JP2008102132A - 光分岐を使用する、マイクロ機械加工した干渉計のためのシステム、方法、および装置 - Google Patents
光分岐を使用する、マイクロ機械加工した干渉計のためのシステム、方法、および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008102132A JP2008102132A JP2007248525A JP2007248525A JP2008102132A JP 2008102132 A JP2008102132 A JP 2008102132A JP 2007248525 A JP2007248525 A JP 2007248525A JP 2007248525 A JP2007248525 A JP 2007248525A JP 2008102132 A JP2008102132 A JP 2008102132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- interference
- interferometer
- layer
- medium
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 38
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 33
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 claims description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 8
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 238000009615 fourier-transform spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02049—Interferometers characterised by particular mechanical design details
- G01B9/02051—Integrated design, e.g. on-chip or monolithic
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0256—Compact construction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/45—Interferometric spectrometry
- G01J3/453—Interferometric spectrometry by correlation of the amplitudes
- G01J3/4535—Devices with moving mirror
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
- G02B26/0841—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
【解決手段】ビームスプリッタは、入射ビームIを受容するように光結合しており、入射ビームをそれぞれ異なる媒体内を伝播する2つの干渉ビームL1、L2に分岐するように動作する。こうした媒体の一方に埋め込まれた固定鏡M2は、一方の干渉ビームL2を反射し、この干渉ビームを、上記媒体を通って半平面ビームスプリッタへ戻す。その一方で、アクチュエータによって制御される可動鏡M1は、他方の干渉ビームL1を反射して、この干渉ビームを他方の媒体を通って上記半平面ビームスプリッタへ戻す。検出面D1またはD2は、反射された干渉ビームL3、L4間の干渉によって生成された干渉パターンを検出する。
【選択図】図1
Description
Claims (10)
- マイクロ機械加工を施した干渉計であって、
入射ビーム(I)を受容し、前記入射ビーム(I)をそれぞれ異なる媒体内を伝播する2つの干渉ビーム(L1、L2)に分岐するように光結合した半平面ビームスプリッタと、
第1反射干渉ビーム(L4)を生成するように、前記2つの干渉ビームのうちの第1のビーム(L2)を受容し、前記2つの干渉ビームのうちの第1のビーム(L2)を反射して前記半平面ビームスプリッタへ戻すように光結合した、第1媒体内に埋め込まれた固定鏡(M2)と、
第2反射干渉ビーム(L3)を生成するように、前記2つの干渉ビームのうちの第2のビーム(L1)を受容し、前記2つの干渉ビームのうちの第2のビーム(L1)を反射して前記半平面ビームスプリッタへ戻すように光結合した、第2媒体内の可動鏡(M1)と、
前記第1反射干渉ビーム(L4)と前記第2反射干渉ビーム(L3)の間の干渉によって生成された干渉パターンを検出するように光結合した検出平面(D1またはD2)と、
前記可動鏡(M1)の変位を生じさせるように前記可動鏡(M1)に結合したアクチュエータ(40)と、によって特徴付けられ、前記変位によって、前記2つの干渉ビーム(L1、L2)の間の光路長の差が前記変位の2倍の長さと等しくなる、干渉計。 - 前記第1媒体はシリコンであり、前記第2媒体は空気である、請求項1に記載の干渉計。
- 前記第1媒体はシリコン、ガラス、パイレックス、または石英であり、前記第2媒体はガスまたは液体である、請求項1に記載の干渉計。
- 前記固定鏡(M2)と前記可動鏡(M1)は金属製の鏡である、請求項1に記載の干渉計。
- 前記固定鏡と前記可動鏡は非金属製の垂直ブラッグミラーである、請求項1に記載の干渉計。
- 前記干渉計はマイケルソン干渉計、マッハツェンダー干渉計、またはトワイマングリーン干渉計である、請求項1に記載の干渉計。
- 前記干渉ビームの前記第1のビーム(L2)は、前記半平面ビームスプリッタにより前記入射ビーム(I)を部分伝達させることで生成され、前記干渉ビームの前記第2のビーム(L1)は、前記入射ビーム(I)を前記半平面ビームスプリッタから部分的に反射させることで生成され、前記干渉ビームの前記第2のビーム(L1)の反射角度は、前記入射ビーム(I)の入射角と等しい、請求項1に記載の干渉計。
- 頂部層(310)、底部層(300)、前記頂部層(310)と前記底部層(300)の間に埋め込んだSOI酸化層(305)を含むシリコン・オン・インシュレータ(SOI)ウェーハを使用して、マイクロ機械加工を施した干渉計を製造する方法であって、
入射ビーム(I)を受容するように光結合したファイバ溝(20)と、前記入射ビーム(I)を2つの干渉ビーム(L1、L2)に分岐するように光結合した半平面ビームスプリッタと、前記干渉ビームの一方(L1)を第1媒体を通って反射させるように光結合した可動鏡(M1)と、前記干渉ビームの他方(L2)を第2媒体を通って反射させるように光結合した固定鏡(M2)と、前記反射された干渉ビーム(L3、L4)から生成された干渉パターンを検出するように光結合した検出面(D2)と、前記可動鏡(M1)を制御するように結合したアクチュエータ(40)と、を前記SOIウェーハの前記頂部層(310)内にフォトリソグラフィ的に定めることと、
前記SOIウェーハの前記頂部層(310)と前記SOIウェーハの前記底部層(300)の間にエッチングを施し、その後前記SOIに埋め込んだ酸化物層を部分的に除去することで前記可動鏡(M1)と前記アクチュエータ(40)を解放することとによって特徴付けられる方法。 - 前記フォトリソグラフィ的に定めるステップは、
前記頂部層(310)上にアルミニウム層(315)を形成するステップと、
前記アルミニウム層(315)上にフォトレジスト層(320)を形成するステップと、
前記フォトレジスト層(320)内にリソグラフィパターンを定めるステップであって、前記リソグラフィパターンは前記ファイバ溝(20)、半平面ビームスプリッタ、可動鏡(M1)、固定鏡(M2)、検出面(D2)およびアクチュエータ(40)を定めるステップと、
