JP2008111881A - Optical device, optical scanner, and image forming apparatus - Google Patents

Optical device, optical scanner, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compact optical device in which a movable plate is turnable around an X-axis and a Y-axis orthogonal to the X-axis, and to provide an optical scanner and an image forming apparatus. <P>SOLUTION: The optical device 1 of the present invention has: a movable plate 21 provided with a light refection part 211; a supporting part 22; a pair of connecting parts 23 and 24; a first driving means 5 which turns the movable plate 21 around the X-axis; a second driving means 6 which turns the movable plate 21 around the Y-axis, wherein the second movable means 6 is provided with piezoelectric elements 61 to 68 which turn the supporting part 22 together with the movable plate 21 around the Y-axis, and each of piezoelectric elements 61 to 68 is disposed at a position separated from the Y-axis so as to be elongated and contracted in the thickness direction of the movable plate 21. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学デバイス、光スキャナおよび画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to an optical device, an optical scanner, and an image forming apparatus.

例えば、プロジェクタなどの画像形成装置において、光を2次元的に走査することにより描画を行うための光スキャナとして、光反射部をX軸まわりに回動させる手段と、X軸に直交するY軸まわりに回動させる手段とを備えた光スキャナが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1には、光をX軸まわりに回動させるガルバノ偏向器と、それに支持され、光をY軸まわりに回動させる共振型MEMS偏向器とを備えた光スキャナが開示されている。このような光スキャナは、共振型MEMS偏向器が備える反射面をY軸まわりに回動させつつ、ガルバノ偏向器により共振型MEMS偏向器自体をX軸まわりに揺動(回転)させることで、反射面で反射した光を2次元的に走査するように構成されている。
しかし、このような光スキャナでは、ガルバノ偏向器を用いて共振型MEMS偏向器自体をX軸まわりに揺動させるように構成されているため、装置全体の大型化を招き、小型化を図ることが難しいという問題がある
特開2005−156976号公報
For example, in an image forming apparatus such as a projector, as an optical scanner for performing drawing by scanning light two-dimensionally, means for rotating a light reflecting portion around the X axis, and a Y axis orthogonal to the X axis An optical scanner provided with means for rotating around is known (for example, see Patent Document 1).
Patent Document 1 discloses an optical scanner including a galvano deflector that rotates light around the X axis and a resonance-type MEMS deflector that is supported by the galvano deflector and rotates light around the Y axis. In such an optical scanner, the resonant MEMS deflector itself is swung (rotated) around the X axis by rotating the reflecting surface of the resonant MEMS deflector around the Y axis by the galvano deflector. The light reflected by the reflecting surface is scanned two-dimensionally.
However, such an optical scanner is configured so that the resonant MEMS deflector itself is swung around the X-axis using a galvano deflector, which leads to an increase in the size of the entire apparatus and a reduction in size. There is a problem that is difficult
JP 2005-156976 A

本発明の目的は、小型化を図りつつ、可動板をX軸およびX軸に直交するY軸のそれぞれの軸まわりに回動させることのできる光学デバイス、光スキャナおよび画像形成装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical device, an optical scanner, and an image forming apparatus capable of rotating a movable plate around respective axes of an X axis and a Y axis orthogonal to the X axis while reducing the size. It is in.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の光学デバイスは、光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光学デバイスであって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする。
これにより、小型化を図りつつ、光を2次元的に走査することのできる光学デバイスを提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The optical device of the present invention includes a movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity,
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An optical device configured to two-dimensionally scan the light reflected by the light reflecting portion by operating each of the first driving means and the second driving means,
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate It is configured to rotate around the Y axis.
Accordingly, it is possible to provide an optical device that can scan light two-dimensionally while reducing the size.

本発明の光学デバイスでは、前記圧電素子は、前記Y軸を介して互いに対向するように少なくとも1対設けられていることが好ましい。
これにより、前記支持基板を前記Y軸まわりに大きく回動させることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記圧電素子は、前記X軸を介して互いに対向するように少なくとも1対設けられていることが好ましい。
これにより、前記Y軸を一定に保ちつつ前記支持部を前記Y軸まわりに回動させることができる。
In the optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to face each other via the Y axis.
Thereby, the support substrate can be largely rotated around the Y axis.
In the optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to face each other via the X axis.
Thereby, the support portion can be rotated around the Y axis while keeping the Y axis constant.

本発明の光学デバイスでは、前記支持部は、板状をなし、
前記圧電素子は、前記支持部の厚さ方向で、前記支持部を狭持するように少なくとも1対設けられていることが好ましい。
これにより、前記支持部を狭持する1対の圧電素子のうちの一方の圧電素子を収縮状態とし、他方の圧電素子を伸張状態とすることで、大きい駆動力を発揮することができるため、応答性を向上させることができる。
In the optical device of the present invention, the support portion has a plate shape,
It is preferable that at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to sandwich the support portion in the thickness direction of the support portion.
Thereby, since one piezoelectric element of the pair of piezoelectric elements sandwiching the support portion is in a contracted state and the other piezoelectric element is in an expanded state, a large driving force can be exhibited. Responsiveness can be improved.

本発明の光学デバイスでは、前記圧電素子と前記支持部とは、点接触、または、前記Y軸方向へ延在するように線接触していることが好ましい。
これにより、前記圧電素子を伸縮させて前記支持部をY軸まわりに回動させる際に、前記支持部の前記圧電素子との接触部付近が撓んでしまうことを防止することができる。その結果、前記支持部を円滑に前記Y軸まわりに回動させることができる。
In the optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the piezoelectric element and the support portion are in point contact or line contact so as to extend in the Y-axis direction.
Accordingly, when the piezoelectric element is expanded and contracted and the support portion is rotated about the Y axis, the vicinity of the contact portion of the support portion with the piezoelectric element can be prevented from being bent. As a result, the support portion can be smoothly rotated around the Y axis.

本発明の光学デバイスでは、前記支持部を狭持する前記1対の圧電素子のそれぞれの伸縮方向での前記支持部とは反対側の端部同士の離間距離を一定に保つための固定部材を有することが好ましい。
これにより、前記支持部をその厚さ方向で狭持する前記1対の圧電素子の駆動力を効率的に前記支持部へ伝達することができる。
In the optical device according to the aspect of the invention, a fixing member for maintaining a constant separation distance between the opposite ends of the pair of piezoelectric elements that sandwich the support portion in the expansion / contraction direction of the support portion. It is preferable to have.
Accordingly, the driving force of the pair of piezoelectric elements that sandwich the support portion in the thickness direction can be efficiently transmitted to the support portion.

本発明の光学デバイスでは、前記固定部材は、前記支持部を狭持する前記1対の圧電素子を該圧電素子の伸縮方向で狭持するとともに、前記可動板、前記支持部および前記1対の連結部を収容し、前記光反射部での光走査を許容するための光透過部を備えるケーシングであることが好ましい。
これにより、前記光反射部などへの浮遊物の付着などを防止することができ、長時間にわたり、優れた光走査特性を維持することができる。
In the optical device of the present invention, the fixing member holds the pair of piezoelectric elements holding the support portion in the expansion / contraction direction of the piezoelectric element, and the movable plate, the support portion, and the pair of pairs. It is preferable that the casing includes a coupling portion and includes a light transmission portion for allowing light scanning at the light reflecting portion.
As a result, it is possible to prevent the floating matter from adhering to the light reflecting portion and the like, and it is possible to maintain excellent optical scanning characteristics over a long period of time.

本発明の光学デバイスでは、前記圧電素子は、複数の圧電体層と複数の電極層とを交互に積層してなるものであることが好ましい。
これにより、駆動電圧を低減しつつ、前記圧電素子の変位量を大きくすることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記第1の駆動手段は、圧電素子を駆動源として前記可動板を前記X軸まわりに回動させるように構成されていることが好ましい。
これにより、前記可動板を前記X軸まわりに高速で回動させることができる。
In the optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the piezoelectric element is formed by alternately laminating a plurality of piezoelectric layers and a plurality of electrode layers.
Thereby, the amount of displacement of the piezoelectric element can be increased while reducing the driving voltage.
In the optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that the first driving unit is configured to rotate the movable plate around the X axis using a piezoelectric element as a driving source.
Thereby, the movable plate can be rotated around the X axis at high speed.

本発明の光スキャナは、光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光スキャナであって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする。
これにより、小型化を図りつつ、光を2次元的に走査することのできる光スキャナを提供することができる。
The optical scanner of the present invention includes a movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity,
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An optical scanner configured to two-dimensionally scan the light reflected by the light reflecting section by operating each of the first driving unit and the second driving unit,
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate It is configured to rotate around the Y axis.
Thereby, it is possible to provide an optical scanner capable of two-dimensionally scanning light while achieving downsizing.

本発明の画像形成装置は、光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光スキャナを備える画像形成装置であって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする。
これにより、小型化を図りつつ、すぐれた描画特性を発揮することができる画像形成装置を提供することができる。
An image forming apparatus of the present invention includes a movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity,
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An image forming apparatus including an optical scanner configured to two-dimensionally scan light reflected by the light reflecting section by operating each of the first driving unit and the second driving unit. And
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate It is configured to rotate around the Y axis.
Accordingly, it is possible to provide an image forming apparatus that can exhibit excellent drawing characteristics while achieving downsizing.

以下、本発明の光学デバイス、光スキャナおよび画像形成装置の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の光学デバイスの第1実施形態を説明する。
図1は、本発明の光学デバイスの第1実施形態を示す斜視図、図2は、図1中のA−A線断面図、図3は、図1中のB−B線断面図、図4は、図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図、図5は、図1に示す光学デバイスの駆動を説明するための図、図6は、圧電素子の部分断面斜視図、図7は、図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図、図8は、図1に示す光学デバイスの駆動を説明するための図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of an optical device, an optical scanner, and an image forming apparatus of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.
<First Embodiment>
First, a first embodiment of the optical device of the present invention will be described.
1 is a perspective view showing a first embodiment of an optical device of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 4 is a diagram showing an example of the voltage waveform of the drive voltage of the optical device shown in FIG. 1, FIG. 5 is a diagram for explaining the drive of the optical device shown in FIG. 1, and FIG. 6 is a partial sectional perspective view of the piezoelectric element. 7 is a diagram illustrating an example of a voltage waveform of the drive voltage of the optical device shown in FIG. 1, and FIG. 8 is a diagram for explaining the drive of the optical device shown in FIG.

