JP2008122684A - Plasma display device and driving method of display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、映像信号の各フィールドを複数のサブフィールドに分解し、サブフィールドの組み合わせで多階調の画像表示を行うプラズマディスプレイ装置およびその駆動技術に関する。 The present invention relates to a plasma display device that decomposes each field of a video signal into a plurality of subfields and displays a multi-gradation image by a combination of subfields, and a driving technique thereof.
プラズマディスプレイは、各々の内部に蛍光体層が塗布されマトリクス状に配列された複数個の放電セルからなる表示パネルを有している。プラズマディスプレイは、画像を表示するとき、放電セルのうち選択した放電セルにガス放電を起こして紫外線を発生させる。この紫外線は、放電セル内の蛍光体層を励起して当該蛍光体層に光を放出させる。単位時間当たりに放電セルで発生するガス放電の回数を制御することで多階調画像の表示が可能となる。 The plasma display has a display panel composed of a plurality of discharge cells each having a phosphor layer applied and arranged in a matrix. When displaying an image, the plasma display causes a gas discharge in a selected discharge cell among the discharge cells to generate ultraviolet rays. This ultraviolet light excites the phosphor layer in the discharge cell and causes the phosphor layer to emit light. A multi-tone image can be displayed by controlling the number of gas discharges generated in the discharge cells per unit time.
一般に、プラズマディスプレイの階調制御方式としては、1枚の画像に相当する各フィールドを複数のサブフィールドに分解し、各サブフィールドに対して発光期間に比例する輝度の重みを割り当て、これらサブフィールドの組み合わせで多階調の画像表示を行うというサブフィールド法が採用されている。複数のサブフィールドは時間軸に沿って順次表示されるので、人間の眼は、これら複数のサブフィールドの発光パターンを積分して1枚の画像として視覚することとなる。たとえば、1フィールドを構成する8枚のサブフィールドに割り当てるべき輝度の重みを、それぞれ、20:21:22:23:24:25:26:27(=1:2:4:8:16:32:64:128)の比率に設定すれば、サブフィールドの組み合わせで256階調の画像表示が可能である。この種のサブフィールド法による階調制御技術は、たとえば、特許文献1(特開2003−29698号公報)および特許文献2(米国特許出願公開第2003/011543号公報)に開示されている。 Generally, as a gradation control method of a plasma display, each field corresponding to one image is decomposed into a plurality of subfields, and a luminance weight proportional to the light emission period is assigned to each subfield. A subfield method is employed in which multi-gradation image display is performed by a combination of the above. Since the plurality of subfields are sequentially displayed along the time axis, the human eye integrates the light emission patterns of the plurality of subfields and visually perceives them as one image. For example, the luminance weights to be assigned to the eight subfields constituting one field are 2 0 : 2 1 : 2 2 : 2 3 : 2 4 : 2 5 : 2 6 : 2 7 (= 1: 2), respectively. : 4: 8: 16: 32: 64: 128), it is possible to display 256 gradation images by combining subfields. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-29698) and Patent Document 2 (US Patent Application Publication No. 2003/011543) disclose this type of gradation control technique based on the subfield method.
しかしながら、特許文献1に開示される階調制御技術を使用するプラズマディスプレイでは、観測者は、動画像疑似輪郭(dynamic pseudo contour)と称するノイズを表示画像において視覚することが知られている。この種の動画像疑似輪郭の発生を防止する階調制御技術は、たとえば、特許文献3(特開2000−231362号公報)および特許文献4(米国特許出願公開第2002−054000号公報)に開示されている。この階調制御技術はサブフィールド法に基づくものではあるが、動画像疑似輪郭を原理上発生させないものである。
However, in the plasma display using the gradation control technique disclosed in
図1は、特許文献3に開示されている階調制御技術による各放電セルの発光パターンの一例を示すものである。図1には、1フィールドを15個のサブフィールドSF1〜SF15で構成した場合の、映像信号の階調レベル「0」〜「15」と当該階調レベルにそれぞれ対応する発光パターンとが示されている。図中、記号「○」は、階調表示のためのガス放電(維持放電)が放電セルで起きることを意味し、記号「●」は、放電セル内の壁電荷を選択的に消去するためのガス放電(選択消去放電)が起きることを意味する。図1に明示されていないが、先頭サブフィールドSF1の表示期間では、最初に全ての放電セルを発光可能状態(emissive state)に設定するリセット放電が起こり、全ての放電セルに壁電荷を蓄積させる。図1に示されているように、黒レベルを示す階調レベル「0」の発光パターンを除き、サブフィールドSF2〜SF15の表示期間のうちのいずれかで放電セルを発光可能状態から非発光状態(non-emissive state)に設定する選択消去放電が発生するまで、時間的に連続するサブフィールドの表示期間各々で発光維持放電が発生して放電セルに可視光を放出させる。階調レベル「0」を表示する放電セルは、先頭サブフィールドSF1の表示期間で発光可能状態から非発光状態に設定されるので、全てのサブフィールドSF1〜SF15の表示期間において当該放電セルで発光維持放電が発生しないこととなる。
FIG. 1 shows an example of the light emission pattern of each discharge cell by the gradation control technique disclosed in
図1の階調制御技術の場合、前述の如く、先頭サブフィールドSF1の表示期間で全ての放電セルにリセット放電を起こす必要があるが、このリセット放電により生じた光(背景発光)が表示画像のコントラスト、特に暗室コントラストを低下させ、これにより画質が劣化するという問題がある。ここで、一般に「暗所コントラスト」とは、白レベルの画像表示時における発光輝度(=Lg)と、黒レベルの画像表示時における背景発光輝度(=Lb)との比率(=Lg/Lb)として定義されている。暗所コントラストは、特に低輝度画像表示時における画質の優劣を決めるパラメータの1つである。特許文献5(特開2001−312244号公報)および特許文献6(米国特許出願公開第2002/018030号公報)は、暗所コントラストを向上させ得る階調制御技術を開示している。この階調制御技術は、暗室コントラストの改善のために、先頭サブフィールドSF1において、黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルにはリセット放電を生起させず、その他の放電セルにのみ選択的にリセット放電を生起させるものである。
上述の通り、特許文献3に開示される階調制御技術は、先頭サブフィールドSF1の表示期間にプラズマディスプレイパネルの全ての放電セルにリセット放電を起こして全ての放電セルを発光可能状態に設定する。このため、先頭サブフィールドSF1に続く後続サブフィールドSF2〜SF15の表示期間において、放電セル内の壁電荷量の分布を比較的容易に制御できるという利点がある。一方、特許文献5に開示される階調制御技術は、先頭サブフィールドSF1の表示期間には放電セルに選択的にリセット放電を起こして特定の放電セルのみを発光可能状態に設定し、その他の放電セルを非発光状態に維持する。このため、後続サブフィールドSF2〜SF15の表示期間においては、放電セル内の壁電荷分布を制御することが比較的難しく、たとえば、放電セルにおいて予期せぬ誤放電が発生したり、壁電荷の消去に失敗したりして画質を低下させるという問題がある。
As described above, the gradation control technique disclosed in
上記に鑑みて本発明の主な目的は、先頭サブフィールドの表示期間に放電セルを選択的に発光可能状態に設定して暗所コントラストを向上させつつ、後続サブフィールドの表示期間において放電セル内の壁電荷分布を最適に制御し得、これにより画質を向上させ得るプラズマディスプレイ装置およびその表示パネルの制御方法を提供することである。 In view of the above, the main object of the present invention is to improve the dark place contrast by selectively setting the discharge cells to the light-emissionable state during the display period of the first subfield, while increasing the contrast in the discharge cells during the display period of the subsequent subfield. It is intended to provide a plasma display apparatus and a display panel control method capable of optimally controlling the wall charge distribution of the display and thereby improving the image quality.
上記目的を達成すべく、請求項1記載の発明は、前面基板と、前記前面基板の一方の面と離間する対向面を持つ背面基板と、前記前面基板の一方の面に形成された複数の行電極対と、前記背面基板の対向面に形成された複数の列電極と、前記前面基板と前記背面基板間における前記複数の行電極対と前記複数の列電極との交差領域にそれぞれ形成された複数の放電セルとを有し、前記各放電セル内に放電ガスが封入され且つ蛍光体層が設けられている表示パネルの駆動方法であって、(a) 入力映像信号の各フィールドを複数のサブフィールドに分解するステップと、(b) 前記サブフィールドにそれぞれ輝度の重みを割り当てるステップと、(c) 前記各サブフィールドの表示期間を少なくともアドレス期間および発光期間を含む複数期間に分割し、前記複数期間の各々で前記表示パネルに前記複数のサブフィールドを順次表示させるステップと、を有し、前記ステップ(c)は、(c−1) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドのアドレス期間には、前記複数の行電極対の走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した書込パルスを前記列電極に印加して前記放電セルに選択的に書込放電を起こすことにより、前記放電セルのうち黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルを除く初期選択セルでのみ前記走査電極と前記列電極間に前記書込放電を起こして前記初期選択セルを発光可能状態に設定するステップと、(c−2) 前記先頭サブフィールドのアドレス期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に放電維持パルスを前記先頭サブフィールドに割り当てられた奇数回だけ印加することにより、前記初期選択セルでのみ前記行電極対の走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させるステップと、(c−3) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドを除く各後続サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した選択消去パルスを前記列電極に選択的に印加して前記初期選択セルに選択的に消去放電を起こすことにより、前記初期選択セルを選択的に非発光状態に設定するステップと、(c−4) 前記各後続サブフィールドのアドレス期間の直後に設定された電荷調整期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極にそれぞれ調整パルスを同時に印加するステップと、(c−5) 前記各後続サブフィールドの電荷調整期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に交互に放電維持パルスを前記各後続サブフィールドに割り当てられた回数だけ印加することにより、前記発光可能状態の放電セルでのみ前記走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させるステップと、を含むことを特徴としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to
請求項23記載の発明は、前面基板と、前記前面基板の一方の面と離間する対向面を持つ背面基板と、前記前面基板の一方の面に形成された複数の行電極対と、前記背面基板の対向面に形成された複数の列電極と、前記前面基板と前記背面基板間における前記複数の行電極対と前記複数の列電極との交差領域にそれぞれ形成された複数の放電セルとを有し、前記各放電セル内に放電ガスが封入され且つ蛍光体層が設けられている表示パネルを含むプラズマディスプレイ装置であって、入力映像信号の各フィールドを複数のサブフィールドに分解する信号処理部と、前記サブフィールドにそれぞれ輝度の重みを割り当てる重み割り当て部と、前記表示パネルを駆動するパネル駆動部と、前記各サブフィールドの表示期間を少なくともアドレス期間および発光期間を含む複数期間に分割し、前記複数期間の各々で前記パネル駆動部を制御して前記表示パネルに前記複数のサブフィールドを順次表示させる駆動制御部と、を備え、前記パネル駆動部は、(a) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドのアドレス期間には、前記行電極対の走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した書込パルスを前記列電極に印加して前記放電セルに選択的に書込放電を起こすことにより、前記放電セルのうち黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルを除く初期選択セルでのみ前記走査電極と前記列電極間に前記書込放電を起こして前記初期選択セルを発光可能状態に設定する書込動作と、(b) 前記先頭サブフィールドのアドレス期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に放電維持パルスを前記先頭サブフィールドに割り当てられた奇数回だけ印加することにより、前記初期選択セルでのみ前記行電極対の走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させる発光動作と、(c) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドを除く各後続サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した選択消去パルスを前記列電極に選択的に印加して前記初期選択セルに選択的に消去放電を起こすことにより、前記初期選択セルを選択的に非発光状態に設定する消去動作と、(d) 前記各後続サブフィールドのアドレス期間の直後に設定された電荷調整期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極にそれぞれ調整パルスを同時に印加する電荷調整動作と、(e) 前記各後続サブフィールドの電荷調整期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に交互に放電維持パルスを前記各後続サブフィールドに割り当てられた回数だけ印加することにより、前記発光可能状態の放電セルでのみ前記走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させる発光動作と、を実行することを特徴としている。 According to a twenty-third aspect of the present invention, there is provided a front substrate, a rear substrate having a facing surface separated from one surface of the front substrate, a plurality of row electrode pairs formed on one surface of the front substrate, and the rear surface. A plurality of column electrodes formed on opposing surfaces of the substrate, and a plurality of discharge cells respectively formed in intersection regions of the plurality of row electrode pairs and the plurality of column electrodes between the front substrate and the back substrate. A display panel including a display panel in which a discharge gas is sealed in each discharge cell and a phosphor layer is provided, wherein each field of an input video signal is decomposed into a plurality of subfields A weight assignment unit for assigning luminance weights to the subfields, a panel drive unit for driving the display panel, and a display period of each subfield at least in an address period And a drive control unit that divides the display unit into a plurality of periods including a light emission period and controls the panel driving unit in each of the plurality of periods to sequentially display the plurality of subfields on the display panel. (A) In the address period of the first subfield of the subfields, a scan pulse is sequentially applied to the scan electrodes of the row electrode pair, and a write pulse synchronized with each scan pulse is applied to the column electrodes. By applying a write discharge selectively to the discharge cells by applying, only the initial selected cells except for the discharge cells that should display the black level of luminance among the discharge cells are arranged between the scan electrodes and the column electrodes. A write operation for causing the write discharge to set the initially selected cell in a light-emission enabled state; and (b) in a light emission period after an address period of the first subfield, A sustain discharge is applied between the scan electrode and the common electrode of the row electrode pair only in the initial selected cell by applying a discharge sustain pulse to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair only an odd number of times assigned to the first subfield. A light emitting operation for causing the phosphor layer to emit light, and (c) sequentially applying scan pulses to the scan electrodes in the address period of each subsequent subfield excluding the first subfield of the subfields, and An erasure that selectively sets the initial selected cell to a non-light-emitting state by selectively applying a selective erasing pulse synchronized with each scanning pulse to the column electrode to selectively cause an erasing discharge in the initial selected cell. (D) In the charge adjustment period set immediately after the address period of each subsequent subfield, the scan electrode of each row electrode pair And (e) in the light emission period after the charge adjustment period of each subsequent subfield, the discharge is alternately maintained on the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair. A light emission operation for causing the phosphor layer to emit light by causing a sustain discharge between the scan electrode and the common electrode only in the discharge cells in the light emission enabled state by applying a pulse for the number of times assigned to each subsequent subfield. It is characterized by executing.
以下、本発明に係る種々の実施例について説明する。 Hereinafter, various embodiments according to the present invention will be described.
図2は、本発明の実施例に係るプラズマディスプレイ装置1の概略構成を示す図である。プラズマディスプレイ装置1は、PDP(プラズマディスプレイパネル)である表示パネル2を有し、さらに、この表示パネル2内の放電セルCL,…,CLを駆動する列電極駆動部15、第1行電極駆動部16Aおよび第2行電極駆動部16Bを有している。これら列電極駆動部15、第1行電極駆動部16Aおよび第2行電極駆動部16Bによって本発明に係る「パネル駆動部」が構成され得る。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of the
また、プラズマディスプレイ装置1は、表示パネル2に表示すべき映像信号を処理する信号処理部として、コントローラ10、階調調整部12、駆動データ生成部13およびメモリ回路14を有している。コントローラ10は、デジタル信号である入力映像信号VSiに信号処理を施して映像信号VSaを生成し、この映像信号VSaを階調調整部12に転送する。また、コントローラ10は、重み割り当て部10Aおよびセル検出部10Bを処理ブロックとして含む。重み割り当て部10Aは、入力映像信号VSiの平均輝度レベルを算出し、当該平均輝度レベルに応じた輝度の重みを、入力映像信号VSiの各フィールドを構成するサブフィールドにそれぞれ割り当てる機能を有する。セル検出部10Bは、入力映像信号VSiに基づいて、放電セルCL,…,CLの中から所定条件に合致する発光パターンを示す放電セルを検出する機能を有する。このセル検出部10Bの機能の詳細については後述する。なお、コントローラ10は、外部信号源(図示せず)から供給される同期信号(水平同期信号と垂直同期信号含む。)およびクロック信号を用いて、駆動制御部11の動作を制御する機能をも有する。
In addition, the
上記処理ブロック10〜13の全部または一部は、ハードウェアの回路構成で実現されてもよいし、あるいは、不揮発性メモリや光ディスクなどの記録媒体に記録されたプログラムまたはプログラムコードで実現されてもよい。そのようなプログラムまたはプログラムコードは、CPUなどのプロセッサに上記処理ブロック10〜13の全部または一部の処理を実行させるものである。 All or part of the processing blocks 10 to 13 may be realized by a hardware circuit configuration, or may be realized by a program or program code recorded on a recording medium such as a nonvolatile memory or an optical disk. Good. Such a program or program code causes a processor such as a CPU to execute all or part of the processing of the processing blocks 10 to 13.
