JP2008038027A - Organic polymer composition and optical waveguide and method for producing optical waveguide - Google Patents

Organic polymer composition and optical waveguide and method for producing optical waveguide Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic polymer composition which can match the thermal characteristics and birefringence of the core portion of an optical waveguide with those of its clad portion, can reduce the diffusion of light, can easily control refractive index, and can more simply form the optical waveguide at a lower cost in high accuracy, and to provide a method for producing an optical waveguide. <P>SOLUTION: This organic polymer composition comprising an organic polymer and fine light-transmitting particles for adjusting the refractive index of the organic polymer is characterized in that the average particle diameter of the fine light-transmitting particles is ≤20 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機高分子組成物及び光導波路並びに光導波路の製造方法に関し、更に詳しくは、主に光学用途に用いられる有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための光透過性微粒子とを含有する有機高分子組成物、及びこの有機高分子組成物を硬化しコア部とした光導波路、並びにこの光導波路の製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic polymer composition, an optical waveguide, and an optical waveguide manufacturing method. More specifically, the present invention relates to an organic polymer mainly used for optical applications, and light transmission for adjusting the refractive index of the organic polymer. The present invention relates to an organic polymer composition containing conductive fine particles, an optical waveguide that is obtained by curing the organic polymer composition to form a core portion, and a method for manufacturing the optical waveguide.

近年、インターネットのトラフィックの増大に伴い、光ファイバを用いた光通信網に対して一層の高速化及び大容量化が求められており、この光通信網を普及させるためにシステムの低価格化が求められている。
このシステムの低価格化においては、システムを構成する各種光デバイスの低価格化が必須であり、光デバイスを低コストで製造することがシステム低価格化における大きな課題となっている。
これらの光デバイスにおいては、二次元もしくは三次元構造の光導波路が採用されており、これらの光導波路は、石英基板等のリジッド基板の光導波路形成領域にイオン交換法や不純物熱拡散法等によりイオンを拡散させることにより形成される。
これらの従来型の導波路形成方法は、低損失の光導波路が得られるものの、石英基板等の材料が比較的高価な上に工程数も多く、低コスト化の要求に応えることは困難であった。
In recent years, with the increase in Internet traffic, there has been a demand for higher speed and larger capacity for optical communication networks using optical fibers. In order to popularize this optical communication network, the cost of the system has been reduced. It has been demanded.
In order to reduce the price of this system, it is indispensable to reduce the price of various optical devices constituting the system, and manufacturing an optical device at a low cost is a major issue in reducing the price of the system.
In these optical devices, optical waveguides having a two-dimensional or three-dimensional structure are adopted, and these optical waveguides are formed in an optical waveguide formation region of a rigid substrate such as a quartz substrate by an ion exchange method or an impurity thermal diffusion method. It is formed by diffusing ions.
Although these conventional waveguide formation methods can provide low-loss optical waveguides, it is difficult to meet the demand for cost reduction due to the relatively high cost of materials such as quartz substrates and a large number of processes. It was.

そこで、最近、これら従来の光導波路材料に代わるものとして、有機ポリマー(プラスチック)が注目されてきている。
有機ポリマーを用いた光導波路(以下、有機ポリマー導波路と称する)は、光導波路のコア及びクラッドを、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド等の有機ポリマーにより構成したもので、低価格で大面積化が容易である上、各種印刷法やスタンピング、エンボシング等、量産性に優れた光導波路形成方法が適用可能であることから、光導波路構造を有する各種光デバイスを低コストで製造し得る材料として期待されている。
さらに、この有機ポリマー導波路は、基材にフィルムを使用することにより、フレキシブル性を有する光導波路を形成することが可能であるから、従来のリジッド基板を用いた光導波路では適用することができなかった用途、例えば、電子部品間等を光によって接続するいわゆる光インターコネクト用途へ適用することが可能である。
Therefore, recently, an organic polymer (plastic) has been attracting attention as an alternative to these conventional optical waveguide materials.
An optical waveguide using an organic polymer (hereinafter referred to as an organic polymer waveguide) is composed of an organic polymer such as an acrylic resin, epoxy resin, polycarbonate, polystyrene, polyimide, etc., in the core and clad of the optical waveguide. It is easy to increase the area at low cost, and various optical devices with an optical waveguide structure can be manufactured at low cost because various optical printing methods such as various printing methods, stamping and embossing can be applied. It is expected as a material that can be manufactured.
Furthermore, since this organic polymer waveguide can form a flexible optical waveguide by using a film as a base material, it can be applied to a conventional optical waveguide using a rigid substrate. The present invention can be applied to applications that have not been used, for example, so-called optical interconnect applications in which electronic components are connected by light.