なお、以下では、説明の便宜上、図1中の紙面手前側を「上」、紙面奥側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言い、図2、図3、図5および図8中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。また、図1中に示すように、互いに直交する3軸を、それぞれX軸、Y軸、Z軸とする。また、X軸に平行な方向を「X軸方向」といい、Y軸に平行な方向を「Y軸方向」といい、Z軸に平行な方向を「Z軸方向」という。   In the following, for convenience of explanation, the front side of the page in FIG. 1 is referred to as “up”, the back side of the page is referred to as “down”, the right side is referred to as “right”, and the left side is referred to as “left”. 5 and FIG. 8, the upper side is called “upper”, the lower side is called “lower”, the right side is called “right”, and the left side is called “left”. As shown in FIG. 1, the three axes orthogonal to each other are defined as an X axis, a Y axis, and a Z axis, respectively. A direction parallel to the X axis is referred to as “X axis direction”, a direction parallel to the Y axis is referred to as “Y axis direction”, and a direction parallel to the Z axis is referred to as “Z axis direction”.

光学デバイス1は、図1に示すような基体2と、接合層4を介して基体2を支持する支持基板3と、第1の駆動手段5と、第2の駆動手段6と、これらを収容するケーシング7とを有している。
このような光学デバイス1は、第1の駆動手段5を作動させることで後述する光反射部211(可動板21)を図1中X軸まわりに回動させ、これと同時に、第2の駆動手段6を作動させることで光反射部211を図1中X軸に対して直交するY軸まわりに回動させ、光反射部211で反射した光を2次元的に走査するように構成されている。
The optical device 1 contains a base 2 as shown in FIG. 1, a support substrate 3 that supports the base 2 via a bonding layer 4, a first drive means 5, a second drive means 6, and these. Casing 7.
Such an optical device 1 operates the first driving means 5 to rotate a light reflecting portion 211 (movable plate 21), which will be described later, around the X axis in FIG. By operating the means 6, the light reflecting portion 211 is rotated about the Y axis orthogonal to the X axis in FIG. 1, and the light reflected by the light reflecting portion 211 is scanned two-dimensionally. Yes.

以下、基体2、支持基板3、第1の駆動手段5、第2の駆動手段6およびケーシング7について詳述する。
基体2は、図1に示すように、可動板21と、支持部22と、1対の連結部23、24とを備えている。
可動板21は、その上面(支持基板3と反対側の面)に光反射性を有する光反射部211を備えている。これにより光学デバイス1は、光スキャナ、光スイッチ、光アッテネータなどに適用することができる。
Hereinafter, the base 2, the support substrate 3, the first drive unit 5, the second drive unit 6, and the casing 7 will be described in detail.
As shown in FIG. 1, the base 2 includes a movable plate 21, a support portion 22, and a pair of connecting portions 23 and 24.
The movable plate 21 includes a light reflecting portion 211 having light reflectivity on the upper surface (the surface opposite to the support substrate 3). Thereby, the optical device 1 can be applied to an optical scanner, an optical switch, an optical attenuator, and the like.

そして、可動板21の平面視にて、可動板21の外周を囲むように枠状の支持部22が形成されており、可動板21は、1対の連結部23、24を介して支持部22と連結している。
1対の連結部23、24は、可動板21を両持ち支持するように形成されている。このような連結部23は、弾性部231と、1対の駆動部232、233とを備えており、同様に、連結部24は、弾性部241と、1対の駆動部242、243とを備えている。
A frame-like support portion 22 is formed so as to surround the outer periphery of the movable plate 21 in a plan view of the movable plate 21, and the movable plate 21 is supported by a pair of connecting portions 23 and 24. 22 is connected.
The pair of connecting portions 23 and 24 are formed so as to support both ends of the movable plate 21. Such a connecting part 23 includes an elastic part 231 and a pair of driving parts 232 and 233. Similarly, the connecting part 24 includes an elastic part 241 and a pair of driving parts 242 and 243. I have.

このような1対の連結部23、24は、可動板21の平面視にて、Y軸に対して対称に設けられている。すなわち、弾性部231と弾性部241とは、可動板21の平面視にて、Y軸に対して対称となるように設けられ、1対の駆動部232、233と1対の駆動部242、243とは、可動板21の平面視にて、Y軸に対して対称となるように設けられている。   Such a pair of connecting portions 23, 24 is provided symmetrically with respect to the Y axis in a plan view of the movable plate 21. That is, the elastic part 231 and the elastic part 241 are provided so as to be symmetric with respect to the Y axis in a plan view of the movable plate 21, and the pair of driving parts 232 and 233 and the pair of driving parts 242, 243 is provided so as to be symmetric with respect to the Y axis in a plan view of the movable plate 21.

弾性部231は、可動板21を支持部22に対して回動可能とするように、可動板21と支持部22とを連結している。この弾性部231は、X軸方向を長手とする長手形状(棒状)をなし、かつ、可動板21の平面視にて、X軸上に延在するように(X軸と一致するように)形成されている。
同様に、弾性部241は、可動板21を支持部22に対して回動可能とするように、可動板21と支持部22とを連結している。この弾性部241は、X軸方向を長手とする長手形状をなし、かつ、可動板21の平面視にて、X軸上に延在するように設けられている。
すなわち、弾性部231と弾性部241とは、同軸的に設けられており、光学デバイス1の駆動時にて、1対の弾性部231、241を軸(X軸)として可動板21が支持部22に対して回動する。
The elastic portion 231 connects the movable plate 21 and the support portion 22 so that the movable plate 21 can rotate with respect to the support portion 22. The elastic portion 231 has a longitudinal shape (bar shape) extending in the X-axis direction, and extends on the X-axis in plan view of the movable plate 21 (so as to coincide with the X-axis). Is formed.
Similarly, the elastic portion 241 connects the movable plate 21 and the support portion 22 so that the movable plate 21 can be rotated with respect to the support portion 22. The elastic portion 241 has a longitudinal shape having the X-axis direction as a longitudinal direction, and is provided so as to extend on the X-axis in a plan view of the movable plate 21.
That is, the elastic portion 231 and the elastic portion 241 are provided coaxially, and the movable plate 21 is supported by the support portion 22 with the pair of elastic portions 231 and 241 as axes (X axis) when the optical device 1 is driven. Rotate with respect to.

1対の駆動部232、233は、それぞれY軸方向を長手とする長手形状(板状)をなし、可動板21の平面視にて、X軸に対して対称となるように形成されている。このような駆動部232、233は、それぞれ、弾性部231の長手方向での中央部と支持部22とを連結するように形成されている。
同様に、1対の駆動部242、243は、それぞれY軸方向を長手とする長手形状をなし、可動板21の平面視にて、X軸に対して対称となるように形成されている。このような駆動部242、243は、それぞれ、弾性部241の長手方向での中央部と支持部22とを連結するように形成されている。
The pair of drive units 232 and 233 each have a longitudinal shape (plate shape) with the Y-axis direction as the longitudinal direction, and are formed so as to be symmetric with respect to the X-axis in a plan view of the movable plate 21. . Such driving units 232 and 233 are formed so as to connect the central portion in the longitudinal direction of the elastic portion 231 and the support portion 22, respectively.
Similarly, the pair of drive units 242 and 243 each have a longitudinal shape whose longitudinal direction is the Y-axis direction, and is formed so as to be symmetric with respect to the X-axis in a plan view of the movable plate 21. Such drive parts 242 and 243 are formed so as to connect the center part in the longitudinal direction of the elastic part 241 and the support part 22, respectively.

ここで、基体2は、例えば、シリコンを主材料として構成されていて、可動板21と、支持部22と、弾性部231、241と、駆動部232、233、242、243とが一体的に形成されている。例えば、シリコン基板にエッチングなどにより異形孔を形成することで基体2を得ることができる。このように、シリコンを主材料とすることにより、優れた回動特性を実現できるとともに、優れた耐久性を発揮することができる。また、微細な処理(加工)が可能であり、光学デバイス1の小型化を図ることができる。   Here, the base 2 is made of, for example, silicon as a main material, and the movable plate 21, the support portion 22, the elastic portions 231 and 241, and the drive portions 232, 233, 242, and 243 are integrally formed. Is formed. For example, the base body 2 can be obtained by forming a modified hole in a silicon substrate by etching or the like. As described above, by using silicon as a main material, it is possible to realize excellent rotation characteristics and to exhibit excellent durability. Further, fine processing (processing) is possible, and the optical device 1 can be miniaturized.

なお、基体2は、SOI基板等の積層構造を有する基板から、可動板21と、支持部22と、弾性部231、241と、駆動部232、233、242、243とを形成したものであってもよい。その際、可動板21と、支持部22と、弾性部231、241と、駆動部232、233、242、243とが一体となるように、これらを積層構造基板の1つの層で構成するのが好ましい。以上、説明した基体2は、接合層4を介して支持基板3により支持されている。   The base 2 is formed by forming the movable plate 21, the support portion 22, the elastic portions 231, 241 and the drive portions 232, 233, 242, 243 from a substrate having a laminated structure such as an SOI substrate. May be. At this time, the movable plate 21, the support part 22, the elastic parts 231 and 241, and the drive parts 232, 233, 242, and 243 are configured as one layer of the laminated structure substrate. Is preferred. The base 2 described above is supported by the support substrate 3 via the bonding layer 4.

支持基板3は、板状をなし、その中央部で接合層4を介して基体2を支持している。このことから、支持部22と支持基板3とで可動板21を支持するための支持部を構成していると言える。また、支持基板3の中央部には、開口部31が形成されている。開口部31は、可動板21の平面視にて、その縁と支持部22の内縁とが一致するように形成されている。この開口部31は、光学デバイス1の駆動の際に、可動板21および駆動部232、233、242、243が支持基板3に接触するのを防止する逃げ部を構成する。   The support substrate 3 has a plate shape, and supports the base 2 through the bonding layer 4 at the center thereof. From this, it can be said that the support part 22 and the support substrate 3 constitute a support part for supporting the movable plate 21. An opening 31 is formed at the center of the support substrate 3. The opening 31 is formed such that the edge of the opening 31 coincides with the inner edge of the support 22 in a plan view of the movable plate 21. The opening 31 constitutes an escape portion that prevents the movable plate 21 and the drive units 232, 233, 242, and 243 from coming into contact with the support substrate 3 when the optical device 1 is driven.

なお、前述したような逃げ部は、前記効果を十分に発揮し得る構成であれば、必ずしも支持基板3の下面で開放(開口)していなくてもよい。すなわち、逃げ部は、支持基板3の上面に形成された凹部で構成することもできる。また、接合層4の厚さが可動板21の振れ角(振幅)に対し大きい場合などには、開口部31を設けなくともよい。なお、このような支持基板3は、例えば、ガラスやシリコンを主材料として構成されている。シリコンを主材料として支持基板3を形成する場合には、例えば、SOI基板(その厚さ方向に、Si層とSiO層とSi層とが積層されている基板)を用いて、その一方のSi層で基体2を形成し、SiO層で接合層4を形成し、他方のSi層で支持基板3を形成することにより、基体2と支持基板3と接合層4とを一体的に形成することができる。このような支持基板3には、Z軸方向に伸縮するように設けられた後述する圧電素子61〜68が接合されている。 Note that the relief portion as described above does not necessarily have to be opened (opened) on the lower surface of the support substrate 3 as long as the above-described effect can be sufficiently exerted. In other words, the escape portion can also be configured by a recess formed on the upper surface of the support substrate 3. Further, when the thickness of the bonding layer 4 is larger than the deflection angle (amplitude) of the movable plate 21, the opening 31 may not be provided. Such a support substrate 3 is made of, for example, glass or silicon as a main material. When the support substrate 3 is formed using silicon as a main material, for example, an SOI substrate (a substrate in which a Si layer, a SiO 2 layer, and a Si layer are stacked in the thickness direction) is used. The base 2, the support substrate 3, and the bonding layer 4 are integrally formed by forming the base 2 with the Si layer, forming the bonding layer 4 with the SiO 2 layer, and forming the support substrate 3 with the other Si layer. can do. Piezoelectric elements 61 to 68 (described later) provided so as to expand and contract in the Z-axis direction are joined to the support substrate 3.

次に、第1の駆動手段5および第2の駆動手段6について詳述する。
第1の駆動手段5は、圧電素子51〜54を備えており、圧電素子51〜54のそれぞれを伸縮させることにより、1対の弾性部231、241を捩れ変形させつつ、可動板21をX軸まわりに回動させるように構成されている。
圧電素子51は、駆動部232の上面に接合されY軸方向に伸縮する。同様に、圧電素子52は、駆動部233の上面に接合されY軸方向に伸縮し、圧電素子53は、駆動部242の上面に接合されY軸方向に伸縮し、圧電素子54は、駆動部243の上面に接合されY軸方向に伸縮する。また、各圧電素子51〜54は、その圧電素子が接合されている駆動部の上面の全域を覆うように形成されている。
Next, the first driving means 5 and the second driving means 6 will be described in detail.
The first driving means 5 includes piezoelectric elements 51 to 54, and by expanding and contracting each of the piezoelectric elements 51 to 54, the pair of elastic portions 231 and 241 is twisted and deformed, and the movable plate 21 is moved to X. It is configured to rotate around an axis.
The piezoelectric element 51 is bonded to the upper surface of the drive unit 232 and expands and contracts in the Y-axis direction. Similarly, the piezoelectric element 52 is bonded to the upper surface of the drive unit 233 and expands and contracts in the Y-axis direction, the piezoelectric element 53 is bonded to the upper surface of the drive unit 242 and expands and contracts in the Y-axis direction, and the piezoelectric element 54 It is joined to the upper surface of 243 and expands and contracts in the Y axis direction. In addition, each of the piezoelectric elements 51 to 54 is formed so as to cover the entire area of the upper surface of the drive unit to which the piezoelectric element is bonded.

次に、圧電素子51〜54について具体的に説明するが、圧電素子51〜54は、互いに同様の構成さあるため、圧電素子51について代表して説明し、圧電素子52〜54については、その説明を省略する。
圧電素子51は、図3に示すように、圧電材料を主材料として構成された圧電体層511と、この圧電体層511を挟持する1対の電極512、513とを有している。
Next, the piezoelectric elements 51 to 54 will be described in detail. Since the piezoelectric elements 51 to 54 have the same configuration, the piezoelectric element 51 will be described as a representative, and the piezoelectric elements 52 to 54 will be described. Description is omitted.
As shown in FIG. 3, the piezoelectric element 51 includes a piezoelectric layer 511 composed of a piezoelectric material as a main material, and a pair of electrodes 512 and 513 that sandwich the piezoelectric layer 511.

圧電体層511を構成するための圧電材料としては、例えば、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸バリウム、その他、各種のものが挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、特に、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウムおよびチタン酸ジルコン酸鉛のうちの少なくとも1種を主とするものが好ましい。このような材料で圧電体層511を構成することにより、より高い周波数で光学デバイス1を駆動することができる。なお、後述する圧電素子61の圧電体層611に関しても同様である。   Examples of the piezoelectric material for forming the piezoelectric layer 511 include zinc oxide, aluminum nitride, lithium tantalate, lithium niobate, potassium niobate, lead zirconate titanate (PZT), barium titanate, and other various types. Of these, one or more of these can be used in combination, but in particular, zinc oxide, aluminum nitride, lithium tantalate, lithium niobate, potassium niobate and lead zirconate titanate Of these, those mainly comprising at least one of them are preferred. By configuring the piezoelectric layer 511 with such a material, the optical device 1 can be driven at a higher frequency. The same applies to the piezoelectric layer 611 of the piezoelectric element 61 described later.

電極512は、その一部が、圧電体層511の下面(図3にて下端の面)から露出するように設けられている。電極513は、圧電体層511の上面(図3にて上端の面)と同一形状をなし、圧電体層511の上面に設けられている。そして、電極512と電極513とは、それぞれ、図示しない電源(電圧印加手段)に接続されている。
電極512と電極513との間に電圧を印加すると、圧電体層511は、その圧電効果により、Y軸方向に伸縮する。
A part of the electrode 512 is provided so as to be exposed from the lower surface (the lower end surface in FIG. 3) of the piezoelectric layer 511. The electrode 513 has the same shape as the upper surface of the piezoelectric layer 511 (the upper surface in FIG. 3), and is provided on the upper surface of the piezoelectric layer 511. The electrodes 512 and 513 are each connected to a power source (voltage applying means) (not shown).
When a voltage is applied between the electrode 512 and the electrode 513, the piezoelectric layer 511 expands and contracts in the Y-axis direction due to the piezoelectric effect.

このような第1の駆動手段5は、例えば、次のようにして可動板21をX軸まわりに回動させる。例えば、図4(a)に示すような電圧を圧電素子51および圧電素子53に印加するとともに、図4(b)に示すような電圧を圧電素子52および圧電素子54に印加する。すなわち、圧電素子51、53と、圧電素子52、54とに電圧を交互に印加する。以下、図5に基づいて可動板21の回動を具体的に説明するが、1対の連結部23、24は、同様に変形するため、連結部23を代表して説明し、連結部24については、その説明を省略する。   For example, the first driving unit 5 rotates the movable plate 21 around the X axis as follows. For example, a voltage as shown in FIG. 4A is applied to the piezoelectric element 51 and the piezoelectric element 53, and a voltage as shown in FIG. 4B is applied to the piezoelectric element 52 and the piezoelectric element 54. That is, a voltage is alternately applied to the piezoelectric elements 51 and 53 and the piezoelectric elements 52 and 54. Hereinafter, the rotation of the movable plate 21 will be described in detail with reference to FIG. 5. Since the pair of connecting portions 23 and 24 are similarly deformed, the connecting portion 23 will be described as a representative. The description of is omitted.

まず、圧電素子52に電圧を印加して圧電素子52を伸張状態とすることで、図5(a)に示すように、駆動部233の長手方向(Y軸方向)での中央部が上側へ向けて変位する。すなわち、駆動部233は、上に凸となるように湾曲する。これに伴って、駆動部232は、その長手方向での中央部が下側へ向けて変位する。すなわち、駆動部232は、下に凸となるように湾曲する。このように、駆動部233が上側へ湾曲し、それに伴い、駆動部232が下側へ湾曲することにより、弾性部231が、図5にて反時計回りに捩れ変形し、その結果、可動板21がX軸まわりに傾斜する。   First, by applying a voltage to the piezoelectric element 52 to bring the piezoelectric element 52 into an expanded state, as shown in FIG. 5A, the central portion in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the drive unit 233 is directed upward. Displace towards. That is, the drive unit 233 is curved so as to be convex upward. Along with this, the drive unit 232 is displaced downward in the center in the longitudinal direction. That is, the drive unit 232 is curved so as to protrude downward. In this manner, the drive unit 233 is bent upward, and accordingly, the drive unit 232 is bent downward, so that the elastic portion 231 is twisted and deformed counterclockwise in FIG. 5, and as a result, the movable plate 21 is inclined around the X axis.

一方、圧電素子51に電圧を印加して圧電素子51を伸張状態とすることで、図5(b)に示すように、駆動部232の長手方向(Y軸方向)での中央部が上側へ向けて変位する。すなわち、駆動部232は、上に凸となるように湾曲する。これに伴って、駆動部233は、その長手方向での中央部が下側へ向けて変位する。すなわち、駆動部233は、下に凸となるように湾曲する。このように、駆動部232が上側へ湾曲し、それに伴い、駆動部233が下側へ湾曲することにより、弾性部231が、図5にて時計回りに捩れ変形し、その結果、可動板21がX軸まわりに傾斜する。   On the other hand, by applying a voltage to the piezoelectric element 51 to bring the piezoelectric element 51 into an expanded state, as shown in FIG. 5B, the central portion in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the drive unit 232 is directed upward. Displace towards. That is, the drive unit 232 is curved so as to be convex upward. Along with this, the driving unit 233 is displaced downward in the center in the longitudinal direction. That is, the drive unit 233 is curved so as to protrude downward. In this manner, the drive unit 232 is bent upward, and the drive unit 233 is bent downward accordingly, whereby the elastic portion 231 is twisted and deformed clockwise in FIG. 5, and as a result, the movable plate 21 is bent. Tilts around the X axis.

このように圧電素子51、53と圧電素子52、54とに電圧を交互に印加することで、可動板21をX軸まわりに回動させることができる。
以上のような第1の駆動手段5は、駆動源として圧電素子を用いているため、低電圧駆動であっても比較的大きな駆動力で駆動することができる。そのため、低電圧駆動であっても、弾性部231、241のバネ定数を高めて、高周波で駆動することができる。
Thus, by alternately applying voltages to the piezoelectric elements 51 and 53 and the piezoelectric elements 52 and 54, the movable plate 21 can be rotated around the X axis.
Since the first driving means 5 as described above uses a piezoelectric element as a driving source, it can be driven with a relatively large driving force even in low voltage driving. Therefore, even with low voltage driving, the spring constants of the elastic portions 231 and 241 can be increased to drive at high frequency.

第2の駆動手段6は、圧電素子61〜68を備えており、圧電素子61〜68のそれぞれを伸縮させることにより、支持基板3(支持部)を可動板21とともにY軸まわりに回動させるように構成されている。
圧電素子61〜68のそれぞれは、Z軸方向(非駆動時での支持基板3の厚さ方向)へ伸縮するように設けられており、その伸縮方向での一端が支持基板3に接合されている。
また、圧電素子61〜64は、支持基板3の上面に接合するように設けられており、圧電素子65〜68は、支持基板3の下面に接合するように設けられている。このような圧電素子61〜64と圧電素子65〜68とは、支持基板3に対して対称となるように設けられている。
The second drive means 6 includes piezoelectric elements 61 to 68, and the support substrate 3 (support part) is rotated around the Y axis together with the movable plate 21 by expanding and contracting each of the piezoelectric elements 61 to 68. It is configured as follows.
Each of the piezoelectric elements 61 to 68 is provided so as to expand and contract in the Z-axis direction (the thickness direction of the support substrate 3 when not driven), and one end in the expansion and contraction direction is joined to the support substrate 3. Yes.
The piezoelectric elements 61 to 64 are provided so as to be bonded to the upper surface of the support substrate 3, and the piezoelectric elements 65 to 68 are provided so as to be bonded to the lower surface of the support substrate 3. Such piezoelectric elements 61 to 64 and piezoelectric elements 65 to 68 are provided so as to be symmetric with respect to the support substrate 3.

すなわち、圧電素子61と圧電素子65とは、Z軸方向で支持基板3を狭持するように設けられ、これと同様に、圧電素子62と圧電素子66とは、Z軸方向で支持基板3を狭持するように設けられ、圧電素子63と圧電素子67とは、Z軸方向で支持基板3を狭持するように設けられ、圧電素子64と圧電素子68とは、Z軸方向で支持基板3を狭持するように設けられている。そして、支持基板3を狭持した1対の圧電素子のうちの一方の圧電素子を収縮状態とし、他方の圧電素子を伸張状態とすることで、大きい駆動力で支持基板3をY軸まわりに回動させることができるため、光学デバイスの応答性を向上させることができる。また、支持基板3の上面側および下面側のそれぞれを有効利用することで、光学デバイス1の小型化を図ることができる。   That is, the piezoelectric element 61 and the piezoelectric element 65 are provided so as to sandwich the support substrate 3 in the Z-axis direction, and similarly, the piezoelectric element 62 and the piezoelectric element 66 are supported in the Z-axis direction. The piezoelectric element 63 and the piezoelectric element 67 are provided so as to hold the support substrate 3 in the Z-axis direction, and the piezoelectric element 64 and the piezoelectric element 68 are supported in the Z-axis direction. It is provided so as to hold the substrate 3. Then, one of the pair of piezoelectric elements sandwiching the support substrate 3 is brought into a contracted state and the other piezoelectric element is brought into an expanded state, so that the support substrate 3 can be rotated around the Y axis with a large driving force. Since it can be rotated, the responsiveness of the optical device can be improved. Further, the optical device 1 can be reduced in size by effectively using the upper surface side and the lower surface side of the support substrate 3.

次に、圧電素子61〜68の配置について説明するが、圧電素子61〜64と圧電素子65〜68とは、前述したように支持基板3に対して対称に設けられているため、圧電素子61〜64について代表して説明し、圧電素子65〜68については、その説明を省略する。
圧電素子61と圧電素子63とは、Y軸から離間して、かつ、Y軸に対して対称に設けられており、同様に、圧電素子62と圧電素子64とは、Y軸から離間して、かつ、Y軸に対して対称に設けられている。このようにY軸を介して設けられた1対の圧電素子を設けることにより、支持基板3をY軸まわりに大きく回動させることができる。
Next, the arrangement of the piezoelectric elements 61 to 68 will be described. Since the piezoelectric elements 61 to 64 and the piezoelectric elements 65 to 68 are provided symmetrically with respect to the support substrate 3 as described above, the piezoelectric element 61 is provided. -64 will be described as a representative, and the description of the piezoelectric elements 65-68 will be omitted.
The piezoelectric element 61 and the piezoelectric element 63 are separated from the Y axis and symmetrical with respect to the Y axis. Similarly, the piezoelectric element 62 and the piezoelectric element 64 are separated from the Y axis. And provided symmetrically with respect to the Y-axis. Thus, by providing a pair of piezoelectric elements provided via the Y axis, the support substrate 3 can be largely rotated about the Y axis.

また、圧電素子61〜64のそれぞれは、支持基板3のうちのY軸から遠位に位置する部位に設けられている。これにより、支持基板3の回動の応答性を向上させることができる。ただし、圧電素子61〜64のそれぞれは、支持基板3のうちのY軸から近位に位置する部位に設けられていてもよい。この場合には、支持基板3を大きく回動させることができる。   In addition, each of the piezoelectric elements 61 to 64 is provided in a portion of the support substrate 3 that is located distal to the Y axis. Thereby, the responsiveness of the rotation of the support substrate 3 can be improved. However, each of the piezoelectric elements 61 to 64 may be provided in a portion of the support substrate 3 that is located proximal to the Y axis. In this case, the support substrate 3 can be largely rotated.

また、圧電素子61と圧電素子62とは、X軸から離間して、かつ、X軸に対して対称に設けられており、同様に、圧電素子63と圧電素子64とは、X軸から離間して、かつ、X軸に対して対称に設けられている。また、圧電素子61〜64のそれぞれは、支持基板3のうちのX軸から遠位に位置する部位に設けられている。言い換えれば、Y軸方向に互いに間隔を隔てて設けられた1対の圧電素子(例えば圧電素子61と圧電素子62)が、Y軸に対して対称となるように2組(圧電素子61、62の組と、圧電素子63、64の組)配設されている。このような構成とすることにより。Y軸を一定に保ちつつ、支持基板3をY軸まわりに回動させることができる。   The piezoelectric element 61 and the piezoelectric element 62 are separated from the X axis and symmetrical with respect to the X axis. Similarly, the piezoelectric element 63 and the piezoelectric element 64 are separated from the X axis. And it is provided symmetrically with respect to the X axis. In addition, each of the piezoelectric elements 61 to 64 is provided in a portion of the support substrate 3 that is located distal to the X axis. In other words, a pair of piezoelectric elements (for example, the piezoelectric element 61 and the piezoelectric element 62) provided at a distance from each other in the Y-axis direction are symmetric with respect to the Y-axis (two piezoelectric elements 61 and 62). And a set of piezoelectric elements 63 and 64). By having such a configuration. The support substrate 3 can be rotated around the Y axis while keeping the Y axis constant.

このような各圧電素子61〜64は、それぞれ支持基板3と接合している。このように、各圧電素子61〜64と支持基板3とを接合することで確実に支持基板3を狭持(支持)することができる。だたし、これに限定されず、各圧電素子61〜68と支持基板3とが接合していなくてもよい。
4つの圧電素子61〜64が上述のように配設されることにより、Y軸を一定に保ちつつ、支持基板3を大きく回動させることができる。また、各圧電素子51〜54の大きさを小さくすることができるため、光学デバイス1の小型化を図ることができる。
Each of the piezoelectric elements 61 to 64 is bonded to the support substrate 3. In this way, the support substrate 3 can be securely held (supported) by bonding the piezoelectric elements 61 to 64 and the support substrate 3 together. However, the present invention is not limited to this, and the piezoelectric elements 61 to 68 and the support substrate 3 may not be joined.
By arranging the four piezoelectric elements 61 to 64 as described above, the support substrate 3 can be largely rotated while keeping the Y axis constant. Moreover, since the size of each of the piezoelectric elements 51 to 54 can be reduced, the optical device 1 can be downsized.

次に、圧電素子61〜68について具体的に説明するが、圧電素子61〜68については、同様の構成であるため、圧電素子61を代表して説明し、圧電素子62〜68については、その説明を省略する。
圧電素子61は、図6に示すように、圧電性を有する複数の圧電体層611と、各圧電体層611に電圧を印加するための複数の電極層612とがZ軸方向に交互に積層されている。すなわち、圧電素子61は、図6にて上下方向に伸縮する積層型の圧電素子である。このような積層型の圧電素子である圧電素子61は、駆動電圧を低減しつつ、変位量を大きくすることができる。
Next, the piezoelectric elements 61 to 68 will be specifically described. Since the piezoelectric elements 61 to 68 have the same configuration, the piezoelectric element 61 will be described as a representative, and the piezoelectric elements 62 to 68 will be described. Description is omitted.
As shown in FIG. 6, the piezoelectric element 61 has a plurality of piezoelectric layers 611 having piezoelectricity and a plurality of electrode layers 612 for applying a voltage to each piezoelectric layer 611 alternately stacked in the Z-axis direction. Has been. That is, the piezoelectric element 61 is a stacked piezoelectric element that expands and contracts in the vertical direction in FIG. The piezoelectric element 61 which is such a laminated piezoelectric element can increase the amount of displacement while reducing the driving voltage.

複数の圧電体層611は、隣接する圧電体層611の分極方向が互いに反対方向となるように形成されている。すなわち、複数の圧電体層611のうちの支持基板3側から奇数番目の圧電体層611の分極方向は、偶数番目の圧電体層611の分極方向と反対方向となっている。これにより、より確実に、駆動電圧を低減しつつ、圧電素子61の変位量を大きくすることができる。なお、本明細書において、「分極方向」とは、圧電体層に電界も応力も加えない状態において、圧電体層の一方の面付近に正電荷、他方の面付近に負電荷が過剰に存在しているとき(自発分極または残留分極のとき)、圧電体層の負電荷が過剰に存在している面から、正電荷が過剰に存在している面へ向かう方向を言う。   The plurality of piezoelectric layers 611 are formed so that the polarization directions of adjacent piezoelectric layers 611 are opposite to each other. That is, the polarization direction of the odd-numbered piezoelectric layers 611 from the support substrate 3 side among the plurality of piezoelectric layers 611 is opposite to the polarization direction of the even-numbered piezoelectric layers 611. Thereby, the displacement amount of the piezoelectric element 61 can be increased more reliably while reducing the drive voltage. In this specification, “polarization direction” means that there is an excess of positive charge near one surface of the piezoelectric layer and excess negative charge near the other surface when no electric field or stress is applied to the piezoelectric layer. The direction from the surface where the negative charge of the piezoelectric layer is excessively present to the surface where the positive charge is excessively present is said.

そして、各電極層612は、隣接する圧電体層611同士の間に介挿されている。また、隣接する2つの電極層612が重なり領域(活性領域)をもつように複数の電極層612が形成されている。複数の電極層612のうち、支持基板3側から奇数番目の電極層612は、圧電素子61の側面に設けられた共通電極81と接続しており、支持基板3側から偶数番目の電極層612は、圧電素子61の共通電極81が設けられた面と対向する面に設けられた共通電極82と接続している。   Each electrode layer 612 is interposed between adjacent piezoelectric layers 611. A plurality of electrode layers 612 are formed such that two adjacent electrode layers 612 have an overlapping region (active region). Among the plurality of electrode layers 612, the odd-numbered electrode layers 612 from the support substrate 3 side are connected to the common electrode 81 provided on the side surface of the piezoelectric element 61, and the even-numbered electrode layers 612 from the support substrate 3 side. Is connected to a common electrode 82 provided on a surface opposite to the surface on which the common electrode 81 of the piezoelectric element 61 is provided.

そして、共通電極81と共通電極82との間に電圧を印加することにより、前記重なり領域にて各圧電体層611に電圧を印加することができる。その結果、各圧電体層611がその厚さ方向へ伸縮する。なお、共通電極81、82は、圧電素子61の側面に設けられていなくてもよく、例えば支持部22上に形成されていてもよい。
このような第1の駆動手段5は、例えば、次のようにして可動板21をX軸まわりに回動させる。
Then, by applying a voltage between the common electrode 81 and the common electrode 82, a voltage can be applied to each piezoelectric layer 611 in the overlapping region. As a result, each piezoelectric layer 611 expands and contracts in the thickness direction. The common electrodes 81 and 82 may not be provided on the side surface of the piezoelectric element 61, and may be formed on the support portion 22, for example.
For example, the first driving unit 5 rotates the movable plate 21 around the X axis as follows.

例えば、図7(a)に示すような電圧を圧電素子61、62、67、68に印加するとともに、図7(b)に示すような電圧を圧電素子63、64、65、66に印加する。すなわち、互いに位相の180°ずれた電圧を圧電素子61、62、67、68と、圧電素子63、64、65、66とに印加する。すると、圧電素子61、62、67、68を収縮状態とするとともに、圧電素子63、64、65、66を伸張状態とする状態(この状態を「第1の状態」とする)と、圧電素子61、62、67、68を伸張状態とするとともに、圧電素子63、64、65、66を収縮状態とする状態(この状態を「第2の状態」とする)とを交互に繰り返す。   For example, a voltage as shown in FIG. 7A is applied to the piezoelectric elements 61, 62, 67 and 68, and a voltage as shown in FIG. 7B is applied to the piezoelectric elements 63, 64, 65 and 66. . That is, voltages that are 180 ° out of phase with each other are applied to the piezoelectric elements 61, 62, 67, 68 and the piezoelectric elements 63, 64, 65, 66. Then, the piezoelectric elements 61, 62, 67, 68 are contracted and the piezoelectric elements 63, 64, 65, 66 are expanded (this state is referred to as “first state”), and the piezoelectric elements 61, 62, 67, 68 are set in the expanded state, and the piezoelectric elements 63, 64, 65, 66 are set in the contracted state (this state is referred to as “second state”) alternately.

以下、図8に基づいて支持基板3の回動について具体的に説明する。
まず、第1の状態では、図8(a)に示すように、圧電素子61を収縮状態、圧電素子65を伸張状態としているため、支持基板3のY軸に対して左側の部分が上側(基体2側)へ向けて変位する。
また、圧電素子67を収縮状態、圧電素子63を伸張状態としているため、支持基板3のY軸に対して右側の部分が下側(基体2と反対側)へ向けて変位する。
このように、支持基板3のY軸に対して左側の部分が上側へ変位しつつ、支持基板3のY軸に対して右側の部分が下側へ変位することにより、支持基板3がY軸まわりに図8にて時計回りに傾斜する。そして、これに伴って、支持基板3に支持された基体2が可動板21とともに傾斜することとなる。
Hereinafter, the rotation of the support substrate 3 will be specifically described with reference to FIG.
First, in the first state, as shown in FIG. 8A, since the piezoelectric element 61 is in a contracted state and the piezoelectric element 65 is in an expanded state, a portion on the left side with respect to the Y axis of the support substrate 3 is an upper side ( Displacement toward the base 2 side).
Further, since the piezoelectric element 67 is in the contracted state and the piezoelectric element 63 is in the expanded state, the portion on the right side with respect to the Y axis of the support substrate 3 is displaced downward (opposite to the base 2).
As described above, the left side portion with respect to the Y axis of the support substrate 3 is displaced upward, while the right side portion with respect to the Y axis of the support substrate 3 is displaced downward, whereby the support substrate 3 is moved to the Y axis. It is inclined clockwise in FIG. Along with this, the base 2 supported by the support substrate 3 is inclined together with the movable plate 21.

一方、第2の状態では、図8(b)に示すように、圧電素子61を伸張状態、圧電素子65を収縮状態としているため、支持基板3のY軸に対して左側の部分が下側に向かって変位する。
また、圧電素子67を伸張状態、圧電素子63を収縮状態としているため、支持基板3のY軸に対して右側の部分が上側に向かって変位する。
On the other hand, in the second state, as shown in FIG. 8B, since the piezoelectric element 61 is in the expanded state and the piezoelectric element 65 is in the contracted state, the portion on the left side with respect to the Y axis of the support substrate 3 is the lower side. Displace towards
Further, since the piezoelectric element 67 is in the expanded state and the piezoelectric element 63 is in the contracted state, the right portion of the support substrate 3 is displaced upward.

このように、支持基板3のY軸に対して左側の部分が下側へ変位しつつ、支持基板3のY軸に対して右側の部分が上側へ変位することにより、支持基板3がY軸まわりに図8にて反時計回りに傾斜する。そして、これに伴って、支持基板3に支持された基体2が可動板21とともに傾斜することとなる。
以上のような、第1の状態と第2の状態とを繰り返すことにより、基体2を可動板21とともにY軸まわりに回動させることができる。
As described above, the left side portion with respect to the Y axis of the support substrate 3 is displaced downward, while the right side portion with respect to the Y axis of the support substrate 3 is displaced upward, whereby the support substrate 3 is moved to the Y axis. It tilts counterclockwise around in FIG. Along with this, the base 2 supported by the support substrate 3 is inclined together with the movable plate 21.
By repeating the first state and the second state as described above, the base 2 can be rotated around the Y axis together with the movable plate 21.

このような第2の駆動手段6は、圧電素子により支持基板3(可動板21)を回動させるため、低電圧駆動であっても比較的大きな駆動力で駆動することができる。
光学デバイス1は、前述した第1の駆動手段5と第2の駆動手段6とを同時に作動させることにより、可動板21をX軸およびY軸のそれぞれの軸まわりに回動させ、光反射部211で反射した光を2次元的に走査することができる。
Since the second driving means 6 as described above rotates the support substrate 3 (movable plate 21) by the piezoelectric element, it can be driven with a relatively large driving force even in the case of low voltage driving.
The optical device 1 rotates the movable plate 21 around each of the X axis and the Y axis by simultaneously operating the first driving means 5 and the second driving means 6 described above, and the light reflecting portion. The light reflected by 211 can be scanned two-dimensionally.

以上、第1の駆動手段5および第2の駆動手段6のそれぞれについて説明した。ここで、可動板21をX軸まわりに回動させるために圧電素子51〜54へ印加する電圧の周波数、および、可動板21をY軸まわりに回動させるために圧電素子61〜68へ印加する電圧の周波数のそれぞれを所望の値に設定することにより、所望の走査特性を発揮することのできる光学デバイス1を提供することができる。
また、第1の駆動手段5の駆動源と第2の駆動手段6の駆動源とをそれぞれ圧電素子とすることにより駆動源の種類を統一することができ、例えば、第1の駆動手段5を作動させるための回路、および、第2の駆動手段6を作動させるための回路のそれぞれの構成を簡略化することができる(例えば、電源を共有することができる等)。
In the above, each of the 1st drive means 5 and the 2nd drive means 6 was demonstrated. Here, the frequency of the voltage applied to the piezoelectric elements 51 to 54 for rotating the movable plate 21 around the X axis, and the voltage applied to the piezoelectric elements 61 to 68 for rotating the movable plate 21 around the Y axis. By setting each frequency of the voltage to be a desired value, it is possible to provide the optical device 1 that can exhibit a desired scanning characteristic.
In addition, the drive source of the first drive means 5 and the drive source of the second drive means 6 are respectively piezoelectric elements, so that the types of drive sources can be unified. For example, the first drive means 5 is The configurations of the circuit for operating and the circuit for operating the second driving means 6 can be simplified (for example, the power source can be shared).

前述した基体2と、支持基板3と、第1の駆動手段5(圧電素子51〜54)と、第2の駆動手段6(圧電素子61〜68)とは(以下、単に「振動系」ともいう)、ケーシング7に収容されている。ケーシング7は、上方に開口する箱体72と、箱体72の開口を覆うように設けられた蓋体71とを備えている。すなわち、箱体72の内壁面と蓋体71の下面とで空間73が画成され、この空間73内に振動系が収容されている。このように、ケーシング7の内部に振動系を収容することにより、振動系(特に光反射部211)への浮遊物の付着などを防止することができ、長時間にわたり、優れた光走査特性を維持することができる。また、空間73内を減圧状態(真空状態含む)としたり、空間73に、例えばアルゴンなどの不活性ガスを充填したりすることができ、振動系の振動特性を向上させることができる。   The base 2, the support substrate 3, the first driving means 5 (piezoelectric elements 51 to 54), and the second driving means 6 (piezoelectric elements 61 to 68) (hereinafter also simply referred to as “vibration system”). It is housed in the casing 7. The casing 7 includes a box body 72 that opens upward, and a lid body 71 that is provided so as to cover the opening of the box body 72. That is, a space 73 is defined by the inner wall surface of the box 72 and the lower surface of the lid 71, and the vibration system is accommodated in the space 73. In this way, by housing the vibration system inside the casing 7, it is possible to prevent the attachment of floating substances to the vibration system (particularly the light reflecting portion 211) and to provide excellent optical scanning characteristics over a long period of time. Can be maintained. Further, the space 73 can be in a reduced pressure state (including a vacuum state), or the space 73 can be filled with an inert gas such as argon, for example, and the vibration characteristics of the vibration system can be improved.

箱体72の底面は、平坦面をなしている。この底面には、各圧電素子65〜68が接合されている。具体的には、圧電素子65〜68のそれぞれについて、伸縮方向での支持基板3とは反対側の端面が箱体72の底面に接合されている。
また、空間73のZ軸方向での長さは、光学デバイス1の非駆動時にて、圧電素子61の上端と圧電素子65の下端との離間距離にほぼ等しい。
The bottom surface of the box 72 is a flat surface. The piezoelectric elements 65 to 68 are joined to the bottom surface. Specifically, for each of the piezoelectric elements 65 to 68, the end surface opposite to the support substrate 3 in the expansion / contraction direction is bonded to the bottom surface of the box body 72.
Further, the length of the space 73 in the Z-axis direction is substantially equal to the distance between the upper end of the piezoelectric element 61 and the lower end of the piezoelectric element 65 when the optical device 1 is not driven.

このような箱体72の構成材料としては、圧電素子65〜68を支持(固定)することができれば特に限定されず、例えば、シリコンや、Li、Be、B、Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Hf、Ta、W、Tl、Pb、Bi、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Ag、Au、Pt、Pdなどの各種金属材料、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂の各種樹脂材料、各種セラミック、各種ガラスなどを好適に用いることができる。   The material of the box 72 is not particularly limited as long as the piezoelectric elements 65 to 68 can be supported (fixed). For example, silicon, Li, Be, B, Na, Mg, Al, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba, La, Hf, Various metal materials such as Ta, W, Tl, Pb, Bi, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Ag, Au, Pt, Pd Various resin materials such as thermosetting resins and thermoplastic resins, various ceramics, various glasses, and the like can be suitably used.

蓋体71は、箱体72の開口の全域を覆うように設けられ、かつ、箱体72と接合している。このような蓋体71は、板状をなしており、箱体72と接合された状態にて、蓋体71の下面と圧電素子61〜64の上端面とが接合している。言い換えれば、ケーシング7は、支持基板3をZ軸方向で狭持する1対の圧電素子(圧電素子61と圧電素子65、圧電素子62と圧電素子66、圧電素子63と圧電素子67、圧電素子64と圧電素子68)をその伸縮方向で狭持するように設けられている。これにより、光学デバイス1の駆動時にて、圧電素子61の上端面と圧電素子65の下端面との離間距離を一定に保つことができ、同様に、圧電素子62の上端面と圧電素子66の下端面との離間距離、電素子63の上端面と圧電素子67の下端面との離間距離、および、電素子64の上端面と圧電素子68の下端面との離間距離をそれぞれ一定に保つことができる。その結果、支持基板3をZ軸方向で狭持する1対の圧電素子の駆動力を極めて効率的に支持基板3へ伝達することができる。   The lid 71 is provided so as to cover the entire opening of the box 72 and is joined to the box 72. Such a lid 71 has a plate shape, and the lower surface of the lid 71 and the upper end surfaces of the piezoelectric elements 61 to 64 are joined in a state of being joined to the box 72. In other words, the casing 7 includes a pair of piezoelectric elements (a piezoelectric element 61 and a piezoelectric element 65, a piezoelectric element 62 and a piezoelectric element 66, a piezoelectric element 63 and a piezoelectric element 67, and a piezoelectric element) that sandwich the support substrate 3 in the Z-axis direction. 64 and the piezoelectric element 68) are provided so as to be held in the extending and contracting direction. Thereby, when the optical device 1 is driven, the separation distance between the upper end surface of the piezoelectric element 61 and the lower end surface of the piezoelectric element 65 can be kept constant. Similarly, the upper end surface of the piezoelectric element 62 and the piezoelectric element 66 are The distance between the lower end surface, the distance between the upper end surface of the electric element 63 and the lower end surface of the piezoelectric element 67, and the distance between the upper end surface of the electric element 64 and the lower end surface of the piezoelectric element 68 are kept constant. Can do. As a result, the driving force of the pair of piezoelectric elements holding the support substrate 3 in the Z-axis direction can be transmitted to the support substrate 3 very efficiently.

すなわち、ケーシング7は、支持基板3を狭持する1対の圧電素子のそれぞれの伸縮方向での支持基板3とは反対側の端同士の離間距離を一定に保つための固定部材である。ただし、支持基板3を狭持する1対の圧電素子のそれぞれの伸縮方向での支持基板3とは反対側の端同士の離間距離を一定に保つことができれば、本実施形態のようなケーシング7に限定されず、例えば、蓋体71の可動板21に対応(対向)する位置に開口が形成されているものであってもよい。   That is, the casing 7 is a fixing member for keeping the distance between the ends opposite to the support substrate 3 in the expansion / contraction direction of the pair of piezoelectric elements holding the support substrate 3 constant. However, if the distance between the ends opposite to the support substrate 3 in the expansion and contraction directions of the pair of piezoelectric elements holding the support substrate 3 can be kept constant, the casing 7 as in the present embodiment. For example, an opening may be formed at a position corresponding to (opposed to) the movable plate 21 of the lid 71.

このような蓋体71は、光透過性を有する材料で構成されている。このような材料としては、例えば、各種ガラス、シリコンなどが挙げられる。このように、光透過性を有する材料で蓋体71を構成することにより、光反射部211で反射した光を走査することができる。なお、例えば、ガラスを主材料として蓋体71を構成した場合には、蓋体71の上面および下面に反射防止膜を設けてもよい。これにより、光の反射を防止することができ、光学デバイス1の光走査特性を向上させることができる。
ただし、蓋体71の構成としては、光反射部211で反射した光を走査することができれば、これに限定されず、例えば、光透過性を有しない材料で構成され、光反射部に対応(対向)する部分に開口部が設けられているものなどであってもよい。
Such a lid 71 is made of a light transmissive material. Examples of such materials include various glasses and silicon. In this way, by configuring the lid 71 with a light-transmitting material, the light reflected by the light reflecting portion 211 can be scanned. For example, when the lid body 71 is made of glass as a main material, an antireflection film may be provided on the upper surface and the lower surface of the lid body 71. Thereby, reflection of light can be prevented and the optical scanning characteristic of the optical device 1 can be improved.
However, the configuration of the lid 71 is not limited to this as long as the light reflected by the light reflecting portion 211 can be scanned. For example, the lid 71 is made of a material that does not transmit light and corresponds to the light reflecting portion ( It may be one in which an opening is provided in the facing part.

以上、本発明の光学デバイスの第1実施形態について説明したが、本発明の光学デバイスは、これに限定されない。例えば、8つの圧電素子61〜68を備えた第2の駆動手段6について説明したが、Y軸から離間した位置で、かつ、Z軸方向へ伸縮するように設けられていれば、圧電素子の数は限定されず、例えば、1つの圧電素子であってもよいし、9つ以上の圧電素子であってもよい。   The first embodiment of the optical device of the present invention has been described above, but the optical device of the present invention is not limited to this. For example, the second driving unit 6 including eight piezoelectric elements 61 to 68 has been described. However, if the second driving unit 6 is provided at a position separated from the Y axis and extends and contracts in the Z axis direction, The number is not limited. For example, one piezoelectric element or nine or more piezoelectric elements may be used.

この場合において、例えば、Z軸方向で対向するように設けられた圧電素子61〜64および圧電素子65〜68のうちの一方を省略してもよい(すなわち4つの圧電素子)。
また、第2の駆動手段6は、Y軸を介して互いに対向するように設けられた1対の圧電素子を1組備えるものであってもよい(すなわち2つの圧電素子)。この場合には、可動板21の平面視にて、各圧電素子をX軸上に設けることが好ましい。
In this case, for example, one of the piezoelectric elements 61 to 64 and the piezoelectric elements 65 to 68 provided so as to face each other in the Z-axis direction may be omitted (that is, four piezoelectric elements).
Further, the second driving means 6 may include a pair of piezoelectric elements provided so as to face each other via the Y axis (that is, two piezoelectric elements). In this case, it is preferable to provide each piezoelectric element on the X axis in a plan view of the movable plate 21.

また、本実施形態では、基体2を支持するための支持基板3を回動させることにより可動板21をY軸まわりに回動させる場合について説明したが、可動板21をY軸まわりに回動させることができれば、特に限定されず、例えば、支持基板3を省略し、基体2の支持部22を圧電素子61〜68で狭持してもよい。
また、本実施形態では、圧電素子61〜64および圧電素子65〜68のそれぞれは、X軸およびY軸のそれぞれに対して対称的に設けられていたが、支持基板3を回動させることができれば、X軸およびY軸のそれぞれに対して非対称であってもよい。
また、本実施形態では、第1の駆動手段5の駆動源として圧電素子51〜54を用いたものについて説明したが、可動板21をX軸まわりに回動させることができれば、特に限定されず、例えば、第1の駆動手段5の駆動源として静電力を用いてもよく、電磁力を用いてもよい。
In this embodiment, the case where the movable plate 21 is rotated about the Y axis by rotating the support substrate 3 for supporting the base 2 has been described. However, the movable plate 21 is rotated about the Y axis. If it can be made, it will not specifically limit, For example, the support substrate 3 may be abbreviate | omitted and the support part 22 of the base | substrate 2 may be pinched by the piezoelectric elements 61-68.
In the present embodiment, each of the piezoelectric elements 61 to 64 and the piezoelectric elements 65 to 68 is provided symmetrically with respect to the X axis and the Y axis, but the support substrate 3 can be rotated. If possible, they may be asymmetric with respect to the X axis and the Y axis.
In the present embodiment, the piezoelectric element 51 to 54 is used as the drive source of the first drive unit 5. However, there is no particular limitation as long as the movable plate 21 can be rotated around the X axis. For example, an electrostatic force may be used as a driving source of the first driving unit 5 or an electromagnetic force may be used.

<第2実施形態>
次に、本発明の光学デバイスの第2実施形態について説明する。
図9は、本発明の光学デバイスの第2実施形態を示す斜視図である。
以下、第2実施形態の光学デバイス1Aについて、前述した第1実施形態の光学デバイス1との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the optical device of the present invention will be described.
FIG. 9 is a perspective view showing a second embodiment of the optical device of the present invention.
Hereinafter, the optical device 1A of the second embodiment will be described focusing on the differences from the optical device 1 of the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

本発明の第2実施形態にかかる光学デバイス1Aは、第2の駆動手段6Aが備える圧電素子61A〜68Aの配設位置、および、圧電素子61A〜68Aと支持基板3Aとの接触状態が異なる以外は、第1実施形態の光学デバイス1とほぼ同様である。なお、圧電素子61A〜64Aと圧電素子65A〜68Aは、支持基板3Aに対して対称に設けられているため、第1実施形態と同様に、圧電素子61A〜64Aについて代表して説明し、圧電素子65A〜68Aについては、その説明を省略する。   The optical device 1A according to the second embodiment of the present invention is different in that the arrangement positions of the piezoelectric elements 61A to 68A included in the second driving means 6A and the contact state between the piezoelectric elements 61A to 68A and the support substrate 3A are different. Is substantially the same as the optical device 1 of the first embodiment. In addition, since the piezoelectric elements 61A to 64A and the piezoelectric elements 65A to 68A are provided symmetrically with respect to the support substrate 3A, the piezoelectric elements 61A to 64A will be described as a representative as in the first embodiment. The description of the elements 65A to 68A is omitted.

圧電素子61Aと圧電素子63Aとは、Y軸に対して対称に設けられており、同様に、圧電素子62Aと圧電素子64Aとは、Y軸に対して対称に設けられている。また、圧電素子61A〜64Aのそれぞれは、支持基板3のうちのY軸から近位に位置する部位に設けられている。これにより、圧電素子61A〜64Aをそれぞれ伸縮させることで支持基板3Aを大きく回動させることができる。
このような圧電素子61A〜68Aは、支持基板3と線接触している。
The piezoelectric element 61A and the piezoelectric element 63A are provided symmetrically with respect to the Y axis, and similarly, the piezoelectric element 62A and the piezoelectric element 64A are provided symmetrically with respect to the Y axis. In addition, each of the piezoelectric elements 61 </ b> A to 64 </ b> A is provided in a portion of the support substrate 3 that is located proximal to the Y axis. Thereby, the support substrate 3A can be largely rotated by expanding and contracting each of the piezoelectric elements 61A to 64A.
Such piezoelectric elements 61 </ b> A to 68 </ b> A are in line contact with the support substrate 3.

次に、圧電素子61A〜64Aと支持基板3との接触状態について詳述するが、圧電素子61A〜64Aのそれぞれと支持基板3Aとの接触状態は同様であるため、圧電素子62Aについて代表して説明し、圧電素子61A、63A、64Aと支持基板3Aとの接触状態については、その説明を省略する。
支持基板3Aの上面であって、圧電素子62Aに対向する位置には、図9に示すように、Y軸方向へ延在するように設けられた突出部32Aが設けられている。この突出部32Aは、Y軸方向での圧電素子62Aの幅とほぼ等しい長さとなるように延在しており、その先端がX軸方向へ丸み付けされている。そして、圧電素子62Aは、このような突出部32Aの先端と線接触するように設けられている。このように、支持基板3Aと圧電素子62Aとを線接触させることにより、圧電素子61A〜68Aを伸縮させて支持基板3AをY軸まわりに回動させる際に、支持基板3Aの圧電素子61A〜68Aとの接触部付近が撓んでしまうことを防止することができる。これにより、支持基板3Aを円滑にY軸まわりに回動させることができる。
なお、本実施形態では、圧電素子61A〜68Aと支持基板3Aとが線接触するものについて説明したが、圧電素子61A〜68Aのそれぞれと支持基板3Aとが点接触しているものであってもよい。このような構成であっても、線接触している場合と同様の効果を奏することができる。
Next, the contact state between the piezoelectric elements 61A to 64A and the support substrate 3 will be described in detail. Since the contact state between each of the piezoelectric elements 61A to 64A and the support substrate 3A is the same, the piezoelectric element 62A is representative. Explanation will be omitted and the description of the contact state between the piezoelectric elements 61A, 63A, 64A and the support substrate 3A will be omitted.
As shown in FIG. 9, a protrusion 32A provided to extend in the Y-axis direction is provided on the upper surface of the support substrate 3A at a position facing the piezoelectric element 62A. The protrusion 32A extends so as to have a length substantially equal to the width of the piezoelectric element 62A in the Y-axis direction, and its tip is rounded in the X-axis direction. The piezoelectric element 62A is provided so as to be in line contact with the tip of the protruding portion 32A. In this way, when the support substrate 3A and the piezoelectric element 62A are brought into line contact, the piezoelectric elements 61A to 68A are expanded and contracted to rotate the support substrate 3A around the Y axis. It is possible to prevent the vicinity of the contact portion with 68A from being bent. Thereby, the support substrate 3A can be smoothly rotated around the Y axis.
In the present embodiment, the piezoelectric elements 61A to 68A and the support substrate 3A are in line contact, but the piezoelectric elements 61A to 68A and the support substrate 3A are in point contact. Good. Even if it is such a structure, there can exist an effect similar to the case where it is in line contact.

また、本実施形態では、支持基板3Aと突出部32Aとを一体的に形成しているが、圧電素子61A〜68Aのそれぞれと支持基板3Aとを線接触させることができれば、これに限定されず、例えば、突出部32Aを別体として形成し、支持基板3Aに接合してもよいし、圧電素子61A〜64Aの下面、および、圧電素子65A〜68Aの上面のそれぞれに、突出部を設けてもよい。ただし、本実施形態のように、支持基板3Aと突出部32Aとを一体的に形成することにより、突出部32Aを所望の位置に精度よく形成することができるため、光学デバイス1Aの走査特性を所望のものとすることができる。
このような第2実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
以上、本発明の光学デバイスについて説明した。
In the present embodiment, the support substrate 3A and the protrusion 32A are integrally formed. However, the present invention is not limited to this as long as each of the piezoelectric elements 61A to 68A and the support substrate 3A can be brought into line contact. For example, the protrusion 32A may be formed as a separate body and bonded to the support substrate 3A, or a protrusion may be provided on each of the lower surfaces of the piezoelectric elements 61A to 64A and the upper surfaces of the piezoelectric elements 65A to 68A. Also good. However, as in the present embodiment, by integrally forming the support substrate 3A and the protruding portion 32A, the protruding portion 32A can be accurately formed at a desired position, so that the scanning characteristics of the optical device 1A are improved. It can be as desired.
Also by such 2nd Embodiment, the effect similar to 1st Embodiment can be exhibited.
The optical device of the present invention has been described above.

本発明の光スキャナは、本発明の光学デバイスと同様の構成である。すなわち、本発明にかかる光スキャナは、光反射部を備える可動板と、可動板を支持するための支持部と、可動板と支持部とを連結する1対の連結部と、1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、可動板を1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させるための第1の駆動手段と、可動板をX軸に対して直交するY軸まわりに回動させるための第2の駆動手段とを有し、第1の駆動手段および第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、光反射部で反射した光を2次元走査するように構成され、第2の駆動手段は、支持部をY軸まわりに回動させるように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備えている。   The optical scanner of the present invention has the same configuration as the optical device of the present invention. That is, an optical scanner according to the present invention includes a movable plate having a light reflecting portion, a support portion for supporting the movable plate, a pair of connection portions for connecting the movable plate and the support portion, and a pair of connections. A first driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while torsionally deforming each of the portions; and a Y axis orthogonal to the X axis. And a second driving means for rotating, and by operating each of the first driving means and the second driving means, the light reflected by the light reflecting portion is two-dimensionally scanned. The second driving means includes at least one piezoelectric element provided to rotate the support portion around the Y axis.

このような構成とすることにより、小型化を図りつつ、光を高速で2次元的に走査することのできる光スキャナを提供することができる。なお、本発明の光スキャナの実施形態としては、前述した第1実施形態と同様であるため、詳細な説明を省略する。
このような光スキャナは、例えば、プロジェクタ、レーザープリンタ、イメージング用ディスプレイ、バーコードリーダー、走査型共焦点顕微鏡などの画像形成装置に好適に適用することができる。その結果、優れた描画特性を有する画像形成装置を提供することができる。
With such a configuration, it is possible to provide an optical scanner capable of scanning light two-dimensionally at high speed while achieving downsizing. The embodiment of the optical scanner of the present invention is the same as that of the first embodiment described above, and detailed description thereof is omitted.
Such an optical scanner can be suitably applied to an image forming apparatus such as a projector, a laser printer, an imaging display, a barcode reader, and a scanning confocal microscope. As a result, an image forming apparatus having excellent drawing characteristics can be provided.

具体的に、図10に示すようなプロジェクタ9について説明する。なお、説明の便宜上、スクリーンSの長手方向を「横方向」といい、長手方向に直角な方向を「縦方向」という。
プロジェクタ9は、レーザーなどの光を照出する光源装置91と、クロスダイクロイックプリズム92と、本発明の光スキャナ93と、固定ミラー95とを有している。
Specifically, a projector 9 as shown in FIG. 10 will be described. For convenience of explanation, the longitudinal direction of the screen S is referred to as “lateral direction”, and the direction perpendicular to the longitudinal direction is referred to as “vertical direction”.
The projector 9 includes a light source device 91 that emits light such as a laser, a cross dichroic prism 92, an optical scanner 93 according to the present invention, and a fixed mirror 95.

光源装置91は、赤色光を照出する赤色光源装置911と、青色光を照出する青色光源装置912と、緑色光を照出する緑色光源装置913とを備えている。
クロスダイクロイックプリズム92は、4つの直角プリズムを貼り合わせて構成され、赤色光源装置911、青色光源装置912、緑色光源装置913のそれぞれから照出された光を合成する光学素子である。
The light source device 91 includes a red light source device 911 that emits red light, a blue light source device 912 that emits blue light, and a green light source device 913 that emits green light.
The cross dichroic prism 92 is configured by bonding four right-angle prisms, and is an optical element that combines light emitted from each of the red light source device 911, the blue light source device 912, and the green light source device 913.

このようなプロジェクタ9は、赤色光源装置911、青色光源装置912、緑色光源装置913のそれぞれから、図示しないホストコンピュータからの画像情報に基づいて照出された光をクロスダイクロイックプリズム92で合成し、この合成された光が、光スキャナ93によって2次元走査され、さらに固定ミラー95によって反射され、スクリーンS上でカラー画像を形成するように構成されている。   Such a projector 9 combines light emitted from each of the red light source device 911, the blue light source device 912, and the green light source device 913 based on image information from a host computer (not shown) by a cross dichroic prism 92, The combined light is two-dimensionally scanned by the optical scanner 93 and further reflected by the fixed mirror 95 to form a color image on the screen S.

ここで、本発明の光スキャナ93は、光反射部で反射された光を2次元的に走査することができる。したがって、例えば、光反射部をX軸まわりに回動させ、クロスダイクロイックプリズム92で合成された光を横方向に走査(主走査)し、それと同時に、光反射部をY軸まわりに回動させ、クロスダイクロイックプリズム92で合成された光を縦方向に走査(副走査)することにより、2次元カラー画像をスクリーンS上に形成することができる。なお、一般に、副走査を行うための可動板の回動速度は、主走査を行うための可動板の回動速度に対して低速である。形成する画像の種類、サイズなどによっても異なるが、一般的には、副走査を行うために印加する電圧の周波数が60Hz程度で、主走査を行うために印加する電圧の周波数が10〜256kHz程度である。
ここで、プロジェクタなどの画像形成装置は、従来、1次元走査の可能な光スキャナを1対配置するものが知られている。このような画像形成装置では、1対の光スキャナの配設位置を極めて正確に調整しなければ、鮮明な画像を形成することができない。
Here, the optical scanner 93 of the present invention can two-dimensionally scan the light reflected by the light reflecting portion. Therefore, for example, the light reflecting portion is rotated about the X axis, the light synthesized by the cross dichroic prism 92 is scanned in the horizontal direction (main scanning), and at the same time, the light reflecting portion is rotated about the Y axis. A two-dimensional color image can be formed on the screen S by scanning the light synthesized by the cross dichroic prism 92 in the vertical direction (sub-scanning). In general, the rotation speed of the movable plate for performing sub-scanning is lower than the rotation speed of the movable plate for performing main scanning. Generally, the frequency of the voltage applied to perform the sub-scan is about 60 Hz, and the frequency of the voltage applied to perform the main scan is about 10 to 256 kHz, although it depends on the type and size of the image to be formed. It is.
Here, an image forming apparatus such as a projector is conventionally known in which a pair of optical scanners capable of one-dimensional scanning is arranged. In such an image forming apparatus, a clear image cannot be formed unless the arrangement positions of the pair of optical scanners are adjusted very accurately.

これに対し、プロジェクタ9に本発明の光スキャナ93を用いることにより、1つの光スキャナで光を2次元走査することができるため、上述のような配設位置の調整を行わなくとも鮮明な画像をスクリーンS上に形成することができる。したがって、光スキャナ93本来の走査特性を容易に発揮させることができ、かつ、プロジェクタ9の製造の簡易化を図ることができる。またプロジェクタ9の製造コストの削減および小型化を図ることができる。   On the other hand, by using the optical scanner 93 of the present invention for the projector 9, light can be scanned two-dimensionally with one optical scanner, so that a clear image can be obtained without adjusting the arrangement position as described above. Can be formed on the screen S. Therefore, the original scanning characteristics of the optical scanner 93 can be easily exhibited, and the manufacture of the projector 9 can be simplified. In addition, the manufacturing cost and size of the projector 9 can be reduced.

以上、本発明の光学デバイス、光スキャナおよび画像形成装置について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、本発明の光学デバイス、光スキャナおよび画像形成装置では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
また、前述した実施形態では、光学デバイスは、Y軸およびX軸のそれぞれに対しほぼ対称な形状をなしている構造を説明したが、非対称であってもよい。
Although the optical device, the optical scanner, and the image forming apparatus of the present invention have been described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to this. For example, in the optical device, the optical scanner, and the image forming apparatus of the present invention, the configuration of each part can be replaced with any configuration that exhibits the same function, and any configuration can be added. .
In the above-described embodiments, the optical device has been described as having a substantially symmetric shape with respect to the Y axis and the X axis. However, the optical device may be asymmetric.

本発明の光学デバイスの第1実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows 1st Embodiment of the optical device of this invention. 図1中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図1中のB−B線断面図である。It is the BB sectional view taken on the line in FIG. 図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the voltage waveform of the drive voltage of the optical device shown in FIG. 図1に示す光学デバイスの駆動を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the drive of the optical device shown in FIG. 図1中に示す圧電素子の部分断面拡大図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional enlarged view of the piezoelectric element shown in FIG. 1. 図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the voltage waveform of the drive voltage of the optical device shown in FIG. 図1に示す光学デバイスの駆動を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the drive of the optical device shown in FIG. 本発明の光学デバイスの第2実施形態を示す部分断面斜視図である。It is a fragmentary sectional perspective view which shows 2nd Embodiment of the optical device of this invention. 本発明の画像形成装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the image forming apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、1A‥‥‥光学デバイス 2‥‥‥基体 21‥‥‥可動板 211‥‥‥光反射部 22‥‥‥支持部 23、24‥‥‥連結部 231、241‥‥‥弾性部 232、233、242、243‥‥‥駆動部 3、3A‥‥‥支持基板 31‥‥‥開口部(逃げ部) 32A‥‥‥突出部 4‥‥‥接合層 5‥‥‥第1の駆動手段 51〜54‥‥‥圧電素子 511‥‥‥圧電体層 512、513‥‥‥電極 6、6A‥‥‥第2の駆動手段 61〜68、61A〜68A‥‥‥圧電素子 611‥‥‥圧電体層 612‥‥‥電極層 7‥‥‥ケーシング 71‥‥‥蓋体 72‥‥‥箱体 73‥‥‥空間 81、82‥‥‥共通電極 9‥‥‥プロジェクタ 91‥‥‥光源装置 911‥‥‥赤色光源装置 912‥‥‥青色光源装置 913‥‥‥緑色光源装置 92‥‥‥クロスダイクロイックプリズム 93‥‥‥光スキャナ 95‥‥‥固定ミラー S‥‥‥スクリーン X、Y、Z‥‥‥軸   1, 1A ... Optical device 2 ... Base 21 ... Movable plate 211 ... Light reflection part 22 ... Support part 23, 24 ... Connection part 231, 241 ... Elastic part 232, 233, 242, 243 ... drive part 3, 3A ... support substrate 31 ... opening (escape part) 32A ... projection part 4 ... junction layer 5 ... first drive means 51 ... 54 ... Piezoelectric element 511 ... Piezoelectric layer 512, 513 ... Electrode 6, 6A ... Second drive means 61-68, 61A-68A ... Piezoelectric element 611 ... Piezoelectric body Layer 612 ... Electrode layer 7 ... Casing 71 ... Lid 72 ... Box 73 ... Space 81, 82 ... Common electrode 9 ... Projector 91 ... Light source device 911 ... Red light source device 912 Blue light source device 9 13. Green light source device 92 ... Cross dichroic prism 93 ... Optical scanner 95 ... Fixed mirror S ... Screen X, Y, Z ... Axis

Claims (11)

光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光学デバイスであって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする光学デバイス。
A movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity;
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An optical device configured to two-dimensionally scan the light reflected by the light reflecting portion by operating each of the first driving means and the second driving means,
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate An optical device configured to rotate around the Y axis.
前記圧電素子は、前記Y軸を介して互いに対向するように少なくとも1対設けられている請求項1に記載の光学デバイス。   The optical device according to claim 1, wherein at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to face each other via the Y axis. 前記圧電素子は、前記X軸を介して互いに対向するように少なくとも1対設けられている請求項1または2に記載の光学デバイス。   3. The optical device according to claim 1, wherein at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to face each other via the X axis. 前記支持部は、板状をなし、
前記圧電素子は、前記支持部の厚さ方向で、前記支持部を狭持するように少なくとも1対設けられている請求項1ないし3のいずれかに記載の光学デバイス。
The support portion has a plate shape,
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one pair of the piezoelectric elements is provided so as to sandwich the support portion in a thickness direction of the support portion.
前記圧電素子と前記支持部とは、点接触、または、前記Y軸方向へ延在するように線接触している請求項4に記載の光学デバイス。   The optical device according to claim 4, wherein the piezoelectric element and the support portion are in point contact or line contact so as to extend in the Y-axis direction. 前記支持部を狭持する前記1対の圧電素子のそれぞれの伸縮方向での前記支持部とは反対側の端部同士の離間距離を一定に保つための固定部材を有する請求項4または5に記載の光学デバイス。   6. The fixing device according to claim 4 or 5, further comprising a fixing member for maintaining a constant distance between the ends of the pair of piezoelectric elements holding the support portion opposite to the support portions in the expansion and contraction directions. The optical device described. 前記固定部材は、前記支持部を狭持する前記1対の圧電素子を該圧電素子の伸縮方向で狭持するとともに、前記可動板、前記支持部および前記1対の連結部を収容し、前記光反射部での光走査を許容するための光透過部を備えるケーシングである請求項6に記載の光学デバイス。   The fixed member sandwiches the pair of piezoelectric elements sandwiching the support portion in the expansion / contraction direction of the piezoelectric element, and houses the movable plate, the support portion, and the pair of connection portions, The optical device according to claim 6, wherein the optical device is a casing including a light transmission portion for allowing light scanning at the light reflection portion. 前記圧電素子は、複数の圧電体層と複数の電極層とを交互に積層してなるものである請求項1ないし7のいずれかに記載の光学デバイス。   The optical device according to claim 1, wherein the piezoelectric element is formed by alternately laminating a plurality of piezoelectric layers and a plurality of electrode layers. 前記第1の駆動手段は、圧電素子を駆動源として前記可動板を前記X軸まわりに回動させるように構成されている請求項1ないし8のいずれかに記載の光学デバイス。   9. The optical device according to claim 1, wherein the first driving unit is configured to rotate the movable plate around the X axis using a piezoelectric element as a driving source. 光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光スキャナであって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする光スキャナ。
A movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity;
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An optical scanner configured to two-dimensionally scan the light reflected by the light reflecting section by operating each of the first driving unit and the second driving unit,
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate An optical scanner configured to rotate around the Y axis.
光反射性を有する光反射部を備える可動板と、
前記可動板を支持するための支持部と、
前記可動板と前記支持部とを連結する1対の連結部と、
前記1対の連結部のそれぞれを捩れ変形させつつ、前記可動板を前記1対の連結部に沿ったX軸まわりに回動させる第1の駆動手段と、
前記可動板を前記X軸に対して直交するY軸まわりに回動させる第2の駆動手段とを有し、
前記第1の駆動手段および前記第2の駆動手段のそれぞれを作動させることにより、前記光反射部で反射した光を2次元的に走査するように構成された光スキャナを備える画像形成装置であって、
前記第2の駆動手段は、前記Y軸から離間した位置で、かつ、前記可動板の厚さ方向へ伸縮するように設けられた少なくとも1つの圧電素子を備え、前記支持部を前記可動板とともに前記Y軸まわりに回動させるように構成されていることを特徴とする画像形成装置。
A movable plate including a light reflecting portion having light reflectivity;
A support portion for supporting the movable plate;
A pair of connecting portions for connecting the movable plate and the support portion;
First driving means for rotating the movable plate around the X axis along the pair of connecting portions while twisting and deforming each of the pair of connecting portions;
Second driving means for rotating the movable plate around a Y axis orthogonal to the X axis;
An image forming apparatus including an optical scanner configured to two-dimensionally scan light reflected by the light reflecting section by operating each of the first driving unit and the second driving unit. And
The second driving means includes at least one piezoelectric element provided at a position spaced from the Y-axis and extending and contracting in the thickness direction of the movable plate, and the support portion together with the movable plate An image forming apparatus configured to rotate around the Y axis.
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