 18 by the heater power source 20, the wire 18 generates heat.

また、プラスチック容器の口部21から容器の肩にかけてはプラスチック容器11の成形時の延伸倍率が小さいため、高温に発熱するワイヤー18が近くに配置されると、熱による変形を起こしやすい。実験によれば、配線19とワイヤー18との接続箇所である接続部26a,26bの位置が、プラスチック容器の口部21の下端から5mm以上離さないとプラスチック容器11の肩の部分が熱変形を起こし、50mmを超えて離すとプラスチック容器11の肩の部分に薄膜が形成しにくくなった。そこでワイヤー18は、その上端がプラスチック容器の口部21の下端から5〜50mm下方に位置するように配置されることが良い。すなわち、接続部26a,26bと口部21の下端との距離L2が5〜50mmとなるようにすることが好ましい。容器の肩部の熱変形を抑制できる。   Moreover, since the draw ratio at the time of shaping | molding of the plastic container 11 is small from the opening part 21 of a plastic container to the shoulder of a container, if the wire 18 which heats to high temperature is arrange | positioned nearby, it will be easy to raise | generate a deformation | transformation by heat. According to the experiment, the shoulder portion of the plastic container 11 is thermally deformed unless the positions of the connection portions 26a and 26b, which are the connection portions of the wiring 19 and the wire 18, are separated from the lower end of the mouth portion 21 of the plastic container by 5 mm or more. When it was raised and separated beyond 50 mm, it was difficult to form a thin film on the shoulder portion of the plastic container 11. Therefore, the wire 18 is preferably arranged so that the upper end thereof is located 5 to 50 mm below the lower end of the mouth portion 21 of the plastic container. That is, it is preferable that the distance L2 between the connecting portions 26a and 26b and the lower end of the mouth portion 21 is 5 to 50 mm. Thermal deformation of the shoulder portion of the container can be suppressed.

また上部チャンバ15の内部空間には、排気管22が真空バルブ8を介して連通されており、図示しない排気ポンプによって真空チャンバ6の内部の反応室12の空気が排気されるようになっている。   An exhaust pipe 22 communicates with the internal space of the upper chamber 15 via a vacuum valve 8 so that air in the reaction chamber 12 inside the vacuum chamber 6 is exhausted by an exhaust pump (not shown). .

(第2形態:容器の外表面への成膜)
次に、容器の外表面にガスバリア薄膜を成膜できる第2形態に係る成膜装置について説明する。図4は第2形態に係る成膜装置の一形態を示す概略図であり、(a)はワイヤーが線状の場合、(b)はワイヤーがコイルばね形状の場合、である。ただし、図4(b)は、ワイヤーの概略図である。なお、以下特に断らない限り「図4」は「図4(a)」として説明する。図4に示した成膜装置200は、プラスチック容器11を収容する真空チャンバ60と、真空チャンバ60を真空引きする排気ポンプ(不図示)と、プラスチック容器11の周囲に配置されたワイヤー18と、真空チャンバ60の内部のうちプラスチック容器11の外部の空間に非自然発火性原料及びオゾンガスを供給する原料ガス配管31と、ワイヤー18に通電して発熱させるヒータ電源20と、を有する。成膜装置200では、プラスチック容器11の口部はボトル回転機構32によって固定されていて、プラスチック容器11は、真空チャンバ60の内部で底が接触しないように配置されている。
(Second form: film formation on the outer surface of the container)
Next, a film forming apparatus according to a second embodiment capable of forming a gas barrier thin film on the outer surface of the container will be described. FIGS. 4A and 4B are schematic views showing an embodiment of a film forming apparatus according to the second embodiment. FIG. 4A shows a case where the wire is linear, and FIG. 4B shows a case where the wire has a coil spring shape. However, FIG.4 (b) is the schematic of a wire. Note that “FIG. 4” will be described as “FIG. 4A” unless otherwise specified. The film forming apparatus 200 shown in FIG. 4 includes a vacuum chamber 60 that houses the plastic container 11, an exhaust pump (not shown) that evacuates the vacuum chamber 60, a wire 18 that is disposed around the plastic container 11, A raw material gas pipe 31 that supplies a non-pyrophoric raw material and ozone gas to a space outside the plastic container 11 in the vacuum chamber 60, and a heater power source 20 that energizes the wire 18 to generate heat. In the film forming apparatus 200, the mouth portion of the plastic container 11 is fixed by the bottle rotating mechanism 32, and the plastic container 11 is disposed so that the bottom does not contact inside the vacuum chamber 60.

真空チャンバ60は、その内部にプラスチック容器11を収容する空間が形成されており、この空間は薄膜形成のための反応室12となる。真空チャンバ60は、下部チャンバ63と、この下部チャンバ63の上部に着脱自在に取り付けられて下部チャンバ63の内部をOリング14で密閉するようになっている上部チャンバ65から構成されている。上部チャンバ65には図示していない上下の駆動機構があり、プラスチック容器11の搬入・搬出に伴い上下する。下部チャンバ63の内部空間は、そこに収容されるプラスチック容器11の周囲にワイヤー18が配置できるように、プラスチック容器11の外形よりも大きく形成されている。   The vacuum chamber 60 has a space for accommodating the plastic container 11 therein, and this space serves as a reaction chamber 12 for forming a thin film. The vacuum chamber 60 includes a lower chamber 63 and an upper chamber 65 that is detachably attached to the upper portion of the lower chamber 63 and seals the inside of the lower chamber 63 with the O-ring 14. The upper chamber 65 has an upper and lower drive mechanism (not shown) and moves up and down as the plastic container 11 is carried in and out. The internal space of the lower chamber 63 is formed larger than the outer shape of the plastic container 11 so that the wire 18 can be disposed around the plastic container 11 accommodated therein.

ここでワイヤー18は、配線19とワイヤー18との接続箇所である接続部79aとその一端が接続される。そして図4の成膜装置では、ワイヤー18は、接続部79aを起点して、下部チャンバ63の内側の側面から底面へ渡り対向する側面へと直線状に配置され、そこから折り返されて、対向する側面、底面、内側の側面へと再び直線状に配置されて、接続部79bにその他端が接続される。このときのワイヤー18とプラスチック容器11との位置関係を示すため、図5にA-A’断面図を示した。ワイヤー18とプラスチック容器11は、図中、左右とも等間隔に配置されている。ワイヤー18は、プラスチック容器11の外表面との距離が一定となるように配置されている。容器の底を含む外表面における膜厚の均一性が向上する。さらに、ワイヤー18を2組以上配置しても良い。この場合、ワイヤー18は、プラスチック容器の主軸に対して回転対称の位置に複数配置されていることが好ましい。ワイヤー18を2組配置した場合のワイヤー18とプラスチック容器11との位置関係を示すため、図6にA-A’断面図を示した。ワイヤー18とプラスチック容器11は、図中、上下左右とも等間隔に配置されている。図5又は図6に示したいずれの場合でも、ボトル回転機構32によってプラスチック容器11を、主軸を中心に回転させながら成膜させることで、成膜の均一性を向上させることができる。特に、図5の場合では、ワイヤー18が一組であるため、成膜の均一性向上の効果が高い。不図示ではあるが、ワイヤー18の配置の他形態として、プラスチック容器11の主軸を中心に、プラスチック容器11の周囲において、螺旋状に巻く形態、或いは、プラスチック容器11の主軸の複数の横断面上で、それぞれ並列に巻き、複数のリング状のワイヤーを並列に配置するという形態がある。いずれの形態においても、膜厚の均一性を向上させることができる。もちろん、この形態においても、ボトル回転機構32によってプラスチック容器11を、主軸を中心に回転させながら成膜させても良い。ここで、ワイヤー18を複数組配置する場合は、互いに5cm以上離して配置されていることが好ましい。プラスチック容器に熱的損傷を与えることなく、非自然発火性原料の酸化を促進し、膜厚の均一性が得られやすい。ワイヤー18の材質は、第1形態のものと同じとして良い。   Here, the wire 18 is connected to a connection portion 79 a which is a connection portion between the wiring 19 and the wire 18 and one end thereof. In the film forming apparatus of FIG. 4, the wire 18 is linearly arranged from the inner side surface of the lower chamber 63 to the side surface facing the bottom surface, starting from the connection portion 79a, and then folded back from there. The other end is connected to the connecting portion 79b. In order to show the positional relationship between the wire 18 and the plastic container 11 at this time, a cross-sectional view taken along line A-A ′ is shown in FIG. 5. The wire 18 and the plastic container 11 are arranged at equal intervals on the left and right sides in the figure. The wire 18 is disposed so that the distance from the outer surface of the plastic container 11 is constant. The uniformity of the film thickness on the outer surface including the bottom of the container is improved. Further, two or more sets of wires 18 may be arranged. In this case, it is preferable that a plurality of wires 18 are arranged at rotationally symmetric positions with respect to the main axis of the plastic container. In order to show the positional relationship between the wire 18 and the plastic container 11 when two sets of the wires 18 are arranged, FIG. 6 shows a cross-sectional view along A-A ′. The wire 18 and the plastic container 11 are arranged at equal intervals on the top, bottom, left and right in the figure. In either case shown in FIG. 5 or FIG. 6, film formation can be improved by forming the plastic container 11 while rotating the plastic container 11 around the main axis by the bottle rotation mechanism 32. In particular, in the case of FIG. 5, since the wire 18 is one set, the effect of improving the uniformity of film formation is high. Although not shown, as another form of the arrangement of the wires 18, a spiral winding around the main axis of the plastic container 11 around the plastic container 11, or on a plurality of cross sections of the main axis of the plastic container 11 Then, there is a form in which each is wound in parallel and a plurality of ring-shaped wires are arranged in parallel. In any form, the uniformity of the film thickness can be improved. Of course, in this embodiment as well, the plastic container 11 may be formed by rotating the plastic container 11 around the main axis by the bottle rotation mechanism 32. Here, when arrange | positioning two or more sets of the wires 18, it is preferable to arrange | position 5 cm or more apart from each other. Without causing thermal damage to the plastic container, the oxidation of the non-pyrophoric raw material is promoted and the film thickness is easily obtained. The material of the wire 18 may be the same as that of the first embodiment.

ワイヤー18は、非自然発火性原料及びオゾンガスとの接触機会を増やすために、図4(b)に示したように線材をコイルばね形状に加工した部分を有していることが好ましい。コイルばね形状には、円筒状のみならず、円錐形、たる形又はつづみ形を含み、さらにこれらの巻線間のピッチを変えた不等ピッチ形を含む。また、線材をジグザク線形状に加工した部分を有していても良い(不図示)。或いは、線材を波線形状に加工した部分を有していても良い(不図示)。これらのいずれの形態においても、ワイヤー18は、非自然発火性原料及びオゾンガスの吹き出し方向に沿って配置されていることが好ましい。例えば、ワイヤー18を複数配列することで、或いは、ワイヤー18を非自然発火性原料及びオゾンガスの吹き出し方向にベクトル成分を持たせる。これによって、非自然発火性原料及びオゾンガスはワイヤーと接触する機会が増加する。   The wire 18 preferably has a portion obtained by processing a wire into a coil spring shape as shown in FIG. 4B in order to increase the chance of contact with the non-pyrophoric raw material and ozone gas. The coil spring shape includes not only a cylindrical shape but also a conical shape, a barrel shape, or a hook shape, and further includes an unequal pitch shape in which the pitch between these windings is changed. Moreover, you may have the part which processed the wire into the zigzag line shape (not shown). Or you may have the part which processed the wire into the wavy line shape (not shown). In any of these forms, it is preferable that the wire 18 is disposed along the blowing direction of the non-pyrophoric raw material and ozone gas. For example, a plurality of wires 18 are arranged, or the wires 18 have a vector component in the blowing direction of the non-pyrophoric raw material and ozone gas. This increases the opportunity for non-pyrophoric raw materials and ozone gas to come into contact with the wire.

原料ガス配管31の一端は、下部チャンバ63の底面に設けられたガス供給口66と接続されている。原料ガス配管31の他端及びその途中の分岐では、原料ガス供給管73が接続されている。図4では、原料ガス供給管73は複数設けられていて、いずれもその先端にはガス吹き出し孔77xが設けられている。原料ガス供給管73には、原料ガス配管31、ガス供給口66、流量調整器24a〜24b及びバルブ25a〜25cを介して非自然発火性原料及びオゾンガス33が流入される。これにより非自然発火性原料及びオゾンガス33は、ガス吹き出し孔77xから吹き出されるようになっている。ガス吹き出し孔77xは、いずれも、プラスチック容器11の外表面に向けられていて、その外表面のいずれの箇所にも非自然発火性原料及びオゾンガスを吹き付けることが可能である。そして、ガス吹き出し孔77xの出口側に、ワイヤー18が配置されている。これにより、ワイヤー18と非自然発火性原料及びオゾンガスとの接触が多く生じるため、非自然発火性原料の酸化を促進させることができる。   One end of the source gas pipe 31 is connected to a gas supply port 66 provided on the bottom surface of the lower chamber 63. A source gas supply pipe 73 is connected to the other end of the source gas pipe 31 and a branch in the middle thereof. In FIG. 4, a plurality of source gas supply pipes 73 are provided, each of which has a gas blowing hole 77x at the tip thereof. The non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 flow into the raw material gas supply pipe 73 through the raw material gas pipe 31, the gas supply port 66, the flow rate regulators 24a to 24b, and the valves 25a to 25c. Thereby, the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 are blown out from the gas blowing holes 77x. The gas blowing holes 77x are all directed to the outer surface of the plastic container 11, and the non-pyrophoric raw material and ozone gas can be sprayed to any part of the outer surface. And the wire 18 is arrange | positioned at the exit side of the gas blowing hole 77x. Thereby, since many contacts with the wire 18, a non-pyrophoric raw material, and ozone gas arise, the oxidation of a non-pyrophoric raw material can be promoted.

