JP2008044237A - Mold release agent, method of forming irregular pattern and manufacturing process of optical information storage medium using same, and optical information storage medium - Google Patents

Mold release agent, method of forming irregular pattern and manufacturing process of optical information storage medium using same, and optical information storage medium Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for easily manufacturing an optical information storage medium on which a fine irregular signal surface such as that formed by pits on a stamper is precisely transferred. <P>SOLUTION: The manufacturing process of an optical information storage medium comprises a process where photo-curable transfer layer 11 composed of a photo-curable transfer sheet is placed on reflection layer 23a of the substrate having recording pits and/or fine irregularities as a group on the surface and the reflection layer 23a along the fine irregularities on the fine irregular surface and pressed, a step where a stamper 24 with its fine irregular surface treated with a mold release agent containing phosphor atom-containing compound is placed on the other surface of the photo-curable transfer layer 11 in a way that the fine irregular surface is contact with the surface of the transfer layer and pressed and a step where the photo-curable transfer layer having the stamper is cured by the irradiation with ultraviolet lights and the stamper is removed to form the fine irregularities on the photo-curable transfer layer. The mold release agent used in the process is also presented. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の製造、特にDVD(Digital Versatile Disc)等の大容量の文字、音声、動画像等の情報をディジタル信号として記録された及び/又は記録可能な光情報記録媒体の製造において使用される微細凹凸パターンを有するスタンパ(金型)に有利に使用することができる離型剤、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法及び光情報記録媒体の製造方法、並びに光情報記録媒体に関する。   The present invention manufactures recording media, semiconductors, semiconductor high-density packages, etc., and records and / or records digital information such as large-capacity characters such as DVDs (Digital Versatile Discs), voices, and moving images. Mold release agent that can be advantageously used in a stamper (die) having a fine concavo-convex pattern used in the manufacture of a simple optical information recording medium, a method for forming a concavo-convex pattern using the same, and the manufacture of an optical information recording medium The present invention relates to a method and an optical information recording medium.

ディジタル信号として表面にピット形成された記録済み光情報記録媒体(光ディスク)として、オーディオ用CD、CD−ROMが以前から広く使用されているが、最近では、動画像と記録も可能な両面にピット記録がなされたDVDが、CDの次世代記録媒体として使用され、その使用量も拡大している。またピット及びグルーブが形成されたユーザが記録可能なCD−R、CD−RW、DVD−R、DVD−RW等も広く使用されている。   Audio CDs and CD-ROMs have been widely used as recorded optical information recording media (optical discs) with pits formed on the surface as digital signals. Recently, however, pits are provided on both sides where both moving images and recording are possible. Recorded DVDs are used as next-generation recording media for CDs, and the amount of use is expanding. Also, CD-R, CD-RW, DVD-R, DVD-RW, etc., which can be recorded by a user in which pits and grooves are formed, are widely used.

さらに高密度記録が可能な光ディスクとして、2002年2月10日に次世代光ディスクの統一規格「ブルーレイ・ディスク(Blu-ray Disc)」が提案されている。主な仕様は、記録容量:23.3/25/27GB、レーザ波長:405nm(青紫色レーザ)、レンズ開口数(N/A):0.85、ディスク直径:120mm、ディスク厚:1.2mm、トラックピッチ:0.32μm、最短ピット長:0.16/0.149/0.138μm等である。   As an optical disc capable of higher density recording, a unified standard “Blu-ray Disc” of the next generation optical disc has been proposed on February 10, 2002. The main specifications are recording capacity: 23.3 / 25/27 GB, laser wavelength: 405 nm (blue-violet laser), lens numerical aperture (N / A): 0.85, disc diameter: 120 mm, disc thickness: 1.2 mm Track pitch: 0.32 μm, shortest pit length: 0.16 / 0.149 / 0.138 μm, etc.

上記仕様を有する高密度の光情報記録媒体も既に実用化されているが、このようにブルーレイ・ディスクでは、上記のように溝の幅が狭く、且つピットも小さくなっている。このため読み取りレーザのスポットを小さく絞る必要があるが、スポットを小さくするとディスクの傾きによる影響を大きく受けるようになり、再生しようとする媒体がわずかに曲がっていても再生できなくなる。   Although a high-density optical information recording medium having the above specifications has already been put into practical use, the Blu-ray disc has a narrow groove width and small pits as described above. For this reason, it is necessary to narrow down the spot of the reading laser. However, if the spot is made smaller, it will be greatly affected by the tilt of the disc, and even if the medium to be reproduced is slightly bent, it cannot be reproduced.

しかしながら、このようなブルーレイ・ディスク、高密度のDVD等の光情報記録媒体は、薄い基板が用いられているため得られる媒体が変形しやすく、その製造には媒体の反りや、厚みムラが問題となる。特に、従来のCD等の作製に使用されていた紫外線硬化性樹脂を用いてブルーレイ・ディスクを製造した場合、媒体の変形は顕著である。   However, optical information recording media such as Blu-ray discs and high-density DVDs are easily deformed due to the use of a thin substrate. It becomes. In particular, when a Blu-ray disc is manufactured using an ultraviolet curable resin that has been used for manufacturing a conventional CD or the like, the deformation of the medium is significant.

このような光情報記録媒体の製造に有利な方法が、特許文献1(特開2003−115130号公報)に開示されている。ここには、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートを用いた製造方法が記載されている。さらに、特許文献2(特開2003−123332号公報)にも、上記と同様に、硬化前の貯蔵弾性率が10〜10Paの硬化性基を有するアクリル酸エステルの共重合体のスタンパ受容層を備えた光ディスク製造用シート(光硬化性転写シート)が開示されており、その光ディスク製造では、スタンパで受容層上に微細凹凸を形成し、金属蒸着して反射層を形成した後、反射層に保護層を設ける際、感圧接着剤が使用されている。 A method advantageous for manufacturing such an optical information recording medium is disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-115130). Here, a production method using a photocurable transfer sheet made of a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and deformable by pressurization is described. Further, in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-123332), as described above, a copolymer stamper of an acrylate ester having a curable group having a storage elastic modulus before curing of 10 3 to 10 6 Pa is used. An optical disc manufacturing sheet (photo-curable transfer sheet) provided with a receiving layer is disclosed. In the optical disc manufacturing, after forming fine irregularities on the receiving layer with a stamper and forming a reflective layer by metal deposition, When providing a protective layer on the reflective layer, a pressure sensitive adhesive is used.

従来のCD等の作製に使用されていた紫外線硬化性樹脂の代わりに、上記のように、固体状の上記光硬化性転写シートを用いて、スタンパに押圧することにより微細凹凸面を転写して、反りや、厚みムラ少ない光情報記録媒体を得ることができる。   Instead of the ultraviolet curable resin that was used for the production of conventional CDs, etc., as described above, the solid concavo-convex surface was transferred by pressing against the stamper using the solid photocurable transfer sheet. Thus, an optical information recording medium with less warping and uneven thickness can be obtained.

特開2003−115130号公報JP 2003-115130 A 特開2003−123332号公報JP 2003-123332 A

しかしながら、本発明者等の検討によると、光硬化性転写シートを用いた場合、媒体の反りや、厚みムラが改善されるが、光硬化性転写シートにスタンパを押圧、光硬化した後にスタンパを剥離した際、スタンパに光硬化性転写シートの光硬化した転写層の一部が反射層から剥がれてスタンパに付着する場合があることが明らかとなった。このような転写層の剥離が発生すると、記録面である硬化転写層の表面の微細凹凸部分が損傷し、レーザ光による正確な信号の読み取りが不可能となる。このような転写層の剥離の主な原因は、光硬化転写層とスタンパとの接着性が大きすぎること、及び転写層と反射層との接着性が充分でないための両方或いはいずれかであると考えられる。   However, according to the study by the present inventors, when the photocurable transfer sheet is used, the warp of the medium and the thickness unevenness are improved, but the stamper is pressed after the photocurable transfer sheet is pressed and photocured. When peeled, it became clear that a part of the photocured transfer layer of the photocurable transfer sheet was peeled off from the reflective layer and adhered to the stamper. When such peeling of the transfer layer occurs, the fine irregularities on the surface of the cured transfer layer, which is the recording surface, are damaged, and accurate signal reading by laser light becomes impossible. The main cause of such peeling of the transfer layer is that the adhesiveness between the photo-curing transfer layer and the stamper is too high and / or the adhesiveness between the transfer layer and the reflective layer is not sufficient. Conceivable.

またこのような問題は、上記の製造方法を包含する、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に使用されるナノインプリントプロセス法においても同様な問題がある。この方法としては、例えば、1)熱可塑性樹脂にスタンパの押しつけてガラス転移温度以上に加熱し、微細凹凸パターンを転写する方法、2)熱硬化性樹脂にスタンパの押しつけながら硬化温度まで加熱し、微細凹凸パターンを転写する方法、3)光硬化性樹脂にスタンパの押しつけ、光照射により硬化させ微細凹凸パターンを転写する方法を挙げることができる。これらの方法におけるスタンパの除去も、前記光硬化転写層からのスタンパの除去と同様の問題がある。   Such a problem also has the same problem in a nanoimprint process method used for manufacturing a recording medium, a semiconductor, a semiconductor high-density package, and the like, including the manufacturing method described above. As this method, for example, 1) a stamper is pressed against a thermoplastic resin and heated to a temperature higher than the glass transition temperature to transfer a fine uneven pattern, and 2) is heated to a curing temperature while the stamper is pressed against the thermosetting resin. Examples thereof include a method for transferring a fine concavo-convex pattern, and 3) a method for transferring a fine concavo-convex pattern by pressing a stamper on a photocurable resin and curing it by light irradiation. The removal of the stamper in these methods has the same problem as the removal of the stamper from the photo-curing transfer layer.

従って、本発明は、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に有用なナノインプリントプロセス法において、この方法で使用される微細凹凸パターンを有するスタンパの成形後の除去(剥離)を容易にする離型剤を提供することをその目的とする。   Therefore, the present invention facilitates removal (peeling) after molding of a stamper having a fine concavo-convex pattern used in a nanoimprint process method useful for production of a recording medium, a semiconductor, a semiconductor high-density package, and the like. The object is to provide a release agent.

また、本発明は、光硬化性転写シートを用いる光情報記録媒体の製造において、この製造で使用される微細凹凸パターンを有するスタンパの成形後の除去(剥離)を容易にする離型剤を提供することをその目的とする。   The present invention also provides a release agent that facilitates removal (peeling) after molding of a stamper having a fine concavo-convex pattern used in the production of an optical information recording medium using a photocurable transfer sheet. The purpose is to do.

さらに、本発明は、使用されるスタンパの微細凹凸パターンを、対応する精確な形状で転写することができるの凹凸パターンの形成方法を提供することをその目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a method for forming a concavo-convex pattern that can transfer a fine concavo-convex pattern of a stamper used in a corresponding precise shape.

また、本発明は、使用されるスタンパの微細凹凸パターンを、対応する精確な形状で上記ピット等の微細凹凸信号面として転写された光情報記録媒体を容易に製造することができる光情報記録媒体の製造方法を提供することをその目的とする。   Further, the present invention provides an optical information recording medium that can easily manufacture an optical information recording medium in which a fine uneven pattern of a stamper used is transferred as a fine uneven signal surface such as the pit in a corresponding accurate shape. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method.

さらにまた、上記ピット等の凹凸信号面がスタンパに対応した精確な形状で形成された、読み取りエラーのほとんど無い光情報記録媒体を提供することをその目的とする。   It is another object of the present invention to provide an optical information recording medium in which the uneven signal surface such as the pit is formed in an accurate shape corresponding to a stamper and has almost no reading error.

上記目的は、リン原子含有化合物を含むことを特徴とする離型剤によって達成することができる。   The above object can be achieved by a mold release agent containing a phosphorus atom-containing compound.

上記本発明の離型剤の好適態様は以下の通りである。   Preferred embodiments of the release agent of the present invention are as follows.

1)リン原子含有化合物が、少なくとも1個のリン酸基を有するリン酸エステル系化合物である。例えば、リン酸アルキルエステル化合物、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物等のリン酸エステル系化合物である。   1) The phosphorus atom-containing compound is a phosphate ester compound having at least one phosphate group. For example, phosphate ester compounds such as alkyl phosphate ester compounds and alkyl polyoxyalkylene phosphate compounds.

2)少なくとも1個のリン酸基を有するリン酸エステル系化合物におけるリン酸基1個当たりのアルコール残基の分子量が、50〜1000の範囲にある。一般に、アルコール残基の分子量は、リン酸基のOH基(即ち3個のOH基の1個以上)のHと置換した炭化水素基の合計の分子量に当たる。   2) The molecular weight of the alcohol residue per phosphate group in the phosphate ester compound having at least one phosphate group is in the range of 50 to 1000. In general, the molecular weight of the alcohol residue corresponds to the total molecular weight of the hydrocarbon group substituted with H in the OH group of the phosphate group (ie, one or more of the three OH groups).

3)リン原子含有化合物が、下記の一般式(I):   3) The phosphorus atom-containing compound is represented by the following general formula (I):

Figure 2008044237
Figure 2008044237

[但し、R、R及びRが、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、そしてR、R及びRの少なくとも1個が、 [However, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group, an alkylpolyoxyalkylene group or an arylpolyoxyalkylene group, Each may have a substituent, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 may be

Figure 2008044237
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{但し、Rが、アルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基、アリールアルキレン基、アルキレンポリオキシアルキレン基又はアリーレンポリオキシアルキレン基を表し、そしてR及びRが、上記R、R及びRと同義である}であって良く、且つ
、R及びRの少なくとも1個は水素原子以外の基を表す。]
で表されるリン酸エステル系化合物である。
{Provided that R 4 represents an alkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, an arylalkylene group, an alkylene polyoxyalkylene group or an arylene polyoxyalkylene group, and R 5 and R 6 represent the above R 1 , R 2 and It is synonymous with R 3 }, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a group other than a hydrogen atom. ]
It is a phosphate ester type compound represented by these.

上記一般式(I)において、R、R及びRが、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、且つR、R及びRの少なくとも1個は水素原子以外の基を表すことが好ましい。 In the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl polyoxyalkylene group or an aryl polyoxyalkylene group, and R 1 , R 2 and R 3 It is preferable that at least one of represents a group other than a hydrogen atom.

4)リン原子含有化合物が、下記の一般式(II):   4) The phosphorus atom-containing compound has the following general formula (II):

Figure 2008044237
Figure 2008044237

[但し、Rが、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
が、−CHCH−又は−CH(CH)CH−を表し、そして
nが1〜20を表す。]
で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である。
[However, R 7 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, each of which may have a substituent,
R 8 represents —CH 2 CH 2 — or —CH (CH 3 ) CH 2 —, and n represents 1 to 20. ]
It is an alkyl phosphate polyoxyalkylene compound represented by these.

5)さらに有機溶剤を含む。所望により他の離型剤(例、シリコーン等)を含んでも良い。一般に溶剤型であるが、オイル型、エマルジョン型、エアゾール型、コンパウンド型でもよい。   5) Further contains an organic solvent. Other release agents (eg, silicone, etc.) may be included as desired. Generally, it is a solvent type, but may be an oil type, an emulsion type, an aerosol type, or a compound type.

6)リン原子含有化合物を、0.1〜10質量%(特に、0.1〜5質量%)含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の離型剤。   6) The mold release agent according to any one of claims 1 to 6, comprising 0.1 to 10% by mass (particularly 0.1 to 5% by mass) of the phosphorus atom-containing compound.

7)ナノインプリントプロセス法に使用されるスタンパ用離型剤である。   7) A release agent for stampers used in the nanoimprint process method.

8)光情報記録媒体の記録情報の微細凹凸面を形成するためのスタンパ用離型剤である。   8) A stamper release agent for forming fine uneven surfaces of recorded information on an optical information recording medium.

また、本発明は、
表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、請求項1〜7のいずれか1項に記載の離型剤で処理する工程、
離型剤が処理されたスタンパを、加圧により変形可能な硬化性樹脂層に、該スタンパの微細凹凸パターン表面が該樹脂層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該樹脂層の表面が該パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程;及び
該スタンパを有する積層体の樹脂層を硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、該層の表面に微細凹凸パターンを設ける工程;
を含む凹凸パターンの形成方法、にもある。
The present invention also provides:
A step of treating the surface of the stamper having a fine uneven pattern on the surface with the release agent according to any one of claims 1 to 7,
The stamper treated with the release agent is placed on a curable resin layer that can be deformed by pressurization so that the surface of the fine uneven pattern of the stamper is in contact with the surface of the resin layer. A step of forming a laminate in which the surface of the resin layer adheres along the surface of the pattern; and curing the resin layer of the laminate having the stamper, and then removing the stamper to thereby form a fine uneven pattern on the surface of the layer. Providing a step;
There is also a method of forming a concavo-convex pattern including:

上記離型剤の処理が、離型剤の塗布であることが好ましい。また硬化は、加熱又は光(UV)照射により行われる。下記の光情報記録媒体の製造方法の好適態様も、本方法に適宜適用することができる。   The treatment with the release agent is preferably application of a release agent. Curing is performed by heating or light (UV) irradiation. The following preferred embodiments of the method for producing an optical information recording medium can also be appropriately applied to this method.

さらに、本発明は、
下記の工程(1)〜(4):
(1)加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層及び光硬化性転写層の一方又は両方の表面に設けられた剥離シートを含む光硬化性転写シートから、光硬化性転写シートが両面に剥離シートを有する場合に、その一方の剥離シートを除去する工程;
(2)該光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸表面を有し、さらに該微細凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の微細凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の微細凹凸表面の凹凸に沿って密着された積層体を形成する工程;
(3)該積層体のもう一方の剥離シートを除去し、該除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸表面を有し且つその微細凹凸表面が請求項1〜7のいずれか1項に記載の離型剤で処理されたスタンパを、該微細凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写層の表面が該微細凹凸表面の凹凸に沿って密着した積層体を形成する工程;及び
(4)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程;
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法、にもある。
Furthermore, the present invention provides:
The following steps (1) to (4):
(1) Photocuring from a photocurable transfer sheet comprising a photocurable transfer layer comprising a photocurable composition that can be deformed by pressure and a release sheet provided on one or both surfaces of the photocurable transfer layer. The step of removing one of the release sheets when the adhesive transfer sheet has release sheets on both sides;
(2) The photocurable transfer layer of the photocurable transfer sheet has a fine uneven surface as recording pits and / or grooves on the surface, and a reflective layer is provided along the uneven surface of the fine uneven surface. On the reflective layer of the substrate, the photocurable transfer sheet of the photocurable transfer sheet is placed so that the surface of the photocurable transfer layer is in contact with the fine uneven surface of the reflective layer, and these are pressed to form the photocurable transfer sheet. Forming a laminate in which the surface of the reflective layer is closely adhered along the unevenness of the fine uneven surface of the reflective layer;
(3) The other release sheet of the laminate is removed, and the surface of the removed photocurable transfer layer has a fine uneven surface as recording pits and / or grooves, and the fine uneven surface is claimed. The stamper treated with the release agent according to any one of Items 1 to 7 is placed so that the fine uneven surface is in contact with the surface of the transfer layer, and the photocurable transfer is performed by pressing them. A step of forming a laminate in which the surface of the layer adheres along the irregularities of the fine irregular surface; and (4) the photocurable transfer layer of the laminate having the stamper is cured by ultraviolet irradiation, and then the stamper is removed. A step of providing fine irregularities on the surface of the photocurable transfer layer;
There is also a method for manufacturing an optical information recording medium characterized by including:

上記本発明の光情報記録媒体の製造方法の好適態様は以下の通りである。   Preferred embodiments of the method for producing the optical information recording medium of the present invention are as follows.

1)離型剤の処理が、離型剤の塗布である。   1) The treatment of the release agent is application of the release agent.

2)反射層が、銀又は銀合金の層である。銀又は銀合金の層に対して、離型剤がほとんど腐食することが無く、好ましい。   2) The reflective layer is a silver or silver alloy layer. The release agent hardly corrodes the silver or silver alloy layer, which is preferable.

3)前記工程(1)の前に、
(A)光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程
を行う。この場合、光硬化性転写シートは、一般に長尺状シートである。
3) Before the step (1),
(A) A step of punching the photocurable transfer sheet into a disk shape is performed. In this case, the photocurable transfer sheet is generally a long sheet.

4)前記工程(4)を行った後、さらに
(5)該積層体のもう一方の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸を有し且つ微細凹凸表面が前記離型剤で処理されたスタンパを該微細凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写層の表面が該微細凹凸表面の凹凸に沿って密着した積層体を形成する工程;
(6)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程;
を行う。
4) After performing step (4), (5) the surface of the photocurable transfer layer from which the other release sheet of the laminate has been removed has fine irregularities as recording pits and / or grooves. In addition, a stamper having a fine uneven surface treated with the release agent is placed so that the fine uneven surface is in contact with the surface of the transfer layer, and the stamper is pressed to make the surface of the photocurable transfer layer fine. Forming a laminated body in close contact with the uneven surface of the uneven surface;
(6) A step of providing fine irregularities on the surface of the photocurable transfer layer by curing the photocurable transfer layer of the laminate having the stamper by ultraviolet irradiation and then removing the stamper;
I do.

5)スタンパが、ニッケル製である。ニッケル製スタンパに対して、離型剤の離型効果が特に大きい。   5) The stamper is made of nickel. The release effect of the release agent is particularly great for nickel stampers.

6)前記(4)及び/又は(6)の紫外線照射を少なくとも300mJ/cmの照射エネルギーで行う。短時間での硬化が可能である。 6) The ultraviolet irradiation of (4) and / or (6) is performed with an irradiation energy of at least 300 mJ / cm 2 . Curing in a short time is possible.

7)前記(4)及び/又は(6)で得られる硬化した光硬化性転写層のガラス転移温度が65℃以上である。   7) The glass transition temperature of the cured photocurable transfer layer obtained in (4) and / or (6) is 65 ° C. or higher.

8)前記(5)〜(6)の工程を行った後、さらに
(7)光硬化性転写層の微細凹凸表面に反射層を設ける工程;
を行う。
8) After performing the steps (5) to (6), (7) a step of providing a reflective layer on the fine uneven surface of the photocurable transfer layer;
I do.

9)光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む。組成物のTg、弾性率等の物性を適宜変更することが容易で、ピット等の転写性等の向上を図れる。   9) The photocurable composition includes a polymer and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group. It is easy to appropriately change physical properties such as Tg and elastic modulus of the composition, and transfer properties such as pits can be improved.

10)ポリマーのガラス転移温度が80℃以上である。   10) The glass transition temperature of the polymer is 80 ° C. or higher.

11)光硬化性転写層の300mJ/cmの紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上である。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが可能で、転写されたピット形状等を保持することができる。 11) The glass transition temperature of the photocurable transfer layer after irradiation with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 is 65 ° C. or higher. By short-time ultraviolet irradiation, it is possible to prevent the occurrence of sagging such as a pit shape that is likely to occur due to residual stress during transfer, and the transferred pit shape can be maintained.

12)光硬化性組成物(一般に光硬化性転写層)のガラス転移温度が20℃未満である。優れた転写性を得ることができやすい。   12) The glass transition temperature of the photocurable composition (generally a photocurable transfer layer) is less than 20 ° C. It is easy to obtain excellent transferability.

13)ポリマーが、アクリル樹脂である。   13) The polymer is an acrylic resin.

14)上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%含むアクリル樹脂である。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。   14) The acrylic resin is an acrylic resin containing at least 50% by mass of repeating units of methyl methacrylate. Appropriate combination with a reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability.

15)上記アクリル樹脂が、重合性官能基を有するアクリル樹脂である。   15) The acrylic resin is an acrylic resin having a polymerizable functional group.

上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸を反応させて得られたものであることが好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。   The acrylic resin is a copolymer of methyl methacrylate, at least one kind of (meth) acrylic acid ester having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms and glycidyl (meth) acrylate, and the glycidyl It is preferably obtained by reacting a carboxylic acid having a polymerizable functional group with the group. Appropriate combination with a reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability.

また上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル(メタ)アクリレートを反応させて得られたものであることが好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。   The acrylic resin is a copolymer of methyl methacrylate, at least one kind of alkyl (meth) acrylic acid ester having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms, and a carboxylic acid having a polymerizable functional group. The carboxylic acid group is preferably obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate. Appropriate combination with a reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability.

16)アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である。
上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、アルコール残基がヒドロキシルキを有する炭素原子数2〜4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種との共重合体であることが好ましい。メチルメタクリレートを50質量%以上有することが特に好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
16) The acrylic resin is an acrylic resin having a hydroxyl group.
The acrylic resin having a hydroxyl group is methyl methacrylate, at least one kind of alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 carbon atoms, and the number of carbon atoms having an alcohol residue having hydroxyl group. It is preferably a copolymer with at least one of 2 to 4 alkyl (meth) acrylic acid esters. It is particularly preferable to have 50% by mass or more of methyl methacrylate. Appropriate combination with a reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability.

17)さらにポリイソシアネート(ジイソシアネートが好ましい)を含む。光硬化前の後架橋が可能となり、転写前のフィルムの形状保持性が向上する。   17) Further, polyisocyanate (preferably diisocyanate) is included. Post-crosslinking before photocuring is possible, and the shape retention of the film before transfer is improved.

18)ガラス転移温度が80℃以上のポリマーの数平均分子量が100000以上、及び/又は重量平均分子量が100000以上である。特に数平均分子量が100000〜300000、重量平均分子量が100000〜300000であることが好ましい。この分子量、アクリル樹脂の組成、及び反応性希釈剤の割合を、後述するように好適にすることにより特に優れた転写性と高い硬化速度を得ることができる。上記数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いてGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ)により測定する。   18) The number average molecular weight of a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher is 100,000 or more and / or the weight average molecular weight is 100,000 or more. In particular, the number average molecular weight is preferably 100,000 to 300,000 and the weight average molecular weight is preferably 100,000 to 300,000. By making the molecular weight, the composition of the acrylic resin, and the ratio of the reactive diluent suitable as described later, particularly excellent transferability and high curing rate can be obtained. The number average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography) using a polystyrene standard.

19)光硬化性組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含む。   19) A photocurable composition contains 0.1-10 mass% of photoinitiators.

20)380〜420nmの波長領域の光透過率が70%以上である。特に380〜800nmの波長領域の光透過率が70%以上であることが好ましい。   20) The light transmittance in the wavelength region of 380 to 420 nm is 70% or more. In particular, the light transmittance in the wavelength region of 380 to 800 nm is preferably 70% or more.

21)光硬化性転写層の厚さが5〜300μmである。   21) The photocurable transfer layer has a thickness of 5 to 300 μm.

22)光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である。   22) The photocurable transfer sheet has a long shape, and the photocurable transfer layer and the release sheet have substantially the same width.

23)上記工程(1)における、光硬化性転写シートが両面に剥離シートを有する場合に除去される一方の剥離シート(第1剥離シート)が、プラスチックフィルムと、その上に設けられた、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる。ヒドロキシル基を有するポリシロキサンが、ジメチルポリシロキサンであることが好ましい。   23) In the above step (1), one release sheet (first release sheet) to be removed when the photocurable transfer sheet has release sheets on both sides is a plastic film and light provided thereon A release layer in contact with the curable transfer layer, and this release layer comprises a condensation reaction product of a polysiloxane having a hydroxyl group and a hydrogenated polysiloxane. The polysiloxane having a hydroxyl group is preferably dimethylpolysiloxane.

24)上記工程(5)において除去される、もう一方の剥離シート(第2剥離シート)が、プラスチックフィルムと、その上にも受けられた、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から、或いはこれらの樹脂とシランカップリング剤とから形成されている。或いは、第2剥離シートの剥離層が、不飽和2重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物(不飽和2重結合基を有するポリシロキサンがジメチルポリシロキサンであることが好ましい)からなる。また第2剥離シートは、剥離層を有していなくても良い。
上記第1及び第2剥離シートのプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
24) The other release sheet (second release sheet) to be removed in the step (5) includes a plastic film and a release layer that is also received thereon and is in contact with the photocurable transfer layer, This release layer is formed from a thermoplastic resin or thermosetting resin containing no silicon atom, or from these resins and a silane coupling agent. Alternatively, the release layer of the second release sheet is an addition reaction product of a polysiloxane having an unsaturated double bond group and a hydrogenated polysiloxane (the polysiloxane having an unsaturated double bond group is dimethylpolysiloxane). Is preferable). Moreover, the 2nd peeling sheet does not need to have a peeling layer.
The plastic film of the first and second release sheets is preferably a polyethylene terephthalate film.

さらに本発明は、上記の製造方法により得られる光情報記録媒体にもある。   Furthermore, the present invention also resides in an optical information recording medium obtained by the above manufacturing method.

さらにまた、本発明は、下記の光情報記録媒体にもある:
即ち、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての微細凹凸を有し、さらにその微細凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、その微細凹凸に沿って加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化層が設けられ、硬化層の表面に前記リン原子含有化合物が付着していることを特徴とする光情報記録媒体;
表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての微細凹凸を有し、さらにその微細凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての微細凹凸を有し、さらにその微細凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の微細凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その微細凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化層で、硬化層の表面に前記リン原子含有化合物が付着していることを特徴とする光情報記録媒体;及び
表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての微細凹凸を有し、さらにその微細凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび/又はグルーブとしての微細凹凸を有し、さらにその微細凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の微細凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その微細凹凸に沿って設けられ、さらに微細凹凸表面及び反射層を有する1層以上の別の中間樹脂層が、中間樹脂層の微細凹凸を持たない表面をすでに設けられた中間樹脂層の反射層に対向させて、すでに設けられた中間樹脂層の反射層上に、その微細凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、中間樹脂層が、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化層で、硬化層の表面に前記リン原子含有化合物が付着していることを特徴とする光情報記録媒体。
Furthermore, the present invention is also in the following optical information recording medium:
That is, pressurization along the fine irregularities on the reflective layer of the optical information recording substrate having fine irregularities as recording pits and / or grooves on the surface and further having a reflective layer formed on the surface of the fine irregularities. An optical information recording medium, wherein a cured layer of a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by the above is provided, and the phosphorus atom-containing compound is attached to the surface of the cured layer;
On the surface of the optical information recording substrate having fine irregularities as recording pits and / or grooves on the surface, and further having a reflective layer formed on the surface of the fine irregularities, recording pits and / or grooves on the surface The intermediate resin layer having fine irregularities and further having a reflective layer formed on the surface of the fine irregularities makes the surface of the intermediate resin layer not having the fine irregularities face the reflective layer on the substrate surface, thereby reflecting the substrate surface. An optical information recording medium provided on the layer along the fine irregularities,
Optical information, wherein the intermediate resin layer is a cured layer of a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure, and the phosphorus atom-containing compound adheres to the surface of the cured layer A recording medium; and a recording pit and / or a recording pit and / or a groove on the surface of the optical information recording substrate having fine concavo-convex as recording pits and / or grooves and a reflective layer formed on the surface of the fine concavo-convex Alternatively, the intermediate resin layer having a fine unevenness as a groove and having a reflective layer formed on the surface of the fine unevenness, the surface of the intermediate resin layer not having the fine unevenness facing the reflective layer on the substrate surface, On the reflective layer of the substrate surface, provided along the fine irregularities, and one or more other intermediate resin layers having a fine irregular surface and a reflective layer are already provided with a surface having no fine irregularities of the intermediate resin layer Was An optical information recording medium provided along the fine irregularities on the reflective layer of the intermediate resin layer that has been provided, facing the reflective layer of the intermediate resin layer,
The intermediate resin layer is a cured layer of a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure, and the phosphorus atom-containing compound is attached to the surface of the cured layer. A characteristic optical information recording medium.

変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層、及びリン原子含有化合物は、前述の好ましい態様を適用することができる。   The above-described preferred embodiments can be applied to the photocurable transfer layer comprising a deformable photocurable composition and the phosphorus atom-containing compound.

本発明の離型剤は、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に有用なナノインプリントプロセス法において使用される微細凹凸パターンを有するスタンパの成形後の剥離を容易にする。特に、光情報記録媒体の製造において、加圧により変形可能な光硬化性転写シートに微細凹凸パターンを有するスタンパを圧着、光硬化後スタンパを除去する際、スタンパの微細凹凸パターン表面を本発明の離型剤で処理することにより、スタンパの除去をきわめて容易にすることができ、かつ、その硬化層がスタンパ側に移ることもない。すなわち、硬化した転写層の一部が、転写層が設けられた銀合金等の反射層から剥がれることがなく、またスタンパに付着することもなく、硬化層の表面の微細凹凸がスタンパの対応する形状を精確に転写した通りに、反射層上に残されている。このため、このようにして得られる光情報記録媒体は、レーザ光による信号の読み取りを行った場合、読み取りエラーの発生がほとんど無いものである。   The release agent of the present invention facilitates peeling after molding of a stamper having a fine concavo-convex pattern used in a nanoimprint process method useful for production of a recording medium, a semiconductor, a semiconductor high-density package or the like. In particular, in the production of an optical information recording medium, when a stamper having a fine concavo-convex pattern is pressure-bonded to a photocurable transfer sheet that can be deformed by pressurization and the stamper is removed after photocuring, the surface of the fine concavo-convex pattern of the stamper is used. By treating with a mold release agent, the removal of the stamper can be made very easy, and the hardened layer does not move to the stamper side. That is, a part of the cured transfer layer does not peel off from the reflective layer such as a silver alloy provided with the transfer layer, and does not adhere to the stamper, and the fine irregularities on the surface of the cured layer correspond to the stamper. As the shape is accurately transferred, it remains on the reflective layer. For this reason, the optical information recording medium obtained in this way has almost no occurrence of a reading error when a signal is read with a laser beam.

従って、本発明の離型剤を用いることにより、高速に、精度の高い光情報記録媒体を製造することができる。   Therefore, by using the release agent of the present invention, an optical information recording medium with high accuracy can be produced at high speed.

本発明の離型剤は、前述のように、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に有用なナノインプリントプロセス法、特に光情報記録媒体の製造において使用される微細凹凸パターンを有するスタンパの剥離を容易にするものである。   As described above, the mold release agent of the present invention is a nanoimprint process method useful for producing a recording medium, a semiconductor, a semiconductor high-density package, etc., particularly a stamper having a fine concavo-convex pattern used in the production of an optical information recording medium. It facilitates peeling.

本発明の特徴的要件は、離型剤はリン原子含有化合物を含んでいることである。本発明の離型剤は、一般にリン原子含有化合物を有機溶剤に溶解した溶剤型であるが、オイル型、エマルジョン型、エアゾール型、コンパウンド型でもよい。所望により他の離型剤成分を含んでも良い。他の離型剤成分として、高融点ワックス類、高級脂肪酸及びその塩若しくはエステル類、シリコーン、シリコーン油、フッ素樹脂、低分子量ポリエチレン、植物性タンパク質誘導体、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。   A characteristic requirement of the present invention is that the release agent contains a phosphorus atom-containing compound. The release agent of the present invention is generally a solvent type in which a phosphorus atom-containing compound is dissolved in an organic solvent, but may be an oil type, an emulsion type, an aerosol type, or a compound type. Other release agent components may be included as desired. Examples of other release agent components include high melting point waxes, higher fatty acids and salts or esters thereof, silicone, silicone oil, fluororesin, low molecular weight polyethylene, vegetable protein derivatives, polyvinyl alcohol, and the like.

本発明のリン原子含有化合物としては、スタンパの(微細凹凸)表面にこの化合物を付着させ、転写層等の樹脂層と圧着後、或いは圧着、硬化後に、スタンパを樹脂層から容易に除去し得る機能を有するものであれば、どのようなリン原子含有化合物でも使用することができる。例えば、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物及びリン酸アルキルエステル化合物等のリン酸アルキルエステル系化合物、リン酸塩及びリン酸アミド等を挙げることができる。   As the phosphorus atom-containing compound of the present invention, the stamper can be easily removed from the resin layer after the compound is adhered to the (fine unevenness) surface of the stamper and after pressure bonding with the resin layer such as the transfer layer or after pressure bonding and curing. Any phosphorus atom-containing compound can be used as long as it has a function. For example, phosphoric acid alkyl ester compounds such as alkyl phosphate polyoxyalkylene compounds and phosphoric acid alkyl ester compounds, phosphates, and phosphoric acid amides can be used.

リン酸アルキルエステル化合物としては、例えば、リン酸トリアルキルエステル(例、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート)、リン酸トリアリールエステル(例、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート)等を挙げることができる。リン酸塩としては、例えば、リン酸のナトリウム塩(例、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム)を挙げることができる。またリン酸アミドとしては、例えば、トリス(エチレンイミノ)リン酸アミド、トリス(メチルエチレンイミノ)リン酸アミド、ヘキサメチルリン酸アミド等を挙げることができる。さらにリン脂質界面活性剤(例えばレシチン)、リンの塩素化合物(例、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン)等を挙げることができる。   Examples of phosphoric acid alkyl ester compounds include phosphoric acid trialkyl esters (eg, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, trischloroethyl phosphate), phosphoric acid triaryl esters (eg, tricresyl phosphate, tolyl phosphate), etc. Can be mentioned. Examples of the phosphate include sodium salt of phosphoric acid (eg, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium phosphate, tetrasodium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, sodium tripolyphosphate). . Examples of phosphoric acid amides include tris (ethyleneimino) phosphoric acid amide, tris (methylethyleneimino) phosphoric acid amide, and hexamethylphosphoric acid amide. Furthermore, phospholipid surfactants (for example, lecithin), chlorine compounds of phosphorus (eg, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride) and the like can be mentioned.

本発明のリン原子含有化合物としては、リン酸エステル系化合物、特にリン酸アルキルエステル系化合物、中でもリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物或いはリン酸エステル型陰イオン界面活性剤が好ましい。   The phosphorus atom-containing compound of the present invention is preferably a phosphate ester compound, particularly an alkyl phosphate ester compound, particularly an alkyl phosphate polyoxyalkylene compound or a phosphate ester type anionic surfactant.

本発明では、リン酸エステル系化合物におけるリン酸基1個当たりのアルコール残基の分子量が、50〜1000の範囲、特に100〜300の範囲にあることが好ましい。一般に、アルコール残基(通常炭化水素基)の分子量は、リン酸基のOH基(即ち3個のOH基の1個以上)のHと置換した炭化水素基の合計の分子量に当たる。上記値は、上記範囲を上回ると樹脂層又は転写層へのリン酸エステル系化合物へ多量に移行し、その後の樹脂層又は転写層の接着性を低下させる。また上記範囲より下回ると十分な離型性が得られない。
上記リン酸アルキルエステル系化合物としては、下記の一般式(I):
In the present invention, the molecular weight of the alcohol residue per phosphate group in the phosphate ester compound is preferably in the range of 50 to 1000, particularly in the range of 100 to 300. In general, the molecular weight of an alcohol residue (usually a hydrocarbon group) corresponds to the total molecular weight of the hydrocarbon groups substituted with H in the OH group of the phosphate group (ie, one or more of the three OH groups). If the above value exceeds the above range, a large amount of the phosphoric acid ester compound is transferred to the resin layer or transfer layer, and the adhesiveness of the subsequent resin layer or transfer layer is lowered. Moreover, when it is less than the above range, sufficient releasability cannot be obtained.
Examples of the phosphoric acid alkyl ester compounds include the following general formula (I):

Figure 2008044237
Figure 2008044237

[但し、R、R及びRが、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、そしてR、R及びRの少なくとも1個が、 [However, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group, an alkylpolyoxyalkylene group or an arylpolyoxyalkylene group, Each may have a substituent, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 may be

Figure 2008044237
Figure 2008044237

{但し、Rが、アルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基、アリールアルキレン基、アルキレンポリオキシアルキレン基又はアリーレンポリオキシアルキレン基を表し、そしてR及びRが、上記R、R及びRと同義である}であって良く、且つ
、R及びRの少なくとも1個は水素原子以外の基を表す。]
で表されるリン酸エステル系化合物が好ましい。
{Provided that R 4 represents an alkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, an arylalkylene group, an alkylene polyoxyalkylene group or an arylene polyoxyalkylene group, and R 5 and R 6 represent the above R 1 , R 2 and It is synonymous with R 3 }, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a group other than a hydrogen atom. ]
The phosphate ester type compound represented by these is preferable.

上記一般式(I)のR、R及びRにおいて、アルキル基としては、一般に炭素原子数1〜10のアルキル基であり、アリール基としては一般にフェニル基であり、アルキルアリール基としては一般に炭素原子数1〜3のアルキル基を有するフェニル基であり、アリールアルキル基としては、一般にフェニルアルキル基(アルキル基は炭素原子数1〜3アルキル基)であり、アルキルポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数5〜20のアルキルポリオキシエチレン基又は炭素原子数7〜20のアルキルポリオキシプロピレン基であり、アリールポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数10〜30のアルキルフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数12〜30のアルキルフェニルポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数9〜30のフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数11〜30のフェニルポリオキシプロピレン基である。アルキルポリオキシアルキレン基及びアリールポリオキシアルキレン基が特に好ましい。置換基としては、ハロゲン(特に塩素、臭素)、アルキルアンモニウム塩(特に−N(CH)、ビニル基を挙げることができる。R、R及びRの全てが水素原子以外の基であることが好ましく、R、R及びRの全てが同一であることが特に好ましい。 In R 1 , R 2 and R 3 of the general formula (I), the alkyl group is generally an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the aryl group is generally a phenyl group, and the alkylaryl group is Generally, it is a phenyl group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the arylalkyl group is generally a phenylalkyl group (the alkyl group is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and the alkylpolyoxyalkylene group is In general, it is an alkylpolyoxyethylene group having 5 to 20 carbon atoms or an alkylpolyoxypropylene group having 7 to 20 carbon atoms, and the arylpolyoxyalkylene group is generally an alkylphenylpolyoxy having 10 to 30 carbon atoms. Ethylene group or alkylphenyl polyoxypropylene group having 12 to 30 carbon atoms Or a phenyl polyoxyethylene group having 9 to 30 carbon atoms or a phenyl polyoxypropylene group having 11 to 30 carbon atoms. Alkyl polyoxyalkylene groups and aryl polyoxyalkylene groups are particularly preferred. Examples of the substituent include halogen (particularly chlorine and bromine), alkylammonium salt (particularly —N + (CH 3 ) 3 ), and a vinyl group. It is preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are groups other than hydrogen atoms, and it is particularly preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are the same.

において、アルキレン基としては一般に炭素原子数1〜10のアルキレン基であり、アリーレン基としては一般にフェニレン基であり、アルキルアリーレン基としては一般に炭素原子数1〜3のアルキル基を有するフェニレン基であり、アリールアルキレン基としては、一般にフェニルアルキレン基(アルキレン基は炭素原子数1〜3のアルレン基)であり、アルキレンポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数5〜20のアルキレンポリオキシエチレン基又は炭素原子数7〜20のアルキレンポリオキシプロピレン基であり、アリーレンポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数10〜30のフェニレンポリオキシエチレン基又は炭素原子数12〜30のフェニレンポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数9〜30のフェニレンポリオキシエチレン基又は炭素原子数11〜30のフェニレンポリオキシプロピレン基である。置換基としては、ハロゲン(特に塩素、臭素)、アルキルアンモニウム塩(特に−N(CH)、ビニル基を挙げることができる。 In R 4 , the alkylene group is generally an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, the arylene group is generally a phenylene group, and the alkylarylene group is generally a phenylene group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. The arylalkylene group is generally a phenylalkylene group (the alkylene group is an arylene group having 1 to 3 carbon atoms), and the alkylenepolyoxyalkylene group is generally an alkylenepolyoxyethylene having 5 to 20 carbon atoms. Group or an alkylene polyoxypropylene group having 7 to 20 carbon atoms, and the arylene polyoxyalkylene group is generally a phenylene polyoxyethylene group having 10 to 30 carbon atoms or a phenylene polyoxypropylene group having 12 to 30 carbon atoms. Group or 9 carbon atoms Or a phenylene polyoxyethylene group having from 30 to 30 carbon atoms or a phenylene polyoxypropylene group having from 11 to 30 carbon atoms. Examples of the substituent include halogen (particularly chlorine and bromine), alkylammonium salt (particularly —N + (CH 3 ) 3 ), and a vinyl group.

上記リン酸アルキルエステル系化合物(I)は、特に下記の一般式(II):   The phosphoric acid alkyl ester compound (I) particularly has the following general formula (II):

Figure 2008044237
Figure 2008044237

[但し、Rが、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
が、−CHCH−又は−CH(CH)CH−を表し、そして
nが1〜20を表す。]
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物であることが好ましい。
[However, R 7 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, each of which may have a substituent,
R 8 represents —CH 2 CH 2 — or —CH (CH 3 ) CH 2 —, and n represents 1 to 20. ]
An alkylpolyoxyalkylene phosphate compound is preferred.

において、アルキル基としては炭素原子数1〜20のアルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、セチル)、特に炭素原子数4〜18のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニル基が好ましく、アルキルアリール基としては炭素原子数1〜3のアルキル基を有するフェニル基(特にメチルフェニル)が好ましく、アリールアルキル基としてはフェニルアルキル基(特にアルキル基は炭素原子数1〜3のアルキル基)が好ましい。置換基としては、ハロゲン(特に塩素、臭素)を挙げることができが、有しないことが好ましい。 In R 7 , the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, cetyl), particularly an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms. A phenyl group is preferred, and an alkylaryl group is preferably a phenyl group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (particularly methylphenyl), and an arylalkyl group is preferably a phenylalkyl group (particularly an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). Of the alkyl group). Substituents can include halogens (especially chlorine and bromine), but preferably do not have.

またRは−CHCH−が好ましい。nは、1〜10、特に2〜5が好ましい。 R 8 is preferably —CH 2 CH 2 —. n is preferably 1 to 10, particularly 2 to 5.

上記一般式(II)で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物は、商品名:LTP−2(川研ファインケミカル(株)製)、商品名:N3A及びN10A(クローダジャパン(株)製)が市場で入手可能であり、好ましい。上記N3Aは、式(II)におけるR:オクチル、R:−CHCH−、n:3である化合物、上記N10Aは、式(II)におけるR:オクチル、R:−CHCH−、n:10である化合物である。 The alkylpolyoxyalkylene phosphate compound represented by the above general formula (II) has a product name: LTP-2 (manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.), a product name: N3A and N10A (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.). It is commercially available and is preferred. N3A is a compound in which R 1 is octyl, R 2 is —CH 2 CH 2 —, and n is 3 in formula (II), and N10A is R 1 in formula (II): R 1 : octyl, R 2 is —CH. 2 CH 2 —, n: 10.

リン原子含有化合物は、離型剤の液中に0.1〜10質量%、特に0.1〜5質量%の範囲で含まれていることが好ましい。上限より多い場合は、転写層等の樹脂層に化合物が付着しすぎるため後工程に悪影響を及ぼす(例えば、その後の樹脂層又は転写層の接着性を低下させる)場合があり、下限より少ない場合は、スタンパからの剥離性が十分に良好とは言えない。本発明の離型剤は、リン原子含有化合物を溶剤に溶解させた溶剤型、オイルに溶解させたオイル型、水に乳化させたエマルジョン型、エアゾール型、コンパウンド型等の形態で使用することができるが、溶剤型、エマルジョン型、エアゾール型が好ましく、特に溶剤型が好ましい。所望により前述の他の離型剤成分を含んでも良く、その量は離型剤の液中に0.1〜10質量%、特に0.1〜5質量%の範囲が一般的である。   The phosphorus atom-containing compound is preferably contained in the release agent solution in an amount of 0.1 to 10% by mass, particularly 0.1 to 5% by mass. If the amount is higher than the upper limit, the compound may be excessively adhered to the resin layer such as the transfer layer, which may adversely affect the subsequent process (for example, lowering the adhesiveness of the subsequent resin layer or transfer layer). However, the peelability from the stamper is not sufficiently good. The release agent of the present invention may be used in the form of a solvent type in which a phosphorus atom-containing compound is dissolved in a solvent, an oil type in which oil is dissolved in oil, an emulsion type in which water is emulsified, an aerosol type, a compound type, or the like. However, a solvent type, an emulsion type, and an aerosol type are preferable, and a solvent type is particularly preferable. If desired, the above-mentioned other release agent components may be contained, and the amount thereof is generally in the range of 0.1 to 10% by mass, particularly 0.1 to 5% by mass in the release agent liquid.

溶剤を使用する場合、例えば、エステル類(例、酢酸エチル、酢酸ブチル)、芳香族化合物(例、トルエン、キシレン)、ケトン類(例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、アルコール類(例、メタノール、イソプロパノール)等を挙げることができる。   When using a solvent, for example, esters (eg, ethyl acetate, butyl acetate), aromatic compounds (eg, toluene, xylene), ketones (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), alcohols (eg, methanol, Isopropanol) and the like.

以下に本発明の凹凸パターンの形成方法について、図面を参照しながら実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the method for forming a concavo-convex pattern according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1に、本発明の凹凸パターンの形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず硬化性樹脂層1上に、スタンパ2を配置する。この際、スタンパ2の微細凹凸パターンが硬化性樹脂層1の表面に対向するように配置する(1)。続いて、硬化性樹脂層1上に、スタンパ2を押圧する(2)。押圧が可能なように、硬化性樹脂層1は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、硬化性樹脂層1を、加熱又は光(UV)照射することにより、硬化させる。その後、スタンパ2を硬化した硬化性樹脂層1から除去する(3)。このようにして、微細凹凸パターンを硬化性樹脂層1に形成する。本発明では、スタンパ2の微細凹凸パターンを有する表面に、本発明の離型剤が塗布等により付与されている。このため、スタンパ2を硬化した硬化性樹脂層1からの除去をきわめて容易に行うことができ、かつ、その硬化層の一部がスタンパ側に移ることもない。スタンパ表面への離型剤(好ましくは溶剤型)の処理は、一般に塗布で行われ、スピンコート等を用いたキャスト製膜が好ましい。その他の塗布方法として、スプレー、ディッピング、刷毛塗布、スポンジ塗布等を挙げることができる。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an outline of a typical embodiment in the method for forming a concavo-convex pattern according to the present invention. First, the stamper 2 is disposed on the curable resin layer 1. At this time, the stamper 2 is arranged so that the fine uneven pattern of the stamper 2 faces the surface of the curable resin layer 1 (1). Subsequently, the stamper 2 is pressed onto the curable resin layer 1 (2). The curable resin layer 1 is heated as necessary so that pressing is possible. If it can be pressed at room temperature, it is not necessary to heat. In this state, the curable resin layer 1 is cured by heating or irradiation with light (UV). Thereafter, the stamper 2 is removed from the cured curable resin layer 1 (3). In this way, a fine uneven pattern is formed on the curable resin layer 1. In the present invention, the release agent of the present invention is applied to the surface of the stamper 2 having the fine uneven pattern by coating or the like. For this reason, removal from the curable resin layer 1 which hardened the stamper 2 can be performed very easily, and a part of the cured layer does not move to the stamper side. The release agent (preferably solvent type) treatment on the stamper surface is generally performed by coating, and cast film formation using spin coating or the like is preferable. Other application methods include spraying, dipping, brush application, sponge application, and the like.

上記方法において、硬化性樹脂層1の代わりに熱可塑性樹脂層を用いて行うこともできる。その場合、熱可塑性樹脂層にスタンパの押しつけてガラス転移温度以上に加熱し、その後冷却してスタンパを除去することにより行うことができる。   In the above method, a thermoplastic resin layer can be used instead of the curable resin layer 1. In that case, the stamper can be pressed against the thermoplastic resin layer, heated to the glass transition temperature or higher, and then cooled to remove the stamper.

次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法について、図面を参照しながら実施の形態を詳細に説明する。   Next, embodiments of the method for producing an optical information recording medium of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図2は本発明の製造方法で使用される光硬化性転写シート10の実施形態の代表例を示す断面図である。光硬化性転写層11には、一方の表面に、第1剥離シート12b、及び他方の表面に、第2剥離シート12aが、設けられている。第1剥離シート12b、及び第2剥離シート12aは、同一の剥離シートでも良く、また一方のみ設けられていても、或いは全く設けられていなくても良い。一般に、剥離シートは、プラスチックシート上に剥離層が設けられ、剥離層が光硬化性転写層11の表面と接触するように設けられている。第1剥離シート12bと第2剥離シート12aは後述するように相互に異なる剥離性を有することが好ましい。また光硬化性転写シートは長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一であることが製造上有利である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a representative example of the embodiment of the photocurable transfer sheet 10 used in the production method of the present invention. The photocurable transfer layer 11 is provided with a first release sheet 12b on one surface and a second release sheet 12a on the other surface. The first release sheet 12b and the second release sheet 12a may be the same release sheet, or may be provided only one or may not be provided at all. Generally, the release sheet is provided such that a release layer is provided on a plastic sheet, and the release layer is in contact with the surface of the photocurable transfer layer 11. It is preferable that the 1st peeling sheet 12b and the 2nd peeling sheet 12a have mutually different peelability so that it may mention later. In addition, it is advantageous in production that the photocurable transfer sheet is long, and the photocurable transfer layer and the release sheet have substantially the same width.

本発明の光硬化性転写層11は、スタンパの微細凹凸表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層であるとともに、硬化後において銀合金等の反射層との接着性が良好で、スタンパの剥離性にも優れた層である。   The photo-curable transfer layer 11 of the present invention is a layer that is easily deformed by pressure so that it can be accurately transferred by pressing the fine uneven surface of the stamper, and with a reflective layer such as a silver alloy after curing. It is a layer with good adhesiveness and excellent stamper releasability.

本発明では、光硬化性組成物は、ポリマーとして、ガラス転移温度が80℃以上のポリマーを含むことが好ましい。これにより、スタンパ或いは基板上の微細凹凸形状が容易に転写でき、その後の硬化も高速で行うことができる。また硬化された形状も高いTg有するのでその形状が変わることなく長期に維持され得る。ガラス転移温度が80℃以上のポリマーとしては、重合性官能基を有することが、反応性希釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有利である。またヒドロキシル基を有することにより、転写層11にジイソシアネートを含ませることで、ポリマーを僅かに架橋させることが可能となり、転写層のしみ出し、層厚変動が大きく抑えられた層とするのに特に有利である。ジイソシアネートは、ヒドロキシル基の無いポリマーでもある程度有効である。   In the present invention, the photocurable composition preferably contains a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher as the polymer. Thereby, the fine uneven shape on the stamper or the substrate can be easily transferred, and the subsequent curing can be performed at a high speed. Further, since the cured shape also has a high Tg, the shape can be maintained for a long time without changing. A polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher has a polymerizable functional group, which can react with a reactive diluent and is advantageous in increasing the speed of curing. In addition, by including a diisocyanate in the transfer layer 11 by having a hydroxyl group, it is possible to slightly crosslink the polymer, and in particular, a layer in which the transfer layer oozes out and the layer thickness fluctuation is greatly suppressed can be obtained. It is advantageous. Diisocyanates are effective to some extent even in polymers without hydroxyl groups.

上記光硬化性転写シートは、情報の高密度化のため、再生レーザにより読み取りが容易なように380〜420nmの波長領域の光透過率が70%以上であることが好ましい。特に、380〜420nmの波長領域の光透過率が80%以上であることが好ましい。従って、この転写シート用いて作製される本発明の光情報記録媒体は380〜420nmの波長のレーザを用いてピット信号を再生する方法に有利に使用することができる。   The photocurable transfer sheet preferably has a light transmittance of 70% or more in a wavelength region of 380 to 420 nm so that the information can be read with a reproducing laser in order to increase the density of information. In particular, the light transmittance in the wavelength region of 380 to 420 nm is preferably 80% or more. Therefore, the optical information recording medium of the present invention produced using this transfer sheet can be advantageously used in a method of reproducing a pit signal using a laser having a wavelength of 380 to 420 nm.

上記光硬化性転写シート10を用いて、本発明の光情報記録媒体を、例えば図3に示すように製造することができる。   Using the photocurable transfer sheet 10, the optical information recording medium of the present invention can be produced, for example, as shown in FIG.

光硬化性転写シート10は、先ず円盤状に打ち抜かれる。この際、光硬化性転写層11と第1剥離シート12b、第2剥離シート12a全てを打ち抜く場合(一般にフルエッジの場合)と、光硬化性転写層11と一方の第1剥離シート12bを円盤状に打ち抜き、もう一方の第2剥離シート12aをそのまま残す場合(一般にドライエッジの場合)があり、適宜選択して行われる(工程A)。このように予めの打ち抜き作業は、本発明の光硬化性転写シートを用いることにより、転写層のしみ出し、はみ出し無く、作業性良く行うことができる。   The photocurable transfer sheet 10 is first punched into a disk shape. At this time, when the photocurable transfer layer 11, the first release sheet 12b, and the second release sheet 12a are all punched out (generally in the case of full edge), the photocurable transfer layer 11 and one of the first release sheets 12b are formed in a disc shape. And the other second release sheet 12a is left as it is (generally in the case of a dry edge), which is appropriately selected (step A). As described above, the punching operation in advance can be performed with good workability without using the photocurable transfer sheet of the present invention without causing the transfer layer to ooze out or protrude.

次いで、光硬化性転写シート10から第2剥離シート12aを除去し、第1剥離シート12b付き光硬化性転写層を用意する(工程1)。この場合、第2剥離シート12aを除去した光硬化性転写層11の表面は、硬化後、反射層と良好な接着性を有する必要があるため、第2剥離シート12aの第2剥離層は、一般に、硬化後転写層の接着性に悪影響をもたらさないように設計されている。表面に記録ピットとしての微細凹凸を有する基板21の該微細凹凸表面の半透明反射層23a(一般にAgX等の反射率の比較的低い反射層)上に、第2剥離シートの無い側を対向させて光硬化性転写シート10を押圧する(工程2)。これにより光硬化性転写シートの表面が基板の微細凹凸表面に沿って密着された積層体(11,23a,21からなる)を形成する。この構成で光情報記録媒体として使用する場合は、光硬化性転写シート11を紫外線照射により硬化させ、第1剥離シート12bを除去する(工程3)。   Next, the second release sheet 12a is removed from the photocurable transfer sheet 10, and a photocurable transfer layer with the first release sheet 12b is prepared (step 1). In this case, since the surface of the photocurable transfer layer 11 from which the second release sheet 12a has been removed needs to have good adhesion to the reflective layer after curing, the second release layer of the second release sheet 12a is Generally, it is designed so as not to adversely affect the adhesion of the transfer layer after curing. The side without the second release sheet is opposed to the translucent reflective layer 23a (generally a reflective layer having a relatively low reflectance such as AgX) on the surface of the fine uneven surface of the substrate 21 having fine unevenness as recording pits on the surface. Then, the photocurable transfer sheet 10 is pressed (step 2). As a result, a laminate (11, 23a, 21) in which the surface of the photocurable transfer sheet is in close contact with the fine uneven surface of the substrate is formed. When used as an optical information recording medium with this configuration, the photocurable transfer sheet 11 is cured by ultraviolet irradiation, and the first release sheet 12b is removed (step 3).

次いで、積層体から本発明の特定の第1剥離シート12bを除去して、表面に記録ピットとしての微細凹凸を有し且つ表面が本発明の離型剤で処理されたスタンパ24を未硬化状態の光硬化性転写層11の表面(基板と接触していない側の表面)に押圧する(工程4)。光硬化性転写層11の表面がスタンパ24の微細凹凸表面に沿って密着した積層体(21,23a,11,24からなる)を形成し、そして積層体の光硬化性転写シートを紫外線照射(一般に300mJ/cm以上)により硬化させた(工程5)のちスタンパ24を除去することにより、硬化シートの表面に記録ピット等の微細凹凸を設ける。これにより、基板11、反射層23a及び硬化した光硬化性転写層11aから成る積層体を得る。本発明では、前記のようにスタンパ24の表面が本発明の離型剤で処理されているので、スタンパ24の除去を円滑に、容易に行うことができる。このため、このスタンパ除去の際、硬化した転写層がスタンパに付着することなく、反射層上に残存し、その転写層表面にはスタンパの微細凹凸に対応する微細凹凸形状が精確に形成される。通常、この微細凹凸上(硬化シートの表面)に、反射層(一般にAl等の高反射率の反射層)23bを設け(工程6)、さらにその上に有機ポリマーフィルム(カバー層)26を接着剤層を介して貼付する(工程7)。これにより図4に示す光情報記録媒体を得る。記録ピットを有する硬化層の反射層の表面に、さらに光硬化性転写シートを押圧し、紫外線照射(一般に300mJ/cm以上)により硬化させても良い。或いは、硬化層の反射層の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布、硬化させても良い。半透明反射層23aは、通常のAl等の反射層でも良い(両面読み出し用)。また半透明反射層23aを高反射率反射層、高反射率反射層23bを半透明反射層としても良い。さらにスタンパは、微細凹凸を有する基板であっても良い。 Next, the specific first release sheet 12b of the present invention is removed from the laminate, and the stamper 24 having fine irregularities as recording pits on the surface and treated on the surface with the release agent of the present invention is uncured. Is pressed against the surface of the photocurable transfer layer 11 (the surface on the side not in contact with the substrate) (step 4). A laminate (comprising 21, 23a, 11, 24) in which the surface of the photocurable transfer layer 11 is adhered along the fine uneven surface of the stamper 24 is formed, and the photocurable transfer sheet of the laminate is irradiated with ultraviolet rays ( In general, the stamper 24 is removed after being cured by 300 mJ / cm 2 or more (step 5), thereby providing fine irregularities such as recording pits on the surface of the cured sheet. Thereby, the laminated body which consists of the board | substrate 11, the reflection layer 23a, and the hardened | cured photocurable transfer layer 11a is obtained. In the present invention, since the surface of the stamper 24 is treated with the release agent of the present invention as described above, the stamper 24 can be removed smoothly and easily. For this reason, when the stamper is removed, the cured transfer layer remains on the reflective layer without adhering to the stamper, and a fine uneven shape corresponding to the fine unevenness of the stamper is accurately formed on the surface of the transfer layer. . Usually, a reflective layer (generally a reflective layer having a high reflectivity such as Al) 23b is provided on the fine irregularities (the surface of the cured sheet) (step 6), and an organic polymer film (cover layer) 26 is adhered thereon. It sticks through an agent layer (process 7). As a result, the optical information recording medium shown in FIG. 4 is obtained. A photocurable transfer sheet may be further pressed against the surface of the reflective layer of the cured layer having recording pits, and cured by ultraviolet irradiation (generally 300 mJ / cm 2 or more). Alternatively, an ultraviolet curable resin may be applied and cured on the surface of the reflective layer of the cured layer. The translucent reflective layer 23a may be a normal reflective layer such as Al (for double-sided readout). Alternatively, the semitransparent reflective layer 23a may be a high reflectance reflective layer, and the high reflectance reflective layer 23b may be a semitransparent reflective layer. Furthermore, the stamper may be a substrate having fine irregularities.

また、(6)の工程で高反射層の代わりに半透明反射層を設け、同様に(1)〜(6)の工程を繰り返すことにより、記録ピットを三層以上形成することもできる。例えば、図5に示すような4層構成の光情報記録媒体を形成することができる。この構成は、次世代のブルーレイ・ディスクとして特に注目されている一般的な構成である。即ち、表面に微細凹凸を有する基板21、その上に設けられた表面に微細凹凸を有する反射層23a、表面に微細凹凸を有する反射層23a上に表面に微細凹凸を有する硬化した光硬化性転写層(中間樹脂層)11a、この微細凹凸上に設けられた反射層(一般に前の反射層23aより反射率の高い反射層)23b、反射層23b上に設けられた表面に微細凹凸を有する硬化した光硬化性転写層(中間樹脂層)11b、その上に形成された反射層23c(前の反射層23bより反射率の高い反射層)、反射層23c上に設けられた表面に微細凹凸を有する硬化した光硬化性転写層(中間樹脂層)11c、その上に形成された反射層23d(前の反射層23cより反射率の高い反射層)から構成されている。反射層23d上には、前記と同様有機ポリマーフィルム(カバー層)26等が貼付される。本発明では、少なくとも中間樹脂層11aにおいて、本発明の光硬化性転写シートの転写層が使用される。本発明では、中間樹脂層の表面に本発明のリン原子含有化合物が付着している。反射層23a、23b、23c、23dの反射率の大きさは反対になるように設定しても良い。   Further, by providing a translucent reflective layer instead of the highly reflective layer in the step (6) and repeating the steps (1) to (6), three or more recording pits can be formed. For example, an optical information recording medium having a four-layer structure as shown in FIG. 5 can be formed. This configuration is a general configuration that is attracting particular attention as a next-generation Blu-ray disc. That is, a substrate 21 having fine irregularities on the surface, a reflective layer 23a having fine irregularities on the surface provided thereon, and a cured photocurable transfer having fine irregularities on the surface on the reflective layer 23a having fine irregularities on the surface. Layer (intermediate resin layer) 11a, a reflective layer (generally a reflective layer having a higher reflectance than the previous reflective layer 23a) 23b provided on the fine irregularities, and a surface having fine irregularities on the surface provided on the reflective layer 23b The photocurable transfer layer (intermediate resin layer) 11b, the reflective layer 23c formed thereon (a reflective layer having a higher reflectance than the previous reflective layer 23b), and fine irregularities on the surface provided on the reflective layer 23c. It comprises a cured photo-curable transfer layer (intermediate resin layer) 11c and a reflective layer 23d (reflective layer having a higher reflectance than the previous reflective layer 23c) formed thereon. On the reflective layer 23d, an organic polymer film (cover layer) 26 or the like is attached as described above. In the present invention, at least the intermediate resin layer 11a uses the transfer layer of the photocurable transfer sheet of the present invention. In the present invention, the phosphorus atom-containing compound of the present invention is adhered to the surface of the intermediate resin layer. The reflection layers 23a, 23b, 23c, and 23d may be set to have opposite reflectances.

尚、上記方法においては、再生専用の光情報記録媒体について説明したが、記録可能な光情報記録媒体についても同様に行うことができる。記録可能媒体の場合、グルーブ或いはグルーブ及びプレピットを有しており、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属記録層(色素記録層の場合や金属記録層の反射率が低い場合は、記録層及び反射層)及びその他の機能層(例、エンハンス層)が一般に設けられる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造することができる。   In the above method, the read-only optical information recording medium has been described. However, the same can be applied to a recordable optical information recording medium. In the case of a recordable medium, it has a groove or a groove and a prepit. In this case, instead of the reflective layer and the translucent reflective layer, a metal recording layer (in the case of a dye recording layer or when the reflectance of the metal recording layer is low, Recording layers and reflective layers) and other functional layers (eg, enhancement layers) are generally provided. Otherwise, the optical information recording medium can be manufactured in the same manner as described above.

本発明の製造方法では、上述のように、リン原子含有化合物を含む離型剤によりスタンパ表面が処理されている。上記特定の離型剤を用いることにより、硬化した転写層の表面とスタンパ(一般にニッケル製)とが剥離しやすい状態となるため、硬化した転写層の一部が反射層から剥がれてスタンパに付着することがほとんど無い。また、転写層は、硬化後、銀、銀合金等の反射層に対する接着性が良好である。即ち、上記のように硬化転写層とスタンパとの剥離性が大幅に向上し、転写層の反射層に対する接着性が良好であるので、スタンパを除去する際の負荷は極端に小さくなっている。従って、除去されたスタンパに硬化転写層の一部が付着することが無いため、記録面である硬化転写層の表面の微細凹凸部分が転写されたまま完全に反射層上に残ることができ、このためレーザ光による信号の読み取りをエラー無く行うことが可能である。   In the production method of the present invention, as described above, the stamper surface is treated with a release agent containing a phosphorus atom-containing compound. By using the above specific release agent, the surface of the cured transfer layer and the stamper (generally made of nickel) are easily peeled off, so a part of the cured transfer layer is peeled off from the reflective layer and adheres to the stamper. There is little to do. The transfer layer has good adhesion to a reflective layer such as silver or a silver alloy after curing. That is, as described above, the peelability between the cured transfer layer and the stamper is greatly improved, and the adhesion of the transfer layer to the reflective layer is good, so that the load when removing the stamper is extremely small. Therefore, since a part of the cured transfer layer does not adhere to the removed stamper, the fine irregularities on the surface of the cured transfer layer that is the recording surface can be completely left on the reflective layer while being transferred, For this reason, it is possible to read a signal with a laser beam without error.

本発明では、記録ピット及び/又はグルーブである微細凹凸形状を、光硬化性転写層11と基板21とを100℃以下の比較的低い温度(好ましくは常温)で押圧する(好ましくは減圧下)ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。基板21と、光硬化性転写層11との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる(好ましくは減圧下)。また、光硬化性転写層11の硬化後の層は、基板21の表面の反射層に用いられる金属との接着力が良好で剥離することはない。必要により反射層上に接着促進層を設けても良い。   In the present invention, the fine concavo-convex shape which is a recording pit and / or a groove is pressed against the photocurable transfer layer 11 and the substrate 21 at a relatively low temperature (preferably normal temperature) of 100 ° C. or less (preferably under reduced pressure). Therefore, the photocurable transfer sheet is designed so that the transfer is accurately performed. Superposition of the substrate 21 and the photocurable transfer layer 11 is generally performed with a pressure roll or a simple press (preferably under reduced pressure). Further, the cured layer of the photocurable transfer layer 11 has a good adhesive force with the metal used for the reflective layer on the surface of the substrate 21 and does not peel off. If necessary, an adhesion promoting layer may be provided on the reflective layer.

また本発明では、記録ピット及び/又はグルーブである微細凹凸形状を、光硬化性転写層11とスタンパ24とを100℃以下の低温(好ましくは常温)で押圧する(好ましくは減圧下)ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。スタンパ21と、光硬化性転写シート11との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる(好ましくは減圧下)。また、光硬化性転写層11の硬化後の層は、一般にTgが65℃以上(特に80℃以上)の層であり、スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着力が弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容易に剥離することができる。   In the present invention, the fine concavo-convex shape which is a recording pit and / or groove is pressed (preferably under reduced pressure) by pressing the photocurable transfer layer 11 and the stamper 24 at a low temperature (preferably normal temperature) of 100 ° C. or less. A photo-curable transfer sheet is designed to be accurately transferred. The stacking of the stamper 21 and the photocurable transfer sheet 11 is generally performed by a pressure roll or a simple press (preferably under reduced pressure). In addition, the cured layer of the photocurable transfer layer 11 is generally a layer having a Tg of 65 ° C. or higher (particularly 80 ° C. or higher), and has a weak adhesive force with a metal such as nickel used for a stamper, and is photocurable. The transfer sheet can be easily peeled from the stamper.

基板21は、一般に厚板(通常0.3〜1.5mm、特に1.1mm程度)であるので、従来の射出成形法で作製することが一般的である。しかし光硬化性転写シートとスタンパを用いて製造しても良い。本発明の光硬化性転写シートは300μm以下(好ましくは150μm以下)に薄くすることができるので、もう一方の基板を従来法で作製し、基板の厚さを大きくすることができるのでピット形状の転写精度を上げることができる。   Since the substrate 21 is generally a thick plate (usually about 0.3 to 1.5 mm, particularly about 1.1 mm), it is generally produced by a conventional injection molding method. However, you may manufacture using a photocurable transfer sheet and a stamper. Since the photocurable transfer sheet of the present invention can be thinned to 300 μm or less (preferably 150 μm or less), the other substrate can be produced by a conventional method, and the thickness of the substrate can be increased. Transfer accuracy can be increased.

上記工程において、光硬化性転写層を基板に押圧する際、或いはスタンパを光硬化性転写層に押圧する際に、減圧下に押圧を行うことが好ましい。これにより、気泡の除去等が円滑に行われる。   In the above step, when pressing the photocurable transfer layer against the substrate or when pressing the stamper against the photocurable transfer layer, it is preferable to press under reduced pressure. Thereby, the removal of bubbles and the like are performed smoothly.

上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に2個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型内に裁置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタンパに圧着させる方法を挙げることができる。   The pressing under reduced pressure may be performed, for example, by passing a photocurable transfer sheet and a stamper between two rolls under reduced pressure, or using a vacuum forming machine, placing the stamper in a mold and reducing the pressure. Examples thereof include a method in which a photocurable transfer sheet is pressure-bonded to a stamper.

また、二重真空室方式の装置を用いて減圧下の押圧を行うことができる。図5を参照しながら説明する。図6には二重真空室方式のラミネータの一例が示されている。ラミネータは下室64、上室62、シリコーンゴムシート63、ヒータ65を備えている。ラミネータ内の下室64に、微細凹凸を有する基板と光硬化性転写シートとの積層体69、又は基板と光硬化性転写シートとスタンパとの積層体69を置く。上室62及び下室64共に排気する(減圧する)。積層体69をヒータ65で加熱し、その後、下室64を排気したまま上室62を大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積層体を取り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱泡が十分に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光硬化性転写シートとを圧着することができる。   In addition, pressing under reduced pressure can be performed using a double vacuum chamber type apparatus. This will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows an example of a double vacuum chamber type laminator. The laminator includes a lower chamber 64, an upper chamber 62, a silicone rubber sheet 63, and a heater 65. In the lower chamber 64 in the laminator, a laminate 69 of a substrate having fine irregularities and a photocurable transfer sheet or a laminate 69 of a substrate, a photocurable transfer sheet, and a stamper is placed. Both the upper chamber 62 and the lower chamber 64 are evacuated (depressurized). The laminated body 69 is heated by the heater 65, and then the upper chamber 62 is returned to the atmospheric pressure while the lower chamber 64 is exhausted, and the laminated body is pressure-bonded. Cool and take out the laminate and move to the next step. Thereby, defoaming is sufficiently performed at the time of exhaust, and the stamper or the substrate and the photocurable transfer sheet can be pressure-bonded without any bubbles.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有するものである。   The photocurable transfer sheet used in the present invention has a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure.

本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上のポリマー)、光重合性官能基(一般に炭素炭素2重結合基、好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。   The photocurable composition of the present invention is generally composed of a polymer (preferably a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher), a photopolymerizable functional group (generally a carbon-carbon double bond group, preferably a (meth) acryloyl group). Reactive diluents (monomers and oligomers) having a photopolymerizable initiator, and optionally other additives.

本発明の光硬化性組成物の一般的な構成要件である光重合性官能基を有する反応性希釈剤としては、例えば、(メタ)アクリルモノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;
ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と、有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2',4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。
As the reactive diluent having a photopolymerizable functional group, which is a general constituent requirement of the photocurable composition of the present invention, for example, as a (meth) acrylic monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acrylic Yl morpholine, N- vinylcaprolactam, o- phenylphenyl oxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxy propyl methacrylate,
Neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (Meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate,
Glycerin diacrylate, glycerin acrylate methacrylate, glycerin dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane acrylate methacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate,
(Meth) such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate Acrylate monomers;
Polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1, Polyols such as 3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc., or their acid anhydrides, and the above-mentioned polyols and ε-capro Polycaprolactone polyols which are reaction products with kuton, reaction products of the above-mentioned polyols with ε-caprolactone of polybasic acids or anhydrides thereof, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates ( For example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2 ′, 4 -Trimethylhexamethylene diisocyanate and the like) and hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Roxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) Polyurethane (meth) acrylate, which is a reaction product of
Examples thereof include (meth) acrylate oligomers such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, and (meth) acrylic acid. These compounds having a photopolymerizable functional group can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ビニルアセテート/(メタ)アクリレート共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、メタクリレート/アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、2−クロロブタジエン−1,3−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン/ブタジエン/スチレン共重合体、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等を挙げることができる。   Examples of the polymer (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher) include acrylic resins, polyvinyl acetate, vinyl acetate / (meth) acrylate copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, polystyrene and copolymers thereof, poly Vinyl chloride and its copolymer, butadiene / acrylonitrile copolymer, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, methacrylate / acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, 2-chlorobutadiene-1,3-polymer, chlorinated rubber, Styrene / butadiene / styrene copolymer, styrene / isoprene / styrene block copolymer, epoxy resin, polyamide, polyester, polyurethane, cellulose ester, cellulose ether, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Can.

本発明では、良好な転写性及び優れた硬化性の点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、前述したように、重合性官能基を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。またアクリル樹脂は、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%(特に60〜90質量%)含むことが、Tg80℃以上のアクリル樹脂を得られやすく、また良好な転写性、高速硬化性も得られやすく好ましい。   In the present invention, an acrylic resin is preferable from the viewpoint of good transferability and excellent curability. As described above, the acrylic resin is particularly preferably an acrylic resin having a polymerizable functional group or an acrylic resin having a hydroxyl group. In addition, when the acrylic resin contains at least 50% by mass (especially 60 to 90% by mass) of methyl methacrylate repeating units, it is easy to obtain an acrylic resin having a Tg of 80 ° C. or more, and good transferability and high-speed curability are also obtained. It is easy and preferable.

上記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、一般に重合性官能基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸が反応したもの、或いはメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル(メタ)アクリレートが反応したものである。   The acrylic resin having a polymerizable functional group is generally an acrylic resin having a polymerizable functional group, at least one of methyl methacrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms. And a glycidyl (meth) acrylate copolymer obtained by reacting a carboxylic acid having a polymerizable functional group with the glycidyl group, or methyl methacrylate and an alkyl having 2 to 10 carbon atoms in an alcohol residue. The methacrylic acid ester is a copolymer of at least one (meth) acrylic acid ester and a carboxylic acid having a polymerizable functional group, and the carboxylic acid group is reacted with glycidyl (meth) acrylate.

メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に50質量%以上(特に60〜90質量%)含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。またこのような(メタ)アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜30質量%、特に10〜30質量%含まれることが好ましい。グリシジル(メタ)アクリレート又は重合性官能基を有するカルボン酸は、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜25質量%、特に5〜20質量%含まれることが好ましい。得られた共重合体のグリシジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合性官能基を有するカルボン酸又はグリシジル(メタ)アクリレートを反応させる。   It is a copolymer of methyl methacrylate, at least one kind of alkyl (meth) acrylate ester having 2 to 10 carbon atoms in the alcohol residue, and glycidyl (meth) acrylate. Methyl methacrylate is preferably contained as a repeating unit in an amount of 50% by mass or more (particularly 60 to 90% by mass) in the polymer. Appropriate combination with the reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability. Alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 carbon atoms (especially 3 to 5 carbon atoms) as an alcohol residue includes ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like. n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferred. Further, such a (meth) acrylic acid ester is preferably contained in the polymer as a repeating unit in general in an amount of 5 to 30% by mass, particularly 10 to 30% by mass. The glycidyl (meth) acrylate or carboxylic acid having a polymerizable functional group is preferably contained in the polymer in an amount of generally 5 to 25% by mass, particularly 5 to 20% by mass as the repeating unit. The glycidyl group or carboxylic acid group of the obtained copolymer is reacted with a carboxylic acid or glycidyl (meth) acrylate having a polymerizable functional group, respectively.

上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂は、一般にメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数2〜4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種との共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に50質量%以上(特に60〜90質量%)含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。またこのような(メタ)アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜30質量%、特に10〜30質量%含まれることが好ましい。アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数2〜4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートを挙げることができ、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜25質量%、特に5〜20質量%含まれることが好ましい。   The hydroxyl group-containing acrylic resin generally includes methyl methacrylate, at least one kind of alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 (particularly 3 to 5) carbon atoms, and alcohol residues. Is a copolymer with at least one alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 4 carbon atoms having a hydroxyl group. Methyl methacrylate is preferably contained as a repeating unit in an amount of 50% by mass or more (particularly 60 to 90% by mass) in the polymer. Appropriate combination with the reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability. Alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 carbon atoms (especially 3 to 5 carbon atoms) as an alcohol residue includes ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like. n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferred. Further, such a (meth) acrylic acid ester is preferably contained in the polymer as a repeating unit in general in an amount of 5 to 30% by mass, particularly 10 to 30% by mass. Examples of the alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 4 carbon atoms in which the alcohol residue has a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate. In general, it is preferably contained in an amount of 5 to 25% by mass, particularly 5 to 20% by mass.

前記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。   The acrylic resin having a polymerizable functional group can be produced, for example, as follows.

1種又は複数種の(メタ)アクリルモノマー(好ましくは上述の、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル基を1個かつ重合性官能基を1個有する化合物(好ましくはグリシジル(メタ)アクリレート)或いは重合性官能基を有するカルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有機溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方法にて反応させて共重合体であるグリシジル基含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)を得る。(メタ)アクリルモノマー等のモノマー類の配合割合はグリシジル基含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)の固形分換算合計量に対して10〜45質量%とすることが好ましい。   One or a plurality of (meth) acrylic monomers (preferably methyl methacrylate, at least one (meth) acrylic acid ester having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms, and a glycidyl group). A known method such as solution polymerization of a compound having 1 polymerizable functional group (preferably glycidyl (meth) acrylate) or a carboxylic acid having a polymerizable functional group in the presence of a radical polymerization initiator and an organic solvent. The glycidyl group-containing acrylic resin (a) or the carboxyl group-containing acrylic resin (b), which is a copolymer, is obtained by reacting by the method described above.The mixing ratio of monomers such as (meth) acrylic monomer is the glycidyl group-containing acrylic resin. It shall be 10-45 mass% to solid content conversion total amount of (a) or carboxyl group-containing acrylic resin (b). Preferred.

次いで得られたグリシジル基含有アクリル樹脂(a)に重合性官能基を有するカルボン酸を加え、或いは得られたカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)にグリシジル基を1個かつ重合性官能基を1個有する化合物(好ましくはグリシジルメタクリレート)を加え、必要に応じ加熱することによりアクリル系光硬化型樹脂(A)又はアクリル系光硬化型樹脂(B)を得る。この配合比は、グリシジル基とカルボキシル基のモル比が1/0.9〜1/1となるように配合するのが好ましく、より好ましくは1/1である。グリシジル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さらに1/1の場合は残存グリシジル基がなくなり、貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方法にて行うことができる。   Subsequently, a carboxylic acid having a polymerizable functional group is added to the obtained glycidyl group-containing acrylic resin (a), or one glycidyl group and one polymerizable functional group are added to the obtained carboxyl group-containing acrylic resin (b). An acrylic photocurable resin (A) or an acrylic photocurable resin (B) is obtained by adding a compound (preferably glycidyl methacrylate) having heat and heating as necessary. This blending ratio is preferably blended so that the molar ratio of glycidyl group to carboxyl group is 1 / 0.9 to 1/1, and more preferably 1/1. If the glycidyl group is excessive, viscosity and gelation may occur in long-term stability, and if the carboxyl group is excessive, skin irritation increases and workability decreases. Further, in the case of 1/1, there is no residual glycidyl group, and the storage stability is remarkably improved. The reaction can be carried out by a known method in the presence of a basic catalyst, a phosphorus catalyst or the like.

上記OH又は重合性官能基を有するアクリル樹脂を含み、本発明で用いることができるアクリル樹脂を構成する主成分として使用することができる(メタ)アクリル系モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルを挙げることができる。アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルの例として、メチル(メタ)アクリレート((メタ)アクリレートとはアクリレート及びメタクリレートを示す。以下同様)、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、2−メトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシ(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリレート、ピレノキシド付加物(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。さらに不飽和基を含有する芳香族化合物(例、スチレン)も使用しても良い。   As the (meth) acrylic monomer that can be used as a main component constituting the acrylic resin that includes the above-mentioned acrylic resin having OH or a polymerizable functional group and can be used in the present invention, various kinds of acrylic acid or methacrylic acid can be used. Mention may be made of esters. Examples of various esters of acrylic acid or methacrylic acid include methyl (meth) acrylate ((meth) acrylate means acrylate and methacrylate; the same applies hereinafter), ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n- Alkyl (meta) such as butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and tridecyl (meth) acrylate ) Acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate such as butoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethoxyethyl Alkoxyalkoxyalkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol ( Dialkylamino such as alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate such as (meth) acrylate, pyrenoxide adduct (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate An alkyl (meth) acrylate etc. can be mentioned. Further, an aromatic compound containing an unsaturated group (eg, styrene) may be used.

本発明では、前述のように、アクリル系モノマーの主成分としては、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種を使用することが好ましい。   In the present invention, as described above, as the main component of the acrylic monomer, at least one of methyl methacrylate and an alkyl (meth) acrylate having 2 to 10 carbon atoms as an alcohol residue is used. Is preferred.

本発明のポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)は、数平均分子量が100000以上、特に100000〜300000、そして重量平均分子量が100000で以上、特に100000〜300000であることが好ましい。   The polymer of the present invention (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher) preferably has a number average molecular weight of 100,000 or more, particularly 100,000 to 300,000, and a weight average molecular weight of 100,000 or more, particularly 100,000 to 300,000.

さらに本発明では、ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)として、ヒドロキシル基等の活性水素を有する官能基及び光重合性官能基の両方を有するポリマーも使用することができる。このような反応性ポリマーとしては、例えば、主として前記アクリル系モノマーから得られる単独重合体又は共重合体(即ちアクリル樹脂)で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するものである。従って、このような反応性ポリマーは、例えば、メチルメタクリレートと、前記1種以上の(メタ)アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する(メタ)アクリレート(例、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート)とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル(メタ)アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。その際、ヒドロキシル基が残るようにイソシアナトアルキル(メタ)アクリレートの量を調節して使用することにより、活性水素を有する官能基としてヒドロキシル基及び光重合性官能基を有するポリマーが得られる。   Furthermore, in the present invention, a polymer having both a functional group having an active hydrogen such as a hydroxyl group and a photopolymerizable functional group can also be used as the polymer (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher). As such a reactive polymer, for example, a homopolymer or a copolymer (that is, an acrylic resin) mainly obtained from the acrylic monomer, and a photopolymerizable functional group and active hydrogen are present in the main chain or side chain. It has a functional group. Therefore, such a reactive polymer includes, for example, methyl methacrylate, the one or more (meth) acrylates, and a (meth) acrylate having a functional group such as a hydroxyl group (eg, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate). ) And the resulting polymer reacts with a functional group of the polymer and a compound having a photopolymerizable group, such as isocyanatoalkyl (meth) acrylate. In that case, the polymer which has a hydroxyl group and a photopolymerizable functional group as a functional group which has active hydrogen is obtained by adjusting and using the amount of isocyanatoalkyl (meth) acrylate so that a hydroxyl group may remain.

或いは上記において、ヒドロキシル基の代わりにアミノ基を有する(メタ)アクリレート(例、2−アミノエチル(メタ)アクリレート)を用いることにより活性水素を有する官能基としてアミノ基を有する、光重合性官能基含有ポリマーを得ることができる。同様に、活性水素を有する官能基としてカルボキシル基等を有する、光重合性官能基含有ポリマーも得ることができる。   Alternatively, in the above, a photopolymerizable functional group having an amino group as a functional group having active hydrogen by using a (meth) acrylate having an amino group instead of a hydroxyl group (eg, 2-aminoethyl (meth) acrylate) A containing polymer can be obtained. Similarly, a photopolymerizable functional group-containing polymer having a carboxyl group or the like as a functional group having active hydrogen can also be obtained.

本発明では、前記光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂も好ましい。   In the present invention, an acrylic resin having the photopolymerizable functional group via a urethane bond is also preferable.

上記光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するポリマーは、光重合性官能基を一般に1〜50モル%、特に5〜30モル%含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。   The polymer having a photopolymerizable functional group and a functional group having active hydrogen generally contains 1 to 50 mol%, particularly 5 to 30 mol% of the photopolymerizable functional group. As this photopolymerizable functional group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group are preferable, and an acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable.

本発明の光硬化性組成物中に添加され得るジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート(TDI)、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2’,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのTDI付加体等の3官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートシアネートも使用することができる。これらの中でトリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加体が好ましい。   Diisocyanates that can be added to the photocurable composition of the present invention include tolylene diisocyanate (TDI), isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2 4,4'-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,2 ', 4-trimethylhexamethylene diisocyanate. Polyisocyanate cyanates such as trifunctional or higher functional isocyanate compounds such as a TDI adduct of trimethylolpropane can also be used. Of these, a hexamethylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane is preferred.

本発明のジイソシアネートは、光硬化性組成物(不揮発分)中に0.2〜4質量%、特に0.2〜2質量%の範囲で含まれていることが好ましい。転写層のしみ出しを防止するために適当な架橋がもたらされると共に、基板やスタンパの微細凹凸の良好な転写性も維持される。上記化合物とポリマーとの反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常温(一般に25℃)、24時間でかなり反応している。転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布するまでの間にも反応は進行するものと考えられる。転写層を形成後、ロール状態で巻き取る前にある程度硬化させることが好ましいので、必要に応じて、転写層を形成時、或いはその後、ロール状態で巻き取る前の間に加熱して反応を促進させても良い。   It is preferable that the diisocyanate of this invention is contained in 0.2-4 mass% in the photocurable composition (nonvolatile content), especially 0.2-2 mass%. Appropriate crosslinking is provided to prevent the transfer layer from seeping out, and good transferability of fine irregularities of the substrate and stamper is also maintained. The reaction between the compound and the polymer proceeds gradually after the transfer layer is formed, and reacts considerably at room temperature (generally 25 ° C.) at 24 hours. It is considered that the reaction proceeds after the coating solution for forming the transfer layer is prepared and before the coating solution is applied. After forming the transfer layer, it is preferable to cure to a certain extent before winding it in the roll state. If necessary, the reaction is promoted by heating during the formation of the transfer layer or before winding in the roll state. You may let them.

本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、ガラス転移温度が80℃以上のポリマー、光重合性官能基(好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、20:80〜80:20、特に30:70〜70:30の範囲が好ましい。   As described above, the photocurable composition of the present invention is generally a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher, and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group (preferably a (meth) acryloyl group) (monomer and Oligomer), a photopolymerizable initiator, and optionally other additives. The mass ratio of polymer to reactive diluent is preferably in the range of 20:80 to 80:20, particularly 30:70 to 70:30.

本発明の光硬化性転写層の周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は、25℃において1×10Pa以下であることが好ましく、特に1×10〜6×10Paの範囲であることが好ましい。また80℃において8×10Pa以下であることが好ましく、特に1×10〜5×10Paの範囲であることが好ましい。これにより、精確で迅速な転写が可能となる。さらに、本発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度を20℃以下であることが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層がスタンパの微細凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその微細凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が15℃〜−50℃、特に15℃〜−10℃の範囲にすることにより追随性がたものとなる。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。 The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz of the photocurable transfer layer of the present invention is preferably 1 × 10 7 Pa or less at 25 ° C., and particularly preferably in the range of 1 × 10 4 to 6 × 10 5 Pa. . Moreover, it is preferable that it is 8 * 10 < 4 > Pa or less in 80 degreeC, and it is especially preferable that it is the range of 1 * 10 < 4 > -5 * 10 < 5 > Pa. This enables accurate and quick transfer. Furthermore, the photocurable transfer layer of the present invention preferably has a glass transition temperature of 20 ° C. or lower. Thereby, when the obtained photocurable transfer layer is pressure-bonded to the fine uneven surface of the stamper, it can have flexibility capable of closely following the fine uneven surface even at room temperature. In particular, when the glass transition temperature is in the range of 15 ° C. to −50 ° C., particularly 15 ° C. to −10 ° C., the following property is obtained. If the glass transition temperature is too high, a high pressure and a high pressure are required at the time of attachment, leading to a decrease in workability. If it is too low, a sufficient altitude after curing cannot be obtained.

また上記光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、300mJ/cmの紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上となるように設計されていることが好ましい。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが容易で、転写されたピット形状等を保持することができる。本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、主として、上記好ましいポリマー、以下の反応性希釈剤を使用することにより有利に得ることができる。 The photocurable transfer layer made of the photocurable composition is preferably designed so that the glass transition temperature after irradiation with 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light is 65 ° C. or higher. By irradiating with ultraviolet rays for a short time, it is easy to prevent the occurrence of sagging such as a pit shape that is likely to occur due to residual stress during transfer, and the transferred pit shape can be retained. The photocurable transfer layer comprising the photocurable composition of the present invention can be advantageously obtained mainly by using the above preferred polymer and the following reactive diluent.

光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物(不揮発分)中に、光重合開始剤を一般に0.1〜20質量%、特に1〜10質量%含むことが好ましい。   As the photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used, but one having good storage stability after blending is desirable. Examples of such photopolymerization initiators include benzoin series such as acetophenone series and benzyldimethyl ketal, thiophenone series such as benzophenone series, isopropylthioxanthone, and 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenylglycol. Oxylate can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may contain one or two or more kinds of known and commonly used photopolymerization accelerators such as benzoic acid-based or tertiary amine-based compounds such as 4-dimethylaminobenzoic acid as required. Can be mixed and used. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. In general, the photocurable composition (nonvolatile content) preferably contains 0.1 to 20% by mass, particularly 1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator.

光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンッゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。   Among the photopolymerization initiators, examples of the acetophenone-based polymerization initiator include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, and 2-hydroxy-2. -Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2 As benzophenone polymerization initiators such as morpholinopropane-1, Benzophenone, benzoyl benzoate, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-Benzzoiru 4'-methyl diphenyl sulfide, etc. 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone may be used.

アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第3級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。   As the acetophenone-based polymerization initiator, in particular, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2 -Morpholinopropane-1 is preferred. As the benzophenone polymerization initiator, benzophenone, benzoylbenzoic acid, and methyl benzoylbenzoate are preferable. Tertiary amine photopolymerization accelerators include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, ethyl 2-dimethylaminobenzoate. , Ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate and the like can be used. Particularly preferably, as the photopolymerization accelerator, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. Is mentioned.

本発明では、上記光重合性官能基を有する反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。   In the present invention, in addition to the reactive diluent having a photopolymerizable functional group and the photopolymerization initiator, it is preferable to add the following thermoplastic resin and other additives as required.

他の添加剤として、シランカップリング剤(接着促進剤)を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記ポリマー(固形分)100質量部に対し通常0.01〜5質量部で十分である。   As another additive, a silane coupling agent (adhesion promoter) can be added. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β There are (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like, and one of these can be used alone or two or more of them can be used in combination. As for the addition amount of these silane coupling agents, 0.01-5 mass parts is sufficient normally with respect to 100 mass parts of said polymers (solid content).

また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート;ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル;1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル;アクリルグリシジルエーテル;2−エチルヘキシルグリシジルエーテル;フェニルグリシジルエーテル;フェノールグリシジルエーテル;p−t−ブチルフェニルグリシジルエーテル;アジピン酸ジグリシジルエステル;o−フタル酸ジグリシジルエステル;グリシジルメタクリレート;ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記ポリマー(固形分)100質量部に対し0.1〜20質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも1種を単独で又は混合して添加することができる。   Similarly, an epoxy group-containing compound can be added for the purpose of improving adhesiveness. Examples of the epoxy group-containing compound include triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; neopentyl glycol diglycidyl ether; 1,6-hexanediol diglycidyl ether; acrylic glycidyl ether; 2-ethylhexyl glycidyl ether; Examples thereof include phenol glycidyl ether; pt-butylphenyl glycidyl ether; adipic acid diglycidyl ester; o-phthalic acid diglycidyl ester; glycidyl methacrylate; Further, the same effect can be obtained by adding an oligomer containing an epoxy group having a molecular weight of several hundred to several thousand or a polymer having a weight average molecular weight of several thousand to several hundred thousand. The addition amount of these epoxy group-containing compounds is sufficient to be 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (solid content), and at least one of the epoxy group-containing compounds is added alone or in combination. Can do.

さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。   As another additive, a hydrocarbon resin can be added for the purpose of improving workability such as workability and bonding. In this case, the added hydrocarbon resin may be either a natural resin type or a synthetic resin type. In natural resin systems, rosin, rosin derivatives, and terpene resins are preferably used. For rosin, gum-based resins, tall oil-based resins, and wood-based resins can be used. As the rosin derivative, rosin obtained by hydrogenation, heterogeneity, polymerization, esterification, or metal chloride can be used. As the terpene resin, a terpene phenol resin can be used in addition to a terpene resin such as α-pinene and β-pinene. In addition, dammar, corbal and shellac may be used as other natural resins. On the other hand, in the synthetic resin system, petroleum resin, phenol resin, and xylene resin are preferably used. As the petroleum resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, hydrogenated petroleum resin, pure monomer petroleum resin, and coumarone indene resin can be used. As the phenol resin, an alkyl phenol resin or a modified phenol resin can be used. As the xylene-based resin, a xylene resin or a modified xylene resin can be used.

上記炭化水素樹脂等の樹脂の添加量は適宜選択されるが、上記ポリマー(固形分)100質量部に対して1〜20質量部が好ましく、より好ましくは5〜15質量部である。   Although the addition amount of resin, such as the said hydrocarbon resin, is selected suitably, 1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said polymers (solid content), More preferably, it is 5-15 mass parts.

以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。   In addition to the above additives, the photocurable composition of the present invention may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a dye, a processing aid and the like. In some cases, additives such as silica gel, calcium carbonate, and fine particles of silicone copolymer may be included in a small amount.

本発明で使用される光硬化性組成物は、本発明のリン原子含有化合物を含んでいても良い。スタンパの離型性がさらに向上する。含有量は一般に0.01〜1質量%である。   The photocurable composition used in the present invention may contain the phosphorus atom-containing compound of the present invention. The releasability of the stamper is further improved. The content is generally 0.01 to 1% by mass.

本発明で使用される光硬化性組成物からなる光硬化性転写層(光硬化性転写シート)は、例えば、ポリマー(好ましくはTg80℃以上)、光重合性官能基を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、所望によりジイソシアネートシアネート及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。支持体を用いる場合は、支持体上に製膜する必要がある。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。   The photocurable transfer layer (photocurable transfer sheet) made of the photocurable composition used in the present invention is, for example, a reactive diluent having a polymer (preferably Tg of 80 ° C. or higher) and a photopolymerizable functional group ( Monomers and oligomers), diisocyanate cyanate if necessary, and other additives if necessary, kneaded with an extruder, roll, etc., and then predetermined by a film forming method such as calendering, roll, T-die extrusion, inflation, etc. The film can be formed into a shape and used. When using a support, it is necessary to form a film on the support. More preferably, the photocurable adhesive film-forming method of the present invention is obtained by uniformly mixing and dissolving each constituent component in a good solvent, and then applying this solution to a separator precisely coated with silicone or fluororesin. , A gravure roll method, a Myer bar method, a lip die coating method or the like, and a method of forming a film by drying a solvent.

また、光硬化性転写層(光硬化性転写シート)の厚さは1〜1200μm、特に5〜500μmとすることが好ましい。特に5〜300μm(好ましくは150μm以下)が好ましい。1μmより薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。一方、1000μmより厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を与えるおそれもある。   The thickness of the photocurable transfer layer (photocurable transfer sheet) is preferably 1 to 1200 μm, particularly preferably 5 to 500 μm. Particularly preferred is 5 to 300 μm (preferably 150 μm or less). If it is thinner than 1 μm, the sealing performance is poor, and the unevenness of the transparent resin substrate may not be filled. On the other hand, if the thickness is larger than 1000 μm, the thickness of the recording medium increases, which may cause problems in the storage and assembly of the recording medium, and may also affect the light transmission.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層と、その一方の側又は両側に剥離シートとを有する。さらに、一方の側に設けられた特定の第1剥離シートと他方の側に設けられた第1剥離シートと異なる性質の第2剥離シートとを有することが好ましい。   The photocurable transfer sheet used in the present invention generally has a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure, and a release sheet on one side or both sides thereof. Furthermore, it is preferable to have a specific first release sheet provided on one side and a second release sheet having different properties from the first release sheet provided on the other side.

上記第1剥離シートは、一般にヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる剥離層を有する。即ち、光硬化性転写層の表面と接する、第1剥離シートの第1剥離層は、スタンパの除去が容易となるように剥離性が高く(一般に、剥離性低分子量成分が少ない或いは表面張力が低い)、他方、第2剥離シートの光硬化性層の表面と接する側の表面である第2剥離層は、転写層と基板表面との接着性が要求されるので剥離性がそれほど高くはなっていない(一般に、剥離性低分子量成分が少ない、或いは表面張力がそれほど低くない)。   The first release sheet generally has a release layer made of a condensation reaction product of a polysiloxane having a hydroxyl group and a hydrogenated polysiloxane. That is, the first release layer of the first release sheet that is in contact with the surface of the photo-curable transfer layer has high peelability so that the stamper can be easily removed (generally, the peelable low molecular weight component is small or the surface tension is low. On the other hand, the second release layer, which is the surface of the second release sheet that is in contact with the surface of the photocurable layer, requires adhesiveness between the transfer layer and the substrate surface, so that the peelability is so high. (In general, the peelable low molecular weight component is small or the surface tension is not so low).

第1剥離シートの剥離層は、上記のようにヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる層である必要があるが、第2剥離シートの剥離層はどのような層でも良い。第2剥離シートの剥離層は、一般的な剥離層であり、一般に、転写層の反射層との接着性を低下させない層であり、第1剥離シートの剥離層より表面張力が低い層が好ましい。   The release layer of the first release sheet needs to be a layer composed of a condensation reaction product of a polysiloxane having a hydroxyl group and a hydrogenated polysiloxane as described above, but what is the release layer of the second release sheet? It can be a layer. The release layer of the second release sheet is a general release layer, and is generally a layer that does not lower the adhesiveness of the transfer layer to the reflective layer, and preferably has a lower surface tension than the release layer of the first release sheet. .

本発明の第1剥離シートの剥離層は、前記のように、ヒドロキシル基を有するポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)と水素化ポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)から形成される層である。一般に、これらは、スズ系化合物等の触媒の存在下に、加熱して付加反応させることにより、本発明の剥離層(比較的低い表面張力の層)が得られる。   As described above, the release layer of the first release sheet of the present invention is a layer formed from a polysiloxane having a hydroxyl group (preferably dimethylpolysiloxane) and a hydrogenated polysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane). Generally, these are heated and subjected to an addition reaction in the presence of a catalyst such as a tin compound, whereby the release layer of the present invention (a layer having a relatively low surface tension) is obtained.

上記第1剥離層は、上記シリコーン樹脂等を溶剤に溶解又は分散させ、リバースロールコート、グラビアコート、バーコート、ドクターブレードコート等により透明フィルムに塗布し、適当な時間加熱して得ることができる。加熱温度は一般に100〜150℃、好ましくは120〜140℃、加熱時間は一般に10〜60秒、好ましくは20〜30秒である。第1剥離層の層厚は、一般に300〜1500nm、500〜800nmが好ましい。層厚が、上記範囲未満では、塗布性の安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難になる場合がある。一方、上記範囲を超えて厚塗りにすると、剥離層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下する場合がある。   The first release layer can be obtained by dissolving or dispersing the silicone resin or the like in a solvent, applying it to a transparent film by reverse roll coating, gravure coating, bar coating, doctor blade coating, etc., and heating for an appropriate time. . The heating temperature is generally 100 to 150 ° C, preferably 120 to 140 ° C, and the heating time is generally 10 to 60 seconds, preferably 20 to 30 seconds. In general, the thickness of the first release layer is preferably 300 to 1500 nm and 500 to 800 nm. When the layer thickness is less than the above range, the coatability is not stable and it may be difficult to obtain a uniform coating film. On the other hand, if the coating thickness exceeds the above range, the coating film adhesion, curability and the like of the release layer itself may decrease.

一方、第2剥離シートの剥離層は、一般的な剥離層であり、下記のいずれの樹脂からなる層であっても良い。即ち、第2剥離シートの剥離層は、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から形成されていても、或いは熱可塑性樹脂又は熱硬化性のシリコーン樹脂等から形成されていても良い。本発明の第2剥離シートの剥離層は、反応型のシリコーン樹脂が好ましい。特に、不飽和2重結合基(好ましくはビニル基)を有するポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)と水素化ポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)とを用いることが好ましい。不飽和2重結合基を有するポリシロキサンの代わりに、不飽和2重結合基を有するポリアルキレンオキシド等を用いることもできる。   On the other hand, the release layer of the second release sheet is a general release layer, and may be a layer made of any of the following resins. That is, the release layer of the second release sheet may be formed from a thermoplastic resin or thermosetting resin that does not contain silicon atoms, or may be formed from a thermoplastic resin or a thermosetting silicone resin. . The release layer of the second release sheet of the present invention is preferably a reactive silicone resin. In particular, it is preferable to use a polysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane) having an unsaturated double bond group (preferably a vinyl group) and a hydrogenated polysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane). Instead of the polysiloxane having an unsaturated double bond group, a polyalkylene oxide having an unsaturated double bond group can also be used.

第2剥離シートの剥離層は、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から形成されているか、或いは熱可塑性樹脂又は上記以外の熱硬化性のシリコーン樹脂でもよい。   The release layer of the second release sheet may be formed from a thermoplastic resin or thermosetting resin that does not contain silicon atoms, or may be a thermoplastic resin or a thermosetting silicone resin other than those described above.

上記第2剥離層は、上記シリコーン樹脂等を溶剤に溶解又は分散させ、リバースロールコート、グラビアコート、バーコート、ドクターブレードコート等により透明フィルムに塗布し、適当な時間加熱して得ることができる。加熱温度は、使用する樹脂の種類により異なる。一般に100〜150℃、好ましくは120〜140℃、加熱時間は一般に10〜60秒、好ましくは20〜30秒である。第2剥離層の層厚は、一般に300〜1500nm、500〜800nmが好ましい。層厚が、上記範囲未満では、塗布性の安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難になる場合がある。一方、上記範囲 を超えて厚塗りにすると、剥離層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下する場合がある。   The second release layer can be obtained by dissolving or dispersing the silicone resin or the like in a solvent, applying it to a transparent film by reverse roll coating, gravure coating, bar coating, doctor blade coating, etc., and heating for an appropriate time. . The heating temperature varies depending on the type of resin used. In general, it is 100 to 150 ° C., preferably 120 to 140 ° C., and the heating time is generally 10 to 60 seconds, preferably 20 to 30 seconds. In general, the thickness of the second release layer is preferably 300 to 1500 nm and 500 to 800 nm. When the layer thickness is less than the above range, the coatability is not stable and it may be difficult to obtain a uniform coating film. On the other hand, if the coating is thickened beyond the above range, the adhesion and curability of the release layer itself may decrease.

剥離シート(例、第1及び第2剥離シート)のプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂フィルムを用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートのフィルムが好適に用いることができ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。   Examples of plastic films for release sheets (eg, first and second release sheets) include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, and polyphthalamide. In addition to polyamide resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone, polyether nitrile, polyarylate, polyether imide, polyamide imide, polycarbonate, A transparent resin film mainly composed of an organic resin such as polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, or polyvinyl chloride can be used. Among these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate films can be suitably used, and polyethylene terephthalate films are particularly preferable. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層とその両側に上記の第1、第2剥離シートを有するものである場合、この光硬化性転写シートはアニール処理されていることが好ましい。即ち、アニール処理した光硬化性転写シートを用いて、前述の光情報記録媒体を製造することが好ましい。アニール処理は、転写シートを30〜100℃、特に40〜70℃の温度で、1時間〜30日間、特に10時間〜10日間に亘って保管することにより行うことが好ましい。転写シートは、一般にロール状態(巻かれた状態)でアニール処理することが好ましい。このようなアニール処理により、第1剥離シートの剥離層の剥離を促進する成分(離型成分)が、光硬化性転写層への移行が進み、スタンパの除去が容易になると考えられる。   The photocurable transfer sheet used in the present invention has a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressurization and the first and second release sheets described above on both sides thereof. The photocurable transfer sheet is preferably annealed. That is, it is preferable to manufacture the above-mentioned optical information recording medium using an annealed photocurable transfer sheet. The annealing treatment is preferably performed by storing the transfer sheet at a temperature of 30 to 100 ° C., particularly 40 to 70 ° C., for 1 hour to 30 days, particularly 10 hours to 10 days. In general, the transfer sheet is preferably annealed in a roll state (a wound state). By such annealing treatment, it is considered that the component (release component) that promotes peeling of the release layer of the first release sheet proceeds to the photocurable transfer layer, and the stamper can be easily removed.

表面に微細凹凸を有する基板21の材料としてはとしては、ガラス転移温度が50℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは200〜2000μmが好ましく、特に500〜1500μmが好ましい。   As a material of the substrate 21 having fine irregularities on the surface, a transparent organic resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher is preferable. Examples of such a support include polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Polyester resins such as nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resins such as polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, and sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone. And organic resins such as polyether nitrile, polyarylate, polyether imide, polyamide imide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, and polyvinyl chloride. It can be a transparent resin substrate having a. Among these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate are excellent in terms of transferability and birefringence, and can be suitably used. The thickness is preferably 200 to 2000 μm, particularly preferably 500 to 1500 μm.

有機ポリマーフィルムの材料26としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは10〜200μmが好ましく、特に50〜100μmが好ましい。   The organic polymer film material 26 is preferably a transparent organic resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. Examples of such a support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and nylon. 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resins such as polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, polysulfone, sulfone resins such as polyether sulfone, polyether nitrile, Transparent tree mainly composed of organic resins such as polyarylate, polyetherimide, polyamideimide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride Substrate can be used. Among these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate are excellent in terms of transferability and birefringence, and can be suitably used. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 50 to 100 μm.

こうして得られる本発明に光硬化性転写シートでは、さらに光硬化性転写層の380〜420nmの波長領域の光透過率が70%以上であることが好ましい。   In the photocurable transfer sheet thus obtained in the present invention, it is preferable that the light transmittance in the wavelength region of 380 to 420 nm of the photocurable transfer layer is 70% or more.

光硬化性転写シートは380〜420nm(好ましくは380〜800nm)の波長領域の光透過率が70%以上であり、これはレーザによる読み取り信号の強度低下を防止するためである。さらに380〜420nmの波長領域の光透過率が80%以上であることが好ましい。   The photocurable transfer sheet has a light transmittance of 70% or more in a wavelength region of 380 to 420 nm (preferably 380 to 800 nm), in order to prevent a decrease in intensity of a read signal by a laser. Furthermore, the light transmittance in the wavelength region of 380 to 420 nm is preferably 80% or more.

本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、基板及びスタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で20〜100℃で仮圧着した後、光により常温、1〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。   Since the photocurable transfer sheet of the present invention can be provided in the form of a film whose film thickness accuracy is precisely controlled, it is possible to easily and accurately bond the substrate and the stamper. In addition, this bonding can be carried out at 20 to 100 ° C. by a simple method such as a pressure roll or a simple press, and then cured by light at room temperature for 1 to several tens of seconds. Since it is difficult for displacement and peeling to occur in the laminate, it has a feature that it can be handled freely until photocuring.

本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、0.1秒〜数十秒程度、好ましくは0.5〜数秒である。紫外線照射量は、300mJ/cm以上が好ましい。 When the photocurable transfer sheet of the present invention is cured, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible region can be used as the light source. A lamp, a carbon arc lamp, an incandescent lamp, a laser beam, etc. are mentioned. The irradiation time is not generally determined depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about 0.1 to several tens of seconds, preferably 0.5 to several seconds. The ultraviolet irradiation amount is preferably 300 mJ / cm 2 or more.

また、硬化促進のために、予め積層体を30〜80℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。   In order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 30 to 80 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

得られた本発明の基板の微細凹凸表面の反射層或いは硬化した転写層上の反射層は、基板等に反射層を金属蒸着(例えばスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等)することにより形成する。金属としては、アルミニウム、金、銀、これらの合金等を挙げることができる。銀合金が好ましく、特にAgX(XはCu・Pd又はCu・Ndが好ましい)が好ましい。本発明の反射層は、特に、銀合金(AgX(好ましくはAg・Cu・Pd(97.4:0.9:1.7(質量比))[例えばフルヤ金属(株)製のAPC]又はAg・Cu・Nd(98.4:0.7:0.9(質量比))[例えばコベルコ科研(株)製のANC]))等から構成されていることが好ましい。   The reflection layer on the fine uneven surface of the obtained substrate of the present invention or the reflection layer on the cured transfer layer is formed by metal deposition (for example, sputtering, vacuum deposition, ion plating, etc.) of the reflection layer on the substrate or the like. . Examples of the metal include aluminum, gold, silver, and alloys thereof. A silver alloy is preferable, and AgX (X is preferably Cu · Pd or Cu · Nd) is particularly preferable. In particular, the reflective layer of the present invention comprises a silver alloy (AgX (preferably Ag · Cu · Pd (97.4: 0.9: 1.7 (mass ratio)) [for example, APC manufactured by Furuya Metal Co., Ltd.] or Ag · Cu · Nd ( 98.4: 0.7: 0.9 (mass ratio)) [for example, ANC manufactured by Kobelco Research Institute, Inc.])) and the like.

一般に、基板上の半透明反射層は、金属として銀等を用いて形成される。即ち、転写層の硬化層上には、上記反射層より高い反射率の反射層にする必要があり、成分、層厚等が変更される。例えば、銀合金の反射層を層厚を変えることにより反射率を変更することができるので、複数の反射層(低反射層から高反射層まで)を銀合金の反射層の厚さを変えて設けることができる。   In general, the translucent reflective layer on the substrate is formed using silver or the like as a metal. That is, on the cured layer of the transfer layer, it is necessary to provide a reflective layer having a higher reflectance than the reflective layer, and the components, layer thickness, etc. are changed. For example, since the reflectance can be changed by changing the layer thickness of the silver alloy reflective layer, a plurality of reflective layers (from the low reflective layer to the high reflective layer) can be changed by changing the thickness of the silver alloy reflective layer. Can be provided.

硬化シートの反射層上に有機ポリマーフィルムを貼り付ける場合、一方に接着剤を塗布し、その上に他方を重ね、硬化させる。接着剤がUV硬化性樹脂の場合はUV照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加熱下に塗布し、冷却することにより得られる。   When an organic polymer film is pasted on the reflective layer of the cured sheet, an adhesive is applied on one side, and the other is stacked thereon and cured. When the adhesive is a UV curable resin, it is obtained by UV irradiation, and when it is a hot melt adhesive, it is obtained by applying and cooling under heating.

本発明の光情報記録媒体の製造は、通常、上記のように円盤状で処理されるが、シート状で連続的に作成し、最後に円盤状にしてもよい。   The production of the optical information recording medium of the present invention is usually processed in a disc shape as described above, but it may be continuously formed in a sheet shape and finally in a disc shape.

以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。   The following examples further illustrate the present invention.

[実施例1]
<光硬化性転写シートの作製>
(アクリロイル基を有するポリマー2の作製)
ポリマー配合1
メチルメタクリレート 74質量部
n−ブチルメタクリレート 13質量部
グリシジルメタクリレート 13質量部
(商品名ブレンマーG;日本油脂(株)製)
AIBN 1.2質量部
トルエン 70質量部
酢酸エチル 30質量部
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、70℃に加熱して重合を開始させ、この温度で8時間撹拌し、側鎖にグリシジル基を有するポリマー1(アクリル樹脂)を得た。これにアクリル酸(6.6質量部)を加えて、70℃に加熱し、この温度で5時間撹拌し、アクリロイル基を有するポリマー1を得た。固形分を36質量%に調製した(ポリマー溶液2)。
[Example 1]
<Preparation of photocurable transfer sheet>
(Preparation of polymer 2 having acryloyl group)
Polymer blend 1
Methyl methacrylate 74 parts by mass n-butyl methacrylate 13 parts by mass Glycidyl methacrylate 13 parts by mass (Blenmer G, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.)
AIBN 1.2 parts by mass Toluene 70 parts by mass Ethyl acetate 30 parts by mass While stirring gently, the mixture was heated to 70 ° C. to initiate polymerization, and stirred at this temperature for 8 hours. A polymer 1 (acrylic resin) having a glycidyl group was obtained. Acrylic acid (6.6 parts by mass) was added thereto, heated to 70 ° C., and stirred at this temperature for 5 hours to obtain a polymer 1 having an acryloyl group. The solid content was adjusted to 36% by mass (polymer solution 2).

得られたポリマー1は、Tgが100℃であり、重量平均分子量が110000であった。   The obtained polymer 1 had a Tg of 100 ° C. and a weight average molecular weight of 110,000.

組成物配合1
アクリロイル基を有するポリマー溶液2 100質量部
ヘキサンジオールジアクリレート(KS−HDDA) 110質量部
ジイソシアネート(BXX5627、東洋インキ製造(株)製) 1質量部
イルガキュア651(チバガイギー(株)製) 1質量部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ) 0.05質量部
上記配合の混合物を均一に溶解、混練し、剥離シート(幅140mm、長さ300m、厚さ75μm;商品名No.23、藤森工業(株)製)上に、全面塗布し、乾燥厚さ20μmの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に上記と同一の剥離シートを貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール(直径260mm)を得た。光硬化性転写層のTgは、0℃であった。
Composition formulation 1
Polymer solution 2 having an acryloyl group 100 parts by weight Hexanediol diacrylate (KS-HDDA) 110 parts by weight Diisocyanate (BXX5627, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 1 part by weight Irgacure 651 (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1 part by weight Hydroquinone Monomethyl ether (MEHQ) 0.05 parts by mass The above blended mixture is uniformly dissolved and kneaded, and on a release sheet (width 140 mm, length 300 m, thickness 75 μm; trade name No. 23, manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) Then, a photocurable transfer layer having a dry thickness of 20 μm is formed on the entire surface, a release sheet identical to the above is applied to the opposite side of the sheet, wound up into a roll, and a full edge type photocurable transfer sheet. A roll (diameter 260 mm) was obtained. The Tg of the photocurable transfer layer was 0 ° C.

<光情報記録媒体の作製>
光情報記録媒体を、下記の(2)光情報記録媒体の作製及び評価で示すようにして作製した。
<Production of optical information recording medium>
An optical information recording medium was manufactured as shown in the following (2) Preparation and evaluation of optical information recording medium.

[実施例2]
実施例1と同じ光硬化性転写シートを用意した。但し、光情報記録媒体を、下記の(2)光情報記録媒体の作製及び評価で示すようにして作製したが、離型剤の配合の調製におけるリン酸エステルとして、式(II)の、R:オクチル、R:−CHCH−、n:3である、商品名N3A(クローダジャパン(株)製)を同量使用した。
[Example 2]
The same photocurable transfer sheet as in Example 1 was prepared. However, the optical information recording medium was prepared as shown in the following (2) Preparation and evaluation of optical information recording medium, but R of formula (II) was used as the phosphate ester in the preparation of the release agent formulation. 1 : Octyl, R 2 : —CH 2 CH 2 —, n: 3, trade name N3A (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.) was used in the same amount.

[実施例3]
実施例1と同じ光硬化性転写シートを用意した。但し、光情報記録媒体を、下記の(2)光情報記録媒体の作製及び評価で示すようにして作製したが、組成物配合の調製におけるリン酸エステルとして、式(II)の、R:オクチル、R:−CHCH−、n:10である、商品名N10A(クローダジャパン(株)製)を同量使用した。
[Example 3]
The same photocurable transfer sheet as in Example 1 was prepared. However, the optical information recording medium was prepared as shown in the following (2) Preparation and evaluation of optical information recording medium, but R 1 in formula (II) as a phosphate ester in the preparation of the composition: The same amount of trade name N10A (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.), which is octyl, R 2 : —CH 2 CH 2 —, n: 10, was used.

[比較例1]
実施例1と同じ光硬化性転写シートを用意した。但し、光情報記録媒体を、下記の(2)光情報記録媒体の作製及び評価で示すようにして作製したが、スタンパを離型剤で処理しなかった。
[Comparative Example 1]
The same photocurable transfer sheet as in Example 1 was prepared. However, the optical information recording medium was produced as shown in the following (2) Production and evaluation of optical information recording medium, but the stamper was not treated with a release agent.

[実施例4]
実施例1において、組成物配合の調製において、配合の混合物を均一に溶解、混練し、下記の第2剥離シート1の剥離層上に、全面塗布し、乾燥厚さ25μmの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に下記の第2剥離シート1をその剥離層と転写層が接触するように貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール(直径260mm)を得た。
(第2剥離シート1)
第2剥離層1配合(付加型シリコーン)
TPR6700(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
CM670(白金触媒、 (株)製) 1質量部
トルエン 499質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の表面に、第2剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後140℃で30秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの第2剥離層1を形成した。
(第1剥離シート1)
第1剥離層1配合(縮合型シリコーン)
XS56−A3075(東芝シリコーン(株)製; 100質量部
YC6831(スズ触媒、東芝シリコーン(株)製) 4質量部
YC6919(スズ触媒、東芝シリコーン(株)製) 2質量部
トルエン 2000質量部
PETフィルム(幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)の裏面に、第1剥離層1配合の混合物を、ロール塗布し、その後150℃で10秒間加熱して、付加反応させ、厚さ500nmの第1剥離層1を形成した。

(1)光硬化性転写シートの評価
(1−1)ガラス転移温度(Tg)の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ20mm、幅4mm(厚さ25μm)に裁断してサンプルとした。
[Example 4]
In Example 1, in the preparation of the composition blending, the blended mixture was uniformly dissolved and kneaded, and applied onto the entire surface of the release layer of the second release sheet 1 described below, and a photocurable transfer layer having a dry thickness of 25 μm. A second release sheet 1 described below is attached to the opposite side of the sheet so that the release layer and the transfer layer are in contact with each other, wound up into a roll shape, and a full-edge type roll (260 mm in diameter) of a photocurable transfer sheet. )
(Second release sheet 1)
Second release layer 1 formulation (addition type silicone)
TPR6700 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd .; 100 parts by mass CM670 (platinum catalyst, manufactured by Co., Ltd.) 1 part by weight Toluene 499 parts by weight On the surface of the PET film (width 300 mm, length 300 m, thickness 75 μm), second peeling The mixture of layer 1 was roll-coated and then heated at 140 ° C. for 30 seconds to cause an addition reaction to form a second release layer 1 having a thickness of 500 nm.
(First release sheet 1)
1st release layer 1 formulation (condensation type silicone)
XS56-A3075 (manufactured by Toshiba Silicone Corp.); 100 parts by mass YC6831 (tin catalyst, manufactured by Toshiba Silicone Corp.) 4 parts by mass YC6919 (tin catalyst, manufactured by Toshiba Silicone Corp.) 2 parts by mass Toluene 2000 parts by mass PET film On the back surface (width 300 mm, length 300 m, thickness 75 μm), the mixture of the first release layer 1 was roll-coated, then heated at 150 ° C. for 10 seconds to cause addition reaction, and the first 500 nm thick first A release layer 1 was formed.

(1) Evaluation of photocurable transfer sheet (1-1) Measurement of glass transition temperature (Tg) The release sheets on both sides were removed from the obtained photocurable transfer sheet, and the length was 20 mm and the width was 4 mm (thickness 25 μm). ) To obtain a sample.

サンプルのTgを、TMA (Thermal Mechanical Analysis) 装置SS6100(SIIナノテクノロジー(株)製)を用いて、サンプル温度:30〜120℃、昇温レート:5℃/分、引張張力:4.9×10Paの条件で測定した。
以上の条件で試験を行うと、図7に示すグラフが得られ、安定領域の接線と伸び領域の最大傾斜からの接線との交点をガラス転移温度とした。

(2)光情報記録媒体の作製及び評価
(2−1)基板、反射層及び硬化転写層の積層体(光情報記録媒体)の作製
光硬化性転写シートのロールを円盤状に打ち抜いた後、一方の剥離シート(第2剥離シート)を除去し、得られた円盤状光硬化性転写シートを、射出成形により成形したピットとしての微細凹凸面を有するポリカーボネート基板(厚さ1.1mm)の微細凹凸面に設けられた厚さ40nmの銀合金(Ag・Cu・Nd(組成比98.4:0.7:0.9(質量))の半透過反射層上に、転写シート面と反射層が接触するように配置し、シリコーンゴム製のローラを用いて2kgの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成した(図3の(2)に対応)。
Using a TMA (Thermal Mechanical Analysis) apparatus SS6100 (manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.), Tg of the sample was sample temperature: 30 to 120 ° C., temperature rising rate: 5 ° C./min, tensile tension: 4.9 × It measured on the conditions of 10 < 5 > Pa.
When the test was performed under the above conditions, the graph shown in FIG. 7 was obtained, and the intersection of the tangent line of the stable region and the tangent line from the maximum slope of the stretched region was defined as the glass transition temperature.

(2) Production and Evaluation of Optical Information Recording Medium (2-1) Production of Laminate (Optical Information Recording Medium) of Substrate, Reflective Layer, and Cured Transfer Layer After punching the roll of the photocurable transfer sheet into a disk shape, One release sheet (second release sheet) was removed, and the resulting disc-shaped photocurable transfer sheet was finely formed on a polycarbonate substrate (thickness 1.1 mm) having fine irregular surfaces as pits formed by injection molding. On the semi-transmissive reflective layer of a silver alloy (Ag.Cu.Nd (composition ratio 98.4: 0.7: 0.9 (mass))) having a thickness of 40 nm provided on the uneven surface, the transfer sheet surface and the reflective layer The photocurable transfer sheet was pressed with a load of 2 kg using a roller made of silicone rubber to form a laminate (corresponding to (2) in FIG. 3).

ピットとしての微細凹凸表面を有するニッケル製のスタンパの微細凹凸表面に、下記の配合の離型剤をスピンコートにより塗布し、0.05μmの塗布層を設けた。
(離型剤配合)
リン酸エステル 1質量部
(商品名LTP−2;川研ファインケミカル(株)製)
酢酸エチル 99質量部
積層体の光硬化性転写シートのもう一方の剥離シート(第1剥離シート)を除去し、その除去された転写シート表面に、上記離型剤で処理したピットとしての微細凹凸面を有するニッケル製のスタンパを50℃に温調し、このスタンパの微細凹凸面とシート表面とが接触するように配置して、シリコーンゴム製のローラを用いて2kgの荷重でスタンパを押圧し、積層体を形成し、ニッケル製のスタンパの微細凹凸形状を転写シート表面に転写した(図3の(4)に対応)。
A release agent having the following composition was applied by spin coating on a fine uneven surface of a nickel stamper having a fine uneven surface as a pit to provide a 0.05 μm coating layer.
(Contains release agent)
1 part by mass of phosphate ester (trade name LTP-2; manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.)
99 parts by mass of ethyl acetate The other release sheet (first release sheet) of the photocurable transfer sheet of the laminate was removed, and fine irregularities as pits treated with the release agent on the removed transfer sheet surface A nickel stamper having a surface is adjusted to a temperature of 50 ° C., and the stamper is pressed with a load of 2 kg using a silicone rubber roller. Then, a laminate was formed, and the fine uneven shape of the nickel stamper was transferred to the transfer sheet surface (corresponding to (4) in FIG. 3).

次に、光硬化性転写シート側から、メタルハライドランプ(600mW/cm)を用いて、前記反射層(Ag・Cu・Nd)の半透過反射層を介して、積算光量300mJ/cmの条件でUV照射し(照射距離20cm、照射時間1.0秒)、転写シートを硬化させた(図3の(5)に対応)。 Next, from the photo-curable transfer sheet side, using a metal halide lamp (600 mW / cm), the semi-transmissive reflective layer of the reflective layer (Ag / Cu / Nd) is used under the condition of an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 . The transfer sheet was cured by UV irradiation (irradiation distance 20 cm, irradiation time 1.0 seconds) (corresponding to (5) in FIG. 3).

硬化直後に、得られた積層体を突き上げることにより、積層体からスタンパを剥離、除去した。これにより、基板、反射層及び微細凹凸形状が転写された硬化転写層の積層体を得た。   Immediately after curing, the resulting laminate was pushed up to peel and remove the stamper from the laminate. Thereby, the laminated body of the hardening transfer layer to which the board | substrate, the reflection layer, and the fine uneven | corrugated shape were transcribe | transferred was obtained.

この後の反射層の形成等の工程は省略した。
(2−2)スタンパの剥離性
スタンパの剥離性を評価するため、上記光情報記録媒体を、同一のスタンパで何枚作製可能かを調査した。調査は10枚ごとに行った。スタンパ除去後、反射層上に硬化した転写層の一部がスタンパに付着した段階で不合格とし、それまで得られた枚数を表記した。
(2−3)耐湿熱性
得られた光情報記録媒体を、湿熱オーブン(60℃、80%RH)に1000時間保管し、反射層の銀の腐食の程度を観察した。
Subsequent steps such as formation of the reflective layer were omitted.
(2-2) Removability of stamper In order to evaluate the releasability of the stamper, it was investigated how many optical information recording media can be produced with the same stamper. The survey was conducted every 10 sheets. After the stamper was removed, the transfer layer cured on the reflective layer was rejected when it adhered to the stamper, and the number of sheets obtained so far was indicated.
(2-3) Moisture and heat resistance The obtained optical information recording medium was stored in a moist heat oven (60 ° C., 80% RH) for 1000 hours, and the degree of silver corrosion of the reflective layer was observed.

○:反射層の変色無し ×:反射層の変色有り
(2−4)ガラス転移温度(Tg)の測定
(1−1)と同様にして得られたサンプルに、積算光量300mJ/cmの条件でUV照射し、(1−1)と同様にしてTgを測定した。
○: Reflective layer is not discolored ×: Reflective layer is discolored (2-4) Measurement of glass transition temperature (Tg) (1-1) In a sample obtained in the same manner as in (1-1), an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 And Tg was measured in the same manner as in (1-1).

積算光量(300mJ/cm)は、フュージョンUVシステムズジャパン(株)製UV Power Puck(UV−Aバンド測定)を用いて層表面で測定した。 The integrated light quantity (300 mJ / cm 2 ) was measured on the surface of the layer using UV Power Pack (UV-A band measurement) manufactured by Fusion UV Systems Japan.

得られた試験結果を表1に示す。   The test results obtained are shown in Table 1.

Figure 2008044237
Figure 2008044237

実施例1〜3で得られた光硬化性転写シートを用いた場合、1個のスタンパで、硬化した転写層に剥離無しで微細凹凸の形成を極めて多数回行うことができたが、本発明とは種類の異なる他の滑剤を用いた比較例1及び2のシートでは、大量に行うことはできなかった。また、耐湿熱性から分かるように、離型剤による媒体(反射層)への悪影響は無いと考えられる。   When the photocurable transfer sheets obtained in Examples 1 to 3 were used, it was possible to form fine irregularities on the cured transfer layer without peeling with a single stamper very many times. The sheet of Comparative Examples 1 and 2 using other lubricants of different types could not be carried out in large quantities. Further, as can be seen from the resistance to moist heat, it is considered that the release agent does not adversely affect the medium (reflection layer).

また実施例4の剥離シートとして2種の異なるものを用いた場合は、スタンパの使用可能枚数はさらに向上した(30000枚)。   Further, when two different types of release sheets were used as Example 4, the usable number of stampers was further improved (30000 sheets).

本発明の凹凸パターンの形成方法における代表的な実施の形態を描いた概略断面図である。It is a schematic sectional drawing on which typical embodiment in the formation method of the concavo-convex pattern of the present invention was drawn. 本発明で用いられる光硬化性転写シートの実施形態の代表例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the representative example of embodiment of the photocurable transfer sheet used by this invention. 本発明に従う光情報記録媒体の製造方法の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the optical information recording medium according to this invention. 本発明に従う光情報記録媒体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optical information recording medium according to this invention. 本発明に従う光情報記録媒体の別の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the optical information recording medium according to this invention. 二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明するための該略図である。It is this schematic for demonstrating the press method using the apparatus of a double vacuum chamber system. ガラス転移温度(Tg)の決定に用いられるグラフである。It is a graph used for determination of a glass transition temperature (Tg).

符号の説明Explanation of symbols

1 硬化性樹脂層
2 24 スタンパ
11 光硬化性転写層
12a 第2剥離シート
12b 第1剥離シート
21 基板
23a,23b,23c,23d 反射層
11a,11b,11c 硬化した光硬化性転写層
26 有機ポリマーフィルム(カバー層)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Curable resin layer 2 24 Stamper 11 Photocurable transfer layer 12a Second release sheet 12b First release sheet 21 Substrate 23a, 23b, 23c, 23d Reflective layer 11a, 11b, 11c Cured photocurable transfer layer 26 Organic polymer Film (cover layer)

Claims (35)

リン原子含有化合物を含むことを特徴とする離型剤。   A mold release agent comprising a phosphorus atom-containing compound. リン原子含有化合物が、少なくとも1個のリン酸基を有するリン酸エステル系化合物である請求項1に記載の離型剤。   The mold release agent according to claim 1, wherein the phosphorus atom-containing compound is a phosphate ester compound having at least one phosphate group. リン酸エステル系化合物におけるリン酸基1個当たりのアルコール残基の分子量が、50〜1000の範囲にある請求項2に記載の離型剤。   The mold release agent according to claim 2, wherein the molecular weight of the alcohol residue per phosphate group in the phosphate compound is in the range of 50 to 1,000. リン原子含有化合物が、下記の一般式(I):
Figure 2008044237

[但し、R、R及びRが、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、そしてR、R及びRの少なくとも1個が、
Figure 2008044237

{但し、Rが、アルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基、アリールアルキレン基、アルキレンポリオキシアルキレン基又はアリーレンポリオキシアルキレン基を表し、そしてR及びRが、上記R、R及びRと同義である}であっても良く、且つ
、R及びRの少なくとも1個は水素原子以外の基を表す。]
で表されるリン酸エステル系化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の離型剤。
The phosphorus atom-containing compound is represented by the following general formula (I):
Figure 2008044237

[However, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group, an alkylpolyoxyalkylene group or an arylpolyoxyalkylene group, Each may have a substituent, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 may be
Figure 2008044237

{Provided that R 4 represents an alkylene group, an arylene group, an alkylarylene group, an arylalkylene group, an alkylene polyoxyalkylene group or an arylene polyoxyalkylene group, and R 5 and R 6 represent the above R 1 , R 2 and It may be synonymous with R 3 }, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a group other than a hydrogen atom. ]
The mold release agent according to any one of claims 1 to 3, which is a phosphate ester-based compound represented by the formula:
一般式(I)において、R、R及びRが、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、且つR、R及びRの少なくとも1個は水素原子以外の基を表す請求項4に記載の離型剤 In the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl polyoxyalkylene group or an aryl polyoxyalkylene group, and R 1 , R 2 and R 3 The release agent according to claim 4, wherein at least one represents a group other than a hydrogen atom. リン原子含有化合物が、下記の一般式(II):
Figure 2008044237

[但し、Rが、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
が、−CHCH−又は−CH(CH)CH−を表し、そして
nが1〜20を表す。]
で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である請求項1〜5のいずれか1項に記載の離型剤。
The phosphorus atom-containing compound has the following general formula (II):
Figure 2008044237

[However, R 7 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, each of which may have a substituent,
R 8 represents —CH 2 CH 2 — or —CH (CH 3 ) CH 2 —, and n represents 1 to 20. ]
The mold release agent according to any one of claims 1 to 5, which is an alkyl polyoxyalkylene compound represented by the formula:
さらに有機溶剤を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の離型剤。   Furthermore, the mold release agent of any one of Claims 1-6 containing an organic solvent. リン原子含有化合物を、0.1〜10質量%含む請求項1〜7のいずれか1項に記載の離型剤。   The mold release agent of any one of Claims 1-7 containing 0.1-10 mass% of phosphorus atom containing compounds. ナノインプリントプロセス法に使用されるスタンパ用離型剤である請求項1〜8のいずれか1項に記載の離型剤。   It is a mold release agent for stampers used for the nanoimprint process method, The mold release agent of any one of Claims 1-8. 光情報記録媒体の記録情報としての微細凹凸面を形成するためのスタンパ用離型剤である請求項1〜8のいずれか1項に記載の離型剤。   The release agent according to any one of claims 1 to 8, which is a release agent for a stamper for forming a fine uneven surface as recording information of an optical information recording medium. 表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、請求項1〜8のいずれか1項に記載の離型剤で処理する工程、
離型剤が処理されたスタンパを、加圧により変形可能な硬化性樹脂層に、該スタンパの凹凸パターン表面が該樹脂層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該樹脂層の表面が該パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程;及び
該スタンパを有する積層体の樹脂層を硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、該層の表面に凹凸パターンを設ける工程;
を含む凹凸パターンの形成方法。
A step of treating the surface of the stamper having a fine uneven pattern on the surface with the release agent according to any one of claims 1 to 8,
The stamper treated with the release agent is placed on a curable resin layer that can be deformed by pressurization so that the uneven pattern surface of the stamper is in contact with the surface of the resin layer, and these are pressed to form the resin. Forming a laminate in which the surface of the layer adheres along the surface of the pattern; and curing the resin layer of the laminate having the stamper, and then removing the stamper to provide an uneven pattern on the surface of the layer Process;
A method for forming a concavo-convex pattern including
離型剤の処理が、離型剤の塗布である請求項11項に記載の凹凸パターンの形成方法。   The method for forming a concavo-convex pattern according to claim 11, wherein the treatment with the release agent is application of a release agent. 下記の工程(1)〜(4):
(1)加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層及び光硬化性転写層の一方又は両方の表面に設けられた剥離シートを含む光硬化性転写シートから、光硬化性転写シートが両面に剥離シートを有する場合に、その一方の剥離シートを除去する工程;
(2)該光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸表面を有し、さらに該微細凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の微細凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の微細凹凸表面の凹凸に沿って密着された積層体を形成する工程;
(3)該積層体のもう一方の剥離シートを除去し、該除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸表面を有し且つその微細凹凸表面が請求項1〜8のいずれか1項に記載の離型剤で処理されたスタンパを、該微細凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写層の表面が該微細凹凸表面の凹凸に沿って密着した積層体を形成する工程;及び
(4)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程;
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
The following steps (1) to (4):
(1) Photocuring from a photocurable transfer sheet comprising a photocurable transfer layer comprising a photocurable composition that can be deformed by pressure and a release sheet provided on one or both surfaces of the photocurable transfer layer. The step of removing one of the release sheets when the adhesive transfer sheet has release sheets on both sides;
(2) The photocurable transfer layer of the photocurable transfer sheet has a fine uneven surface as recording pits and / or grooves on the surface, and a reflective layer is provided along the uneven surface of the fine uneven surface. On the reflective layer of the substrate, the photocurable transfer sheet of the photocurable transfer sheet is placed so that the surface of the photocurable transfer layer is in contact with the fine uneven surface of the reflective layer, and these are pressed to form the photocurable transfer sheet. Forming a laminate in which the surface of the reflective layer is closely adhered along the unevenness of the fine uneven surface of the reflective layer;
(3) The other release sheet of the laminate is removed, and the surface of the removed photocurable transfer layer has a fine uneven surface as recording pits and / or grooves, and the fine uneven surface is claimed. The stamper treated with the release agent according to any one of Items 1 to 8 is placed so that the fine uneven surface is in contact with the surface of the transfer layer, and these are pressed to form the photocurable transfer A step of forming a laminate in which the surface of the layer adheres along the irregularities of the fine irregular surface; and (4) the photocurable transfer layer of the laminate having the stamper is cured by ultraviolet irradiation, and then the stamper is removed. A step of providing fine irregularities on the surface of the photocurable transfer layer;
The manufacturing method of the optical information recording medium characterized by the above-mentioned.
離型剤の処理が、離型剤の塗布である請求項13項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to claim 13, wherein the treatment with the release agent is application of a release agent. 反射層が、銀又は銀合金の層である請求項13又は14に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to claim 13 or 14, wherein the reflective layer is a layer of silver or a silver alloy. 前記工程(1)の前に、
(A)光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程
を行う請求項13〜15のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
Before the step (1),
(A) The manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 13-15 which performs the process of punching a photocurable transfer sheet in a disk shape.
前記工程(4)を行った後、さらに
(5)該積層体のもう一方の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び/又はグルーブとしての微細凹凸を有し且つ微細凹凸表面が前記離型剤で処理されたスタンパを該微細凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写層の表面が該微細凹凸表面の凹凸に沿って密着した積層体を形成する工程;及び
(6)該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程;
を含む請求項13〜16のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
After performing the step (4), (5) the surface of the photocurable transfer layer from which the other release sheet of the laminate is removed has fine irregularities as recording pits and / or grooves, and A stamper whose fine uneven surface is treated with the release agent is placed so that the fine uneven surface is in contact with the surface of the transfer layer, and the surface of the photocurable transfer layer is pressed by pressing them. (6) a photocurable transfer layer of the laminate having the stamper is cured by ultraviolet irradiation, and then the stamper is removed, whereby a photocurable transfer layer is formed. Providing fine irregularities on the surface of the substrate;
The manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 13-16 containing this.
スタンパが、ニッケル製である請求項13〜17のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for manufacturing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 17, wherein the stamper is made of nickel. 前記(4)及び/又は(6)の紫外線照射を少なくとも300mJ/cmの照射エネルギーで行う請求項13〜18のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。 Wherein (4) and / or a method of manufacturing the optical information recording medium according to any one of claims 13 to 18 for performing the ultraviolet irradiation in at least the irradiation energy of 300 mJ / cm 2 (6). 前記(4)及び/又は(6)で得られる硬化した光硬化性転写層のガラス転移温度が65℃以上である請求項13〜19のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 19, wherein a glass transition temperature of the cured photocurable transfer layer obtained in (4) and / or (6) is 65 ° C or higher. . 前記(5)〜(6)の工程を行った後、さらに
(7)光硬化性転写層の微細凹凸表面に反射層を設ける工程;
を含む請求項17〜20のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
(7) Step of providing a reflective layer on the fine uneven surface of the photocurable transfer layer after performing the steps (5) to (6);
The manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 17-20 containing this.
光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項13〜21のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 21, wherein the photocurable composition contains a polymer and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group. ポリマーのガラス転移温度が80℃以上である請求項22に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to claim 22, wherein the glass transition temperature of the polymer is 80 ° C or higher. 光硬化性転写層の300mJ/cmの紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上である請求項13〜23のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。 The method of manufacturing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 23 the glass transition temperature after ultraviolet irradiation of 300 mJ / cm 2 of light-curable transfer layer is 65 ° C. or higher. 光硬化性組成物のガラス転移温度が20℃未満である請求項13〜24のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 24, wherein the photo-curable composition has a glass transition temperature of less than 20C. ポリマーが、アクリル樹脂である請求項23〜25のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 23 to 25, wherein the polymer is an acrylic resin. アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%含むアクリル樹脂である請求項26に記載の光情報記録媒体の製造方法。   27. The method for producing an optical information recording medium according to claim 26, wherein the acrylic resin is an acrylic resin containing at least 50% by mass of repeating units of methyl methacrylate. アクリル樹脂が、光重合性官能基を有するアクリル樹脂である請求項26又は27に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to claim 26 or 27, wherein the acrylic resin is an acrylic resin having a photopolymerizable functional group. アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である請求項26〜28のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 26 to 28, wherein the acrylic resin is an acrylic resin having a hydroxyl group. 光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項13〜29のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 29, wherein the photocurable composition further contains a diisocyanate. ポリマーの重量平均分子量が100000以上である請求項22〜30のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 22 to 30, wherein the polymer has a weight average molecular weight of 100,000 or more. 光硬化性組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含む請求項13〜31のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 31, wherein the photocurable composition contains 0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator. 光硬化性転写層の厚さが5〜300μmである請求項13〜32のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 32, wherein the photocurable transfer layer has a thickness of 5 to 300 µm. 光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である請求項13〜33のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 13 to 33, wherein the photocurable transfer sheet has a long shape, and the photocurable transfer layer and the release sheet have substantially the same width. 請求項13〜34のいずれかに記載の製造方法により得られる光情報記録媒体。
An optical information recording medium obtained by the production method according to claim 13.
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