JP2008108404A - Integrated semiconductor circuit - Google Patents

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JP2008108404A JP2006292954A JP2006292954A JP2008108404A JP 2008108404 A JP2008108404 A JP 2008108404A JP 2006292954 A JP2006292954 A JP 2006292954A JP 2006292954 A JP2006292954 A JP 2006292954A JP 2008108404 A JP2008108404 A JP 2008108404A
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Toshifumi Watanabe
稔史 渡邉
Keiji Maruyama
圭司 丸山
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Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated semiconductor circuit which can reduce the power consumption even when using transistors connecting memory cells and sense amplifiers. <P>SOLUTION: The operation of the control signal A is stopped when column operations are not needed in the integrated semiconductor circuit operating the control signal A of the transistors connecting memory cells and sense amplifiers during access. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は半導体集積回路装置に係わり、特に、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有する半導体集積回路装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device having a transistor for connecting a memory cell and a sense amplifier.

メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有する半導体集積回路装置は、例えば、特許文献1等に記載されている。   A semiconductor integrated circuit device having a transistor for connecting a memory cell and a sense amplifier is described in, for example, Patent Document 1.

このトランジスタはトランスファゲート、又はファイティ(φt)ゲートと呼ばれる。φtゲートは、ビット線対間の微小電位差(セルデータ)をセンスアンプにより差動増幅するときにオフさせる。これにより、センスアンプの増幅ノード対はビット線対から切り離され、センスアンプの増幅ノードの容量が軽くなり、差動増幅の高速化を実現できる。   This transistor is called a transfer gate or a fight (φt) gate. The φt gate is turned off when a minute potential difference (cell data) between the bit line pair is differentially amplified by the sense amplifier. As a result, the amplification node pair of the sense amplifier is disconnected from the bit line pair, the capacitance of the amplification node of the sense amplifier is reduced, and the differential amplification can be speeded up.

φtゲートを制御する制御信号は、半導体集積回路装置のアクセス中、例えば、次のような電位変化をする。   The control signal for controlling the φt gate changes, for example, as follows during access of the semiconductor integrated circuit device.

<増幅セルデータ転送時:データリフレッシュ又はデータリストア>
高電位(電位V1)
<セルデータ差動増幅時:データセンス>
低電位(電位V3)
<セルデータ転送時:データリード>
高電位と低電位との中間の電位(電位V2)
動作の順番は、例えば、次の通りである。
<Amplified cell data transfer: Data refresh or data restore>
High potential (potential V1)
<Differential amplification of cell data: Data sense>
Low potential (potential V3)
<When cell data is transferred: Data read>
An intermediate potential between the high potential and the low potential (potential V2)
The order of operations is, for example, as follows.

制御信号を中間の電位V2として、メモリセルからビット線対に読み出された微小電位差を、ビット線対から増幅ノード対へトランジスタ対を介して転送する(データリード)。   The control signal is set to an intermediate potential V2, and a minute potential difference read from the memory cell to the bit line pair is transferred from the bit line pair to the amplification node pair via the transistor pair (data read).

次に、制御信号を低電位V3として、増幅ノード対とビット線対とをトランジスタ対によって遮断する。遮断した状態で、センスアンプにより増幅ノード対に転送された微小電位差を差動増幅する(データセンス)。   Next, the control signal is set to the low potential V3, and the amplification node pair and the bit line pair are blocked by the transistor pair. In the blocked state, the minute potential difference transferred to the amplification node pair by the sense amplifier is differentially amplified (data sense).

次に、制御信号を高電位V1として、センスアンプで増幅されたデータを増幅ノード対からビット線対へトランジスタ対を介して転送し、ワード線によって選択されたメモリセルにデータを書き込む、あるいはデータを書き戻す。   Next, the control signal is set to the high potential V1, the data amplified by the sense amplifier is transferred from the amplification node pair to the bit line pair through the transistor pair, and the data is written to the memory cell selected by the word line, or the data Write back.

φtゲートを制御する制御信号は、上記の電位変化を、半導体集積回路装置のアクセス中、常時繰り返す。このため、φtゲートを有する半導体集積回路装置は電流消費が大きく、その低消費電力化が妨げられている。
特開2000-11654
The control signal for controlling the φt gate constantly repeats the above potential change during the access of the semiconductor integrated circuit device. For this reason, a semiconductor integrated circuit device having a φt gate consumes a large amount of current, which prevents a reduction in power consumption.
JP2000-11654

この発明は、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有しつつも、低消費電力化を促進できる半導体集積回路装置を提供する。   The present invention provides a semiconductor integrated circuit device that can promote low power consumption while having a transistor that connects a memory cell and a sense amplifier.

この発明の第1態様に係る半導体集積回路装置は、メモリセルとセンスアンプとを接続しているトランジスタの制御信号を、アクセス中に動作させる半導体集積回路装置において、カラム動作を必要としないときに前記制御信号の動作を止める。   The semiconductor integrated circuit device according to the first aspect of the present invention is a semiconductor integrated circuit device that operates a control signal of a transistor that connects a memory cell and a sense amplifier during an access, and does not require a column operation. The operation of the control signal is stopped.

この発明の第2態様に係る半導体集積回路装置は、メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、前記メモリセルに接続されたビット線対と、センスアンプと、前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、前記トランジスタ対を制御する制御信号を生成する制御回路と、を具備し、前記制御回路は、カラム動作時に前記制御信号をクロッキングさせ、カラム動作時以外の動作時に前記制御信号をクロッキングさせない。   A semiconductor integrated circuit device according to a second aspect of the present invention includes a memory cell array in which memory cells are integrated, a bit line pair connected to the memory cell, a sense amplifier, and an amplification node pair connected to the sense amplifier. A transistor pair that connects the bit line pair and the amplification node pair, and a control circuit that generates a control signal for controlling the transistor pair, and the control circuit outputs the control signal during column operation. Clocking is performed, and the control signal is not clocked during an operation other than the column operation.

この発明の第3態様に係る半導体集積回路装置は、メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、前記メモリセルに接続されたビット線対と、センスアンプと、前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、前記トランジスタ対を制御する制御信号を、この制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号、前記制御信号の電位を高電位に制御する信号、及び前記制御信号の電位を低電位に制御する信号の論理に基づいて生成する制御回路と、前記制御信号の電位を低電位に制御する信号を、カラム動作を指示する信号、及びカラム動作以外の動作を指示する信号の論理に基づいて生成する信号生成回路と、を具備する。   A semiconductor integrated circuit device according to a third aspect of the present invention includes a memory cell array in which memory cells are integrated, a bit line pair connected to the memory cell, a sense amplifier, and an amplification node pair connected to the sense amplifier. A transistor pair for connecting the bit line pair and the amplification node pair, a control signal for controlling the transistor pair, a signal for enabling / disabling the control circuit, and controlling the potential of the control signal to a high potential And a control circuit that generates a signal based on the logic of a signal that controls the potential of the control signal to a low potential, a signal that controls the potential of the control signal to a low potential, a signal that instructs column operation, and a column And a signal generation circuit that generates based on the logic of a signal that instructs an operation other than the operation.

この発明は、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有しつつも、低消費電力化を促進できる半導体集積回路装置を提供できる。   The present invention can provide a semiconductor integrated circuit device that can promote low power consumption while having a transistor for connecting a memory cell and a sense amplifier.

以下、この発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.

一実施形態では、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有する半導体集積回路装置の一例としてダイナミック型の半導体メモリセルを有する半導体集積回路装置、例えば、DRAM、擬似SRAM(pseudo SRAM)を示すが、この発明はダイナミック型の半導体メモリセルを有する半導体集積回路装置に限って適用されるものではなく、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有する半導体集積回路装置であれば適用することが可能である。   In one embodiment, a semiconductor integrated circuit device having a dynamic type semiconductor memory cell, for example, a DRAM or a pseudo SRAM is shown as an example of a semiconductor integrated circuit device having a transistor connecting a memory cell and a sense amplifier. The present invention is not limited to a semiconductor integrated circuit device having a dynamic semiconductor memory cell, but can be applied to any semiconductor integrated circuit device having a transistor for connecting a memory cell and a sense amplifier. It is.

図1はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置の一構成例を示すブロック図、図2は図1に示すメモリセルアレイ1及びセンスアンプ2の周辺の一構成例を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing a configuration example of the periphery of the memory cell array 1 and the sense amplifier 2 shown in FIG. .

図1及び図2に示すように、一実施形態に係る半導体集積回路装置は、メモリセル1が集積されたメモリセルアレイと、メモリセル1に接続されたビット線対B、/Bと、センスアンプ2と、センスアンプ2に接続された増幅ノード対C、/Cと、ビット線対B、/Bと増幅ノード対C、/Cとを接続するトランジスタ対3と、トランジスタ対3を制御する制御信号Aを生成する制御回路4とを具備する。   As shown in FIGS. 1 and 2, a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment includes a memory cell array in which memory cells 1 are integrated, a pair of bit lines B and / B connected to the memory cells 1, and a sense amplifier. 2, an amplification node pair C and / C connected to the sense amplifier 2, a transistor pair 3 connecting the bit line pair B and / B and the amplification node pair C and / C, and a control for controlling the transistor pair 3 And a control circuit 4 for generating the signal A.

さらに、図1に示すように、一実施形態に係る半導体集積回路装置のセンスアンプは、両隣のメモリセルアレイどうしで共有する、いわゆるシェアード型センスアンプである。シェアード型センスアンプを持つ半導体集積回路装置の一例を図3Aに示す。   Further, as shown in FIG. 1, the sense amplifier of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment is a so-called shared sense amplifier that is shared between the adjacent memory cell arrays. An example of a semiconductor integrated circuit device having a shared sense amplifier is shown in FIG. 3A.