階調調整部12は、コントローラ10から入力された映像信号VSaに誤差拡散処理およびディザ処理を施して階調調整信号VSbを生成する。階調調整部12は、たとえば、8ビットの映像信号VSaの画素データの下位2ビットを周辺画素データの上位6ビットに拡散する誤差拡散を実行して6ビット信号を得ることができる。また階調調整部12は、たとえば、誤差拡散により得られた6ビット信号にディザマトリクスの要素を加算した後にビットシフトを施すことで上位4ビットの階調調整信号VSbを得ることが可能である。
The
駆動データ生成部13は、サブフィールド法の駆動シーケンスに対応する変換テーブルに従って、階調調整信号VSbを駆動データ信号DDに変換する機能を有する。メモリ回路14は、駆動データ生成部13の出力である駆動データ信号DDを一時的に記憶する。同時にメモリ回路14は、駆動制御部11による制御に従って、記憶データをサブフィールド単位で読み出し、当該読み出されたデータ信号DDaを列電極駆動部15に転送する。このように駆動データ生成部13とメモリ回路14は協働して、階調調整信号VSbの各フィールドを複数のサブフィールドに分解し、これらサブフィールドを表すデータ信号DDaを生成する機能を発揮する。
The drive
列電極駆動部15は、メモリ回路14から転送されたデータ信号DDaに基づいてアドレスパルスを発生し、これらアドレスパルスを所定のタイミングで表示パネル2の列電極D1,…,Dm(mは2以上の整数)に印加することとなる。
The
表示パネル2は、面状に且つマトリクス状に配列されている複数の放電セルCL,…,CLと、列電極駆動部15から列方向に伸長するm本の列電極(すなわち、アドレス電極)D1,…,Dmと、第1行電極駆動部16Aから行方向に伸長するn本(nは2以上の整数)の共通電極X1,…,Xnと、第2行電極駆動部16Bから行方向に伸長するn本の走査電極Y1,…,Ynと、を有する。共通電極Xj(jは正整数)とこれに対応する走査電極Yjとで1つの行電極対が構成される。行電極対Xj,Yjと列電極Dk(kは正整数)との交差領域、言い換えれば、行電極対Xj,Yjと列電極Dkとの交差点に対応する領域に放電セルCLが形成されている。電極対Xj,Yjと列電極Dkとは、表示パネル2の基板の厚み方向に離間しており、各放電セルCL内の放電空間は、これら電極対Xj,Yjと列電極Dkとの間に形成されている。
The
図3は、表示パネル2の構成の一例を示す平面図である。図4は、図3に示される表示パネル2のV3−V3切断線での断面図であり、図5は、図3に示される表示パネル2のW2−W2切断線での断面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of the configuration of the
図4および図5に示されるように、表示パネル2は、透明基板(前面基板)22と背面基板24とを有する。透明基板22の内面には、行電極対Xj,YjおよびXj+1,Yj+1が形成されている。各共通電極Xjは、第1透明電極Xaと当該第1透明電極Xaに接続する第1バス電極Xbとからなり、各走査電極Yjは、第2透明電極Yaと当該第2透明電極Yaに接続する第2バス電極Ybとからなる。第1および第2透明電極Xa,Yaは、ITO(インジウム錫酸化物)やSnO2などの透明電極材料からなり、第1および第2バス電極Xb,Ybは、行電極対Xj,YjおよびXj+1,Yj+1のインピーダンス低減のため、Cr(クロム)やCu(銅)などの比較的低い電気抵抗を持つ導電材料からなる。また、行電極対Xj,Yjと行電極対Xj+1,Yj+1との間には、透明基板22の内面に黒色または暗色の光吸収層(ブラックストライプ)21が形成されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
共通電極Xj,Xj+1と走査電極Yj,Yj+1と光吸収層21とを被覆する保護層として誘電体層23が形成されている。誘電体層23は、たとえばガラス材料からなる単層または複数層の誘電体膜と、この誘電体膜を被覆する保護膜とで構成されればよい。保護膜としては、たとえばアルカリ土類金属の酸化物膜(たとえば、MgO膜)が挙げられる。図3に示されるように、共通電極Xj,Xj+1の第1バス電極Xbは行方向に伸長し、第1透明電極Xaは、第1バス電極Xbから列方向に突出し且つT字状の先端部を有する。同様に、走査電極Yj,Yj+1の第2バス電極Ybは行方向に伸長し、第2透明電極Yaは、第2バス電極Ybから列方向に突出し、且つ第1透明電極XaのT字状先端部に対向するT字状の先端部を有している。そして、行電極対Xj,Yjと行電極対Xj+1,Yj+1との間に介在する光吸収層21は、行方向に伸長しており、外光反射率を低下させてコントラストを改善する機能を発揮する。
A
一方、図3〜図5に示されるように、背面基板24の対向面には、列方向に伸長する列電極Dk,Dk+1,Dk+2が形成されている。これら列電極Dk,Dk+1,Dk+2を被覆する白色誘電体からなる保護層25が成膜されている。保護層25の上には、各放電セルCLが有する放電空間DSを形成する隔壁20が設けられている。各隔壁20は、図3に示されるように、行方向に伸長する一対の隔壁20A,20Aと、前記一対の隔壁20A,20Aを接続するように列方向に伸長する複数の隔壁20B,20B,…とで構成されている。図4および図5に示されるように、電極対Xj,YjおよびXj+1,Yj+1の下方において隔壁20の側壁と保護層25の上面とに蛍光体層26が塗布されている。これら隔壁20と蛍光体層26と誘電体層23とで囲まれる領域各々が各放電空間DSを形成することとなる。放電空間DSには、キセノンなどの放電ガスが封入されており、この放電ガスは、共通電極Xjと走査電極Yjとの間の電位差、あるいは共通電極Xjおよび走査電極Yjのいずれか一方と列電極Dk+1との間の電位差が放電空間DS内に形成する電界によりガス放電を起こし、紫外線を発生させる。この紫外線は、蛍光体層26の励起子(たとえば、電子やホール)を励起させ、蛍光体層26に当該蛍光体層26の発光色(赤色、緑色または青色)の可視光を放出させる。
On the other hand, as shown in FIGS. 3 to 5, column electrodes D k , D k + 1 and D k + 2 extending in the column direction are formed on the opposing surface of the
なお、1個の画素セルは複数個の表示セルCL,…,CLで構成される。たとえば、赤色発光の表示セルCL,緑色発光の表示セルCLおよび青色発光の表示セルCLで1個の画素セルを構成すればよい。 One pixel cell includes a plurality of display cells CL,. For example, one pixel cell may be constituted by the red light emitting display cell CL, the green light emitting display cell CL, and the blue light emitting display cell CL.
図6および図7は、表示パネル2の構成の他の例を示す断面図である。図6は、図3に示される表示パネル2のV3−V3切断線での断面図であり、図7は、図3に示される表示パネル2のW2−W2切断線での断面図である。図6および図7の表示パネル2では、誘電体層23を被覆するように電子放出層30が形成されている。電子放出層30を除く構成は、図4および図5の構成と略同じである。電子放出層30は、電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法により成膜することができる。
6 and 7 are cross-sectional views showing other examples of the configuration of the
電子放出層30は、イオン照射を受けて二次電子(Ion-Induced Secondary Electron)を高い二次電子放出率(γ値)をもって放出し、且つ電界を受けて電子(以下、「初期電子」という。)を放出する電子放出材料を含むものである。プラズマディスプレイ装置1の高精細化を実現するために放電セルCLが微細化されると、発光効率の低下とともに放電遅れの増大が問題となる。二次電子や初期電子は、放電開始電圧を低下させるプライミング効果を起こして放電遅れを改善させるものである。特に電子放出材料として酸化マグネシウムの結晶体を使用すると、放電遅れを改善することができる。この酸化マグネシウムの結晶体は、酸化マグネシウム蒸気と酸素とを気相酸化反応させて結晶核を生成し、当該生成された結晶核を成長させるプロセスにより得ることが可能である。
The
放電遅れを大幅に改善する観点からは、酸化マグネシウムの結晶体として、200〜300ナノメートルの波長域内で発光ピークを持つカソード・ルミネッセンス材料を含む材料を使用することが好ましく、特に230〜250ナノメートルの波長域内に発光ピークを持つカソード・ルミネッセンス材料を含む材料を使用することが好ましい。このような酸化マグネシウムの結晶体は、高い二次電子放出率(γ値)だけでなく高い初期電子放出率を有するので、プライミング効果を増大させる効果を奏する。 From the viewpoint of greatly improving the discharge delay, it is preferable to use a material containing a cathode luminescence material having an emission peak in the wavelength range of 200 to 300 nanometers as the magnesium oxide crystal, particularly 230 to 250 nanometers. It is preferred to use a material comprising a cathodoluminescent material having an emission peak in the meter wavelength range. Such a magnesium oxide crystal has not only a high secondary electron emission rate (γ value) but also a high initial electron emission rate, and thus has an effect of increasing the priming effect.
また、放電遅れの改善のために、上記電子放出材料からなる薄膜を蛍光体層26上に成膜してもよいし、あるいは、上記電子放出材料からなる結晶体粒子を放電空間DSに露出する状態で蛍光体層26に混在させてもよい。図8は、蛍光体層26上に成膜された電子放出膜26aを概略的に示す図であり、図9は、蛍光体層26内に散在する電子放出材料の結晶体粒子26e,26e,…を概略的に示す図である。図9に示されるように、結晶体粒子26e,…は、放電空間DSに露出した状態で蛍光体粒子26p,26p,…とともに蛍光体層26を構成している。図8の電子放出膜26aと図9の電子放出材料の結晶体粒子26eとを使用すると、列電極Dkに負の電圧極性のパルスを印加し共通電極Xjまたは走査電極Yjに正の電圧極性のパルスを印加することにより放電空間DSに対向放電を起こす場合に、電子放出膜26aと結晶体粒子26eとから二次電子および初期電子(プライミング粒子)が放出され、プライミング効果を起こして放電遅れを改善させる。このプライミング効果については後述する。
In order to improve the discharge delay, a thin film made of the electron emission material may be formed on the
以上の構成を有するプラズマディスプレイ装置1の種々の動作を以下に説明する。
Various operations of the
<第1実施例>
図10は、本発明の第1実施例に係る駆動シーケンスの例を概略的に示す図である。図10の駆動シーケンスでは、映像信号の1フィールドは、表示順に連続的に配列されたN個(Nは2以上の整数)のサブフィールドSF1,…,SFNに分解されている。プラズマディスプレイ装置1は、これらサブフィールドSF1,…,SFNを表示パネル2に順次表示することにより人間の眼に1枚の多階調画像を視覚させる。
<First embodiment>
FIG. 10 is a diagram schematically showing an example of a drive sequence according to the first embodiment of the present invention. In the drive sequence shown in FIG. 10, one field of the video signal is divided into N subfields SF 1 ,..., SF N that are successively arranged in the display order (N is an integer of 2 or more). The
図10を参照すると、先頭サブフィールドSF1の表示期間は、初期調整期間Tr、選択書込期間(アドレス期間)Twおよび発光期間T1に分割されている。また、先頭サブフィールドSF1に続く後続サブフィールドSFq(qは2〜N−1の整数)の表示期間は、選択消去期間(アドレス期間)Te、電荷調整期間Taおよび発光期間Tqに分割されている。そして、最後の後続サブフィールドである最終サブフィールドSFNの表示期間は、選択消去期間(アドレス期間)Te、電荷調整期間Ta、発光期間TNおよび消去期間Tbに分割されている。図2の重み割り当て部10Aは、先頭サブフィールドSF1に正整数の輝度の重みW(1)を割り当て、後続サブフィールドSF2,…,SFNにはそれぞれ正整数の輝度の重みW(2),…,W(N)を割り当てる。サブフィールドSF1,…,SFNの発光期間T1,…,TNの長さは、それぞれ、輝度の重みW(1),…,W(N)に比例する時間長を有するように制御される。本実施例では、輝度の重みW(1),…,W(N)は、それぞれ、サブフィールドSF1,…,SFNの発光期間T1,…,TNに印加されるべき放電維持パルスの個数あるいはこれに略比例する値を有する。 Referring to FIG. 10, the display period of the first subfield SF 1 is divided into an initial adjustment period Tr, a selective writing period (address period) Tw, and a light emission period T 1 . Further, the display period of the subsequent subfield SF q (q is an integer of 2 to N−1) subsequent to the first subfield SF 1 is divided into a selective erasing period (address period) Te, a charge adjustment period Ta, and a light emission period T q . Has been. The display period of the last subfield SF N which is the last subsequent subfield is divided into a selective erasure period (address period) Te, a charge adjustment period Ta, a light emission period TN, and an erasure period Tb. 2 assigns a positive integer luminance weight W (1) to the first subfield SF 1 , and each of the subsequent subfields SF 2 ,..., SF N has a positive integer luminance weight W (2 ),..., W (N) is assigned. The lengths of the light emission periods T 1 ,..., T N of the subfields SF 1 ,..., SF N are controlled to have time lengths proportional to the luminance weights W (1),. Is done. In this embodiment, the luminance of the weight W (1), ..., W (N) , respectively, the sub-fields SF 1, ..., the light-emitting period T 1 of the SF N, ..., the sustaining pulses to be applied to T N Or a value substantially proportional to this number.
図11は、図10の駆動シーケンスによる駆動信号の波形を概略的に例示するタイミングチャートである。図11には、列電極D1〜Dnに印加される信号波形、共通電極X1〜Xnに印加される信号波形、並びに、走査電極Y1,…,Ynにそれぞれ印加される信号波形が示されている。 FIG. 11 is a timing chart schematically illustrating a waveform of a drive signal according to the drive sequence of FIG. 11 is a signal waveform applied to column electrodes D 1 to D n, the signal waveform applied to the common electrode X 1 to X n, and the scanning electrodes Y 1, ..., signals to be respectively applied to Y n The waveform is shown.
以下、図11の信号波形を参照しつつ図10の駆動シーケンスを説明する。 Hereinafter, the drive sequence of FIG. 10 will be described with reference to the signal waveforms of FIG.
先頭サブフィールドSF1の表示期間における初期調整期間Trでは、図2の列電極駆動部15は、図11に示されるように、列電極D1〜DmにはGNDレベル(接地レベル)の電圧が印加される。このとき、図2の第1行電極駆動部16Aは、電圧レベルがGNDレベルから漸次増大する緩やかな電圧勾配を持つ正極性の初期調整パルスPxrを共通電極X1〜Xnに印加する。同時に、図2の第2行電極駆動部16Bは、電圧レベルがGNDレベルから漸次増大する緩やかな電圧勾配を持つ正極性の初期調整パルスPyr,…,Pyrを、それぞれ、走査電極Y1,…,Ynに印加する。これにより、共通電極X1〜Xnに近い誘電体層23(図4)の壁面には正イオン粒子が蓄積され、走査電極Y1〜Ynに近い誘電体層23の壁面には正イオン粒子が蓄積され、列電極D1〜Dmに近い蛍光体層26(図4)の壁面には負イオン粒子が蓄積される。
In the initial adjustment period Tr in the display period of the first subfield SF 1, the
なお、本明細書では、「正極性」のパルスとは、所定の基準レベル(たとえば、GNDレベル)よりも大きい電圧レベルを持つパルスを意味する。また「負極性」のパルスとは、前記基準レベル未満の電圧レベルを持つパルスを意味することとする。 In the present specification, the “positive polarity” pulse means a pulse having a voltage level higher than a predetermined reference level (eg, GND level). The “negative polarity” pulse means a pulse having a voltage level lower than the reference level.
次に、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twでは、最初に、第1行電極駆動部16Aは、図11に示されるように電圧レベルがGNDレベルから漸次低下する負の電圧勾配を持つくさび状の調整パルスPxcを共通電極X1〜Xnに印加する。同時に、第2行電極駆動部16Bは、電圧レベルがGNDレベルから漸次低下する負の電圧勾配を持つくさび状の調整パルスPyc,…,Pycをそれぞれ走査電極Y1,…,Ynに印加する。このとき、列電極駆動部15は、列電極D1〜DmにGNDレベルの電圧を印加している。
Next, the first subfield SF 1 selective write period Tw, initially, the first
続いて、第2行電極駆動部16Bは、走査電極Y1,…,Ynに負極性の走査パルスPsを順次印加する。同時に、列電極駆動部15は、正極性の書込パルス群Dw1,…,Dwnの各々を各走査パルスPsに同期させて列電極D1,…,Dmに印加する。たとえば、1番目の走査電極Y1に走査パルスPsが印加されている間に、この走査パルスPsに同期した書込パルス群Dw1が列電極D1,…,Dmに印加される。続いて2番目の走査電極Y2に走査パルスPsが印加されている間に、この走査パルスPsに同期した書込パルス群Dw2が列電極D1,…,Dmに印加される。一般に、j番目の走査電極Yjに走査パルスPsが印加されている間に、この走査パルスPsに同期した書込パルス群Dwjが列電極D1,…,Dmに印加される。これにより、表示パネル2の放電セルCL,…,CLに選択的に書込放電が生起されて、黒レベルの輝度表示がなされるべき特定の放電セルを除く初期選択セルCLのみが発光可能状態に設定される。
Subsequently, the second
より具体的には、図4を参照すると、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加されている間に当該走査パルスPsに同期した書込パルス群Dwjの正極性パルスが選択的に列電極Dk+1に印加されたとき、陰極である走査電極Yjと陽極である列電極Dk+1間の電位差に起因して放電空間DSにガス放電(すなわち書込放電)が発生し、これによりイオン粒子が生成される。当該生成されたイオン粒子のうち、正イオン粒子は陰極Yjに近い誘電体層23の壁面に誘引され、負イオン粒子は陽極Dk+1に近い蛍光体層26の壁面に誘引されるので、放電電圧が低下して書込放電は停止する。書込放電の発生時、全共通電極X1〜Xnには、走査電極Yjの電圧極性(すなわち負極性)とは逆極性(すなわち正極性)のオフセットパルスPopが印加されているので、共通電極Xjに近い誘電体層23の壁面には負イオン粒子が蓄積される。この結果、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに、互いに電荷極性の異なるイオン粒子すなわち壁電荷が蓄積される。このような壁電荷分布を有する放電セルCLは発光可能状態に設定されている。
More specifically, referring to FIG. 4, while the negative scan pulse Ps is applied to the scan electrode Y j , the positive pulse of the write pulse group Dw j synchronized with the scan pulse Ps is selectively used. when applied to the column electrode D k + 1, the gas discharge due to the potential difference between the column electrode D k + 1 is a scanning electrode Y j and the anode is a cathode in the discharge space DS (i.e. write discharge) is Is generated, thereby generating ionic particles. Among the generated ion particles, positive ion particles are attracted to the wall surface of the
一方、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加されている間に当該走査パルスPsに同期した書込パルスが列電極Dk+1に印加されないときは、放電空間DSにはガス放電は発生しない。よって、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに同一電荷極性のイオン粒子が蓄積される。このような壁電荷分布を有する放電セルCLは非発光状態に設定されている。 On the other hand, when the write pulse synchronized with the scan pulse Ps is not applied to the column electrode D k + 1 while the negative scan pulse Ps is applied to the scan electrode Y j , the gas discharge is performed in the discharge space DS. Does not occur. Therefore, ion particles having the same charge polarity are accumulated on the wall surface close to the common electrode X j and the wall surface close to the scanning electrode Y j . The discharge cell CL having such a wall charge distribution is set to a non-light emitting state.
上述の通り、走査パルスPsとオフセットパルスPopとが印加される直前に、くさび状の調整パルスPxc,Pycが共通電極X1〜Xnと走査電極Y1〜Ynとに印加されている。これら調整パルスPxc,Pycは、書込放電を安定して生起させるために放電空間DS内の壁電荷分布を最適化するものであり、各電極に近い壁面の電荷極性を反転させ得る程の強放電を生起させるものではない。 As described above, immediately before the scanning pulse Ps and the offset pulse Pop is applied, the wedge-shaped adjustment pulse Pxc, Pyc is applied to the common electrode X 1 to X n and the scan electrodes Y 1 to Y n. These adjustment pulses Pxc and Pyc optimize the wall charge distribution in the discharge space DS in order to stably generate the write discharge, and are strong enough to reverse the charge polarity of the wall surface near each electrode. It does not cause discharge.
次に、先頭サブフィールドSF1の発光期間T1(図10)では、第2行電極駆動部16Bは、正極性の電圧パルスを放電維持パルスとして各行電極対に印加する。放電維持パルスは、先頭サブフィールドSF1に割り当てられた奇数回だけ印加される。図11の例では、列電極D1〜DmにはGNDレベルの電圧が印加されている。このとき、走査電極Y1〜Ynの各々に1個の正極性の放電維持パルスP+が印加され、同時に、共通電極X1〜Xnの各々にはGNDレベルの電圧パルスP-が印加される。放電維持パルスの印加直前には、発光可能状態に設定された初期選択セルCLでは、共通電極Xjに近い壁面に蓄積された負イオン粒子と、走査電極Yjに近い壁面に蓄積された正イオン粒子とが放電空間DS内に弱電界を形成している。この状態で、走査電極Yjに放電維持パルスP+を印加し且つ共通電極Xjに電圧パルスP-を印加すれば、これらパルスP+,P-により放電空間DS内に形成された電界が既存の弱電界に重畳される。当該重畳電界は、強いガス放電(すなわち維持放電)を引き起こし、これによりイオン粒子が生成される。当該生成されたイオン粒子のうち、負イオン粒子は走査電極Yjに誘引され、正イオン粒子は共通電極Xjに誘引されるので、共通電極Xjに近い壁面の電荷極性と走査電極Yjに近い壁面の電荷極性は反転する。また維持放電により発生した紫外線は、蛍光体層26の励起子を励起して可視光を放出させる。
Next, in the light emission period T 1 (FIG. 10) of the first subfield SF 1 , the second
ここで、図11の例では、低輝度領域での画質向上のために、走査電極Y1〜Ynの各々に1個の放電維持パルスP+を印加したが、これに限定されるものではない。各行電極対の走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に放電維持パルスP+を印加してもよい。この場合、発光期間T1に各行電極対の走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数と、対応する共通電極Xjに印加される放電維持パルスP+の個数との合計が奇数個になるように調整される。 Here, in the example of FIG. 11, for improving image quality in a low luminance region, it has been applied one discharge sustaining pulse P + to each of the scan electrodes Y 1 to Y n, being limited thereto Absent. The sustaining pulse P + may be applied alternately to the scanning electrode Y j and the common electrode X j of each row electrode pair. In this case, the number of sustaining pulse P + is applied to the scanning electrode Y j of each row electrode pair to the light-emitting period T 1, the sum of the corresponding discharge sustaining pulse P + the number of which is applied to the common electrode X j It is adjusted to be an odd number.
次に、後続サブフィールドSF2の選択消去期間Te(図10)では、最初に、第1行電極駆動部16Aは、図11に示されるように電圧レベルがGNDレベルから漸次低下する負の電圧勾配を持つくさび状の調整パルスPxcを共通電極X1〜Xnに印加する。同時に、第2行電極駆動部16Bは、電圧レベルがGNDレベルから漸次低下する負の電圧勾配を持つくさび状の調整パルスPyc,…,Pycをそれぞれ走査電極Y1,…,Ynに印加する。このとき、列電極駆動部15は、列電極D1〜DmにGNDレベルの電圧を印加している。これら調整パルスPxc,Pycは、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twに印加された調整パルスPxc,Pycと同様に、選択消去放電を安定して生起させるべく放電空間DS内の壁電荷分布を最適化するものである。
Next, in the selective erasing period Te (FIG. 10) of the subsequent subfield SF 2 , first, the first row electrode driver 16 </ b > A has a negative voltage at which the voltage level gradually decreases from the GND level as shown in FIG. 11. A wedge-shaped adjustment pulse Pxc having a gradient is applied to the common electrodes X 1 to X n . At the same time, the second
続いて、第2行電極駆動部16Bは、走査電極Y1,…,Ynに負極性の走査パルスPsを順次印加する。同時に、列電極駆動部15は、正極性の選択消去パルス群De1,…,Denの各々を各走査パルスPsに同期させて列電極D1,…,Dmに印加する。たとえば、1番目の走査電極Y1に走査パルスPsが印加されている間に、この走査パルスPsに同期した選択消去パルス群De1が列電極D1,…,Dmに印加される。続いて2番目の走査電極Y2に走査パルスPsが印加されている間に、この走査パルスPsに同期した選択消去パルス群De2が列電極D1,…,Dmに印加される。一般に、j番目の走査電極Yjに走査パルスPsが印加されている間に当該走査パルスPsに同期した選択消去パルス群Dejが列電極D1,…,Dmに印加される。これにより、表示パネル2の初期選択セルCL,…,CLに選択的にガス放電(すなわち選択消去放電)が生起されて、初期選択セルCLは選択的に発光可能状態から非発光状態に設定される。
Subsequently, the second
より具体的には、図4を参照すると、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加されている間に当該走査パルスPsに同期した選択消去パルス群Dejの正極性パルスが選択的に列電極Dk+1に印加されたとき、陰極である走査電極Yjと陽極である列電極Dk+1間の電位差に起因して初期選択セルCLの放電空間DSに選択消去放電が発生し、これによりイオン粒子が生成される。当該生成されたイオン粒子のうち正イオン粒子は陰極Yjに近い壁面に誘引され、負イオン粒子は陽極Dk+1に近い壁面に誘引されるので、放電電圧が低下して選択消去放電は停止する。選択消去放電の発生時、全共通電極X1〜Xnには、走査電極Yjの電圧極性(すなわち負極性)とは同一極性(すなわち負極性)のオフセットパルスPomが印加されるので、共通電極Xjに近い壁面には正イオン粒子が蓄積される。この結果、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに同一電荷極性のイオン粒子が蓄積され、選択消去放電が発生した放電セルCLは非発光状態に設定される。 More specifically, referring to FIG. 4, while the negative scan pulse Ps is applied to the scan electrode Y j , the positive pulse of the selective erasing pulse group De j synchronized with the scan pulse Ps is selectively used. when applied to the column electrode D k + 1, the discharge space DS in selective erase discharge of the scan electrode Y j and the anode a is the column electrode D k due to the potential difference between the + 1 initial selection cell CL is cathode Is generated, thereby generating ionic particles. Among the generated ion particles, positive ion particles are attracted to the wall surface near the cathode Y j , and negative ion particles are attracted to the wall surface near the anode D k + 1. Stop. Since the offset pulse Pom having the same polarity (that is, negative polarity) as the voltage polarity (that is, negative polarity) of the scanning electrode Y j is applied to all the common electrodes X 1 to X n when the selective erasing discharge is generated. Positive ion particles are accumulated on the wall surface near the electrode X j . As a result, ion particles having the same charge polarity are accumulated on the wall surface close to the common electrode X j and the wall surface close to the scanning electrode Y j , and the discharge cell CL in which the selective erasing discharge has occurred is set to a non-light emitting state.
一方、選択消去放電が発生しない初期選択セルCLでは、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに、互いに異なる電荷極性のイオン粒子が蓄積されたままである。このような壁電荷分布を有する放電セルCLの状態は発光可能状態に維持されている。 On the other hand, in the initial selected cell CL in which the selective erasing discharge does not occur, ion particles having different charge polarities are accumulated on the wall surface close to the common electrode X j and the wall surface close to the scanning electrode Y j . The state of the discharge cell CL having such a wall charge distribution is maintained in a light emission enabled state.
次に、後続サブフィールドSF2の電荷調整期間Taでは、図11に示されるように、第1行電極駆動部16Aは、共通電極X1〜Xnに正極性の調整パルスPxaを印加する。同時に、第2行電極駆動部16Bは、調整パルスPxaの電圧極性と同一極性の調整パルスPyaを走査電極Y1〜Ynの各々に印加する。これら調整パルスPxa,Pyaの電圧レベルは、発光期間T2に印加される放電維持パルスの電圧と略同一のレベルに制御される。
Then, the subsequent subfields SF 2 charge adjustment period Ta, as shown in FIG. 11, the first
電荷調整期間Taの直後の発光期間T2では、第2行電極駆動部16Bは、正極性の放電維持パルスP+を各行電極対の走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に印加する。ここで、各行電極対の走査電極Yjに放電維持パルスP+が印加されているとき、対応する共通電極Xjには基準電位(GNDレベル)の電圧パルスP-が印加され、各行電極対の共通電極Xjに放電維持パルスP+が印加されているときは、対応する走査電極Yjに基準電位の電圧パルスP-が印加される。発光期間T2に各行電極対の走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数と、対応する共通電極Xjに印加される放電維持パルスP+の個数との合計は、放電セルCL内の壁電荷分布が発光期間T2の前後で略変化しないように偶数個となるように調整される。
In the emission period T 2 of the immediately following charge adjustment period Ta, a second
図11を参照すると、発光期間T2には、列電極D1〜DmにGNDレベルの電圧が印加されている。このとき、各行電極対の走査電極Yjとこれに対応する共通電極Xjとに交互に放電維持パルスP+が印加される。このように各行電極対Xj,Yj間に電位差を与える電圧パルスP+,P-が印加されることにより、発光可能状態の放電セルCLの放電空間DSでは、共通電極Xjと走査電極Yjとの間に維持放電が繰り返し発生する。この維持放電により発生した紫外線は、蛍光体層26の励起子を励起して可視光を放出させる。
Referring to FIG. 11, a GND level voltage is applied to the column electrodes D 1 to D m during the light emission period T 2 . At this time, the sustaining pulse P + is alternately applied to the scanning electrode Yj of each row electrode pair and the corresponding common electrode Xj . Thus each row electrode pair X j, Y j voltage pulse applying a potential difference P +, P - by is applied, the discharge space DS of the discharge cells CL emission enable state, and the common electrode X j scan electrodes Sustain discharge repeatedly occurs between Yj . The ultraviolet rays generated by the sustain discharge excite excitons of the
ここで、図11の信号波形では、図12(A)の部分拡大図に示されるように、第1行電極駆動部16Aは、電荷調整期間Taで共通電極X1〜Xnに調整パルスPxaを印加した後、第2行電極駆動部16Bは放電維持パルスP+を共通電極X1〜Xnに印加している。よって、調整パルスPxaと放電維持パルスP+とは時間的に連続して共通電極X1〜Xnに印加されており、調整パルスPxaの電圧レベルがGNDレベルに立ち下がる前に放電維持パルスP+が印加されているが、この代わりに、図12(B)に示されるように、調整パルスPxaの電圧レベルがGNDレベルに完全に立ち下がった後に、放電維持パルスP+が印加されてもよい。
Here, in the signal waveform of FIG. 11, as shown in the partially enlarged view of FIG. 12A, the first row
後続サブフィールドSF3〜SFNの表示期間でも、それぞれ、後続サブフィールドSF2の表示期間の場合と同様の動作が実行される。 In the display period of the subsequent subfields SF 3 to SF N , the same operation as that in the display period of the subsequent subfield SF 2 is performed.
最終サブフィールドSFNの表示期間は、選択消去期間Te、電荷調整期間Taおよび発光期間TNの他に、当該発光期間TNの直後に設定された消去期間Tbを有する。この消去期間Tbでは、第1行電極駆動部16Aおよび第2行電極駆動部16Bは、各行電極対の走査電極YjにはGNDレベルの電圧を印加し、同時に対応する共通電極Xjには、走査電極Yjの電位よりも高い正極性電圧の細幅パルスPe1を印加する。続いて、第1行電極駆動部16Aおよび第2行電極駆動部16Bは、各行電極対の共通電極Xjおよび走査電極Yjにそれぞれ正極性の電圧パルスPe2,Peを同時に印加する。
The display period of the last subfield SF N has selective erase period Te, in addition to the charge adjusting period Ta and the light-emitting period T N, the erase period Tb that is set immediately after the light-emitting period T N. In the erasing period Tb, the first
上述の通り、後続サブフィールドSF2〜SFNの選択消去期間Teで選択消去放電が起きない放電セルCLは、消去期間Tbの直前まで発光可能状態に設定され続ける。この放電セルCLは、最終サブフィールドSFNの発光期間TNの終了時には、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され且つ走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を持つ。この状態で、消去期間Tbにおいて、共通電極Xjに細幅の正極性パルスPe1が印加され且つ走査電極YjにGNDレベルの電圧パルスが印加されたとき、各行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で弱放電が生起される。続いて、各行電極対Xj,Yjにそれぞれ正極性の電圧パルスPe2,Peが同時に印加されることで、放電空間DS内の負イオン粒子は、各行電極対Xj,Yjの近傍の壁面に誘引され、正イオン粒子は、GNDレベルの電圧が印加された各列電極Dkの近傍の壁面に誘引される。 As described above, the discharge cells CL in which the selective erasure discharge does not occur in the selective erasure period Te of the subsequent subfields SF 2 to SF N are continuously set in the light emission enabled state until immediately before the erasure period Tb. In this discharge cell CL, at the end of the light emission period T N of the final subfield SF N , positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scan electrode Y j . Has wall charge distribution. In this state, the erase period Tb, when the voltage pulse of the GND level is applied to the common electrode X j positive pulse Pe1 narrow is applied to and the scanning electrode Y j, each row electrode pair X j, between Y j A weak discharge is generated in the discharge space DS. Subsequently, positive voltage pulses Pe2 and Pe are simultaneously applied to the row electrode pairs Xj and Yj , respectively, so that negative ion particles in the discharge space DS are in the vicinity of the row electrode pairs Xj and Yj . The positive ion particles are attracted to the wall surface and are attracted to the wall surface in the vicinity of each column electrode D k to which a GND level voltage is applied.
一方、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電が起きない放電セルCLは、終始、非発光状態に設定される。この放電セルCLは、最終サブフィールドSFNの発光期間TNの終了時には、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を持つ。このため、消去期間Tbの前後で、共通電極Xjに近い壁面の電荷極性(負極性)は変化せず、走査電極Yjに近い壁面の電荷極性(負極性)は変化しない。 On the other hand, the discharge cells CL in which no write discharge occurs in the selective write period Tw of the top subfield SF 1 are set to the non-light-emitting state throughout. In this discharge cell CL, at the end of the light emission period T N of the final subfield SF N , negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scan electrode Y j . Has wall charge distribution. Therefore, the charge polarity (negative polarity) on the wall surface close to the common electrode X j does not change before and after the erasing period Tb, and the charge polarity (negative polarity) on the wall surface close to the scanning electrode Y j does not change.
他方、最終サブフィールドSFNの発光期間TNに達する前にいずれかの後続サブフィールドSFp(pは2〜Nのいずれか)の選択消去期間Teで放電セルCLが発光可能状態から非発光状態に設定された場合、この放電セルCLは、最終サブフィールドSFNの発光期間TNの終了時に、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を持つ。このため、消去期間Tbの前後で、共通電極Xjに近い壁面の電荷極性(負極性)は変化せず、走査電極Yjに近い壁面の電荷極性(負極性)は変化しない。 On the other hand, before reaching the light emission period T N of the final subfield SF N , the discharge cell CL does not emit light in the selective erasure period Te of any subsequent subfield SF p (p is any one of 2 to N). When set to the state, the discharge cell CL is formed on the wall surface near the scanning electrode Y j where negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j at the end of the light emission period T N of the final subfield SF N. It has a wall charge distribution in which negative ion particles are accumulated. Therefore, the charge polarity (negative polarity) on the wall surface close to the common electrode X j does not change before and after the erasing period Tb, and the charge polarity (negative polarity) on the wall surface close to the scanning electrode Y j does not change.
図13に、図10の駆動シーケンスを採用した場合に実現され得る放電セルCLの発光パターンを例示する。図13は、映像信号の各フィールドを12個のサブフィールドSF1〜SF12に分解した場合の映像信号の階調レベルとこれに対応する発光パターンとの関係を示すものである。また、図13には、階調レベルとこれに対応する階調調整信号VSbの値との関係、並びに、階調調整信号VSbの値と駆動データ信号DDの値との関係(変換テーブル)が示されている。図13において、記号「◎」は、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで選択的に書込放電が発生し、且つ発光期間T1で維持放電が発生することを意味する。また、記号「○」は、サブフィールドSF2〜SF12の発光期間T2〜T12のいずれかで維持放電が発生することを意味し、記号「●」は、サブフィールドSF2〜SF12の選択消去期間Teのいずれかで選択消去放電が発生することを意味する。 FIG. 13 illustrates a light emission pattern of the discharge cell CL that can be realized when the drive sequence of FIG. 10 is employed. FIG. 13 shows the relationship between the gradation level of the video signal and the corresponding emission pattern when each field of the video signal is decomposed into 12 subfields SF 1 to SF 12 . FIG. 13 shows the relationship between the gradation level and the value of the gradation adjustment signal VSb corresponding to the gradation level, and the relationship (conversion table) between the value of the gradation adjustment signal VSb and the value of the drive data signal DD. It is shown. In FIG. 13, the symbol “◎” means that the write discharge is selectively generated in the selective write period Tw of the first subfield SF 1 and the sustain discharge is generated in the light emission period T 1 . Further, the symbol "○" means that the sustain discharge in one of the light-emitting period T 2 through T 12 subfields SF 2 - SF 12 occurs, the symbol "●" is subfields SF 2 - SF 12 This means that selective erasure discharge occurs in any of the selective erasure periods Te.
映像信号の階調レベルgの輝度をL(g)で表すとき、輝度L(g)は次式で与えられる。 When the luminance of the gradation level g of the video signal is represented by L (g), the luminance L (g) is given by the following equation.
ここで、Nは、サブフィールドSF1〜SFNの総数であり、図13の場合は、N=12となる。B(g;i)は、輝度レベルgについてi番目サブフィールドSFiで放電セルCLが発光可能状態のときは値「1」をとり、放電セルCLが非発光状態のときは値「0」をとる。W(i)は、上述の通り、i番目サブフィールドSFiに割り当てられた輝度の重みである。たとえば、W(1)=1、W(2)=2、W(3)=4、W(4)=8、W(5)=12、W(6)=16、W(8)=22、W(9)=28、W(10)=34、W(11)=40、W(12)=46、W(13)=42、のように輝度の重みが設定されれば、図13のテーブルに示される輝度L(g)が実現される。 Here, N is the total number of subfields SF 1 to SF N. In the case of FIG. 13, N = 12. B (g; i) takes a value “1” when the discharge cell CL is in a light emitting state in the i-th subfield SF i with respect to the luminance level g, and a value “0” when the discharge cell CL is in a non-light emitting state. Take. W (i) is a luminance weight assigned to the i-th subfield SF i as described above. For example, W (1) = 1, W (2) = 2, W (3) = 4, W (4) = 8, W (5) = 12, W (6) = 16, W (8) = 22 , W (9) = 28, W (10) = 34, W (11) = 40, W (12) = 46, W (13) = 42. The luminance L (g) shown in the table is realized.
図13に示される発光パターンによれば、1フィールドの表示期間における放電セルCLの状態変化は以下の3種類のパターンに分類することができる。すなわち、1) 放電セルCLの状態が先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電により非発光状態(「黒」状態)から発光可能状態(「白」状態)に設定された後、最終サブフィールドSFNの消去期間Tbの直前まで発光可能状態(「白」状態)に維持される最大階調レベル「N」に対応する第1のパターンと、2) 放電セルCLの状態が先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電により非発光状態(「黒」状態)から発光可能状態(「白」状態)に設定された後、後続サブフィールドSF2〜SFN-1のいずれかの選択消去期間Teで選択消去放電により非発光状態(「黒」状態)に設定される階調レベル「1」〜「N−1」に対応する第2のパターンと、3) 放電セルCLの状態が非発光状態(「黒」状態)から始まり非発光状態(「黒」状態)で終わる階調レベル「0」に対応する第3のパターンと、である。 According to the light emission pattern shown in FIG. 13, the state change of the discharge cell CL in the display period of one field can be classified into the following three types of patterns. That is, 1) after the state of the discharge cell CL is set from the non-light emitting state (“black” state) to the light emitting enabled state (“white” state) by the write discharge in the selective writing period Tw of the first subfield SF 1. The first pattern corresponding to the maximum gradation level “N” maintained in the light emission enabled state (“white” state) until immediately before the erasing period Tb of the final subfield SF N and 2) the state of the discharge cell CL After setting from the non-light emitting state (“black” state) to the light emitting enabled state (“white” state) by the write discharge in the selective writing period Tw of the first subfield SF 1 , the subsequent subfields SF 2 to SF N− A second pattern corresponding to gradation levels “1” to “N−1” set to a non-light emitting state (“black” state) by selective erasing discharge in any one of selective erasing periods Te; and 3) The discharge cell CL is in a non-light emitting state (“black” state) ) And the third pattern corresponding to the gradation level “0” ending in the non-light emitting state (“black” state).
図14(A),(B),(C)に、それぞれ、第1、第2および第3のパターンに対応する壁電荷分布の推移を示す。図14(A),(B),(C)では、いずれも、放電セルCLは、現在のフィールド(カレント・フィールド)に対して直前のフィールドの消去期間Tbにおいて、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を表す「黒」状態(すなわち非発光状態)に設定される。 FIGS. 14A, 14B, and 14C show transitions of wall charge distributions corresponding to the first, second, and third patterns, respectively. In each of FIGS. 14A, 14B, and 14C, the discharge cell CL has a wall surface close to the common electrode Xj in the erasing period Tb of the immediately preceding field with respect to the current field (current field). Negative ion particles are accumulated, negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the scan electrode Y j , and positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k , ie, a “black” state (that is, a non-black state). (Light emission state).
先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trの終了後には、図14(A),(B),(C)に示されるように、放電セルCLの状態は、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を表す「黒」状態にある。 After the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends, the state of the discharge cell CL is negative on the wall surface near the common electrode X j as shown in FIGS. The ion particles are accumulated, the negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the scanning electrode Y j , and the “black” state representing the wall charge distribution in which the positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k .
この初期調整期間Trでは、図11に示されるように、列電極D1〜DmにGNDレベルの電圧が印加され、共通電極X1〜Xnに正極性の初期調整パルスPxrが印加され、走査電極Y1〜Ynに正極性の初期調整パルスPyrが印加される。この初期調整期間Trを通じて放電セルCL内の壁電荷分布が最適分布となるように初期化される。すなわち、放電セルCL内の壁電荷分布が最適分布ではないときには、初期調整パルスPxr,Pyrが放電空間DS内に形成する電界により、イオン粒子が移動し、あるいは微少放電が生起されて壁電荷分布が調整される。微少放電が生起される場合、この微少放電の強度は、電極Xj,Yj,Dkに近い壁面上のイオン粒子の電荷極性を反転させ得るものではなく、微弱である。このため、かかる微少放電により蛍光体層26から放出される可視光は、背景発光輝度にほとんど寄与せず、暗所コントラストをほとんど低下させない。
In this initial adjustment period Tr, as shown in FIG. 11, a GND level voltage is applied to the column electrodes D 1 to D m , and a positive initial adjustment pulse Pxr is applied to the common electrodes X 1 to X n . A positive initial adjustment pulse Pyr is applied to the scan electrodes Y 1 to Y n . Through this initial adjustment period Tr, initialization is performed so that the wall charge distribution in the discharge cell CL becomes the optimum distribution. That is, when the wall charge distribution in the discharge cell CL is not the optimum distribution, the ion particles are moved by the electric field formed in the discharge space DS by the initial adjustment pulses Pxr and Pyr, or a minute discharge is caused to cause the wall charge distribution. Is adjusted. When a micro discharge is generated, the intensity of the micro discharge is weak and cannot reverse the charge polarity of ion particles on the wall surface near the electrodes X j , Y j , and D k . For this reason, the visible light emitted from the
図14(A)に示される第1のパターンについて以下に説明する。先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性のオフセットパルスPopが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の書込パルスが列電極Dkに印加される。これにより、列電極Dkと走査電極Yjとの間に放電空間DS内で書込放電が生起される。この結果、図14(A)に示されるように選択書込期間Twの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、共通電極Xjに近い壁面には負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面には負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには正極性のオフセットパルスPopが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には負イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。したがって、放電セルCLは、電極Xj,Yjに近い壁面にそれぞれ互いに逆の電荷極性のイオン粒子が蓄積された壁電荷分布の「白」状態(すなわち発光可能状態)に設定される。 The first pattern shown in FIG. 14A will be described below. The first subfield SF 1 selective write period Tw, as shown in FIG. 11, the offset pulse Pop having a positive polarity is applied to the common electrode X j, a negative polarity scan pulse Ps is applied to the scanning electrode Y j Then, a positive writing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is applied to the column electrode Dk . As a result, a write discharge is generated in the discharge space DS between the column electrode D k and the scan electrode Y j . As a result, as shown in FIG. 14A, after the selective writing period Tw ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j. And negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k . The common electrode X j for offset pulse Pop having a positive polarity is applied, the negative ion particles are attracted to the wall surface closer to the common electrode X j, it can exist stably. Accordingly, the discharge cell CL is set to a “white” state (that is, a light emission enabled state) of the wall charge distribution in which ion particles having opposite charge polarities are accumulated on the wall surfaces close to the electrodes X j and Y j .
その後、先頭サブフィールドSF1の発光期間T1には、図11に示されるように、列電極Dkには、走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の電圧よりも低い負極性側の電圧(GNDレベルの電圧)が印加される。また走査電極Yjに放電維持パルスP+が印加され、同時に共通電極Xjに電圧パルスP-が印加される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図14(A)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 Thereafter, in the light emission period T 1 of the first subfield SF 1 , as shown in FIG. 11, the column electrode D k has a negative polarity lower than the voltage of the sustaining pulse P + applied to the scan electrode Y j. Side voltage (GND level voltage) is applied. Further, the sustaining pulse P + is applied to the scan electrode Y j , and at the same time, the voltage pulse P − is applied to the common electrode X j . Thus, the row electrode pairs X j, sustain discharge in the discharge space DS between Y j is occurring, opposed discharge in the discharge space DS between the column electrode D k is a scanning electrode Y j and the cathode an anode Is born. As a result, as shown in FIG. 14A, after the end of the light emission period T 1 , positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. And positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk .
第1のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNの選択消去期間Teには、走査パルスPsに同期した選択消去パルスが列電極Dkに印加されないので、放電セルCL内の壁電荷分布はほとんど変化しない。また、選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積されているので、放電空間DS内でガス放電は生起されない。 In the case of the first pattern, since the selective erasing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is not applied to the column electrode D k in the selective erasing period Te of the subsequent subfields SF 2 to SF N , the wall charge distribution in the discharge cell CL Hardly changes. Further, in the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk , so that no gas discharge is generated in the discharge space DS.