この有機ポリマー導波路の形成方法としては、反応性イオンエッチング法(RIE:Reactive Ion Etching)、直接露光法(例えば、特許文献1参照)、電子線等の高エネルギー線照射法、スタンピングやエンボシング等の成形加工法、微粒子添加法(例えば、特許文献2参照)等が提案されている。
直接露光法は、下部クラッド層上に形成した感光性樹脂前駆体層を、紫外線(UV)等を用いて所定のパターンで露光・現像してコア層とする方法であり、このコア層及び下部クラッド層上に上部クラッド層を形成することにより光導波路を作製することができる。
また、微粒子添加法は、有機ポリマーからなるクラッド部上に、この有機ポリマーにこれより屈折率が高い光透過性微粒子を含有してなるコア部を形成する方法であり、このコア部及びクラッド部上にさらにクラッド部を形成することにより光導波路を作製することができる。
Examples of the method for forming the organic polymer waveguide include reactive ion etching (RIE), direct exposure (see, for example, Patent Document 1), irradiation with high energy rays such as an electron beam, stamping, embossing, and the like. Have been proposed, for example, a method for adding fine particles (see, for example, Patent Document 2).
The direct exposure method is a method in which a photosensitive resin precursor layer formed on a lower cladding layer is exposed and developed in a predetermined pattern using ultraviolet (UV) or the like to form a core layer. An optical waveguide can be manufactured by forming an upper cladding layer on the cladding layer.
In addition, the fine particle addition method is a method of forming, on a clad portion made of an organic polymer, a core portion containing light transmissive fine particles having a higher refractive index than the organic polymer. An optical waveguide can be produced by further forming a clad portion thereon.

この微粒子添加法は、光導波路のコアとクラッドを同じ組成の有機ポリマーにより構成することが可能となるため、コアとクラッドの熱的特性や複屈折性が一致し、これらの不一致に起因する導波路特性の劣化を招くことが無く、さらに、微粒子添加量によりコアとクラッドの屈折率差を任意に調整することができる等の優れた特徴を有する。
この微粒子添加法では、粒径が50nm以下の微粒子が用いられているが、その理由は、可視光としては短波長である紫〜青色の光に対するミー散乱がほぼ無視することができ、散乱による光損失が低減するからと考えられている。
特開2005−165139号公報 特開2005−121696号公報
In this method of adding fine particles, the core and the clad of the optical waveguide can be made of an organic polymer having the same composition, so that the thermal characteristics and birefringence of the core and the clad coincide with each other. It has excellent characteristics such that the waveguide characteristics are not deteriorated and the refractive index difference between the core and the clad can be arbitrarily adjusted by adding the fine particles.
In this fine particle addition method, fine particles having a particle size of 50 nm or less are used. The reason is that Mie scattering for purple to blue light, which is a short wavelength as visible light, can be almost ignored. It is thought that light loss is reduced.
JP 2005-165139 A JP 2005-121696 A

ところで、従来の微粒子添加法では、有機ポリマー導波路の微粒子の粒径を50nm以下にしたとしても、レイリー散乱による散乱損失が残ってしまうという問題点があった。レイリー散乱による散乱損失は、光学薄膜のように光路長が数μm程度の場合には、余り問題とならないが、光導波路素子や光ファイバ等のように光路長が数cmから数m、あるいはそれ以上の場合には、無視することができなくなる。
また、従来の反応性イオンエッチング法では、真空プロセスを必要とするために、製造工程が複雑になるとともに、製造装置の構造も複雑かつ高価になり、したがって、量産性及び低コスト化の点で問題点があった。
By the way, the conventional fine particle addition method has a problem in that scattering loss due to Rayleigh scattering remains even if the particle size of the fine particles of the organic polymer waveguide is 50 nm or less. Scattering loss due to Rayleigh scattering is not a problem when the optical path length is about several μm as in an optical thin film, but the optical path length is from several centimeters to several meters as in an optical waveguide element or an optical fiber. In the above case, it cannot be ignored.
In addition, since the conventional reactive ion etching method requires a vacuum process, the manufacturing process becomes complicated, and the structure of the manufacturing apparatus becomes complicated and expensive. Therefore, in terms of mass productivity and cost reduction. There was a problem.