図3Aに示すように、シェアード型センスアンプを持つ半導体集積回路装置は、第1のメモリセル(1L)が集積された第1のメモリセルアレイ(L1、又はL2)と、第2のメモリセル(1R)が集積された第2のメモリセルアレイ(R1)と、第1のメモリセル(1L)に接続された第1のビット線対(BL、/BL)と、第2のメモリセル(1R)に接続された第2のビット線対(BR、/BR)と、センスアンプ(2-1、又は2-2)と、センスアンプ(2-1、又は2-2)に接続された増幅ノード対(C1、/C1、又はC2、/C2)と、第1のビット線対(BL、/BL)と増幅ノード対(C1、/C1、又はC2、/C2)とを接続する第1のトランジスタ対(3L1、又は3L2)と、第2のビット線対(BR、/BR)と増幅ノード対(C1、/C1、又はC2、/C2)とを接続する第2のトランジスタ対(3R1、又は3R2)と、第1のトランジスタ対(3L1、又は3L2)を制御する第1の制御信号(AL1、又はAL2)及び第2のトランジスタ対(3R1、又は3R2)を制御する第2の制御信号(AR1、又はAR2)を生成する制御回路(4-1、又は4-2)と、を具備する。   As shown in FIG. 3A, a semiconductor integrated circuit device having a shared sense amplifier includes a first memory cell array (L1 or L2) in which first memory cells (1L) are integrated, and a second memory cell ( 1R) integrated second memory cell array (R1), first bit line pair (BL, / BL) connected to first memory cell (1L), and second memory cell (1R) Amplifying node connected to second bit line pair (BR, / BR) connected to, sense amplifier (2-1, 2-2), and sense amplifier (2-1, 2-2) The first pair that connects the pair (C1, / C1, or C2, / C2), the first bit line pair (BL, / BL), and the amplification node pair (C1, / C1, or C2, / C2) Transistor pair (3L1 or 3L2), second bit line pair (BR, / BR) and amplification node (C1, / C1, or C2, / C2) connecting the second transistor pair (3R1, or 3R2) and the first control signal (AL1) for controlling the first transistor pair (3L1, or 3L2) Or AL2) and a control circuit (4-1 or 4-2) for generating a second control signal (AR1 or AR2) for controlling the second transistor pair (3R1 or 3R2). .

シェアード型センスアンプを有する半導体集積回路装置は、左側メモリセルアレイ(例えば、L1)及び右側メモリセルアレイ(例えば、R1)のうち、アクセスされていない方を、第1の制御信号(例えば、AL1)又は第2の制御信号(例えば、AR1)を利用して、共有された増幅ノード対C1、/C1から切り離す。アクセスされている方は、第1の制御信号(例えば、AL1)又は第2の制御信号(例えば、AR1)を利用して、後述するように、図2に示す半導体集積回路装置と同様に制御される。   A semiconductor integrated circuit device having a shared sense amplifier has a first control signal (for example, AL1) or a left memory cell array (for example, L1) and a right memory cell array (for example, R1) that is not accessed. The second control signal (for example, AR1) is used to disconnect from the shared amplification node pair C1, / C1. The accessed person uses the first control signal (for example, AL1) or the second control signal (for example, AR1) to control the same as the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. Is done.

なお、実施形態は、シェアード型センスアンプを持つ半導体集積回路装置に限られるものではない。   The embodiment is not limited to a semiconductor integrated circuit device having a shared sense amplifier.

また、図3Bにセンスアンプの例を示し、図3Cにメモリセルの例を示す。   FIG. 3B shows an example of a sense amplifier, and FIG. 3C shows an example of a memory cell.

図3Bに示すように、センスアンプの一例は、増幅ノードCと増幅ノード/Cとの間の電位差を差動増幅する差動増幅回路である。本例の差動増幅回路は、増幅ノードCと増幅ノード/Cとの間に接続されたラッチ回路である。シェアード型センスアンプも、図3Bに示すセンスアンプが使用される。   As shown in FIG. 3B, an example of the sense amplifier is a differential amplifier circuit that differentially amplifies the potential difference between the amplification node C and the amplification node / C. The differential amplifier circuit of this example is a latch circuit connected between the amplification node C and the amplification node / C. As the shared sense amplifier, the sense amplifier shown in FIG. 3B is used.

図3Cに示すように、メモリセルの一例は、ダイナミック型のメモリセルである。ゲートをワード線に接続し、電流通路の一端をビット線B(又は/B)に接続したスイッチングトランジスタと、一方の電極をスイッチングトランジスタの電流通路の他端に接続し、他方の電極に接地電位と電源電位との中間の電位VPLを受けるキャパシタとを含む。   As shown in FIG. 3C, an example of the memory cell is a dynamic memory cell. A switching transistor in which the gate is connected to the word line and one end of the current path is connected to the bit line B (or / B), one electrode is connected to the other end of the current path of the switching transistor, and the other electrode is grounded. And a capacitor receiving a potential VPL intermediate between the power supply potential.

一実施形態に係る半導体集積回路装置の制御回路4は、カラム動作時に制御信号Aをクロッキングさせ、カラム動作時以外の動作時に制御信号Aをクロッキングさせない。   The control circuit 4 of the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment causes the control signal A to be clocked during the column operation, and does not cause the control signal A to be clocked during an operation other than the column operation.

クロッキングとは、ビット線対B、/B間の微小電位差をセンスアンプ2により差動増幅するときに、増幅ノード対C、/Cをビット線対B、/Bからトランジスタ対3を用いて切り離す動作のことである。   Clocking means that when a minute potential difference between the bit line pair B and / B is differentially amplified by the sense amplifier 2, the amplification node pair C and / C is changed from the bit line pair B and / B to the transistor pair 3. It is the action of detaching.

カラム動作時とは、本例では、メモリセル1からのデータリード動作及びメモリセル1へのデータライト動作を含む動作時を指す。また、カラム動作以外の動作時とは、本例では、データリフレッシュ動作及びコンフィギュレーションモード設定動作の少なくとも一方を含む動作時を指す。データリフレッシュ動作は、メモリセル1が揮発性半導体メモリセル、例えば、ダイナミック型のメモリセルであった場合に、データを、リフレッシュサイクル毎にリフレッシュする動作である。また、コンフィギュレーションモード設定動作とは、例えば、チップ内のROM、又は書き換え可能なROMに記録されたチップ固有の情報、例えば、そのチップのリダンダンシ情報等をレジスタ(リダンダンシ情報セットレジスタ)に転送してセットする動作である。コンフィギュレーションモード設定動作は、例えば、電源投入直後に実行される。   In this example, the column operation time indicates an operation time including a data read operation from the memory cell 1 and a data write operation to the memory cell 1. In the present example, the operation other than the column operation indicates an operation including at least one of a data refresh operation and a configuration mode setting operation. The data refresh operation is an operation of refreshing data every refresh cycle when the memory cell 1 is a volatile semiconductor memory cell, for example, a dynamic memory cell. The configuration mode setting operation refers to, for example, transferring chip-specific information recorded in a ROM in a chip or a rewritable ROM, such as redundancy information of the chip, to a register (redundancy information set register). This is the operation to set. The configuration mode setting operation is executed immediately after the power is turned on, for example.

制御回路4は、図2に示すように、この制御回路4をイネーブル/ディセーブルする信号(以下、イネーブル信号E)、制御信号Aの電位を高電位(V1)に制御する信号(以下、V1信号F)、制御信号Aの電位を低電位(V3)に制御する信号(以下V3信号D)の論理に基づいて、制御信号Aの電位を、高電位V1、低電位V3、又は高電位と低電位との中間の電位V2のいずれかに制御する。   As shown in FIG. 2, the control circuit 4 is a signal for enabling / disabling the control circuit 4 (hereinafter referred to as an enable signal E) and a signal for controlling the potential of the control signal A to a high potential (V1) (hereinafter referred to as V1). Based on the logic of the signal F) and the signal for controlling the potential of the control signal A to the low potential (V3) (hereinafter referred to as V3 signal D), the potential of the control signal A is set to the high potential V1, the low potential V3, or the high potential. The potential is controlled to any one of potential V2 that is intermediate to the low potential.

高電位V1は、センスアンプ2で増幅されたデータを増幅ノード対C、/Cからビット線対B、/Bへトランジスタ対3を介して転送できる電位である。電圧の一例は3.2Vである。   The high potential V1 is a potential at which data amplified by the sense amplifier 2 can be transferred from the amplification node pair C, / C to the bit line pair B, / B via the transistor pair 3. An example of the voltage is 3.2V.

中間の電位V2は、ビット線対B、/B間に現れた微小電位差をビット線対B、/Bから増幅ノード対C、/Cへトランジスタ対3を介して転送できる電位である。電圧の一例は2.3Vである。   The intermediate potential V2 is a potential at which a minute potential difference appearing between the bit line pair B and / B can be transferred from the bit line pair B and / B to the amplification node pair C and / C via the transistor pair 3. An example of the voltage is 2.3V.

低電位V3は、増幅ノード対C、/Cの電位がセンスアンプ2で増幅されているときに、増幅ノード対C、/Cとビット線対B、/Bとをトランジスタ対3によって遮断できる電位である。電圧の一例は0.7Vである。   The low potential V3 is a potential at which the transistor pair 3 can cut off the amplifier node pair C, / C and the bit line pair B, / B when the potential of the amplifier node pair C, / C is amplified by the sense amplifier 2. It is. An example of the voltage is 0.7V.

さらに、V3信号Dは、本例ではカラム動作を指示する信号、及びカラム動作以外の動作を指示する信号の論理に基づいて生成される。このために、本例では、これら信号の論理に基づいてV3信号Dを生成する信号生成回路5を有する。カラム動作を指示する信号は、本例では“G(以下、カラム動作信号G)”であり、カラム動作以外の動作を指示する信号は、本例では“H”及び“I”である。信号Hは、本例ではデータリフレッシュ動作を指示する信号(以下、リフレッシュ動作信号H)であり、信号Iは、本例ではコンフィギュレーションモード設定動作を指示する信号(以下、コンフィギュレーションモード設定信号I)である。本例の信号生成回路5は、カラム動作信号G、リフレッシュ動作信号H、及びコンフィギュレーションモード設定信号Iの論理に基づいて、V3信号Dを生成する。   Further, the V3 signal D is generated based on the logic of a signal instructing a column operation and a signal instructing an operation other than the column operation in this example. For this purpose, this example includes a signal generation circuit 5 that generates the V3 signal D based on the logic of these signals. The signal instructing the column operation is “G (hereinafter, column operation signal G)” in this example, and the signals instructing operations other than the column operation are “H” and “I” in this example. The signal H is a signal instructing a data refresh operation (hereinafter referred to as a refresh operation signal H) in this example, and the signal I is a signal instructing a configuration mode setting operation (hereinafter referred to as a configuration mode setting signal I in this example). ). The signal generation circuit 5 of this example generates the V3 signal D based on the logic of the column operation signal G, the refresh operation signal H, and the configuration mode setting signal I.

以下、制御回路4、及び信号生成回路5の具体的な回路例について説明する。   Hereinafter, specific circuit examples of the control circuit 4 and the signal generation circuit 5 will be described.

図4は制御回路4の一回路例を示す回路図である。   FIG. 4 is a circuit diagram showing a circuit example of the control circuit 4.

図4に示すように、一回路例に係る制御回路4は、イネーブル/ディセーブル回路31と、高電位V1供給回路32と、中間の電圧V2供給回路33と、低電圧V3供給回路34と、を含む。   As shown in FIG. 4, the control circuit 4 according to one circuit example includes an enable / disable circuit 31, a high potential V1 supply circuit 32, an intermediate voltage V2 supply circuit 33, a low voltage V3 supply circuit 34, including.

本例のイネーブル/ディセーブル回路31は、イネーブル信号Eに従って、この制御回路4をイネーブル状態にするかディセーブル状態にするかを決定する。さらに、本例のイネーブル/ディセーブル回路31は、制御回路4をディセーブル状態とするときに、制御回路4の出力に、回路内接地電位Vssを供給する。   The enable / disable circuit 31 of this example determines whether to enable or disable the control circuit 4 according to the enable signal E. Further, the enable / disable circuit 31 of this example supplies the in-circuit ground potential Vss to the output of the control circuit 4 when the control circuit 4 is disabled.

本例の高電位V1供給回路32は、イネーブル/ディセーブル回路31が制御回路4をイネーブル状態とし、V1信号Fが高電位V1とする状態であるときに、制御回路4の出力に高電位V1を供給する。   The high potential V1 supply circuit 32 of this example has a high potential V1 output to the output of the control circuit 4 when the enable / disable circuit 31 enables the control circuit 4 and the V1 signal F is at the high potential V1. Supply.

本例の中間の電位V2供給回路33はイネーブル/ディセーブル回路31が制御回路4をイネーブル状態とし、V1信号Fが高電位V1としない状態、かつ、V3信号Dが低電位V3としない状態であるときに、制御回路4の出力に、中間の電圧V2を供給する。   In the intermediate potential V2 supply circuit 33 of this example, the enable / disable circuit 31 enables the control circuit 4, the V1 signal F does not become the high potential V1, and the V3 signal D does not become the low potential V3. At some time, an intermediate voltage V 2 is supplied to the output of the control circuit 4.

本例の低電位V3供給回路34は、イネーブル/ディセーブル回路31が制御回路4をイネーブル状態とし、V1信号Fが高電位V1としない状態、かつ、V3信号Dが低電位V3とする状態であるときに、制御回路4の出力に、低電圧V3を供給する。   The low potential V3 supply circuit 34 of the present example is in a state where the enable / disable circuit 31 enables the control circuit 4, the V1 signal F is not set to the high potential V1, and the V3 signal D is set to the low potential V3. At some time, the low voltage V3 is supplied to the output of the control circuit 4.

具体的な回路構成の一例をその動作とともに説明する。   An example of a specific circuit configuration will be described together with its operation.

(イネーブル/ディセーブル回路31)
イネーブル/ディセーブル回路31は、イネーブル信号Eを入力に受けるインバータ101と、インバータ101の出力を入力に受けるインバータ102と、インバータ102の出力をゲートに受けるNチャネル型絶縁ゲート型トランジスタ(以下NMOS)103とを有する。NMOS103のソースは回路内接地電位Vssに接続され、そのドレインは制御回路4の出力に接続される。
(Enable / Disable circuit 31)
The enable / disable circuit 31 includes an inverter 101 that receives an enable signal E, an inverter 102 that receives the output of the inverter 101, and an N-channel insulated gate transistor (hereinafter, NMOS) that receives the output of the inverter 102 at the gate. 103. The source of the NMOS 103 is connected to the in-circuit ground potential Vss, and its drain is connected to the output of the control circuit 4.

本例では、イネーブル信号Eの論理は“High”レベル=ディセーブル状態、“Low”レベル=イネーブル状態である、とする。   In this example, the logic of the enable signal E is “High” level = disabled state and “Low” level = enabled state.

イネーブル信号Eが“High”レベルの間、NMOS103のゲートにはインバータ102から“High”レベルの出力が供給され、NMOS103がオンする。NMOS103がオンする結果、制御回路4の出力には回路内接地電位Vssが供給される。   While the enable signal E is at the “High” level, the output of the “High” level is supplied from the inverter 102 to the gate of the NMOS 103, and the NMOS 103 is turned on. As a result of the NMOS 103 being turned on, the output of the control circuit 4 is supplied with the in-circuit ground potential Vss.

反対に、イネーブル信号Eが“Low”レベルの間、NMOS103のゲートにはインバータ102から“Low”レベルの出力が供給されるから、NMOS103はオフする。   On the contrary, while the enable signal E is at the “Low” level, the output of the “Low” level is supplied from the inverter 102 to the gate of the NMOS 103, so that the NMOS 103 is turned off.

また、イネーブル/ディセーブル回路31は、イネーブル信号Eをゲートに受けるNMOS104と、Pチャネル型絶縁ゲート型トランジスタ(以下PMOS)105とを有する。NMOS104のソースは回路内接地電位Vssに接続され、そのドレインはPMOS105のドレインに接続されるとともに、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106に接続される。さらに、イネーブル/ディセーブル回路31は、インバータ101の出力をゲートに受けるNMOS107を有する。NMOS107のソースは制御出力106に接続される。即ち、NMOS107は、PMOS105とともにCMOS型のトランスファゲート108を構成する。トランスファゲート108は、V1供給回路32内のインバータ109の出力と、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106とを接続する。   The enable / disable circuit 31 includes an NMOS 104 that receives an enable signal E at its gate, and a P-channel insulated gate transistor (hereinafter referred to as PMOS) 105. The source of the NMOS 104 is connected to the in-circuit ground potential Vss, and the drain thereof is connected to the drain of the PMOS 105 and to the control output 106 of the enable / disable circuit 31. Further, the enable / disable circuit 31 has an NMOS 107 that receives the output of the inverter 101 at its gate. The source of the NMOS 107 is connected to the control output 106. That is, the NMOS 107 constitutes a CMOS type transfer gate 108 together with the PMOS 105. The transfer gate 108 connects the output of the inverter 109 in the V1 supply circuit 32 and the control output 106 of the enable / disable circuit 31.

イネーブル信号Eが“High”レベルの間、トランスファゲート108(PMOS105及びNMOS107)がオフし、NMOS104がオンする。この結果、制御出力106には回路内接地電位Vssが供給される。   While the enable signal E is at the “High” level, the transfer gate 108 (PMOS 105 and NMOS 107) is turned off and the NMOS 104 is turned on. As a result, the control output 106 is supplied with the in-circuit ground potential Vss.

反対に、イネーブル信号Eが“Low”レベルの間、トランスファゲート108がオンし、NMOS104がオンする。この結果、制御出力106は、V1供給回路32内のインバータ109の出力に接続され、制御出力106には、インバータ109の出力が供給される。   Conversely, while the enable signal E is at the “Low” level, the transfer gate 108 is turned on and the NMOS 104 is turned on. As a result, the control output 106 is connected to the output of the inverter 109 in the V1 supply circuit 32, and the output of the inverter 109 is supplied to the control output 106.

以上、イネーブル/ディセーブル回路31は、イネーブル信号Eに従って制御回路4を“ディセーブル状態”とする間、制御回路4の出力に回路内接地電位Vssを供給し、制御回路4の出力(制御信号A)を本例ではVssレベルとする。これとともに、制御出力106の論理レベルを、本例では“Low”レベルとし、V2供給回路33及びV3供給回路34をディセーブル状態とする。   As described above, the enable / disable circuit 31 supplies the in-circuit ground potential Vss to the output of the control circuit 4 while the control circuit 4 is in the “disabled state” in accordance with the enable signal E, and the output (control signal) of the control circuit 4. In this example, A) is set to the Vss level. At the same time, the logic level of the control output 106 is set to “Low” level in this example, and the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 are disabled.

反対に、イネーブル/ディセーブル回路31は、イネーブル信号Eに従って制御回路4を“イネーブル状態”とする間、制御回路4の出力(制御信号A)を、本例ではV1供給回路32、又はV2供給回路33、又はV3供給回路34のいずれかから供給されるレベルとすることを可能とする。これとともに、制御出力106の論理レベルを、V1信号Fの論理レベルに応じたものとし、V2供給回路33及びV3供給回路34を、V1信号Fに従ってディセーブル状態、又はイネーブル状態とすることを可能とする。   On the contrary, the enable / disable circuit 31 supplies the output of the control circuit 4 (control signal A) to the V1 supply circuit 32 or V2 in this example while the control circuit 4 is in the “enable state” according to the enable signal E. The level supplied from either the circuit 33 or the V3 supply circuit 34 can be set. At the same time, the logic level of the control output 106 can be set according to the logic level of the V1 signal F, and the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 can be disabled or enabled according to the V1 signal F. And

(高電位V1供給回路32)
高電位V1供給回路32は、V1信号Fを入力に受けるインバータ109と、インバータ109の出力をゲートに受けるPMOS110とを有する。
(High potential V1 supply circuit 32)
High potential V1 supply circuit 32 includes inverter 109 that receives V1 signal F at its input and PMOS 110 that receives the output of inverter 109 at its gate.

V1信号Fが“Low”レベルの間、インバータ109の出力は“High”レベルとなり、PMOS110はオフする。これとともに、トランスファゲート108の電流通路の一端を“High”レベルとする。トランスファゲート108がオンしていれば、インバータ109からの“High”レベルの出力は、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106に転送され、V2供給回路33及びV3供給回路34はイネーブル状態となる。   While the V1 signal F is at the “Low” level, the output of the inverter 109 is at the “High” level, and the PMOS 110 is turned off. At the same time, one end of the current path of the transfer gate 108 is set to the “High” level. If the transfer gate 108 is on, the "High" level output from the inverter 109 is transferred to the control output 106 of the enable / disable circuit 31, and the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 are enabled. .

反対に、V1信号Fが“High”レベルの間、インバータ109の出力は“Low”レベルとなるから、PMOS110がオンして高電位V1が制御回路4の出力に供給される。この結果、制御回路4の出力(制御信号A)は高電位V1となる。これとともに、トランスファゲート108の電流通路の一端を“Low”レベルとなるから、トランスファゲート108がオンしていれば、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106は“Low”レベルとなり、V2供給回路33及びV3供給回路34はディーブル状態となる。   Conversely, while the V1 signal F is at the “High” level, the output of the inverter 109 is at the “Low” level, so that the PMOS 110 is turned on and the high potential V1 is supplied to the output of the control circuit 4. As a result, the output (control signal A) of the control circuit 4 becomes the high potential V1. At the same time, one end of the current path of the transfer gate 108 becomes “Low” level. Therefore, if the transfer gate 108 is turned on, the control output 106 of the enable / disable circuit 31 becomes “Low” level, and the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 are in a disabled state.