ディープ・リアクティブ・イオン・エッチング法を用いて前記アルミニウム層(315)と前記頂部層310をエッチングすることで、前記リソグラフィパターンを前記SOIウェーハの前記頂部層(310)に転写させるステップと、
前記フォトレジスト層(320)を除去するステップと、
をさらに備える、請求項8に記載の方法。 - シャドーマスク(340)を提供するステップと、
前記シャドーマスク(340)を、前記SOIウェーハの前記フォトリソグラフィ的に定めた頂部層(310)上に配置するステップと、
前記シャドーマスク(340)を介して金属材料をスパッタリングすることで、前記半平面ビームスプリッタを保護しながら、前記固定鏡(M2)と前記可動鏡(M1)上に金属層(330)を形成するステップと、
をさらに備える、請求項8に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84801806P | 2006-09-28 | 2006-09-28 | |
US60/848,018 | 2006-09-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008102132A true JP2008102132A (ja) | 2008-05-01 |
JP5204450B2 JP5204450B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=38920731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007248525A Active JP5204450B2 (ja) | 2006-09-28 | 2007-09-26 | 光分岐を使用する、マイクロ機械加工した干渉計のためのシステム、方法、および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7796267B2 (ja) |
EP (1) | EP1906159B1 (ja) |
JP (1) | JP5204450B2 (ja) |
AT (1) | ATE457062T1 (ja) |
DE (1) | DE602007004659D1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2211141A2 (en) | 2009-01-26 | 2010-07-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical module with an optical semiconductor element and a movable mirror |
JP2013504066A (ja) * | 2009-09-08 | 2013-02-04 | シーウェア システムズ | マイクロ電子機械的システム(mems)干渉計 |
JP2013522600A (ja) * | 2010-03-09 | 2013-06-13 | シーウェア システムズ | 光学干渉計におけるミラー位置を決定する技法 |
KR20140026531A (ko) | 2011-05-16 | 2014-03-05 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광 모듈 및 그 제조 방법 |
WO2015025691A1 (ja) | 2013-08-19 | 2015-02-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光干渉計を製造する方法 |
JP2015511318A (ja) * | 2011-10-20 | 2015-04-16 | シーウェア システムズSi−Ware Systems | 3d湾曲光素子を含む集積化されたモノリシック光ベンチ、及びその作製方法 |
US9372285B2 (en) | 2011-05-16 | 2016-06-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Production method for optical component and optical component |
JP2018072516A (ja) * | 2016-10-27 | 2018-05-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | 位置検出方法及び光モジュール |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011091012A2 (en) * | 2010-01-19 | 2011-07-28 | Si-Ware Systems | Interferometer with variable optical path length reference mirror and applications thereof |
US8922787B2 (en) | 2013-01-07 | 2014-12-30 | Si-Ware Systems | Spatial splitting-based optical MEMS interferometers |
US9557556B2 (en) | 2013-03-18 | 2017-01-31 | Si-Ware Systems | Integrated apertured micromirror and applications thereof |
US9395465B2 (en) | 2014-07-31 | 2016-07-19 | Baker Hughes Incorporated | Gravity and/or acceleration measurements using dual interferometer configurations |
US10562055B2 (en) | 2015-02-20 | 2020-02-18 | Si-Ware Systems | Selective step coverage for micro-fabricated structures |
JP6943452B2 (ja) * | 2016-06-15 | 2021-09-29 | シーウェア システムズSi−Ware Systems | 一体型スペクトルユニット |
FR3076357B1 (fr) * | 2017-12-29 | 2021-10-22 | Cailabs | Cavite multi passage d’un dispositif optique de manipulation spatiale d’un rayonnement lumineux. |
US11085825B2 (en) | 2018-03-30 | 2021-08-10 | Si-Ware Systems | Self-referenced spectrometer |
US11895779B2 (en) * | 2018-09-20 | 2024-02-06 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd. | Substrate processing method |
US11287322B2 (en) * | 2019-02-06 | 2022-03-29 | California Institute Of Technology | Compact hyperspectral mid-infrared spectrometer |
WO2021092579A1 (en) | 2019-11-08 | 2021-05-14 | California Institute Of Technology | Infrared spectrometer having dielectric-polymer-based spectral filter |