原料ガス供給管73は金属製の単管としている。第1形態の場合と同様に、冷却水を流すために二重管としても良い。また、第1形態の場合と同様のセラミック管或いはセラミック材料で表面が被覆された金属管としても良い。   The source gas supply pipe 73 is a single metal pipe. As in the case of the first embodiment, a double pipe may be used for flowing cooling water. Moreover, it is good also as the metal pipe | tube with which the surface was coat | covered with the ceramic pipe | tube similar to the case of a 1st form, or ceramic materials.

原料ガス供給管73の長さは、ガス吹き出し孔77xからプラスチック容器11の外表面までの距離L3が5〜50mmとなるように形成することが好ましい。5〜50mmの距離で均一な薄膜をプラスチック容器11の外表面に成膜することができる。距離が50mmより大きいとプラスチック容器11の外表面に薄膜が形成しにくくなり、距離が5mmより小さいと原料ガスの吹き出しができにくくなる。   The length of the source gas supply pipe 73 is preferably formed such that the distance L3 from the gas blowing hole 77x to the outer surface of the plastic container 11 is 5 to 50 mm. A uniform thin film can be formed on the outer surface of the plastic container 11 at a distance of 5 to 50 mm. When the distance is larger than 50 mm, it is difficult to form a thin film on the outer surface of the plastic container 11, and when the distance is smaller than 5 mm, it is difficult to blow out the source gas.

ワイヤー18と原料ガス供給管73との位置関係の他形態として、例えば、図3の場合と同様に、原料ガス供給管の管内にワイヤーを配置しても良い。このとき、原料ガス供給管の内径を例えば10mm以上に大きくすれば、膜の分布の均一性が向上する。原料ガス供給管の管内においてワイヤーに非自然発火性原料及びオゾンガスを接触させることで、原料ガス供給管から熱分解した非自然発火性原料を吹き出させることができる。ワイヤーが原料ガス供給管の内部に配置されているため、ワイヤーとプラスチック容器の表面との距離を大きくとることができるので、プラスチック容器の熱変形の発生を抑制できる。   As another form of the positional relationship between the wire 18 and the source gas supply pipe 73, for example, a wire may be arranged in the source gas supply pipe as in the case of FIG. At this time, if the inner diameter of the source gas supply pipe is increased to, for example, 10 mm or more, the uniformity of the film distribution is improved. By bringing the non-pyrophoric raw material and ozone gas into contact with the wire in the pipe of the raw material gas supply pipe, the pyrolyzed non-pyrophoric raw material can be blown out from the raw material gas supply pipe. Since the wire is disposed inside the raw material gas supply pipe, the distance between the wire and the surface of the plastic container can be increased, so that occurrence of thermal deformation of the plastic container can be suppressed.

プラスチック容器11の熱変形を防止するため、真空チャンバ60の内部又は外部に、冷却水が流される冷却管等の冷却手段29を設けて、下部チャンバ63の温度上昇を防止することが好ましい。   In order to prevent thermal deformation of the plastic container 11, it is preferable to provide a cooling means 29 such as a cooling pipe through which cooling water flows inside or outside the vacuum chamber 60 to prevent the temperature of the lower chamber 63 from rising.

ワイヤー18には、接続部79a,79bと配線19を介してヒータ電源20が接続されている。ヒータ電源20によってワイヤー18に電気を流すことで、ワイヤー18が発熱する。本形態においてもワイヤー18の作動温度は、300〜1800℃とすることが好ましく、800〜1100℃であることがより好ましい。   A heater power source 20 is connected to the wire 18 via connection portions 79 a and 79 b and a wiring 19. By causing electricity to flow through the wire 18 by the heater power source 20, the wire 18 generates heat. Also in this form, it is preferable that the operating temperature of the wire 18 shall be 300-1800 degreeC, and it is more preferable that it is 800-1100 degreeC.

また上部チャンバ65の内部空間には、真空バルブ8を介して排気管22が連通されており、図示しない排気ポンプによって真空チャンバ60の内部の反応室12の空気が排気されるようになっている。なお、図示はしていないが、第1形態及び第2形態のいずれにおいても、オゾンガスは、市販の比較的安価なオゾン発生器を用いて、例えば酸素ボンベからの酸素ガスを無声放電して、得てもよいし、オゾンガスを安定的に含有するガスボンベ(岩谷産業社製)から供給してもよい。   An exhaust pipe 22 communicates with the internal space of the upper chamber 65 via a vacuum valve 8 so that air in the reaction chamber 12 inside the vacuum chamber 60 is exhausted by an exhaust pump (not shown). . Although not shown, in both the first and second embodiments, the ozone gas is silently discharged from, for example, an oxygen gas from an oxygen cylinder using a commercially available relatively inexpensive ozone generator. You may obtain and supply from the gas cylinder (Iwatani Corp. make) which contains ozone gas stably.

第1形態及び第2形態のいずれの成膜装置においても、ワイヤー18は電流を流すだけでホットワイヤーとなり、オゾンによって熱分解した非自然発火性原料を酸化できるため、ワイヤーを複数組用意すれば一度に大量のプラスチック容器に酸化物薄膜を成膜させることができる。図7は、複数のプラスチック容器の内表面に同時に酸化物薄膜を成膜するための成膜装置の概念図である。図7では一つの下部チャンバ13内で大量のプラスチック容器11を位置決めして並べ、図2と同様のワイヤー18及び原料ガス供給管23をプラスチック容器11のそれぞれの口部に挿入して、酸化物薄膜を形成するものである。また、図8は、複数のプラスチック容器11の外表面に同時にガスバリア薄膜を成膜するための成膜装置の概念図である。図8では一つの下部チャンバ63内で大量のプラスチック容器11を位置決めして並べ、プラスチック容器11ごとにその周囲を囲むようにそれぞれワイヤー18を配置し、原料ガス供給管73から非自然発火性原料及びオゾンガスをワイヤー18に接触させた後、プラスチック容器11に吹き付ける。ここで口部をボトル回転機構32に固定して、プラスチック容器11を回転しながらその外表面に薄膜を形成するものである。さらに、図9は、インラインで複数のプラスチック容器の外表面に同時にガスバリア薄膜を成膜するための成膜装置の概念図である。図9では、コンベアでプラスチック容器を、真空チャンバ内である、ボトル整列室40、排気室41、薄膜形成室42、大気リーク室43及び取出し室44の順に移動させる。真空チャンバの外は大気圧下であるが、差圧機構によって、薄膜形成室42が減圧された一定圧力に保たれている。排気室41及び大気リーク室43は、差圧機構に含まれる。薄膜形成室42には、部屋の側壁に沿ってワイヤー18が配置されている。プラスチック容器は、真空チャンバ内の搬送経路を通過する際に、ワイヤー18とプラスチック容器の表面とか所望の距離、例えば5〜50mmまで近づく。薄膜形成室42において、ワイヤー18に向かって原料ガスを吹き出させ、部屋内を非自然発火性原料とオゾンで充満させ、プラスチック容器11が薄膜形成室42を通過する際に成膜を行なう。第1形態及び第2形態のいずれの成膜装置においても、容器の形状が異なっても同一の真空チャンバを使用することができ、高周波電源が不要であり、一つの真空チャンバ内で複数の容器に成膜しうる。これにより、高周波電源を用いた成膜装置よりも装置が安価となる。   In any of the film forming apparatuses of the first and second embodiments, the wire 18 becomes a hot wire only by passing an electric current, and can oxidize a non-pyrophoric raw material thermally decomposed by ozone. An oxide thin film can be formed on a large number of plastic containers at a time. FIG. 7 is a conceptual diagram of a film forming apparatus for simultaneously forming an oxide thin film on the inner surfaces of a plurality of plastic containers. In FIG. 7, a large number of plastic containers 11 are positioned and arranged in one lower chamber 13, and wires 18 and source gas supply pipes 23 similar to those in FIG. 2 are inserted into the respective mouths of the plastic containers 11 to form oxides. A thin film is formed. FIG. 8 is a conceptual diagram of a film forming apparatus for simultaneously forming a gas barrier thin film on the outer surfaces of a plurality of plastic containers 11. In FIG. 8, a large number of plastic containers 11 are positioned and arranged in one lower chamber 63, and the wires 18 are arranged so as to surround each plastic container 11, and the non-pyrophoric raw material is supplied from the raw material gas supply pipe 73. Then, ozone gas is brought into contact with the wire 18 and then sprayed onto the plastic container 11. Here, the mouth is fixed to the bottle rotation mechanism 32, and a thin film is formed on the outer surface of the plastic container 11 while rotating. Furthermore, FIG. 9 is a conceptual diagram of a film forming apparatus for forming a gas barrier thin film simultaneously on the outer surfaces of a plurality of plastic containers in-line. In FIG. 9, the plastic container is moved by the conveyor in the order of the bottle alignment chamber 40, the exhaust chamber 41, the thin film formation chamber 42, the atmospheric leak chamber 43 and the take-out chamber 44 in the vacuum chamber. The outside of the vacuum chamber is under atmospheric pressure, but the thin film forming chamber 42 is kept at a constant pressure reduced by a differential pressure mechanism. The exhaust chamber 41 and the atmospheric leak chamber 43 are included in the differential pressure mechanism. In the thin film forming chamber 42, wires 18 are arranged along the side walls of the chamber. The plastic container approaches a desired distance, for example, 5 to 50 mm, between the wire 18 and the surface of the plastic container when passing through the conveyance path in the vacuum chamber. In the thin film forming chamber 42, the source gas is blown out toward the wire 18 to fill the chamber with the non-pyrophoric raw material and ozone, and film formation is performed when the plastic container 11 passes through the thin film forming chamber 42. In any of the film forming apparatuses of the first and second embodiments, the same vacuum chamber can be used even if the shape of the container is different, a high frequency power source is unnecessary, and a plurality of containers are formed in one vacuum chamber. It can be formed into a film. Thereby, the apparatus becomes cheaper than a film forming apparatus using a high frequency power source.

第1形態及び第2形態のいずれの成膜装置においても、非自然発火性原料及びオゾンガス33が熱風となるためにプラスチック容器11が熱変形しやすいことから、容器冷却手段を設けることが好ましい。図10は容器冷却手段を説明するための概念図であり、(a)はプラスチック容器の内表面に成膜する場合、(b)はプラスチック容器の外表面に成膜する場合、である。図10(a)に示すように、熱風である非自然発火性原料及びオゾンガス33がプラスチック容器11の内部に吹き付けられる第1形態の成膜装置は、プラスチック容器11の外表面に、冷却された液体若しくは気体50を当てる容器冷却手段51を有していることが好ましい。容器冷却手段51は、水等の液体にプラスチック容器11を浸漬する場合は水槽であり、水等の液体をプラスチック容器11にシャワリングをする場合はシャワーである。また冷却窒素ガス、あるいは冷却炭酸ガス等の気体をプラスチック容器11にブローをする場合はブロワーである。冷却窒素ガスは液体窒素、冷却炭酸ガスはドライアイスをそれぞれ用いることによって容易に得られる。図10(b)に示すように、熱風となる非自然発火性原料及びオゾンガス33がプラスチック容器11の外表面に向かって吹き付けられる第2形態の成膜装置は、プラスチック容器11の内表面に、冷却された液体若しくは気体50を当てる容器冷却手段51を有していることが好ましい。容器冷却手段51は、水等の液体にプラスチック容器11を充填する場合は液体充填器であり、冷却窒素ガス、あるいは冷却炭酸ガス等の気体をプラスチック容器11の内表面にブローをする場合はブロワーである。   In both the first and second film forming apparatuses, the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 become hot air, so that the plastic container 11 is easily deformed by heat. Therefore, it is preferable to provide a container cooling means. 10A and 10B are conceptual diagrams for explaining the container cooling means. FIG. 10A shows a case where a film is formed on the inner surface of the plastic container, and FIG. 10B shows a case where a film is formed on the outer surface of the plastic container. As shown in FIG. 10A, the non-pyrophoric raw material that is hot air and the ozone gas 33 are sprayed on the inside of the plastic container 11, and the film forming apparatus of the first form is cooled on the outer surface of the plastic container 11. It is preferable to have a container cooling means 51 to which the liquid or gas 50 is applied. The container cooling means 51 is a water tank when the plastic container 11 is immersed in a liquid such as water, and is a shower when the liquid such as water is showered on the plastic container 11. Further, when a gas such as cooling nitrogen gas or cooling carbon dioxide gas is blown into the plastic container 11, it is a blower. The cooling nitrogen gas can be easily obtained by using liquid nitrogen and the cooling carbon dioxide gas by using dry ice. As shown in FIG. 10B, the non-pyrophoric raw material that becomes hot air and the ozone gas 33 are sprayed toward the outer surface of the plastic container 11. It is preferable to have a container cooling means 51 for applying the cooled liquid or gas 50. The container cooling means 51 is a liquid filling device when filling the plastic container 11 with a liquid such as water, and a blower when blowing a gas such as cooling nitrogen gas or cooling carbon dioxide gas onto the inner surface of the plastic container 11. It is.

図11に図9の薄膜形成室42の他形態を示した。薄膜成膜室42の側壁には、プラスチック容器11の移動方向に沿って、原料ガス供給管23と容器冷却手段51が交互に配置されている。プラスチック容器11はコンベア(搬送経路、不図示)によって移動させられ、かつ、自転させられる。ここで、原料ガス供給管23は図3に示したタイプを用いる。容器冷却手段51は、冷却された窒素ガスを吹き付けるタイプを用いる。プラスチック容器11は、コンベアによって自転しながら移動させられる際に、原料ガス供給管23からワイヤーで活性化された原料ガスを吹き付けられ、次いで、容器冷却手段51によって、冷却された窒素ガスを吹き付けられ、これらが交互に行なわれる。このとき薄膜形成が進行する。   FIG. 11 shows another embodiment of the thin film forming chamber 42 of FIG. On the side wall of the thin film deposition chamber 42, the source gas supply pipes 23 and the container cooling means 51 are alternately arranged along the moving direction of the plastic container 11. The plastic container 11 is moved by a conveyor (conveyance path, not shown) and is rotated. Here, the source gas supply pipe 23 uses the type shown in FIG. The container cooling means 51 uses a type in which cooled nitrogen gas is blown. When the plastic container 11 is moved while being rotated by the conveyor, the raw material gas activated by the wire is blown from the raw material gas supply pipe 23, and then the cooled nitrogen gas is blown by the container cooling means 51. These are performed alternately. At this time, thin film formation proceeds.

