JP2008059851A - Dye-sensitized solar cell - Google Patents

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Daisuke Fujishima
大介 藤嶋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dye-sensitized solar cell capable of suppressing deterioration of a photoelectric transfer performance due to short circuit by preventing leakage current, without requiring a high temperature treatment in a manufacturing process. <P>SOLUTION: The dye-sensitized solar cell is provided with an electrode layer 2, a photoelectric transfer layer 6 consisting of a porous semiconductor layer which is formed on the electrode layer to absorb dyes 5, a counter electrode 8 installed so as to be opposed to the electrode layer, and a charge transporting layer 7 to be arranged between the photoelectric transfer layer and the counter electrode. A short circuit preventative layer 3 consisting of fluorocarbon is installed between the charge transporting layer 7 and the electrode layer 2. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、色素増感太陽電池に関するものであり、漏れ電流を防止することができる色素増感太陽電池に関するものである。   The present invention relates to a dye-sensitized solar cell, and relates to a dye-sensitized solar cell capable of preventing leakage current.

化石燃料に代わる新たなエネルギー源として、持続可能で環境負荷のない太陽光を利用する太陽電池が注目されており、種々の研究が行われてきた。現在実用化されている太陽電池として、単結晶シリコン、多結晶シリコン、またはアモルファスシリコンをセルとするものが主流である。しかしながら、これらの太陽電池は、原材料であるシリコンのコストや製造プロセスにおけるエネルギーコストが高いなどの課題がある。   As a new energy source to replace fossil fuels, solar cells that use solar light that is sustainable and have no environmental impact have attracted attention, and various studies have been conducted. As solar cells currently in practical use, those using single crystal silicon, polycrystalline silicon, or amorphous silicon as cells are the mainstream. However, these solar cells have problems such as high cost of silicon as a raw material and high energy cost in the manufacturing process.

一方、新しいタイプの太陽電池として、有機色素の光誘起電子移動を応用した湿式太陽電池である色素増感太陽電池が提案されている(特許文献1)。これらの色素増感太陽電池は、多孔質半導体を含む電極と、対極と、これらの電極の間に挟まれた電解質層とから構成されており、光電変換材料である多孔質半導体の表面には、可視光領域に吸収スペクトルを有する光増感色素が吸着されている。このような太陽電池の多孔質半導体層に光が照射されると、多孔質半導体層で電子が発生し、この電子が電気回路を通って対極に移動し、電解質層中のイオンによって運ばれるか、あるいはP型半導体を通って多孔質半導体層の電極に戻る。このような過程が繰り返されることにより電気エネルギーが取り出される。   On the other hand, as a new type of solar cell, a dye-sensitized solar cell, which is a wet solar cell applying photoinduced electron transfer of an organic dye, has been proposed (Patent Document 1). These dye-sensitized solar cells are composed of an electrode including a porous semiconductor, a counter electrode, and an electrolyte layer sandwiched between these electrodes. On the surface of the porous semiconductor that is a photoelectric conversion material, A photosensitizing dye having an absorption spectrum in the visible light region is adsorbed. When light is irradiated to the porous semiconductor layer of such a solar cell, electrons are generated in the porous semiconductor layer, and the electrons move to the counter electrode through the electric circuit and are transported by ions in the electrolyte layer. Or, it returns to the electrode of the porous semiconductor layer through the P-type semiconductor. By repeating such a process, electric energy is extracted.

しかしながら、上記の色素増感太陽電池においては、電極層と多孔質半導体層が接触していない部分において電解質層が電極層と接触しているため、太陽電池内部で漏れ電流が生じ、光電変換性能が低下するなどの問題がある。   However, in the dye-sensitized solar cell, since the electrolyte layer is in contact with the electrode layer in the portion where the electrode layer and the porous semiconductor layer are not in contact, leakage current is generated inside the solar cell, and the photoelectric conversion performance There are problems such as lowering.

特許文献2においては、短絡を防止するための下塗り層を有する色素増感太陽電池が開示されている。この色素増感太陽電池は、電極層の表面全体に、例えば、スプレーパイロリシス法で形成された、抵抗率の高い酸化チタンの下塗り層が設けられている。そして、この上に、多孔質半導体層を形成することにより、多孔質半導体層上に形成されるキャリア輸送層と電極層との接触を防ぎ、太陽電池内部の短絡を防止している。   In Patent Document 2, a dye-sensitized solar cell having an undercoat layer for preventing a short circuit is disclosed. In this dye-sensitized solar cell, an undercoat layer of titanium oxide having a high resistivity formed by, for example, a spray pyrolysis method is provided on the entire surface of the electrode layer. Further, by forming a porous semiconductor layer thereon, contact between the carrier transport layer formed on the porous semiconductor layer and the electrode layer is prevented, and a short circuit inside the solar cell is prevented.

しかしながら、上記の下塗り層は、キャリア輸送層と電極層との接触による短絡を抑制できるものの、光により生成したキャリアが多孔質半導体層から電極層に移動する途中において、下塗り層を通過しなければならず、これが内部直列抵抗を増加させるので、光電変換効率が十分に得られないという問題点がある。また、下塗り層形成時に基板を400℃に加熱するため、プラスチック等のフレキシブルなフィルム基板に応用できないという問題もある。   However, although the undercoat layer described above can suppress a short circuit due to contact between the carrier transport layer and the electrode layer, the carrier generated by light must pass through the undercoat layer in the middle of moving from the porous semiconductor layer to the electrode layer. However, since this increases the internal series resistance, there is a problem that sufficient photoelectric conversion efficiency cannot be obtained. Further, since the substrate is heated to 400 ° C. when forming the undercoat layer, there is a problem that it cannot be applied to a flexible film substrate such as plastic.

また、特許文献3においては、上記の内部直列抵抗の増加問題を解決する手段として、例えば、金属酸化物のアルコキシドの加水分解を利用して、電極層と光電変換層が接触していない電極層の部分を、酸化マグネシウムなどの金属酸化物で覆い、短絡防止層として機能させる技術が開示されている。   Moreover, in patent document 3, as a means to solve the increase problem of said internal series resistance, for example, the electrode layer and the photoelectric conversion layer are not in contact with each other by utilizing hydrolysis of an alkoxide of a metal oxide. A technique is disclosed in which this part is covered with a metal oxide such as magnesium oxide to function as a short-circuit prevention layer.

しかしながら、この短絡防止層を形成するために150℃、20分のアニールを10回以上繰り返し、さらに例えば500℃1時間のアニールを行わなければならず、短絡防止層の形成に非常に時間がかかるという問題がある。また、高温処理を行うため、プラスチック等のフレキシブルなフィルム基板に応用することができないという問題もある。   However, in order to form this short-circuit prevention layer, annealing at 150 ° C. for 20 minutes is repeated 10 times or more, and further, for example, annealing at 500 ° C. for 1 hour must be performed, and it takes a very long time to form the short-circuit prevention layer. There is a problem. Moreover, since a high temperature process is performed, there also exists a problem that it cannot apply to flexible film substrates, such as a plastics.

また、特許文献4においては、電極層と光電変換層との間に、N型導電性ポリマーや、フラーレン、内包フラーレン、またはこれらを分散させたN型導電性ポリマーによる短絡防止層を形成することが開示されている。   In Patent Document 4, an N-type conductive polymer, fullerene, endohedral fullerene, or an N-type conductive polymer in which these are dispersed is formed between the electrode layer and the photoelectric conversion layer. Is disclosed.

しかしながら、短絡防止層が絶縁体でないため、キャリア輸送層と短絡防止層との間に短絡が生じ、完全に短絡を防止できないという問題がある。
特許第2664194号公報 特開2001−156314号公報 特開2004−87622号公報 特開2005−108807号公報
However, since the short-circuit prevention layer is not an insulator, there is a problem that a short circuit occurs between the carrier transport layer and the short-circuit prevention layer, and the short circuit cannot be completely prevented.
Japanese Patent No. 2664194 JP 2001-156314 A JP 2004-87622 A JP 2005-108807 A

本発明の目的は、製造工程において、高温処理を必要とせず、漏れ電流を防止して、短絡による光電変換性能の低下を抑制することができる色素増感太陽電池を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a dye-sensitized solar cell that does not require high-temperature treatment in the production process, prevents leakage current, and suppresses a decrease in photoelectric conversion performance due to a short circuit.

電極層と、該電極層上に形成された、色素を吸着させた多孔質半導体層からなる光電変換層と、電極層と対向するように設けられる対極と、光電変換層と対極の間に配置される電荷輸送層とを備える色素増感太陽電池において、電荷輸送層と電極層の間にフルオロカーボンからなる短絡防止層が設けられていることを特徴としている。   An electrode layer, a photoelectric conversion layer made of a porous semiconductor layer adsorbed with a dye formed on the electrode layer, a counter electrode provided to face the electrode layer, and disposed between the photoelectric conversion layer and the counter electrode In the dye-sensitized solar cell including the charge transport layer, a short-circuit prevention layer made of fluorocarbon is provided between the charge transport layer and the electrode layer.

本発明においては、短絡防止層としてフルオロカーボン層を形成している。フルオロカーボン層は、例えば、CVD法により形成することができる。従って、本発明によれば、低温で、短時間で短絡防止層を形成することができ、漏れ電流を抑制し、光電変換効率を向上させることができる。   In the present invention, a fluorocarbon layer is formed as a short-circuit prevention layer. The fluorocarbon layer can be formed by, for example, a CVD method. Therefore, according to the present invention, the short-circuit prevention layer can be formed in a short time at a low temperature, the leakage current can be suppressed, and the photoelectric conversion efficiency can be improved.

本発明においては、光電変換層を電極層と接触するように設け、光電変換層が電極層と接触していない電極層の領域の上に短絡層を設けてもよい。このような構造は、電極層の上に光電変換層を形成した後、短絡防止層をCVD法などで形成することにより形成することができる。   In the present invention, the photoelectric conversion layer may be provided so as to be in contact with the electrode layer, and the short-circuit layer may be provided on a region of the electrode layer where the photoelectric conversion layer is not in contact with the electrode layer. Such a structure can be formed by forming a photoelectric conversion layer on the electrode layer and then forming a short-circuit prevention layer by a CVD method or the like.

また、本発明においては、電極層の上に短絡防止層を形成し、短絡防止層形成後に光電変換層を形成してもよい。このような構造では、光電変換層と電極層との間に短絡防止層が存在する領域が形成される。   Moreover, in this invention, a short circuit prevention layer may be formed on an electrode layer, and a photoelectric converting layer may be formed after short circuit prevention layer formation. In such a structure, a region where a short-circuit prevention layer exists is formed between the photoelectric conversion layer and the electrode layer.

本発明において、短絡防止層の厚みは特に限定されるものではないが、一般に1nm〜20nmの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは3nm〜10nmの範囲である。特に、電極層の上に短絡防止層を形成した後、光電変換層を形成する場合には、電極層と光電変換層との間に、短絡防止層が存在する領域が生じるので、短絡防止層の厚みは、薄い方が好ましく、具体的には3nm〜7nmの範囲が好ましい。短絡防止層の厚みが薄過ぎると、漏れ電流を抑制する本発明の効果が十分に得られない場合があり、短絡防止層の厚みが厚過ぎると、内部抵抗が高くなり、光電変換効率が低下する場合がある。   In the present invention, the thickness of the short-circuit prevention layer is not particularly limited, but generally it is preferably in the range of 1 nm to 20 nm, more preferably in the range of 3 nm to 10 nm. In particular, when a photoelectric conversion layer is formed after forming a short-circuit prevention layer on the electrode layer, a region where the short-circuit prevention layer exists is generated between the electrode layer and the photoelectric conversion layer. The thickness of is preferably thinner, and specifically in the range of 3 nm to 7 nm. If the thickness of the short-circuit prevention layer is too thin, the effects of the present invention that suppress leakage current may not be sufficiently obtained. If the thickness of the short-circuit prevention layer is too thick, the internal resistance increases and the photoelectric conversion efficiency decreases. There is a case.

本発明における、電極層、色素を吸着させた多孔質半導体層からなる光電変換層、対極、及び電荷輸送層は、例えば、従来より公知の色素増感太陽電池において用いられているものをそのまま採用することができる。   In the present invention, the electrode layer, the photoelectric conversion layer composed of a porous semiconductor layer adsorbed with a dye, the counter electrode, and the charge transport layer are, for example, those used in conventionally known dye-sensitized solar cells as they are. can do.

電極層は、例えば、基板上に金、銀、アルミニウム、インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫(ITO)、フッ素をドープした酸化錫(FTO)などを基板上に成膜することにより形成することができる。同様に対極も、基板上に上記導電性薄膜を成膜することにより形成することができる。電極層及び対極は少なくともいずれか一方が透明であることが好ましく、この場合、基板も透明基板を用いることが好ましい。基板としては、ガラス基板、透明プラスチックシート基板、金属基板などを用いることができる。なお、金属基板を用いる場合には、この金属基板を電極層または対極とすることができる。   The electrode layer can be formed, for example, by depositing gold, silver, aluminum, indium, tin oxide, indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), or the like on the substrate. it can. Similarly, the counter electrode can be formed by depositing the conductive thin film on a substrate. At least one of the electrode layer and the counter electrode is preferably transparent. In this case, it is preferable to use a transparent substrate as the substrate. As the substrate, a glass substrate, a transparent plastic sheet substrate, a metal substrate, or the like can be used. When a metal substrate is used, this metal substrate can be used as an electrode layer or a counter electrode.

光電変換層は、多孔質半導体層に色素を吸着させることにより形成することができる。   The photoelectric conversion layer can be formed by adsorbing a dye to the porous semiconductor layer.

多孔質半導体層の材料としては、無機系半導体および有機系半導体が挙げられる。無機系半導体としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、硫化カドミウムなどが挙げられ、これらの中でも、安定性、安全性の点から、酸化チタンが特に好ましい。なお、酸化チタンとは、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、無定形酸化チタン、メタチタン酸、オルソチタン酸などの各種の酸化チタン、あるいは水酸化チタン、含水酸化チタンを意味する。これらの無機系半導体は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。有機系半導体としては、例えば、ポルフィン誘導体、フタロシアニン誘導体、シアニン誘導体などが挙げられる。   Examples of the material for the porous semiconductor layer include inorganic semiconductors and organic semiconductors. Examples of the inorganic semiconductor include titanium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, barium titanate, strontium titanate, cadmium sulfide, etc. Among these, titanium oxide is particularly preferable from the viewpoint of stability and safety. . Titanium oxide means anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, amorphous titanium oxide, various titanium oxides such as metatitanic acid and orthotitanic acid, or titanium hydroxide and hydrous titanium oxide. These inorganic semiconductors can be used alone or in combination of two or more. Examples of organic semiconductors include porphine derivatives, phthalocyanine derivatives, and cyanine derivatives.

多孔質半導体層を形成する方法としては、従来より公知の方法を用いることでき、半導体粒子を含有する懸濁液を塗布し、加熱して形成する方法や、CVD法、PVD法、蒸着法、スパッタリング法などで形成してもよい。またゾルゲル法で形成してもよい。   As a method for forming a porous semiconductor layer, a conventionally known method can be used, a method of applying a suspension containing semiconductor particles and heating, a CVD method, a PVD method, a vapor deposition method, You may form by sputtering method etc. Further, it may be formed by a sol-gel method.

多孔質半導体層は、より多くの色素を吸着させるため比表面積が大きいことが好ましい。   The porous semiconductor layer preferably has a large specific surface area in order to adsorb more dye.

多孔質半導体層の表面に吸着される色素は、色素増感太陽電池の光電変換効率を向上させるための分光増感剤として機能する。特に、多孔質半導体層として金属酸化物のような無機系半導体を用いる場合には、光に対する感度を高めるために色素を吸着させるのが好ましい。   The dye adsorbed on the surface of the porous semiconductor layer functions as a spectral sensitizer for improving the photoelectric conversion efficiency of the dye-sensitized solar cell. In particular, when an inorganic semiconductor such as a metal oxide is used as the porous semiconductor layer, it is preferable to adsorb a dye in order to increase sensitivity to light.

色素としては、可視光領域および/または赤外光領域に吸収スペクトルを有する化合物であって、多孔質半導体層に色素を強固に吸着させるために、色素分子中にカルボキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、エステル基、メルカプト基、ホスホニル基などのインターロック基を有するものが好ましい。なお、インターロック基は、励起状態の色素と多孔性半導体の導電帯との間の電子移動を容易にする電気的結合を提供するものである。   The dye is a compound having an absorption spectrum in the visible light region and / or the infrared light region, and in order to firmly adsorb the dye to the porous semiconductor layer, a carboxyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group in the dye molecule. Those having an interlock group such as a sulfonic acid group, an ester group, a mercapto group, and a phosphonyl group are preferred. The interlock group provides an electrical bond that facilitates electron transfer between the excited dye and the conductive band of the porous semiconductor.

上記の色素としては、例えば、ルテニウムビピリジン系色素、アゾ系色素、キノン系色素、キノンイミン系色素、キナクリドン系色素、スクアリリウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、ポルフィリン系色素、フタロシアニン系色素、ペリレン系色素、インジゴ系色素、ナフタロシアニン系色素などが挙げられる。   Examples of the above dyes include ruthenium bipyridine dyes, azo dyes, quinone dyes, quinone imine dyes, quinacridone dyes, squarylium dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes. Porphyrin dyes, phthalocyanine dyes, perylene dyes, indigo dyes, naphthalocyanine dyes, and the like.

また、色素としては、Cu、Ni、Fe、Co、V、Sn、Si、Ti、Ge、Cr、Zn、Ru、Mg、Al、Pb、Mn、In、Mo、Y、Zr、Nb、Sb、La、W、Pt、Ta、Ir、Pd、Os、Ga、Tb、Eu、Rb、Bi、Se、As、Sc、Ag、Cd、Hf、Re、Au、Ac、Tc、Te、Rhなどの金属を用いた金属錯体色素が挙げられる。   Examples of the dye include Cu, Ni, Fe, Co, V, Sn, Si, Ti, Ge, Cr, Zn, Ru, Mg, Al, Pb, Mn, In, Mo, Y, Zr, Nb, Sb, Metals such as La, W, Pt, Ta, Ir, Pd, Os, Ga, Tb, Eu, Rb, Bi, Se, As, Sc, Ag, Cd, Hf, Re, Au, Ac, Tc, Te, Rh And metal complex dyes.

多孔質半導体層に色素を吸着させる方法としては、例えば、色素を含有する溶液に多孔質半導体層を浸漬する方法が挙げられる。   Examples of the method for adsorbing the dye on the porous semiconductor layer include a method of immersing the porous semiconductor layer in a solution containing the dye.

電荷輸送層は、P型半導体、電解液、固体電解質、ゲル電解質、溶融塩ゲル電解質、有機系ホール輸送材料などから形成することができる。   The charge transport layer can be formed from a P-type semiconductor, an electrolytic solution, a solid electrolyte, a gel electrolyte, a molten salt gel electrolyte, an organic hole transport material, or the like.

P型半導体としては、一価の銅を含む化合物半導体、GaP、NiO、CoO、FeO、Bi、MoO、Crなどの金属酸化物の半導体が挙げられる。これらの中でも一価の銅を含む化合物半導体が好ましく、具体的には、CuI、CuSCN、CuInSe、Cu(In、Ga)Se、CuGaSe、CuO、CuS、CuGaS、CuInS、CuAlSeなどが挙げられ、CuIおよびCuSCNが特に好ましく、CuI(特にγ−CuI)がさらに好ましい。 Examples of the P-type semiconductor include compound semiconductors containing monovalent copper, and semiconductors of metal oxides such as GaP, NiO, CoO, FeO, Bi 2 O 3 , MoO 2 , and Cr 2 O 3 . Compound semiconductor containing monovalent copper Among these are preferred, and specifically, CuI, CuSCN, CuInSe 2, Cu (In, Ga) Se 2, CuGaSe 2, Cu 2 O, CuS, CuGaS 2, CuInS 2, CuAlSe 2 and the like, particularly preferably CuI and CuSCN are, CuI (especially gamma-CuI) is more preferred.

電解液は、電解質、溶媒及び添加物を含むことが好ましい。   The electrolytic solution preferably contains an electrolyte, a solvent, and an additive.

電解質としては、LiI、NaI、KI、CsI、CaIなどの金属ヨウ化物、およびテトラアルキルアンモニウムヨーダイド、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドなど4級アンモニウム化合物のヨウ素塩などのヨウ化物と、Iとの組み合わせ;LiBr、NaBr、KBr、CsBr、CaBrなどの金属臭化物、およびテトラアルキルアンモニウムブロマイド、ピリジニウムブロマイドなど4級アンモニウム化合物の臭素塩などの臭化物と、Brとの組み合わせ;フェロシアン酸塩−フェリシアン酸塩やフェロセン−フェリシニウムイオンなどの金属錯体;ポリ硫化ナトリウム、アルキルチオール−アルキルジスルフィドなどのイオウ化合物;ビオロゲン色素、ヒドロキノン−キノンなどが挙げられる。これらの中でも、LiI、ピリジニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイドとIとの組み合わせが好ましい。上記の電解質は2種以上を混合して用いてもよい。 As the electrolyte, LiI, NaI, KI, CsI, and an iodide such as iodine salt of CaI metal iodide such as 2, and tetraalkylammonium iodide, pyridinium iodide, imidazolium iodide and quaternary ammonium compounds, I combination of 2; LiBr, NaBr, KBr, CsBr, CaBr metal bromide such as 2, and tetraalkyl ammonium bromide, and bromide such as bromine salts of quaternary ammonium compounds such as pyridinium bromide, combination of Br 2; ferrocyanide acid Metal complexes such as salt-ferricyanate and ferrocene-ferricinium ions; sulfur compounds such as sodium polysulfide and alkylthiol-alkyldisulfides; viologen dyes and hydroquinone-quinones. Among these, LiI, pyridinium iodide, and a combination of imidazolium iodide and I 2 are preferable. Two or more of the above electrolytes may be mixed and used.

電解質に使用する溶媒としては、粘度が低く、イオン移動度を向上させ、誘電率が高く、有効キャリア濃度を向上させるような優れたイオン伝導性を発現させる化合物が望ましい。   As the solvent used in the electrolyte, a compound that has low viscosity, improves ion mobility, has a high dielectric constant, and exhibits excellent ion conductivity that improves effective carrier concentration is desirable.

このような溶媒としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート化合物;3−メチル−2−オキサゾリジノンなどの複素環化合物;ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル化合物;エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテルなどの鎖状エーテル類;メタノール、エタノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルなどのアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリンなどの多価アルコール類;アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル化合物;ジメチルスルフォキシド、スルフォランなど非プロトン極性物質;水などが挙げられる。   Examples of such solvents include carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate; heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazolidinone; ether compounds such as dioxane and diethyl ether; ethylene glycol dialkyl ether, propylene glycol dialkyl ether, polyethylene Chain ethers such as glycol dialkyl ether and polypropylene glycol dialkyl ether; alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, polyethylene glycol monoalkyl ether and polypropylene glycol monoalkyl ether; ethylene glycol, Propylene glycol, polyethylene glycol, polyp Propylene glycol, polyhydric alcohols such as glycerin; acetonitrile, glutarodinitrile, methoxy acetonitrile, propionitrile, nitrile compounds such as benzonitrile; like water; dimethyl sulfoxide, aprotic polar substances such as sulfolane.

電解液中の電解質濃度は、0.1〜5mol/l程度が好ましい。また、電解質にヨウ素を添加する場合の添加濃度は、0.01〜0.5mol/l程度が好ましい。   The electrolyte concentration in the electrolytic solution is preferably about 0.1 to 5 mol / l. Further, the addition concentration when iodine is added to the electrolyte is preferably about 0.01 to 0.5 mol / l.

電解液には、ter−ブチルピリジンや、2−ピコリン、2,6−ルチジンなどの塩基性化合物を添加することもできる。塩基性化合物を添加する場合の添加濃度は、0.05〜2mol/l程度が好ましい。   Basic compounds such as ter-butylpyridine, 2-picoline, and 2,6-lutidine can also be added to the electrolytic solution. The addition concentration when adding the basic compound is preferably about 0.05 to 2 mol / l.

固体電解質としては、電解質とイオン伝導性高分子化合物の混合物を用いることができる。イオン伝導性高分子化合物としては、例えば、ポリエーテル類、ポリエステル類、ポリアミン類、ポリスルフィド類などの極性高分子化合物が挙げられる。   As the solid electrolyte, a mixture of an electrolyte and an ion conductive polymer compound can be used. Examples of the ion conductive polymer compound include polar polymer compounds such as polyethers, polyesters, polyamines, and polysulfides.

ゲル電解質としては、電解質とゲル化剤を用いて作製したものを用いることができる。ゲル化剤としては、高分子ゲル化剤が良好に用いられる。例えば、架橋ポリアクリル樹脂誘導体や架橋ポリアクリロニトリル誘導体、ポリアルキレンオキシド誘導体、シリコーン樹脂類、側鎖に含窒素複素環式四級化合物塩構造を有するポリマーなどの高分子ゲル化剤などが挙げられる。   As a gel electrolyte, what was produced using electrolyte and a gelatinizer can be used. As the gelling agent, a polymer gelling agent is preferably used. Examples thereof include polymer gelling agents such as crosslinked polyacrylic resin derivatives, crosslinked polyacrylonitrile derivatives, polyalkylene oxide derivatives, silicone resins, and polymers having a nitrogen-containing heterocyclic quaternary compound salt structure in the side chain.

溶融塩ゲル電解質としては、ゲル電解質材料に常温型溶融塩を添加したものを用いることができる。常温型溶融塩としては、ピリジニウム塩類、イミダゾリウム塩類などの含窒素複素環式四級アンモニウム塩化合物類が良好に用いられる。   As the molten salt gel electrolyte, a gel electrolyte material obtained by adding a room temperature molten salt can be used. As room temperature type molten salts, nitrogen-containing heterocyclic quaternary ammonium salt compounds such as pyridinium salts and imidazolium salts are preferably used.

固体電解質、ゲル電解質、溶融塩ゲル電解質を用いて電荷輸送層を形成する際には、多孔質半導体層中に十分に高分子電解質が注入されていなければ光電変換効率が悪くなるため、液状であるモノマー溶液を多孔質半導体層中に含浸させ、その後に重合させるのが好ましい。重合方法としては、光重合や熱重合などが挙げられる。   When a charge transport layer is formed using a solid electrolyte, a gel electrolyte, or a molten salt gel electrolyte, the photoelectric conversion efficiency deteriorates unless the polymer electrolyte is sufficiently injected into the porous semiconductor layer. It is preferable that a certain monomer solution is impregnated in the porous semiconductor layer and then polymerized. Examples of the polymerization method include photopolymerization and thermal polymerization.

有機系ホール輸送材料は、色素から注入されたホールを効率よく通す機能を有する。このようなホール輸送材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリアミン、有機ポリシランなどの高分子系のホール輸送材料;例えば、トリフェニルアミン誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン誘導体、フェナミン誘導体などの低分子系のホール輸送材料が挙げられる。   The organic hole transport material has a function of efficiently passing holes injected from the dye. Examples of such hole transport materials include high molecular weight hole transport materials such as polyvinyl carbazole, polyamine, and organic polysilane; for example, low molecular weight holes such as triphenylamine derivatives, stilbene derivatives, hydrazone derivatives, and phenamine derivatives. Examples include transport materials.

本発明によれば、製造工程において高温処理を必要とせず、漏れ電流を防止して、短絡による光電変換性能の低下を抑制することができる。   According to the present invention, high-temperature processing is not required in the manufacturing process, leakage current can be prevented, and deterioration in photoelectric conversion performance due to short circuit can be suppressed.

以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
図1に示す色素増感太陽電池を作製した。図1に示すように、基板1の上には、電極層2が形成されており、電極層2の上に多孔質半導体層4が接触するように設けられている。多孔質半導体層4の表面には、色素5が吸着され、これによって光電変換層6が形成されている。
(Example 1)
The dye-sensitized solar cell shown in FIG. 1 was produced. As shown in FIG. 1, an electrode layer 2 is formed on a substrate 1, and a porous semiconductor layer 4 is provided on the electrode layer 2 so as to be in contact therewith. The dye 5 is adsorbed on the surface of the porous semiconductor layer 4, thereby forming a photoelectric conversion layer 6.

光電変換層6が電極層2と接触していない電極層2の領域の上には、短絡防止層3が形成されている。電極層2と対向するように対極8が設けられており、対極8と光電変換層6との間には、電荷輸送層7が設けられている。   On the region of the electrode layer 2 where the photoelectric conversion layer 6 is not in contact with the electrode layer 2, the short-circuit prevention layer 3 is formed. A counter electrode 8 is provided so as to face the electrode layer 2, and a charge transport layer 7 is provided between the counter electrode 8 and the photoelectric conversion layer 6.

本実施形態においては、図1に示す色素増感太陽電池を具体的には以下のようにして形成した。   In this embodiment, the dye-sensitized solar cell shown in FIG. 1 was specifically formed as follows.

電極層2が形成された基板1として、FTO(フッ素ドープされた酸化錫)が成膜されたガラス基板(旭硝子社製、商品名:「A110U80」)を用いた。このガラス基板を2−プロパノール(IPA)で5分間超音波洗浄した後、UVオゾンで5分間表面処理を行った。   As the substrate 1 on which the electrode layer 2 was formed, a glass substrate (trade name: “A110U80” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) on which FTO (fluorine-doped tin oxide) was formed was used. The glass substrate was subjected to ultrasonic cleaning with 2-propanol (IPA) for 5 minutes, and then surface-treated with UV ozone for 5 minutes.

表面処理を行ったFTO基板に、150μmのスペーサを取り付け、その上に酸化チタンのペースト(Peccell社製、商品名:「PECC−K01」)をドクターブレード法で塗布し、大気中120℃で30分間アニールして多孔質半導体層4を形成した。   A 150 μm spacer is attached to the surface-treated FTO substrate, and a titanium oxide paste (manufactured by Peccell, trade name: “PECC-K01”) is applied on the FTO substrate by the doctor blade method, and 30 at 120 ° C. in the atmosphere. The porous semiconductor layer 4 was formed by annealing for a minute.

電極層2と多孔質半導体層4が接触していない電極層2の部分に、短絡防止層3としてフルオロカーボン(CFx)膜を、プラズマCVD装置を用いて、1nmの厚み(成膜時間:15秒)で形成した。   A fluorocarbon (CFx) film is formed as a short-circuit prevention layer 3 on the portion of the electrode layer 2 where the electrode layer 2 and the porous semiconductor layer 4 are not in contact with each other, and a thickness of 1 nm (deposition time: 15 seconds) using a plasma CVD apparatus. ).

その後、基板ごと色素吸着溶液中に12時間浸漬させ、多孔質半導体層4の酸化チタン表面に、Ru錯体色素(N719色素)(Peccell社製、商品名:「PECC−D07」)からなる色素5を吸着させ、光電変換層6を形成した。   Thereafter, the whole substrate is immersed in a dye adsorption solution for 12 hours, and a dye 5 comprising a Ru complex dye (N719 dye) (trade name: “PECC-D07”, manufactured by Peccell) on the titanium oxide surface of the porous semiconductor layer 4. Was adsorbed to form a photoelectric conversion layer 6.

なお、上記Ru錯体色素は、以下に示す構造を有している。   The Ru complex dye has the following structure.

Figure 2008059851
Figure 2008059851

上記の色素吸着溶液は、アセトニトリルと、t−ブチルアルコールを1:1で混合した溶媒に、3×10−4mol/lの濃度となるように、上記Ru錯体色素を溶解させて作製した。 The dye adsorption solution was prepared by dissolving the Ru complex dye in a solvent in which acetonitrile and t-butyl alcohol were mixed at a ratio of 1: 1 to a concentration of 3 × 10 −4 mol / l.

色素5を吸着させた後、上記作製のFTO基板にスペーサを置き、スペーサ間に、電荷輸送材料であるヨウ素レドックス電解液を注入した。   After the dye 5 was adsorbed, a spacer was placed on the FTO substrate produced as described above, and an iodine redox electrolyte as a charge transport material was injected between the spacers.

次に、表面にPtを堆積させて触媒機能を持たせたFTO基板からなる対極8をこの上に載せて貼り合わせ、図1に示す色素増感太陽電池を作製した。   Next, a counter electrode 8 made of an FTO substrate having Pt deposited on the surface and having a catalytic function was placed thereon and bonded together to produce the dye-sensitized solar cell shown in FIG.

上記ヨウ素レドックス電解液は、アセトニトリル溶液にヨウ素を0.5mol/l、ヨウ化リチウムを0.1mol/l、4−tert−ブチルピリジンを0.5mol/l、1,2−ジメチル−3−プロピルイミダゾリウムアイオダイド(以下に示す構造を有する)を0.6mol/lとなるように溶解させて作製した。   The iodine redox electrolyte is an acetonitrile solution containing 0.5 mol / l iodine, 0.1 mol / l lithium iodide, 0.5 mol / l 4-tert-butylpyridine, 1,2-dimethyl-3-propyl. It was prepared by dissolving imidazolium iodide (having the structure shown below) at 0.6 mol / l.

Figure 2008059851
Figure 2008059851

(実施例2)
短絡防止層としてのフルオロカーボン膜の厚みを5nm(成膜時間:75秒)とする以外は、上記実施例1と同様にして色素増感太陽電池を作製した。
(Example 2)
A dye-sensitized solar cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the fluorocarbon film as the short-circuit preventing layer was 5 nm (film formation time: 75 seconds).

(実施例3)
短絡防止層としてのフルオロカーボン膜の厚みを17nm(成膜時間:200秒)とする以外は、上記実施例1と同様にして色素増感太陽電池を作製した。
(Example 3)
A dye-sensitized solar cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the fluorocarbon film as the short-circuit preventing layer was 17 nm (deposition time: 200 seconds).

(比較例)
短絡防止層としてのフルオロカーボン膜を形成しない以外は、上記実施例1と同様にして色素増感太陽電池を作製した。
(Comparative example)
A dye-sensitized solar cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the fluorocarbon film as the short-circuit preventing layer was not formed.

〔電池特性の評価〕
実施例1〜3及び比較例の色素増感太陽電池について、ソーラーシュミレータを用いて、強度100mW/cmの疑似太陽光を照射して評価した。表1に、開放電圧(Voc)、短絡電流密度(Jsc)、フィルファクター、及び光電変換効率を示す。
[Evaluation of battery characteristics]
The dye-sensitized solar cells of Examples 1 to 3 and Comparative Example were evaluated by irradiating pseudo-sunlight with an intensity of 100 mW / cm 2 using a solar simulator. Table 1 shows open circuit voltage (Voc), short circuit current density (Jsc), fill factor, and photoelectric conversion efficiency.

Figure 2008059851
Figure 2008059851

表1に示す結果から明らかなように、本発明に従い、電荷輸送層と電極層との間にフルオロカーボンからなる短絡防止層を設けることにより、漏れ電流を抑制して、光電変換効率を高めることができる。   As is apparent from the results shown in Table 1, according to the present invention, by providing a short-circuit prevention layer made of fluorocarbon between the charge transport layer and the electrode layer, leakage current can be suppressed and photoelectric conversion efficiency can be increased. it can.

また、表1から明らかなように、短絡防止層の厚みとしては、5nmのものが最も高い光電変換効率が得られ、膜厚が薄いと漏れ電流抑制効果が小さくなり、逆に厚すぎると多孔質半導体層上の抵抗成分として作用するため、短絡電流密度が低下する。そのため、短絡防止層の厚みとしては3〜10nmの範囲がより好ましい。   Further, as is clear from Table 1, the thickness of the short-circuit prevention layer having a thickness of 5 nm provides the highest photoelectric conversion efficiency. When the film thickness is thin, the leakage current suppressing effect is reduced. Since it acts as a resistance component on the quality semiconductor layer, the short circuit current density decreases. Therefore, the thickness of the short-circuit prevention layer is more preferably in the range of 3 to 10 nm.

図2は、実施例1及び2並びに比較例における電圧−電流密度の関係を示す図である。図2から明らかなように、本発明に従う実施例においては、漏れ電流が抑制され、これによって、短絡電流密度が上昇したため、高い光電変換効率が得られたことがわかる。   FIG. 2 is a graph showing the voltage-current density relationship in Examples 1 and 2 and the comparative example. As can be seen from FIG. 2, in the example according to the present invention, the leakage current was suppressed, and as a result, the short-circuit current density was increased, so that a high photoelectric conversion efficiency was obtained.

(実施例4)
本実施例においては、多孔質半導体層を形成した後、短絡防止層を形成する前に、多孔質半導体層の酸化チタン表面にRu錯体色素を吸着させた。このようにして光電変換層を形成した後に、実施例1と同様にして短絡防止層としてのフルオロカーボン膜を厚み5nm(成膜時間:75秒)となるように形成した。それ以外は、実施例1と同様にして色素増感太陽電池を作製した。
Example 4
In this example, the Ru complex dye was adsorbed on the titanium oxide surface of the porous semiconductor layer after forming the porous semiconductor layer and before forming the short-circuit prevention layer. After forming the photoelectric conversion layer in this manner, a fluorocarbon film as a short-circuit prevention layer was formed to a thickness of 5 nm (film formation time: 75 seconds) in the same manner as in Example 1. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the dye-sensitized solar cell.

図3は、作製した色素増感太陽電池を示す模式的断面図である。短絡防止層3を形成する前に、多孔質半導体層4に色素5を吸着させているので、電極層2の近傍においても多孔質半導体層4に色素5が吸着されている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the produced dye-sensitized solar cell. Since the dye 5 is adsorbed to the porous semiconductor layer 4 before the short-circuit prevention layer 3 is formed, the dye 5 is adsorbed to the porous semiconductor layer 4 even in the vicinity of the electrode layer 2.

〔電池特性の評価〕
実施例4の色素増感太陽電池について、上記実施例と同様に電池特性を評価した。評価結果を表2に示す。
[Evaluation of battery characteristics]
About the dye-sensitized solar cell of Example 4, the battery characteristic was evaluated similarly to the said Example. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2008059851
Figure 2008059851

表2に示す結果から明らかなように、光電変換層を形成した後に、短絡防止層を形成した場合にも、漏れ電流を抑制し、光電変換効率を向上させることができる。   As apparent from the results shown in Table 2, even when the short-circuit prevention layer is formed after the photoelectric conversion layer is formed, the leakage current can be suppressed and the photoelectric conversion efficiency can be improved.

(実施例5)
本実施例では、多孔質半導体層を形成する前に、短絡防止層としてのフルオロカーボン膜をプラズマCVD法により、厚み5nm(成膜時間:75秒)となるように形成し、その後、多孔質半導体層4を形成し、これに色素5を吸着させて光電変換層6を形成した。それ以外は、実施例1と同様にして色素増感太陽電池を作製した。
(Example 5)
In this embodiment, before forming the porous semiconductor layer, a fluorocarbon film as a short-circuit prevention layer is formed by plasma CVD so as to have a thickness of 5 nm (film formation time: 75 seconds), and then the porous semiconductor layer is formed. Layer 4 was formed, and dye 5 was adsorbed thereto to form photoelectric conversion layer 6. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the dye-sensitized solar cell.

図4は、作製した色素増感太陽電池を示す模式的断面図である。電極層2の上に短絡防止層3が形成され、短絡防止層3の上に光電変換層5が形成されている。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the produced dye-sensitized solar cell. A short-circuit prevention layer 3 is formed on the electrode layer 2, and a photoelectric conversion layer 5 is formed on the short-circuit prevention layer 3.

〔電池特性の評価〕
実施例5の色素増感太陽電池について、上記実施例と同様にして電池特性を評価した。評価結果を表3に示す。
[Evaluation of battery characteristics]
About the dye-sensitized solar cell of Example 5, the battery characteristic was evaluated similarly to the said Example. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2008059851
Figure 2008059851

表3に示す結果から明らかなように、光電変換層と電極層との間に、短絡防止層を設けた場合においても、漏れ電流を抑制し、光電変換効率を高めることができることがわかる。   As is apparent from the results shown in Table 3, it can be seen that even when a short-circuit prevention layer is provided between the photoelectric conversion layer and the electrode layer, the leakage current can be suppressed and the photoelectric conversion efficiency can be increased.

本発明に従う一実施例の色素増感太陽電池を示す模式的断面図。The typical sectional view showing the dye-sensitized solar cell of one example according to the present invention. 実施例1及び2と比較例における電圧−電流密度の関係を示す図。The figure which shows the relationship of the voltage-current density in Example 1 and 2 and a comparative example. 本発明に従う他の実施例の色素増感太陽電池を示す模式的断面図。Typical sectional drawing which shows the dye-sensitized solar cell of the other Example according to this invention. 本発明に従うさらに他の実施例の色素増感太陽電池を示す模式的断面図。Typical sectional drawing which shows the dye-sensitized solar cell of other Example according to this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板
2…電極層
3…短絡防止層
4…多孔質半導体層
5…色素
6…光電変換層
7…電荷輸送層
8…対極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2 ... Electrode layer 3 ... Short-circuit prevention layer 4 ... Porous semiconductor layer 5 ... Dye 6 ... Photoelectric conversion layer 7 ... Charge transport layer 8 ... Counter electrode

Claims (5)

電極層と、該電極層上に形成された、色素を吸着させた多孔質半導体層からなる光電変換層と、前記電極層と対向するように設けられる対極と、前記光電変換層と前記対極の間に配置される電荷輸送層とを備える色素増感太陽電池において、
前記電荷輸送層と前記電極層の間にフルオロカーボンからなる短絡防止層が設けられていることを特徴とする色素増感太陽電池。
An electrode layer, a photoelectric conversion layer formed on the electrode layer and made of a porous semiconductor layer on which a dye is adsorbed, a counter electrode provided to face the electrode layer, the photoelectric conversion layer and the counter electrode In a dye-sensitized solar cell comprising a charge transport layer disposed between,
A dye-sensitized solar cell, wherein a short-circuit prevention layer made of fluorocarbon is provided between the charge transport layer and the electrode layer.
前記光電変換層が前記電極層と接触するように設けられており、前記光電変換層が前記電極層と接触していない前記電極層の領域上に前記短絡防止層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池。   The photoelectric conversion layer is provided so as to be in contact with the electrode layer, and the short-circuit prevention layer is provided on a region of the electrode layer where the photoelectric conversion layer is not in contact with the electrode layer. The dye-sensitized solar cell according to claim 1. 前記電極層の上に前記短絡防止層が形成されており、前記短絡防止層の上に前記光電変換層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池。   The dye-sensitized solar cell according to claim 1, wherein the short-circuit prevention layer is formed on the electrode layer, and the photoelectric conversion layer is formed on the short-circuit prevention layer. 前記短絡防止層の厚みが1nm〜20nmの範囲であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の色素増感太陽電池。   The dye-sensitized solar cell according to any one of claims 1 to 3, wherein a thickness of the short-circuit preventing layer is in a range of 1 nm to 20 nm. 前記短絡防止層が、CVD法により形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の色素増感太陽電池。   The dye-sensitized solar cell according to any one of claims 1 to 4, wherein the short-circuit prevention layer is formed by a CVD method.
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