US11774289B2 (en) | 2021-11-02 | 2023-10-03 | Saudi Arabian Oil Company | Micro-electromechanical system (MEMS) interferometer for FT-MIR spectroscopy |
US11635369B1 (en) | 2021-11-02 | 2023-04-25 | Saudi Arabian Oil Company | Miniature FT-MIR using a MEMS interferometer with a metasurface emitter and detector |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4632553A (en) | 1985-02-25 | 1986-12-30 | Nicolet Instrument Corporation | Silicon beamsplitter |
US5087124A (en) * | 1989-05-09 | 1992-02-11 | Smith Rosemary L | Interferometric pressure sensor capable of high temperature operation and method of fabrication |
US5159408A (en) * | 1991-03-27 | 1992-10-27 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Optical thickness profiler using synthetic wavelengths |
DE4241045C1 (de) | 1992-12-05 | 1994-05-26 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zum anisotropen Ätzen von Silicium |
US5628917A (en) * | 1995-02-03 | 1997-05-13 | Cornell Research Foundation, Inc. | Masking process for fabricating ultra-high aspect ratio, wafer-free micro-opto-electromechanical structures |
IL149016A0 (en) * | 2002-04-07 | 2004-03-28 | Green Vision Systems Ltd Green | Method and device for real time high speed high resolution spectral imaging |
US7180603B2 (en) * | 2003-06-26 | 2007-02-20 | Zygo Corporation | Reduction of thermal non-cyclic error effects in interferometers |
US7349072B2 (en) * | 2003-10-09 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20080204879A1 (en) * | 2004-06-25 | 2008-08-28 | Omar Manzardo | Miniature Lamellar Grating Interferometer Based on Silicon Technology |
CA2588095A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-08-17 | Morgan Research Corporation | Miniature fourier transform spectrophotometer |
US7705994B2 (en) * | 2005-11-23 | 2010-04-27 | Agilent Technologies, Inc. | Monolithic displacement measuring interferometer with spatially separated but substantially equivalent optical pathways and optional dual beam outputs |
KR100737177B1 (ko) * | 2006-05-15 | 2007-07-10 | 경북대학교 산학협력단 | 수직 공진 표면광 레이저를 이용한 간섭계 |
US7719693B2 (en) * | 2007-04-23 | 2010-05-18 | The Aerospace Corporation | Interferometry system chamber viewing window |
-
2007
- 2007-09-13 US US11/900,885 patent/US7796267B2/en active Active
- 2007-09-26 JP JP2007248525A patent/JP5204450B2/ja active Active
- 2007-09-28 AT AT07301406T patent/ATE457062T1/de not_active IP Right Cessation
- 2007-09-28 DE DE602007004659T patent/DE602007004659D1/de active Active
- 2007-09-28 EP EP07301406A patent/EP1906159B1/en active Active
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170029A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Hamamatsu Photonics Kk | 光モジュール |
US8335031B2 (en) | 2009-01-26 | 2012-12-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical module |
EP2211141A2 (en) | 2009-01-26 | 2010-07-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical module with an optical semiconductor element and a movable mirror |
JP2013504066A (ja) * | 2009-09-08 | 2013-02-04 | シーウェア システムズ | マイクロ電子機械的システム(mems)干渉計 |
JP2013522600A (ja) * | 2010-03-09 | 2013-06-13 | シーウェア システムズ | 光学干渉計におけるミラー位置を決定する技法 |
KR101920515B1 (ko) | 2011-05-16 | 2018-11-20 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광학 부품의 제조 방법 및 광학 부품 |
KR20140026531A (ko) | 2011-05-16 | 2014-03-05 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광 모듈 및 그 제조 방법 |