(中間の電位V2供給回路33)
中間の電位V2供給回路33は、V3信号Dを第1入力に受け、制御出力106の電位を第2入力に受ける2入力型NANDゲート回路111と、NANDゲート回路111の出力をゲートに受けるPMOS112とを有する。
(Intermediate potential V2 supply circuit 33)
The intermediate potential V2 supply circuit 33 receives the V3 signal D at the first input, the two-input NAND gate circuit 111 that receives the potential of the control output 106 at the second input, and the PMOS 112 that receives the output of the NAND gate circuit 111 at the gate. And have.

V2供給回路33は、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106の電位に応じてイネーブル状態となるかディセーブル状態となるかが決定される。本例では、一例として、制御出力106の電位が“High”レベルでイネーブル状態となり、“Low”レベルでディセーブル状態となる例を示す。   Whether the V2 supply circuit 33 is enabled or disabled is determined according to the potential of the control output 106 of the enable / disable circuit 31. In this example, as an example, the control output 106 is enabled when the potential of the control output 106 is “High” level, and is disabled when the potential of the control output 106 is “Low”.

V2供給回路33はディセーブル状態の間、V3信号Dの論理レベルに関わらず、制御回路4の出力に中間の電位V2を供給しない。   During the disabled state, the V2 supply circuit 33 does not supply the intermediate potential V2 to the output of the control circuit 4 regardless of the logic level of the V3 signal D.

反対に、V2供給回路33はイネーブル状態の間、V3信号Dの論理レベルに応じて制御回路4の出力に中間の電位V2を供給する。本例では、イネーブル状態、かつ、V3信号Dが“High”レベルの間、NANDゲート回路111の出力が“Low”レベルとなるから、PMOS112がオンして制御回路4の出力に中間の電位V2が供給される。この結果、制御回路4の出力(制御信号A)は中間の電位V2となる。   On the contrary, the V2 supply circuit 33 supplies the intermediate potential V2 to the output of the control circuit 4 according to the logic level of the V3 signal D during the enable state. In this example, since the output of the NAND gate circuit 111 is at the “Low” level while the V3 signal D is in the enable state and the V3 signal D is at the “High” level, the PMOS 112 is turned on and the output of the control circuit 4 has an intermediate potential V2 Is supplied. As a result, the output (control signal A) of the control circuit 4 becomes an intermediate potential V2.

(低電位V3供給回路34)
低電位V3供給回路34は、V3信号Dを第1入力に受け、制御出力106の電位を反転させた電位を第2入力に受ける2入力型NORゲート回路113と、NORゲート回路113の出力をゲートに受けるNMOS114とを有する。
(Low potential V3 supply circuit 34)
The low potential V3 supply circuit 34 receives the V3 signal D at the first input, receives the potential obtained by inverting the potential of the control output 106 at the second input, and outputs the NOR gate circuit 113. NMOS 114 received at the gate.

V3供給回路34は、V2供給回路32と同様に、イネーブル/ディセーブル回路31の制御出力106の電位に応じてイネーブル状態となるかディセーブル状態となるかが決定される。本例では、一例として、制御出力106の電位が“High”レベルでイネーブル状態となり、“Low”レベルでディセーブル状態となる例を示す。   Similar to the V2 supply circuit 32, the V3 supply circuit 34 is determined to be enabled or disabled according to the potential of the control output 106 of the enable / disable circuit 31. In this example, as an example, the control output 106 is enabled when the potential of the control output 106 is “High” level, and is disabled when the potential of the control output 106 is “Low”.

V3供給回路34はディセーブル状態の間、V3信号Dの論理レベルに関わらず、制御回路4の出力に低電位V3を供給しない。   During the disabled state, the V3 supply circuit 34 does not supply the low potential V3 to the output of the control circuit 4 regardless of the logic level of the V3 signal D.

反対に、V3供給回路34はイネーブル状態の間、V3信号Dの論理レベルに応じて制御回路4の出力に低電位V3を供給する。本例では、イネーブル状態、かつ、V3信号Dが“Low”レベルの間、NORゲート回路113の出力が“High”レベルとなるから、NMOS114がオンして制御回路4の出力に低電位V3が供給される。この結果、制御回路4の出力(制御信号A)は低電位V3となる。   On the contrary, the V3 supply circuit 34 supplies the low potential V3 to the output of the control circuit 4 according to the logic level of the V3 signal D during the enable state. In this example, since the output of the NOR gate circuit 113 is at the “High” level while the V3 signal D is in the enable state and the V3 signal D is at the “Low” level, the NMOS 114 is turned on and the low potential V3 is applied to the output of the control circuit 4. Supplied. As a result, the output of the control circuit 4 (control signal A) becomes the low potential V3.

図5Aは信号生成回路5の一回路例を示す回路図である。   FIG. 5A is a circuit diagram showing one circuit example of the signal generation circuit 5.

図5Aに示すように、一回路例に係る信号生成回路5は、基本的に、カラム動作信号Gがカラム動作を指示したときに、V3信号Dを、制御信号Aが低電位V3となるように生成する回路である。しかし、本例では、このような信号生成回路5に、カラム動作信号Gがカラム動作を指示していても、低電位V3とならないようにV3信号Dを強制的に制御する機能を付加している。   As shown in FIG. 5A, the signal generation circuit 5 according to one circuit example basically has a V3 signal D and a control signal A at a low potential V3 when the column operation signal G indicates a column operation. It is a circuit to generate. However, in this example, a function for forcibly controlling the V3 signal D is added to such a signal generation circuit 5 so that the column operation signal G does not become the low potential V3 even if the column operation signal G instructs the column operation. Yes.

このために、本例では、V3抑制信号Jを生成するV3抑制信号生成回路41を備えている。V3抑制信号JがV3抑制を指示しているときには、カラム動作信号Gがカラム動作を指示していたとしても、V3信号Dの論理レベルは、低電位V3としない論理レベルに強制的に制御される。本例では、V3抑制信号Jは、リフレッシュ動作信号H及びコンフィギュレーションモード設定信号Gに基づいて生成される。さらに、本例では、抑制信号Jは、リフレッシュ動作、及びコンフィギュレーションモード設定動作の少なくともいずれか一方が指示されている間は、V3抑制信号JはV3抑制を指示する。   Therefore, in this example, a V3 suppression signal generation circuit 41 that generates a V3 suppression signal J is provided. When the V3 suppression signal J indicates V3 suppression, even if the column operation signal G indicates column operation, the logic level of the V3 signal D is forcibly controlled to a logic level that is not the low potential V3. The In this example, the V3 suppression signal J is generated based on the refresh operation signal H and the configuration mode setting signal G. Further, in this example, the suppression signal J instructs the V3 suppression while at least one of the refresh operation and the configuration mode setting operation is instructed.

具体的な回路の一例は、V3抑制信号生成回路41は、リフレッシュ動作信号Hを第1入力に受け、コンフィギュレーションモード設定信号Iを第2入力に受ける2入力型NORゲート回路200を有し、NORゲート回路200はV3抑制信号Jを出力する。具体的には、V3抑制信号生成回路41は、リフレッシュ動作信号H及びコンフィギュレーションモード設定信号Gの少なくとも一方が“High”レベルの間、V3抑制信号Jを“Low”レベルとする。本例では、V3抑制信号Jが“Low”レベルである間、V3信号Dの論理レベルは、低電位V3としない論理レベルに強制的に制御される。   As an example of a specific circuit, the V3 suppression signal generation circuit 41 includes a two-input type NOR gate circuit 200 that receives a refresh operation signal H at a first input and a configuration mode setting signal I at a second input. The NOR gate circuit 200 outputs a V3 suppression signal J. Specifically, the V3 suppression signal generation circuit 41 sets the V3 suppression signal J to the “Low” level while at least one of the refresh operation signal H and the configuration mode setting signal G is at the “High” level. In this example, while the V3 suppression signal J is at the “Low” level, the logic level of the V3 signal D is forcibly controlled to a logic level that is not the low potential V3.

さて、信号生成回路5は、カラム動作信号Gを第1入力に受け、V3抑制信号Jを第2入力に受ける2入力型NANDゲート回路201と、NANDゲート回路201の出力を入力に受けるインバータ202と、インバータ202の出力を入力に受けるレベルシフタ203とを有する。レベルシフタ203は“High”レベルの電位を高電位V1としたV3信号Dを出力する。なお、本例のレベルシフタは、例えば、図5Bに示すように反転型レベルシフタであり、論理はインバータと同じである。   The signal generation circuit 5 receives the column operation signal G at the first input and receives the V3 suppression signal J at the second input, and the inverter 202 receives the output of the NAND gate circuit 201 at the input. And a level shifter 203 that receives the output of the inverter 202 as an input. The level shifter 203 outputs a V3 signal D with the “High” level potential set to the high potential V1. The level shifter of this example is an inverting type level shifter as shown in FIG. 5B, for example, and the logic is the same as that of the inverter.

NANDゲート回路201は、V3抑制信号Jが“High”レベルの間、カラム動作信号Gの論理レベルを反転させて出力する。従って、V3信号Dは、カラム動作信号Gの論理レベルに応じて変化する。反対に、V3抑制信号Jが“Low”レベルの間、NANDゲート回路201は、その出力の論理レベルを、カラム動作信号Gの論理レベルに関わらず“High”レベルに固定する。従って、V3信号Dは、カラム動作信号Gの論理レベルに関わらず“High”レベルに固定される。このため、V3信号Dの論理レベルは、低電位V3としない論理レベルに強制的に制御される。   The NAND gate circuit 201 inverts and outputs the logic level of the column operation signal G while the V3 suppression signal J is at the “High” level. Therefore, the V3 signal D changes according to the logic level of the column operation signal G. On the contrary, while the V3 suppression signal J is at the “Low” level, the NAND gate circuit 201 fixes the output logic level to the “High” level regardless of the logic level of the column operation signal G. Accordingly, the V3 signal D is fixed to the “High” level regardless of the logical level of the column operation signal G. For this reason, the logic level of the V3 signal D is forcibly controlled to a logic level not set to the low potential V3.

次に、具体的な動作の一例を説明する。   Next, an example of a specific operation will be described.

(カラム動作時)
図6はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置のカラム動作時の一動作例を示す動作波形図である。
(During column operation)
FIG. 6 is an operation waveform diagram showing an operation example in the column operation of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention.

この動作は、例えば、データリード動作を例にする。   This operation is, for example, a data read operation.

図6に示すように、まず、最初の状態としては、各信号は以下のようなレベルにある。   As shown in FIG. 6, first, in the initial state, each signal is at the following level.

リフレッシュ信号H=“Low”
コンフィギュレーションモード設定信号I=“Low”
イネーブル/ディセーブル信号E=“High”
カラム動作信号G=“Low”
V3信号D=“High”
V1信号F=“Low”
この状態においては、イネーブル/ディセーブル信号E=“High”であるから、NMOS103がオンして制御信号Aの電位はVssとなる。
Refresh signal H = "Low"
Configuration mode setting signal I = "Low"
Enable / disable signal E = "High"
Column operation signal G = "Low"
V3 signal D = "High"
V1 signal F = "Low"
In this state, since the enable / disable signal E = “High”, the NMOS 103 is turned on and the potential of the control signal A becomes Vss.

この後、時刻t1において、イネーブル/ディセーブル信号Eが“High”レベルから“Low”レベルに変化する。制御回路4はディセーブル状態からイネーブル状態となる。V3信号は“High”レベル、及びV1信号Fは“Low”レベルであるから、V2供給回路33のNANDゲート回路111の2つの入力はともに“High”レベルとなり、PMOS112がオンして制御信号Aの電位は中間の電位V2となる。   Thereafter, at time t1, the enable / disable signal E changes from the “High” level to the “Low” level. The control circuit 4 changes from the disabled state to the enabled state. Since the V3 signal is at the “High” level and the V1 signal F is at the “Low” level, the two inputs of the NAND gate circuit 111 of the V2 supply circuit 33 are both at the “High” level, and the PMOS 112 is turned on and the control signal A Becomes an intermediate potential V2.

この状態では、ビット線対B、/Bと、増幅ノード対C、/Cがトランジスタ対3を介して接続されているから、メモリセル1から読み出された微小電位差(セルデータ)は、ビット線対B、/Bから増幅ノード対C、/Cへ転送される。   In this state, since the bit line pair B, / B and the amplification node pair C, / C are connected via the transistor pair 3, the minute potential difference (cell data) read from the memory cell 1 is a bit. Transfer is performed from the line pair B, / B to the amplification node pair C, / C.

次いで、カラム動作信号Gが“Low”レベルから“High”レベルとなり、これを受けてV3信号Dが“High”レベルから“Low”レベルとなる。そして、時刻t2において、V3供給回路34のNORゲート回路113の2つの入力はともに“Low”レベルとなり、NMOS114がオンして制御信号Aの電位は低電位V3となる。   Next, the column operation signal G changes from the “Low” level to the “High” level, and in response to this, the V3 signal D changes from the “High” level to the “Low” level. At time t2, the two inputs of the NOR gate circuit 113 of the V3 supply circuit 34 are both at the “Low” level, the NMOS 114 is turned on, and the potential of the control signal A becomes the low potential V3.

この状態では、ビット線対B、/Bと、増幅ノード対C、/Cはトランジスタ対3によって遮断されている状態であるから、センスアンプ2は、増幅ノード対C、/Cの微小電位差を差動増幅する。データリード時においては、ビット線対B、/Bの容量が増幅ノード対C、/Cの容量から切り離されるから、差動増幅される部分の容量は小さくなり、差動増幅は高速になされる。このため、データリード時には、高速に差動増幅されたデータ、即ち、増幅ノード対C、/Cに電位差として現れたデータが、図示せぬカラムゲート及びデータ線を介して図示せぬI/O回路に転送される。このため、メモリセルからI/O回路までのデータ読み出し動作が速い。   In this state, the bit line pair B and / B and the amplification node pair C and / C are in a state of being cut off by the transistor pair 3, so that the sense amplifier 2 has a small potential difference between the amplification node pair C and / C. Amplify differentially. At the time of data read, the capacity of the bit line pair B and / B is separated from the capacity of the amplification node pair C and / C, so that the capacity of the differentially amplified portion is reduced and the differential amplification is performed at high speed. . For this reason, at the time of data reading, data that is differentially amplified at high speed, that is, data that appears as a potential difference at the amplification node pair C, / C is not shown through a column gate and a data line (not shown). Transferred to the circuit. For this reason, the data read operation from the memory cell to the I / O circuit is fast.

次いで、V1信号Fが“Low”レベルから“High”レベルとなり、V2供給回路33、及びV3供給回路34がディセーブル状態となるともに、PMOS110がオンして制御信号Aの電位は高電位V1となる。   Next, the V1 signal F changes from the “Low” level to the “High” level, the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 are disabled, the PMOS 110 is turned on, and the potential of the control signal A becomes the high potential V1. Become.

この状態では、ビット線対B、/Bと、増幅ノード対C、/Cがトランジスタ対3を介して再接続されるから、センスアンプ2は、増幅ノード対C、/Cからビット線対B、/Bまでの電位差を増幅する。この後、読み出されたセルデータは、読み出し先のメモリセルに書き戻される(データリストア)。   In this state, since the bit line pair B, / B and the amplification node pair C, / C are reconnected via the transistor pair 3, the sense amplifier 2 is connected to the bit line pair B from the amplification node pair C, / C. , / B is amplified. Thereafter, the read cell data is written back to the read-out memory cell (data restore).

なお、本明細書では、上述した通り、制御信号Aの電位を中間の電位V2から低電位V3に下げ、さらに、低電位V3から高電位V1に上げる動作を、制御信号Aをクロッキングさせる、と呼んでいる。   In the present specification, as described above, the operation of lowering the potential of the control signal A from the intermediate potential V2 to the low potential V3 and further increasing the potential from the low potential V3 to the high potential V1 causes the control signal A to be clocked. It is called.

(カラム動作時以外)
図7はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置のカラム動作時以外の一動作例を示す動作波形図である。
(Except during column operation)
FIG. 7 is an operation waveform diagram showing an operation example other than the column operation of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention.

この動作は、例えば、データリフレッシュ動作を例にする。   For example, this operation is a data refresh operation.

図7に示すように、まず、最初の状態がカラム動作時と異なるところは、リフレッシュ信号Hが“High”レベルであり、データリフレッシュ動作を指示しているところである。それ以外はカラム動作時(データリード動作時)と同じである。   As shown in FIG. 7, the difference between the initial state and the column operation is that the refresh signal H is at the “High” level and the data refresh operation is instructed. The rest is the same as in the column operation (data read operation).

なお、コンフィギュレーションモード設定信号Iを“High”レベルとしても、以下に説明される動作と同じ動作をする。   Even when the configuration mode setting signal I is set to the “High” level, the same operation as described below is performed.

時刻t1〜時刻t3までの流れも、カラム動作時(データリード動作時)とほぼ同じであるが、制御信号Aをクロッキングさせないところが異なる。   The flow from time t1 to time t3 is also substantially the same as in the column operation (data read operation), but is different in that the control signal A is not clocked.

カラム動作時(データリード動作時)には、カラム動作信号Gが“Low”レベルから“High”レベルとなり、これを受けてV3信号Dが“High”レベルから“Low”レベルとなる。しかし、カラム動作時以外(データリフレッシュ動作時)には、リフレッシュ信号Hが“H”レベルとなっているから、信号生成回路5はV3信号Dを“High”レベルに固定する。このため、V3供給回路34が制御信号Aを低電位V3とせず、V2供給回路33が制御信号Aを中間の電位V2とする状態を維持し続ける。   During the column operation (data read operation), the column operation signal G changes from the “Low” level to the “High” level, and in response to this, the V3 signal D changes from the “High” level to the “Low” level. However, since the refresh signal H is at the “H” level except during the column operation (during the data refresh operation), the signal generation circuit 5 fixes the V3 signal D at the “High” level. For this reason, the V3 supply circuit 34 does not set the control signal A to the low potential V3, and the V2 supply circuit 33 continues to maintain the state in which the control signal A is set to the intermediate potential V2.

この状態では、ビット線対B、/Bが増幅ノード対C、/Cがトランジスタ対3によって接続されたままであるから、センスアンプ2は、増幅ノード対C、/Cからビット線対B、/Bまでの微小電位差を差動増幅する。データリフレッシュ動作時には、増幅ノード対C、/Cに電位差として現れたデータを、図示せぬカラムゲートの外部まで転送する必要がない。従って、データリフレッシュ動作時には、増幅ノード対C、/Cの微小電位差が高速に差動増幅されなくても構わない。   In this state, since the bit line pair B, / B remains connected by the amplification node pair C and / C by the transistor pair 3, the sense amplifier 2 is connected to the bit line pair B, / C from the amplification node pair C, / C. The minute potential difference up to B is differentially amplified. During the data refresh operation, it is not necessary to transfer data that appears as a potential difference between the amplification node pair C and / C to the outside of the column gate (not shown). Therefore, during the data refresh operation, the minute potential difference between the amplification node pair C and / C may not be differentially amplified at high speed.

次いで、V1信号Fが“Low”レベルから“High”レベルとなり、V2供給回路33、及びV3供給回路34がディセーブル状態となるともに、PMOS110がオンして制御信号Aの電位は高電位V1となる。   Next, the V1 signal F changes from the “Low” level to the “High” level, the V2 supply circuit 33 and the V3 supply circuit 34 are disabled, the PMOS 110 is turned on, and the potential of the control signal A becomes the high potential V1. Become.

この状態では、ビット線対B、/Bと、増幅ノード対C、/Cがトランジスタ対3を介して再接続されるから、センスアンプ2は、増幅ノード対C、/Cからビット線対B、/Bまでの電位差を増幅する。この後、読み出されたセルデータは、読み出し先のメモリセルに書き戻される(データリフレッシュ)。   In this state, since the bit line pair B, / B and the amplification node pair C, / C are reconnected via the transistor pair 3, the sense amplifier 2 is connected to the bit line pair B from the amplification node pair C, / C. , / B is amplified. Thereafter, the read cell data is written back to the read-out memory cell (data refresh).

ビット線対B、/Bの容量は、増幅ノード対C、/Cの容量よりも極めて大きい。このため、ビット線対B、/Bの容量と増幅ノード対C、/Cの容量とを足し合わせた合計容量は、ほぼビット線対B、/Bの容量と同じである、と考えても差し支えない。   The capacity of the bit line pair B, / B is much larger than the capacity of the amplification node pair C, / C. For this reason, even if it is considered that the total capacity of the capacity of the bit line pair B, / B and the capacity of the amplification node pair C, / C is almost the same as the capacity of the bit line pair B, / B. There is no problem.

つまり、データリード動作時のデータリストアに要する時間と、データリフレッシュ動作時のデータリフレッシュに要する時間とはほぼ同じ、と考えて良い。従って、データリフレッシュ動作時に、制御信号Aをクロッキングさせない本実施形態に係る半導体集積回路装置の動作速度は、データリフレッシュ動作時にも制御信号Aをクロッキングさせる従来の半導体集積回路装置の動作速度に比べて何等遜色はない。   That is, it can be considered that the time required for data restoration during the data read operation and the time required for data refresh during the data refresh operation are substantially the same. Therefore, the operation speed of the semiconductor integrated circuit device according to this embodiment in which the control signal A is not clocked during the data refresh operation is the same as the operation speed of the conventional semiconductor integrated circuit device in which the control signal A is clocked during the data refresh operation. Compared with nothing inferior.

また、制御信号Aをクロッキングさせると、特に、低電位V1から高電位V3まで制御信号Aをブーストするときに大量の電流を消費する。従来の半導体集積回路装置は制御信号Aの動作を止める、例えば、制御信号Aをクロッキングさせない、という思想が無いので、制御信号Aは常時クロッキングする。このため、消費電流が大きい。   Further, when the control signal A is clocked, a large amount of current is consumed particularly when the control signal A is boosted from the low potential V1 to the high potential V3. Since the conventional semiconductor integrated circuit device has no idea that the operation of the control signal A is stopped, for example, the control signal A is not clocked, the control signal A is always clocked. For this reason, current consumption is large.

対して、本実施形態は、カラム動作時、例えば、データリード動作時には制御信号Aをクロッキングさせるが、カラム動作時以外、例えば、データリフレッシュ動作時及びコンフィギュレーションモード設定動作時には制御信号Aの動作を止めるようにした。本例では、データリフレッシュ動作時及びコンフィギュレーションモード設定動作時には制御信号Aをクロッキングさせず、制御信号Aのブーストは中間の電位V2から高電位V1までとする。これにより、低電位V1から高電位V3まで制御信号Aをブーストするときに比較して電流消費を削減できる。   On the other hand, in the present embodiment, the control signal A is clocked at the time of column operation, for example, at the time of data read operation, but the operation of the control signal A is not at the time of column operation, for example, at the time of data refresh operation and configuration mode setting operation. I tried to stop. In this example, the control signal A is not clocked during the data refresh operation and the configuration mode setting operation, and the boost of the control signal A is from the intermediate potential V2 to the high potential V1. Thereby, current consumption can be reduced as compared with the case where the control signal A is boosted from the low potential V1 to the high potential V3.

しかも、本例では、制御信号Aを常時クロッキングさせないので、制御信号Aが常時クロッキングする従来の半導体集積回路装置に比べて、消費電流の削減量が大きい。   In addition, in this example, since the control signal A is not always clocked, the amount of current consumption is reduced compared to the conventional semiconductor integrated circuit device in which the control signal A is always clocked.

また、リフレッシュ動作をする半導体集積回路装置は、電源が入っている間のほとんど、例えば、少なく見積もっても8割方の時間がリフレッシュ動作に費やされる場合があることを踏まえると、本実施形態は、電源が入っている状態のうちの8割方の時間で消費電力を節約していることになる。このため、制御信号Aが流れる信号線一本当たり、50%〜60%近くの消費電流削減を見込むことも可能である。   In addition, in the semiconductor integrated circuit device that performs the refresh operation, in light of the fact that, for example, 80% of the time may be spent at least when the power is turned on, the present embodiment is This means that power consumption is saved in 80% of the time when the power is on. For this reason, it is possible to expect a reduction in current consumption of 50% to 60% per signal line through which the control signal A flows.

また、一回路例における工夫としては、基本的に、低電位V1、中間の電位V2、高電位V3の3つの電位をとる制御信号Aを、高電位V1を制御するV1信号と低電位V3を制御するV3信号との論理で制御するようにしたことである。   Further, as a device in one circuit example, basically, a control signal A that takes three potentials of a low potential V1, an intermediate potential V2, and a high potential V3, a V1 signal that controls the high potential V1, and a low potential V3 are used. This means that the control is based on the logic with the V3 signal to be controlled.

即ち、V1信号とV3信号との論理が、“高電位V1としない”及び“低電位V3としない”ときには、“中間の電位V2とする”とする。これにより、V3信号の論理が“低電位V3とする”であったとき、これを“低電位V3としない”とする論理に強制的に変更すれば、“中間の電位V2とする”とする論理を得ることができる。これにより、制御信号Aをクロッキングさせない、即ち、中間の電位V2を維持する状態を生成する回路を簡単に得ることができる、という利点を得ることができる。これは、制御回路4の素子数の増加を抑制できる、という利点につながる。   That is, when the logic of the V1 signal and the V3 signal is “not set to the high potential V1” and “not set to the low potential V3”, it is set to “middle potential V2.” Thus, when the logic of the V3 signal is “set to low potential V3”, if it is forcibly changed to the logic “not set to low potential V3”, it is set to “middle potential V2”. You can get logic. As a result, it is possible to obtain an advantage that it is possible to easily obtain a circuit that does not clock the control signal A, that is, generates a state that maintains the intermediate potential V2. This leads to an advantage that an increase in the number of elements of the control circuit 4 can be suppressed.

さらに、V3信号の論理が“低電位V3とする”であったとき、これを“低電位V3としない”とする論理に強制的に変更することには、“低電位V3としない”状態を選ぶときに自由度がある、という利点がある。例えば、本実施形態では、データリフレッシュ動作時と、コンフィギュレーション動作時に、制御信号Aをクロッキングさせないように制御しているが、例えば、図5に示すV3抑制信号生成回路41に、信号H、Iに加えて、他の動作を指示する信号をさらに付加すれば、この信号に指示される他の動作においても、さらに制御信号Aをクロッキングさせないようすることが可能である。さらには、信号H、Iのどちらかを外すことも可能である。しかも、このような変更に際して、制御回路4を変更する必要もない。   Further, when the logic of the V3 signal is “set to low potential V3”, forcibly changing the logic to “not set to low potential V3”, the state of “not set to low potential V3” is set. There is an advantage that there is a degree of freedom when choosing. For example, in the present embodiment, the control signal A is controlled so as not to be clocked during the data refresh operation and the configuration operation. For example, the V3 suppression signal generation circuit 41 shown in FIG. If a signal instructing another operation is added in addition to I, it is possible to prevent the control signal A from being clocked even in another operation instructed by this signal. Furthermore, it is possible to remove one of the signals H and I. In addition, it is not necessary to change the control circuit 4 in such a change.

このように、一実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、カラム動作以外の動作時に、トランジスタ対3を制御する制御信号Aを止めること、例えば、制御信号Aをクロッキングさせないことで、半導体集積回路装置のアクセス中における電流消費を低減させることができる。   As described above, according to the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment, the control signal A for controlling the transistor pair 3 is stopped during the operation other than the column operation, for example, the control signal A is not clocked. Current consumption during access of the integrated circuit device can be reduced.

この結果、一実施形態に係る半導体集積回路装置は、メモリセルとセンスアンプとを接続するトランジスタを有しつつも、低消費電力化を促進できる。   As a result, the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment can promote low power consumption while having a transistor connecting the memory cell and the sense amplifier.

また、一実施形態に係る半導体集積回路装置は、カラム動作時には、制御信号Aを止めないこと、例えば、制御信号Aをクロッキングさせるので、増幅ノード対における差動増幅の高速化が妨げられることも無い。   Further, the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment does not stop the control signal A during the column operation, for example, the control signal A is clocked, which hinders speeding up of differential amplification in the amplification node pair. There is no.

このように、低消費電力化のために、差動増幅の高速化が妨げられることも無いので、上記低消費電力化を促進できる効果は、高速動作を維持したまま得ることができる。   As described above, since the speeding up of the differential amplification is not hindered in order to reduce the power consumption, the effect of promoting the low power consumption can be obtained while maintaining the high speed operation.

高速動作、かつ低消費電力なメモリセルを有する半導体集積回路装置は、電子機器であれば利用することが可能であるが、バッテリで動作可能な電子機器、例えば、携帯電子機器のメモリとして最適である。携帯電子機器の例としては、パーソナルコンピュータ、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、デジタルカメラ(スチルカメラ、ムービーカメラ、スチル/ムービーカメラ)、携帯電話、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機器、電子ブック等を挙げることができる。   A semiconductor integrated circuit device having a memory cell with high-speed operation and low power consumption can be used as long as it is an electronic device, but is optimal as a memory for an electronic device that can be operated by a battery, for example, a portable electronic device. is there. Examples of portable electronic devices include personal computers, personal digital assistants (PDAs), digital cameras (still cameras, movie cameras, still / movie cameras), mobile phones, portable music players, portable game devices, electronic books, etc. Can do.

上記一実施形態に係る半導体集積回路装置は、さらに以下の態様を含む。   The semiconductor integrated circuit device according to the one embodiment further includes the following aspects.

(1) メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続されたビット線対と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、
前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、
前記トランジスタ対を制御する制御信号を生成する制御回路と、を具備し、
前記制御回路は、カラム動作時に前記制御信号をクロッキングさせ、カラム動作時以外の動作時に前記制御信号をクロッキングさせない半導体集積回路装置。
(1) a memory cell array in which memory cells are integrated;
A pair of bit lines connected to the memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node pair connected to the sense amplifier;
A transistor pair connecting the bit line pair and the amplification node pair;
A control circuit for generating a control signal for controlling the transistor pair,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the control circuit clocks the control signal during a column operation and does not clock the control signal during an operation other than the column operation.

(2) (1)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記クロッキングは前記ビット線対間の微小電位差を前記センスアンプにより差動増幅するときに、前記増幅ノード対を前記ビット線対から前記トランジスタ対を用いて切り離す動作である。
(2) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (1),
The clocking is an operation of separating the amplification node pair from the bit line pair using the transistor pair when a minute potential difference between the bit line pair is differentially amplified by the sense amplifier.

(3) (1)及び(2)いずれかの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記カラム動作時は、前記メモリセルからのデータリード動作及び前記メモリセルへのデータライト動作を含み、
前記カラム動作以外の動作時は、データリフレッシュ動作及びコンフィギュレーションモード設定動作を含む。
(3) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (1) and (2),
The column operation includes a data read operation from the memory cell and a data write operation to the memory cell,
The operation other than the column operation includes a data refresh operation and a configuration mode setting operation.

(4) (3)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記制御回路は、
この制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号、
前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号、及び
前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号の論理に基づいて、前記制御信号の電位を、前記高電位(V1)、前記低電位(V3)及び前記高電位と前記低電位との中間の電位(V2)に制御し、
前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号は、前記データリード動作及び前記データライト動作を指示する信号、前記データリフレッシュ動作を指示する信号、前記コンフィギュレーションモード設定動作を指示する信号の論理に基づいて生成する。
(4) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (3),
The control circuit includes:
A signal to enable / disable this control circuit,
Based on the logic of the signal for controlling the potential of the control signal to a high potential (V1) and the signal for controlling the potential of the control signal to a low potential (V3), the potential of the control signal is changed to the high potential (V1). ), The low potential (V3) and an intermediate potential (V2) between the high potential and the low potential,
The signal for controlling the potential of the control signal to a low potential (V3) includes a signal for instructing the data read operation and the data write operation, a signal for instructing the data refresh operation, and a signal for instructing the configuration mode setting operation Generate based on the logic.

(5) (4)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記高電位(V1)は、前記センスアンプで増幅されたデータを前記増幅ノード対から前記ビット線対へ前記トランジスタ対を介して転送できる電位であり、
前記中間の電位(V2)は、前記ビット線対間に現れた微小電位差を前記ビット線対から前記増幅ノード対へ前記トランジスタ対を介して転送できる電位であり、
前記低電位(V3)は、前記増幅ノード対の電位が前記センスアンプで増幅されているときに、前記増幅ノード対と前記ビット線対とを前記トランジスタ対によって遮断できる電位である。
(5) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (4),
The high potential (V1) is a potential at which data amplified by the sense amplifier can be transferred from the amplification node pair to the bit line pair via the transistor pair.
The intermediate potential (V2) is a potential at which a minute potential difference appearing between the bit line pair can be transferred from the bit line pair to the amplification node pair via the transistor pair.
The low potential (V3) is a potential at which the amplification node pair and the bit line pair can be blocked by the transistor pair when the potential of the amplification node pair is amplified by the sense amplifier.

(6) (4)又は(5)いずれかの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記制御回路は、
前記制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号に従って、この制御回路をイネーブル状態にするかディセーブル状態にするかを決定するイネーブル/ディセーブル回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位とする状態であるときに、前記制御回路の出力に前記高電位(V1)を供給する高電位(V1)供給回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位としない状態であり、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号が前記低電位としない状態であるときに、前記制御回路の出力に、前記中間の電圧(V2)を供給する中間の電圧(V2)供給回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位としない状態であり、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号が前記低電位とする状態であるときに、前記制御回路の出力に、前記低電圧(V3)を供給する低電圧(V3)供給回路と、を含む。
(6) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (4) and (5),
The control circuit includes:
An enable / disable circuit that determines whether to enable or disable the control circuit according to a signal that enables / disables the control circuit;
When the enable / disable circuit is in the enabled state and the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is the high potential, the output of the control circuit has the high potential (V1). ) For supplying a high potential (V1),
The enable / disable circuit is enabled, the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is not set to the high potential, and the potential of the control signal is controlled to the low potential (V3). An intermediate voltage (V2) supply circuit that supplies the intermediate voltage (V2) to the output of the control circuit when the signal to be output is not in the low potential state;
The enable / disable circuit is enabled, the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is not set to the high potential, and the potential of the control signal is controlled to the low potential (V3). A low voltage (V3) supply circuit that supplies the low voltage (V3) to the output of the control circuit when the signal to be output is in the state of the low potential.

(7) (6)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記イネーブル/ディセーブル回路は、ディセーブル状態であるとき、前記制御回路の出力に、回路内接地電位を供給する。
(7) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (6),
The enable / disable circuit supplies an in-circuit ground potential to the output of the control circuit when in the disabled state.

(8) (4)乃至(7)いずれかの一つの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記データリード動作及び前記データライト動作を指示する信号、前記データリフレッシュ動作を指示する信号、前記コンフィギュレーションモード設定動作を指示する信号の論理に基づいて、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号を生成する信号生成回路を有する。
(8) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (4) to (7),
Based on the logic of the signal instructing the data read operation and the data write operation, the signal instructing the data refresh operation, and the signal instructing the configuration mode setting operation, the potential of the control signal is set to a low potential (V3). A signal generation circuit for generating a signal to be controlled.

(9) メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続されたビット線対と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、
前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、
前記トランジスタ対を制御する制御信号を、この制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号、及び前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号の論理に基づいて生成する制御回路と、
前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号を、カラム動作を指示する信号、及びカラム動作以外の動作を指示する信号の論理に基づいて生成する信号生成回路と
を具備する半導体集積回路装置。
(9) a memory cell array in which memory cells are integrated;
A pair of bit lines connected to the memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node pair connected to the sense amplifier;
A transistor pair connecting the bit line pair and the amplification node pair;
A control signal for controlling the transistor pair includes a signal for enabling / disabling the control circuit, a signal for controlling the potential of the control signal to a high potential (V1), and a potential of the control signal to a low potential (V3). A control circuit that is generated based on the logic of the signal to be controlled;
A semiconductor integrated circuit comprising: a signal generation circuit that generates a signal for controlling the potential of the control signal to a low potential (V3) based on a logic of a signal for instructing a column operation and a signal for instructing an operation other than the column operation; Circuit device.

(10) (9)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記制御回路は、前記カラム動作時に前記制御信号をクロッキングし、前記カラム動作時以外の動作時に前記制御信号をクロッキングしない。
(10) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (9),
The control circuit clocks the control signal during the column operation and does not clock the control signal during an operation other than the column operation.

(11) (10)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記クロッキングは前記ビット線対間の微小電位差を前記センスアンプにより差動増幅するときに、前記増幅ノード対を前記ビット線対から前記トランジスタ対を用いて切り離す動作である。
(11) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (10),
The clocking is an operation of separating the amplification node pair from the bit line pair using the transistor pair when a minute potential difference between the bit line pair is differentially amplified by the sense amplifier.

(12) (9)乃至(11)のいずれか一つの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記カラム動作は、前記メモリセルからのデータリード動作及び前記メモリセルへのデータライト動作を含み、
前記カラム動作以外の動作は、データリフレッシュ動作及びコンフィギュレーションモード設定動作を含む。
(12) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (9) to (11),
The column operation includes a data read operation from the memory cell and a data write operation to the memory cell,
Operations other than the column operation include a data refresh operation and a configuration mode setting operation.

(13) (12)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記信号生成回路は、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号を、前記データリード動作及び前記データライト動作を指示する信号、前記データリフレッシュ動作を指示する信号、前記コンフィギュレーションモード設定動作を指示する信号の論理に基づいて生成する。
(13) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (12),
The signal generation circuit controls a signal for controlling the potential of the control signal to a low potential (V3), a signal for instructing the data read operation and the data write operation, a signal for instructing the data refresh operation, and the configuration mode It is generated based on the logic of the signal that instructs the setting operation.

(14) (9)乃至(13)いずれか一つの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記高電位(V1)は、前記センスアンプで増幅されたデータを前記増幅ノード対から前記ビット線対へ前記トランジスタ対を介して転送できる電位であり、
前記中間の電位(V2)は、前記ビット線対間に現れた微小電位差を前記ビット線対から前記増幅ノード対へ前記トランジスタ対を介して転送できる電位であり、
前記低電位(V3)は、前記増幅ノード対の電位が前記センスアンプで増幅されているときに、前記増幅ノード対と前記ビット線対とを前記トランジスタ対によって遮断できる電位である。
(14) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (9) to (13),
The high potential (V1) is a potential at which data amplified by the sense amplifier can be transferred from the amplification node pair to the bit line pair via the transistor pair.
The intermediate potential (V2) is a potential at which a minute potential difference appearing between the bit line pair can be transferred from the bit line pair to the amplification node pair via the transistor pair.
The low potential (V3) is a potential at which the amplification node pair and the bit line pair can be blocked by the transistor pair when the potential of the amplification node pair is amplified by the sense amplifier.

(15) (9)乃至(14)いずれか一つの態様に係る半導体集積回路装置において、
前記制御回路は、
前記制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号に従って、この制御回路をイネーブル状態にするかディセーブル状態にするかを決定するイネーブル/ディセーブル回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位とする状態であるときに、前記制御回路の出力に前記高電位(V1)を供給する高電位(V1)供給回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位としない状態であり、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号が前記低電位としない状態であるときに、前記制御回路の出力に、前記中間の電圧(V2)を供給する中間の電圧(V2)供給回路と、
前記イネーブル/ディセーブル回路がイネーブル状態であり、前記制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号が前記高電位としない状態であり、前記制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号が前記低電位とする状態であるときに、前記制御回路の出力に、前記低電圧(V3)を供給する低電圧(V3)供給回路と、を含む。
(15) In the semiconductor integrated circuit device according to any one of (9) to (14),
The control circuit includes:
An enable / disable circuit that determines whether to enable or disable the control circuit according to a signal that enables / disables the control circuit;
When the enable / disable circuit is in the enabled state and the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is the high potential, the output of the control circuit has the high potential (V1). ) For supplying a high potential (V1),
The enable / disable circuit is enabled, the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is not set to the high potential, and the potential of the control signal is controlled to the low potential (V3). An intermediate voltage (V2) supply circuit that supplies the intermediate voltage (V2) to the output of the control circuit when the signal to be output is not in the low potential state;
The enable / disable circuit is enabled, the signal for controlling the potential of the control signal to the high potential (V1) is not set to the high potential, and the potential of the control signal is controlled to the low potential (V3). A low voltage (V3) supply circuit that supplies the low voltage (V3) to the output of the control circuit when the signal to be output is in the state of the low potential.

(16) (15)の態様に係る半導体集積回路装置において、
前記イネーブル/ディセーブル回路は、ディセーブル状態であるとき、前記制御回路の出力に、回路内接地電位を供給する。
(16) In the semiconductor integrated circuit device according to the aspect of (15),
The enable / disable circuit supplies an in-circuit ground potential to the output of the control circuit when in the disabled state.

(17) 第1のメモリセルが集積された第1のメモリセルアレイと、
第2のメモリセルが集積された第2のメモリセルアレイと、
前記第1のメモリセルに接続された第1のビット線と、
前記第2のメモリセルに接続された第2のビット線と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノードと、
前記第1のビット線と前記増幅ノードとを接続する第1のトランジスタと、
前記第2のビット線と前記増幅ノードとを接続する第2のトランジスタと、
前記第1のトランジスタを制御する第1の制御信号及び前記第2のトランジスタを制御する第2の制御信号を生成する制御回路と、を具備し、
前記制御回路は、カラム動作時に前記第1、第2の制御信号をクロッキングさせ、カラム動作時以外の動作時に前記第1、第2の制御信号をクロッキングさせない半導体集積回路装置。
(17) a first memory cell array in which the first memory cells are integrated;
A second memory cell array in which second memory cells are integrated;
A first bit line connected to the first memory cell;
A second bit line connected to the second memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node connected to the sense amplifier;
A first transistor connecting the first bit line and the amplification node;
A second transistor connecting the second bit line and the amplification node;
A control circuit for generating a first control signal for controlling the first transistor and a second control signal for controlling the second transistor;
The semiconductor integrated circuit device, wherein the control circuit clocks the first and second control signals during a column operation and does not clock the first and second control signals during an operation other than the column operation.

(18) 第1のメモリセルが集積された第1のメモリセルアレイと、
第2のメモリセルが集積された第2のメモリセルアレイと、
前記第1のメモリセルに接続された第1のビット線と、
前記第2のメモリセルに接続された第2のビット線と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノードと、
前記第1のビット線と前記増幅ノードとを接続する第1のトランジスタと、
前記第2のビット線と前記増幅ノードとを接続する第2のトランジスタと、
前記第1、第2のトランジスタを制御する第1、第2の制御信号を、この制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号、前記第1、第2の制御信号の電位を高電位(V1)に制御する信号、及び前記第1、第2の制御信号の電位を低電位(V2)に制御する信号の論理に基づいて生成する制御回路と
前記第1、第2の制御信号の電位を低電位(V3)に制御する信号を、カラム動作を指示する信号、及びカラム動作以外の動作を指示する信号の論理に基づいて生成する信号生成回路と
を具備する半導体集積回路装置。
(18) a first memory cell array in which the first memory cells are integrated;
A second memory cell array in which second memory cells are integrated;
A first bit line connected to the first memory cell;
A second bit line connected to the second memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node connected to the sense amplifier;
A first transistor connecting the first bit line and the amplification node;
A second transistor connecting the second bit line and the amplification node;
The first and second control signals for controlling the first and second transistors, the signal for enabling / disabling the control circuit, and the potentials of the first and second control signals to a high potential (V1). A control circuit that generates a signal to be controlled based on the logic of a signal that controls the potential of the first and second control signals to a low potential (V2); and the potential of the first and second control signals is a low potential A semiconductor integrated circuit device comprising: a signal generation circuit that generates a signal to be controlled to (V3) based on a logic of a signal that instructs a column operation and a signal that instructs an operation other than the column operation.

(19) メモリセルとセンスアンプとを接続しているトランジスタの制御信号を、アクセス中に動作させる半導体集積回路装置において、
カラム動作を必要としないときに前記制御信号の動作を止める。
(19) In a semiconductor integrated circuit device that operates a control signal of a transistor connecting a memory cell and a sense amplifier during access,
When the column operation is not required, the operation of the control signal is stopped.

(20) メモリセルとセンスアンプとを接続しているトランジスタの制御信号を、アクセス中に動作させる半導体集積回路装置において、
データリフレッシュ動作時に前記制御信号の動作を止める。
(20) In a semiconductor integrated circuit device that operates a control signal of a transistor connecting a memory cell and a sense amplifier during access,
The operation of the control signal is stopped during the data refresh operation.

(21) メモリセルとセンスアンプとを接続しているトランジスタの制御信号を、アクセス中に動作させる半導体集積回路装置において、
コンフィギュレーションモード設定時に前記制御信号の動作を止める。
(21) In a semiconductor integrated circuit device that operates a control signal of a transistor connecting a memory cell and a sense amplifier during access,
When the configuration mode is set, the operation of the control signal is stopped.

(22) (1)乃至(21)いずれか一つの態様に係る半導体集積回路装置をメモリとして利用した電子機器。 (22) An electronic device using the semiconductor integrated circuit device according to any one of (1) to (21) as a memory.

(23) (22)の態様に係る電子機器は、バッテリで動作可能な電子機器である。 (23) The electronic device according to the aspect of (22) is an electronic device operable with a battery.

(24) (23)の態様に係るバッテリで動作可能な電子機器は、携帯電子機器である。 (24) The electronic device operable with the battery according to the aspect of (23) is a portable electronic device.

(25) (24)の態様に係る携帯電子機器は、パーソナルコンピュータ、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、デジタルカメラ(スチルカメラ、ムービーカメラ、スチル/ムービーカメラ)、携帯電話、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機器、電子ブックを含む。 (25) A portable electronic device according to the aspect of (24) includes a personal computer, a personal digital assistant (PDA), a digital camera (still camera, movie camera, still / movie camera), a mobile phone, a portable music player, and a portable game device. , Including e-books.

以上、この発明を一実施形態により説明したが、この発明は一実施形態に限定されるものではなく、その実施にあたっては発明の要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、この発明の実施形態は、上記一実施形態が唯一のものでもない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated by one Embodiment, this invention is not limited to one Embodiment, In the implementation, it can change variously in the range which does not deviate from the summary of invention. Further, the embodiment of the present invention is not the only one described above.

また、上記一実施形態は種々の段階の発明を含んでおり、上記一実施形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。   In addition, the above-described embodiment includes various stages of the invention, and the invention of various stages can be extracted by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiment.

図1はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置の一構成例を示すブロック図FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. 図2はメモリセルアレイ及びセンスアンプの周辺の一構成例を示すブロック図FIG. 2 is a block diagram showing a configuration example of the periphery of the memory cell array and the sense amplifier. 図3Aはシェアード型センスアンプを有する半導体集積回路装置の一例を示す図、図3Bはセンスアンプの一例を示す回路図、図3Cはメモリセルの一例を示す回路図3A is a diagram illustrating an example of a semiconductor integrated circuit device having a shared sense amplifier, FIG. 3B is a circuit diagram illustrating an example of a sense amplifier, and FIG. 3C is a circuit diagram illustrating an example of a memory cell. 図4は制御回路4の一回路例を示す回路図FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the control circuit 4. 図5Aは信号生成回路5の一回路例を示す回路図、図5Bはレベルシフタの一回路例を示す回路図5A is a circuit diagram showing an example of the signal generation circuit 5, and FIG. 5B is a circuit diagram showing an example of the level shifter. 図6はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置のカラム動作時の一動作例を示す動作波形図FIG. 6 is an operation waveform diagram showing an operation example in the column operation of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. 図7はこの発明の一実施形態に係る半導体集積回路装置のカラム動作時以外の一動作例を示す動作波形図FIG. 7 is an operation waveform diagram showing an operation example other than the column operation of the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…メモリセル、2…センスアンプ、3…トランジスタ対、4…制御回路、5…信号生成回路     DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell, 2 ... Sense amplifier, 3 ... Transistor pair, 4 ... Control circuit, 5 ... Signal generation circuit

Claims (5)

メモリセルとセンスアンプとを接続しているトランジスタの制御信号を、アクセス中に動作させる半導体集積回路装置において、
カラム動作を必要としないときに前記制御信号の動作を止めることを特徴とする半導体集積回路装置。
In a semiconductor integrated circuit device that operates a control signal of a transistor connecting a memory cell and a sense amplifier during access,
A semiconductor integrated circuit device, wherein the operation of the control signal is stopped when a column operation is not required.
前記カラム動作を必要としないときの動作は、データリフレッシュ動作であることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。   2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the operation when the column operation is not required is a data refresh operation. 前記カラム動作を必要としないときの動作は、コンフィギュレーションモード設定動作であることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。   2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the operation when the column operation is not required is a configuration mode setting operation. メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続されたビット線対と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、
前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、
前記トランジスタ対を制御する制御信号を生成する制御回路と、を具備し、
前記制御回路は、カラム動作時に前記制御信号をクロッキングさせ、カラム動作時以外の動作時に前記制御信号をクロッキングさせないことを特徴とする半導体集積回路装置。
A memory cell array in which memory cells are integrated;
A pair of bit lines connected to the memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node pair connected to the sense amplifier;
A transistor pair connecting the bit line pair and the amplification node pair;
A control circuit for generating a control signal for controlling the transistor pair,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the control circuit clocks the control signal during a column operation and does not clock the control signal during an operation other than the column operation.
メモリセルが集積されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続されたビット線対と、
センスアンプと、
前記センスアンプに接続された増幅ノード対と、
前記ビット線対と前記増幅ノード対とを接続するトランジスタ対と、
前記トランジスタ対を制御する制御信号を、この制御回路をイネーブル/ディセーブルする信号、前記制御信号の電位を高電位に制御する信号、及び前記制御信号の電位を低電位に制御する信号の論理に基づいて生成する制御回路と、
前記制御信号の電位を低電位に制御する信号を、カラム動作を指示する信号、及びカラム動作以外の動作を指示する信号の論理に基づいて生成する信号生成回路と
を具備する半導体集積回路装置。
A memory cell array in which memory cells are integrated;
A pair of bit lines connected to the memory cell;
A sense amplifier,
An amplification node pair connected to the sense amplifier;
A transistor pair connecting the bit line pair and the amplification node pair;
The control signal for controlling the transistor pair is changed to a logic of a signal for enabling / disabling the control circuit, a signal for controlling the potential of the control signal to a high potential, and a signal for controlling the potential of the control signal to a low potential. A control circuit to generate based on,
A semiconductor integrated circuit device comprising: a signal generation circuit configured to generate a signal for controlling a potential of the control signal to a low potential based on a logic of a signal for instructing a column operation and a signal for instructing an operation other than the column operation.
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JP2010113753A (en) * 2008-11-05 2010-05-20 Nec Electronics Corp Semiconductor memory device and semiconductor memory device operation method

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