JP2008045032A - Thermosetting resin composition, overcoating agent and protective film - Google Patents

Thermosetting resin composition, overcoating agent and protective film Download PDF

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Hiroshi Uchida
博 内田
Yuko Sakata
優子 坂田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a protective film having high long-term reliability of electric insulation, flexibility, slight warpage by curing shrinkage and especially low tackiness, an overcoating agent for obtaining the protective film and a thermosetting resin composition for providing the overcoating agent. <P>SOLUTION: The thermosetting resin composition comprises a carboxy group-containing urethane resin (A) obtained by reacting a raw material containing (a) a polyisocyanate compound, (b) a polyol compound, (c) a carboxy group-containing dihydroxy compound and (d) an N-hydroxyethylacrylamide. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は熱硬化性樹脂組成物、オーバーコート剤および保護膜に関し、詳しくはカルボキシル基含有ウレタン樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物からなるオーバーコート剤および該オーバーコート剤より得られた保護膜に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, an overcoat agent and a protective film, and more specifically, from a thermosetting resin composition containing a carboxyl group-containing urethane resin, an overcoat agent comprising the resin composition, and the overcoat agent. It relates to the obtained protective film.

従来、フレキシブル配線回路の表面保護膜は、カバーレイフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターンに合わせた金型をつくり打ち抜いたのち、接着剤を用いて張り付けるタイプや、可とう性を持たせた紫外線硬化型、または熱硬化型のオーバーコート剤をスクリーン印刷法により塗布するタイプのものであり、特に後者は作業性の点で有用であった。これら硬化タイプのオーバーコート剤としては、主にエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、あるいはこれらの複合系よりなる樹脂組成物が知られている。これらは、特にブタジエン骨格、シロキサン骨格、ポリカーボネートジオール骨格、長鎖脂肪族骨格等の導入などの変成を行った樹脂を主成分とすることが多く、これにより、表面保護膜が本来備える耐熱性や、耐薬品性、電気絶縁性の低下をなるべく押さえながら、柔軟性の向上や、硬化収縮による反りが発生することを抑制してきた。   Conventionally, surface protection films for flexible wiring circuits are made by punching a die that matches the pattern of a polyimide film called a coverlay film, and then pasting it with an adhesive, or UV curing with flexibility. A type or a thermosetting type overcoat agent is applied by a screen printing method, and the latter is particularly useful in terms of workability. As these curing type overcoat agents, resin compositions mainly composed of epoxy resin, acrylic resin, or composites thereof are known. These are often mainly composed of resins that have been modified, such as the introduction of a butadiene skeleton, a siloxane skeleton, a polycarbonate diol skeleton, a long-chain aliphatic skeleton, and the like. In addition, while suppressing the deterioration of chemical resistance and electrical insulation as much as possible, the improvement of flexibility and the occurrence of warpage due to curing shrinkage have been suppressed.

しかしながら、近年、電子機器の軽量小型化に伴いフレキシブル基板も軽薄化が進み、これに伴い、オーバーコートする樹脂組成物の柔軟性や硬化収縮の影響が、より顕著に現れるようになってきている。このため、硬化タイプのオーバーコート剤では、柔軟性や硬化収縮による反りの点で、要求性能を満足できなくなっているのが現状である。   However, in recent years, flexible substrates have become lighter and thinner as electronic devices become lighter and smaller, and accordingly, the effects of flexibility and curing shrinkage of the resin composition to be overcoated are becoming more prominent. . For this reason, in the present situation, the curing type overcoat agent cannot satisfy the required performance in terms of warpage due to flexibility and curing shrinkage.

例えば、特開2004−137370号公報(特許文献1)には、炭素数6以下のジオールを原料とするポリカーボネートジオールとジイソシアネート化合物とを反応させて得られた両末端ジイソシアネートポリウレタンとトリメリット酸とを反応させたポリアミドイミド樹脂が開示されているが、その硬化物の電気特性の長期信頼性が十分でないという欠点があった。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-137370 (Patent Document 1) includes both end diisocyanate polyurethane and trimellitic acid obtained by reacting a polycarbonate diol using a diol having 6 or less carbon atoms as a raw material with a diisocyanate compound. Although a reacted polyamideimide resin is disclosed, there is a drawback that the long-term reliability of the electrical properties of the cured product is not sufficient.

また、熱硬化前のタック性が高いと、ロールツーロールでフィルムとして巻き取って保管することが出来ず、生産時の制約が非常に大きくなるという問題があった。
また、ここで用いられているエポキシ樹脂やポリイミド樹脂の硬化は、高温が必要である上に硬化時間も非常に長くかかるという問題があった。
Moreover, if the tackiness before thermosetting is high, the film cannot be wound and stored as a roll-to-roll film, and there is a problem that restrictions during production become very large.
Further, the curing of the epoxy resin and the polyimide resin used here has a problem that a high temperature is required and a curing time is very long.

硬化を速くするためには、アクリル系のラジカル重合を導入することも考えられる、特開平11−035657には号公報には、ジヒドロキシアルカノイックポリカルボン酸をウレタンアクリレートの原料に用いて、両末端にヒドロキシエチルアクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレートを付ける技術が開示されている。ここで用いられているヒドロキシエチルアクリレートは、皮膚刺激性が非常に高く(PII値8.0)使用に際して十
分な注意が必要であるだけでなく、反応後に未反応として残存するとそれを用いた配合物の皮膚刺激性も問題となる。一方でヒドロキシエチルアクリレートを残存させないようにするには、イソシアネート基に対してヒドロキシエチルアクリレートの使用量を少なくする必要があるが、イソシアネート基自体がやはり皮膚刺激性が高い上に、イソシアネート基が残存すると、そのような反応液を用いた配合液の保存安定性が悪くなるという欠点があった。また、一般にアクリレートの重合を用いると、特に電気配線基板の保護膜として用いた場合には、エポキシ樹脂やポリイミド系の樹脂に比較して、銅配線や基材との密着性が悪いという欠点があった。
特開2004−137370号公報 特開平11−035657号公報
In order to accelerate the curing, it is also conceivable to introduce acrylic radical polymerization. Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-035657 discloses a dihydroxyalkanoic polycarboxylic acid as a raw material for urethane acrylate. A technique for attaching a hydroxyalkyl acrylate such as hydroxyethyl acrylate to the surface is disclosed. The hydroxyethyl acrylate used here has a very high skin irritation (PII value 8.0), not only need to be used with caution, but also if it remains unreacted after the reaction, The skin irritation of objects is also a problem. On the other hand, in order not to leave hydroxyethyl acrylate, it is necessary to reduce the amount of hydroxyethyl acrylate used relative to the isocyanate group, but the isocyanate group itself is still highly skin irritating and the isocyanate group remains. Then, there existed a fault that the storage stability of the liquid mixture using such a reaction liquid worsened. In general, when acrylate polymerization is used, particularly when used as a protective film for an electric wiring board, there is a disadvantage that adhesion to copper wiring or a substrate is poor compared to epoxy resin or polyimide resin. there were.
JP 2004-137370 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-035657

本発明の目的は、電気絶縁の長期信頼性が高く、柔軟で、硬化収縮による反りが小さくかつ、特にタック性の低い保護膜、該保護膜を得るためのオーバーコート剤およびそれを与える熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a protective film with high long-term reliability of electrical insulation, flexibility, small warpage due to curing shrinkage, and particularly low tackiness, an overcoat agent for obtaining the protective film, and thermosetting that provides the same It aims at providing a conductive resin composition.
Is to provide.

本発明者らは、前記の課題を解決するため鋭意研究した結果、
特定のカルボキシル基含有ウレタン樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物からなるオーバーコート剤より得られた保護膜は、硬化前のタック性が低く、硬化が速く、基材と良好な密着性を示し、電気絶縁の長期信頼性が高くなることを見出し、本発明を完成するに至った。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have
The protective film obtained from the overcoat agent made of a thermosetting resin composition containing a specific carboxyl group-containing urethane resin has low tack before curing, fast curing, and good adhesion to the substrate. As a result, the inventors have found that the long-term reliability of electrical insulation is improved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は以下の[1]から[17]に関する。
[1]
下記(a)〜(d)を含む原料を反応させて得られるカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を含有する熱硬化性樹脂組成物;
(a)ポリイソシアネート化合物、
(b)ポリオール化合物、
(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物、
(d)N-ヒドロキシエチルアクリルアミド。
That is, the present invention relates to the following [1] to [17].
[1]
A thermosetting resin composition containing a carboxyl group-containing urethane resin (A) obtained by reacting raw materials containing the following (a) to (d);
(A) a polyisocyanate compound,
(B) a polyol compound,
(C) a dihydroxy compound having a carboxyl group,
(D) N-hydroxyethylacrylamide.

[2]
前記ポリイソシアネート化合物(a)が、
1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、水素化1,3−キシリレンジイソシアネート、および水素化1,4−キシリレンジイソシアネートからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[2]
The polyisocyanate compound (a) is
At least one compound selected from the group consisting of 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), hydrogenated 1,3-xylylene diisocyanate, and hydrogenated 1,4-xylylene diisocyanate The thermosetting resin composition according to [1], which is characterized in that it exists.

[3]
前記ポリオール化合物(b)が、
ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール、両末端水酸基化ポリシリコーン、および水酸基以外は酸素を含まず構成成分の炭素数が18から72であるポリオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする[1]または[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[3]
The polyol compound (b) is
Selected from the group consisting of polycarbonate polyols, polyether polyols, polyester polyols, polylactone polyols, polybutadiene polyols, hydroxylated polysilicons at both ends, and polyol compounds other than hydroxyl groups and containing 18 to 72 carbon atoms and containing no oxygen The thermosetting resin composition according to [1] or [2], which is at least one kind of compound.

[4]
前記カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)が、2,2−ジメチロールプロピオン酸または2,2−ジメチロールブタン酸であることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4]
The heat according to any one of [1] to [3], wherein the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group is 2,2-dimethylolpropionic acid or 2,2-dimethylolbutanoic acid. Curable resin composition.

[5]
前記カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の数平均分子量が1,000〜100,000であり、かつ、酸価が5〜150mg-KOH/gであることを特徴とする[1]〜
[4]のいずれかに記載の熱硬化樹脂組成物。
[5]
The carboxyl group-containing urethane resin (A) has a number average molecular weight of 1,000 to 100,000 and an acid value of 5 to 150 mg-KOH / g [1] to
[4] The thermosetting resin composition according to any one of the above.

[6]
前記カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の数平均分子量が2,000〜20,000であり、かつ酸価が10〜60mg-KOH/gであることを特徴とする[1]〜[4
]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[6]
The number average molecular weight of the carboxyl group-containing urethane resin (A) is 2,000 to 20,000, and the acid value is 10 to 60 mg-KOH / g [1] to [4]
] The thermosetting resin composition in any one of.

[7]
さらに硬化剤(B)を含有することを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[7]
The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [6], further comprising a curing agent (B).

[8]
前記硬化剤(B)がエポキシ樹脂であることを特徴とする[7]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[8]
The thermosetting resin composition according to [7], wherein the curing agent (B) is an epoxy resin.

[9]
前記硬化剤(B)が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種のエポキシ樹脂であることを特徴とする[7]または[8]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[9]
The curing agent (B) is bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, The thermosetting resin composition according to [7] or [8], which is at least one epoxy resin selected from the group consisting of a dicyclopentadiene type epoxy resin and an alicyclic epoxy resin.

[10]
さらに溶媒(C)を含有することを特徴とする[1]〜[9]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[10]
Furthermore, a solvent (C) is contained, The thermosetting resin composition in any one of [1]-[9] characterized by the above-mentioned.

[11]
前記溶媒(C)が、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、イソホロン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンおよびジメチルスルホキシドからなる群より選ばれることを特徴とする[10]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[11]
The solvent (C) is toluene, xylene, ethylbenzene, nitrobenzene, isophorone, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methoxy Methyl propionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone , Γ-butyrolactone and dimethyl sulfoxide. The characterized thermosetting resin composition according to [10].

[12]
さらに無機および/または有機微粒子(D)を含有していることを特徴とする[1]〜[11]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[12]
The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [11], further containing inorganic and / or organic fine particles (D).

[13]
さらに消泡剤(E)を含有していることを特徴とする[1]〜[12]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[13]
Furthermore, the antifoamer (E) is contained, The thermosetting resin composition in any one of [1]-[12] characterized by the above-mentioned.

[14]
さらにラジカル重合開始剤(F)を含有していることを特徴とする[1]〜[13]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[14]
The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [13], further comprising a radical polymerization initiator (F).

[15]
さらに硬化促進剤(G)を含有していることを特徴とする[1]〜[14]のいずれか
に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[15]
Furthermore, the hardening accelerator (G) is contained, The thermosetting resin composition in any one of [1]-[14] characterized by the above-mentioned.

[16]
[1]〜[15]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなるオーバーコート剤。
[17]
[16]に記載のオーバーコート剤より得られた保護膜。
[16]
The overcoat agent which consists of a thermosetting resin composition in any one of [1]-[15].
[17]
[16] A protective film obtained from the overcoat agent according to [16].

本発明の熱硬化性樹脂組成物からなるオーバーコート剤より得られる保護膜は硬化が非常に速く基材との密着性、電気絶縁の長期信頼性に優れる皮膜形成材料を与える。 The protective film obtained from the overcoat agent comprising the thermosetting resin composition of the present invention provides a film-forming material that is very fast and excellent in adhesion to the substrate and long-term reliability of electrical insulation.

次に本発明の熱硬化性樹脂組成物、オーバーコート剤および保護膜について具体的に説明する。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、下記(a)〜(d)を含む原料を反応させて得られるカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を含有しており、通常は硬化剤(B)を含有している;
(a)ポリイソシアネート化合物、
(b)ポリオール化合物、
(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物、
(d)N-ヒドロキシエチルアクリルアミド。
Next, the thermosetting resin composition, overcoat agent and protective film of the present invention will be specifically described.
The thermosetting resin composition of the present invention contains a carboxyl group-containing urethane resin (A) obtained by reacting raw materials including the following (a) to (d), and usually contains a curing agent (B). Contains;
(A) a polyisocyanate compound,
(B) a polyol compound,
(C) a dihydroxy compound having a carboxyl group,
(D) N-hydroxyethylacrylamide.

<カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)>
本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)は、下記(a)〜(d)の原料を反応させることにより得られる;
(a)ポリイソシアネート化合物、
(b)ポリオール化合物、
(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物、
(d)N-ヒドロキシエチルアクリルアミド。
<Carboxyl group-containing urethane resin (A)>
The carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention is obtained by reacting the following raw materials (a) to (d);
(A) a polyisocyanate compound,
(B) a polyol compound,
(C) a dihydroxy compound having a carboxyl group,
(D) N-hydroxyethylacrylamide.

以下カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)の原料として用いる(a)〜(d)を説明する。
ポリイソシアネート化合物(a)としては、具体的には2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3−トリメチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,9−ノナメチレンジイソシアネート、1,10−デカメチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、2,2'−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、o−キシレンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3'−メチレンジトリレン−4,4'−ジイソシアネート、4,4'−
ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化1,3−キシリレンジイソシアネート、水素化1,4−キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネートが挙げられる。これらのジイソシアネートは、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Hereinafter, (a) to (d) used as raw materials for the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) will be described.
Specific examples of the polyisocyanate compound (a) include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,3-trimethylene diisocyanate, 1, 4-tetramethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,9-nonamethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate 2,2'-diethyl ether diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, o-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate Methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-methylene ditolylene-4 , 4'-diisocyanate, 4,4'-
Examples include diisocyanates such as diphenyl ether diisocyanate, tetrachlorophenylene diisocyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated 1,3-xylylene diisocyanate, and hydrogenated 1,4-xylylene diisocyanate. These diisocyanates can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリイソシアネート化合物(a)の1分子当たりのイソシアネート基は通常2個で
あるが、本発明のポリウレタンがゲル化をしない範囲で、トリフェニルメタントリイソシアネートのようなイソシアネート基を3個以上有するポリイソシアネートも少量使用することが出来る。
The polyisocyanate compound (a) usually has two isocyanate groups per molecule. However, the polyisocyanate compound (a) has a polyisocyanate group having three or more isocyanate groups such as triphenylmethane triisocyanate as long as the polyurethane of the present invention does not gel. A small amount of isocyanate can also be used.

これらの中でも特にイソシアネート基(NCO基)以外の炭素原子数が6〜30である脂環式化合物を用いた場合に、本発明の硬化物は、特に高温高湿時の長期絶縁信頼性について優れた性能を発現する。これらの脂環式化合物は、前記ポリイソシアネート化合物(a)の総量(100mol%)に対して、10mol%以上、好ましくは20mol%、さらに好ましくは30mol%以上含まれることが望ましい。これらの脂環式化合物としては1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、水素化1,3−キシリレンジイソシアネートおよび水素化1,4−キシリレンジイソシアネートが挙げられる。   Among these, particularly when an alicyclic compound having 6 to 30 carbon atoms other than an isocyanate group (NCO group) is used, the cured product of the present invention is particularly excellent in long-term insulation reliability at high temperature and high humidity. Express performance. These alicyclic compounds are desirably contained in an amount of 10 mol% or more, preferably 20 mol%, more preferably 30 mol% or more based on the total amount (100 mol%) of the polyisocyanate compound (a). These alicyclic compounds include 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), hydrogenated 1,3-xylylene diisocyanate and hydrogenated 1,4-xylylene diisocyanate.

ポリオール化合物(b)としては、ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール、両末端水酸基化ポリシリコーン、水酸基以外は酸素を含まず構成成分の炭素数が18から72であるポリオール化合物が挙げられる。
前記ポリカーボネートポリオールとしては以下の構造式(1)で表され、原料のジオール成分が、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコー
ルまたは1,2−テトラデカンジオールなどである。
As the polyol compound (b), polycarbonate polyol, polyether polyol, polyester polyol, polylactone polyol, polybutadiene polyol, both-end hydroxylated poly-silicone, other than hydroxyl groups and containing no oxygen and having 18 to 72 carbon atoms A polyol compound is mentioned.
The polycarbonate polyol is represented by the following structural formula (1), and the starting diol component is 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5. -Pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1 , 9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol or 1,2-tetradecanediol.

Figure 2008045032
Figure 2008045032

ポリカーボネートジオールは、その骨格中に複数種のアルキレン基を有するポリカーボネートジオール(共重合ポリカーボネートジオール)であってもよく、共重合ポリカーボネートジオールの使用は、生成したポリウレタンの結晶化防止の観点から有利な場合が多い。また、溶媒への溶解性を考慮すると、分岐骨格を有するポリカーボネートジオールを一部併用することが好ましい。   The polycarbonate diol may be a polycarbonate diol having a plurality of types of alkylene groups in its skeleton (copolymerized polycarbonate diol), and the use of the copolymerized polycarbonate diol is advantageous from the viewpoint of preventing crystallization of the produced polyurethane. There are many. In view of solubility in a solvent, it is preferable to partially use a polycarbonate diol having a branched skeleton.

ポリエーテルポリオールとしては、炭素数2から12のジオールを脱水縮合、または炭素数2から12のオキシラン化合物、オキセタン化合物、テトラヒドロフラン化合物を開環重合して得られたものであり、具体的には以下の構造式(2)で表される。   The polyether polyol is obtained by dehydration condensation of a diol having 2 to 12 carbon atoms or ring-opening polymerization of an oxirane compound, oxetane compound or tetrahydrofuran compound having 2 to 12 carbon atoms. It is represented by the structural formula (2).

Figure 2008045032
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具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ−1,2−ブチレングリコール、ポリテトレメチレングリコール、ポリ−3−メチルテトラメチレングリコール等が上げられる。また、相溶性、疎水性を向上する目的でこれらの共重合体も用いることが出来る。   Specific examples include polyethylene glycol, polypropylene glycol, poly-1,2-butylene glycol, polytetremethylene glycol, poly-3-methyltetramethylene glycol, and the like. These copolymers can also be used for the purpose of improving compatibility and hydrophobicity.

ポリエステルポリオールとしては、ジカルボン酸及びジオールを脱水縮合またはジカルボン酸の低級アルコールのエステル化物とジオールとのエステル交換反応をして得られるもので、具体的には以下の構造式(3)で表される。   The polyester polyol is obtained by dehydration condensation of a dicarboxylic acid and a diol or an ester exchange reaction between an esterified product of a lower alcohol of a dicarboxylic acid and a diol. Specifically, the polyester polyol is represented by the following structural formula (3). The

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具体的なジオールとしては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコールまたは1,2−テトラデカン
ジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が上げられる。ジカルボン酸としてはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ブラシル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸が上げられる。
Specific diols include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentane. Diol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol or 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, butylethylpropanediol, 1,3-cyclohexanedi Methanol, 3-xylylene glycol, 1,4-xylylene glycol, diethylene glycol Examples include coal, triethylene glycol, dipropylene glycol and the like. Dicarboxylic acids include succinic acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, decanedicarboxylic acid, brassic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, Examples thereof include methyl endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid.

ポリラクトンポリオールは、ジオールとラクトン化合物との開環重合、またはジオールとヒドロキシアルカン酸との縮合反応により得られるものであり、以下の構造式(4)により表される。   The polylactone polyol is obtained by ring-opening polymerization of a diol and a lactone compound or a condensation reaction of a diol and a hydroxyalkanoic acid, and is represented by the following structural formula (4).

Figure 2008045032
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具体的には、3−ヒドロキシブタン酸、4−ヒドロキシペンタン酸、5−ヒドロキシヘ
キサン酸(ε−カプロラクトン)等が上げられる。
ポリブタジエンポリオールジオールとしては、ブタジエンやイソプレンをアニオン重合により重合し、末端処理により両末端に水酸基を導入したもの、及びそれらの二重結合を水素還元して得られるジオールである。
Specifically, 3-hydroxybutanoic acid, 4-hydroxypentanoic acid, 5-hydroxyhexanoic acid (ε-caprolactone) and the like are listed.
The polybutadiene polyol diol is a diol obtained by polymerizing butadiene or isoprene by anionic polymerization and introducing hydroxyl groups at both ends by terminal treatment, and hydrogen reduction of those double bonds.

具体的には、1,4−繰り返し単位を主に有する水酸基化ポリブタジエン(例えば、Poly bd R−45HT、Poly bd R−15HT(出光興産(株)製))、水酸基化水素化ポリブタジエン(例えば、ポリテールH、ポリテールHA(三菱化学(株)製))、1,2−繰り返し単位を主に有する水酸基化ポリブタジエン(例えば、G−1000、G−2000,G−3000(日本曹達(株)製))、水酸基化水素化ポリブタジエン(例
えば、GI−1000、GI−2000、GI−3000(日本曹達(株)製))、水酸基末
端ポリイソプレン(例えば、Poly IP(出光興産(株)製))、水素化ポリイソプレン(例えば、エポール(出光興産(株)製))が挙げられる。
Specifically, hydroxylated polybutadiene mainly having 1,4-repeating units (for example, Poly bd R-45HT, Poly bd R-15HT (produced by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)), hydroxylated hydrogenated polybutadiene (for example, Polytail H, Polytail HA (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)), hydroxylated polybutadiene mainly having 1,2-repeat units (for example, G-1000, G-2000, G-3000 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)) ), Hydroxylated hydrogenated polybutadiene (for example, GI-1000, GI-2000, GI-3000 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)), hydroxyl-terminated polyisoprene (for example, Poly IP (produced by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)), Hydrogenated polyisoprene (for example, Epol (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)) can be mentioned.

両末端水酸基化ポリシリコーンとしては、以下の構造式(5)で表される。   The both-terminal hydroxylated polysilicone is represented by the following structural formula (5).

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市販品としては、例えば信越化学工業(株)製「X−22−160AS、KF6001、KF6002、KF6003」などが挙げられる。
水酸基以外は酸素を含まず構成成分の炭素数が18から72であるポリオール化合物としては、具体的にはダイマー酸を水素化した骨格を有するジオール化合物であり、市販品としては、たとえば、コグニス社製「Sovermol908」などが挙げられる。
As a commercial item, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product "X-22-160AS, KF6001, KF6002, KF6003" etc. are mentioned, for example.
The polyol compound containing no oxygen other than the hydroxyl group and having 18 to 72 carbon atoms as a constituent component is specifically a diol compound having a skeleton obtained by hydrogenating dimer acid, and commercially available products include, for example, Cognis “Sovermol 908” manufactured by the company can be mentioned.

また、物性を損なわない範囲で、分子量300以下のジオールを用いることも出来る。
このような低分子量ジオールとしては、具体的には、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,
2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、またはジプロピレングリコールなどが上げられる。
In addition, a diol having a molecular weight of 300 or less can be used as long as the physical properties are not impaired.
Specific examples of such low molecular weight diols include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, and 1,4-butane. Diol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,
2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, butylethylpropanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, 1,4-xylylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol Ethylene glycol or dipropylene glycol can be raised.

カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)としては、具体的には2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、N,N−ビスヒドロキシエチルグリシン、N,N−ビスヒドロキシエチルアラニン等が挙げられ、この中でも溶媒への溶解度から2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸が特に好ましい。これらのカルボキシル基を含有するジヒドロキシ化合物は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, N, N-bishydroxyethylglycine, and N, N-bishydroxyethyl. Examples include alanine, and among them, 2,2-dimethylolpropionic acid and 2,2-dimethylolbutanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of solubility in a solvent. These dihydroxy compounds containing a carboxyl group can be used singly or in combination of two or more.

本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)には、熱または光によるラジカル重合を付与するために、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド(以下、HEAAと
も記す。)(d)を反応させる。
The carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention is reacted with N-hydroxyethylacrylamide (hereinafter also referred to as HEAA) (d) in order to impart radical polymerization by heat or light.

ここで用いるN-ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)は、皮膚刺激性が非常に低く
(PII値が0)、使用する上で扱いやすいだけでなく、一般に反応性希釈剤として用いる
多官能アクリレートよりも皮膚刺激性が低い。そのために、ウレタン化反応の際に過剰に用いることにより、やはり皮膚刺激性が高く残存することにより樹脂液の保存安定性の悪化の原因となるイソシアネート基の消費率を高くすることが可能である。
N-hydroxyethylacrylamide (d) used here has very low skin irritation (PII value of 0), and is not only easy to handle in use but also generally more functional than a polyfunctional acrylate used as a reactive diluent. Low irritation. Therefore, by using it excessively in the urethanization reaction, it is possible to increase the consumption rate of isocyanate groups that cause deterioration of the storage stability of the resin liquid by remaining high in skin irritation. .

また、HEAA(d)は、2−ヒドロキシエチルアクリレート(以下、HEAとも記す。)よりも重合性が高く、加水分解性が低く、基材への密着性が優れていることが知られている。   HEAA (d) is known to have higher polymerizability, lower hydrolyzability, and better adhesion to the substrate than 2-hydroxyethyl acrylate (hereinafter also referred to as HEA). .

そのために、イソシアネート基を潰す目的だけでなく、積極的にHEAAを過剰に用いて反応後に残存させることにより、ラジカル重合性を高めて速硬化を可能にしたり、アミド基を接着性向上に活用することが可能であり、硬化した後の硬化物の性能向上に大きく寄与できる。   Therefore, not only for the purpose of crushing the isocyanate group, but also by actively using HEAA in excess and allowing it to remain after the reaction, radical polymerization can be improved and rapid curing can be achieved, or the amide group can be used for improving adhesiveness. It is possible to greatly contribute to improving the performance of the cured product after curing.

本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)は重合性が損なわれない範囲で、原料として(d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミド以外の他のモノヒドロキシ化合物(e)を併用することが出来る。このようなものとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、前記各(メタ)アクリレートのカプロラクトンまたは酸化アルキレン付加物、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリルレート、アリルアルコール、アリロキシエタノール、グリコール酸、ヒドロキシピバリン酸、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール等が挙げられる。   The carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention can be used in combination with other monohydroxy compounds (e) other than (d) N-hydroxyethylacrylamide, as long as the polymerizability is not impaired. As such, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, caprolactone or alkylene oxide of each of the above (meth) acrylates Adducts, glycerin di (meth) acrylate, trimethylol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, allyl alcohol, allyloxy Ethanol, glycolic acid, hydroxypivalic acid, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butano Le, t-butanol, amyl alcohol, hexyl alcohol, octyl alcohol and the like.

当然、ヒドロキシアクリレートのような皮膚刺激性の高いものを用いる場合には、それらが残存しないように配慮することが必要である。そのためには、イソシアネート基濃度が高いときにヒドロキシエチルアクリレートを反応させ、十分に消費されたことが確認してから、ヒドロキシエチルアクリルアミドを入れるようにすればよい
これらモノヒドロキシ化合物は、2種以上を組み合わせて用いることができる。
Of course, when using those having high skin irritation such as hydroxy acrylate, it is necessary to take care not to leave them. For that purpose, it is only necessary to react hydroxyethyl acrylate when the isocyanate group concentration is high and confirm that it is sufficiently consumed, and then add hydroxyethyl acrylamide. They can be used in combination.

本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)が(a)〜(d)のみを原料として反応させて得られる場合には、(a)〜(d)の総量を100質量%とすると、(a)ポリイソシアネート10〜80質量%、(b)ポリオール化合物5〜80質量%、(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物5〜40質量%、(d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミド5〜80質量%の範囲内であり、かつ
(a)ポリイソシアネートのイソシアネート基の合計のモル数>((b)ポリオール化合物の水酸基の合計のモル数+(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物の水酸基の合計モル数)であり、{((a)ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の合計のモル数−((b)ポリオール化合物の水酸基の合計のモル数+(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物の合計のモル数))<(d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミドのモル数である。
When the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention is obtained by reacting only (a) to (d) as raw materials, when the total amount of (a) to (d) is 100% by mass, a) polyisocyanate 10-80% by mass, (b) 5-80% by mass of a polyol compound, (c) 5-40% by mass of a dihydroxy compound having a carboxyl group, (d) 5-80% by mass of N-hydroxyethylacrylamide. And (a) the total number of moles of isocyanate groups of the polyisocyanate> ((b) the total number of moles of hydroxyl groups of the polyol compound + (c) the total number of moles of hydroxyl groups of the dihydroxy compound having a carboxyl group) {((A) total number of moles of isocyanate groups of polyisocyanate compound-((b) total number of hydroxyl groups of polyol compound) The total number of moles of the dihydroxy compound having a number + (c) a carboxyl group)) <(d) the number of moles of N- hydroxyethyl acrylamide.

また、本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)が(a)〜(d)および(e)を原料として反応させて得られる場合には、(a)〜(d)の総量を100質量%とすると、(a)ポリイソシアネート10〜80質量%、(b)ポリオール化合物5〜80質量%、(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物5〜40質量%、(d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミド5〜80質量%、(e)その他のモノヒドロキシ化合物5〜40質量%の範囲内であり、かつ
(a)ポリイソシアネートのイソシアネート基の合計のモル数>((b)ポリオール化合物の水酸基の合計のモル数+(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物の水酸基の合計モル数)であり、
{((a)ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の合計のモル数−((b)ポリオール化合物の水酸基の合計のモル数+(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物の合計のモル数))<((d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミドのモル数+(e)その他のモノヒドロキシ化合物のモル数)であり、
(d)N−ヒドロキシエチルアクリルアミドのモル数>(e)その他のモノヒドロキシ化合物のモル数である。
When the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention is obtained by reacting (a) to (d) and (e) as raw materials, the total amount of (a) to (d) is 100 masses. %, (A) 10 to 80% by mass of polyisocyanate, (b) 5 to 80% by mass of polyol compound, (c) 5 to 40% by mass of dihydroxy compound having a carboxyl group, (d) N-hydroxyethylacrylamide 5 -80 mass%, (e) in the range of 5-40 mass% of other monohydroxy compounds, and (a) the total number of moles of isocyanate groups of the polyisocyanate> ((b) the total number of hydroxyl groups of the polyol compound Number of moles + (c) total number of moles of hydroxyl groups of the dihydroxy compound having a carboxyl group),
{((A) total number of moles of isocyanate group of polyisocyanate compound-((b) total number of moles of hydroxyl group of polyol compound + (c) total number of moles of dihydroxy compound having carboxyl group)) <(( d) moles of N-hydroxyethylacrylamide + (e) moles of other monohydroxy compounds)
(D) Number of moles of N-hydroxyethylacrylamide> (e) Number of moles of other monohydroxy compounds.

(c)の使用割合としては、生成するカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)の酸価が5〜150mg-KOH/gより好ましくは10〜60mg/KOHになるように使
用モル量を決定する。
As the use ratio of (c), the use molar amount is determined so that the acid value of the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) to be generated is 5 to 150 mg-KOH / g, more preferably 10 to 60 mg / KOH.

酸価については、硬化剤のエポキシ樹脂と反応する官能基の濃度の尺度になり、あまりに高すぎると、硬化物が脆くなるし逆にあまりに低すぎると耐熱性、硬化速度の点で支障を来す。ただし、フォトレジストとしてアルカリ現像性を付与したい場合には、現像時の溶解性の観点から酸価を60mg/KOH以上に設定することが望ましい。   The acid value is a measure of the concentration of the functional group that reacts with the epoxy resin of the curing agent. If it is too high, the cured product becomes brittle, and conversely if it is too low, it will hinder heat resistance and curing speed. The However, when it is desired to impart alkali developability as a photoresist, the acid value is desirably set to 60 mg / KOH or more from the viewpoint of solubility during development.

なお、本明細書において、樹脂の酸価は以下の方法により測定した値である。
100ml三角フラスコに試料約0.2g程度を精密天秤にて精秤し、これにエタノール/トルエン=1/2(重量比)の混合溶媒10mlを加えて溶解する。更に、この容器に指示薬としてフェノールフタレインエタノール溶液を1〜3滴添加し、試料が均一になるまで十分に攪拌する。これを、0.1N水酸化カリウム−エタノール溶液で滴定し、指示薬の微紅色が30秒間続いたときを、中和の終点とする。その結果から下記の計算式(数1)を用いて得た値を、樹脂の酸価とする。
In the present specification, the acid value of the resin is a value measured by the following method.
About 0.2 g of a sample is precisely weighed in a 100 ml Erlenmeyer flask with a precision balance, and 10 ml of a mixed solvent of ethanol / toluene = 1/2 (weight ratio) is added and dissolved therein. Further, 1 to 3 drops of phenolphthalein ethanol solution is added to this container as an indicator, and the mixture is sufficiently stirred until the sample becomes uniform. This is titrated with a 0.1N potassium hydroxide-ethanol solution, and the end point of neutralization is taken when the indicator is slightly red for 30 seconds. The value obtained from the result using the following formula (Equation 1) is taken as the acid value of the resin.

Figure 2008045032
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本発明に用いるカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)の数平均分子量は1,000〜100,000であることが好ましく、2,000〜20,000であると更に好ましい。ここで、分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値である。分子量が1,000未満では、硬化膜の伸度、可撓性、並びに強度を損なうことがあり、100,000を超えると溶媒へのポリウレタンの溶解性が低くなる上に、溶解しても粘度が高くなりすぎるために、使用面で制約が大きくなることがある。   The number average molecular weight of the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) used in the present invention is preferably 1,000 to 100,000, and more preferably 2,000 to 20,000. Here, the molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. If the molecular weight is less than 1,000, the elongation, flexibility and strength of the cured film may be impaired. If the molecular weight exceeds 100,000, the solubility of the polyurethane in the solvent becomes low and the viscosity even if dissolved. Since it becomes too high, restrictions may be increased in terms of use.

なお、本明細書においては、特に断りのない限り、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光(株)製HPLCユニット HSS−2000
カラム:ShodexカラムLF−804
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光(株)製 RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1wt%前後に調製
本発明のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)は、ジブチル錫ジラウリレートのような公知のウレタン化触媒の存在下または非存在下で、適切な有機溶媒を用いて、前記ポリイソシアネート化合物(a)、ポリオール化合物(b)、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)、およびN-ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)、必要に応じて
(d)以外の他のモノヒドロキシ化合物(e)を反応させることにより合成が出来るが、無触媒で反応させたほうが、最終的に硬化膜としての実使用時の物性値が向上する。
In this specification, unless otherwise specified, the GPC measurement conditions are as follows.
Device name: JASCO Corporation HPLC unit HSS-2000
Column: Shodex column LF-804
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI-2031Plus manufactured by JASCO Corporation
Temperature: 40.0 ° C
Sample amount: Sample loop 100 μl Sample concentration: prepared at around 0.1 wt% The carboxyl group-containing polyurethane resin (A) of the present invention is used in the presence or absence of a known urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate, Using an appropriate organic solvent, the polyisocyanate compound (a), polyol compound (b), dihydroxy compound having a carboxyl group (c), and N-hydroxyethylacrylamide (d), if necessary, other than (d) The other monohydroxy compound (e) can be synthesized by reacting, but when it is reacted without a catalyst, the physical property value in actual use as a cured film is finally improved.

また、原料の仕込み方法としては、全ての原料を一括して仕込んでも良いが、(a)、(b)、および(c)の化合物を予め反応させ、ある程度高分子量になった段階で、(d)および必要に応じて(e)を仕込んだ方がよい。   As a raw material charging method, all the raw materials may be charged all at once, but when the compounds of (a), (b), and (c) are reacted in advance and become a certain high molecular weight, ( It is better to prepare d) and (e) if necessary.

前記有機溶媒としては、イソシアネートと反応性が低いものであれば使用でき、アミン等の塩基性官能基を含まない溶媒が好ましい。このような溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム及び塩化メチレン等を挙げることができ
る。中でも沸点が110℃以上、好ましくは200℃以上である溶媒が好ましい。
As the organic solvent, any solvent having low reactivity with isocyanate can be used, and a solvent containing no basic functional group such as amine is preferable. Examples of such solvents include toluene, xylene, ethylbenzene, nitrobenzene, cyclohexane, isophorone, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether. Acetate, methyl methoxypropionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone γ- butyrolactone, dimethyl sulfoxide, can be mentioned chloroform and methylene chloride. Among them, a solvent having a boiling point of 110 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher is preferable.

なお、生成するカルボキシル基含有ポリウレタンの溶解性が低い有機溶媒は好ましくないこと、および電子材料用途においてポリウレタンをインキの原料にすることを考えると、これらの中でも、特に、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等が好ましい。   In view of the fact that the organic solvent having low solubility of the resulting carboxyl group-containing polyurethane is not preferable, and considering that polyurethane is used as a raw material for ink in electronic material applications, among these, in particular, propylene glycol methyl ether acetate, propylene Glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, γ-butyrolactone and the like are preferable.

反応温度としては、原料を仕込み溶媒に溶解させた後、20〜150℃、より好ましくは60〜120℃で、前記ジイソシアネート化合物(a)を滴下しながら加え、その後、
30〜160℃、より好ましくは50℃〜130℃でこれらを反応させる。
As the reaction temperature, after the raw materials are charged and dissolved in the solvent, the diisocyanate compound (a) is added dropwise at 20 to 150 ° C., more preferably 60 to 120 ° C.,
These are reacted at 30 to 160 ° C, more preferably at 50 to 130 ° C.

更に、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)を後で仕込む場合には、前記ポリカーボネートポリオール(b)および前記ジヒドロキシ化合物(c)と前記ジイソシアネート(a)との反応がほぼ終了した時点で、ポリウレタンの両末端に残存しているイソシアネ
ート基とN−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)とを反応させるために、ポリウレタ
ンの溶液中にN−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)を20〜150℃、より好まし
くは70〜120℃で滴下し、その後同温度で保持して反応を完結させる。
なお、反応中の重合を防止する目的で、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール(メトキノン)、t−ブチルハイドロキノン(TBHQ)、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)、2−t−ブチル−4−メトキシフェノール(BHA)、4−t−ブチルカテコール(TBC)のような重合禁止剤を添加しても良い。
Further, when N-hydroxyethyl acrylamide (d) is charged later, both of the polyurethanes are obtained when the reaction between the polycarbonate polyol (b) and the dihydroxy compound (c) and the diisocyanate (a) is almost completed. In order to react the isocyanate group remaining at the terminal with N-hydroxyethylacrylamide (d), N-hydroxyethylacrylamide (d) is added to the polyurethane solution at 20 to 150 ° C, more preferably 70 to 120 ° C. After that, the reaction is completed by holding at the same temperature.
For the purpose of preventing polymerization during the reaction, hydroquinone, p-methoxyphenol (methoquinone), t-butylhydroquinone (TBHQ), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (BHT), 2- A polymerization inhibitor such as t-butyl-4-methoxyphenol (BHA) or 4-t-butylcatechol (TBC) may be added.

<硬化剤(B)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物には通常は硬化剤(B)が含有されている。硬化剤(B)としては、カルボキシル基含有ポリウレタンを硬化させるものであれば特に限定はないが、エポキシ樹脂が好ましくい。
<Curing agent (B)>
The thermosetting resin composition of the present invention usually contains a curing agent (B). The curing agent (B) is not particularly limited as long as it can cure the carboxyl group-containing polyurethane, but an epoxy resin is preferable.

硬化剤(B)としては例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、キレート型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、アミノ基含有エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などの一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物が挙げられる。中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂が好ましい。上記硬化剤(B)としては1種単独でも2種以上を用いても良い。   Examples of the curing agent (B) include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, N-glycidyl type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, Chelate type epoxy resin, glyoxal type epoxy resin, amino group-containing epoxy resin, rubber modified epoxy resin, dicyclopentadiene phenolic type epoxy resin, silicone modified epoxy resin, ε-ca Epoxy compounds having two or more epoxy groups in one molecule, such as Rorakuton modified epoxy resins. Among them, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin An alicyclic epoxy resin is preferred. As said hardening | curing agent (B), 1 type may be used individually or 2 or more types may be used.

また、難燃性付与のために、塩素、臭素等のハロゲンや燐等の原子がその構造中に導入されたものを使用してもよい。さらに、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、ヘテロサイクリックエポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂およびテトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂等を使用してもよい。   Further, in order to impart flame retardancy, a material in which an atom such as halogen such as chlorine or bromine or phosphorus is introduced into the structure may be used. Furthermore, bisphenol S type epoxy resin, diglycidyl phthalate resin, heterocyclic epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, tetraglycidyl xylenoyl ethane resin, and the like may be used.

エポキシ樹脂としては、2以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂が含有されることが好ましい。ただし、エポキシ樹脂単官能のエポキシ樹脂を含有してもよい。
また、光硬化後にアルカリ現像性を付与する場合には、用いるエポキシ樹脂の分子量は小さい方が好ましい。
The epoxy resin preferably contains an epoxy resin having two or more epoxy groups. However, an epoxy resin monofunctional epoxy resin may be contained.
Moreover, when providing alkali developability after photocuring, the one where the molecular weight of the epoxy resin to be used is smaller is preferable.

硬化剤(B)としてエポキシ樹脂を配合する場合には、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)のカルボキシル基に対して硬化剤(B)のエポキシ基が0.5〜2当量となる範囲で用いることが好ましい。   When an epoxy resin is blended as the curing agent (B), the epoxy group of the curing agent (B) should be used in the range of 0.5 to 2 equivalents relative to the carboxyl group of the carboxyl group-containing polyurethane resin (A). Is preferred.

<溶剤(C)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には溶媒(C)をさらに含有することが好ましい。さらに好ましくは、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)を溶剤に溶解させた形態をとることが好ましく、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)の合成に使用した溶剤中にカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)が溶解した状態であることが特に好ましい。
<Solvent (C)>
The thermosetting resin composition of the present invention preferably further contains a solvent (C). More preferably, the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) is preferably dissolved in a solvent, and the carboxyl group-containing polyurethane resin (A) is contained in the solvent used for the synthesis of the carboxyl group-containing polyurethane resin (A). It is particularly preferable that it is in a dissolved state.

合成後、樹脂を固形物として、熱硬化性樹脂組成物を得ようとした場合、溶剤を用いないと熱硬化性樹脂の分散が困難であること、また合成後に固形物を溶剤で溶解させる工程が必要で経済的に好ましくない点が挙げられる。   After the synthesis, when trying to obtain a thermosetting resin composition with the resin as a solid, it is difficult to disperse the thermosetting resin without using a solvent, and the step of dissolving the solid with a solvent after the synthesis Is necessary and economically undesirable.

溶剤としては、熱硬化性樹脂を溶解させうるものであれば、特に限定はないが、沸点30℃〜400℃が好ましく、沸点110℃〜300℃であることがさらに好ましい。
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、カルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム及び塩化メチレンなどを例示することができる。
The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the thermosetting resin, but preferably has a boiling point of 30 ° C to 400 ° C, more preferably a boiling point of 110 ° C to 300 ° C.
Toluene, xylene, ethylbenzene, nitrobenzene, cyclohexane, isophorone, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methoxypropion Methyl acid, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Acetamide, N-methylpyrrolidone, γ- Butyrolactone, dimethyl sulfoxide, and the like can be exemplified chloroform and methylene chloride.

中でもトルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、イソホロン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンおよびジメチルスルホキシドが好ましい。   Among them, toluene, xylene, ethylbenzene, nitrobenzene, isophorone, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, methoxypropion Ethyl acetate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone and dimethyl Sulfoxide is preferred.

溶剤量としては、この熱硬化性樹脂組成物中のカルボキシル基含有ポリウレタン濃度(固形分濃度)が、好ましくは20〜90重量%、さらに好ましくは30〜70重量%となる量加える。   As a solvent amount, the carboxyl group-containing polyurethane concentration (solid content concentration) in the thermosetting resin composition is preferably 20 to 90% by weight, more preferably 30 to 70% by weight.

<無機および/または有機微粒子(D)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には無機および/または有機微粒子(D)をさらに含有
していても良い。
<Inorganic and / or organic fine particles (D)>
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain inorganic and / or organic fine particles (D).

無機および/または有機微粒子(D)は公知のものを使用できる。また、その配合比はカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂(A)の選択によって異なり、添加する場合には熱硬化性樹脂組成物全体に対して5〜40wt%の範囲内であることが好ましい。有機微粒子としては、エポキシ樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、尿素樹脂粉末、グアナミン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、シリコーンパウダー等を、無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、硫酸バリウム、タルク、炭酸カルシウム、ガラス粉、石英粉等の無機フィラー等を挙げる事ができる。   Known inorganic and / or organic fine particles (D) can be used. Further, the blending ratio varies depending on the selection of the carboxyl group-containing polyurethane resin (A), and when it is added, it is preferably in the range of 5 to 40 wt% with respect to the entire thermosetting resin composition. Organic fine particles include epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, guanamine resin powder, polyester resin powder, silicone powder, etc., and inorganic fine particles include silica, alumina, titanium oxide, barium sulfate, talc, calcium carbonate, Mention may be made of inorganic fillers such as glass powder and quartz powder.

無機および/または有機微粒子(D)を添加する場合には(A)と(B)との合計を100質量部とすると、5〜200重量部、より好ましくは5〜100重量部添加する。
<消泡剤(E)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には消泡剤(E)をさらに含有していても良い。消泡剤(E)としては、シリコーン系消泡剤、非シリコーン系消泡剤が用いられ、特にスクリーン印刷時の泡巻込み性や泡抜け性を考慮して用いられる。また、これらを数種類併用してもよい。例えば、シリコーン系消泡剤としては、KS−602A(信越化学工業株式会社製:商品名)、KS−603(信越化学工業株式会社製:商品名)、KS−608(信越化学工業株式会社製:商品名)、FA600(信越化学工業株式会社製:商品名)、BYK−A506(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A525(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A530(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、非シリコーン系消泡剤としては、BYK−A500(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A500(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A501(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A515(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)、BYK−A555(ビックケミー・ジャパン株式会社製:商品名)等が、好適に使用される。消泡剤(E)を添加する場合には、熱硬化性樹脂組成物全体を100重量部とすると0.1〜5重量部、好ましくは0.5〜3重量部添加する。
In the case of adding the inorganic and / or organic fine particles (D), if the total of (A) and (B) is 100 parts by mass, 5 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight are added.
<Defoamer (E)>
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain an antifoaming agent (E). As the antifoaming agent (E), a silicone-based antifoaming agent or a non-silicone-based antifoaming agent is used, and in particular, it is used in consideration of bubble entrainment properties and bubble removal properties during screen printing. These may be used in combination. For example, as a silicone type antifoaming agent, KS-602A (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: trade name), KS-603 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: trade name), KS-608 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) : Trade name), FA600 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: trade name), BYK-A506 (manufactured by BYK Japan, Inc .: trade name), BYK-A525 (manufactured by BYK Japan, Inc .: trade name), BYK- A530 (BIC Chemie Japan Co., Ltd .: trade name), as non-silicone antifoaming agents, BYK-A500 (BIC Chemie Japan Co., Ltd .: trade name), BYK-A500 (BIC Chemie Japan Co., Ltd .: trade name) ), BYK-A501 (BIC Chemie Japan Co., Ltd .: trade name), BYK-A515 (BIC Chemie JA Made emissions Co., Ltd. trade name), BYK-A555 (BYK Chemie Japan Co., Ltd .: trade name), etc., are preferably used. When adding an antifoamer (E), 0.1-5 weight part is added when the whole thermosetting resin composition is 100 weight part, Preferably 0.5-3 weight part is added.

<ラジカル重合開始剤(F)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中にはラジカル重合開始剤(F)をさらに含有していても良い。ラジカル重合開始剤(F)としては、ラジカル重合の開始剤となるものなら使用でき、このようなものとして、アゾ系、有機過酸化物、光重合開始剤が上げられる。
<Radical polymerization initiator (F)>
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain a radical polymerization initiator (F). As the radical polymerization initiator (F), any radical polymerization initiator can be used, and examples thereof include azo-based, organic peroxides, and photopolymerization initiators.

例えば2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビスイソバレロニトリル、2,2'-
アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド類、イソブチリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキサイド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキシド、o-メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、p-クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、2,4,4-トリメチルペンチル-2-ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼン
パーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、t-ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、t-ブチルクミルパーオキシド、ジ-t-ブチルパーオキシド
、トリス(t-ブチルパーオキシ)トリアジン等のジアルキルパーオキシド類、1,1-ジ-t-
ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,2-ジ(t-ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t-ブチルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエ
ート、t-ブチルパーオキシイソブチレート、ジ-t-ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフ
タレート、ジ-t-ブチルパーオキシアゼレート、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、ジ-t-ブチルパーオキシトリメチルアジペ−ト等のアルキルパーエステル類、ジイソプロピル
パーオキシジカーボナート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボナート、t-ブチルパーオ
キシイソプロピルカーボナート等のパーカーボナート類があげられる。
For example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobisisovaleronitrile, 2,2'-
Azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), methyl peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, isobutyryl peroxide, benzoyl peroxide, 2 Diacyl peroxides such as 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, o-methylbenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, 2,4,4-trimethylpentyl-2-hydroperoxide, diisopropylbenzene peroxide Hydroperoxides such as oxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, tris (t-butylperoxy) triazi Dialkyl peroxides such like, 1,1-di -t-
Peroxyketals such as butylperoxycyclohexane and 2,2-di (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylper Oxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, di-t-butylperoxyazelate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, Alkyl peresters such as t-butylperoxybenzoate, di-t-butylperoxytrimethyladipate, diisopropylperoxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylperoxyisopropyl Parker carbonates such as carbonates are listed.

紫外線等の光重合に際して使用できるラジカル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、4'-イソプロピル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピ
オフェノン、4,4'-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル(o-ベンゾイル)ベンゾエート、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニ
ル)オキシム、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-ベンゾイル)オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン等のアントラキノンまたはチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄化合物があげられる。
Examples of radical polymerization initiators that can be used for photopolymerization such as ultraviolet rays include acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 4′-isopropyl-2-hydroxy-2-methylprote. Piophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, benzophenone, methyl (o-benzoyl) benzoate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o -Ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin octyl ether, benzyl, Benzyl dimethyl ketal, benzyl diethyl ketal, Carbonyl compounds such as acetyl, methyl anthraquinone, chloroanthraquinone, chlorothioxanthone, 2-methyl thioxanthone, anthraquinone or thioxanthone derivatives such as 2-isopropylthioxanthone, diphenyl disulfide, sulfur compounds such as dithiocarbamate and the like.

ラジカル重合開始剤(F)を使用する場合には、カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を100重量部とすると0.1〜5重量部添加することが好ましい。
<硬化促進剤(G)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には硬化促進剤(G)をさらに含有していても良い。硬化促進剤(G)としては、イミダゾール誘導体(例えば、四国化成工業(株)製、2MZ、2E4MZ、C11Z、C17Z、2PZ、1B2MZ、2MZ−CN、2E4MZ−CN,C11Z−CN、2PZ−CN、2PHZ−CN、2MZ−CNS、2E4MZ−CNS、2PZ−CNS、2MZ−AZINE、2E4MZ−AZINE、C11Z−AZINE、2MA−OK、2P4MHZ、2PHZ、2P4BHZ等);アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類;ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレンジアミン、m−キシレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、ジシアンジアミド、尿素、尿素誘導体、メラミン、多塩基ヒドラジド等のポリアミン類;これらの有機酸塩および/またはエポキシアダクト;三フッ化ホウ素のアミン錯体;エチルジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−S−トリアジン,2,4−ジアミノ−6−キシリル−S−トリアジン等のトリアジン誘導体類;トリメチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルオクチルアミン、N−ベンジルジメチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、ヘキサ(N−メチル)メラミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノフェノール)、テトラメチルグアニジン、m−アミノフェノール等のアミン類;ポリビニルフェノール、ポリビニルフェノール臭素化物、フェノールノボラック、アルキルフェノールノボラック等のポリフェノール類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス−2−シアノエチルホスフィン等の有機ホスフィン類;トリ−n−ブチル(2,5−ジヒドロキシフェニル)ホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩類;ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩類;前記多塩基酸無水物;ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボロエート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2,4,6−トリフェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェート、チバ・ガイギー社製、イルガキュアー261、旭電化(株)製、オプトマ−SP−170等の光カチオン重合触媒;スチレン−無水マレイン酸樹脂;フェニルイソシアネートとジメチルアミンの等モル反応物や、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートとジメチルアミンの等モル反応物等の公知慣用である硬化剤類あるいは硬化促進剤類が挙げられる。
When using a radical polymerization initiator (F), it is preferable to add 0.1-5 weight part, when a carboxyl group-containing urethane resin (A) is 100 weight part.
<Curing accelerator (G)>
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain a curing accelerator (G). Examples of the curing accelerator (G) include imidazole derivatives (for example, 2MZ, 2E4MZ, C11Z, C17Z, 2PZ, 1B2MZ, 2MZ-CN, 2E4MZ-CN, C11Z-CN, 2PZ-CN, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) 2PHZ-CN, 2MZ-CNS, 2E4MZ-CNS, 2PZ-CNS, 2MZ-AZINE, 2E4MZ-AZINE, C11Z-AZINE, 2MA-OK, 2P4MHZ, 2PHZ, 2P4BHZ, etc.); Polyamines such as diphenylmethane, m-phenylenediamine, m-xylenediamine, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide, urea, urea derivatives, melamine, polybasic hydrazide; these organic acid salts and / or epoxy adducts; Boron amine complexes; triazine derivatives such as ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-xylyl-S-triazine; trimethylamine, triethanolamine, N, N -Amines such as dimethyloctylamine, N-benzyldimethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, hexa (N-methyl) melamine, 2,4,6-tris (dimethylaminophenol), tetramethylguanidine, m-aminophenol Polyphenols such as polyvinylphenol, polyvinylphenol bromide, phenol novolak, alkylphenol novolak; organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine, tris-2-cyanoethylphosphine; tri-n-butyl Phosphonium salts such as (2,5-dihydroxyphenyl) phosphonium bromide and hexadecyltributylphosphonium chloride; quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium chloride and phenyltributylammonium chloride; the polybasic acid anhydride; diphenyliodonium tetrafluoroboroate , Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4,6-triphenylthiopyrylium hexafluorophosphate, manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 261, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., Optoma-SP-170, etc. Polymerization catalyst; styrene-maleic anhydride resin; equimolar reaction product of phenyl isocyanate and dimethylamine, presence of tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. Polyisocyanate and the curing agents or curing accelerators such known conventional such equimolar reaction product of dimethyl amine.

硬化促進剤(G)を使用する場合には、カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を100重量部とすると0.1〜5重量部添加することが好ましい。
<共重合性モノマー(H)>
また、本発明のカルボキシル基含有ポリウレタン中のアクリルアミドとの重合性の良い共重合性モノマー(H)を共存させて硬化を行っても良い。
When using a hardening accelerator (G), it is preferable to add 0.1-5 weight part, when a carboxyl group-containing urethane resin (A) is 100 weight part.
<Copolymerizable monomer (H)>
Further, curing may be carried out in the presence of a copolymerizable monomer (H) having good polymerizability with acrylamide in the carboxyl group-containing polyurethane of the present invention.

共重合性モノマー(H)としては、アクリルアミド二重結合とラジカル共重合するものなら使用することが出来、このようなものとして、例えばアクリルアミド及びその誘導体、(メタ)アクリル酸エステル及びその誘導体、スチレン及びその誘導体、酢酸ビニル及びその誘導体、(メタ)アクリロニトリル及びその誘導体、有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体、有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体、フマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体、マレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、イタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、有機カルボン酸のN−ビニルアミド誘導体、マレイミド及びその誘導体、末端不飽和炭化水素及びその誘導体等が上げられる。
アクリルアミド及びその誘導体としては、アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリン、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等である。
As the copolymerizable monomer (H), any monomer capable of radical copolymerization with an acrylamide double bond can be used. For example, acrylamide and its derivatives, (meth) acrylic acid ester and its derivatives, styrene And derivatives thereof, vinyl acetate and derivatives thereof, (meth) acrylonitrile and derivatives thereof, vinyl esters and derivatives of organic carboxylic acids, allyl esters and derivatives of organic carboxylic acids, dialkyl esters and derivatives of fumaric acid, maleic acid Examples thereof include dialkyl esters and derivatives thereof, dialkyl esters of itaconic acid and derivatives thereof, N-vinylamide derivatives of organic carboxylic acids, maleimides and derivatives thereof, terminal unsaturated hydrocarbons and derivatives thereof, and the like.
Acrylamide and its derivatives include acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, acryloylmorpholine, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, N-methylolacrylamide and the like.

(メタ)アクリル酸エステル類及びその誘導体としては、単官能もしくは使用量に制約は出てくるが多官能の(メタ)アクリレートも使用でき、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸−n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(
メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−
sec−ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸−3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジ(メタ)クリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−アクリロイルモルフォリン等である。
As (meth) acrylic acid esters and derivatives thereof, monofunctional or use amount is limited, but polyfunctional (meth) acrylate can also be used, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, N-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (
(Meth) acrylic acid-n-butyl, (meth) acrylic acid isobutyl, (meth) acrylic acid-
sec-butyl, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylic acid phenyl, (meth) acrylic acid benzyl, (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid-2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid-3-hydroxypropyl, (meth) acrylic 2-hydroxybutyl acid, 2-hydroxyphenylethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di ( (Meth) acrylate, triethyle Glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meta ) Acrylamide, N-acryloylmorpholine and the like.

スチレン及びその誘導体としては、スチレン、2,4−ジメチル−α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2、4−ジメチルスチレン、2、5−ジメチルスチレン、2、6−ジメチルスチレン、3、4−ジメチルスチレン、3、5−ジメチルスチレン、2、4、6−トリメチルスチレン、2、4、5−トリメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、o−エチルスチレン、m−エチルスチレン、p−エチルスチレン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、o−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、p−ブロモスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−ビニルビフェニル、3−ビニルビフェニル、4−ビニルビフェニル、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、4−ビニル−p−ターフェニル、1−ビニルアントラセン、α−メチルスチレン、o−イソプロペニルトルエン、m−イソプロペニルトルエン、p−イソプロペニルトルエン、2,4−ジメチル−α−メチルスチレン、2,3−ジメチル−α−メチルスチレン、3,5−ジメチル−α−メチルスチレン、p−イソプロピル−α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロピルベンゼン等で
ある。
Examples of styrene and derivatives thereof include styrene, 2,4-dimethyl-α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2 , 6-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 2,4,6-trimethylstyrene, 2,4,5-trimethylstyrene, pentamethylstyrene, o-ethylstyrene, m-ethyl Styrene, p-ethylstyrene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, o-bromostyrene, m-bromostyrene, p-bromostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxy Styrene, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxys Len, 2-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl, 4-vinylbiphenyl, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-vinyl-p-terphenyl, 1-vinylanthracene, α-methylstyrene, o-isopropenyl Toluene, m-isopropenyltoluene, p-isopropenyltoluene, 2,4-dimethyl-α-methylstyrene, 2,3-dimethyl-α-methylstyrene, 3,5-dimethyl-α-methylstyrene, p-isopropyl -Α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-chlorostyrene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropylbenzene and the like.

(メタ)アクリルニトリル及びその誘導体としてはアクリロニトリル、メタクリロニトリル等である。
有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニル等である。
Examples of (meth) acrylonitrile and derivatives thereof include acrylonitrile and methacrylonitrile.
Examples of vinyl esters of organic carboxylic acids and derivatives thereof include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, and divinyl adipate.

有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体としては、酢酸アリル、安息香酸アリル、アジピン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、フタル酸ジアリル等である。   Examples of allyl esters of organic carboxylic acids and derivatives thereof include allyl acetate, allyl benzoate, diallyl adipate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, and diallyl phthalate.

フマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−sec−ブチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−n−ブチル、フマル酸ジ−2−エチルヘキシル、フマル酸ジベンジル等
である。
Dialkyl esters of fumaric acid and derivatives thereof include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, diisopropyl fumarate, di-sec-butyl fumarate, diisobutyl fumarate, di-n-butyl fumarate, di-2-ethylhexyl fumarate And dibenzyl fumarate.

マレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ−sec−ブチル、マレイン酸ジイソブチル、マレイン酸ジ−n−ブチル、マレイン酸ジ−2−エチルヘキシル、マレ
イン酸ジベンジル等である。
Dialkyl esters of maleic acid and derivatives thereof include dimethyl maleate, diethyl maleate, diisopropyl maleate, di-sec-butyl maleate, diisobutyl maleate, di-n-butyl maleate, di-2-ethylhexyl maleate And dibenzyl maleate.

イタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジイソプロピル、イタコン酸ジ−sec−ブチル、イタコン酸ジイソブチル、イタコン酸ジ−n−ブチル、イタコン酸ジ−2−エチルヘキシル、イタ
コン酸ジベンジル等である。
Dialkyl esters of itaconic acid and derivatives thereof include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, diisopropyl itaconate, di-sec-butyl itaconate, diisobutyl itaconate, di-n-butyl itaconate, di-2-ethylhexyl itaconate And dibenzyl itaconate.

有機カルボン酸のN−ビニルアミド誘導体としては、N−メチル−N−ビニルアセトアミド等である。
マレイミド及びその誘導体としては、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等である。
Examples of N-vinylamide derivatives of organic carboxylic acids include N-methyl-N-vinylacetamide.
Examples of maleimide and derivatives thereof include N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide.

末端不飽和炭化水素及びその誘導体としては、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、ビニルシクロヘキサン、塩化ビニル、アリルアルコール等である。
<添加剤(I)>
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には添加剤(I)をさらに含有していても良い。添加剤(I)としては公知の各種添加剤、例えばガラス繊維、炭素繊維、窒化ホウ素繊維等の繊維強化材、酸化チタン、酸化亜鉛、カーボンブラック、鉄黒、有機顔料、有機染料等の着色剤、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物、ヒンダードアミン系化合物等の酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の紫外線吸収剤等を配合することができる。
Examples of terminal unsaturated hydrocarbons and derivatives thereof include 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, vinylcyclohexane, vinyl chloride, and allyl alcohol.
<Additive (I)>
The thermosetting resin composition of the present invention may further contain an additive (I). As the additive (I), various known additives, for example, fiber reinforcing materials such as glass fiber, carbon fiber and boron nitride fiber, colorants such as titanium oxide, zinc oxide, carbon black, iron black, organic pigment, organic dye, etc. Antioxidants such as hindered phenol compounds, phosphorus compounds and hindered amine compounds, and UV absorbers such as benzotriazole compounds and benzophenone compounds can be blended.

また、用途に合わせて粘度調整剤、難燃剤、抗菌剤、防黴剤、老化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、発泡剤などを添加・混合することができる。
<熱硬化性樹脂組成物、オーバーコート剤、および保護膜>
本発明の熱硬化性樹脂組成物は上述のようにカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を含有し、通常はさらに硬化剤(B)を含有し、必要に応じて溶剤(C)、無機および/または有機微粒子(D)、消泡剤(E)、ラジカル重合開始剤(F)、硬化促進剤(G)、共重合性モノマー(H)、および添加剤(I)を含有し、これらを混練することにより得ることができる。混練方法としては混合機、例えばディスパー、ニーダー、3本ロールミル、ビーズミル、ホモジナイザー等を用いて行うことができる。
Moreover, a viscosity modifier, a flame retardant, an antibacterial agent, an antifungal agent, an anti-aging agent, an antistatic agent, a plasticizer, a lubricant, a foaming agent, and the like can be added and mixed according to the application.
<Thermosetting resin composition, overcoat agent, and protective film>
The thermosetting resin composition of the present invention contains a carboxyl group-containing urethane resin (A) as described above, usually further contains a curing agent (B), and optionally contains a solvent (C), inorganic and / or Or it contains organic fine particles (D), antifoaming agent (E), radical polymerization initiator (F), curing accelerator (G), copolymerizable monomer (H), and additive (I), and these are kneaded. Can be obtained. As a kneading method, a mixer such as a disper, a kneader, a three-roll mill, a bead mill, or a homogenizer can be used.

本発明のオーバーコート剤は上記熱硬化性樹脂組成物からなる。
本発明のオーバーコート剤は、スクリーン印刷等で塗布した後に乾燥・光照射・加熱する等の硬化方法を用いて硬化させることにより保護膜を得ることができる。
The overcoat agent of this invention consists of the said thermosetting resin composition.
The overcoat agent of the present invention can be obtained by curing using a curing method such as drying, light irradiation, and heating after coating by screen printing or the like.

このようにして得られる本発明の保護膜は、高温タック性、基材との密着性、低反り性、可とう性、耐めっき性、はんだ耐熱性、電気絶縁の長期信頼性に優れている。
また、カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)はアクリルアミド基とカルボキシル基とを有しているので、カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の分子量が比較的低く、酸価の高い場合には、多官能アクリレートと組合せることにより、通常のアルカリ現像によるフォトリソグラフィー法にてパターニング化することも可能であり、ソルダーレジストとしての有用性が高い。
The protective film of the present invention thus obtained is excellent in high temperature tackiness, adhesion to a substrate, low warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance, and long-term reliability of electrical insulation. .
In addition, since the carboxyl group-containing urethane resin (A) has an acrylamide group and a carboxyl group, when the carboxyl group-containing urethane resin (A) has a relatively low molecular weight and a high acid value, it is a polyfunctional acrylate. By combining with the above, patterning can also be performed by a photolithography method using ordinary alkali development, and the utility as a solder resist is high.

本発明のオーバーコート剤はスクリーン印刷等で塗布した後に単純に加熱により硬化を行うことも出来るし、酸価が高いカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の場合には、いわゆるフォトパターニング樹脂として、マスク越しに光照射を行い、アルカリ現像液により未露光部を溶解して、その後に熱により硬化を行うことも出来る。
[実施例]
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
The overcoat agent of the present invention can be simply cured by heating after coating by screen printing or the like, and in the case of a carboxyl group-containing urethane resin (A) having a high acid value, a mask as a so-called photopatterning resin. It is also possible to irradiate with light, dissolve the unexposed portion with an alkali developer, and then cure with heat.
[Example]
Examples The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[製造例1]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてT−4691(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール)37.11g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールプロピオン酸(日本化成株式会社製)28.77g、溶媒としてジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(ダイセル化学株式会社製)129.68gを仕込み、90℃で2,2−ジメチロールプロピオン酸を溶解した(一部不溶分有り)。反応液の温度を70℃まで下げ、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてタケネート600(三井武田ケミカル(株)製)55.49gを30分かけて滴下した。滴下終了後、80℃で6時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)8.47gを滴下し、更に90℃にて1.5時間反応を行った。
[Production Example 1]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 37.11 g of T-4691 (polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) as the polyol compound (b), and 2,2 as the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group -28.77 g of dimethylolpropionic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 129.68 g of diethylene glycol ethyl ether acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as a solvent were dissolved in 2,2-dimethylolpropionic acid at 90 ° C ( Some insolubles). The temperature of the reaction solution was lowered to 70 ° C., and 55.49 g of Takenate 600 (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was added dropwise as a polyisocyanate compound (a) over 30 minutes with a dropping funnel. After completion of the dropping, the reaction was carried out at 80 ° C. for 6 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 8.47 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 1.5 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−1)は、数平均分子量は3490、固形分の酸価は92.7mgKOH/gであった。
[製造例2]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてT−4691(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール)42.93g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールプロピオン酸(日本化成株式会社製)26.83g、溶媒としてジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(ダイセル化学株式会社製)126.38gを仕込み、90℃で2,2−ジメチロールプロピオン酸を溶解した(一部不溶分有り)。反応液の温度を70℃まで下げ、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてT−65/35(三井武田ケミカル(株)製)48.43gを30分かけて滴下した。滴下終了後、80℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)7.94gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-1) had a number average molecular weight of 3490 and a solid acid value of 92.7 mgKOH / g.
[Production Example 2]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 42.93 g of T-4691 (polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) as the polyol compound (b) and 2,2 as the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group -26.83 g of dimethylolpropionic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 126.38 g of diethylene glycol ethyl ether acetate (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.) as a solvent were prepared, and 2,2-dimethylolpropionic acid was dissolved at 90 ° C ( Some insolubles). The temperature of the reaction solution was lowered to 70 ° C., and 48.43 g of T-65 / 35 (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was added dropwise over 30 minutes as a polyisocyanate compound (a) using a dropping funnel. After completion of dropping, the reaction was carried out at 80 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 7.94 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−2)は、数平均分子量は2000、固
形分の酸価は89.0mgKOH/gであった。
[製造例3]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてT−4691(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール)35.33g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)58.95g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)205.78gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてタケネート600(三井武田ケミカル(株)製)97.12gを30分かけて滴下した。滴下終了後、80℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)14.39gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-2) had a number average molecular weight of 2000 and a solid acid value of 89.0 mgKOH / g.
[Production Example 3]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 35.33 g of T-4691 (polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) as the polyol compound (b) and 2,2 as the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group -58.95 g of dimethylol butanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Chemical Co., Ltd.) and 205.78 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as a solvent were dissolved in 2,2-dimethylol butanoic acid at 70 ° C. Then, 97.12 g of Takenate 600 (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was dropped as the polyisocyanate compound (a) over 30 minutes. After completion of the dropping, the reaction was carried out at 80 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 14.39 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−3)は、数平均分子量は3300、固形分の酸価は108.3mgKOH/gであった。
[製造例4]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)52.41g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)37.12g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)203.68gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)104.94gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)9.21gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-3) had a number average molecular weight of 3300 and a solid acid value of 108.3 mgKOH / g.
[Production Example 4]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 52.41 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), carboxyl 37.12 g of 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) as the dihydroxy compound (c) having a group, 203.68 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as the solvent, 2-dimethylolbutanoic acid was dissolved, and 104.94 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) was added dropwise over 30 minutes as a polyisocyanate compound (a) with a dropping funnel. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours. After confirming that the isocyanate had almost disappeared, 9.21 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−4)は、数平均分子量は5100、固形分の酸価は68.9mgKOH/gであった。
[製造例5]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてUM−CRAB90(3/1)(宇部興産(株)製ポリカーボネートジオール)91.85g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)32.18g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)205.92gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてNBDI(三井武田ケミカル(株)製)73.66gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)8.22gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-4) had a number average molecular weight of 5100 and a solid acid value of 68.9 mgKOH / g.
[Production Example 5]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 91.85 g of UM-CRAB90 (3/1) (polycarbonate diol manufactured by Ube Industries, Ltd.) as a polyol compound (b), a dihydroxy compound having a carboxyl group (c) ), 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Chemical Co., Ltd.) 32.18 g, and diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) 205.92 g as a solvent, and 2,2-dimethylolbutanoic acid at 70 ° C. It melt | dissolved and 73.66g of NBDI (made by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was dripped over 30 minutes as a polyisocyanate compound (a) with the dropping funnel. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 8.22 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was dropped, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−5)は、数平均分子量は5770、固形分の酸価は59.1mgKOH/gであった。
[製造例6]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてC−1015N((株)クラレ製ポリカーボネートジオール)91.09g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)31.6g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)205.92gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてNBDI(三井武田ケミカル(株)製)71.12gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)
製)7.94gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-5) had a number average molecular weight of 5770 and an acid value of solid content of 59.1 mgKOH / g.
[Production Example 6]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 91.09 g of C-1015N (polycarbonate diol manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as a polyol compound (b) and 2,2- as a dihydroxy compound (c) having a carboxyl group. 31.6 g of dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Chemical Co., Ltd.) and 205.92 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as a solvent are charged, and 2,2-dimethylolbutanoic acid is dissolved at 70 ° C. Then, 71.12 g of NBDI (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) was added dropwise as the polyisocyanate compound (a) over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, N-hydroxyethylacrylamide (d) (Kojin Co., Ltd.)
7.94 g) was added dropwise, and the reaction was further carried out at 90 ° C. for 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−6)は、数平均分子量は5850、固形分の酸価は58.7mgKOH/gであった。
[製造例7]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)82.39g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)12.18g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)201.21gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)87.45gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)19.19gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-6) had a number average molecular weight of 5850 and a solid content acid value of 58.7 mgKOH / g.
[Production Example 7]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 82.39 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), carboxyl 12.18 g of 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) as the dihydroxy compound (c) having a group, and 201.21 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as the solvent, 2-dimethylolbutanoic acid was dissolved, and 87.45 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) was added dropwise as a polyisocyanate compound (a) over 30 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropping, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 19.19 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−7)は、数平均分子量は2410、固形分の酸価は22.9mgKOH/gであった。
[製造例8]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)48.0g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)28.38g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)200.64gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)101.88gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)22.36gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-7) had a number average molecular weight of 2410 and a solid content acid value of 22.9 mgKOH / g.
[Production Example 8]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 48.0 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), carboxyl 28.38 g of 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) as the dihydroxy compound (c) having a group, and 20.64 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as the solvent, 2-dimethylolbutanoic acid was dissolved, and 101.88 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) was added dropwise as a polyisocyanate compound (a) over 30 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 22.36 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−8)は、数平均分子量は2070、固形分の酸価は53.5mgKOH/gであった。
[参考例1]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)48.0g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)として2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)23.4g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)200.64gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)101.88gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製)22.5gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained carboxyl group-containing urethane resin (A-8) had a number average molecular weight of 2070 and an acid value of solid content of 53.5 mgKOH / g.
[Reference Example 1]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 48.0 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), carboxyl 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Chemical Co., Ltd.) 23.4 g as a dihydroxy compound (c) having a group, and 20.64 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as a solvent, 2-dimethylolbutanoic acid was dissolved, and 101.88 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) was added dropwise as a polyisocyanate compound (a) over 30 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 22.5 g of N-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise, and the temperature was further increased to 90 ° C. For 2 hours.

得られたポリウレタン(S−1)は、数平均分子量は2070、固形分の酸価は54.3mgKOH/gであった。
[参考例2]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)48.0g、カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)とし
て2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)28.38g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)200.64gを仕込み、70℃で2,2−ジメチロールブタン酸を溶解し、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)101.88gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(和光純薬(株)製)14.5gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained polyurethane (S-1) had a number average molecular weight of 2070 and an acid value of solid content of 54.3 mgKOH / g.
[Reference Example 2]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 48.0 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), carboxyl 28.38 g of 2,2-dimethylolbutanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) as the dihydroxy compound (c) having a group, and 20.64 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) as the solvent, 2-dimethylolbutanoic acid was dissolved, and 101.88 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) was added dropwise as a polyisocyanate compound (a) over 30 minutes using a dropping funnel. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 90 ° C. for 4 hours. After confirming that the isocyanate had almost disappeared, 14.5 g of isobutanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and the reaction was further carried out at 90 ° C. for 2 hours. Went.

得られたポリウレタン(S−2)は、数平均分子量は2060、固形分の酸価は55.7mgKOH/gであった。
[参考例3]
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリオール化合物(b)としてP−530((株)クラレ製ポリエステルジオール:イソフタル酸+3−メチル−1,5−ペンタンジオール)107.5g、溶媒としてジグライム(丸善石油化学株式会社製)200.64gを仕込み、70℃で滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物(a)としてディスモジュール−W(住化バイエルウレタン(株)製)76.4gを30分かけて滴下した。滴下終了後、90℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド(d)(興人(株)製)16.7gを滴下し、更に90℃にて2時間反応を行った。
The obtained polyurethane (S-2) had a number average molecular weight of 2060 and an acid value of solid content of 55.7 mgKOH / g.
[Reference Example 3]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 107.5 g of P-530 (polyester diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: isophthalic acid + 3-methyl-1,5-pentanediol) as a polyol compound (b), solvent 200 g of diglyme (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) is charged, and 76.4 g of Dismodule-W (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) is added as a polyisocyanate compound (a) for 30 minutes using a dropping funnel at 70 ° C. It was dripped over. After completion of the dropwise addition, the reaction was performed at 90 ° C. for 4 hours, and after confirming that the isocyanate had almost disappeared, 16.7 g of N-hydroxyethylacrylamide (d) (manufactured by Kojin Co., Ltd.) was added dropwise, and further 90 ° C. For 2 hours.

得られたポリウレタン(S−3)は、数平均分子量は2020であった。
<熱硬化性樹脂組成物の評価>
実施例および比較例における各種物性は下記の方法で測定・評価した。
The number average molecular weight of the obtained polyurethane (S-3) was 2020.
<Evaluation of thermosetting resin composition>
Various physical properties in Examples and Comparative Examples were measured and evaluated by the following methods.

熱硬化性樹脂組成物をオーバーコート剤として、#100メッシュポリエステル版を用いて、スクリーン印刷により、基材に塗布した。以下の条件で、高温タック性、密着性、反り性、可とう性、耐めっき性、ハンダ耐熱性及び長期信頼性について評価を行った結果を表2に示した。   The thermosetting resin composition was applied to the substrate by screen printing using a # 100 mesh polyester plate as an overcoat agent. Table 2 shows the results of evaluation of high temperature tackiness, adhesion, warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance and long-term reliability under the following conditions.

〔密着性〕
基材は75μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)300H、東レ・デュポン(株)製〕を用い、印刷後のフィルムを80℃で30分乾燥した後、150℃で1時間熱硬化した。熱硬化後のフィルムについてJISK5600−5−6に従ってクロスカット試験を行った。
[Adhesion]
A 75 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 300H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used as the substrate, and the printed film was dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. The film after thermosetting was subjected to a cross cut test according to JISK5600-5-6.

〔低反り性〕
基材は25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)300H、東レ・デュポン(株)製〕を用い、印刷後のフィルムを80℃で30分乾燥した後、150℃で1時間熱硬化した。熱硬化後のフィルムを直径50mmの円形に切り出し、印刷面を上にして置いて以下の基準で評価した。
[Low warpage]
A 25 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 300H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used as the substrate, and the printed film was dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. The film after thermosetting was cut into a circle with a diameter of 50 mm, placed with the printed surface facing upward, and evaluated according to the following criteria.

○:最大の反り高さが5mm未満
×:最大の反り高さが5mm以上。
〔可撓性〕
基材は25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)100H、東レ・デュポン(株)製〕を用い、印刷後のフィルムを80℃で30分乾燥した後、150℃で1時間熱硬化した。ソルダーレジストインキを塗布・熱硬化したポリイミドフィルムを、塗布面を外側に180°に折り曲げて硬化膜の白化の有無を調べた。以下の基準で可とう性を評価した。
○: The maximum warp height is less than 5 mm. X: The maximum warp height is 5 mm or more.
[Flexibility]
A 25 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 100H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used as the substrate, and the printed film was dried at 80 ° C. for 30 minutes, and then thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. The polyimide film on which the solder resist ink was applied and heat-cured was bent 180 ° outward so that the cured film was whitened. The flexibility was evaluated according to the following criteria.

○:硬化膜の白化なし
×:硬化膜が白化、もしくは亀裂が生じる。
〔耐めっき性〕
基材に銅箔(厚さ35μm)片面積層ポリイミドフィルム(厚さ50μm)からなるプリント基板〔ユピセル(登録商標)N、宇部興産(株)製〕を酸性脱脂剤AC−401で洗浄し、水洗後、70℃で3分間乾燥したものを用いた。印刷後に80℃で30分間乾燥した後、150℃で1時間熱硬化し、水洗した後、200ml/lのIPCクリーンS135(奥野製薬工業(株)製)水溶液(40℃)に4分間浸した。その後、100g/lの(NH+10ml/lのHSOの水溶液(23℃)に1分間に浸し、10質量%HSO水溶液(23℃)に1分間、3.5質量%HCl水溶液(23℃)に1分間、次に、200ml/lのIPCアクセラ(奥野製薬工業(株)製)水溶液(23℃)に1分間浸した。このように洗浄した基板に、80℃の無電解Niメッキ液(IPCニコロンGM−SD Ni濃度5.0g/l,pH4.6 奥野製薬工業(株)製)に20分間、3.5質量%HCl水溶液(23℃)に1分間浸し、次に、85℃の無電解Auメッキ液(IM−GOLD IB Au濃度2.0g/l,pH4.8 日本高純度化学(株)製)に20分間浸した。その後、80℃のイオン交換水に10分間浸し、その後、熱風循環式乾燥機を用いて80℃、3分間試験片を乾燥させた。
○: No whitening of the cured film ×: Whitening or cracking of the cured film occurs.
[Plating resistance]
A printed circuit board made of copper foil (thickness: 35 μm), single area layer polyimide film (thickness: 50 μm) is washed with an acidic degreasing agent AC-401, and washed with water. Then, what was dried at 70 degreeC for 3 minutes was used. After printing, drying at 80 ° C. for 30 minutes, thermosetting at 150 ° C. for 1 hour, washing with water, and then immersed in an aqueous solution (40 ° C.) of 200 ml / l IPC Clean S135 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) for 4 minutes. . Then, it was immersed in an aqueous solution (23 ° C.) of 100 g / l (NH 4 ) 2 S 2 O 8 +10 ml / l H 2 SO 4 for 1 minute, and then immersed in an aqueous 10 mass% H 2 SO 4 solution (23 ° C.) for 1 minute. Then, it was immersed in an aqueous 3.5 mass% HCl solution (23 ° C.) for 1 minute, and then in an aqueous solution (23 ° C.) of 200 ml / l IPC Axela (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) for 1 minute. The substrate washed in this manner was subjected to an electroless Ni plating solution at 80 ° C. (IPC Nicolon GM-SD Ni concentration 5.0 g / l, pH 4.6, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) for 20 minutes, 3.5% by mass. Immerse in an aqueous HCl solution (23 ° C.) for 1 minute, and then in an electroless Au plating solution (IM-GOLD IB Au concentration 2.0 g / l, pH 4.8, manufactured by Nippon Kojun Chemical Co., Ltd.) at 85 ° C. for 20 minutes Soaked. Thereafter, the sample was immersed in ion exchange water at 80 ° C. for 10 minutes, and then the test piece was dried at 80 ° C. for 3 minutes using a hot air circulation dryer.

ここで得られたサンプルを光学顕微鏡を用いて、メッキ工程で使用した薬液が、レジスト面と銅との界面への潜り込みを観察するとともに、レジスト膜の変色については目視にて評価した。
○:硬化膜の変色、めっきもぐりこみともになし
△:メッキ潜り込みはあるが、硬化膜の変色はなし
×:硬化膜の変色またはめっきもぐりこみあり。
Using the optical microscope, the chemical | medical solution used by the plating process observed the sample obtained here sunk into the interface of a resist surface and copper, and evaluated visually the discoloration of the resist film.
○: Neither discoloration of the cured film nor retraction of the plating Δ: Although there was penetration of the plating, no discoloration of the cured film ×: Discoloration of the cured film or retraction of the plating.

〔ハンダ耐熱性〕
JIS・C−6481の試験法に準じて、基材に銅箔(厚さ35μm)片面積層ポリイミドフィルム(厚さ50μm)からなるプリント基板〔ユピセル(登録商標)N、宇部興産(株)製〕を1%硫酸水溶液で洗浄し、水洗後、空気流で乾燥したものを用いた。印刷後に80℃で30分間乾燥した後、150℃で1時間熱硬化した。熱硬化性樹脂組成物を塗布・熱硬化した基板を260℃のハンダ浴に10秒間フロートさせ、硬化膜を目視で観察し、以下の基準でハンダ耐熱性を評価した。
○:硬化膜のフクレ、ハンダもぐりこみともになし
×:硬化膜のフクレまたはハンダもぐりこみあり。
[Solder heat resistance]
In accordance with JIS C-6481 test method, printed circuit board made of copper foil (thickness 35 μm) and single area layer polyimide film (thickness 50 μm) as the base material [Iupicel (registered trademark) N, manufactured by Ube Industries, Ltd.] Was washed with a 1% aqueous sulfuric acid solution, washed with water, and dried with an air stream. After printing, the film was dried at 80 ° C. for 30 minutes and then thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. The substrate on which the thermosetting resin composition was applied and thermoset was floated in a 260 ° C. solder bath for 10 seconds, the cured film was visually observed, and solder heat resistance was evaluated according to the following criteria.
○: No swelling or soldering of the cured film ×: There is swelling or soldering of the cured film.

〔電気絶縁の長期信頼性(長期絶縁特性)〕
主剤と硬化剤の混合物をスクリーン印刷法により、200メッシュのステンレス製スクリーン版を用いて、16μmの厚さ(乾燥後)になるように、フレキシブル銅張り積層板(商品名:UPISEL−N BE1310(グレード名)、宇部興産(株)製)をエッチングして製造した櫛形基板(銅配線幅/銅配線間幅=50μm/50μm)に塗布(配線接続部は除く)し、75℃で30分間、熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。
[Long-term reliability of electrical insulation (long-term insulation characteristics)]
A flexible copper-clad laminate (trade name: UPISEL-N BE1310 (trade name: UPISEL-N BE1310) using a 200-mesh stainless steel screen plate with a mixture of the main agent and the curing agent so as to have a thickness of 16 μm (after drying). Grade name), applied to a comb-shaped substrate (copper wiring width / copper wiring width = 50 μm / 50 μm) manufactured by etching Ube Industries, Ltd.) (excluding wiring connection portion), and at 75 ° C. for 30 minutes. It dried using the hot air circulation type dryer.

次に、紫外線露光装置(型式:EXP−2807―B−02 (株)オーク製作所製)を用いて500mJ/cm2の照射量の全面露光をした。その後、30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液で、現像性試験で求めた最短現像時間の1.5倍の時間(ただし、最短現像時間が15秒以下の場合は、現像時間を23秒とした)、110kPaの圧力でスプレー洗浄し、その後、30℃のイオン交換水で、現像時間と同時間、60kPaの圧力でスプレー洗浄し、次に150℃で1時間加熱し試験片を作成した。   Next, the whole surface exposure of the irradiation amount of 500 mJ / cm <2> was performed using the ultraviolet-ray exposure apparatus (model | form: EXP-2807-B-02 Co., Ltd. product made from Oak Manufacturing Co., Ltd.). Thereafter, with a 1% by mass sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C., 1.5 times the shortest development time obtained in the developability test (however, when the shortest development time is 15 seconds or less, the development time is 23 seconds) ), Spray-washed at a pressure of 110 kPa, and then spray-washed with ion-exchanged water at 30 ° C. at a pressure of 60 kPa for the same time as the development time, and then heated at 150 ° C. for 1 hour to prepare test pieces.

この試験片を用いて、バイアス電圧100Vを印加し、温度85℃、湿度85%RHの
条件での温湿度定常試験を、MIGRATION TESTER MODEL MIG−8600(IMV(株)製)を用いて行った。
○:マイグレーション、絶縁抵抗値の低下ともになし
×:1000時間以下でマイグレーションまたは絶縁抵抗値の低下あり。
Using this test piece, a bias voltage of 100 V was applied, and a temperature and humidity steady test under conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH was performed using MIGRATION TESTER MODEL MIG-8600 (manufactured by IMV Co., Ltd.). .
○: Neither migration nor decrease in insulation resistance value ×: Migration or decrease in insulation resistance value occurred in 1000 hours or less.

[実施例1]
実施例1で得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A−1)(固形分濃度50質量%、酸価92.7mg−KOH/g)100g、エピコート834(ジャパンエポキシレジン株式会社製 エポキシ当量245)44.5g、メラミン1g、パーヘキサTMH(日本油脂(株)製)1.0g、アエロジルR−974(日本アエロジル株式会社製)5.0g、消泡剤としてBYK−051(ビックケミー・ジャパン株式会社製)0.8gの割合で混合し、三本ロールミル(株式会社小平製作所製 型式,RIII−1RM−2)で混練り
することにより、熱硬化性樹脂組成物1を調製した。
[Example 1]
Carboxy group-containing urethane resin (A-1) obtained in Example 1 (solid content concentration 50% by mass, acid value 92.7 mg-KOH / g) 100 g, Epicoat 834 (Epoxy equivalent 245 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 44.5 g, 1 g of melamine, Perhexa TMH (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 1.0 g, Aerosil R-974 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 5.0 g, BYK-051 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) as an antifoaming agent ) The thermosetting resin composition 1 was prepared by mixing at a rate of 0.8 g and kneading with a three roll mill (model, RIII-1RM-2 manufactured by Kodaira Seisakusho Co., Ltd.).

密着性、低反り性、可撓性、耐めっき性、ハンダ耐熱性および電気絶縁の長期信頼性を測定した。結果を表2に示す。
[実施例2〜9]
実施例1と同様に、表1に示す組成で、熱硬化性樹脂組成物2〜9を調製した。
Adhesion, low warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance, and long-term reliability of electrical insulation were measured. The results are shown in Table 2.
[Examples 2 to 9]
In the same manner as in Example 1, thermosetting resin compositions 2 to 9 having the compositions shown in Table 1 were prepared.

密着性、低反り性、可撓性、耐めっき性、ハンダ耐熱性および電気絶縁の長期信頼性を測定した。結果を表2に示す。
[比較例1〜3]
実施例1と同様に表1に示す組成で、熱硬化性樹脂組成物10〜12を調製した。
Adhesion, low warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance, and long-term reliability of electrical insulation were measured. The results are shown in Table 2.
[Comparative Examples 1-3]
Thermosetting resin compositions 10-12 were prepared with the composition shown in Table 1 in the same manner as in Example 1.

密着性、低反り性、可撓性、耐めっき性、ハンダ耐熱性および電気絶縁の長期信頼性を測定した。結果を表2に示す。   Adhesion, low warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance, and long-term reliability of electrical insulation were measured. The results are shown in Table 2.

Figure 2008045032
Figure 2008045032

Figure 2008045032
Figure 2008045032

以上のように、本発明によれば、基材との密着性、低反り性、可とう性、耐めっき性、はんだ耐熱性、高温高湿時の長期信頼性に優れた保護膜、該保護膜を提供するオーバーコート剤、および熱硬化性樹脂組成物を提供できる。また本発明の熱硬化性樹脂組成物は、柔軟性の点で優れた熱硬化のフレキシブル回路オーバーコート用樹脂、絶縁特性の優れた熱硬化のソルダーレジストや層間絶縁膜等の電気絶縁材料、ICや超LSI封止材料、積層板等の分野への利用が可能となる。   As described above, according to the present invention, the protective film having excellent adhesion to the base material, low warpage, flexibility, plating resistance, solder heat resistance, and long-term reliability at high temperature and high humidity, the protection An overcoat agent providing a film and a thermosetting resin composition can be provided. Further, the thermosetting resin composition of the present invention includes a thermosetting flexible circuit overcoat resin excellent in flexibility, an electrically insulating material such as a thermosetting solder resist and an interlayer insulating film excellent in insulation characteristics, and an IC. And can be used in fields such as VLSI sealing materials and laminated plates.

本発明の熱硬化性樹脂組成物をオーバーコート剤として用いる場合は、従来使用されている液状ポリイミドインクと比較して安価に生産可能である。さらに、従来の保護膜は、
密着強度や、電気絶縁の長期信頼性とを同時に満たすことは、困難であったが、本発明では、実装工程でのトラブルを発生させずに、良好な密着強度と、電気絶縁の長期信頼性のある保護膜を提供するオーバーコート剤を提供できる。
また、カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)はアクリルアミド基とカルボキシル基とを有しているので、特に分子量が比較的低く、酸価の高い系は、多官能アクリレートと組合せ得ることにより、通常のアルカリ現像によるフォトリソグラフィー法にてパターニング化することも可能であり、ソルダーレジストとしての有用性は高い。
When the thermosetting resin composition of the present invention is used as an overcoat agent, it can be produced at a lower cost than a liquid polyimide ink used conventionally. Furthermore, the conventional protective film is
It was difficult to satisfy both adhesion strength and long-term reliability of electrical insulation at the same time, but in the present invention, good adhesion strength and long-term reliability of electrical insulation were achieved without causing trouble in the mounting process. It is possible to provide an overcoat agent that provides a protective film.
In addition, since the carboxyl group-containing urethane resin (A) has an acrylamide group and a carboxyl group, a system having a relatively low molecular weight and a high acid value can be combined with a polyfunctional acrylate to obtain a normal alkali. Patterning can also be performed by a photolithography method by development, and the utility as a solder resist is high.

Claims (17)

下記(a)〜(d)を含む原料を反応させて得られるカルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)を含有する熱硬化性樹脂組成物;
(a)ポリイソシアネート化合物、
(b)ポリオール化合物、
(c)カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物、
(d)N-ヒドロキシエチルアクリルアミド。
A thermosetting resin composition containing a carboxyl group-containing urethane resin (A) obtained by reacting raw materials containing the following (a) to (d);
(A) a polyisocyanate compound,
(B) a polyol compound,
(C) a dihydroxy compound having a carboxyl group,
(D) N-hydroxyethylacrylamide.
前記ポリイソシアネート化合物(a)が、
1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、水素化1,3−キシリレンジイソシアネート、および水素化1,4−キシリレンジイソシアネートからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The polyisocyanate compound (a) is
At least one compound selected from the group consisting of 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), hydrogenated 1,3-xylylene diisocyanate, and hydrogenated 1,4-xylylene diisocyanate The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the thermosetting resin composition is present.
前記ポリオール化合物(b)が、
ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール、両末端水酸基化ポリシリコーン、および水酸基以外は酸素を含まず構成成分の炭素数が18から72であるポリオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The polyol compound (b) is
Selected from the group consisting of polycarbonate polyols, polyether polyols, polyester polyols, polylactone polyols, polybutadiene polyols, hydroxylated polysilicons at both ends, and polyol compounds other than hydroxyl groups and containing no oxygen and having 18 to 72 carbon atoms The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the thermosetting resin composition is at least one compound.
前記カルボキシル基を有するジヒドロキシ化合物(c)が、2,2−ジメチロールプロピオン酸または2,2−ジメチロールブタン酸であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting according to any one of claims 1 to 3, wherein the dihydroxy compound (c) having a carboxyl group is 2,2-dimethylolpropionic acid or 2,2-dimethylolbutanoic acid. Resin composition. 前記カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の数平均分子量が1,000〜100,000であり、かつ、酸価が5〜150mg-KOH/gであることを特徴とする請求項1
〜4のいずれかに記載の熱硬化樹脂組成物。
The number average molecular weight of the carboxyl group-containing urethane resin (A) is 1,000 to 100,000, and the acid value is 5 to 150 mg-KOH / g.
The thermosetting resin composition in any one of -4.
前記カルボキシル基含有ウレタン樹脂(A)の数平均分子量が2,000〜20,000であり、かつ酸価が10〜60mg-KOH/gであることを特徴とする請求項1〜4
のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
The number average molecular weight of the carboxyl group-containing urethane resin (A) is 2,000 to 20,000, and the acid value is 10 to 60 mg-KOH / g.
The thermosetting resin composition according to any one of the above.
さらに硬化剤(B)を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, a hardening | curing agent (B) is contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記硬化剤(B)がエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項7に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 7, wherein the curing agent (B) is an epoxy resin. 前記硬化剤(B)が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項7または8に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The curing agent (B) is bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, The thermosetting resin composition according to claim 7 or 8, which is at least one epoxy resin selected from the group consisting of a dicyclopentadiene type epoxy resin and an alicyclic epoxy resin. さらに溶媒(C)を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, a solvent (C) is contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned. 前記溶媒(C)が、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、イソホロン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンおよびジメチルスルホキシドからなる群より選ばれることを特徴とする請求項10に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The solvent (C) is toluene, xylene, ethylbenzene, nitrobenzene, isophorone, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methoxy Methyl propionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone , Γ-butyrolactone and dimethyl sulfoxide. The thermosetting resin composition according to claim 10, wherein. さらに無機および/または有機微粒子(D)を含有していることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, inorganic and / or organic fine particles (D) are contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-11 characterized by the above-mentioned. さらに消泡剤(E)を含有していることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the antifoamer (E) is contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-12 characterized by the above-mentioned. さらにラジカル重合開始剤(F)を含有していることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the radical polymerization initiator (F) is contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-13 characterized by the above-mentioned. さらに硬化促進剤(G)を含有していることを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the hardening accelerator (G) is contained, The thermosetting resin composition in any one of Claims 1-14 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜15のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなるオーバーコート剤。   The overcoat agent which consists of a thermosetting resin composition in any one of Claims 1-15. 請求項16に記載のオーバーコート剤より得られた保護膜。
A protective film obtained from the overcoat agent according to claim 16.
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009116609A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 昭和電工株式会社 Resin composition and cured film thereof
JP2009242681A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Taiyo Ink Mfg Ltd Active energy ray-curable resin composition, its cured product and transparent molded article
JP2010021297A (en) * 2008-07-10 2010-01-28 Compeq Manufacturing Co Ltd Rigid flex circuit board comprising peelable protective layer and manufacturing method thereof
WO2010058715A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 昭和電工株式会社 Resin composition for filling discharge gap, and electrostatic discharge protector
CN102219992A (en) * 2011-05-14 2011-10-19 罗上成 Polyurethane foam insulation adhesive cement
JP2016027160A (en) * 2010-08-05 2016-02-18 宇部興産株式会社 Aqueous polyurethane resin dispersion composition and method for producing the same
JP5954556B2 (en) * 2014-03-17 2016-07-20 Kjケミカルズ株式会社 Urethane oligomer and active energy ray-curable resin composition containing the same
WO2017047615A1 (en) * 2015-09-16 2017-03-23 Kjケミカルズ株式会社 (meth)acrylamide-based urethane oligomer and active-energy-ray-curable resin composition containing same
WO2017110326A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 昭和電工株式会社 Curable composition, cured object, overcoat film, coated flexible wiring board, and process for producing same
WO2017110591A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 昭和電工株式会社 Novel polyurethane, curable composition, overcoat film, and flexible wiring board and production method therefor
JP2017122169A (en) * 2016-01-06 2017-07-13 東ソー株式会社 Ultraviolet absorber resistant polyurethane urea resin composition, and molded body and coating material using the composition
WO2018198921A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 Dic株式会社 Composition, cured product, and method for producing cured product
EP3333208A4 (en) * 2015-09-15 2019-04-10 KJ Chemicals Corporation Urethane-modified (meth)acrylamide compound and active energy ray curable resin composition containing same
US11339288B2 (en) 2017-11-10 2022-05-24 Lg Chem, Ltd. Photocurable composition and coating layer including cured product thereof
CN116954022A (en) * 2023-07-31 2023-10-27 广东诚展科技股份有限公司 Chip carrier plate photosensitive solder resist dry film and forming method thereof

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4858092A (en) * 1971-11-24 1973-08-15
JPH06287259A (en) * 1993-04-06 1994-10-11 Dainippon Ink & Chem Inc Production of aqueous dispersed material of crosslinked polyurethane resin particle
JP2001166470A (en) * 1999-12-06 2001-06-22 Kansai Paint Co Ltd Photosensitive resin composition for photoresist and resist pattern forming method
JP2002037849A (en) * 2000-07-27 2002-02-06 Kohjin Co Ltd New urethane acrylamides, and ultraviolet and electron beam curable resin composition containing the urethane acrylamide
JP2003195486A (en) * 2001-12-27 2003-07-09 Showa Denko Kk Photosensitive composition, cured product of the same and printed wiring board using the same
JP2004062057A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Showa Denko Kk Photosensitive thermosetting resin composition and its hardened product
JP2006117922A (en) * 2004-09-21 2006-05-11 Showa Denko Kk Thermosetting resin composition using urethane resin
JP2006178444A (en) * 2004-11-29 2006-07-06 Showa Denko Kk Method for improving storage stability of photosensitive dry film

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4858092A (en) * 1971-11-24 1973-08-15
JPH06287259A (en) * 1993-04-06 1994-10-11 Dainippon Ink & Chem Inc Production of aqueous dispersed material of crosslinked polyurethane resin particle
JP2001166470A (en) * 1999-12-06 2001-06-22 Kansai Paint Co Ltd Photosensitive resin composition for photoresist and resist pattern forming method
JP2002037849A (en) * 2000-07-27 2002-02-06 Kohjin Co Ltd New urethane acrylamides, and ultraviolet and electron beam curable resin composition containing the urethane acrylamide
JP2003195486A (en) * 2001-12-27 2003-07-09 Showa Denko Kk Photosensitive composition, cured product of the same and printed wiring board using the same
JP2004062057A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Showa Denko Kk Photosensitive thermosetting resin composition and its hardened product
JP2006117922A (en) * 2004-09-21 2006-05-11 Showa Denko Kk Thermosetting resin composition using urethane resin
JP2006178444A (en) * 2004-11-29 2006-07-06 Showa Denko Kk Method for improving storage stability of photosensitive dry film

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009116609A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 昭和電工株式会社 Resin composition and cured film thereof
JPWO2009116609A1 (en) * 2008-03-21 2011-07-21 昭和電工株式会社 Resin composition and cured film thereof
JP5473896B2 (en) * 2008-03-21 2014-04-16 昭和電工株式会社 Resin composition and cured film thereof
JP2009242681A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Taiyo Ink Mfg Ltd Active energy ray-curable resin composition, its cured product and transparent molded article
JP2010021297A (en) * 2008-07-10 2010-01-28 Compeq Manufacturing Co Ltd Rigid flex circuit board comprising peelable protective layer and manufacturing method thereof
WO2010058715A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 昭和電工株式会社 Resin composition for filling discharge gap, and electrostatic discharge protector
US8350660B2 (en) 2008-11-21 2013-01-08 Showa Denko K.K. Resin composition for filling discharge gap and electrostatic discharge protector
JP2016027160A (en) * 2010-08-05 2016-02-18 宇部興産株式会社 Aqueous polyurethane resin dispersion composition and method for producing the same
CN102219992A (en) * 2011-05-14 2011-10-19 罗上成 Polyurethane foam insulation adhesive cement
CN106029727B (en) * 2014-03-17 2018-11-13 科捷化成品公司 Urethane oligomer and actinic energy ray curable resion composition containing it
JP5954556B2 (en) * 2014-03-17 2016-07-20 Kjケミカルズ株式会社 Urethane oligomer and active energy ray-curable resin composition containing the same
US20170009001A1 (en) * 2014-03-17 2017-01-12 Kj Chemicals Corporation Urethane oligomer and active energy ray curable resin composition containing same
JPWO2015141537A1 (en) * 2014-03-17 2017-04-06 Kjケミカルズ株式会社 Urethane oligomer and active energy ray-curable resin composition containing the same
CN106029727A (en) * 2014-03-17 2016-10-12 科捷化成品公司 Urethane oligomer and active energy ray curable resin composition containing same
US9738748B2 (en) * 2014-03-17 2017-08-22 Kj Chemicals Corporation Urethane oligomer and active energy ray curable resin composition containing same
US10759897B2 (en) 2015-09-15 2020-09-01 Kj Chemicals Corporation Urethane-modified (meth)acrylamide compound and active energy ray curable resin composition containing same
EP3333208A4 (en) * 2015-09-15 2019-04-10 KJ Chemicals Corporation Urethane-modified (meth)acrylamide compound and active energy ray curable resin composition containing same
WO2017047615A1 (en) * 2015-09-16 2017-03-23 Kjケミカルズ株式会社 (meth)acrylamide-based urethane oligomer and active-energy-ray-curable resin composition containing same
CN108350141B (en) * 2015-09-16 2021-06-25 科巨希化学股份有限公司 (meth) acrylamide urethane oligomer and active energy ray-curable resin composition containing same
CN108350141A (en) * 2015-09-16 2018-07-31 科巨希化学股份有限公司 (methyl) acrylamide oligourethane and actinic energy ray curable resion composition containing the oligomer
US10676561B2 (en) * 2015-09-16 2020-06-09 Kj Chemicals Corporation (Meth)acrylamide based urethane oligomer and active energy ray curable resin composition containing same
US20180244831A1 (en) * 2015-09-16 2018-08-30 Kj Chemicals Corporation (meth)acrylamide based urethane oligomer and active energy ray curable resin composition containing same
US10889729B2 (en) 2015-12-25 2021-01-12 Nippon Polytech Corp. Curable composition, cured object, overcoat film, coated flexible wiring board, and process for producing same
JPWO2017110326A1 (en) * 2015-12-25 2018-10-11 昭和電工株式会社 Curable composition, cured product, overcoat film, coated flexible wiring board and method for producing the same
JPWO2017110591A1 (en) * 2015-12-25 2018-10-11 昭和電工株式会社 Novel polyurethane, curable composition, overcoat film, flexible wiring board and method for producing the same
CN108368336A (en) * 2015-12-25 2018-08-03 昭和电工株式会社 Solidification compound, solidfied material, outer film, covering flexible wiring sheet and its manufacturing method
WO2017110591A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 昭和電工株式会社 Novel polyurethane, curable composition, overcoat film, and flexible wiring board and production method therefor
US11044807B2 (en) 2015-12-25 2021-06-22 Nippon Polytech Corp. Polyurethane, curable composition, overcoat film, and flexible wiring board and production method therefor
WO2017110326A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 昭和電工株式会社 Curable composition, cured object, overcoat film, coated flexible wiring board, and process for producing same
CN108368336B (en) * 2015-12-25 2021-09-10 日保丽公司 Curable composition, cured product, overcoat film, covered flexible wiring board, and method for producing same
JP2017122169A (en) * 2016-01-06 2017-07-13 東ソー株式会社 Ultraviolet absorber resistant polyurethane urea resin composition, and molded body and coating material using the composition
WO2018198921A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 Dic株式会社 Composition, cured product, and method for producing cured product
US11339288B2 (en) 2017-11-10 2022-05-24 Lg Chem, Ltd. Photocurable composition and coating layer including cured product thereof
CN116954022A (en) * 2023-07-31 2023-10-27 广东诚展科技股份有限公司 Chip carrier plate photosensitive solder resist dry film and forming method thereof
CN116954022B (en) * 2023-07-31 2024-02-06 广东诚展科技股份有限公司 Chip carrier plate photosensitive solder resist dry film and forming method thereof

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