DE112012002109B4 (de) | 2011-05-16 | 2023-07-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Herstellungsverfahren für optisches Bauteil |
US9372285B2 (en) | 2011-05-16 | 2016-06-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Production method for optical component and optical component |
US9557555B2 (en) | 2011-05-16 | 2017-01-31 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical module and production method for same |
JP2015511318A (ja) * | 2011-10-20 | 2015-04-16 | シーウェア システムズSi−Ware Systems | 3d湾曲光素子を含む集積化されたモノリシック光ベンチ、及びその作製方法 |
KR20160045755A (ko) | 2013-08-19 | 2016-04-27 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광 간섭계를 제조하는 방법 |
EP3037792A4 (en) * | 2013-08-19 | 2017-07-05 | Hamamatsu Photonics K.K. | Method for manufacturing optical interferometer |
US9618323B2 (en) | 2013-08-19 | 2017-04-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Method for manufacturing optical interferometer |
WO2015025691A1 (ja) | 2013-08-19 | 2015-02-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光干渉計を製造する方法 |
JP2018072516A (ja) * | 2016-10-27 | 2018-05-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | 位置検出方法及び光モジュール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE457062T1 (de) | 2010-02-15 |
EP1906159B1 (en) | 2010-02-03 |
US7796267B2 (en) | 2010-09-14 |
DE602007004659D1 (de) | 2010-03-25 |
EP1906159A1 (en) | 2008-04-02 |
US20080080034A1 (en) | 2008-04-03 |
JP5204450B2 (ja) | 2013-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5204450B2 (ja) | 光分岐を使用する、マイクロ機械加工した干渉計のためのシステム、方法、および装置 | |
JP5860809B2 (ja) | マイクロ電子機械的システム(mems)干渉計 | |
Sabry et al. | Monolithic silicon‐micromachined free‐space optical interferometers onchip | |
EP2545406B1 (en) | A technique to determine mirror position in optical interferometers | |
CN107003513B (zh) | 光束扫描器 | |
US9759552B2 (en) | Evanescent field opto-mechanical displacement sensor | |
US20100265512A1 (en) | Opto-mechanical optical path retardation multiplier for optical mems applications | |
Omran et al. | Fully integrated Mach-Zhender MEMS interferometer with two complementary outputs | |
WO2014107174A1 (en) | Spatial splitting-based optical mems interferometers | |
US20200378892A1 (en) | Integrated device for fluid analysis | |
JPWO2015025691A1 (ja) | 光干渉計を製造する方法 | |
US20060261032A1 (en) | Integrated optical MEMS devices | |
US8508745B2 (en) | System, method and apparatus for a micromachined interferometer using optical splitting | |
US6377718B1 (en) | Micromechanical phase-shifting gate optical modulator | |
CN108474690B (zh) | 用于光学mems干涉仪中的反射镜定位的自校准 | |
Othman et al. | Deeply-etched MEMS slotted micromirrors with controlled transmittance | |
Jung et al. | A large-area high-reflectivity broadband monolithic single-crystal-silicon photonic crystal mirror MEMS scanner with low dependence on incident angle and polarization | |
Joshi | Advances in development of MOEMS devices: a review | |
Chi et al. | Solid-immersion micromirror with enhanced angular deflection for silicon-based planar lightwave circuits | |
Józwik et al. | Microsystem based optical measurement systems: case of opto-mechanical sensors | |
Nawazuddin et al. | Design, fabrication and characterization of a suspended plate mechano-optical modulator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100818 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5204450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160222 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |