JP2008090321A - Optical device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、熱が加えられた際の諸特性が安定している耐熱性の光学素子に関するものである。 The present invention relates to a heat-resistant optical element in which various characteristics are stable when heat is applied.
従来より、画像表示装置等に用いられる位相差フィルムや円偏光制御光学素子等の光学素子においては、例えば液晶表示装置等の画像表示装置に組み込まれて用いられる場合がある。このような画像表示装置の製造に際しては、例えば配向膜に用いられるポリイミド膜の製膜のためや透明電極であるITO膜の製膜のために200℃以上で加熱される場合があり、また車内で使用されるディスプレイに用いられる場合は、太陽光による温度上昇により100℃以上に加熱される場合がある。したがって、この液晶表示装置等の画像表示装置に用いられる上述した位相差フィルム等の光学素子も、組み込まれる順序や用いられる場所によっては、100℃以上、場合によっては200℃以上の温度で加熱される可能性があった。 Conventionally, an optical element such as a retardation film or a circularly polarized light control optical element used in an image display apparatus or the like may be used by being incorporated in an image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus. When manufacturing such an image display device, for example, it may be heated at 200 ° C. or more for forming a polyimide film used for an alignment film or for forming an ITO film as a transparent electrode. When it is used for a display used in the above, it may be heated to 100 ° C. or more due to a temperature rise caused by sunlight. Therefore, the optical element such as the above-described retardation film used in the image display device such as the liquid crystal display device is also heated at a temperature of 100 ° C. or higher and in some cases 200 ° C. or higher depending on the order of incorporation and the place of use. There was a possibility.
一方、近年においては、例えば特開2001−100045号公報や特表平10−508882号公報等に記載されているように、重合性液晶材料を重合させることにより得られる光学素子が提案されている(特許文献1、特許文献2)。
このような光学素子は、液晶が有する特性を重合により固定化してフィルムとして用いることができるといった利点を有するものであるので、種々の用途への展開が期待されている。
On the other hand, in recent years, an optical element obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal material has been proposed as described in, for example, JP-A-2001-100045 and JP-T-10-508882. (Patent Document 1, Patent Document 2).
Since such an optical element has an advantage that the characteristics of the liquid crystal can be fixed by polymerization and used as a film, development to various applications is expected.
これらの位相差フィルム等の光学素子について、特開平5−2109号公報には、耐熱性に優れた延伸位相差フィルムが開示されており(特許文献3)、また特開平5−142510号公報には、耐熱性に優れた熱重合する液晶性高分子からなる光学素子が開示されている(特許文献4)。さらに、特開2001−133628号公報には、耐熱性に優れた高分子液晶及び架橋性物質を含む液晶材料からなる偏光回折性フィルムが開示されている(特許文献5)。 Regarding these optical elements such as a retardation film, JP-A-5-2109 discloses a stretched retardation film having excellent heat resistance (Patent Document 3), and JP-A-5-142510. Discloses an optical element made of a liquid crystalline polymer that is thermally polymerized and has excellent heat resistance (Patent Document 4). Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-133628 discloses a polarizing diffractive film made of a liquid crystal material including a polymer liquid crystal excellent in heat resistance and a crosslinkable substance (Patent Document 5).
しかしながら、このような重合性液晶材料を重合させて得られる光学素子は、加熱された場合に、例えばコレステリック規則性を有するコレステリック層の場合は、中心反射波長のシフトが生じてしまうといった問題があった。したがって、上述したように、液晶表示装置等の画像表示装置に組み込んで用いる場合は、製造時に加熱されない部位にのみしか用いることができないといった問題があった。 However, an optical element obtained by polymerizing such a polymerizable liquid crystal material has a problem that, when heated, for example, in the case of a cholesteric layer having cholesteric regularity, a shift of the central reflection wavelength occurs. It was. Therefore, as described above, when incorporated in an image display device such as a liquid crystal display device, there is a problem that it can be used only in a portion that is not heated during manufacture.
また、延伸位相差フィルムは、80℃以上、特に100℃以上になると、位相差量が変化し、したがって、車載用LCD等で表示ムラ等の問題があった。 Further, when the stretched phase difference film is 80 ° C. or higher, particularly 100 ° C. or higher, the amount of retardation changes, and thus there is a problem such as display unevenness in an in-vehicle LCD.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、画像表示装置等の光学機器を製造する際の加熱に対しても、種々の光学的特性が安定している重合性液晶材料が硬化されてなる光学素子を提供することを主目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and a polymerizable liquid crystal material having stable various optical characteristics is cured even when heated in manufacturing an optical apparatus such as an image display device. The main object of the present invention is to provide an optical element.
上記目的を達成するために、本発明は、請求項1に記載するように、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子であって、前記光学素子が、所定温度で熱処理されてなるものであり、前記熱処理後の前記光学機能層の膜厚をA、前記光学素子を、再度前記の熱処理温度で60分間加熱した後の前記光学機能層の膜厚をB、とした場合に、(A−B)/Aで定義される前記光学機能層の膜厚減少率が、5%以下であることを特徴とする光学素子を提供する。このように、熱処理温度と同じ温度で60分加熱した際の膜厚の減少率が上述した範囲内であれば、例えば光学素子を位相差板として用いた場合であればリタデーション値、光学素子が円偏光制御光学素子であれば中心反射波長の変化を最小限とすることができることから、種々の画像表示装置に組み込まれて用いられた場合でも、光学素子の機能の変化を最小限とすることが可能である。 In order to achieve the above object, the present invention provides, as described in claim 1, an optical function comprising a support material and a polymerizable liquid crystal material cured on the support material with a predetermined liquid crystal regularity. The optical element is heat-treated at a predetermined temperature, the film thickness of the optical functional layer after the heat treatment is A, and the optical element is again subjected to the heat treatment temperature. When the film thickness of the optical function layer after heating for 60 minutes is B, the film thickness reduction rate of the optical function layer defined by (AB) / A is 5% or less. An optical element is provided. Thus, if the reduction rate of the film thickness when heated for 60 minutes at the same temperature as the heat treatment temperature is within the above-described range, for example, if the optical element is used as a retardation plate, the retardation value and the optical element are Since the circularly polarized light control optical element can minimize the change in the central reflection wavelength, even when incorporated in various image display devices, the change in the function of the optical element should be minimized. Is possible.
上記請求項1に記載された発明においては、請求項2に記載するように、上記重合性液晶材料が、光重合開始剤を有するものであることが好ましい。重合性液晶材料を例えば紫外線等により硬化させるためには、重合促進のために光重合開始剤が含まれることが好ましいからである。また、光重合開始剤が含まれた重合性液晶材料を硬化させてなる光学機能層が、本発明の利点を効果的に発揮するものだからである。 In the invention described in claim 1, as described in claim 2, it is preferable that the polymerizable liquid crystal material has a photopolymerization initiator. This is because, in order to cure the polymerizable liquid crystal material with, for example, ultraviolet rays, it is preferable to include a photopolymerization initiator for promoting polymerization. Moreover, it is because the optical functional layer formed by curing a polymerizable liquid crystal material containing a photopolymerization initiator effectively exhibits the advantages of the present invention.
上記請求項1または請求項2に記載された発明においては、請求項3に記載するように、上記支持材が、配向能を有する基材であってもよい。配向能を有する基材上に光学機能層を形成し、そのまま用いることができるのであれば、特に転写工程等を行う必要がなく、工程上有利であるからである。
In the invention described in claim 1 or 2, as described in
本発明はまた、請求項4に記載するように、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性もしくはコレステリック規則性を有して硬化された位相差層とを有する位相差層積層体であって、前記位相差層積層体が、所定温度で熱処理されてなるものであり、前記熱処理後の前記位相差層のリタデーション値をRa、前記位相差層積層体を、再度前記の熱処理温度で60分間加熱した後の前記位相差層のリタデーション値をRb、とした場合に、(Ra−Rb)/Raで定義される前記位相差層のリタデーション減少率が、5%以下であることを特徴とする位相差層積層体を提供する。種々の画像表示装置内に組み込まれて用いる場合、加熱によるリタデーション値の変動がこの程度であれば、問題無く用いることができるからである。 The present invention also provides a support material and a retardation layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material on the support material with nematic regularity, smectic regularity, or cholesteric regularity. The retardation layer laminate has a retardation value of Ra after the heat treatment, the retardation layer laminate being heat-treated at a predetermined temperature, and the retardation layer laminate When the retardation value of the retardation layer after heating for 60 minutes at the heat treatment temperature is Rb, the retardation reduction rate of the retardation layer defined by (Ra−Rb) / Ra is Provided is a retardation layer laminate characterized by being 5% or less. This is because when incorporated in various image display devices and used, if the change in retardation value due to heating is about this level, it can be used without problems.
上記請求項4に記載された発明においては、請求項5に記載するように、上記重合性液晶材料が、光重合開始剤と重合性液晶モノマーとを有することが好ましく、また、請求項6に記載するように、前記のコレステリック規則性を有する重合性液晶材料が、光重合開始剤と、重合性液晶モノマーと、重合性カイラル剤とを有することがより好ましい。リタデーション値は、位相差層の膜厚に関連する値であり、加熱による位相差層の膜厚の変化は、光重合開始剤の残渣の量に依存するものと推察される。したがって、重合性液晶材料中に光重合開始剤が含まれている場合に、特に本発明の利点を活かすことができると考えられるからである。 In the invention described in claim 4, as described in claim 5, the polymerizable liquid crystal material preferably has a photopolymerization initiator and a polymerizable liquid crystal monomer. As described, it is more preferable that the polymerizable liquid crystal material having cholesteric regularity has a photopolymerization initiator, a polymerizable liquid crystal monomer, and a polymerizable chiral agent. The retardation value is a value related to the thickness of the retardation layer, and the change in the thickness of the retardation layer due to heating is presumed to depend on the amount of residue of the photopolymerization initiator. Therefore, when the photopolymerization initiator is contained in the polymerizable liquid crystal material, it is considered that the advantages of the present invention can be particularly utilized.
上記請求項4〜6に記載された発明においては、請求項7に記載するように、上記支持材が、配向能を有する基材であってもよい。配向能を有する基材上に位相差層を形成し、そのまま位相差層積層体として用いることができるのであれば、特に転写工程等を行う必要がなく、工程上有利であるからである。 In the invention described in claims 4 to 6, as described in claim 7, the support material may be a base material having orientation ability. If a retardation layer can be formed on a substrate having orientation ability and used as a retardation layer laminate as it is, there is no need to perform a transfer step or the like, which is advantageous in terms of the process.
本発明は、さらに請求項8に記載するように、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料がコレステリック規則性を有して硬化されたコレステリック層とを有する円偏光制御光学素子であって、前記円偏光制御光学素子が、所定温度で熱処理されてなるものであり、前記熱処理後の前記コレステリック層の中心反射波長をλa、前記円偏光制御光学素子を、再度前記の熱処理温度で60分間加熱した後の前記コレステリック層の中心反射波長をλb、とした場合に、|λa−λb|/λaで定義される前記中心波長の変化率が、5%以下であることを特徴とする円偏光制御光学素子を提供する。例えばカラーフィルタ等として画像表示装置内に組み込まれて用いる場合、加熱による中心反射波長の変動がこの程度であれば、問題無く用いることができるからである。 The present invention further provides a circularly polarized light controlling optical element having a support material and a cholesteric layer in which a polymerizable liquid crystal material is cured with cholesteric regularity on the support material. The circularly polarized light controlling optical element is heat-treated at a predetermined temperature, the central reflection wavelength of the cholesteric layer after the heat treatment is λa, and the circularly polarized light controlling optical element is again heated to the heat treatment temperature at the heat treatment temperature. A change rate of the center wavelength defined by | λa−λb | / λa when the center reflection wavelength of the cholesteric layer after heating for a minute is λb, is 5% or less. A polarization control optical element is provided. This is because, for example, when incorporated in an image display device as a color filter or the like, if the fluctuation of the central reflection wavelength due to heating is about this level, it can be used without any problem.
上記請求項8に記載された発明においては、請求項9に記載するように、上記重合性液晶材料が、光重合開始剤と、重合性液晶モノマーと、重合性カイラル剤とを有するものであることが好ましい。コレステリック層の中心反射波長は螺旋ピッチに依存するものであるが、膜厚変化に伴い螺旋ピッチも変化する。したがって、上述した場合と同様の理由から光重合開始剤が含まれていることが好ましいのである。
In the invention described in
この場合も、上記請求項8または請求項9に記載された発明においては、請求項10に記載するように、上記支持材が、配向能を有する基材であってもよい。
配向能を有する基材上にコレステリック層を形成し、そのまま円偏光制御光学素子として用いることができるのであれば、特に転写工程等を行う必要がなく、工程上有利であるからである。
Also in this case, in the invention described in
If a cholesteric layer can be formed on a substrate having orientation ability and used as a circularly polarized light control optical element as it is, there is no need to perform a transfer step or the like, which is advantageous in terms of the process.
本発明は、さらに請求項11に記載するように、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子に対して、所定温度で熱処理を行うことにより、光学素子に耐熱性を付与することを特徴とする光学素子の熱処理方法を提供する。上述した範囲内での熱処理を行うことにより、光学機能層内の加熱に際して除去される成分を予め除去することができる。また、重合性液晶材料の重合度(3次元)を高めることも可能である。したがって、その後の加熱、すなわち画像表示装置等の製造に際して加熱が行われたとしても、膜厚の変化や、それに伴う特性の変化を防止することが可能であり、光学機能層に熱安定性を付与することができるのである。 The present invention further provides an optical element comprising: a support material; and an optical functional layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material with a predetermined liquid crystal regularity on the support material. On the other hand, a heat treatment method for an optical element is provided, in which heat resistance is imparted to the optical element by performing heat treatment at a predetermined temperature. By performing the heat treatment within the above-described range, it is possible to previously remove components that are removed during heating in the optical functional layer. It is also possible to increase the degree of polymerization (three-dimensional) of the polymerizable liquid crystal material. Therefore, even if the subsequent heating, that is, the heating during the manufacture of the image display device or the like is performed, it is possible to prevent the change in film thickness and the change in characteristics accompanying it, and the thermal stability of the optical functional layer can be prevented. It can be granted.
また、本発明は、請求項12に記載するように、基材と、前記基材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子に対して、該重合性液晶材料の重合前の等方層以上の温度で熱処理を行うことにより、光学素子に耐熱性を付与することを特徴とする光学素子の熱処理方法を提供する。このように、重合性液晶材料の重合前の等方層以上の温度で熱処理を行うことにより、当該光学素子中の完全には重合していない(架橋していない)分子をより安定な状態に移行させることができるので、画像表示装置等の製造に際して加熱が行われたとしても、膜厚の変化や、それに伴う特性の変化を防止することが可能であり、光学機能層に熱安定性を付与することができる。 Further, the present invention provides an optical element having a base material and an optical functional layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material on the base material with a predetermined liquid crystal regularity. In contrast, the present invention provides a method for heat-treating an optical element characterized by imparting heat resistance to the optical element by performing heat treatment at a temperature equal to or higher than the isotropic layer before polymerization of the polymerizable liquid crystal material. Thus, by performing heat treatment at a temperature higher than the isotropic layer before polymerization of the polymerizable liquid crystal material, molecules that are not completely polymerized (not cross-linked) in the optical element are made more stable. Therefore, even if heating is performed in the manufacture of an image display device or the like, it is possible to prevent a change in film thickness and a change in characteristics associated therewith. Can be granted.
上記請求項11または12に記載された発明においては、請求項13に記載するように、前記熱処理が、10分間〜60分間の時間で行われることが好ましい。この範囲内の時間で熱処理を行うことにより、より熱安定に優れる光学機能層とすることができるからである。 In the invention described in claim 11 or 12, as described in claim 13, it is preferable that the heat treatment is performed for 10 minutes to 60 minutes. This is because by performing the heat treatment for a time within this range, an optical functional layer having better thermal stability can be obtained.
上記請求項11〜13までのいずれかの請求項に記載された発明においては、請求項14に記載するように、上記重合性液晶材料が、光重合開始剤を含有していることが好ましい。上記加熱に際しての膜厚の変化は、上述したように膜内に存在する光重合開始剤の残渣の存在が関係していると考えられるからである。 In the invention described in any one of claims 11 to 13, as described in claim 14, the polymerizable liquid crystal material preferably contains a photopolymerization initiator. This is because the change in the film thickness during the heating is considered to be related to the presence of the residue of the photopolymerization initiator present in the film as described above.
上記請求項14に記載された発明においては、請求項15に記載するように、上記光重合開始剤の含有量が1質量%以上であることが好ましい。この程度の量の光重合開始剤が含有されている場合に、特に本発明の利点を活かすことができるからである。 In the invention described in claim 14, as described in claim 15, the content of the photopolymerization initiator is preferably 1% by mass or more. This is because the advantages of the present invention can be utilized particularly when the photopolymerization initiator in such an amount is contained.
上記請求項11〜15までのいずれかの請求項に記載の発明においては、請求項16に記載するように、上記熱処理の温度が、上記光学機能層がその後用いられる光学機器の製造工程で加えられる温度からその温度より10℃高い温度までの範囲内の温度であることが好ましい。例えば、光学素子が液晶表示装置に用いられる場合、液晶表示装置の製造に際してこの光学素子に加えられる温度からその温度より10℃高い温度で予め加熱しておくことにより、加熱により除去される成分が除去されてしまっていることから、その後の製造に際しての加熱において、膜厚が減少する等の問題が生じることがないからである。 In the invention according to any one of claims 11 to 15, as described in claim 16, the temperature of the heat treatment is added in a manufacturing process of an optical device in which the optical functional layer is subsequently used. It is preferable that the temperature is within a range from a temperature to 10 ° C higher than that temperature. For example, when an optical element is used in a liquid crystal display device, components that are removed by heating are preliminarily heated at a temperature 10 ° C. higher than the temperature applied to the optical element when the liquid crystal display device is manufactured. This is because, since it has been removed, problems such as a reduction in film thickness do not occur in subsequent heating during manufacturing.
上記請求項11から請求項16までのいずれかの請求項に記載された発明においては、請求項17に記載するように、上記光学機能層が位相差層であり、上記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーを含むものであり、さらに上記液晶規則性がネマチック規則性、スメクチック規則性、またはコレステリック規則性であることが好ましい。このように光学素子が位相差層積層体であった場合は、予め熱処理を施すことにより、リタデーション値の変化を最小限とすることができるからである。なお、上記液晶規則性が、コレステリック規則性である場合は、上記の重合性液晶材料はカイラル剤を含んでいる必要がある。 In the invention described in any one of claims 11 to 16, as described in claim 17, the optical functional layer is a retardation layer, and the polymerizable liquid crystal material is A polymerizable liquid crystal monomer is included, and the liquid crystal regularity is preferably nematic regularity, smectic regularity, or cholesteric regularity. This is because when the optical element is a retardation layer laminate, the change in the retardation value can be minimized by performing heat treatment in advance. When the liquid crystal regularity is cholesteric regularity, the polymerizable liquid crystal material needs to contain a chiral agent.
一方、上記請求項11から請求項17までのいずれかの請求項に記載された発明においては、請求項18に記載するように、上記光学機能層がコレステリック層であり、上記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤とを含むものであり、さらに上記液晶規則性がコレステリック規則性であるものであってもよい。このように光学素子が円偏光制御光学素子であった場合は、予め熱処理を施すことにより、反射中心波長の加熱による変化を最小限とすることができる。 On the other hand, in the invention described in any one of claims 11 to 17, as described in claim 18, the optical functional layer is a cholesteric layer, and the polymerizable liquid crystal material is Further, it may contain a polymerizable liquid crystal monomer and a polymerizable chiral agent, and the liquid crystal regularity may be cholesteric regularity. As described above, when the optical element is a circularly polarized light controlling optical element, a change in the reflection center wavelength due to heating can be minimized by performing heat treatment in advance.
また、上記請求項11から請求項16までのいずれかの請求項に記載された発明においては、請求項19に記載するように、前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーを含むものであり、該重合性液晶モノマー分子が両末端に重合性官能基を有するものであってもよい。 In the invention described in any one of claims 11 to 16, the polymerizable liquid crystal material contains a polymerizable liquid crystal monomer as described in claim 19. The polymerizable liquid crystal monomer molecule may have a polymerizable functional group at both ends.
さらに、上記請求項19に記載された発明においては、請求項20に記載するように、前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤を含むものであり、該重合性カイラル剤分子が両末端に重合性官能基を有するものであってもよい。このように、重合性液晶モノマー分子の両末端に重合性官能基を有していれば、隣接する当該モノマー分子の両末端が3次元ネットワーク的に重合して(架橋して)、より耐熱性の高い光学素子を得ることができる。 Furthermore, in the invention described in claim 19, as described in claim 20, the polymerizable liquid crystal material contains a polymerizable liquid crystal monomer and a polymerizable chiral agent, and the polymerizable chiral agent The molecule may have a polymerizable functional group at both ends. As described above, if the polymerizable liquid crystal monomer molecules have polymerizable functional groups at both ends, the both ends of the adjacent monomer molecules are polymerized (crosslinked) in a three-dimensional network, resulting in more heat resistance. High optical element can be obtained.
本発明は、100℃で60分加熱した際の膜厚の減少率が極めて小さい光学素子であるので、例えば光学素子を位相差板として用いた場合であればリタデーション値、光学素子が円偏光制御光学素子であれば中心反射波長の変化を最小限とすることができる。したがって、種々の画像表示装置に組み込まれて用いられた場合でも、光学素子の機能の変化を最小限とすることが可能であることから、種々の用途展開を図ることができるという効果を奏する。 Since the present invention is an optical element having a very small reduction rate of film thickness when heated at 100 ° C. for 60 minutes, for example, when the optical element is used as a retardation plate, the retardation value is controlled and the optical element is circularly polarized. If it is an optical element, the change of the center reflection wavelength can be minimized. Therefore, even when used in various image display devices, it is possible to minimize the change in the function of the optical element, so that various applications can be developed.
以下、本発明の光学素子について説明した後、このような光学素子を得るための熱処理方法について説明する。 Hereinafter, after describing the optical element of the present invention, a heat treatment method for obtaining such an optical element will be described.
<光学素子>
本発明の光学素子は、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子であって、前記光学素子が、所定温度で熱処理されてなるものであり、前記熱処理後の前記光学機能層の膜厚をA、前記光学素子を、再度前記の熱処理温度で60分間加熱した後の前記光学機能層の膜厚をB、とした場合に、(A−B)/Aで定義される前記光学機能層の膜厚減少率が、5%以下であることを特徴とするものである。
<Optical element>
The optical element of the present invention is an optical element having a support material and an optical functional layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material on the support material with a predetermined liquid crystal regularity, and the optical element is The film thickness of the optical functional layer after being heat-treated at a predetermined temperature, the film thickness of the optical functional layer after the heat treatment being A, and the optical element being heated again at the heat treatment temperature for 60 minutes. Is B, the film thickness reduction rate of the optical function layer defined by (AB) / A is 5% or less.
本発明では、このように、再度熱処理温度と同じ温度で60分加熱した際に、光学機能層の膜厚の加熱による減少率が、上述した範囲内であれば、膜厚の変動により生じる種々の光学的な特性の変化を防止することができ、熱が加えられる可能性の高い製造工程においても用いることが可能であるので、種々の用途に展開することが可能となる。ここで、所定の熱処理温度とは、下記に説明するように基材として高分子延伸フィルム等を用いた場合には、当該熱処理温度は、基材が軟化(変形)する温度よりも低くする必要があるため、一般的に80〜120℃程度である。一方、基材としてガラス基板等を用いた場合には、基材が変形する温度よりも低い温度で、基材上に形成した光学機能層の熱分解が起こるため、一般に、熱処理温度は180℃〜240℃程度である。 In the present invention, as described above, when the rate of decrease in the film thickness of the optical functional layer is within the above-described range when the film is heated again at the same temperature as the heat treatment temperature for 60 minutes, various variations caused by film thickness variations occur. Therefore, it can be used in a manufacturing process in which heat is highly likely to be applied, so that it can be used in various applications. Here, when a polymer stretched film or the like is used as a base material as described below, the predetermined heat treatment temperature needs to be lower than the temperature at which the base material softens (deforms). Therefore, it is generally about 80 to 120 ° C. On the other hand, when a glass substrate or the like is used as the base material, thermal decomposition of the optical functional layer formed on the base material occurs at a temperature lower than the temperature at which the base material is deformed. It is about -240 degreeC.
本発明の光学素子における光学機能層の膜厚の加熱による減少率が少ないのは、以下の理由によるものと推測される。 The reason why the decrease rate due to heating of the film thickness of the optical functional layer in the optical element of the present invention is small is presumed to be as follows.
すなわち、従来の重合性液晶材料を用いた光学素子は、重合性液晶材料が所定の液晶構造を有する状態で重合されて固定化されて用いられている。この重合性液晶材料が重合されて高分子とされただけの状態においては、この液晶構造を有する高分子の他に、例えば光重合開始剤の残渣および光重合開始剤起因の生成物といった重合反応の際に生成された不純物や光重合開始剤の残渣が存在する可能性がある。このような不純物は、上記重合された高分子主鎖に対して、化学的に結合されたものではないので、重合後に加熱された場合は光学機能層内から抜けていく可能性が高い。このように、加熱に際して光学機能層内の物質が除去されてしまうと、当然のことではあるがこの光学機能層の膜厚が減少することになる。 That is, a conventional optical element using a polymerizable liquid crystal material is polymerized and fixed in a state where the polymerizable liquid crystal material has a predetermined liquid crystal structure. In a state where the polymerizable liquid crystal material is only polymerized into a polymer, in addition to the polymer having this liquid crystal structure, for example, a polymerization reaction such as a photopolymerization initiator residue and a product derived from the photopolymerization initiator. There may be impurities or photopolymerization initiator residues produced during the process. Since such impurities are not chemically bonded to the polymer main chain, there is a high possibility that they will escape from the optical functional layer when heated after polymerization. Thus, if the substance in the optical functional layer is removed during heating, the film thickness of the optical functional layer is naturally reduced.
本発明においては、後述するように予めこの光学機能層を所定の温度で加熱しておくことにより、光学機能層内に存在する不純物を予め除去したものであり、このように予め不純物が除去された光学機能層であることから、その後に熱が加わった場合でも、膜厚の減少を問題無い範囲とすることができるのである。 In the present invention, as will be described later, the optical functional layer is heated in advance at a predetermined temperature to remove impurities present in the optical functional layer in advance, and thus the impurities are removed in advance. Therefore, even if heat is applied after that, the reduction of the film thickness can be within a range where there is no problem.
本発明の光学素子は、このように加熱による膜厚の減少が少ないことから、以下のような作用・効果を奏するものである。 The optical element of the present invention has the following actions and effects because there is little decrease in film thickness due to heating.
すなわち、光学機能層の膜厚は、例えば光学機能層が位相差層であった場合はリタデーション値に関係する値であり、また光学素子が円偏光制御光学素子であり、光学機能層がコレステリック層(本発明においては、内部にコレステリック規則性を有する液晶材料が固定化された層をコレステリック層とすることとする。)である場合は、このコレステリック層の中心反射波長は膜厚(螺旋ピッチ)に依存するものであるが、膜厚変化に伴い螺旋ピッチも変化する。 That is, the film thickness of the optical functional layer is, for example, a value related to the retardation value when the optical functional layer is a retardation layer, the optical element is a circular polarization control optical element, and the optical functional layer is a cholesteric layer. (In the present invention, a layer in which a liquid crystal material having cholesteric regularity is fixed is referred to as a cholesteric layer.) In this case, the central reflection wavelength of the cholesteric layer is a film thickness (spiral pitch). The spiral pitch also changes as the film thickness changes.
したがって、加熱により光学機能層の膜厚が大きく減少する場合は、このような重要な光学的特性が大幅に変動してしまうことになる。これでは、画像表示装置に用いた場合に、期待される光学的特性を得ることができず、使用することが困難となる。本発明の光学素子は、加熱による膜厚の減少率が上述した範囲内であることから、上述した光学素子の光学的特性の加熱による変動を大幅に低減することが可能であるので、製造工程において熱が加わる可能性の高い画像表示装置等においても、十分に用いることが可能な光学素子とすることができるといった効果を奏するものである。 Therefore, when the film thickness of the optical functional layer is greatly reduced by heating, such an important optical characteristic greatly varies. Thus, when used in an image display device, the expected optical characteristics cannot be obtained, making it difficult to use. In the optical element of the present invention, since the reduction rate of the film thickness by heating is within the above-described range, it is possible to greatly reduce the fluctuation due to heating of the optical characteristics of the optical element described above. Even in an image display device or the like that is highly likely to be heated, an optical element that can be sufficiently used can be obtained.
以下、このような光学素子について、各要素毎に説明する。 Hereinafter, such an optical element will be described for each element.
1.支持材
本発明でいう支持材とは、配向能を有する基材、もしくは転写工程により光学機能層が転写された場合は被転写材を示すものである。
1. Support material The support material as used in the field of this invention shows the to-be-transferred material, when the base material which has orientation ability, or when an optical function layer is transcribe | transferred by the transfer process.
(配向能を有する基材)
本発明の光学素子は、配向能を有する基材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層が形成されてなるものである。
(Substrate having orientation ability)
The optical element of the present invention is obtained by forming an optical functional layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material with a predetermined liquid crystal regularity on a substrate having alignment ability.
このような配向能を有する基材としては、基材そのものが配向能を有するものである場合と、透明基板上に配向膜が形成されて配向能を有する基材として機能するものとを挙げることができる。以下、それぞれを第1実施態様および第2実施態様として説明する。 Examples of such a substrate having orientation ability include a case where the substrate itself has orientation ability, and a case in which an orientation film is formed on a transparent substrate and functions as a substrate having orientation ability. Can do. Hereinafter, each will be described as a first embodiment and a second embodiment.
a.第1実施態様
本実施態様は、基材そのものが配向能を有する態様であり、具体的には基材が延伸フィルムである場合を挙げることができる。このように延伸フィルムを用いることにより、その延伸方向に沿って液晶材料を配向させることが可能である。
したがって、基材の調製は、単に延伸フィルムを準備することにより行うことができるため、工程上極めて簡便であるという利点を有する。このような延伸フィルムとしては、市販の延伸フィルムを用いることも可能であり、また必要に応じて種々の材料の延伸フィルムを形成することも可能である。
a. First Embodiment This embodiment is an embodiment in which the base material itself has orientation ability, and specifically includes a case where the base material is a stretched film. By using a stretched film in this way, it is possible to align the liquid crystal material along the stretched direction.
Therefore, since the preparation of the base material can be performed simply by preparing a stretched film, it has an advantage that it is extremely simple in terms of the process. As such a stretched film, a commercially available stretched film can be used, and stretched films of various materials can be formed as necessary.
具体的には、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレートの如きポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等の熱可塑性ポリマーなどからなるフィルムや、液晶ポリマーからなるフィルムなどを挙げることができる。 Specifically, polycarbonate polymers, polyester polymers such as polyarylate and polyethylene terephthalate, polyimide polymers, polysulfone polymers, polyethersulfone polymers, polystyrene polymers, polyolefins such as polyethylene and polypropylene Film made of thermoplastic polymer such as polymer based polymer, polyvinyl alcohol polymer, cellulose acetate polymer, polyvinyl chloride polymer, polymethyl methacrylate polymer, or film made of liquid crystal polymer. it can.
本発明においては、中でもポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが、延伸倍率のレンジ幅が広い点、さらには入手のしやすさ等の観点から好ましく用いられる。 In the present invention, among them, a polyethylene terephthalate (PET) film is preferably used from the viewpoints of a wide range of stretch ratio and availability.
本発明に用いられる延伸フィルムの延伸率としては、配向能が発揮し得る程度の延伸率であれば特に限定されるものはない。したがって、2軸延伸フィルムであっても2軸間で延伸率が異なるものであれば用いることが可能である。 The stretch ratio of the stretched film used in the present invention is not particularly limited as long as the stretch ratio is such that the orientation ability can be exhibited. Therefore, even if it is a biaxially stretched film, it can be used as long as the stretch ratio differs between the two axes.
この延伸率は、用いる材料により大きく異なるものであり、特に限定されるものではないが、一般的には150%〜300%程度のものを用いることが可能であり、好ましくは200%〜250%のものが用いられる。 This stretch ratio varies greatly depending on the material used, and is not particularly limited, but generally a stretch ratio of about 150% to 300% can be used, preferably 200% to 250%. Is used.
b.第2実施態様
第2実施態様は、上記配向能を有する基材が、透明基板と透明基板上に形成された配向膜とからなる態様である。
b. Second Embodiment A second embodiment is an embodiment in which the base material having the alignment ability is composed of a transparent substrate and an alignment film formed on the transparent substrate.
本実施態様においては、配向膜を選択することにより、比較的広範囲の配向方向を選択することが可能であるという利点を有する。透明基板上に塗布する配向膜形成用塗工液の種類を選択することにより、種々の配向方向を実現することが可能であり、かつより効果的な配向を行うことができる。 This embodiment has an advantage that a relatively wide range of alignment directions can be selected by selecting an alignment film. By selecting the kind of the coating liquid for forming the alignment film applied on the transparent substrate, various alignment directions can be realized, and more effective alignment can be performed.
本実施態様に用いられる配向膜は、通常液晶表示装置等において用いられる配向膜を好適に用いることが可能であり、一般的にはポリイミド系やポリビニルアルコール系の配向膜をラビング処理したものが好適に用いられる。また、光配向膜を用いることも可能である。 As the alignment film used in the present embodiment, an alignment film usually used in a liquid crystal display device or the like can be suitably used. In general, a film obtained by rubbing a polyimide-based or polyvinyl alcohol-based alignment film is preferable. Used for. It is also possible to use a photo-alignment film.
また、本実施態様に用いられる透明基板としては、透明材料により形成されたものであれば特に限定されるものではなく、例えば石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。 Further, the transparent substrate used in the present embodiment is not particularly limited as long as it is formed of a transparent material. For example, the flexible substrate such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, etc. A transparent rigid material having no flexibility, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film and an optical resin plate can be used.
(被転写材)
本発明において用いられる被転写材としては、光学素子の用途に応じて適宜選択されるものではあるが、一般的には光学素子であることから透明な材料、すなわち透明基板が好適に用いられる。
(Transfer material)
The transfer material used in the present invention is appropriately selected according to the use of the optical element, but since it is generally an optical element, a transparent material, that is, a transparent substrate is preferably used.
この透明基板に関しては、上記「配向能を有する基材」の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Since this transparent substrate is the same as that described in the above-mentioned “base material having orientation ability”, description thereof is omitted here.
2.光学機能層
本発明の光学素子は、上記基材上に、重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層が形成されてなるものである。このような光学機能層には、液晶規則性を有する高分子を構成する重合性液晶材料からなるものである。その他、後述する液晶層形成用塗工液に含まれる、光重合開始剤等の添加剤の残渣も含有されている場合がある。以下、これらについて説明する。
2. Optical functional layer The optical element of the present invention comprises an optical functional layer formed by curing a polymerizable liquid crystal material having a predetermined liquid crystal regularity on the substrate. Such an optical functional layer is made of a polymerizable liquid crystal material constituting a polymer having liquid crystal regularity. In addition, the residue of additives, such as a photoinitiator contained in the coating liquid for liquid crystal layer formation mentioned later may be contained. Hereinafter, these will be described.
(重合性液晶材料)
本発明で用いられる重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマーおよび重合性液晶高分子を挙げることができる。このような重合性液晶材料は、通常、それ自体がネマチック規則性やスメマチック規則性を有するものが用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、重合性液晶材料がコレステリック規則性を有するものであってもよい。また、光学素子によってコレステリック規則性が必要であり、かつ上記重合性液晶材料自体がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を呈する場合は、コレステリック規則性付与するためにさらに、重合性カイラル剤を用いてもよい。以下、それぞれについて説明する。
(Polymerizable liquid crystal material)
Examples of the polymerizable liquid crystal material used in the present invention include a polymerizable liquid crystal monomer, a polymerizable liquid crystal oligomer, and a polymerizable liquid crystal polymer. As such a polymerizable liquid crystal material, a material having nematic regularity or smectic regularity is usually used, but is not particularly limited to this, and the polymerizable liquid crystal material has cholesteric regularity. It may be. Further, when cholesteric regularity is required depending on the optical element, and the polymerizable liquid crystal material itself exhibits nematic regularity or smectic regularity, a polymerizable chiral agent may be further used to impart cholesteric regularity. Good. Each will be described below.
(1)重合性液晶材料
本発明に用いられる重合性液晶材料としては、上述したように重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶高分子等を挙げることができる。このような重合性液晶材料としては、これらのみで液晶相を形成した場合に、ネマチック規則性、スメクチック規則性、またはコレステリック規則性を有する液晶相を形成し得る重合性液晶材料であれば特に限定されるものではないが、分子の両末端に重合性官能基があることが、耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。
(1) Polymerizable liquid crystal material Examples of the polymerizable liquid crystal material used in the present invention include a polymerizable liquid crystal monomer, a polymerizable liquid crystal oligomer, and a polymerizable liquid crystal polymer as described above. Such a polymerizable liquid crystal material is not particularly limited as long as it is a polymerizable liquid crystal material capable of forming a liquid crystal phase having nematic regularity, smectic regularity, or cholesteric regularity when a liquid crystal phase is formed only by these. However, it is preferable to have polymerizable functional groups at both ends of the molecule in order to obtain an optical element with good heat resistance.
このような重合性液晶材料の一例としては、例えば下記の一般式(1)で表わされる化合物(I)や下記に示す化合物を挙げることができる。化合物(I)としては、一般式(1)に包含される化合物の2種を混合して使用することも可能である。 As an example of such a polymerizable liquid crystal material, for example, compound (I) represented by the following general formula (1) and the following compounds can be mentioned. As the compound (I), it is also possible to use a mixture of two compounds included in the general formula (1).
重合性液晶材料としては、一般式(1)に包含される化合物や下記の化合物の2種以上を混合して使用することもできる。
上述した例では、重合性液晶モノマーの例を挙げたが、本発明においては、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶高分子等を用いることも可能である。このような重合性液晶オリゴマーや重合性液晶高分子としては、従来提案されているものを適宜選択して用いることが可能である。 In the example described above, an example of a polymerizable liquid crystal monomer has been described. However, in the present invention, a polymerizable liquid crystal oligomer, a polymerizable liquid crystal polymer, or the like can be used. As such a polymerizable liquid crystal oligomer and a polymerizable liquid crystal polymer, those conventionally proposed can be appropriately selected and used.
(2)カイラル剤
本発明においては、上記光学素子が円偏光制御光学素子、すなわち光学機能層がコレステリック層であり、かつ重合性液晶材料がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を呈する場合は、上記重合性液晶材料に加えてカイラル剤を加えることが必要となる。
(2) Chiral agent In the present invention, when the optical element is a circular polarization control optical element, that is, the optical functional layer is a cholesteric layer and the polymerizable liquid crystal material exhibits nematic regularity or smectic regularity, In addition to the liquid crystalline material, it is necessary to add a chiral agent.
本発明に用いられる重合性カイラル剤とは、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、分子量1500以下の化合物を意味する。カイラル剤は主として化合物(I)が発現する正の一軸ネマチック規則性に螺旋ピッチを誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、化合物(I)や上記の化合物と、溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、上記ネマチック規則性をとりうる重合性液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋ピッチを誘起できるものであれば、下記に示すカイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されないが、分子の両末端に重合性官能基があることが耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。液晶に螺旋ピッチを誘起させるために使用するカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティーを有していることが必須である。本発明の液晶性組成物に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤には、螺旋ピッチを誘発する効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には一般式(2)、(3)または(4)で表されるような分子内に軸不斉を有する低分子化合物(II)の使用が好ましい。
本発明の重合性液晶材料に配合されるカイラル剤の量は、螺旋ピッチ誘起能力や最終的に得られる円偏光制御光学素子のコレステリック性を考慮して最適値が決められる。具体的には、用いる重合性液晶材料により大きく異なるものではあるが、重合性液晶材料の合計量100質量部当り、1〜20質量部の範囲で選ばれる。この配合量が上記範囲よりも少ない場合は、重合性液晶材料に充分なコレステリック性を付与できない場合があり、上記範囲を越える場合は、分子の配向が阻害され、活性放射線によって硬化させる際に悪影響を及ぼす危惧がある。 The amount of the chiral agent blended in the polymerizable liquid crystal material of the present invention is determined in consideration of the helical pitch inducing ability and the cholesteric property of the finally obtained circularly polarized light controlling optical element. Specifically, although it varies greatly depending on the polymerizable liquid crystal material to be used, it is selected in the range of 1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable liquid crystal material. When the blending amount is less than the above range, the polymerizable liquid crystal material may not be provided with sufficient cholesteric property. There is a risk of affecting.
本発明においては、このようなカイラル剤としては、特に重合性を有することが必須ではない。しかしながら、得られる光学機能層の熱安定性等を考慮すると、上述した重合性液晶材料と重合し、コレステリック規則性を固定化することが可能な重合性のカイラル剤を用いることが好ましい。特に、分子の両末端に重合性官能基があることが、耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。 In the present invention, it is not essential that such a chiral agent has polymerizability. However, in consideration of the thermal stability and the like of the obtained optical functional layer, it is preferable to use a polymerizable chiral agent that can be polymerized with the above-described polymerizable liquid crystal material and fix the cholesteric regularity. In particular, it is preferable to have a polymerizable functional group at both ends of the molecule in order to obtain an optical element having good heat resistance.
(光重合開始剤)
本発明においては、上述した重合性液晶材料に、光重合開始剤が添加されていることが好ましい。例えば、電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合はあるが、一般的に用いられている例えば紫外線(UV)照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられるからである。
(Photopolymerization initiator)
In the present invention, it is preferable that a photopolymerization initiator is added to the polymerizable liquid crystal material described above. For example, when a polymerizable liquid crystal material is polymerized by electron beam irradiation, a photopolymerization initiator may be unnecessary, but in the case of curing by, for example, ultraviolet (UV) irradiation, which is generally used, This is because the photopolymerization initiator is used for promoting the polymerization.
なお、光重合開始剤の他に増感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することも可能である。 In addition to the photopolymerization initiator, it is also possible to add a sensitizer as long as the object of the present invention is not impaired.
このような光重合開始剤の添加量としては、一般的には0.5〜10質量%の範囲で本発明の重合性液晶材料に添加することができる。 Such an addition amount of the photopolymerization initiator can be generally added to the polymerizable liquid crystal material of the present invention in the range of 0.5 to 10% by mass.
3.液晶規則性
本発明においては、上記重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層が用いられる。
3. Liquid Crystal Regularity In the present invention, an optical functional layer is used in which the polymerizable liquid crystal material is cured with a predetermined liquid crystal regularity.
ここで、この液晶規則性とは、ネマチック規則性、スメクチック規則性およびコレステリック規則性がある。光学素子が位相差層積層体である場合は、上記光学機能層は、ネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を有するものである。一方、光学素子が円偏光制御光学素子である場合は、コレステリック規則性を有するものである。 Here, the liquid crystal regularity includes nematic regularity, smectic regularity, and cholesteric regularity. When the optical element is a retardation layer laminate, the optical functional layer has nematic regularity or smectic regularity. On the other hand, when the optical element is a circular polarization control optical element, it has cholesteric regularity.
上記規則性は、基本的には用いる重合性液晶材料が自ら呈する液晶規則性およびカイラル剤を用いるか否かにより決定されるものである。 The regularity is basically determined by the liquid crystal regularity exhibited by the polymerizable liquid crystal material used and whether or not a chiral agent is used.
このような液晶規則性は、配向能を有する基材上に、上述した重合性液晶材料および必要に応じて添加される重合性カイラル剤とからなる液晶層を形成し、基材の配向能に沿って配向させて得られるものである。そして液晶規則性を有した状態で活性放射線を照射することにより硬化させて、液晶規則性を有した状態で硬化された光機能性層とすることができるのである。 Such liquid crystal regularity forms a liquid crystal layer composed of the above-described polymerizable liquid crystal material and a polymerizable chiral agent added as necessary on a substrate having alignment ability, thereby improving the alignment ability of the substrate. It is obtained by orienting along. And it can be hardened by irradiating actinic radiation in the state which has liquid crystal regularity, and it can be set as the optical functional layer hardened in the state which has liquid crystal regularity.
4.光学機能層の膜厚の加熱による減少率
本発明の特徴は、上述したような光学機能層が、光学素子を熱処理した温度と同じ温度で60分加熱した場合に、その膜厚の減少率が、5%以下、好ましくは3%以下、特に1%以下であることが好ましい。この範囲内の減少率であれば、例えば光学素子が位相差板であった場合や、円偏光制御光学素子である場合等において、その重要な光学的特性であるリタデーション値もしくは中心反射波長が、これらの光学素子を用いた画像表示装置等の製造工程において加熱された場合でも、大幅に変化することが無い。したがって、光学素子を取り付けた後の工程において加熱を受けるような場合であっても、本発明の光学素子を用いることが可能となる。
4). Reduction rate of optical functional layer by heating The feature of the present invention is that when the optical functional layer as described above is heated for 60 minutes at the same temperature as the temperature at which the optical element is heat-treated, the reduction rate of the film thickness is 5% or less, preferably 3% or less, particularly preferably 1% or less. If the reduction rate is within this range, for example, in the case where the optical element is a retardation plate, or in the case of a circular polarization control optical element, the retardation value or central reflection wavelength, which is an important optical characteristic, Even when heated in the manufacturing process of an image display apparatus or the like using these optical elements, there is no significant change. Therefore, the optical element of the present invention can be used even when it is heated in the process after the optical element is attached.
5.光学素子の具体例
本発明の光学素子の具体例としては、光学機能層が位相差層である場合の位相差層積層体および光学機能層がコレステリック層である円偏光制御光学素子を挙げることができる。以下、それぞれについて説明する。
5. Specific Examples of Optical Element Specific examples of the optical element of the present invention include a retardation layer laminate when the optical functional layer is a retardation layer and a circularly polarized light controlling optical element in which the optical functional layer is a cholesteric layer. it can. Each will be described below.
(位相差層積層体)
光学素子が位相差層積層体である場合としては、本発明においては、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料がネマチック規則性、スメクチック規則性、又はコレステリック規則性を有して硬化された位相差層とを有する位相差層積層体であって、上記位相差層のリタデーション値の加熱による変化が、所定の熱処理温度と同じ温度で60分加熱した際に、5%以下、好ましくは3%以下、特に1%以下である位相差層積層体を挙げることができる。
(Retardation layer laminate)
When the optical element is a retardation layer laminate, in the present invention, the support material and the polymerizable liquid crystal material on the support material are cured with nematic regularity, smectic regularity, or cholesteric regularity. A retardation layered body having a retardation layer, wherein a change in the retardation value of the retardation layer due to heating is 5% or less when heated at the same temperature as a predetermined heat treatment temperature for 60 minutes, preferably Is a retardation layer laminate having a content of 3% or less, particularly 1% or less.
このように、本発明の光学素子においては、熱が加えられた場合の膜厚の変動が極めて小さいことから、光学素子を位相差層積層体とした場合に、熱が加わった際のリタデーション値の変動を極めて小さいものとすることができるのである。 As described above, in the optical element of the present invention, since the variation in film thickness when heat is applied is extremely small, when the optical element is a retardation layer laminate, the retardation value when heat is applied. It is possible to make the fluctuation of the extremely small.
本発明においては、このように熱が加わった際のリタデーション値の変動が極めて小さいことから、位相差層積層体を組み込んだ後に例えばITO膜の製膜等のために加熱処理を行わなければならないような場合であっても、用いることが可能となる。したがって、本発明の位相差層積層体の利用範囲を極めて広げることができるといった利点を有するものである。 In the present invention, since the fluctuation of the retardation value when heat is applied in this way is extremely small, it is necessary to perform a heat treatment, for example, for forming an ITO film after incorporating the retardation layer laminate. Even in such a case, it can be used. Therefore, it has the advantage that the range of use of the retardation layer laminate of the present invention can be greatly expanded.
このような、位相差層に用いられる液晶材料としては、上述した重合性液晶モノマーと、光重合開始剤とを溶媒に溶解した状態で塗布し、これを硬化させたものが好適に用いられる。この際用いることができる重合性液晶モノマーおよび光重合開始剤としては、上述したものを用いることができる。 As such a liquid crystal material used for the retardation layer, a material obtained by applying the above-described polymerizable liquid crystal monomer and a photopolymerization initiator in a state of being dissolved in a solvent and curing it is preferably used. As the polymerizable liquid crystal monomer and photopolymerization initiator that can be used in this case, those described above can be used.
なお、その他の構成に関しては、上述したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Since other configurations are the same as those described above, description thereof is omitted here.
(円偏光制御光学素子)
光学素子が円偏光制御光学素子である場合としては、本発明においては、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料がコレステリック規則性を有して硬化されたコレステリック層とを有する円偏光制御光学素子であって、上記コレステリック層の中心反射波長の加熱による変化が、所定の熱処理温度と同じ温度で60分加熱した際に、5%以下、好ましくは3%以下、特に1%以下である円偏光制御光学素子を挙げることができる。
(Circular polarization control optical element)
In the case where the optical element is a circular polarization control optical element, in the present invention, a circularly polarized light having a support material and a cholesteric layer in which a polymerizable liquid crystal material is cured with cholesteric regularity on the support material. The control optical element, wherein the change in the central reflection wavelength of the cholesteric layer is not more than 5%, preferably not more than 3%, particularly not more than 1% when heated at the same temperature as the predetermined heat treatment temperature for 60 minutes. A certain circular polarization control optical element can be mentioned.
この場合も同様に、膜厚の変化がコレステリック層の中心反射波長の変化に関連するものであるので、光学素子を円偏光制御光学素子とした場合に、画像表示装置を製造する際に熱が加わっても、中心反射波長の変動を極めて小さいものとすることができる。 Similarly, in this case, since the change in the film thickness is related to the change in the central reflection wavelength of the cholesteric layer, when the optical element is a circularly polarized light control optical element, heat is generated when the image display device is manufactured. Even if added, the fluctuation of the central reflection wavelength can be made extremely small.
このような円偏光制御光学素子においては、上述したように加熱時の中心反射波長の変動が極めて小さいことから、円偏光制御光学素子、具体的にはカラーフィルタとして画像処理装置に組み込んだ後に、例えばITO膜の製膜等のために加熱処理を行わなければならないような場合であっても、用いることが可能となる。したがって、円偏光制御光学素子の利用範囲を極めて広げることができるといった利点を有するものである。 In such a circularly polarized light control optical element, since the fluctuation of the central reflection wavelength at the time of heating is extremely small as described above, the circularly polarized light control optical element, specifically, after being incorporated into the image processing apparatus as a color filter, For example, it can be used even in the case where heat treatment must be performed to form an ITO film. Therefore, it has an advantage that the range of use of the circularly polarized light control optical element can be extremely widened.
このような、円偏光制御光学素子のコレステリック層に用いられる液晶材料としては、上述した重合性液晶モノマーと、重合性カイラル剤と、光重合開始剤とを溶媒に溶解した状態で塗布し、これを硬化させたものが好適に用いられる。この際用いることができる重合性液晶モノマー、重合性カイラル剤および光重合開始剤としては、上述したものを用いることができる。 As such a liquid crystal material used for the cholesteric layer of the circular polarization control optical element, the above-described polymerizable liquid crystal monomer, polymerizable chiral agent, and photopolymerization initiator are applied in a state of being dissolved in a solvent. Those obtained by curing are preferably used. As the polymerizable liquid crystal monomer, polymerizable chiral agent and photopolymerization initiator that can be used in this case, those described above can be used.
なお、その他の構成に関しては、上述したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Since other configurations are the same as those described above, description thereof is omitted here.
<熱処理方法>
本発明の光学素子の熱処理方法は、基材と、上記基材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子に対して、所定の範囲内の温度で熱処理を行うことにより、又は重合性液晶材料の重合前の等方層以上の温度で熱処理を行うことにより、光学素子に耐熱性を付与することを特徴とするものである。この際、熱処理時間としては、10分間〜60分間とすることが好ましい。このような熱処理を行うことにより、未硬化又は十分な3次元ネットワーク構造を形成していない、液晶成分やカイラル成分を当該層内で安定な状態(位置)へ動かすことができる。
<Heat treatment method>
The optical element heat treatment method of the present invention is applied to an optical element having a base material and an optical functional layer obtained by curing a polymerizable liquid crystal material with a predetermined liquid crystal regularity on the base material. It is characterized by imparting heat resistance to the optical element by performing a heat treatment at a temperature within the range of, or by performing a heat treatment at a temperature higher than the isotropic layer before polymerization of the polymerizable liquid crystal material. . In this case, the heat treatment time is preferably 10 minutes to 60 minutes. By performing such heat treatment, a liquid crystal component or a chiral component that is not cured or does not form a sufficient three-dimensional network structure can be moved to a stable state (position) in the layer.
本発明の光学素子の熱処理方法によれば、予め所定の温度で熱処理されるので、この際に光学機能層内の不純物が除去される。したがって、その後に加熱が行われた場合、すなわち例えば画像処理装置内において、上記本発明の熱処理が行われた光学素子を取り付けた後に透明電極を形成するために加熱が行われるような場合でも、予め熱処理がなされているため、光学素子の膜厚が変化することがなく、結果として膜厚に関係する種々の光学的機能に変化が生じることがない。
したがって、このような熱処理がなされた光学素子は、画像処理装置等に取り付ける際に、その取り付け位置や取り付け時期に制約が無くなることから、画像処理装置の製造に際しての自由度や、製品設計の自由度を大幅に向上させることができるといった利点を有するものである。
According to the heat treatment method for an optical element of the present invention, heat treatment is performed in advance at a predetermined temperature, and thus impurities in the optical functional layer are removed at this time. Therefore, when heating is performed after that, that is, for example, in the case where the heating is performed to form a transparent electrode after attaching the optical element subjected to the heat treatment of the present invention in the image processing apparatus, Since the heat treatment is performed in advance, the film thickness of the optical element does not change, and as a result, the various optical functions related to the film thickness do not change.
Therefore, when the optical element subjected to such heat treatment is attached to an image processing apparatus or the like, there are no restrictions on the attachment position and the attachment timing, so the degree of freedom in manufacturing the image processing apparatus and the freedom of product design are reduced. The advantage is that the degree can be greatly improved.
以下、このような熱処理方法を含む、本発明の光学素子の製造方法を説明する。 Hereinafter, a method for producing an optical element of the present invention including such a heat treatment method will be described.
図1は、本発明の光学素子の製造方法の一例を示すものである。 FIG. 1 shows an example of a method for producing an optical element of the present invention.
この例では、まず透明基板1上に配向膜2が形成された配向能を有する基材3が形成される(基材調製工程、図1(a)参照)。
In this example, first, a
次に、この配向能を有する基材3上に、重合性液晶材料と光重合開始剤とを溶剤中に溶解させた液晶層形成用塗工液を塗布し、溶剤を乾燥・除去し、液晶相を呈する温度の保持することにより液晶層4を形成する(液晶層形成工程、図1(b)参照)。この液晶層は、配向膜2の作用により液晶規則性を有するものとなる。
Next, a coating liquid for forming a liquid crystal layer in which a polymerizable liquid crystal material and a photopolymerization initiator are dissolved in a solvent is applied onto the
そして、上記液晶規則性を有する液晶層4に対して紫外光5を照射することにより、光重合開始剤から発生させたラジカルで液晶層内の重合性液晶材料を重合させ、液晶層4を光学機能層6とする(光学機能層形成工程、図1(c)および(d)参照)。 Then, by irradiating the liquid crystal layer 4 having the liquid crystal regularity with ultraviolet light 5, the polymerizable liquid crystal material in the liquid crystal layer is polymerized by radicals generated from the photopolymerization initiator, and the liquid crystal layer 4 is optically It is set as the functional layer 6 (refer to an optical functional layer formation process, FIG.1 (c) and (d)).
次に、このように基材3上に光学機能層6が形成された光学素子8を、例えばオーブン中で所定の温度に保持することにより、熱7を加え、熱処理を行う(熱処理工程、図1(e)参照)。
Next, the
これにより、熱処理が加えられ、加熱による寸法安定性およびこれに伴う種々の光学機能が安定している光学素子8を得ることができるのである(図1(f)参照)。
As a result, heat treatment is applied, and an
以下、このような本発明の光学素子を製造するための製造方法について説明し、その中で、本発明の熱処理方法を詳細に説明する。 Hereinafter, the manufacturing method for manufacturing such an optical element of the present invention will be described, and the heat treatment method of the present invention will be described in detail therein.
1.基材調製工程
本発明の光学素子を製造するに際しては、まず配向能を有する基材が準備される。このような配向能を有する基材としては、基材そのものが配向能を有するものである場合と、図1に示すように透明基板1上に配向膜2が形成されて配向能を有する基材3として機能するものとを挙げることができる。これらについては、上記の<光学素子>の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
1. Substrate preparation step In producing the optical element of the present invention, a substrate having orientation ability is first prepared. As the base material having such orientation ability, the base material itself has orientation ability, and the base material having orientation ability when the orientation film 2 is formed on the transparent substrate 1 as shown in FIG. 3 can function. Since these are the same as those described in the section <Optical element> above, description thereof is omitted here.
2.液晶層形成工程
本発明においては、次に図1(b)に示すように、上記配向能を有する基材3上に液晶層4を形成する。
2. Liquid Crystal Layer Forming Step In the present invention, next, as shown in FIG. 1B, the liquid crystal layer 4 is formed on the
本発明におけるこの液晶層とは、重合性液晶材料で形成されたものであり、種々の液晶規則性を有する液晶相を採り得る層であれば特に限定されない。 The liquid crystal layer in the present invention is formed of a polymerizable liquid crystal material and is not particularly limited as long as it is a layer capable of adopting liquid crystal phases having various liquid crystal regularities.
このような液晶層の形成方法としては、例えば以下の方法を挙げることができる。すなわち、通常溶媒中に重合性モノマー等の重合性液晶材料、さらに必要に応じてカイラル剤、さらには光重合開始剤等が溶解された液晶層形成用塗工液を塗布することにより液晶層形成用層を形成する。 Examples of a method for forming such a liquid crystal layer include the following methods. That is, a liquid crystal layer is formed by applying a liquid crystal layer forming coating solution in which a polymerizable liquid crystal material such as a polymerizable monomer, a chiral agent, and further a photopolymerization initiator and the like are dissolved in a normal solvent. A working layer is formed.
この際、塗布する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、スライドコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法(ダイコート法)等が挙げられる。 In this case, examples of the coating method include a spin coating method, a roll coating method, a slide coating method, a printing method, a dip pulling method, a curtain coating method (die coating method), and the like.
このように液晶形成用層を形成した後、溶媒を除去することにより、種々の液晶規則性を有する液晶層が形成されるのである。この際の溶媒の除去方法としては、例えば、減圧除去もしくは加熱除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。 After forming the liquid crystal forming layer in this way, the liquid crystal layer having various liquid crystal regularities is formed by removing the solvent. As a method for removing the solvent at this time, for example, removal under reduced pressure or removal by heating, or a combination of these is performed.
本発明において、液晶層を形成する方法は、上述した液晶層形成用塗工液を用いる方法に限定されるものではなく、配向能を有する基材上に液晶材料からなるドライフィルムをラミネートし、これを加熱することにより液晶規則性を付与する方法等であってもよい。しかしながら、本発明においては工程上の容易性等の観点から、上述した液晶層形成用塗工液を用いる方法が好ましい方法であるといえる。 In the present invention, the method for forming the liquid crystal layer is not limited to the method using the liquid crystal layer forming coating liquid described above, and a dry film made of a liquid crystal material is laminated on a substrate having orientation ability, A method of imparting liquid crystal regularity by heating this may be used. However, in the present invention, it can be said that the method using the liquid crystal layer forming coating liquid described above is a preferable method from the viewpoint of easiness in the process.
この液晶層形成用塗工液に用いられる重合性液晶材料、カイラル剤および光重合開始剤に関しては、上記「光学素子」における説明と同様であるのでここでの説明は省略する。以下、この液晶層形成用塗工液に用いられる溶媒、およびその他の添加剤について説明する。 The polymerizable liquid crystal material, chiral agent, and photopolymerization initiator used in the liquid crystal layer forming coating solution are the same as those described in the above “optical element”, and thus the description thereof is omitted here. Hereinafter, the solvent and other additives used in the liquid crystal layer forming coating solution will be described.
(溶媒)
上記液晶層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつ配向能を有する基材上の配向能を阻害しない溶媒であれば特に限定されるものではない。
(solvent)
The solvent used in the liquid crystal layer-forming coating solution may be a solvent that can dissolve the above-described polymerizable liquid crystal material and the like and that does not inhibit the alignment ability on the substrate having alignment ability. There is no particular limitation.
単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不充分であったり、上述したように配向能を有する基板が侵食される場合がある。しかし2種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。溶液の濃度は、液晶性組成物の溶解性や製造せんとする円偏光制御光学素子の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は5〜60質量%の範囲で調整される。 If only a single type of solvent is used, the solubility of the polymerizable liquid crystal material or the like may be insufficient, or the substrate having alignment ability may be eroded as described above. However, this inconvenience can be avoided by using a mixture of two or more solvents. The concentration of the solution depends on the solubility of the liquid crystalline composition and the film thickness of the circular polarization control optical element to be produced, but cannot be defined unconditionally, but is usually adjusted in the range of 5 to 60% by mass.
また、上記液晶層形成用塗工液には、塗布を容易にするために界面活性剤等を加えることができる。 In addition, a surfactant or the like can be added to the liquid crystal layer forming coating solution in order to facilitate application.
界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、重合性液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗布する配向能を有する基板の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる液晶性組成物の0.01〜1質量%の範囲にある。 The amount of the surfactant added depends on the type of the surfactant, the type of the polymerizable liquid crystal material, the type of the solvent, and the type of the substrate having the alignment ability to apply the solution, but usually the liquid crystal contained in the solution. It is in the range of 0.01 to 1% by mass of the composition.
3.光学機能層形成工程
本発明においては、上述した液晶層形成工程において形成された重合性液晶材料を主成分とする液晶層に活性照射線を照射することにより、液晶層がその液晶規則性を有した状態で硬化させることにより、種々の光学的機能を有する光学機能層を形成することができる。
3. Optical Functional Layer Forming Process In the present invention, the liquid crystal layer has the liquid crystal regularity by irradiating the active liquid crystal layer with the active liquid crystal layer mainly composed of the polymerizable liquid crystal material formed in the liquid crystal layer forming process. By curing in such a state, optical functional layers having various optical functions can be formed.
この際照射する活性放射線とは、重合性液晶材料や重合性カイラル剤等を重合せさることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は、波長が250〜450nmの照射光が用いられる。 The actinic radiation irradiated at this time is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing a polymerizable liquid crystal material, a polymerizable chiral agent, or the like, but is usually irradiated with a wavelength of 250 to 450 nm. Light is used.
照射強度は、液晶層を形成している重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜調整されて照射される。 Irradiation intensity is appropriately adjusted according to the composition of the polymerizable liquid crystal material forming the liquid crystal layer and the amount of photopolymerization initiator.
4.転写工程
本発明においては、必要に応じて、上記光学機能層形成工程の後、上記配向能を有する基材上に形成された光学機能層を被転写材上に転写する工程を有するものであってもよい。
4). Transfer step In the present invention, if necessary, after the optical functional layer forming step, a step of transferring the optical functional layer formed on the substrate having the orientation ability onto a transfer material is included. May be.
これは、光学機能層を他の層と組み合わせて用いる場合や、光学機能層は可撓性の無い基材上で形成することが好ましいが、使用に際しては可撓性のあるフィルム表面において用いたい場合等の必要に応じて行われる。 This is because when the optical functional layer is used in combination with other layers, or the optical functional layer is preferably formed on a non-flexible substrate, it is desired to use it on the surface of the flexible film in use. It is performed as needed.
転写は、上述した光学機能層形成工程で形成された光学機能層の表面に被転写材表面を接触させることにより行われる(図1(b)および(c)参照)。 The transfer is performed by bringing the surface of the transfer material into contact with the surface of the optical functional layer formed in the optical functional layer forming step described above (see FIGS. 1B and 1C).
この際の転写方法としては、例えば、被転写材表面もしくは上記光学機能層表面に接着層を予め形成しておき、この接着力により転写する方法、基材上の配向膜等を易剥離性としておく方法等が挙げられる。 As a transfer method at this time, for example, an adhesive layer is formed in advance on the surface of the material to be transferred or the surface of the optical function layer, and a method of transferring by this adhesive force, an alignment film on the substrate is made easy to peel. The method etc. which are put are mentioned.
さらに有効な方法としては、光学機能層の被転写材が接触する側の表面の表面硬度を基材側の表面硬度よりも低くなるように形成し、この状態で転写を行う方法や、光学機能層の上記被転写材側表面の残存二重結合率が、上記基材側のものよりも高くするように形成し、この状態で転写を行う方法等を挙げることができる。このように、光学機能層における表面側の重合度を基材側の重合度より低く形成する方法としては、酸素の存在下において重合速度が低下する酸素依存性を有する光重合開始剤を上記重合性液晶材料に用い、表面側にのみ酸素が接触するような条件下で重合させる方法等を挙げることができる。 More effective methods include a method in which the surface hardness of the surface of the optical functional layer on which the material to be transferred comes into contact is lower than the surface hardness of the base material side, and transfer is performed in this state. Examples of the method include forming a layer so that the residual double bond ratio of the surface of the transfer material side of the layer is higher than that of the substrate side, and performing transfer in this state. As described above, as a method of forming the polymerization degree on the surface side in the optical functional layer lower than the polymerization degree on the substrate side, the above-described polymerization is performed using the above-described polymerization initiator having an oxygen dependency in which the polymerization rate decreases in the presence of oxygen. Examples thereof include a method of polymerizing under a condition that oxygen is used only on the surface side and used for a conductive liquid crystal material.
この工程において用いられる被転写材としては、用いられる光学素子の用途に応じて適宜選択されるものではあるが、一般的には光学素子であることから透明な材料、すなわち透明基板が好適に用いられる。 The transfer material used in this step is appropriately selected according to the use of the optical element to be used, but since it is generally an optical element, a transparent material, that is, a transparent substrate is preferably used. It is done.
この透明基板に関しては、上記「配向能を有する基材」の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Since this transparent substrate is the same as that described in the above-mentioned “base material having orientation ability”, description thereof is omitted here.
5.熱処理工程
本発明においては、上記光学機能層形成工程の後、熱処理工程を行うところに特徴を有するものであり、本発明の光学素子の熱処理方法は、この工程における熱処理方法を含むものである。
5. Heat treatment step The present invention is characterized in that a heat treatment step is performed after the optical functional layer formation step, and the heat treatment method for an optical element of the present invention includes the heat treatment method in this step.
すなわち、本発明の光学素子の熱処理方法は、上述した支持材と、この支持材上に上述した光学機能層形成工程により形成された光学機能層とを有する光学素子に対して、所定の温度で熱処理を行うことを特徴とするものであり、上記に説明したように、基材として高分子延伸フィルム等を用いた場合には、当該熱処理温度は、80〜120℃程度である。より好ましい温度としては、90℃〜120℃の範囲内、さらに好ましくは、90℃〜110℃の範囲内とすることができる。一方、基材としてガラス基板等を用いた場合には、熱処理温度は180℃〜240℃程度である。より好ましくは、190℃〜230℃の範囲内、さらに好ましくは200℃〜220℃の範囲内である。 That is, the heat treatment method for an optical element of the present invention is performed at a predetermined temperature with respect to an optical element having the above-described support material and the optical function layer formed on the support material by the above-described optical function layer forming step. Heat treatment is performed, and as described above, when a polymer stretched film or the like is used as the substrate, the heat treatment temperature is about 80 to 120 ° C. A more preferable temperature is in the range of 90 ° C to 120 ° C, and more preferably in the range of 90 ° C to 110 ° C. On the other hand, when a glass substrate or the like is used as the base material, the heat treatment temperature is about 180 ° C to 240 ° C. More preferably, it is in the range of 190 ° C to 230 ° C, and more preferably in the range of 200 ° C to 220 ° C.
上記温度は、通常画像処理装置を製造する際に、例えばITO電極を形成する際や、配向膜としてのポリイミド膜を形成する場合に加えられる加熱温度を考慮して決定されるものである。すなわち、熱処理される光学素子は、上述した画像処理装置の製造工程に加えられる温度において、膜厚の安定性、ひいては膜厚に関係する光学素子の諸機能が安定していることが求められる。したがって、少なくとも光学素子が用いられる画像処理装置の製造工程に加えられる温度からそれより少なくとも10℃高い温度までの間で熱処理が加えられることが好ましいのである。 The above temperature is usually determined in consideration of the heating temperature applied when manufacturing an image processing apparatus, for example, when forming an ITO electrode or when forming a polyimide film as an alignment film. That is, the optical element to be heat-treated is required to have stable film thickness, and thus various functions of the optical element related to the film thickness, at the temperature applied to the above-described manufacturing process of the image processing apparatus. Therefore, it is preferable that the heat treatment is performed at least between a temperature applied to the manufacturing process of the image processing apparatus in which the optical element is used and a temperature at least 10 ° C. higher than that.
本発明においては、上述したような温度で、10分〜60分、好ましくは15分〜45分、特に20分〜40分の範囲内の時間で熱処理を行うことが好ましい。 In the present invention, it is preferable to perform the heat treatment at a temperature as described above for 10 minutes to 60 minutes, preferably 15 minutes to 45 minutes, particularly 20 minutes to 40 minutes.
熱処理の時間は、上述したように内部の不純物が除去される程度の時間であればよく、このような観点から上述したような範囲内の時間で行われる。 The heat treatment time may be a time enough to remove the internal impurities as described above, and the heat treatment is performed within the above-described range from this viewpoint.
このような熱処理は、一般的なオーブン等の熱処理用機器を用いて行うことが可能である。 Such heat treatment can be performed using a general heat treatment apparatus such as an oven.
本発明においては、上記重合性液晶材料が、光重合開始剤を含有していることが好ましい。本発明においては、上述したように、加熱に際して光学機能層内に存在する、主鎖と化学結合を有さない不純物が除去されることによる膜厚の低下を防止することにより、加熱時における光学機能層の膜厚の変化を最小限とするものである。したがって、予め光重合開始剤等の残渣が光学機能層内に存在する光学機能層であることが、本発明の熱処理方法の利点を最大限に活かすことができるものだからである。 In the present invention, the polymerizable liquid crystal material preferably contains a photopolymerization initiator. In the present invention, as described above, the optical function during heating is prevented by preventing a decrease in film thickness due to removal of impurities that do not have a chemical bond with the main chain, present in the optical functional layer during heating. The change in the thickness of the functional layer is minimized. Therefore, it is because the advantage of the heat treatment method of the present invention can be maximized when the residue such as a photopolymerization initiator is present in the optical functional layer in advance.
このような熱処理方法は、光学機能層が位相差層である位相差積層体において特に有効である。位相差層の膜厚が、画像表示装置の製造工程において加熱により変動すると、位相差層のリタデーション値が大幅に変動することになる。このように位相差層のリタデーション値が変動してしまっては、光学的設計上大きな問題となり、このようなリタデーション値の変動する位相差層積層体は通常用いることができない。 Such a heat treatment method is particularly effective in a retardation laminate in which the optical functional layer is a retardation layer. If the thickness of the retardation layer varies due to heating in the manufacturing process of the image display device, the retardation value of the retardation layer varies greatly. If the retardation value of the retardation layer fluctuates in this way, it becomes a big problem in optical design, and such a retardation layer laminate in which the retardation value fluctuates cannot usually be used.
本発明の熱処理方法によれば、予め上述したような熱処理を行うことにより、例えば画像装置の製造工程において位相差層に熱が加わった場合でも、予め熱処理がなされていることから、リタデーション値の変動が最小限である。したがって、製造工程において、熱が加わるような場合であっても用いることが可能となり、位相差層積層体としての用途が大幅に広がるといった利点を有する。 According to the heat treatment method of the present invention, since the heat treatment as described above is performed in advance, for example, even when heat is applied to the retardation layer in the manufacturing process of the imaging device, the heat treatment is performed in advance. Fluctuation is minimal. Therefore, even when heat is applied in the manufacturing process, it can be used, and there is an advantage that the use as a retardation layer laminate is greatly expanded.
また、上記熱処理方法は、光学機能層がコレステリック層である円偏光制御光学素子においても、特に有効である。このようなコレステリック層は、その中心反射波長が膜厚に依存するものである。したがって上述した位相差層と同様に、重要な光学的特性である中心反射波長が、製造時に加熱された場合でも変動しないものであるので、円偏光制御光学素子としての用途が大幅に拡大するといった利点を有するからである。 The above heat treatment method is also particularly effective for a circularly polarized light control optical element in which the optical functional layer is a cholesteric layer. In such a cholesteric layer, the central reflection wavelength depends on the film thickness. Therefore, as with the above-described retardation layer, the central reflection wavelength, which is an important optical characteristic, does not vary even when heated at the time of manufacture, so the use as a circularly polarized light control optical element is greatly expanded. This is because it has advantages.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下に実施例を示し、本発明をさらに説明する。 The following examples further illustrate the invention.
A.コレステリック層
(液晶層形成用塗工液の調製)
重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤を100:5:5(質量%)の割合で混合した粉体を、トルエンに30質量%になるように溶解して液晶層形成用塗工液を調製した。重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤としては、下記のものを用いた。
・重合性液晶材料:末端に重合可能な官能基を有し、50℃〜100℃でネマチック液晶性を示す下記化学式(5)に示す重合性液晶モノマー
Coating for forming a liquid crystal layer by dissolving a powder obtained by mixing a polymerizable liquid crystal material, a chiral agent, and a photopolymerization initiator in a ratio of 100: 5: 5 (mass%) in toluene so as to be 30 mass%. A liquid was prepared. The following were used as the polymerizable liquid crystal material, the chiral agent, and the photopolymerization initiator.
Polymerizable liquid crystal material: a polymerizable liquid crystal monomer represented by the following chemical formula (5) having a polymerizable functional group at the terminal and exhibiting nematic liquid crystal properties at 50 ° C. to 100 ° C.
次に、厚さ0.7mmのガラス基板に、ポリイミドを主成分とする配向膜溶液をスピンコーティングし、溶媒を蒸発させた後に、200℃でポストベイクし、既知の方法でラビングして配向膜を作製した。 Next, a 0.7 mm thick glass substrate is spin-coated with an alignment film solution containing polyimide as a main component, and after the solvent is evaporated, post-baking is performed at 200 ° C., and the alignment film is rubbed by a known method. Produced.
また、厚さ75μmのTACフィルムにポリビニルアルコールを主成分とする配向膜溶液をバーコーティングし、溶媒を蒸発させた後に、100℃でポストベイクし、既知の方法でラビングして配向膜を作成した。 Further, an alignment film solution containing polyvinyl alcohol as a main component was bar-coated on a 75 μm-thick TAC film, the solvent was evaporated, post-baked at 100 ° C., and rubbed by a known method to prepare an alignment film.
(コレステリック層の形成)
上記液晶層形成用塗工液を、上記のポリイミド配向膜上にスピンコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、80℃×3分で液晶分子を配向させ、コレステリック構造特有の選択反射を示すことを確認した上で、UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料1を作成した。
(Formation of cholesteric layer)
The liquid crystal layer forming coating solution was spin-coated on the polyimide alignment film. Next, after evaporating the solvent, the liquid crystal molecules are aligned at 80 ° C. for 3 minutes, and after confirming that the selective reflection specific to the cholesteric structure is exhibited, UV irradiation is performed to form a cholesteric layer. Sample 1 was prepared.
また、上記液晶形成用塗工液を、上記のポリビニルアルコール配向膜上にバーコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、80℃×3分で液晶分子を配向させ、コレステリック構造特有の選択反射を示すことを確認した上で、UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料2を作成した。 The liquid crystal forming coating solution was bar-coated on the polyvinyl alcohol alignment film. Next, after evaporating the solvent, the liquid crystal molecules are aligned at 80 ° C. for 3 minutes, and after confirming that the selective reflection specific to the cholesteric structure is exhibited, UV irradiation is performed to form a cholesteric layer. Sample 2 was prepared.
このようにして得た試料1を、200℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例1)と、熱処理を施さなかった試料(比較例1)を調整した。 The sample 1 thus obtained was heat-treated at 200 ° C. for 60 minutes, then naturally cooled to room temperature and allowed to stand for 1 day (Example 1), and a sample not subjected to heat treatment (Comparative Example 1) ) Was adjusted.
また、試料2を、100℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例2)と、熱処理を施さなかった試料(比較例2)を調整した。 Sample 2 was heat treated at 100 ° C. for 60 minutes, and then a sample that was naturally cooled to room temperature and allowed to stand for 1 day (Example 2) and a sample that was not subjected to heat treatment (Comparative Example 2) were prepared. .
(評価)
これらの実施例1および比較例1の試料を200℃×60分で加熱し、加熱前と加熱後との各試料の選択反射中心波長を測定し、中心波長の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例1 1%の短波長側への変動
・比較例1 6%の短波長側への変動
(Evaluation)
The samples of Example 1 and Comparative Example 1 were heated at 200 ° C. for 60 minutes, the selective reflection center wavelength of each sample before and after heating was measured, and the change rate of the center wavelength was calculated. The following results were obtained.
-Example 1 1% fluctuation toward short wavelength side-Comparative Example 1 6% fluctuation toward short wavelength side
また、実施例2および比較例2の試料を100℃×60分で加熱し、上記と同様に各試料の中心波長の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例2 1%の短波長側への変動
・比較例2 6%の短波長側への変動
Further, the samples of Example 2 and Comparative Example 2 were heated at 100 ° C. for 60 minutes, and the change rate of the center wavelength of each sample was calculated in the same manner as described above, and the following results were obtained.
-Example 2 1% fluctuation toward short wavelength side-Comparative Example 2 6% fluctuation toward short wavelength side
B.位相差層1
(液晶相形成用塗工液および配向膜の調製)
カイラル剤を用いず、重合性液晶材料および光重合開始剤を100:5(質量%)とした以外は、上記Aと同様にして液晶層形成用塗工液を調製した。また、配向膜も上記Aと同様にして調整した。
B. Retardation layer 1
(Preparation of liquid crystal phase forming coating solution and alignment film)
A liquid crystal layer-forming coating solution was prepared in the same manner as A described above except that the chiral liquid crystal material and the photopolymerization initiator were changed to 100: 5 (mass%) without using a chiral agent. The alignment film was also adjusted in the same manner as A above.
(位相差層の形成)
上記液晶層形成用塗工液を、上記配向膜上にスピンコーティングまたはバーコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、80℃×3分で液晶分子をネマチック配向させた上で、UVを照射して重合させることにより位相差層を形成し、試料3および4を作成した。
(Formation of retardation layer)
The liquid crystal layer forming coating solution was spin-coated or bar-coated on the alignment film. Next, after evaporating the solvent, the liquid crystal molecules were nematically aligned at 80 ° C. for 3 minutes and then irradiated with UV for polymerization to form a retardation layer, thereby preparing
このようにして得たネマチチック構造を有する試料3を、200℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例3)と、熱処理を施さなかった試料(比較例3)を調整し、また、試料4についても、100℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例4)と、熱処理を施さなかった試料(比較例4)を調整した。
The
(評価)
これらの実施例3および比較例3の試料を200℃×60分で加熱し、加熱前と加熱後との各試料のリタデーション値を測定し、加熱前後でのリタデーション値の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例3 1%のリタデーション値の変動
・比較例3 6%のリタデーション値の変動
(Evaluation)
When the samples of Example 3 and Comparative Example 3 were heated at 200 ° C. for 60 minutes, the retardation value of each sample before and after heating was measured, and the rate of change of the retardation value before and after heating was calculated. The following results were obtained.
Example 3 Variation of 1% retardation value Comparative Example 3 Variation of 6% retardation value
また、実施例4および比較例4の試料を100℃×60分で加熱し、上記と同様に各試料のリタデーション値の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例4 1%のリタデーション値の変動
・比較例4 6%のリタデーション値の変動
Further, the samples of Example 4 and Comparative Example 4 were heated at 100 ° C. for 60 minutes, and the change rate of the retardation value of each sample was calculated in the same manner as described above. The following results were obtained.
Example 4 Variation of 1% retardation value Comparative Example 4 Variation of 6% retardation value
C.位相差層2
(液晶相形成用塗工液および配向膜の調製)
重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤を100:15:5(質量%)の割合とした以外は、上記Aと同様にして液晶層形成用塗工液を調製した。
また、配向膜も上記Aと同様にして調整した。
C. Phase difference layer 2
(Preparation of liquid crystal phase forming coating solution and alignment film)
A liquid crystal layer-forming coating solution was prepared in the same manner as A described above except that the polymerizable liquid crystal material, the chiral agent, and the photopolymerization initiator were in a ratio of 100: 15: 5 (mass%).
The alignment film was also adjusted in the same manner as A above.
(位相差層の形成)
上記液晶層形成用塗工液を、上記のポリイミド配向膜上にスピンコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、80℃×3分で液晶分子を配向させ、UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料5を作成した。
上記液晶層用塗工液は、実施例1で用いた液晶形成用塗工液よりもカイラル剤成分を多く含むため、作成された試料5の選択反射中心波長は、紫外光領域であった。なお、このようにして作成された位相差層は、負の位相差補償板として機能するものであった。
(Formation of retardation layer)
The liquid crystal layer forming coating solution was spin-coated on the polyimide alignment film. Next, after evaporating the solvent, liquid crystal molecules were aligned at 80 ° C. for 3 minutes and polymerized by irradiating UV to form a cholesteric layer, thereby preparing Sample 5.
Since the liquid crystal layer coating solution contains more chiral agent components than the liquid crystal forming coating solution used in Example 1, the selective reflection center wavelength of the prepared sample 5 was in the ultraviolet region. The retardation layer prepared in this way functioned as a negative retardation compensation plate.
また、上記液晶形成用塗工液を、上記のポリビニルアルコール配向膜上にバーコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、80℃×3分で液晶分子を配向させ、UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料6を作成した。試料6においても、選択反射中心波長は、紫外光領域であった。 The liquid crystal forming coating solution was bar-coated on the polyvinyl alcohol alignment film. Next, after evaporating the solvent, the liquid crystal molecules were aligned at 80 ° C. for 3 minutes and polymerized by irradiation with UV to form a cholesteric layer, thereby preparing Sample 6. Also in sample 6, the selective reflection center wavelength was in the ultraviolet region.
このようにして得たネマチチック構造を有する試料3を、200℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例5)と、熱処理を施さなかった試料(比較例5)を調整し、また、試料6についても、100℃×60分で熱処理を施した後、室温まで自然冷却して1日放置した試料(実施例6)と、熱処理を施さなかった試料(比較例6)を調整した。
The
(評価)
これらの実施例5および比較例5の試料を200℃×60分で加熱し、加熱前と加熱後との各試料のリタデーション値を測定し、加熱前後でのリタデーション値の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例5 1%のリタデーション値の変動
・比較例5 6%のリタデーション値の変動
(Evaluation)
When the samples of Example 5 and Comparative Example 5 were heated at 200 ° C. for 60 minutes, the retardation value of each sample before and after heating was measured, and the rate of change of the retardation value before and after heating was calculated. The following results were obtained.
Example 5 Variation of 1% retardation value Comparative Example 5 Variation of 6% retardation value
また、実施例6および比較例6の試料を100℃×60分で加熱し、上記と同様に各試料のリタデーション値の変化率を算出したところ、以下の様な結果が得られた。
・実施例6 1%のリタデーション値の変動
・比較例6 6%のリタデーション値の変動
Further, the samples of Example 6 and Comparative Example 6 were heated at 100 ° C. for 60 minutes, and the change rate of the retardation value of each sample was calculated in the same manner as described above. The following results were obtained.
Example 6 Fluctuation of 1% retardation value Comparative Example 6 Fluctuation of 6% retardation value
3 基材
4 液晶層
6 光学機能層
8 光学素子
3 Base material 4 Liquid crystal layer 6
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