また、電荷調整期間Taに続く発光期間Tp(pは2〜Nの整数)には、図11に示されるように、各電極対の走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に放電維持パルスP+が印加される。このとき、走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数と、対応する共通電極Xjに印加される放電維持パルスP+の個数との合計は偶数個となるように調整される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が繰り返し生起され、蛍光体層26を励起して可視光を放出させる。この結果、図14(A)に示されるように発光期間Tpの終了後には、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。
Further, in the light emission period T p (p is an integer of 2 to N) following the charge adjustment period Ta, as shown in FIG. 11, the discharge is alternately maintained on the scan electrode Y j and the common electrode X j of each electrode pair. Pulse P + is applied. At this time, the sum of the number of sustaining pulses P + applied to the scan electrode Yj and the number of sustaining pulses P + applied to the corresponding common electrode Xj is adjusted to be an even number. . Thereby, a sustain discharge is repeatedly generated in the discharge space DS between the pair of row electrodes X j and Y j , and the
最終サブフィールドSFNの消去期間Tbには、図11に示されるように、共通電極Xjに細幅で正極性の消去パルスPe1が印加され、同時に、走査電極YjにGNDレベルの電圧が印加されるので、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で弱放電が発生する。続けて、共通電極Xjと走査電極Yjとにそれぞれ正極性パルスPe2,Peが印加されるので、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が誘引され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が誘引される。この結果、図14(A)に示されるように消去期間Tbの終了後には、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 In the erase period Tb of the final subfield SF N , as shown in FIG. 11, a narrow and positive erase pulse Pe1 is applied to the common electrode X j , and at the same time, a GND level voltage is applied to the scan electrode Y j. Since it is applied, a weak discharge is generated in the discharge space DS between the row electrode pair X j , Y j . Subsequently, since the positive pulses Pe2 and Pe are applied to the common electrode Xj and the scanning electrode Yj , respectively, negative ion particles are attracted to the wall surface close to the common electrode Xj, and to the wall surface close to the scanning electrode Yj. Negative ion particles are attracted. As a result, as shown in FIG. 14A, after the erasing period Tb ends, negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. In addition, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k .
次に、図14(B)に示される第2のパターンについて以下に説明する。先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、上記第1のパターンの場合と同様に列電極Dkと走査電極Yjとの間に放電空間DS内で書込放電が生起される。この結果、図14(B)に示されるように選択書込期間Twの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、共通電極Xjに近い壁面には負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面には負イオン粒子が蓄積される。したがって、放電セルCLは「白」状態に設定される。 Next, the second pattern shown in FIG. 14B will be described below. The first subfield SF 1 selective write period Tw, writing discharge in the discharge space DS between the case of the first pattern as well as the column electrode D k and scan electrode Y j is induced. As a result, as shown in FIG. 14B, after the selective writing period Tw ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j. Are accumulated, and negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k . Accordingly, the discharge cell CL is set to the “white” state.
その後、サブフィールドSF1の発光期間T1には、上記第1のパターンの場合と同様に走査電極Yjに放電維持パルスP+が印加され、列電極DkにGNDレベルの電圧が印加される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図14(B)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。図11の例では、走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数は1個だけであるが、これに限らず、各行電極対の走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に放電維持パルスP+を印加して、走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数と共通電極Xjに印加される放電維持パルスP+の個数との合計を奇数個にしてもよい。放電維持パルスP+の合計を奇数個とする理由は、後続サブフィールドの選択消去期間Teにおいて、列電極Dkを陽極とし走査電極Yjを陰極として走査電極Yjと列電極Dk間に対向放電を起こし得る壁電荷分布を形成するためである。 Thereafter, in the light emission period T 1 of the subfield SF 1 , the discharge sustaining pulse P + is applied to the scan electrode Y j and the GND level voltage is applied to the column electrode D k as in the case of the first pattern. The Thus, the row electrode pairs X j, sustain discharge in the discharge space DS between Y j is occurring, opposed discharge in the discharge space DS between the column electrode D k is a scanning electrode Y j and the cathode an anode Is born. As a result, as shown in FIG. 14B, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j after the end of the light emission period T 1. And positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk . In the example of FIG. 11, the number of sustaining pulses P + applied to the scan electrode Y j is only one. However, the number is not limited to this, and the scan electrode Y j and the common electrode X j of each row electrode pair are alternately arranged. By applying the sustaining pulse P + , the sum of the number of sustaining pulses P + applied to the scan electrode Yj and the number of sustaining pulses P + applied to the common electrode Xj is set to an odd number. Good. The reason why the total sustaining pulse P + and odd number, in the selective erase period Te of the subsequent subfields, the cathode scanning electrode Y j and the column electrode D k and the anode between the scanning electrodes Y j and the column electrode D k This is to form a wall charge distribution that can cause a counter discharge.
第2のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teにおいて、図11に示されるように、共通電極Xjに負極性のオフセットパルスPomが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の選択消去パルスが列電極Dkに印加される。これにより、列電極Dkを陽極とし走査電極Yjを陰極として列電極Dkと走査電極Yjとの間に選択消去放電が生起される。この結果、図14(B)に示されるように選択消去期間Teの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには負極性のオフセットパルスPomが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には正イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。 In the case of the second pattern, as shown in FIG. 11, in the selective erasing period Te of any of the subsequent subfields SF 2 to SF N , a negative offset pulse Pom is applied to the common electrode X j , and the scan electrode A negative scan pulse Ps is applied to Y j , and a positive selective erase pulse synchronized with this scan pulse Ps is applied to the column electrode D k . As a result, a selective erasure discharge is generated between the column electrode D k and the scan electrode Y j with the column electrode D k as an anode and the scan electrode Y j as a cathode. As a result, as shown in FIG. 14B, after the selective erasing period Te is completed, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k. Is done. Because the common electrode X j of the negative polarity of the offset pulse Pom is applied, the wall closer to the common electrode X j positive ion particles are attracted, can exist stably.
前記選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性の調整パルスPxaが印加され、同時に、走査電極Yjに正極性の調整パルスPyaが印加される。これにより、陽極である共通電極Xjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起され、同時に、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起される。この結果、図14(B)に示されるように電荷調整期間Taの終了後は、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。したがって、放電セルCLは「黒」状態に設定される。このように選択消去期間Teの直後に共通電極Xjと列電極Dk間、並びに走査電極Yjと列電極Dk間にそれぞれ対向放電を起こすので、これら対向放電を安定して発生させることができる。 In the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, as shown in FIG. 11, a positive adjustment pulse Pxa is applied to the common electrode X j , and at the same time, a positive adjustment pulse Pya is applied to the scan electrode Y j. Is applied. As a result, a counter discharge is generated between the common electrode X j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode, and at the same time, a counter discharge is generated between the scanning electrode Y j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode. Discharge occurs. As a result, as shown in FIG. 14B, after the end of the charge adjustment period Ta, negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scan electrode Y j. In addition, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k . Accordingly, the discharge cell CL is set to the “black” state. As described above, since the counter discharge is generated between the common electrode X j and the column electrode D k and between the scan electrode Y j and the column electrode D k immediately after the selective erasing period Te, the counter discharge can be stably generated. Can do.
その後、最終サブフィールドSFNの消去期間Tbでは、放電空間DS内でガス放電は生起されない。 Thereafter, no gas discharge is generated in the discharge space DS in the erasing period Tb of the final subfield SF N.
次に、図14(C)に示される第3のパターンについては、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trが終了した後、放電空間DS内にガス放電は生起されない。したがって、放電セルCLは、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trの終了後は、全てのサブフィールドSF1〜SFNの表示期間に亘って「黒」状態に設定され続ける。 Next, for the third pattern shown in FIG. 14C, no gas discharge is generated in the discharge space DS after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF1 ends. Therefore, after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends, the discharge cell CL continues to be set to the “black” state over the display period of all the subfields SF 1 to SF N.
上記の通り、第1実施例に係る階調制御法は、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twにおいて、黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルを除く初期選択セルCLのみを発光可能状態に設定するので、選択書込期間Twにおいて表示輝度L(g)に寄与しない背景発光輝度を抑制して暗所コントラストの向上を可能にする。 As described above, the gradation control method according to the first embodiment can emit light only from the initial selected cells CL excluding the discharge cells that should display the luminance at the black level in the selective writing period Tw of the first subfield SF 1. Since the state is set, the background light emission luminance that does not contribute to the display luminance L (g) is suppressed in the selective writing period Tw, and the dark place contrast can be improved.
この選択書込期間Twに続く発光期間T1では、初期選択セルCLに維持放電を生起させるために特に奇数個の放電維持パルスが印加されるので、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teにおいて、走査電極Yjと列電極Dk間に対向放電を起こし得る壁電荷分布を形成することができる。たとえば、図14(A)および(B)に示されるように、先頭サブフィールドSF1の発光期間T1の終了後に、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子を、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子を、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子をそれぞれ蓄積することができる。 In the light emission period T 1 following the selective writing period Tw, since an odd number of sustaining pulses are applied in order to cause the sustaining discharge in the initial selected cell CL, any one of the subsequent subfields SF 2 to SF N is applied. In the selective erasing period Te, a wall charge distribution capable of causing a counter discharge between the scanning electrode Y j and the column electrode D k can be formed. For example, as shown in FIGS. 14A and 14B, after the light emission period T 1 of the first subfield SF 1 ends, negative ion particles are placed on the wall surface close to the scan electrode Y j and close to the common electrode X j . Positive ion particles can be accumulated on the wall surface, and positive ion particles can be accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk .
さらに、第1実施例に係る階調制御法は、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teで走査電極Yjと列電極Dkとの間に選択消去放電を起こし、この直後の電荷調整期間Taで走査電極Yjと列電極Dk間並びに共通電極Xjと列電極Dk間にそれぞれ対向放電を起こすことにより、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに同一極性のイオン粒子が蓄積された壁電荷分布を持つ非発光状態の放電セルCLを得ることが可能である。それら対向放電は安定して生起されるので、最適な壁電荷分布を安定的に実現し得る。たとえば、図14(B)に示されるように、後続サブフィールドSF2〜SFNの電荷調整期間Taの終了後に、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子を、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子を、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子をそれぞれ蓄積した非発光状態の放電セルCLが得られる。 Furthermore, the gradation control method according to the first embodiment causes a selective erasure discharge between the scan electrode Y j and the column electrode D k in the selective erasure period Te in any of the subsequent subfields SF 2 to SF N. Immediately after this, a counter discharge is generated between the scanning electrode Y j and the column electrode D k and between the common electrode X j and the column electrode D k in the charge adjustment period Ta, so that the wall surface near the common electrode X j and the scanning electrode Y j It is possible to obtain a non-light emitting discharge cell CL having a wall charge distribution in which ion particles of the same polarity are accumulated on a wall surface close to. Since these counter discharges are stably generated, an optimal wall charge distribution can be stably realized. For example, as shown in FIG. 14B, after the charge adjustment period Ta of the subsequent subfields SF 2 to SF N ends, negative ion particles are placed on the wall surface near the scanning electrode Y j, and the wall surface near the common electrode X j. Thus, a non-light emitting discharge cell CL in which negative ion particles and positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k is obtained.
このような壁電荷分布を実現することにより、第1実施例に係るプラズマディスプレイ装置1は、暗所コントラストを向上させつつ、予期せぬ誤放電の発生を抑制して画質を向上させることが可能である。
By realizing such a wall charge distribution, the
<第1変形例>
上記第1実施例に係る駆動シーケンス(図10)は、図4および図5に示される構造を有する表示パネル2に適用されてもよいし、あるいは図6および図7に示される構造を有する表示パネル2に適用されてもよい。さらには、図8および図9に示される構造を有する表示パネル2に適用することも可能である。
<First Modification>
The drive sequence (FIG. 10) according to the first embodiment may be applied to the
上述の通り、図10および図11に示される初期調整期間Trは、放電セルCL内の壁電荷分布を調整するために設けられた期間である。図6および図7のパネル構造は、初期電子および二次電子によるプライミング効果を向上させて放電遅れを改善するので、駆動電圧の広いマージン(余裕度)を確保することができる。図6および図7の構造と図8および図9の構造とを併用すれば、さらなる放電遅れの改善と広い駆動電圧マージンとを実現できる。したがって、図6〜図9のパネル構造を採用すれば、初期調整期間Trを省略することができ、暗所コントラストを大幅に向上させることが可能である。 As described above, the initial adjustment period Tr shown in FIGS. 10 and 11 is a period provided for adjusting the wall charge distribution in the discharge cell CL. The panel structure of FIGS. 6 and 7 improves the discharge delay by improving the priming effect by the initial electrons and secondary electrons, so that a wide margin (margin) of the drive voltage can be ensured. If the structures of FIGS. 6 and 7 and the structures of FIGS. 8 and 9 are used in combination, further improvement in discharge delay and a wide driving voltage margin can be realized. Therefore, if the panel structure of FIGS. 6 to 9 is employed, the initial adjustment period Tr can be omitted, and the dark place contrast can be greatly improved.
<第2実施例>
次に、本発明の第2実施例について説明する。図15は、第2実施例に係る駆動シーケンスの例を概略的に示す図である。図15の駆動シーケンスは、図10に示した最終サブフィールドSFNの消去期間Tbを持たない点を除いて、図10の駆動シーケンスと同じである。また、1フィールドを構成する各期間において表示パネル2に印加されるべき駆動信号の波形も、最終サブフィールドSFNの消去期間Tbの信号波形を持たない点を除いて、図11に示した信号波形と同じである。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 15 is a diagram schematically illustrating an example of a drive sequence according to the second embodiment. The drive sequence of FIG. 15 is the same as the drive sequence of FIG. 10 except that it does not have the erase period Tb of the last subfield SF N shown in FIG. In addition, the waveform of the drive signal to be applied to the
かかる場合、図15に示されるように、最終サブフィールドSFNの発光期間TNの後には直ちに次のフィールドの先頭サブフィールドSF1の表示期間が開始される。各フィールドにおいて、最終サブフィールドSFNの発光期間TNが終了した後は、放電セルCLの発光可能状態は非発光状態に切り換えられないので、発光可能状態(「白」状態)に設定された放電セルCLが次のフィールドの先頭サブフィールドSF1の直前に存在し得る。一方、図14に示した第1実施例の発光パターンでは、最終サブフィールドSFNの消去期間Tbにおいて、放電セルCLの発光可能状態は必ず非発光状態に切り換えられるので、次のフィールドの先頭サブフィールドSF1の直前には非発光状態(「黒」状態)の放電セルCLのみが存在し得る。 In this case, as shown in FIG. 15, immediately after the light emission period T N of the last subfield SF N , the display period of the first subfield SF 1 of the next field is started. In each field, after the light emission period T N of the final subfield SF N ends, the light emission enabled state of the discharge cell CL cannot be switched to the non-light emission state, and thus the light emission enabled state (“white” state) is set. The discharge cell CL may exist immediately before the first subfield SF1 of the next field. On the other hand, in the light emission pattern of the first embodiment shown in FIG. 14, in the erase period Tb of the final subfield SF N , the light emission enabled state of the discharge cell CL is always switched to the non-light emission state. Only the discharge cell CL in the non-light emitting state (“black” state) may exist immediately before the field SF 1 .
よって、第2実施例に係る駆動シーケンスでは、1フィールドの表示期間における放電セルCLの状態変化は以下の6種類のパターンに分類することができる。すなわち、1) 図16(A)に示されるように、放電セルCLの状態が「白」状態から始まり「白」状態で終わる第1のパターンと、2) 図16(B)に示されるように、放電セルCLの状態が「白」状態から始まり、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電により「白」状態に設定された後、後続サブフィールドSF2〜SFN-1のいずれかの選択消去期間Teで選択消去放電により「黒」状態に設定される第2のパターンと、3) 図16(C)に示されるように、放電セルCLの状態が「白」状態から始まり、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trおよび選択書込期間Twで「黒」状態に設定された後、「黒」状態で終わる第3のパターンと、4) 図17(A)に示されるように、放電セルCLの状態が「黒」状態から始まり、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電により「白」状態に設定された後、「白」状態で終わる第4のパターンと、5) 図17(B)に示されるように、放電セルCLの状態が「黒」状態から始まり、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで書込放電により「白」状態に設定された後、後続サブフィールドSF2〜SFN-1のいずれかの選択消去期間Teで選択消去放電により「黒」状態に設定される第5のパターンと、6) 図17(C)に示されるように、放電セルCLの状態が「黒」状態から始まり、「黒」状態で終わる第6のパターンと、である。 Therefore, in the driving sequence according to the second embodiment, the state change of the discharge cell CL in the display period of one field can be classified into the following six types of patterns. That is, 1) a first pattern in which the state of the discharge cell CL starts from the “white” state and ends in the “white” state, as shown in FIG. 16A, and 2) as shown in FIG. First, after the discharge cell CL starts from the “white” state and is set to the “white” state by the write discharge in the selective write period Tw of the first subfield SF 1 , the subsequent subfields SF 2 to SF N− a second pattern set in "black" state by selective erasure discharge in the first one of the selective erase period Te, 3) as shown in FIG. 16 (C), the state of the discharge cell CL "white" A third pattern starting from the state and set to the “black” state after the initial adjustment period Tr and the selective writing period Tw of the first subfield SF 1 and ends in the “black” state, and 4) FIG. As shown in the figure, the state of the discharge cell CL is “black”. It begins state after being set by the writing discharge in the first subfield SF 1 selective write period Tw in the "white" state, a fourth pattern ending in "white" state, 5) in FIG. 17 (B) As shown, after the discharge cell CL starts from the “black” state and is set to the “white” state by the write discharge in the selective writing period Tw of the first subfield SF 1 , the subsequent subfields SF 2 to SF 2 . A fifth pattern which is set to a “black” state by selective erasing discharge in any selective erasing period Te of SF N−1 , and 6) as shown in FIG. 17C, the state of the discharge cell CL is And a sixth pattern starting from the “black” state and ending in the “black” state.
図16(A),(B),(C)では、いずれも、放電セルCLは、現在のフィールド(カレント・フィールド)に対して直前のフィールドの表示期間終了後、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を表す「白」状態に設定される。 In each of FIGS. 16A, 16B, and 16C, the discharge cell CL has a wall surface close to the common electrode X j after the display period of the immediately preceding field with respect to the current field (current field). Is set to a “white” state representing a wall charge distribution in which positive ion particles are accumulated, negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and positive ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k. The
かかる場合、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trの終了後には、図16(A),(B),(C)に示されるように、放電セルCLの状態は、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積された壁電荷分布を表す「黒」状態にある。この初期調整期間Trでは、図11に示されるように、列電極D1〜DmにGNDレベルの電圧が印加され、共通電極X1〜Xnに正極性の初期調整パルスPxrが印加され、走査電極Y1〜Ynに正極性の初期調整パルスPyrが印加される。この結果、初期調整パルスPxr,Pyrが放電空間DS内に形成する電界により、イオン粒子が移動し、あるいは微少放電が生起されて壁電荷分布が調整される。この結果、初期調整期間Trの終了後は、図16(A),(B),(C)に示される壁電荷分布が生成される。 In such a case, after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends, as shown in FIGS. 16A, 16B, and 16C, the state of the discharge cell CL is close to the common electrode X j . Negative ion particles are accumulated on the wall surface, negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the scanning electrode Y j , and positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k , which is in a “black” state. . In this initial adjustment period Tr, as shown in FIG. 11, a GND level voltage is applied to the column electrodes D 1 to D m , and a positive initial adjustment pulse Pxr is applied to the common electrodes X 1 to X n . A positive initial adjustment pulse Pyr is applied to the scan electrodes Y 1 to Y n . As a result, the electric charge formed in the discharge space DS by the initial adjustment pulses Pxr, Pyr moves the ion particles or causes a slight discharge to adjust the wall charge distribution. As a result, after the initial adjustment period Tr ends, the wall charge distribution shown in FIGS. 16A, 16B, and 16C is generated.
図16(A)に示される第1のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性のオフセットパルスPopが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の書込パルスが列電極Dkに印加される。これにより、走査電極Yjと列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図16(A)に示されるように選択書込期間Twの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには正極性のオフセットパルスPopが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には負イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。したがって、放電セルCLは、電極Xj,Yjに近い壁面にそれぞれ互いに逆の電荷極性のイオン粒子が蓄積された壁電荷分布の「白」状態に設定される。 The first pattern shown in FIG. 16A will be described below. In this case, the first subfield SF 1 selective write period Tw, as shown in FIG. 11, the offset pulse Pop having a positive polarity is applied to the common electrode X j, a negative polarity scan pulse to the scan electrodes Y j Ps is applied, and a positive writing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is applied to the column electrode Dk . As a result, a counter discharge is generated in the discharge space DS between the scan electrode Y j and the column electrode D k . As a result, as shown in FIG. 16A, after the selective writing period Tw ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j. Accumulated negative ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk . The common electrode X j for offset pulse Pop having a positive polarity is applied, the negative ion particles are attracted to the wall surface closer to the common electrode X j, it can exist stably. Therefore, the discharge cell CL is set to the “white” state of the wall charge distribution in which ion particles having opposite charge polarities are accumulated on the wall surfaces close to the electrodes X j and Y j .
その後、先頭サブフィールドSF1の発光期間T1には、図11に示されるように、列電極DkにGNDレベルの電圧が印加され、走査電極Yjに正極性の放電維持パルスP+が印加され、同時に共通電極XjにGNDレベルの電圧パルスP-が印加される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図16(A)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 Thereafter, during the light emission period T 1 of the first subfield SF 1 , as shown in FIG. 11, a GND level voltage is applied to the column electrode D k , and a positive discharge sustaining pulse P + is applied to the scan electrode Y j. At the same time, a voltage pulse P − at the GND level is applied to the common electrode X j . Thus, the row electrode pairs X j, sustain discharge in the discharge space DS between Y j is occurring, opposed discharge in the discharge space DS between the column electrode D k is a scanning electrode Y j and the cathode an anode Is born. As a result, as shown in FIG. 16A, after the end of the light emission period T 1 , positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. And positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k .
第1のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNの選択消去期間Teには、走査パルスPsに同期した選択消去パルスが列電極Dkに印加されないので、放電セルCL内の壁電荷分布はほとんど変化しない。また、選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積されているので、放電空間DS内でガス放電は生起されない。 In the case of the first pattern, since the selective erasing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is not applied to the column electrode D k in the selective erasing period Te of the subsequent subfields SF 2 to SF N , the wall charge distribution in the discharge cell CL Hardly changes. Further, in the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk , so that no gas discharge is generated in the discharge space DS.
この電荷調整期間Taに続く発光期間Tp(pは2〜Nの整数)には、図11に示されるように、走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に放電維持パルスP+が印加されるが、走査電極Yjに印加される放電維持パルスP+の個数と、共通電極Xjに印加される放電維持パルスP+の個数との合計は偶数個となるように調整される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が繰り返し生起され、蛍光体層26を励起して可視光を放出させる。この結果、図16(A)に示されるように発光期間Tpの終了後には、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。
In the light emission period T p (p is an integer of 2 to N) subsequent to the charge adjustment period Ta, as shown in FIG. 11, the discharge sustain pulse P + is alternately applied to the scan electrode Y j and the common electrode X j. However, the sum of the number of sustaining pulses P + applied to the scan electrode Yj and the number of sustaining pulses P + applied to the common electrode Xj is adjusted to be an even number. Thereby, a sustain discharge is repeatedly generated in the discharge space DS between the pair of row electrodes X j and Y j , and the
次に、図16(B)に示される第2のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、上記第1のパターンの場合と同様に列電極Dkと走査電極Yjとの間に放電空間DS内で書込放電が生起される。続けて、発光期間T1には、上記第1のパターンの場合と同様に、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図16(B)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 Next, the second pattern shown in FIG. 16B will be described below. In this case, the first subfield SF 1 selective write period Tw, writing discharge in the discharge space DS between the case of the first pattern as well as the column electrode D k and scan electrode Y j is occurring Is done. Subsequently, during the light emission period T 1 , as in the case of the first pattern, a sustain discharge is generated in the discharge space DS between the row electrode pair X j and Y j , and the scan electrode Y j that is an anode A counter discharge is generated in the discharge space DS between the cathode and the column electrode Dk . As a result, as shown in FIG. 16B, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j after the end of the light emission period T 1. Then, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk .
第2のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teにおいて、図11に示されるように、共通電極Xjに負極性のオフセットパルスPomが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の選択消去パルスが列電極Dkに印加される。これにより、列電極Dkを陽極とし走査電極Yjを陰極として列電極Dkと走査電極Yjとの間に選択消去放電が生起される。この結果、図16(B)に示されるように選択消去期間Teの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには負極性のオフセットパルスPomが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には正イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。 In the case of the second pattern, as shown in FIG. 11, in the selective erasing period Te of any of the subsequent subfields SF 2 to SF N , a negative offset pulse Pom is applied to the common electrode X j , and the scan electrode A negative scan pulse Ps is applied to Y j , and a positive selective erase pulse synchronized with this scan pulse Ps is applied to the column electrode D k . As a result, a selective erasure discharge is generated between the column electrode D k and the scan electrode Y j with the column electrode D k as an anode and the scan electrode Y j as a cathode. As a result, as shown in FIG. 16B, after the selective erasing period Te ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k. Is done. Because the common electrode X j of the negative polarity of the offset pulse Pom is applied, the wall closer to the common electrode X j positive ion particles are attracted, can exist stably.
前記選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性の調整パルスPxaが印加され、同時に、走査電極Yjに正極性の調整パルスPyaが印加される。これにより、陽極である共通電極Xjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起され、同時に、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起される。この結果、図16(B)に示されるように電荷調整期間Taの終了後は、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。したがって、放電セルCLは「黒」状態に設定される。このように選択消去期間Teの直後に共通電極Xjと列電極Dk間、並びに走査電極Yjと列電極Dk間にそれぞれ対向放電を起こすので、これら対向放電を安定して発生させることができる。 In the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, as shown in FIG. 11, a positive adjustment pulse Pxa is applied to the common electrode X j , and at the same time, a positive adjustment pulse Pya is applied to the scan electrode Y j. Is applied. As a result, a counter discharge is generated between the common electrode X j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode, and at the same time, a counter discharge is generated between the scanning electrode Y j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode. Discharge occurs. As a result, as shown in FIG. 16B, after the end of the charge adjustment period Ta, negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scan electrode Y j. In addition, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k . Accordingly, the discharge cell CL is set to the “black” state. As described above, since the counter discharge is generated between the common electrode X j and the column electrode D k and between the scan electrode Y j and the column electrode D k immediately after the selective erasing period Te, the counter discharge can be stably generated. Can do.
次に、図16(C)に示される第3のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trが終了した後、放電空間DS内にガス放電は生起されない。したがって、放電セルCLは、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trの終了後は、全てのサブフィールドSF1〜SFNの表示期間に亘って「黒」状態に設定され続ける。 Next, the third pattern shown in FIG. 16C will be described below. In this case, no gas discharge is generated in the discharge space DS after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends. Therefore, after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends, the discharge cell CL continues to be set to the “black” state over the display period of all the subfields SF 1 to SF N.
次に、図17(A)に示される第4のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性のオフセットパルスPopが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の書込パルスが列電極Dkに印加される。これにより、走査電極Yjと列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図17(A)に示されるように選択書込期間Twの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには正極性のオフセットパルスPopが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には負イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。したがって、放電セルCLは、電極Xj,Yjに近い壁面にそれぞれ互いに逆の電荷極性のイオン粒子が蓄積された壁電荷分布の「白」状態に設定される。 Next, the fourth pattern shown in FIG. 17A will be described below. In this case, the first subfield SF 1 selective write period Tw, as shown in FIG. 11, the offset pulse Pop having a positive polarity is applied to the common electrode X j, a negative polarity scan pulse to the scan electrodes Y j Ps is applied, and a positive writing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is applied to the column electrode Dk . As a result, a counter discharge is generated in the discharge space DS between the scan electrode Y j and the column electrode D k . As a result, as shown in FIG. 17A, after the end of the selective writing period Tw, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k. Accumulated. The common electrode X j for offset pulse Pop having a positive polarity is applied, the negative ion particles are attracted to the wall surface closer to the common electrode X j, it can exist stably. Therefore, the discharge cell CL is set to the “white” state of the wall charge distribution in which ion particles having opposite charge polarities are accumulated on the wall surfaces close to the electrodes X j and Y j .
その後、先頭サブフィールドSF1の発光期間T1には、図11に示されるように、列電極DkにGNDレベルの電圧が印加され、走査電極Yjに正極性の放電維持パルスP+が印加され、同時に共通電極XjにGNDレベルの電圧P-が印加される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図17(A)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 Thereafter, in the light emission period T 1 of the first subfield SF 1 , as shown in FIG. 11, a GND level voltage is applied to the column electrode D k , and a positive discharge sustaining pulse P + is applied to the scan electrode Y j. At the same time, a GND level voltage P − is applied to the common electrode X j . Thus, the row electrode pairs X j, sustain discharge in the discharge space DS between Y j is occurring, opposed discharge in the discharge space DS between the column electrode D k is a scanning electrode Y j and the cathode an anode Is born. As a result, as shown in FIG. 17A, after the light emission period T 1 ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. And positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk .
第4のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNの選択消去期間Teには、走査パルスPsに同期した選択消去パルスが列電極Dkに印加されないので、放電セルCL内の壁電荷分布はほとんど変化しない。また、選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積されているので、放電空間DS内でガス放電は生起されない。この電荷調整期間Taに続く発光期間Tp(pは2〜Nの整数)には、図11に示されるように、走査電極Yjおよび共通電極Xjに交互に放電維持パルスP+が印加される。このとき印加される放電維持パルスP+の個数は偶数個となるように調整される。これにより、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が繰り返し生起され、蛍光体層26を励起して可視光を放出させる。この結果、図17(A)に示されるように発光期間Tpの終了後には、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。
In the case of the fourth pattern, since the selective erasing pulse synchronized with the scanning pulse Ps is not applied to the column electrode Dk in the selective erasing period Te of the subsequent subfields SF 2 to SF N , the wall charge distribution in the discharge cell CL Hardly changes. Further, in the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk , so that no gas discharge is generated in the discharge space DS. In the light emission period T p (p is an integer of 2 to N) following the charge adjustment period Ta, as shown in FIG. 11, the discharge sustaining pulse P + is alternately applied to the scan electrode Y j and the common electrode X j. Is done. The number of sustaining pulses P + applied at this time is adjusted to be an even number. Thereby, a sustain discharge is repeatedly generated in the discharge space DS between the pair of row electrodes X j and Y j , and the
次に、図17(B)に示される第5のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twには、上記第4のパターンの場合と同様に列電極Dkと走査電極Yjとの間に放電空間DS内で書込放電が生起される。続けて、発光期間T1には、上記第4のパターンの場合と同様に、行電極対Xj,Yj間に放電空間DS内で維持放電が生起され、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。この結果、図17(B)に示されるように発光期間T1の終了後は、共通電極Xjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。 Next, the fifth pattern shown in FIG. 17B will be described below. In this case, in the selective writing period Tw of the first subfield SF 1 , the writing discharge is generated in the discharge space DS between the column electrode D k and the scanning electrode Y j as in the case of the fourth pattern. Is done. Subsequently, in the light emission period T 1 , as in the case of the fourth pattern, a sustain discharge is generated in the discharge space DS between the row electrode pair X j and Y j , and the scan electrode Y j that is an anode A counter discharge is generated in the discharge space DS between the column electrode Dk which is a cathode. As a result, as shown in FIG. 17B, after the light emission period T 1 ends, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. Then, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode Dk .
第5のパターンの場合、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teにおいて、図11に示されるように、共通電極Xjに負極性のオフセットパルスPomが印加され、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した正極性の選択消去パルスが列電極Dkに印加される。これにより、列電極Dkを陽極とし走査電極Yjを陰極として列電極Dkと走査電極Yjとの間に選択消去放電が生起される。この結果、図17(B)に示されるように選択消去期間Teの終了後は、走査電極Yjに近い壁面に正イオン粒子が蓄積され、列電極Dkに近い壁面に負イオン粒子が蓄積される。共通電極Xjには負極性のオフセットパルスPomが印加されるため、当該共通電極Xjに近い壁面には正イオン粒子が誘引され、安定して存在することができる。 In the case of the fifth pattern, a negative offset pulse Pom is applied to the common electrode X j in the selective erasing period Te of any of the subsequent subfields SF 2 to SF N , as shown in FIG. A negative scan pulse Ps is applied to Y j , and a positive selective erase pulse synchronized with this scan pulse Ps is applied to the column electrode D k . As a result, a selective erasure discharge is generated between the column electrode D k and the scan electrode Y j with the column electrode D k as an anode and the scan electrode Y j as a cathode. As a result, as shown in FIG. 17B, after the selective erasing period Te is completed, positive ion particles are accumulated on the wall surface near the scan electrode Y j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k. Is done. Because the common electrode X j of the negative polarity of the offset pulse Pom is applied, the wall closer to the common electrode X j positive ion particles are attracted, can exist stably.
前記選択消去期間Teに続く電荷調整期間Taには、図11に示されるように、共通電極Xjに正極性の調整パルスPxaが印加され、同時に、走査電極Yjに正極性の調整パルスPyaが印加される。これにより、陽極である共通電極Xjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起され、同時に、陽極である走査電極Yjと陰極である列電極Dkとの間に対向放電が生起される。この結果、図17(B)に示されるように電荷調整期間Taの終了後は、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子が蓄積され、且つ列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子が蓄積される。したがって、放電セルCLは「黒」状態に設定される。このように選択消去期間Teの直後に共通電極Xjと列電極Dk間、並びに走査電極Yjと列電極Dk間にそれぞれ対向放電を起こすので、これら対向放電を安定して発生させることができる。 In the charge adjustment period Ta following the selective erasing period Te, as shown in FIG. 11, a positive adjustment pulse Pxa is applied to the common electrode X j , and at the same time, a positive adjustment pulse Pya is applied to the scan electrode Y j. Is applied. As a result, a counter discharge is generated between the common electrode X j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode, and at the same time, a counter discharge is generated between the scanning electrode Y j serving as the anode and the column electrode D k serving as the cathode. Discharge occurs. As a result, as shown in FIG. 17B, after the end of the charge adjustment period Ta, negative ion particles are accumulated on the wall surface near the common electrode X j , and negative ion particles are accumulated on the wall surface near the scanning electrode Y j. In addition, positive ion particles are accumulated on the wall surface close to the column electrode D k . Accordingly, the discharge cell CL is set to the “black” state. As described above, since the counter discharge is generated between the common electrode X j and the column electrode D k and between the scan electrode Y j and the column electrode D k immediately after the selective erasing period Te, the counter discharge can be stably generated. Can do.
次に、図17(C)に示される第6のパターンについて以下に説明する。この場合、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trが終了した後、放電空間DS内にガス放電は生起されない。したがって、放電セルCLは、先頭サブフィールドSF1の初期調整期間Trの終了後は、全てのサブフィールドSF1〜SFNの表示期間に亘って「黒」状態に設定され続ける。 Next, the sixth pattern shown in FIG. 17C will be described below. In this case, no gas discharge is generated in the discharge space DS after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends. Therefore, after the initial adjustment period Tr of the first subfield SF 1 ends, the discharge cell CL continues to be set to the “black” state over the display period of all the subfields SF 1 to SF N.
上記の通り、第2実施例に係る階調制御法は、上記第1実施例の階調制御法と同様に、後続サブフィールドSF2〜SFNのいずれかの選択消去期間Teで走査電極Yjと列電極Dkとの間に選択消去放電を起こし、この直後の電荷調整期間Taで走査電極Yjと列電極Dk間並びに共通電極Xjと列電極Dk間にそれぞれ対向放電を起こすことにより、共通電極Xjに近い壁面と走査電極Yjに近い壁面とに同一極性のイオン粒子が蓄積された壁電荷分布を持つ非発光状態の放電セルCLを得ることが可能である。それら対向放電は安定して生起されるので、最適な壁電荷分布を安定的に実現し得る。たとえば、図16(B)および図17(B)に示されるように、後続サブフィールドSF2〜SFNの電荷調整期間Taの終了後に、走査電極Yjに近い壁面に負イオン粒子を、共通電極Xjに近い壁面に負イオン粒子を、列電極Dkに近い壁面に正イオン粒子をそれぞれ蓄積した非発光状態の放電セルCLが得られる。 As described above, the gradation control method according to the second embodiment is similar to the gradation control method according to the first embodiment in the scanning electrode Y during the selective erasing period Te in one of the subsequent subfields SF 2 to SF N. A selective erasure discharge is generated between j and the column electrode D k, and a counter discharge is generated between the scan electrode Y j and the column electrode D k and between the common electrode X j and the column electrode D k in the charge adjustment period Ta immediately after this. By waking up, it is possible to obtain a non-light emitting discharge cell CL having a wall charge distribution in which ion particles of the same polarity are accumulated on the wall surface close to the common electrode X j and the wall surface close to the scanning electrode Y j . Since these counter discharges are stably generated, an optimal wall charge distribution can be stably realized. For example, as shown in FIGS. 16B and 17B, after the charge adjustment period Ta of the subsequent subfields SF 2 to SF N ends, negative ion particles are commonly used on the wall surface near the scan electrode Y j. A non-light emitting discharge cell CL is obtained in which negative ion particles are accumulated on the wall surface near the electrode X j and positive ion particles are accumulated on the wall surface near the column electrode D k .
このような壁電荷分布を実現することにより、第2実施例に係る階調制御法は、暗所コントラストを向上させつつ、予期せぬ誤放電の発生を抑制して画質を向上させることが可能である。また、図15に示されるように、最終サブフィールドSFNは第1実施例に係る消去期間Tbを持たないため、表示輝度L(g)に寄与しない背景発光輝度が抑制され、暗所コントラストの向上が可能となる。 By realizing such a wall charge distribution, the gradation control method according to the second embodiment can improve the image quality by suppressing the occurrence of unexpected false discharge while improving the contrast in the dark place. It is. Further, as shown in FIG. 15, since the final subfield SF N does not have the erasing period Tb according to the first embodiment, the background light emission luminance that does not contribute to the display luminance L (g) is suppressed, and the dark place contrast is reduced. Improvement is possible.
<第3実施例>
次に、本発明の第3実施例について説明する。図18は、第3実施例に係る駆動シーケンスの例を概略的に示す図である。図18の駆動シーケンスは、図10に示した第N番目サブフィールドSFNの消去期間Tbを持たないが、第(N+1)番目サブフィールドSFN+1を有する点を除いて、図10の駆動シーケンスと同じである。第(N+1)番目サブフィールドSFN+1は選択消去期間Teのみを有する。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 18 is a diagram schematically illustrating an example of a drive sequence according to the third embodiment. The drive sequence of FIG. 18 does not have the erase period Tb of the Nth subfield SF N shown in FIG. 10, but has the (N + 1) th subfield SF N + 1 except that it has the erase period Tb. Same as sequence. The (N + 1) th subfield SF N + 1 has only the selective erasing period Te.
サブフィールドSFN+1の選択消去期間Teにおいては、サブフィールドSF2の選択消去期間Te(図11)と同様に、くさび状の調整パルスPxcが共通電極X1〜Xnに印加され、同時にくさび状の調整パルスPyc,…,Pycがそれぞれ走査電極Y1,…,Ynに印加される。続いて、走査電極Y1,…,Ynに負極性の走査パルスPsが順次印加され、正極性の選択消去パルス群De1,…,Denの各々が各走査パルスPsに同期して列電極D1,…,Dmに印加される。これにより、表示パネル2において発光可能状態にある放電セルCLの全てが非発光状態に設定される。
In the selective erasing period Te of the subfield SF N + 1 , as in the selective erasing period Te (FIG. 11) of the subfield SF 2 , a wedge-shaped adjustment pulse Pxc is applied to the common electrodes X 1 to X n and simultaneously. wedge-shaped adjustment pulse Pyc, ..., the scan electrodes Y 1 Pyc respectively, ..., is applied to the Y n. Subsequently, scan electrodes Y 1, ..., the scanning pulse Ps having a negative polarity is sequentially applied to the Y n, the selective erase pulse group De 1 of positive polarity, ..., each of De n columns in synchronism with the scanning pulse Ps Applied to the electrodes D 1 ,..., D m . As a result, all the discharge cells CL in the
図19に、図18の駆動シーケンスを採用した場合に実現され得る放電セルCLの発光パターンを例示する。図19は、映像信号の各フィールドを13個のサブフィールドSF1〜SF13に分解した場合の映像信号の階調レベルとこれに対応する発光パターンとの関係を示すものである。また、図19には、階調レベルとこれに対応する階調調整信号VSbの値との関係、並びに、階調調整信号VSbの値と駆動データ信号DDの値との関係(変換テーブル)が示されている。図19において、記号「◎」は、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで選択的に書込放電が発生し、且つ発光期間T1で維持放電が発生することを意味する。また、記号「○」は、サブフィールドSF2〜SF12の発光期間T2〜T12のいずれかで維持放電が発生することを意味し、記号「●」は、サブフィールドSF2〜SF13の選択消去期間Teのいずれかで選択消去放電が発生することを意味する。 FIG. 19 illustrates a light emission pattern of the discharge cell CL that can be realized when the drive sequence of FIG. 18 is adopted. FIG. 19 shows the relationship between the gradation level of the video signal and the corresponding light emission pattern when each field of the video signal is decomposed into 13 subfields SF 1 to SF 13 . FIG. 19 shows the relationship between the gradation level and the value of the gradation adjustment signal VSb corresponding to the gradation level, and the relationship (conversion table) between the value of the gradation adjustment signal VSb and the value of the drive data signal DD. It is shown. In FIG. 19, the symbol “◎” means that a write discharge is selectively generated in the selective write period Tw of the first subfield SF 1 and a sustain discharge is generated in the light emission period T 1 . The symbol “◯” means that a sustain discharge occurs in any one of the light emission periods T 2 to T 12 of the subfields SF 2 to SF 12 , and the symbol “●” denotes the subfields SF 2 to SF 13. This means that selective erasure discharge occurs in any of the selective erasure periods Te.
第3実施例に係るプラズマディスプレイ装置1も、上記の第1実施例と同様に、暗所コントラストを向上させつつ、予期せぬ誤放電の発生を抑制して画質を向上させることが可能である。
Similarly to the first embodiment, the
<第2変形例>
次に、上記第1〜第3実施例の第2変形例について説明する。図20(A)は、サブフィールドSFk(kは2以上の整数)の選択消去期間Teにおいて選択消去放電が正常に発生した場合の壁電荷分布を示す図であり、図20(B)は、サブフィールドSFkの選択消去期間Teにおいて選択消去放電が正常に発生しなかった場合の壁電荷分布を示す図である。
<Second Modification>
Next, a second modification of the first to third embodiments will be described. FIG. 20A is a diagram showing a wall charge distribution when the selective erasure discharge is normally generated in the selective erasure period Te of the subfield SF k (k is an integer of 2 or more), and FIG. a diagram illustrating the distribution of wall charges when the selective erasure discharge in the selective erase period Te of subfield SF k did not occur normally.
図20(A)に示されるように、サブフィールドSFkの選択消去期間Teでは、走査電極Yjに負極性の走査パルスPsが印加され、この走査パルスPsに同期した選択消去パルス群Dejの正極性パルスが列電極Dkに印加される。これにより、走査電極Yjと列電極Dkとの間に放電空間DS内で対向放電が生起される。続く電荷調整期間Taには、正極性の調整パルスPxa,Pyaがそれぞれ電極Xj,Yjに印加される。これにより、共通電極Xjと列電極Dk間に対向放電が生起され、同時に走査電極Yjと列電極Dk間に対向放電が生起されて、放電セルCLは非発光状態に設定される。よって、その後の発光期間Tkには、放電セルCLに維持放電は生起されず、可視光は放出されない。 As shown in FIG. 20A, in the selective erasing period Te of the subfield SF k , a negative scanning pulse Ps is applied to the scanning electrode Y j , and a selective erasing pulse group De j synchronized with the scanning pulse Ps. Are applied to the column electrode Dk . As a result, a counter discharge is generated in the discharge space DS between the scan electrode Y j and the column electrode D k . In the subsequent charge adjustment period Ta, positive adjustment pulses Pxa and Pya are applied to the electrodes X j and Y j , respectively. As a result, a counter discharge is generated between the common electrode X j and the column electrode D k , and at the same time, a counter discharge is generated between the scan electrode Y j and the column electrode D k , and the discharge cell CL is set to a non-light emitting state. . Therefore, in the subsequent light emission period T k , no sustain discharge occurs in the discharge cell CL, and no visible light is emitted.
しかしながら、図20(B)に示されるように、サブフィールドSFkの選択消去期間Teで選択消去放電が正常に発生しなかった場合は、電荷調整期間Taが終了しても放電セルCLは発光可能状態に設定されている可能性がある。かかる場合、発光期間Tk,Tk+1,Tk+2,…において、放電セルCLに維持放電すなわち誤放電が発生して画質を劣化させる。 However, as shown in FIG. 20 (B), sub-field when the selective erasure discharge in SF k selective erase period Te has not occurred normally, charge adjusting period Ta even discharge cell CL light emission ends It may be set to possible state. In such a case, in the light emission periods T k , T k + 1 , T k + 2 ,..., A sustain discharge, that is, an erroneous discharge occurs in the discharge cell CL, thereby degrading the image quality.
このような誤放電の発生を確実に抑制するために、プラズマディスプレイ装置1は、サブフィールドSFkの選択消去期間Teで選択消去放電を起こすべき放電セルCLにおいて、後続サブフィールドSFk+1の選択消去期間Teに選択消去放電を発生させることができる。図21に示されるように、サブフィールドSFkの選択消去期間Teで選択消去放電が正常に生起されなかった場合でも、後続のサブフィールドSFk+1の選択消去期間Teで走査電極Yjと列電極Dkとの間に選択消去放電を発生させれば、発光期間Tk+1,…における誤放電の発生を防止することができる。
To reliably suppress the occurrence of such an erroneous discharge, a
図22に、第2変形例に係る放電セルCLの発光パターンを例示する。図22は、映像信号の各フィールドを12個のサブフィールドSF1〜SF12に分解した場合の映像信号の階調レベルとこれに対応する発光パターンとの関係を示すものである。図22において、記号「◎」は、先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twで選択的に書込放電が発生し、且つ発光期間T1で維持放電が発生することを意味する。記号「○」は、サブフィールドSF2〜SF12の発光期間T2〜T11のいずれかで維持放電が発生することを意味する。また、図22に示される記号「●」は、サブフィールドSF2〜SF12の選択消去期間Teのいずれかで選択消去放電が発生することを示す。そして、記号「△」は、サブフィールドSF4〜SF12の選択消去期間Teのいずれかで選択消去放電が発生してもよいし、あるいは発生しなくてもよいことを示す。 FIG. 22 illustrates a light emission pattern of the discharge cell CL according to the second modification. FIG. 22 shows the relationship between the gradation level of the video signal and the corresponding emission pattern when each field of the video signal is decomposed into 12 subfields SF 1 to SF 12 . In FIG. 22, the symbol “◎” means that the write discharge is selectively generated in the selective write period Tw of the first subfield SF 1 and the sustain discharge is generated in the light emission period T 1 . The symbol “◯” means that the sustain discharge is generated in any one of the light emission periods T 2 to T 11 of the subfields SF 2 to SF 12 . Further, the symbol “●” shown in FIG. 22 indicates that the selective erasure discharge is generated in any of the selective erasure periods Te of the subfields SF 2 to SF 12 . The symbol “Δ” indicates that the selective erasing discharge may or may not occur in any of the selective erasing periods Te of the subfields SF 4 to SF 12 .
図22に示されるように、プラズマディスプレイ装置1の駆動制御部11は、或る表示セルCLに階調レベル「1」〜「10」のいずれかの輝度を表示させるとき、当該表示セルCLにおいて連続配置された2つのサブフィールドSFk,SFk+1(kは2〜11の整数)の選択消去期間Te,Teでそれぞれ選択消去放電を発生させるように駆動回路15,16A,16Bを制御する。これにより、サブフィールドSFkの選択消去期間Teで選択消去放電が正常に生起されなかった場合でも、駆動制御部11は、後続のサブフィールドSFk+1の選択消去期間Teで選択消去放電を発生させて誤放電を防止できる。さらに確実に誤放電を防止するために、駆動制御部11は、図22の階調レベル「1」〜「9」に対応する発光パターンに示されるように、サブフィールドSFk+1に続くサブフィールドSFk+2,…の少なくとも一つの選択消去期間Teで選択消去放電を発生させてもよい。
As shown in FIG. 22, when the
<第3変形例>
次に、上記第1〜第3実施例の第3変形例について説明する。図23は、第3変形例を説明するための図である。図23を参照すると、時間的に連続する複数のフィールドF1,F2,…,FPの表示期間に亘って放電セルCLが黒レベルの輝度表示をなす場合、当該放電セルCLでガス放電がほとんど発生しないため、他の放電セルCLと比べて、プライミング粒子の量が著しく低減する。このようにプライミング粒子の量が低減した放電セルCLがフィールドFP+1の表示期間に発光レベル(黒レベル以外の階調レベル)の輝度表示をなすとき、他の放電セルCLと比べて放電遅れが発生し得るという問題がある。
<Third Modification>
Next, a third modification of the first to third embodiments will be described. FIG. 23 is a diagram for explaining a third modification. Referring to FIG. 23, a plurality of fields F 1, F 2 temporally consecutive, ..., when the discharge cell CL over the display period F P forms a luminance display of a black level, a gas discharge in the discharge cells CL Therefore, the amount of priming particles is remarkably reduced as compared with other discharge cells CL. Thus, when the discharge cell CL in which the amount of priming particles is reduced performs luminance display of a light emission level (gradation level other than the black level) in the display period of the field FP + 1 , the discharge cell CL is discharged as compared with other discharge cells CL. There is a problem that a delay may occur.
かかる問題を解決するために、図2に示されるプラズマディスプレイ装置1は、時間的に連続する所定数のフィールドに亘って黒レベルの輝度表示がなされるべき非発光セルCLを検出するセル検出部10Bを有している。
In order to solve such a problem, the
駆動制御部11は、セル検出部10Bによる検出結果に応じて、時間的に連続する複数のフィールドF1,F2,…,FPのうちの最終フィールドFPの先頭サブフィールドSF1の選択書込期間Twにおいて、非発光セルCLで書込放電を生起させて非発光セルCLを発光可能状態に設定する。よって、選択書込期間Twに続く発光期間T1では、共通電極Xjと走査電極Yjとの間で維持放電が発生する。その後、駆動制御部11は、後続サブフィールドSF2の選択消去期間Teにおいて、当該非発光セルCLで選択消去放電を生起させて当該非発光セルCLを非発光状態に設定する。
Drive
前述の如く、非発光セルCLで放電を生起させることでプライミング粒子の量が補充され、図23に示されるフィールドFP+1の表示期間において放電遅れを改善することが可能となる。 As described above, by causing discharge in the non-light emitting cell CL, the amount of priming particles is supplemented, and it becomes possible to improve the discharge delay in the display period of the field FP + 1 shown in FIG.
1 プラズマディスプレイ装置
2 表示パネル
10 コントローラ
10A 重み割り当て部
10B セル検出部
11 駆動制御部
12 階調調整部
13 駆動データ生成部
14 メモリ回路
15 列電極駆動部
16A 第1行電極駆動部
16B 第2行電極駆動部
DESCRIPTION OF
Claims (23)
(a) 入力映像信号の各フィールドを複数のサブフィールドに分解するステップと、
(b) 前記サブフィールドにそれぞれ輝度の重みを割り当てるステップと、
(c) 前記各サブフィールドの表示期間を少なくともアドレス期間および発光期間を含む複数期間に分割し、前記複数期間の各々で前記表示パネルに前記複数のサブフィールドを順次表示させるステップと、を有し、
前記ステップ(c)は、
(c−1) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドのアドレス期間には、前記複数の行電極対の走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した書込パルスを前記列電極に印加して前記放電セルに選択的に書込放電を起こすことにより、前記放電セルのうち黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルを除く初期選択セルでのみ前記走査電極と前記列電極間に前記書込放電を起こして前記初期選択セルを発光可能状態に設定するステップと、
(c−2) 前記先頭サブフィールドのアドレス期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に放電維持パルスを前記先頭サブフィールドに割り当てられた奇数回だけ印加することにより、前記初期選択セルでのみ前記行電極対の走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させるステップと、
(c−3) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドを除く各後続サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した選択消去パルスを前記列電極に選択的に印加して前記初期選択セルに選択的に消去放電を起こすことにより、前記初期選択セルを選択的に非発光状態に設定するステップと、
(c−4) 前記各後続サブフィールドのアドレス期間の直後に設定された電荷調整期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極にそれぞれ調整パルスを同時に印加するステップと、
(c−5) 前記各後続サブフィールドの電荷調整期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に交互に放電維持パルスを前記各後続サブフィールドに割り当てられた回数だけ印加することにより、前記発光可能状態の放電セルでのみ前記走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させるステップと、
を含むことを特徴とする駆動方法。 A front substrate, a rear substrate having a facing surface spaced apart from one surface of the front substrate, a plurality of row electrode pairs formed on one surface of the front substrate, and formed on the facing surface of the rear substrate; A plurality of column electrodes; and a plurality of discharge cells respectively formed in intersection regions of the plurality of row electrode pairs and the plurality of column electrodes between the front substrate and the back substrate; A display panel in which a discharge gas is sealed and a phosphor layer is provided,
(A) decomposing each field of the input video signal into a plurality of subfields;
(B) assigning a luminance weight to each of the subfields;
(C) dividing the display period of each subfield into a plurality of periods including at least an address period and a light emission period, and sequentially displaying the plurality of subfields on the display panel in each of the plurality of periods. ,
The step (c)
(C-1) In the address period of the first subfield among the subfields, a scan pulse is sequentially applied to the scan electrodes of the plurality of row electrode pairs, and a write pulse synchronized with each scan pulse is applied to the column. The scan electrode and the column electrode are applied only to the initial selected cells except for the discharge cells to be displayed with black level luminance among the discharge cells by selectively applying an address discharge to the discharge cells. Causing the write discharge in between to set the initially selected cell in a light-emission enabled state;
(C-2) In the light emission period after the address period of the first subfield, a discharge sustain pulse is applied to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair only an odd number of times assigned to the first subfield, Causing the phosphor layer to emit light by causing a sustain discharge between the scan electrode and the common electrode of the row electrode pair only in the initial selection cell;
(C-3) In the address period of each subsequent subfield excluding the first subfield among the subfields, a scan pulse is sequentially applied to the scan electrode and a selective erase pulse synchronized with the scan pulse is applied to the column. Selectively setting the initial selected cell to a non-light-emitting state by selectively applying an electrode and causing an erasing discharge selectively in the initial selected cell;
(C-4) simultaneously applying adjustment pulses to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair in the charge adjustment period set immediately after the address period of each subsequent subfield;
(C-5) In the light emission period after the charge adjustment period of each subsequent subfield, a discharge sustain pulse is alternately applied to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair for the number of times assigned to each subsequent subfield. And causing the phosphor layer to emit light by causing a sustain discharge between the scan electrode and the common electrode only in the discharge cells in the light emission enabled state,
A driving method comprising:
前記先頭サブフィールドの発光期間には、前記放電維持パルスのうちの最終パルスとして正極性の電圧パルスが前記走査電極に印加されると同時に前記最終パルスの電圧よりも低い電圧が前記各列電極に印加され、
前記電荷調整期間には、前記調整パルスとして正極性の電圧パルスが前記各行電極対に印加されると同時に前記調整パルスの電圧よりも低い電圧が前記各列電極に印加される、
ことを特徴とする駆動方法。 The driving method according to claim 1, comprising:
During the light emission period of the first subfield, a positive voltage pulse is applied to the scan electrode as the final pulse of the sustaining pulses, and at the same time, a voltage lower than the voltage of the final pulse is applied to each column electrode. Applied,
In the charge adjustment period, a positive voltage pulse is applied to each row electrode pair as the adjustment pulse, and at the same time, a voltage lower than the voltage of the adjustment pulse is applied to each column electrode.
A driving method characterized by that.
前記ステップ(c)は、
前記先頭サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に前記走査パルスを印加すると同時に前記共通電極には前記走査パルスの電圧極性とは逆極性のオフセットパルスを印加するステップと、
前記各後続サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に前記走査パルスを印加すると同時に前記共通電極には前記走査パルスの電圧極性と同一極性のオフセットパルスを印加するステップと、
を含むことを特徴とする駆動方法。 The driving method according to any one of claims 1 to 4, wherein:
The step (c)
In the address period of the first subfield, applying the scan pulse to the scan electrode and simultaneously applying an offset pulse having a polarity opposite to the voltage polarity of the scan pulse to the common electrode;
In the address period of each subsequent subfield, applying the scan pulse to the scan electrode and simultaneously applying an offset pulse having the same polarity as the voltage polarity of the scan pulse to the common electrode;
A driving method comprising:
(d) 前記入力映像信号に基づいて、前記放電セルの中から、時間的に連続する所定数のフィールドに亘って黒レベルの輝度表示がなされるべき非発光セルを検出するステップ、をさらに有し、
前記ステップ(c)は、前記ステップ(d)による当該検出結果に応じて、前記時間的に連続する所定数のフィールドの中の最終フィールドに属するサブフィールドのうちの先頭サブフィールドのアドレス期間に前記非発光セルで前記書込放電を起こし、且つ前記先頭サブフィールドに続く後続サブフィールドのアドレス期間に前記非発光セルで前記消去放電を起こすステップをさらに含むことを特徴とする駆動方法。 The driving method according to any one of claims 1 to 10, wherein:
(D) detecting a non-light-emitting cell that should display a black level luminance over a predetermined number of temporally continuous fields based on the input video signal. And
The step (c) is performed in the address period of the first subfield among the subfields belonging to the last field among the predetermined number of fields that are temporally continuous according to the detection result of the step (d). The driving method further comprising: causing the write discharge in a non-light emitting cell and causing the erasing discharge in the non-light emitting cell in an address period of a subsequent subfield subsequent to the leading subfield.
入力映像信号の各フィールドを複数のサブフィールドに分解する信号処理部と、
前記サブフィールドにそれぞれ輝度の重みを割り当てる重み割り当て部と、
前記表示パネルを駆動するパネル駆動部と、
前記各サブフィールドの表示期間を少なくともアドレス期間および発光期間を含む複数期間に分割し、前記複数期間の各々で前記パネル駆動部を制御して前記表示パネルに前記複数のサブフィールドを順次表示させる駆動制御部と、を備え、
前記パネル駆動部は、
(a) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドのアドレス期間には、前記行電極対の走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した書込パルスを前記列電極に印加して前記放電セルに選択的に書込放電を起こすことにより、前記放電セルのうち黒レベルの輝度表示がなされるべき放電セルを除く初期選択セルでのみ前記走査電極と前記列電極間に前記書込放電を起こして前記初期選択セルを発光可能状態に設定する書込動作と、
(b) 前記先頭サブフィールドのアドレス期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に放電維持パルスを前記先頭サブフィールドに割り当てられた奇数回だけ印加することにより、前記初期選択セルでのみ前記行電極対の走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させる発光動作と、
(c) 前記サブフィールドのうちの先頭サブフィールドを除く各後続サブフィールドのアドレス期間には、前記走査電極に走査パルスを順次印加するとともに前記各走査パルスに同期した選択消去パルスを前記列電極に選択的に印加して前記初期選択セルに選択的に消去放電を起こすことにより、前記初期選択セルを選択的に非発光状態に設定する消去動作と、
(d) 前記各後続サブフィールドのアドレス期間の直後に設定された電荷調整期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極にそれぞれ調整パルスを同時に印加する電荷調整動作と、
(e) 前記各後続サブフィールドの電荷調整期間後の発光期間には、前記各行電極対の走査電極および共通電極に交互に放電維持パルスを前記各後続サブフィールドに割り当てられた回数だけ印加することにより、前記発光可能状態の放電セルでのみ前記走査電極および共通電極間に維持放電を起こして前記蛍光体層を発光させる発光動作と、
を実行することを特徴とするプラズマディスプレイ装置。 A front substrate, a rear substrate having a facing surface spaced apart from one surface of the front substrate, a plurality of row electrode pairs formed on one surface of the front substrate, and formed on the facing surface of the rear substrate; A plurality of column electrodes; and a plurality of discharge cells respectively formed in intersection regions of the plurality of row electrode pairs and the plurality of column electrodes between the front substrate and the back substrate; A plasma display device including a display panel in which a discharge gas is sealed and a phosphor layer is provided,
A signal processing unit that decomposes each field of the input video signal into a plurality of subfields;
A weight assignment unit for assigning luminance weights to the subfields;
A panel driver for driving the display panel;
Driving in which the display period of each subfield is divided into a plurality of periods including at least an address period and a light emission period, and the panel driving unit is controlled in each of the plurality of periods to sequentially display the plurality of subfields on the display panel. A control unit,
The panel drive unit is
(A) In the address period of the first subfield of the subfields, a scan pulse is sequentially applied to the scan electrodes of the row electrode pair, and a write pulse synchronized with each scan pulse is applied to the column electrodes. By selectively generating a write discharge in the discharge cells, only the initial selected cells except for the discharge cells that should display a black level of luminance among the discharge cells, the write electrodes are arranged between the scan electrodes and the column electrodes. A write operation for causing a discharge and setting the initially selected cell in a light-emission enabled state;
(B) In the light emission period after the address period of the first subfield, the discharge sustain pulse is applied to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair only an odd number of times assigned to the first subfield, thereby A light emitting operation for causing the phosphor layer to emit light by causing a sustain discharge between the scan electrode and the common electrode of the row electrode pair only in the selected cell;
(C) In the address period of each subsequent subfield excluding the first subfield among the subfields, a scan pulse is sequentially applied to the scan electrode and a selective erase pulse synchronized with the scan pulse is applied to the column electrode. An erasing operation for selectively setting the initial selected cell to a non-light-emitting state by selectively applying and selectively causing an erasing discharge in the initial selected cell;
(D) In a charge adjustment period set immediately after the address period of each subsequent subfield, a charge adjustment operation in which adjustment pulses are simultaneously applied to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair;
(E) In the light emission period after the charge adjustment period of each subsequent subfield, a discharge sustain pulse is alternately applied to the scan electrode and the common electrode of each row electrode pair for the number of times assigned to each subsequent subfield. A light emission operation for causing the phosphor layer to emit light by causing a sustain discharge between the scan electrode and the common electrode only in the discharge cell in the light emission enabled state;
The plasma display apparatus characterized by performing.
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---|---|---|---|
JP2006306703A JP2008122684A (en) | 2006-11-13 | 2006-11-13 | Plasma display device and driving method of display panel |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013035216A1 (en) * | 2011-09-05 | 2013-03-14 | パナソニック株式会社 | Plasma display device and method for driving plasma display panel |
-
2006
- 2006-11-13 JP JP2006306703A patent/JP2008122684A/en not_active Withdrawn
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