次に、本実施形態に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法について説明する。図2の成膜装置100を用いれば、酸化物薄膜をプラスチック容器の内表面に被膜することが可能であり、一方、図4の成膜装置200を用いれば、酸化物薄膜をプラスチック容器の外表面に被膜することが可能である。これら2つの成膜方法は、工程が共通しているため、特に断りがない限り代表例として図2の成膜装置100を用いて、酸化物薄膜をプラスチック容器の内表面に被膜する成膜方法を説明する。なお、成膜装置100と成膜装置200を用いてプラスチック容器の内表面及び外表面の両方に酸化物薄膜を成膜してもよい。   Next, the manufacturing method of the plastic container which coat | covered the oxide thin film which concerns on this embodiment is demonstrated. If the film forming apparatus 100 of FIG. 2 is used, it is possible to coat the oxide thin film on the inner surface of the plastic container. On the other hand, if the film forming apparatus 200 of FIG. It is possible to coat the surface. Since these two film forming methods have common processes, unless otherwise specified, a film forming method for coating an oxide thin film on the inner surface of a plastic container using the film forming apparatus 100 of FIG. 2 as a representative example. Will be explained. Note that an oxide thin film may be formed on both the inner surface and the outer surface of the plastic container using the film formation apparatus 100 and the film formation apparatus 200.

本実施形態に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器11を収容した真空チャンバ6の内部を大気圧以下の所定圧力とする工程(以下、減圧工程という)と、真空チャンバ6の内部に配置されているワイヤー18に通電して所定温度以上に発熱させてホットワイヤーとする工程(以下、ホットワイヤー工程という)と、真空チャンバ6の内部に供給された、ケイ素若しくは金属元素を構成元素として含む非自然発火性原料及びオゾンガス33を、ホットワイヤー18で加熱し、その後、プラスチック容器11の内表面に接触させて、非自然発火性原料由来の酸化物薄膜を形成させる工程(以下、成膜工程という)と、を有する。   The manufacturing method of the plastic container coated with the oxide thin film according to the present embodiment includes a step of setting the inside of the vacuum chamber 6 containing the plastic container 11 to a predetermined pressure equal to or lower than the atmospheric pressure (hereinafter referred to as a decompression step), and a vacuum chamber. 6, a process of energizing the wire 18 arranged inside 6 to generate heat to a predetermined temperature or more to form a hot wire (hereinafter referred to as a hot wire process), and a silicon or metal element supplied into the vacuum chamber 6 A process of heating the non-pyrophoric raw material containing ozone as a constituent element and the ozone gas 33 with the hot wire 18 and then contacting the inner surface of the plastic container 11 to form an oxide thin film derived from the non-pyrophoric raw material ( Hereinafter referred to as a film forming step).

(成膜装置への容器の装着)
まず、ベント(不図示)を開いて真空チャンバ6内を大気開放する。反応室12には、上部チャンバ15を外した状態で、下部チャンバ13の上部開口部からプラスチック容器11が差し込まれて、収容される。この後、位置決めされた上部チャンバ15が降下し、上部チャンバ15につけられた原料ガス供給管23とそれに固定されたワイヤー18がプラスチック容器の口部21からプラスチック容器11内に挿入される。そして、上部チャンバ15が下部チャンバ13にOリング14を介して当接することで、反応室12が密閉空間とされる。このとき、下部チャンバ13の内壁面とプラスチック容器11の外壁面との間隔は、ほぼ均一に保たれており、且つプラスチック容器11の内壁面とワイヤー18との間の間隔も、ほぼ均一に保たれている。
(Attaching the container to the deposition system)
First, a vent (not shown) is opened to open the vacuum chamber 6 to the atmosphere. In the reaction chamber 12, the plastic container 11 is inserted and accommodated from the upper opening of the lower chamber 13 with the upper chamber 15 removed. Thereafter, the positioned upper chamber 15 is lowered, and the source gas supply pipe 23 attached to the upper chamber 15 and the wire 18 fixed thereto are inserted into the plastic container 11 from the mouth portion 21 of the plastic container. Then, the upper chamber 15 is brought into contact with the lower chamber 13 via the O-ring 14, whereby the reaction chamber 12 is made a sealed space. At this time, the distance between the inner wall surface of the lower chamber 13 and the outer wall surface of the plastic container 11 is kept substantially uniform, and the distance between the inner wall surface of the plastic container 11 and the wire 18 is also kept substantially uniform. I'm leaning.

本発明に係る容器とは、蓋若しくは栓若しくはシールして使用する容器、またはそれらを使用せず開口状態で使用する容器を含む。開口部の大きさは内容物に応じて決める。プラスチック容器は、剛性を適度に有する所定の肉厚を有するプラスチック容器と剛性を有さないシート材により形成されたプラスチック容器を含む。本発明に係るプラスチック容器の充填物は、ビール若しくは発泡酒若しくは炭酸飲料若しくは果汁飲料若しくは清涼飲料等の飲料を挙げることができる。また、リターナブル容器或いはワンウェイ容器のどちらであっても良い。   The container according to the present invention includes a container that is used with a lid, a stopper, or a seal, or a container that is used without being used. The size of the opening is determined according to the contents. The plastic container includes a plastic container having a predetermined thickness having moderate rigidity and a plastic container formed by a sheet material having no rigidity. Examples of the filling material in the plastic container according to the present invention include beer, sparkling liquor, carbonated drink, fruit juice drink, and soft drink. Moreover, either a returnable container or a one-way container may be used.

本発明のプラスチック容器11を成形する際に使用する樹脂は、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂(PP)、シクロオレフィンコポリマー樹脂(COC、環状オレフィン共重合)、アイオノマ樹脂、ポリ‐4‐メチルペンテン−1樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン‐ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、又は、4弗化エチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂、アクリロニトリル‐ブタジエン‐スチレン樹脂を例示することができる。この中で、PETが特に好ましい。   Resin used when molding the plastic container 11 of the present invention is polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polyethylene resin, polypropylene resin (PP), cycloolefin copolymer resin (COC, cyclic) Olefin copolymer), ionomer resin, poly-4-methylpentene-1 resin, polymethyl methacrylate resin, polystyrene resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, acrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyamide resin , Polyamideimide resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, polysulfone resin, or tetrafluoroethylene resin, acrylonitrile-styrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene It can be exemplified fat. Among these, PET is particularly preferable.

(減圧工程)
次いでベント(不図示)を閉じたのち、排気ポンプ(不図示)を作動させ、真空バルブ8を開とすることにより、反応室12内の空気が排気される。このとき、プラスチック容器11の内部空間のみならずプラスチック容器11の外壁面と下部チャンバ13の内壁面との間の空間も排気されて、真空にされる。すなわち、反応室12全体が排気される。そして反応室12内が必要な圧力、例えば1〜100Pa、好ましくは10〜100Paに到達するまで減圧される。これは1Pa未満の圧力では排気時間がかかり、また、成膜速度が低下する場合があり、成膜コス卜が増加する。また、100Paより高い圧力で良いとすると熱分解・酸化された非自然発火性原料が気相中で粒子化する場合がある。
(Decompression step)
Next, after closing the vent (not shown), the exhaust pump (not shown) is operated and the vacuum valve 8 is opened, whereby the air in the reaction chamber 12 is exhausted. At this time, not only the internal space of the plastic container 11 but also the space between the outer wall surface of the plastic container 11 and the inner wall surface of the lower chamber 13 is evacuated and evacuated. That is, the entire reaction chamber 12 is exhausted. The pressure in the reaction chamber 12 is reduced until it reaches a required pressure, for example, 1 to 100 Pa, preferably 10 to 100 Pa. This requires an exhaust time at a pressure of less than 1 Pa, and the film formation rate may decrease, resulting in an increase in film formation cost. If a pressure higher than 100 Pa is sufficient, the pyrolyzed / oxidized non-pyrophoric raw material may be particleized in the gas phase.

(ホットワイヤー工程)
次にワイヤー18に通電して所定温度以上に発熱させてホットワイヤーとする。所定温度とは、非自然発火性原料の種類にもよるが、例えば300〜1800℃である。800〜1100℃であることがより好ましい。また、ホットワイヤー18は、プラスチック容器11の内表面との距離が5〜50mmとなるように配置されている。
(Hot wire process)
Next, the wire 18 is energized to generate heat above a predetermined temperature to form a hot wire. The predetermined temperature is, for example, 300 to 1800 ° C. although it depends on the type of non-pyrophoric raw material. It is more preferable that it is 800-1100 degreeC. Moreover, the hot wire 18 is arrange | positioned so that the distance with the inner surface of the plastic container 11 may be 5-50 mm.

(成膜工程)
この後、ガス流量調整器24aで非自然発火性原料を所定流量供給し、ガス流量調整器24bでオゾンガスを所定流量供給する。非自然発火性原料及びオゾンガスは、原料ガス供給管23を経て、所定の圧力に減圧されたプラスチック容器11内において、ガス吹き出し孔17xから300〜1800℃に発熱したホットワイヤー18に向けて吹き出される。そして、ホットワイヤーで加熱された非自然発火性原料及びオゾンガスは、直ちにプラスチック容器11の内表面に接触させられる。成膜初期から、ホットワイヤー18によってオゾンが分解されてラジカル酸素となり、熱分解した非自然発火性原料を酸化する。そして、プラスチック容器11の内表面には、非自然発火性原料由来の酸化物薄膜が形成させる。
(Film formation process)
Thereafter, a non-pyrophoric raw material is supplied at a predetermined flow rate by the gas flow rate adjuster 24a, and ozone gas is supplied at a predetermined flow rate by the gas flow rate adjuster 24b. The non-pyrophoric raw material and the ozone gas are blown out through the raw material gas supply pipe 23 toward the hot wire 18 that generates heat from the gas blowing hole 17x to 300 to 1800 ° C. in the plastic container 11 that has been decompressed to a predetermined pressure. The The non-pyrophoric raw material and ozone gas heated by the hot wire are immediately brought into contact with the inner surface of the plastic container 11. From the initial stage of film formation, ozone is decomposed by the hot wire 18 into radical oxygen, and the pyrolyzed non-pyrophoric raw material is oxidized. Then, an oxide thin film derived from a non-pyrophoric raw material is formed on the inner surface of the plastic container 11.

本発明において、非自然発火性原料とは、上述したように、自然発火せず、かつ空気中で激しい反応を起こさず、かつ酸化されると酸化物を生成する原料である。非自然発火性原料は、固体、液体又は気体のいずれでもよい。ケイ素を構成元素として含む原料であれば、非自然発火性のケイ化有機化合物が好ましい。一方、自然発火性原料としては、モノシラン、ジシラン若しくはトリシラン等のシラン系原料がある。非自然発火性原料として、例えばトリメチルシランなどのケイ化有機化合物を使用し、ホットワイヤー18で熱分解させることで、酸化物薄膜としてSiO薄膜を形成することができる。 In the present invention, the non-pyrophoric raw material is a raw material that does not ignite spontaneously, does not cause a violent reaction in the air, and generates an oxide when oxidized as described above. The non-pyrophoric raw material may be solid, liquid, or gas. As long as it is a raw material containing silicon as a constituent element, a non-pyrophoric silicified organic compound is preferable. On the other hand, examples of pyrophoric materials include silane-based materials such as monosilane, disilane, and trisilane. An SiO x thin film can be formed as an oxide thin film by using a silicified organic compound such as trimethylsilane as a non-pyrophoric raw material and thermally decomposing with a hot wire 18.

非自然発火性のケイ化有機化合物としては、例えば、トリメチルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、フェニルシラン又はヘキサメチルシラザンが好ましい。また、ジメトキシ(メチル)シラン、エトキシジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、トリメトキシメチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラメチルシラン、ジメトキシメチルシラン、エトキントリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、アリルトリメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、トリルエチルシラン、ヘキサメチルジシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビス(トリメチルシリル)アセチレン、テトラエトキシシラン、トリメトキシフェニルシラン、γ−グリシドキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、γ−グリシドキシプロピル(トリメトキシ)メチルシラン、γ−メタクリロキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、γ−メタクリロキシプロピル(トリメトキシ)シラン、ジヒドロキシジフェニルシラン、ジフェニルシラン、トリエトキシフェニルシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラフェノキシシラン又はポリ(メチルハイドロジェンシロキサン)でもよい。   As the non-pyrophoric silicified organic compound, for example, trimethylsilane, hexamethyldisiloxane, phenylsilane, or hexamethylsilazane is preferable. Also, dimethoxy (methyl) silane, ethoxydimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, trimethoxymethylsilane, tetramethoxysilane, tetramethylsilane, dimethoxymethylsilane, ethoxyquintrimethylsilane, diethoxymethylsilane, ethoxydimethylvinylsilane, allyltrimethylsilane , Diethoxydimethylsilane, tolylethylsilane, hexamethyldisilane, diethoxymethylvinylsilane, triethoxymethylsilane, triethoxyvinylsilane, bis (trimethylsilyl) acetylene, tetraethoxysilane, trimethoxyphenylsilane, γ-glycidoxypropyl ( Dimethoxy) methylsilane, γ-glycidoxypropyl (trimethoxy) methylsilane, γ-methacryloxypropyl (dimethoxy) methyl Lan, γ-methacryloxypropyl (trimethoxy) silane, dihydroxydiphenylsilane, diphenylsilane, triethoxyphenylsilane, tetraisopropoxysilane, dimethoxydiphenylsilane, diethoxydiphenylsilane, tetra-n-butoxysilane, tetraphenoxysilane or poly (Methylhydrogensiloxane) may also be used.

非自然発火性原料としては、前記の非自然発火性のケイ化有機化合物の他、金属元素を構成元素として含む原料、例えば、有機金属化合物、金属アルコキシドなどの非自然発火性の金属元素含有有機化合物であってもよい。金属元素が例えばアルミニウムであれば、非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物であることが好ましく、アルコキサイド系原料がより好ましい。例えばトリターシャリーブトキシアルミニウム(Al(t‐OC)、トリエトキシアルミニウム(Al(OC)、トリイソプロポキシアルミニウム(Al(i‐OC)、トリセカンダリーブトキシアルミニウム(Al(sec‐OC)、トリスアセチルアセトネートアルミニウム(Al(C)又はトリスジピヴァロイルメタネートアルミニウム(Al(C1119)がある。一方、自然発火性原料としては、トリメチルアルミニウムがある。非自然発火性原料として、例えばトリイソプロポキシアルミニウムを使用し、ホットワイヤー18で熱分解させることで、酸化物薄膜としてAlO薄膜を形成することができる。 Non-pyrophoric raw materials include, in addition to the aforementioned non-pyrophoric silicified organic compounds, raw materials containing metal elements as constituent elements, for example, non-pyrophoric metal element-containing organics such as organometallic compounds and metal alkoxides. It may be a compound. If the metal element is aluminum, for example, it is preferably a non-pyrophoric aluminum-containing organic compound, more preferably an alkoxide-based raw material. For example, tritertiary butoxy aluminum (Al (t-OC 4 H 9 ) 3 ), triethoxy aluminum (Al (OC 2 H 5 ) 3 ), triisopropoxy aluminum (Al (i-OC 3 H 7 ) 3 ), Trisecondary butoxy aluminum (Al (sec-OC 4 H 9 ) 3 ), trisacetylacetonate aluminum (Al (C 5 H 7 O 2 ) 3 ) or trisdipivaloylmethanate aluminum (Al (C 11 H 19) O 2 ) 3 ). On the other hand, as a pyrophoric raw material, there is trimethylaluminum. For example, triisopropoxyaluminum is used as the non-pyrophoric raw material, and the AlO x thin film can be formed as the oxide thin film by thermal decomposition with the hot wire 18.

本実施形態において、非自然発火性原料とオゾンを一緒に供給する理由は次のとおりである。まず第1に、立体形状を有するプラスチック容器に成膜しなければならず、また、プラスチック材を使用する以上低温で成膜しなければならないため、低温でも高効率の析出反応を立体的な形状の表面上で実現しなければならない。第2に、安全性の高い非自然発火性原料を熱分解及び酸化して酸化物薄膜を生成させようとした場合、本発明者の検討によれば、非自然発火性原料と酸素を一緒に供給しても酸化物の析出がなされなかった。そこで、極めて強い酸化力を有するオゾンを非自然発火性原料と一緒に供給することで、非自然発火性原料を熱分解及び酸化して酸化物薄膜を効率よく生成させることが可能であり、立体形状を有するプラスチック容器に成膜することが可能であることを見出した。オゾンは紫外線や200℃以上に加熱されることで化1のように分解すると考えられる。
(化1)O → O + O・
したがって、ホットワイヤー18でオゾンを加熱すると、化1にしたがって分解し、ラジカル酸素が強い酸化力を発揮する。同時にホットワイヤー18で非自然発火性原料を加熱しているので、非自然発火性原料はワイヤーの熱による熱分解し或いはワイヤーの触媒作用によって分解し、かつ、ラジカル酸素によって酸化される。この結果、非自然発火性原料由来の酸化物薄膜が生成する。ここでホットワイヤー18は、(1)オゾンを化1にしたがってラジカル酸素にする、(2)非自然発火性原料を加熱し、熱分解する或いは触媒作用によって分解する、という少なくとも2つの作用をする。なお、ホットワイヤー18が触媒化学蒸着法でいう触媒作用を必須で有している必要はなく、ホットワイヤー18は非自然発火性原料とオゾンを同時に加熱できればよい。もちろん、触媒作用を奏するホットワイヤー18を使用してその触媒作用によって非自然発火性原料の熱分解を促す形態が、本発明から排除されるわけではない。
In the present embodiment, the reason for supplying the non-pyrophoric raw material and ozone together is as follows. First of all, it is necessary to form a film in a plastic container having a three-dimensional shape, and since it is necessary to form a film at a low temperature as long as a plastic material is used, a highly efficient precipitation reaction can be performed in a three-dimensional shape even at a low temperature. Must be realized on the surface. Second, when an oxide thin film is formed by pyrolyzing and oxidizing a highly safe non-pyrophoric raw material, according to the study of the present inventors, the non-pyrophoric raw material and oxygen are combined together. No oxide was deposited even when supplied. Therefore, by supplying ozone with extremely strong oxidizing power together with the non-pyrophoric raw material, it is possible to thermally decompose and oxidize the non-pyrophoric raw material to efficiently generate an oxide thin film. It has been found that a film can be formed on a plastic container having a shape. It is considered that ozone decomposes as shown in chemical formula 1 when heated to ultraviolet rays or 200 ° C. or higher.
(Chemical Formula 1) O 3 → O 2 + O.
Therefore, when ozone is heated with the hot wire 18, it decomposes | disassembles according to Chemical formula 1, and radical oxygen exhibits strong oxidizing power. At the same time, since the non-pyrophoric raw material is heated by the hot wire 18, the non-pyrophoric raw material is thermally decomposed by the heat of the wire or decomposed by the catalytic action of the wire and oxidized by radical oxygen. As a result, an oxide thin film derived from a non-pyrophoric raw material is generated. Here, the hot wire 18 has at least two functions of (1) converting ozone into radical oxygen according to chemical formula 1, and (2) heating and pyrolyzing non-pyrophoric raw materials or decomposing by catalytic action. . The hot wire 18 is not necessarily required to have a catalytic action in the catalytic chemical vapor deposition method, and the hot wire 18 only needs to be able to heat the non-pyrophoric raw material and ozone simultaneously. Of course, the form which uses the hot wire 18 which has a catalytic action and promotes thermal decomposition of a non-pyrophoric raw material by the catalytic action is not excluded from the present invention.

オゾンは、上記のとおり、市販のオゾナイザー又はオゾンボンベで供給する。   As described above, ozone is supplied by a commercially available ozonizer or ozone cylinder.

非自然発火性原料とオゾンに希釈ガスを混合しても良い。希釈ガスとしては、例えば、アルゴンやヘリウム等の不活性ガス又は成膜時の化学反応に不活性なガスとする。非自然発火性原料の濃度調整や真空チャンバ内の圧力調整に用いることができる。   A diluent gas may be mixed with the non-pyrophoric raw material and ozone. As the dilution gas, for example, an inert gas such as argon or helium or a gas inert to a chemical reaction during film formation is used. It can be used for adjusting the concentration of a non-pyrophoric raw material and adjusting the pressure in a vacuum chamber.

オゾンガスの供給量は、酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量であることが好ましく、例えば、非自然発火性物質に対して、5〜20倍の流量である。オゾンガスの供給量が少ないと酸化物薄膜中に炭素が残留し、充分若しくはそれ以上の供給量であれば、酸化物薄膜中に炭素は残留しない。そして、酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロであるとガスバリア性が最も良好となる。   The supply amount of the ozone gas is preferably an amount such that carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero, for example, a flow rate 5 to 20 times that of the non-pyrophoric substance. If the supply amount of ozone gas is small, carbon remains in the oxide thin film. If the supply amount is sufficient or more, carbon does not remain in the oxide thin film. When the carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero, the gas barrier property is the best.

ここで、オゾンガスの供給量は、酸化物薄膜の成膜開始時には、まず、酸化物薄膜中に炭素が残留する量に設定(例えば、非自然発火性物質に対して、0.5〜2.0倍の流量)し、その後供給量を増加させて酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量に設定(例えば、非自然発火性物質に対して、5〜20倍の流量)してもよい。このとき、酸化物薄膜は、その厚さ方向に沿って、表面に向かうにつれて、炭素含有量が少なくなる分布となり、傾斜組成薄膜となる。そして、酸化物薄膜は、酸化物薄膜中に炭素が残留すると基板との密着性が良好となり、一方、酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロであるとガスバリア性が最も良好となる物性を示す。そのため、基板表面上の酸化物薄膜に炭素を残留させ、酸化物薄膜の表面側には炭素が残留しないように傾斜組成膜とすることで、基板に対して密着性が良好で、かつ、ガスバリア性が良好な酸化物薄膜とすることができる。   Here, the supply amount of ozone gas is first set to an amount in which carbon remains in the oxide thin film at the start of film formation of the oxide thin film (for example, 0.5-2. (The flow rate is 0 times) and then the supply amount is increased so that the carbon remaining in the oxide thin film becomes substantially zero (for example, the flow rate is 5 to 20 times that of non-pyrophoric substances). ) At this time, the oxide thin film has a distribution in which the carbon content decreases toward the surface along the thickness direction, and becomes a gradient composition thin film. The oxide thin film has good adhesion to the substrate when carbon remains in the oxide thin film, while the gas barrier property is best when carbon remaining in the oxide thin film is substantially zero. Shows physical properties. For this reason, carbon is left in the oxide thin film on the surface of the substrate, and a gradient composition film is formed so that carbon does not remain on the surface of the oxide thin film. An oxide thin film with good properties can be obtained.

本実施形態では、成膜時に、プラスチック容器11に紫外線を照射することが好ましい(紫外線照射手段は不図示)。プラスチック容器11の表面を殺菌処理することができる。また、紫外線の照射によってオゾンの分解を促進して酸化力を高め、結果として、非自然発火性原料の酸化を促進させることができる。このとき、ホットワイヤーによって非自然発火性原料とオゾンガスを加熱するが、ホットワイヤーによって紫外線の照射が妨げられることがなく、効率よく反応を進めることができる。   In the present embodiment, it is preferable to irradiate the plastic container 11 with ultraviolet rays during film formation (ultraviolet irradiation means is not shown). The surface of the plastic container 11 can be sterilized. Moreover, the decomposition of ozone is promoted by the irradiation of ultraviolet rays to increase the oxidizing power, and as a result, the oxidation of the non-pyrophoric raw material can be promoted. At this time, the non-pyrophoric raw material and the ozone gas are heated by the hot wire, but the reaction can be efficiently advanced without hindering the irradiation of ultraviolet rays by the hot wire.

ワイヤー18は、ホットワイヤーとしたときに、実質的に揮発しない金属又は炭素を主成分として形成されてなることが好ましい。ここで金属は耐酸化性金属であることが好ましい。例えば、Ir,Re,Ni,Pt又はAuである。不純物の少ない非自然発火性原料に由来する酸化物薄膜を成膜することができる。   When the wire 18 is a hot wire, the wire 18 is preferably formed mainly of a metal or carbon that does not substantially volatilize. Here, the metal is preferably an oxidation-resistant metal. For example, Ir, Re, Ni, Pt or Au. An oxide thin film derived from a non-pyrophoric raw material with few impurities can be formed.

一方、ワイヤーに由来する揮発成分を不純物としてではなく、添加成分として酸化物薄膜に取り込ませても良い。このような形態の製造方法を行なうためには次のように行なう。ワイヤー18は、金属若しくは導電性金属化合物若しくは炭素を主成分として形成され、かつ、ホットワイヤーとしたときに炭素、ケイ素又は金属元素を揮発させ、かつ、炭素、ケイ素又は金属元素が酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となってもよい。酸化物薄膜に、意図的に添加成分を導入する場合に有効な手法である。金属の具体例としては、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム又はパラジウムである。ホットワイヤーとしたときにこれらの金属元素が揮発し、酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となる。導電性金属化合物の具体例としては、例えば、FeC又はFeCrCである。ホットワイヤーとしたときに炭素が揮発し、酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となる。ワイヤー18が、金属を主成分として形成され、かつ、ホットワイヤーとしたときにケイ素を揮発させる形態の具体例としては、Ir、Pt又はNiCr等の非揮発性金属のワイヤーの表面にSiをスパッタリングして被膜したワイヤーがある。ホットワイヤーとしたときにケイ素が揮発し、酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となる。ワイヤー18が、炭素を主成分とするワイヤー、例えば炭素繊維であれば、ホットワイヤーとしたときに炭素が揮発し、酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となる。酸化物薄膜に、炭素、ケイ素又は金属元素が添加成分として取り込まれると、酸化物薄膜の物性が改良される。例えば、酸化物薄膜、例えばAlO薄膜にケイ素が添加成分として取り込まれると、ガスバリア性を維持したまま、柔軟性が向上する。そして、揮発した金属元素は、SiO薄膜、AlO薄膜等の酸化物薄膜の内部に取り込まれて、カラーセンターとなることが好ましい。酸化物薄膜に呈色を施すことができる。カラーセンターとして機能する金属元素の具体例としては、例えば、コバルト、マンガン、銅、鉄、クロム、アンチモン、カドニウム、硫黄、セレン、金、ニッケル、ウラン、バナジウム、銀、モリブデン、錫、タングステン、ビスマス又はエルビウムである。 On the other hand, the volatile component derived from the wire may be incorporated into the oxide thin film as an additive component, not as an impurity. In order to perform the manufacturing method of such a form, it carries out as follows. The wire 18 is formed of a metal, a conductive metal compound, or carbon as a main component, and volatilizes carbon, silicon, or a metal element when used as a hot wire, and the carbon, silicon, or metal element is converted into an oxide thin film. It may be taken in and become an additive component. This is an effective technique when an additive component is intentionally introduced into the oxide thin film. Specific examples of the metal are, for example, molybdenum, copper, aluminum, or palladium. When a hot wire is formed, these metal elements are volatilized and taken into the oxide thin film to become an additive component. Specific examples of the conductive metal compound include, for example, FeC or FeCrC. When the hot wire is formed, the carbon volatilizes and is taken into the oxide thin film and becomes an additive component. As a specific example of a form in which the wire 18 is formed of a metal as a main component and volatilizes silicon when it is used as a hot wire, Si is sputtered on the surface of a wire of a non-volatile metal such as Ir, Pt or NiCr. And there is a coated wire. When hot wire is used, silicon volatilizes and is taken into the oxide thin film to become an additive component. If the wire 18 is a wire containing carbon as a main component, for example, carbon fiber, the carbon volatilizes when it is used as a hot wire, and is taken into the oxide thin film and becomes an additive component. When carbon, silicon, or a metal element is incorporated as an additive component into the oxide thin film, the physical properties of the oxide thin film are improved. For example, when silicon is incorporated as an additive component into an oxide thin film, such as an AlO x thin film, flexibility is improved while maintaining gas barrier properties. The volatilized metal element is preferably taken into an oxide thin film such as a SiO x thin film or an AlO x thin film to form a color center. The oxide thin film can be colored. Specific examples of metal elements that function as color centers include, for example, cobalt, manganese, copper, iron, chromium, antimony, cadmium, sulfur, selenium, gold, nickel, uranium, vanadium, silver, molybdenum, tin, tungsten, and bismuth. Or erbium.

本実施形態では、前記の添加成分が、酸化物薄膜において架橋材として機能することが好ましい。酸化物薄膜の物理化学的安定性を向上させ、又は、屈折率の調整をすることができる。架橋材として機能する添加成分の具体例としては、例えばナトリウム、カリウム、リチウム、鉛、炭素又はチタンである。例えば、酸化物薄膜がSiO薄膜であれば、ナトリウム、カリウム又はリチウムを添加することによって網目装飾酸化物若しくは中間酸化物として、SiOのネットワーク構造に入り込み、熱膨張係数、硬度などの物理化学的性質を調整できる。同様に鉛を添加すれば、屈折率を高めることができる。同様にチタンを添加すれば、耐アルカリ性が向上する。同様に炭素を添加すれば、柔軟性を付与できる。 In the present embodiment, it is preferable that the additive component functions as a cross-linking material in the oxide thin film. The physicochemical stability of the oxide thin film can be improved, or the refractive index can be adjusted. Specific examples of the additive component that functions as a cross-linking material include sodium, potassium, lithium, lead, carbon, and titanium. For example, if the oxide thin film is a SiO x thin film, it can enter the network structure of SiO x as a network decoration oxide or intermediate oxide by adding sodium, potassium or lithium, and physical chemistry such as thermal expansion coefficient and hardness Can be adjusted. Similarly, if lead is added, the refractive index can be increased. Similarly, when titanium is added, alkali resistance is improved. Similarly, if carbon is added, flexibility can be imparted.

添加成分として酸化物薄膜に取り込ませている別形態としては、例えば次のように行なう。すなわち、ワイヤー18の表面に揮発性物質を塗布又は担持し、ホットワイヤーとしたときに揮発性物質を揮発させて、酸化物薄膜に取り込まれて添加成分とする形態である。非自然発火性原料由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分が添加成分となる酸化物薄膜を成膜することができる。揮発性物質の具体例としては、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素或いはこれらを含む化合物である。酸化物薄膜に呈色を施すことができる。また、AlO薄膜にケイ素を添加成分として取り込ませることで、ガスバリア性を維持したまま、柔軟性が向上する。なお、この形態には、ワイヤー18の構成成分が揮発しない形態と、揮発する形態とがある。後者の場合、揮発性物質とワイヤーからの揮発物の両方が酸化物薄膜に添加成分として取り込まれる。 As another mode of incorporating the oxide thin film as an additive component, for example, the following is performed. That is, a volatile substance is applied or supported on the surface of the wire 18 to volatilize the volatile substance when it is used as a hot wire, and is taken into the oxide thin film to be an additive component. It is possible to form an oxide thin film in which a component derived from a non-pyrophoric raw material is a main component and a component derived from a volatile substance supported on a wire is an additional component. Specific examples of the volatile substance are molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, silicon, or a compound containing these. The oxide thin film can be colored. Further, by incorporating silicon as an additive component into the AlO x thin film, flexibility is improved while maintaining gas barrier properties. In addition, in this form, there exists a form in which the component of the wire 18 does not volatilize, and a form in which it volatilizes. In the latter case, both volatile materials and volatiles from the wire are incorporated into the oxide thin film as additive components.

さらに、本実施形態では、非自然発火性原料由来の成分が主成分となり、また、ワイヤー由来の成分も主成分となる酸化物薄膜を成膜する形態としてもよい。つまり、このような形態としては、ワイヤー18は、ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなり、かつ、ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気が、非自然発火性のケイ化有機化合物又は非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物などの前記非自然発火性原料とともに、非自然発火性原料となり、前記蒸気が酸化して酸化物薄膜の主成分の一つを構成する形態がある。金属の具体例としては、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム又はパラジウムである。ホットワイヤーとしたときにこれらの金属元素が揮発し、これらの金属元素を含む蒸気が非自然発火性原料となり、酸化されて、非自然発火性のケイ化有機化合物又は非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物などの非自然発火性原料とともに、酸化物薄膜の主成分の一つとなる。ワイヤー18が、金属を主成分として形成され、かつ、ホットワイヤーとしたときにケイ素を揮発させる形態の具体例としては、Ir、Pt又はNiCr等の非揮発性金属のワイヤーの表面にSiをスパッタリングして被膜したワイヤーがある。ホットワイヤーとしたときにケイ素が揮発し、この蒸気が非自然発火性原料となり、酸化されて、非自然発火性のケイ化有機化合物又は非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物などの非自然発火性原料とともに、酸化物薄膜の主成分の一つとなる。導電性金属化合物は、単独では使用せず、上記2つの非自然発火性原料(金属元素を含む蒸気とケイ素を含む蒸気)とともに併用される。導電性金属化合物の具体例としては、例えば、FeC又はFeCrCである。ホットワイヤーとしたときに炭素が揮発し、酸化されて、前記酸化物薄膜に添加成分として取り込まれる。   Furthermore, in this embodiment, it is good also as a form which forms the oxide thin film into which the component derived from a non-pyrophoric raw material becomes a main component, and the component derived from a wire also becomes a main component. That is, in such a form, the wire 18 is formed mainly of a metal, a conductive metal compound, or carbon containing at least one of carbon, silicon, and metal that volatilizes when it is used as a hot wire. And vapor containing at least one component of carbon, silicon, or metal volatilized from the hot wire is a non-pyrophoric silicified organic compound or a non-pyrophoric aluminum-containing organic compound. There is a form that becomes a non-pyrophoric raw material together with the pyrophoric raw material, and the steam is oxidized to constitute one of the main components of the oxide thin film. Specific examples of the metal are, for example, molybdenum, copper, aluminum, or palladium. These metal elements volatilize when used as hot wires, and vapors containing these metal elements become non-pyrophoric raw materials that are oxidized and contain non-pyrophoric silicified organic compounds or non-pyrophoric aluminum Together with non-pyrophoric raw materials such as organic compounds, it becomes one of the main components of oxide thin films. As a specific example of a form in which the wire 18 is formed of a metal as a main component and volatilizes silicon when it is used as a hot wire, Si is sputtered on the surface of a wire of a non-volatile metal such as Ir, Pt or NiCr. And there is a coated wire. Silicon is volatilized when used as a hot wire, and this vapor becomes a non-pyrophoric raw material that is oxidized and non-pyrophoric, such as non-pyrophoric silicified organic compounds or non-pyrophoric aluminum-containing organic compounds Together with the raw material, it becomes one of the main components of the oxide thin film. The conductive metal compound is not used alone, but is used together with the two non-pyrophoric raw materials (a vapor containing a metal element and a vapor containing silicon). Specific examples of the conductive metal compound include, for example, FeC or FeCrC. When it is used as a hot wire, carbon is volatilized, oxidized, and taken into the oxide thin film as an additive component.

以上述べた非自然発火性原料の供給方法は、原料ガス供給管23を介して供給する形態が含まれていたが、ここで、非自然発火性原料の供給方法として、原料ガス供給管23を介して供給せず、原料ガス供給管23にはオゾンガスのみを流す別形態1について説明する。すなわち、ワイヤー18は、ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなるワイヤーを使用する。すると、ホットワイヤーとなったとき、ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気が非自然発火性原料となる。金属の具体例としては、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム又はパラジウムである。ホットワイヤーとしたときにこれらの金属元素が揮発し、これらの金属元素を含む蒸気が非自然発火性原料となり、酸化されて、その金属元素の酸化物薄膜の主成分となる。ワイヤー18が、金属を主成分として形成され、かつ、ホットワイヤーとしたときにケイ素を揮発させる形態の具体例としては、Ir、Pt又はNiCr等の非揮発性金属のワイヤーの表面にSiをスパッタリングして被膜したワイヤーがある。ホットワイヤーとしたときにケイ素が揮発し、この蒸気が非自然発火性原料となり、酸化されて、SiO薄膜の主成分となる。導電性金属化合物は、単独では使用せず、上記2つの非自然発火性原料(金属元素を含む蒸気とケイ素を含む蒸気)とともに併用される。導電性金属化合物の具体例としては、例えば、FeC又はFeCrCである。ホットワイヤーとしたときに炭素が揮発し、酸化されて、前記酸化物薄膜に添加成分として取り込まれる。ワイヤー由来の蒸気であれば、安全性をさらに高め、また、原料導入手段が簡素となる。また、ワイヤーの組成を調整することで薄膜の組成を容易に制御することができる。また、原料導入手段が簡素となる。ワイヤー由来の蒸気は、2000℃以下で飽和蒸気圧が10−4Pa以上の金属の単体又は該金属を含む化合物の蒸気であることが好ましい。充分な成膜速度、例えば2.5nm/秒以上の成膜速度を得ることができる。 The method of supplying the non-pyrophoric raw material described above includes a form of supplying via the raw material gas supply pipe 23. Here, as the method of supplying the non-pyrophoric raw material, the raw material gas supply pipe 23 is used. Another embodiment 1 is described in which only ozone gas is allowed to flow through the source gas supply pipe 23 without being supplied via the source gas. In other words, the wire 18 is a wire formed of a metal, a conductive metal compound, or carbon containing at least one of carbon, silicon, or metal that volatilizes as a hot wire as a main component. Then, when it becomes a hot wire, the vapor | steam containing at least any 1 type of component of the carbon volatilized from the hot wire becomes a non-pyrophoric raw material. Specific examples of the metal are, for example, molybdenum, copper, aluminum, or palladium. When a hot wire is formed, these metal elements are volatilized, and a vapor containing these metal elements becomes a non-pyrophoric raw material, which is oxidized and becomes a main component of an oxide thin film of the metal element. As a specific example of a form in which the wire 18 is formed of a metal as a main component and volatilizes silicon when it is used as a hot wire, Si is sputtered on the surface of a wire of a non-volatile metal such as Ir, Pt or NiCr. And there is a coated wire. Silicon is volatilized when it is used as a hot wire, and this vapor becomes a non-pyrophoric raw material that is oxidized and becomes the main component of the SiO x thin film. The conductive metal compound is not used alone, but is used together with the two non-pyrophoric raw materials (a vapor containing a metal element and a vapor containing silicon). Specific examples of the conductive metal compound include, for example, FeC or FeCrC. When it is used as a hot wire, carbon is volatilized, oxidized, and taken into the oxide thin film as an additive component. If it is the steam derived from a wire, safety | security will be improved further and a raw material introduction means will become simple. Moreover, the composition of the thin film can be easily controlled by adjusting the composition of the wire. Moreover, the raw material introduction means is simplified. The vapor derived from the wire is preferably a simple substance of a metal having a saturated vapor pressure of 10 −4 Pa or more at a temperature of 2000 ° C. or less or a vapor of a compound containing the metal. A sufficient film formation rate, for example, a film formation rate of 2.5 nm / second or more can be obtained.

上記蒸気としては、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素を含む蒸気(1)である。このとき、酸化物薄膜は、オゾンの酸化作用によって、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素の酸化物薄膜となる。また、炭素、ナトリウム、カリウム、リチウム、鉛又はチタンを含む蒸気(2)を、前記蒸気(1)と同時に存在させても良い。前記蒸気(1)が酸化されて、酸化物薄膜が形成され、蒸気(2)に含まれる元素はこの酸化物薄膜に添加成分として取り込まれる。   As said vapor | steam, it is the vapor | steam (1) containing molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, or silicon, for example. At this time, the oxide thin film becomes an oxide thin film of molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, or silicon by the oxidizing action of ozone. Moreover, the vapor | steam (2) containing carbon, sodium, potassium, lithium, lead, or titanium may exist simultaneously with the said vapor | steam (1). The vapor (1) is oxidized to form an oxide thin film, and elements contained in the vapor (2) are taken into the oxide thin film as an additive component.

原料ガス供給管23を介して供給せず、原料ガス供給管23にはオゾンガスのみを流す別形態1において、ワイヤーの表面に揮発性物質を塗布又は担持し、ホットワイヤーとしたときに揮発性物質を揮発させて、酸化物薄膜に取り込ませて添加成分とすることとしても良い。ワイヤー由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分が添加成分となる酸化物薄膜を成膜することができる。或いは、ワイヤーの表面に揮発性物質を塗布又は担持し、ホットワイヤーとしたときに揮発性物質を揮発させて、揮発性物質がワイヤーから揮発した蒸気とともに非自然発火性原料として、酸化物薄膜の主成分となるようにしてもよい。ワイヤー由来の成分が主成分となり、ワイヤーに担持させた揮発性物質由来の成分も主成分となる酸化物薄膜を成膜することができる。このとき酸化物薄膜を構成する酸化物は、非自然発火性原料由来の主成分とワイヤー由来の主成分とが同じであればSiO薄膜、AlO薄膜等の単一成分の酸化物薄膜となり、非自然発火性原料由来の主成分とワイヤー由来の主成分とが異なれば、複酸化物の酸化物薄膜となる。複酸化物としては、例えば、SiMoがある。揮発性物質としては、酸化されると酸化物となる物質であり、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム又はケイ素或いはこれらを含む化合物であり、これらは粉体であることが好ましい。 In another embodiment 1 in which only ozone gas is allowed to flow through the source gas supply pipe 23 without being supplied via the source gas supply pipe 23, a volatile substance is applied to or supported on the surface of the wire to form a volatile substance. May be volatilized and incorporated into the oxide thin film to serve as an additive component. An oxide thin film in which a component derived from a wire is a main component and a component derived from a volatile substance carried on the wire is an additive component can be formed. Alternatively, a volatile substance is applied or supported on the surface of the wire, and when the hot wire is formed, the volatile substance is volatilized. You may make it become a main component. An oxide thin film in which a component derived from a wire is a main component and a component derived from a volatile substance carried on the wire is also a main component can be formed. At this time, the oxide constituting the oxide thin film becomes a single-component oxide thin film such as a SiO x thin film or an AlO x thin film if the main component derived from the non-pyrophoric raw material and the main component derived from the wire are the same. If the main component derived from the non-pyrophoric raw material is different from the main component derived from the wire, a double oxide oxide thin film is obtained. An example of the double oxide is SiMo x O y . The volatile substance is a substance that becomes an oxide when oxidized, for example, molybdenum, copper, aluminum, palladium, silicon, or a compound containing these, and these are preferably powders.

さらに、非自然発火性原料の供給方法として、原料ガス供給管23を介して供給せず、原料ガス供給管23にはオゾンガスのみを流す別形態2について説明する。ワイヤー18の表面に塗布又は担持された揮発性物質を非自然発火性原料とする。この形態であれば、ワイヤー18をホットワイヤーとしたときに揮発性物質が揮発する。揮発性物質としては、上記と同様に酸化されると酸化物となる物質であり、例えば、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム又はケイ素或いはこれらを含む化合物であり、これらは粉体であることが好ましい。これらの元素の酸化物薄膜が得られる。そして、オゾンの酸化作用によって、揮発性物質に由来する酸化物薄膜が安全に得られる。また、原料導入手段が簡素となる。酸化ケイ素膜等の無色透明の酸化物薄膜の他、呈色を示す酸化物薄膜も得られる。   Furthermore, as a method for supplying the non-pyrophoric raw material, another embodiment 2 in which only ozone gas is allowed to flow through the raw material gas supply pipe 23 without being supplied through the raw material gas supply pipe 23 will be described. A volatile substance coated or supported on the surface of the wire 18 is used as a non-pyrophoric material. If it is this form, when the wire 18 is used as a hot wire, a volatile substance will volatilize. The volatile substance is a substance that becomes an oxide when oxidized in the same manner as described above, for example, molybdenum, copper, aluminum, palladium, silicon, or a compound containing these, and these are preferably powders. . An oxide thin film of these elements is obtained. And the oxide thin film originating in a volatile substance is safely obtained by the oxidation action of ozone. Moreover, the raw material introduction means is simplified. In addition to a colorless and transparent oxide thin film such as a silicon oxide film, an oxide thin film exhibiting color can be obtained.

揮発性物質としてナトリウム、カリウム又はリチウムを揮発させる場合には、単体では不安定であるため、これらの炭酸塩、シュウ酸塩などの塩をワイヤーに担持させて使用する。   When sodium, potassium or lithium is volatilized as a volatile substance, it is unstable as a simple substance, so these salts such as carbonates and oxalates are supported on wires.

(成膜の終了)
薄膜が所定の厚さに達すると、非自然発火性原料及びオゾンガス33の供給を止め、反応室12内を再度排気した後、図示していないリークガスを導入して、反応室12を大気圧にする。この後、上部チャンバ15を開けてプラスチック容器11を取り出す。薄膜の膜厚は、ワイヤー18の種類、プラスチック容器11内の圧力、供給ガス流量、非自然発火性原料及びオゾンガス33がワイヤー18に吹き付けられる時間、非自然発火性原料の種類などに依存するが、5〜100nmとなるようにするのが好ましい。上記実施形態によれば、成膜速度は、例えば、2.5〜4.0nm/秒と高速である。酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の酸素透過度を測定したところ、未コートのプラスチック容器と比較して、2分の1〜5分の1に低下し、バリア性の向上が確認できた。
(Finish film formation)
When the thin film reaches a predetermined thickness, the supply of the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 is stopped, the reaction chamber 12 is evacuated again, a leak gas (not shown) is introduced, and the reaction chamber 12 is brought to atmospheric pressure. To do. Thereafter, the upper chamber 15 is opened and the plastic container 11 is taken out. The thickness of the thin film depends on the type of the wire 18, the pressure in the plastic container 11, the supply gas flow rate, the time during which the non-pyrophoric raw material and the ozone gas 33 are sprayed on the wire 18, the type of the non-pyrophoric raw material, and the like. 5 to 100 nm is preferable. According to the said embodiment, the film-forming speed | rate is as high as 2.5-4.0 nm / second, for example. When the oxygen permeability of the plastic container coated with the oxide thin film was measured, it was reduced to one-half to one-fifth compared with an uncoated plastic container, and an improvement in barrier properties could be confirmed.

なお、プラスチック容器11の外表面に酸化物薄膜を成膜する場合には、膜の均一性を高めるために、ボトル回転機構32によってプラスチック容器11を回転させた状態で成膜を行なうことが好ましい。   When forming an oxide thin film on the outer surface of the plastic container 11, it is preferable to perform the film formation in a state where the plastic container 11 is rotated by the bottle rotation mechanism 32 in order to improve the uniformity of the film. .

次に、本実施形態に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法において、量産を行なう形態を説明する。本実施形態に係る酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法では、減圧工程において、大気圧以下の所定圧力(例えば10〜100Pa)とされた真空チャンバ6の内部にプラスチック容器11が収容された状態となるが、この状態とするために、プラスチック容器11が、真空チャンバ6内に差圧機構を介して搬入される工程を追加する。搬送経路にはプラスチック容器11が次々と所定間隔で連続的に搬送されるため、真空チャンバとしてはバッチタイプよりも、例えば図9に示される差圧機構を有するタイプを使用することが好ましい。そして、ホットワイヤーで加熱された非自然発火性原料とオゾンをプラスチック容器11の表面に効率的に接触させるために、プラスチック容器11が、真空チャンバ内の搬送経路に設置されたワイヤー18に対してプラスチック容器11の表面が所望の距離(例えば5〜50mm)まで近づくように、搬送経路上を搬送される工程を追加する。さらに、成膜を終えたプラスチック容器を取り出す工程、つまり、プラスチック容器11が、真空チャンバ外へ差圧機構を介して搬出される工程をさらに追加する。上記工程を追加することによって、効率的に酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器を量産することが可能となる。   Next, an embodiment of mass production in the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to this embodiment will be described. In the method for manufacturing a plastic container coated with an oxide thin film according to the present embodiment, the plastic container 11 is housed in the vacuum chamber 6 that is set to a predetermined pressure (eg, 10 to 100 Pa) that is equal to or lower than the atmospheric pressure in the decompression step. In order to achieve this state, a process of adding the plastic container 11 into the vacuum chamber 6 via a differential pressure mechanism is added. Since the plastic containers 11 are continuously conveyed at predetermined intervals one after another in the conveyance path, it is preferable to use a type having a differential pressure mechanism shown in FIG. 9 for example as a vacuum chamber rather than a batch type. And in order to make the non-pyrophoric raw material heated with the hot wire and ozone contact the surface of the plastic container 11 efficiently, the plastic container 11 is attached to the wire 18 installed in the conveyance path in the vacuum chamber. A step of transporting on the transport path is added so that the surface of the plastic container 11 approaches a desired distance (for example, 5 to 50 mm). Further, a step of taking out the plastic container after film formation, that is, a step of transporting the plastic container 11 out of the vacuum chamber via a differential pressure mechanism is further added. By adding the above steps, it becomes possible to mass-produce plastic containers coated with an oxide thin film efficiently.

(実施例1)
図2に示した成膜装置100を用いて、プラスチック容器11として、丸型500mlのPETボトルの内表面に成膜を行なった。容器壁の肉厚は約0.3mmであった。ワイヤー18としてイリジウムワイヤーを用い、非自然発火性原料としてトリメチルシランを1.5sccmを供給した。オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。イリジウムワイヤーに直流電流を印加し、800℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を20Paとした。成膜時間は15秒とした。得られた酸化ケイ素薄膜を被膜したPETボトルを実施例1とした。実施例1について、次のとおり評価を行なった。
(Example 1)
Film formation was performed on the inner surface of a round 500 ml PET bottle as a plastic container 11 using the film formation apparatus 100 shown in FIG. The wall thickness of the container wall was about 0.3 mm. An iridium wire was used as the wire 18 and 1.5 sccm of trimethylsilane was supplied as a non-pyrophoric material. Ozone was diluted to 10% with oxygen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 100 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the iridium wire to obtain a hot wire at 800 ° C. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 20 Pa. The film formation time was 15 seconds. A PET bottle coated with the obtained silicon oxide thin film was taken as Example 1. Example 1 was evaluated as follows.

(評価方法)
(1)酸素透過度
この容器の酸素透過度は、Modern Control社製 Oxtran 2/20を用いて、23℃、90%RHの条件にて測定し、窒素ガス置換開始から72時間後の測定値を記載した。
(2)膜厚
DLCの膜厚は、Veeco社DEKTAK3を用いて測定した。
(3)密着性
PETボトル内表面上に形成された酸化物薄膜サンプルを、25℃の純粋に1週間浸漬した。PETボトルのうち比較的平滑な一定部分について、マスキングを用いて、膜厚が測定可能な箇所を設け、浸漬前後の膜厚を上述の方法で測定した。膜厚が、浸漬前後で同等のサンプルは、密着性ありと、浸漬前後で膜厚が有意に減少したサンプルは、密着性なしと、判定した。
(Evaluation methods)
(1) Oxygen permeability The oxygen permeability of this container was measured under conditions of 23 ° C. and 90% RH using Oxtran 2/20 manufactured by Modern Control, and was measured 72 hours after the start of nitrogen gas replacement. Was described.
(2) Film thickness The film thickness of DLC was measured using DEKTAK3 manufactured by Veeco.
(3) Adhesion The oxide thin film sample formed on the inner surface of the PET bottle was immersed purely at 25 ° C. for 1 week. About the comparatively smooth fixed part among PET bottles, the location which can measure a film thickness was provided using masking, and the film thickness before and behind immersion was measured by the above-mentioned method. Samples having the same film thickness before and after immersion were judged to have adhesion, and samples having a film thickness significantly reduced before and after immersion were judged to have no adhesion.

実施例1について、酸素透過度は、0.002cc/容器/日であった。膜厚は51nmであった。密着性は「あり」であった。製造条件と評価結果を表1にまとめた。
For Example 1, the oxygen transmission rate was 0.002 cc / container / day. The film thickness was 51 nm. The adhesion was “Yes”. The production conditions and evaluation results are summarized in Table 1.

(実施例2)
オゾンを酸素で3%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給し、性膜時間を50秒とした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例2とした。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 2)
The film was formed in the same manner as in Example 1 except that ozone was diluted to 3% with oxygen to obtain a mixed gas, this mixed gas was supplied at 100 sccm, and the sexing film time was 50 seconds. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例3)
成膜時の圧力を10Paとした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例3とした。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 3)
Except that the pressure at the time of film formation was 10 Pa, film formation was performed in the same manner as in Example 1 to obtain Example 3. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例4)
成膜時の圧力を100Paとした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例4とした。成膜条件と結果を表1に示した。
Example 4
Except that the pressure at the time of film formation was 100 Pa, film formation was performed in the same manner as in Example 1 to obtain Example 4. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例5)
オゾンを酸素で3%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccmで7.5秒供給して成膜を行ない、その後、オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccmで7.5秒供給して成膜を行ない、酸化物薄膜を炭素濃度が異なる傾斜組成膜とした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例5とした。成膜条件と結果を表1に示した。この傾斜組成膜は、プラスチック表面上では炭素濃度が約5%であり、薄膜の表面側では炭素濃度が検出限界以下であった。
(Example 5)
Ozone is diluted to 3% with oxygen to form a mixed gas, this mixed gas is supplied at 100 sccm for 7.5 seconds to form a film, and then ozone is diluted to 10% with oxygen to form a mixed gas. A film was formed by supplying a gas at 100 sccm for 7.5 seconds, and the film was formed in the same manner as in Example 1 except that the oxide thin film was a gradient composition film having a different carbon concentration. The film forming conditions and results are shown in Table 1. This gradient composition film had a carbon concentration of about 5% on the plastic surface, and the carbon concentration was below the detection limit on the surface side of the thin film.

(実施例6)
非自然発火性原料として、ヘキサメチルジシロキサンを用いた以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例6とした。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 6)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that hexamethyldisiloxane was used as a non-pyrophoric material, and Example 6 was obtained. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例7)
非自然発火性原料として、フェニルシランを用いた以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例7とした。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 7)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that phenylsilane was used as a non-pyrophoric material, and Example 7 was obtained. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例8)
非自然発火性原料として、ヘキサメチルジシラザンを用いた以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例8とした。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 8)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that hexamethyldisilazane was used as a non-pyrophoric material, and Example 8 was obtained. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例9)
非自然発火性原料として、トリイソプロポキシアルミニウムを用い、酸化アルミニウム薄膜を成膜した以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例9とした。成膜条件と結果を表1に示した。
Example 9
Example 9 was carried out in the same manner as in Example 1 except that triisopropoxyaluminum was used as the non-pyrophoric raw material and an aluminum oxide thin film was formed. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例10)
図2に示した成膜装置100を用いて、実施例1と同様のPETボトルの内表面に成膜を行なった。ワイヤー18としてモリブデンワイヤーを用い、非自然発火性原料をモリブデンワイヤーから発生するモリブデン蒸気とした。オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。モリブデンワイヤーに直流電流を印加し、800℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を5Paとした。成膜時間は30秒とした。得られた酸化モリブデン薄膜を被膜したPETボトルを実施例10とした。実施例10について、実施例1と同様の評価を行なった。成膜条件と結果を表1に示した。得られた酸化モリブデン薄膜は青色に呈色していた。
(Example 10)
Using the film forming apparatus 100 shown in FIG. 2, the same film was formed on the inner surface of the PET bottle as in Example 1. A molybdenum wire was used as the wire 18, and the non-pyrophoric raw material was molybdenum vapor generated from the molybdenum wire. Ozone was diluted to 10% with oxygen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 100 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the molybdenum wire to obtain an 800 ° C. hot wire. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 5 Pa. The film formation time was 30 seconds. A PET bottle coated with the obtained molybdenum oxide thin film was taken as Example 10. About Example 10, evaluation similar to Example 1 was performed. The film forming conditions and results are shown in Table 1. The obtained molybdenum oxide thin film was colored blue.

(実施例11)
図2に示した成膜装置100を用いて、実施例1と同様のPETボトルの内表面に成膜を行なった。ワイヤー18としてイリジウムワイヤーを用い、非自然発火性原料は、イリジウムワイヤーの表面に担持させた揮発性物質であるアルミニウム粉末とした。オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。イリジウムワイヤーに直流電流を印加し、800℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を5Paとした。成膜時間は60秒とした。得られた酸化アルミニウム薄膜を被膜したPETボトルを実施例11とした。実施例11について、実施例1と同様の評価を行なった。成膜条件と結果を表1に示した。
(Example 11)
Using the film forming apparatus 100 shown in FIG. 2, the same film was formed on the inner surface of the PET bottle as in Example 1. An iridium wire was used as the wire 18, and the non-pyrophoric raw material was an aluminum powder that is a volatile substance supported on the surface of the iridium wire. Ozone was diluted to 10% with oxygen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 100 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the iridium wire to obtain a hot wire at 800 ° C. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 5 Pa. The film formation time was 60 seconds. A PET bottle coated with the obtained aluminum oxide thin film was designated as Example 11. About Example 11, the same evaluation as Example 1 was performed. The film forming conditions and results are shown in Table 1.

(実施例12)
図2に示した成膜装置100を用いて、実施例1と同様のPETボトルの内表面に成膜を行なった。非自然発火性原料としてトリメチルシランを1.5sccmを供給した。また、ワイヤー18としてモリブデンワイヤーを用い、モリブデンワイヤーから発生するモリブデン蒸気を添加成分として、酸化ケイ素薄膜中に取り込んだ。オゾンを窒素で20%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを20sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。モリブデンワイヤーに直流電流を印加し、800℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を10Paとした。成膜時間は15秒とした。このようにして得られた、モリブデンが添加成分として取り込まれた酸化ケイ素薄膜を被膜したPETボトルを実施例12とした。実施例12について、実施例1と同様の評価を行なった。成膜条件と結果を表1に示した。モリブデンが添加成分として取り込まれた酸化ケイ素薄膜は青色に呈色していた。
(Example 12)
Using the film forming apparatus 100 shown in FIG. 2, the same film was formed on the inner surface of the PET bottle as in Example 1. As a non-pyrophoric raw material, 1.5 sccm of trimethylsilane was supplied. Further, a molybdenum wire was used as the wire 18 and molybdenum vapor generated from the molybdenum wire was incorporated into the silicon oxide thin film as an additive component. Ozone was diluted to 20% with nitrogen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 20 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the molybdenum wire to obtain an 800 ° C. hot wire. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 10 Pa. The film formation time was 15 seconds. A PET bottle coated with a silicon oxide thin film in which molybdenum was incorporated as an additive component was obtained as Example 12. About Example 12, evaluation similar to Example 1 was performed. The film forming conditions and results are shown in Table 1. The silicon oxide thin film in which molybdenum was incorporated as an additive component was colored blue.

(比較例1)
図4に示した成膜装置200を用いて、プラスチック容器11として、丸型500mlのPETボトルの外表面に成膜を行なった。容器壁の肉厚は約0.3mmであった。ワイヤー18としてイリジウムワイヤーを用い、非自然発火性原料としてトリメチルシランを1.5sccmを供給した。オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給した。ワイヤー18とボトルの外側の底面との距離を55mmとした。ワイヤー18とボトルの外側の側面との距離は約55mmとした。イリジウムワイヤーに直流電流を印加し、800℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を20Paとした。成膜時間は15秒とした。得られた酸化ケイ素薄膜を被膜したPETボトルを比較例1とした。成膜条件と結果を表1に示した。ワイヤー18とボトル表面との距離が55mmと長かったため、非自然発火性原料及びオゾンガスは、ホットワイヤーで加熱された後プラスチック容器の外表面に効率的に接触していなかった。そのため、成膜速度及び膜厚が小さく、ガスバリア性が得られなかった。
(Comparative Example 1)
Film formation was performed on the outer surface of a round 500 ml PET bottle as the plastic container 11 using the film formation apparatus 200 shown in FIG. The wall thickness of the container wall was about 0.3 mm. An iridium wire was used as the wire 18 and 1.5 sccm of trimethylsilane was supplied as a non-pyrophoric material. Ozone was diluted to 10% with oxygen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 100 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface outside the bottle was 55 mm. The distance between the wire 18 and the outer side surface of the bottle was about 55 mm. A direct current was applied to the iridium wire to obtain a hot wire at 800 ° C. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 20 Pa. The film formation time was 15 seconds. The obtained PET bottle coated with the silicon oxide thin film was designated as Comparative Example 1. The film forming conditions and results are shown in Table 1. Since the distance between the wire 18 and the bottle surface was as long as 55 mm, the non-pyrophoric raw material and ozone gas were not efficiently in contact with the outer surface of the plastic container after being heated with the hot wire. Therefore, the film forming speed and the film thickness are small, and the gas barrier property cannot be obtained.

(実施例13)
ワイヤー18とボトルの外側の底面との距離を3mmとし、ワイヤー18とボトルの外側の側面との距離は約3mmとした以外は比較例1と同様にして成膜を行ない、実施例13とした。成膜条件と結果を表1に示した。ガスバリア性は得られたが、ワイヤー18とボトル表面との距離が3mmと短かったため、ガス吹き出し孔17xの近傍の成膜が過剰となり、ムラが生じた。
(Example 13)
A film was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the distance between the wire 18 and the outer bottom surface of the bottle was 3 mm, and the distance between the wire 18 and the outer side surface of the bottle was about 3 mm. . The film forming conditions and results are shown in Table 1. Although the gas barrier property was obtained, the distance between the wire 18 and the bottle surface was as short as 3 mm, so that the film formation in the vicinity of the gas blowing hole 17x became excessive and unevenness occurred.

(比較例2)
成膜時の圧力を110Paとした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、比較例2とした。成膜条件と結果を表1に示した。非自然発火性原料としてトリメチルシランを用いた場合において、成膜時の圧力が高すぎたため、非自然発火性原料がプラスチック容器の表面に接触する前に粒子化し、真空チャンバ内で、酸化ケイ素粉末が生成した。その結果、ボトルの表面には成膜ではなく、粒子の堆積が生じた。密着性は「なし」であった。
(Comparative Example 2)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure at the time of film formation was set to 110 Pa. The film forming conditions and results are shown in Table 1. When trimethylsilane was used as the non-pyrophoric raw material, the pressure during film formation was too high, so the non-pyrophoric raw material was granulated before coming into contact with the surface of the plastic container, and the silicon oxide powder in the vacuum chamber Generated. As a result, particle deposition occurred on the bottle surface instead of film formation. The adhesion was “none”.

(実施例14)
成膜時の圧力を8Paとした以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例14とした。成膜条件と結果を表1に示した。非自然発火性原料としてトリメチルシランを用いた場合において成膜時の圧力が低すぎたため、ガスバリア性は得られたものの、成膜速度が低下した。
(Example 14)
Except that the pressure during film formation was set to 8 Pa, film formation was performed in the same manner as in Example 1 to obtain Example 14. The film forming conditions and results are shown in Table 1. When trimethylsilane was used as the non-pyrophoric material, the pressure during film formation was too low, so that the gas barrier property was obtained, but the film formation rate decreased.

(比較例3)
オゾンの代わりに、酸素を100sccm供給した以外は実施例1と同様に成膜を行ない、比較例3とした。成膜条件と結果を表1に示した。酸化ケイ素薄膜が成膜されなかった。
(Comparative Example 3)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that 100 sccm of oxygen was supplied instead of ozone, and Comparative Example 3 was obtained. The film forming conditions and results are shown in Table 1. A silicon oxide thin film was not formed.

(実施例15)
イリジウムワイヤーの代わりにタングステンワイヤーを用いた以外は実施例1と同様に成膜を行ない、実施例15とした。成膜条件と結果を表1に示した。実施例1と同等の酸化ケイ素薄膜が成膜されたが、タングステンワイヤーの劣化が見られた。
(Example 15)
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that a tungsten wire was used instead of the iridium wire, and Example 15 was obtained. The film forming conditions and results are shown in Table 1. A silicon oxide thin film equivalent to that in Example 1 was formed, but deterioration of the tungsten wire was observed.

(実施例16)
図2に示した成膜装置100を用いて、実施例1と同様のPETボトルの内表面に成膜を行なった。ワイヤー18としてタングステンワイヤーを用い、非自然発火性原料をタングステンワイヤーから発生するタングステン蒸気とした。オゾンを酸素で10%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを100sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。タングステンワイヤーに直流電流を印加し、2000℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を5Paとした。成膜時間は30秒とした。得られた酸化タングステン薄膜を被膜したPETボトルを実施例16とした。実施例16について、実施例1と同様の評価を行なった。成膜条件と結果を表1に示した。得られた酸化タングステン薄膜が成膜されたが、タングステンワイヤーの劣化が見られた。
(Example 16)
Using the film forming apparatus 100 shown in FIG. 2, the same film was formed on the inner surface of the PET bottle as in Example 1. A tungsten wire was used as the wire 18, and the non-pyrophoric raw material was tungsten vapor generated from the tungsten wire. Ozone was diluted to 10% with oxygen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 100 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the tungsten wire to obtain a hot wire at 2000 ° C. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 5 Pa. The film formation time was 30 seconds. A PET bottle coated with the obtained tungsten oxide thin film was designated as Example 16. Example 16 was evaluated in the same manner as in Example 1. The film forming conditions and results are shown in Table 1. The obtained tungsten oxide thin film was formed, but deterioration of the tungsten wire was observed.

(実施例17)
図2に示した成膜装置100を用いて、実施例1と同様のPETボトルの内表面に成膜を行なった。非自然発火性原料としてトリメチルシランを1.5sccmを供給した。また、ワイヤー18としてタングステンワイヤーを用い、タングステンワイヤーから発生するタングステン蒸気を添加成分として、酸化ケイ素薄膜中に取り込んだ。オゾンを窒素で20%に希釈して混合ガスとし、この混合ガスを20sccm供給した。ワイヤー18とボトルの内側の底面との距離を30mmとした。ワイヤー18とボトルの内側の側面との距離は約30mmとした。タングステンワイヤーに直流電流を印加し、2000℃のホットワイヤーとした。成膜時の真空チャンバ6内の圧力を10Paとした。成膜時間は15秒とした。このようにして得られた、タングステンが添加成分として取り込まれた酸化ケイ素薄膜を被膜したPETボトルを実施例17とした。実施例17について、実施例1と同様の評価を行なった。成膜条件と結果を表1に示した。タングステンが添加成分として取り込まれた酸化ケイ素薄膜は暗色に呈色していた。
(Example 17)
Using the film forming apparatus 100 shown in FIG. 2, the same film was formed on the inner surface of the PET bottle as in Example 1. As a non-pyrophoric raw material, 1.5 sccm of trimethylsilane was supplied. In addition, a tungsten wire was used as the wire 18, and tungsten vapor generated from the tungsten wire was incorporated into the silicon oxide thin film as an additive component. Ozone was diluted to 20% with nitrogen to obtain a mixed gas, and this mixed gas was supplied at 20 sccm. The distance between the wire 18 and the bottom surface inside the bottle was 30 mm. The distance between the wire 18 and the inner side surface of the bottle was about 30 mm. A direct current was applied to the tungsten wire to obtain a hot wire at 2000 ° C. The pressure in the vacuum chamber 6 during film formation was 10 Pa. The film formation time was 15 seconds. A PET bottle coated with a silicon oxide thin film in which tungsten was incorporated as an additive component was obtained as Example 17. About Example 17, the same evaluation as Example 1 was performed. The film forming conditions and results are shown in Table 1. The silicon oxide thin film in which tungsten was incorporated as an additive component had a dark color.

(比較例4)
未コーティングのPETボトルを比較例4とした。
(Comparative Example 4)
An uncoated PET bottle was designated as Comparative Example 4.

実施例1について、X線光電子分光法(XPS)による深さ方向のケイ素、炭素及び酸素の組成分析を行なった。結果を図12に示す。同様に実施例2について図13に示した。図12では、酸化ケイ素薄膜中に残留炭素が存在しなかった(検出限界以下)が、図13では、酸化ケイ素薄膜中に残留炭素が8atom%残留していた。したがって、オゾンは、酸化ケイ素薄膜中に残留炭素を減らすように寄与していることがわかった。   Example 1 was subjected to composition analysis of silicon, carbon, and oxygen in the depth direction by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results are shown in FIG. Similarly, Example 2 is shown in FIG. In FIG. 12, no residual carbon was present in the silicon oxide thin film (below the detection limit), but in FIG. 13, 8 atom% of residual carbon remained in the silicon oxide thin film. Therefore, it was found that ozone contributes to reduce residual carbon in the silicon oxide thin film.

本発明によって得られたガスバリア性プラスチック容器は、ビール等のアルコール飲料又は清涼飲料などに適した、ガスバリア性を有する飲料用プラスチック容器である。   The gas barrier plastic container obtained by the present invention is a plastic container for beverages having gas barrier properties suitable for alcoholic beverages such as beer or soft drinks.

従来のDLC膜の形成装置の構成図である。It is a block diagram of the conventional DLC film forming apparatus. 第1形態に係る成膜装置の一形態を示す概略図であり、(a)はワイヤーが直線形状の場合、(b)はワイヤーがコイルばね形状の場合、(c)はワイヤーがジグザク線形状の場合、である。It is the schematic which shows one form of the film-forming apparatus which concerns on a 1st form, (a) when a wire is a linear shape, (b) when a wire is a coil spring shape, (c) is a zigzag wire shape. In the case of ワイヤーと原料ガス供給管との位置関係の他形態を示した。The other form of the positional relationship of a wire and a source gas supply pipe was shown. 第2形態に係る成膜装置の一形態を示す概略図であり、(a)はワイヤーが線状の場合、(b)はワイヤーがコイルばね形状の場合、である。It is the schematic which shows one form of the film-forming apparatus which concerns on a 2nd form, (a) is a case where a wire is linear, (b) is a case where a wire is a coil spring shape. A-A’断面図を示した。An A-A 'cross-sectional view is shown. A-A’断面図を示した。An A-A 'cross-sectional view is shown. 複数のプラスチック容器の内表面に同時にガスバリア薄膜を成膜するための装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the apparatus for depositing a gas barrier thin film simultaneously on the inner surfaces of a plurality of plastic containers. 複数のプラスチック容器の外表面に同時にガスバリア薄膜を成膜するための装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the apparatus for forming a gas barrier thin film simultaneously on the outer surface of a plurality of plastic containers. インラインで複数のプラスチック容器の外表面に同時にガスバリア薄膜を成膜するための装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the apparatus for depositing a gas barrier thin film simultaneously on the outer surfaces of a plurality of plastic containers in-line. 容器冷却手段を説明するための概念図であり、(a)はプラスチック容器の内表面に成膜する場合、(b)はプラスチック容器の外表面に成膜する場合、である。It is a conceptual diagram for demonstrating a container cooling means, (a) is a case where it forms into a film on the inner surface of a plastic container, (b) is a case where it forms into a film on the outer surface of a plastic container. 図9の薄膜形成室の他形態を示した。The other form of the thin film formation chamber of FIG. 9 was shown. 実施例1について、X線光電子分光法による深さ方向のケイ素、炭素及び酸素の組成分析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the compositional analysis result of the silicon | silicone in the depth direction by X-ray photoelectron spectroscopy about Example 1, and carbon and oxygen. 実施例2について、X線光電子分光法による深さ方向のケイ素、炭素及び酸素の組成分析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the compositional analysis result of the silicon | silicone in the depth direction by X-ray photoelectron spectroscopy about Example 2, and carbon and oxygen.

符号の説明Explanation of symbols

1,12,反応室
1A,炭素源ガスの導入口
1B,排気口
2,外部電極
3,内部電極
4,高周波電源
5,11,プラスチック容器
6,60,真空チャンバ
8,真空バルブ
13,63,下部チャンバ
14,Oリング
15,65,上部チャンバ
16,66,ガス供給口
17,原料ガス流路
17x,77x,ガス吹き出し孔
18,ワイヤー
19,配線
20,ヒータ電源
21,プラスチック容器の口部
22,排気管
23,73,原料ガス供給管
24a,24b,流量調整器
25a,25b,25c,バルブ
26a,26b,79a,79b,接続部
27,冷却水流路
28,真空チャンバの内面
29,冷却手段
30,透明体からなるチャンバ
31,原料ガス配管
32,ボトル回転機構
33,34,非自然発火性原料及びオゾンガス
35,絶縁セラミックス部材
36,伸縮機構付の絶縁セラミックス製の内管
40,ボトル整列室
41,排気室
42,薄膜形成室
43,大気リーク室
44,取出し室
50,冷却された液体若しくは気体
51,容器冷却手段
100,200,成膜装置
1, 12, reaction chamber 1A, carbon source gas inlet 1B, exhaust port 2, external electrode 3, internal electrode 4, high frequency power source 5, 11, plastic container 6, 60, vacuum chamber 8, vacuum valves 13, 63, Lower chamber 14, O-rings 15 and 65, upper chambers 16 and 66, gas supply port 17, source gas flow channels 17 x and 77 x, gas blowing holes 18, wires 19, wiring 20, heater power supply 21, plastic container mouth 22 , Exhaust pipes 23, 73, raw material gas supply pipes 24a, 24b, flow rate regulators 25a, 25b, 25c, valves 26a, 26b, 79a, 79b, connection part 27, cooling water flow path 28, inner surface 29 of the vacuum chamber, cooling means 30, a chamber 31 made of a transparent body, a raw material gas pipe 32, a bottle rotation mechanism 33, 34, a non-pyrophoric raw material and ozone gas 35, and an insulating ceramic Member 36, inner tube 40 made of insulating ceramics with an expansion / contraction mechanism, bottle alignment chamber 41, exhaust chamber 42, thin film formation chamber 43, atmospheric leak chamber 44, take-out chamber 50, cooled liquid or gas 51, container cooling means 100 , 200, deposition equipment

Claims (15)

プラスチック容器を収容した真空チャンバの内部を大気圧以下の所定圧力とする工程と、
前記真空チャンバの内部に配置されているワイヤーに通電して所定温度以上に発熱させてホットワイヤーとする工程と、
前記真空チャンバの内部に供給された、ケイ素若しくは金属元素を構成元素として含む非自然発火性原料及びオゾンガスを、前記ホットワイヤーで加熱し、その後、前記プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方に接触させて、前記非自然発火性原料由来の酸化物薄膜を形成させる工程と、
を有することを特徴とする酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。
A step of setting the inside of the vacuum chamber containing the plastic container to a predetermined pressure below atmospheric pressure;
A process of energizing a wire disposed inside the vacuum chamber and generating heat above a predetermined temperature to form a hot wire;
The non-pyrophoric raw material containing silicon or a metal element as a constituent element and ozone gas supplied into the vacuum chamber are heated with the hot wire, and then at least one of the inner surface and the outer surface of the plastic container Contacting one side to form an oxide thin film derived from the non-pyrophoric raw material;
A method for producing a plastic container coated with an oxide thin film, characterized by comprising:
前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ内に差圧機構を介して搬入される工程と、
前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ内の搬送経路に設置された前記ワイヤーに対して前記プラスチック容器の表面が所望の距離まで近づくように、前記搬送経路上を搬送される工程と、
前記プラスチック容器が、前記真空チャンバ外へ差圧機構を介して搬出される工程と、をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。
The plastic container is carried into the vacuum chamber via a differential pressure mechanism;
The plastic container is transported on the transport path such that the surface of the plastic container approaches a desired distance with respect to the wire installed in the transport path in the vacuum chamber;
The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 1, further comprising a step of carrying the plastic container out of the vacuum chamber via a differential pressure mechanism.
前記酸化物薄膜を形成させる工程において、前記プラスチック容器に紫外線を照射することを特徴とする請求項1又は2に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 1 or 2, wherein, in the step of forming the oxide thin film, the plastic container is irradiated with ultraviolet rays. 前記非自然発火性原料として非自然発火性のケイ化有機化合物を使用し、前記ホットワイヤーで熱分解反応又は触媒反応によって分解させて、前記酸化物薄膜としてSiO薄膜を形成するか、或いは、前記非自然発火性原料として非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物を使用し、前記ホットワイヤーで熱分解反応又は触媒反応によって分解させて、前記酸化物薄膜としてAlO薄膜を形成することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。 Using a non-pyrophoric silicified organic compound as the non-pyrophoric raw material and decomposing by a thermal decomposition reaction or catalytic reaction with the hot wire to form a SiO x thin film as the oxide thin film, or A non-pyrophoric aluminum-containing organic compound is used as the non-pyrophoric raw material, and is decomposed by a thermal decomposition reaction or catalytic reaction with the hot wire to form an AlO x thin film as the oxide thin film. A method for producing a plastic container coated with the oxide thin film according to claim 1, 2 or 3. 前記オゾンガスの供給量は、前記酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量であることを特徴とする請求項4に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 4, wherein the supply amount of the ozone gas is an amount such that carbon remaining in the oxide thin film becomes substantially zero. 前記オゾンガスの供給量は、前記酸化物薄膜の成膜開始時には前記酸化物薄膜中に炭素が残留する量に設定し、その後供給量を増加させて前記酸化物薄膜中に残留する炭素が実質的にゼロとなる量に設定して、前記酸化物薄膜を、その厚さ方向に炭素含有量が異なる傾斜組成薄膜としたことを特徴とする請求項4に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The supply amount of the ozone gas is set to an amount in which carbon remains in the oxide thin film at the start of film formation of the oxide thin film, and then the supply amount is increased so that the carbon remaining in the oxide thin film is substantially increased. 5. The plastic container coated with the oxide thin film according to claim 4, wherein the oxide thin film is a gradient composition thin film having a carbon content different in the thickness direction. Manufacturing method. 前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに、実質的に揮発しない金属又は炭素を主成分として形成されてなることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The oxidation according to claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6, wherein when the hot wire is formed as a hot wire, the wire is formed mainly of a metal or carbon that does not volatilize substantially. A method for producing a plastic container coated with a thin film. 前記ワイヤーは、金属若しくは導電性金属化合物若しくは炭素を主成分として形成され、かつ、前記ホットワイヤーとしたときに炭素、ケイ素又は金属元素を揮発させ、かつ、前記炭素、ケイ素又は金属元素が前記酸化物薄膜に取り込まれて添加成分となることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The wire is formed of a metal, a conductive metal compound, or carbon as a main component, and volatilizes carbon, silicon, or a metal element when the hot wire is used, and the carbon, silicon, or metal element is oxidized. The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 1, wherein the plastic thin film is taken into a physical thin film and becomes an additive component. 前記添加成分が、カラーセンターとして機能することを特徴とする請求項8に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 8, wherein the additive component functions as a color center. 前記カラーセンターとして機能する前記金属元素が、コバルト、マンガン、銅、鉄、クロム、アンチモン、カドニウム、硫黄、セレン、金、ニッケル、ウラン、バナジウム、銀、モリブデン、錫、タングステン、ビスマス又はエルビウムであることを特徴とする請求項9に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The metal element that functions as the color center is cobalt, manganese, copper, iron, chromium, antimony, cadmium, sulfur, selenium, gold, nickel, uranium, vanadium, silver, molybdenum, tin, tungsten, bismuth, or erbium. A method for producing a plastic container coated with the oxide thin film according to claim 9. 前記添加成分が、前記酸化物薄膜において架橋材として機能することを特徴とする請求項8に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 8, wherein the additive component functions as a cross-linking material in the oxide thin film. 前記架橋材として機能する前記添加成分が、ナトリウム、カリウム、リチウム、鉛、炭素又はチタンであることを特徴とする請求項11に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   12. The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 11, wherein the additive component functioning as the cross-linking material is sodium, potassium, lithium, lead, carbon, or titanium. 前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなり、かつ、前記ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気が、非自然発火性のケイ化有機化合物又は非自然発火性のアルミニウム含有有機化合物などの前記非自然発火性原料とともに、非自然発火性原料となり、前記蒸気が酸化して前記酸化物薄膜の主成分の一つを構成することを特徴とする請求項4に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The wire is formed of a metal, a conductive metal compound, or carbon containing at least one component of carbon, silicon, or metal that volatilizes when the hot wire is used, and the hot wire. Vapor containing at least one component of carbon, silicon or metal volatilized from the non-pyrophoric raw material such as non-pyrophoric silicified organic compound or non-pyrophoric aluminum-containing organic compound, The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 4, wherein the method is a pyrophoric raw material, and the vapor is oxidized to constitute one of the main components of the oxide thin film. 前記ワイヤーは、前記ホットワイヤーとしたときに揮発する炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含有する金属、導電性金属化合物又は炭素を主成分として形成されてなり、かつ、前記非自然発火性原料が、前記ホットワイヤーから揮発した炭素、ケイ素又は金属の少なくともいずれか一種の成分を含む蒸気であり、前記酸化物薄膜は、前記蒸気が酸化した酸化物薄膜であることを特徴とする請求項1、2又は3に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The wire is formed mainly of a metal, a conductive metal compound, or carbon containing at least one component of carbon, silicon, or metal that volatilizes when the hot wire is formed, and the non-natural The ignitable raw material is a vapor containing at least one component of carbon, silicon or metal volatilized from the hot wire, and the oxide thin film is an oxide thin film obtained by oxidizing the vapor. The manufacturing method of the plastic container which coat | covered the oxide thin film of Claim 1, 2, or 3. 前記蒸気が、モリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀、ケイ素、炭素、ナトリウム、カリウム、リチウム、鉛又はチタン或いはこれらを含む化合物であり、かつ、前記酸化物薄膜はモリブデン、銅、アルミニウム、パラジウム、タングステン、銀又はケイ素の酸化物が主成分であることを特徴とする請求項14に記載の酸化物薄膜を被膜したプラスチック容器の製造方法。   The vapor is molybdenum, copper, aluminum, palladium, tungsten, silver, silicon, carbon, sodium, potassium, lithium, lead or titanium or a compound containing these, and the oxide thin film is molybdenum, copper, aluminum, 15. The method for producing a plastic container coated with an oxide thin film according to claim 14, wherein an oxide of palladium, tungsten, silver or silicon is a main component.
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