また、従来の成形加工法では、量産性は優れているものの、光導波路の精度が成形に用いる金型の精度に依存してしまうために、光導波路の加工精度をさらに向上させることが難しいという問題点があった。
しかも、この成形加工法は、導波路パターン毎に金型を変える必要があるために、少量多品種の光導波路に対応するためには、膨大な量の金型を用意する必要があり、製造コストの点からも問題点があった。
さらに、この金型は受注生産が主であるから、金型を発注してから納品されるまでに長時間を要し、リードタイムが長くなってしまうという問題点もあった。
In addition, although the conventional molding method is excellent in mass production, it is difficult to further improve the processing accuracy of the optical waveguide because the accuracy of the optical waveguide depends on the accuracy of the mold used for molding. There was a problem.
In addition, since this molding method requires changing the mold for each waveguide pattern, it is necessary to prepare a huge amount of molds in order to cope with a small variety of optical waveguides. There was also a problem in terms of cost.
Furthermore, since this mold is mainly made to order, there is also a problem that it takes a long time from ordering the mold to delivery, leading to a long lead time.

また、従来の直接露光法は、上記の各問題点を考慮すると、量産性、加工精度のバランスの点から有利と考えられるが、感光性樹脂の屈折率調整用として添加される微粒子に酸化チタンや酸化セリウム等、エネルギーギャップEgが3.2eV未満のものを用いた場合、パターニングの際に紫外線を吸収するために、紫外線に対して不透明となってしまうという問題点があった。
このため、予め形成されたクラッド部上にコア部形成用の微粒子添加有機ポリマーを塗布した後、導波路パターンを露光して光導波路を製造するような場合、クラッド部との界面にまで十分な量の紫外線が到達せず、パターンの転写性が悪化して光導波路の寸法精度が低下するという問題点があった。
Further, the conventional direct exposure method is considered advantageous from the viewpoint of the balance between mass productivity and processing accuracy in consideration of the above-mentioned problems, but titanium oxide is added to fine particles added for adjusting the refractive index of the photosensitive resin. When a material having an energy gap Eg of less than 3.2 eV such as cerium oxide or cerium oxide is used, it absorbs ultraviolet rays during patterning and thus becomes opaque to ultraviolet rays.
For this reason, in the case where an optical waveguide is manufactured by exposing a waveguide pattern after applying a fine particle-added organic polymer for forming a core portion on a previously formed cladding portion, the interface with the cladding portion is sufficient. There is a problem that the amount of ultraviolet rays does not reach, the pattern transferability deteriorates, and the dimensional accuracy of the optical waveguide decreases.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、光導波路のコア部とクラッド部の熱的特性及び複屈折性を一致させるとともに、光の散乱損失が低く、屈折率の制御が容易であり、さらには、より簡便かつより低コストで高精度に光導波路を形成することが可能な有機高分子組成物及び光導波路並びに光導波路の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems. The thermal characteristics and the birefringence of the core portion and the clad portion of the optical waveguide are matched, and the light scattering loss is low, and the refractive index is low. An object of the present invention is to provide an organic polymer composition, an optical waveguide, and a method for manufacturing the optical waveguide, which are easy to control and can form an optical waveguide more easily, at a lower cost, and with higher accuracy. .

本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための平均粒径が20nm以下の光透過性微粒子とを含有してなる有機高分子組成物により光導波路のコア部を作製すれば、コア部とクラッド部の熱的特性及び複屈折性を一致させることが可能であり、光の散乱損失も低くすることが可能であり、また、この光透過性微粒子の含有量を変えることで屈折率の制御が容易であり、さらには、より簡便かつより低コストで高精度に光導波路を形成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that an organic polymer and light-transmitting fine particles having an average particle size of 20 nm or less for adjusting the refractive index of the organic polymer If the core part of the optical waveguide is made from an organic polymer composition containing the same, it is possible to match the thermal characteristics and birefringence of the core part and the clad part, and to reduce the light scattering loss. In addition, the refractive index can be easily controlled by changing the content of the light-transmitting fine particles, and furthermore, an optical waveguide can be formed with higher accuracy at a simpler and lower cost. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明の有機高分子組成物は、有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための光透過性微粒子とを含有してなる有機高分子組成物であって、前記光透過性微粒子の平均粒径は20nm以下であることを特徴とする。   That is, the organic polymer composition of the present invention is an organic polymer composition comprising an organic polymer and light-transmitting fine particles for adjusting the refractive index of the organic polymer, The average particle diameter of the permeable fine particles is 20 nm or less.

前記有機高分子を感光性樹脂とし、前記光透過性微粒子のエネルギー帯におけるエネルギーギャップEgを3.2eV以上としたことが好ましい。
前記光透過性微粒子は、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、タンタル酸カリウム、窒化ガリウムの群から選択された1種または2種以上からなる微粒子であることが好ましい。
Preferably, the organic polymer is a photosensitive resin, and the energy gap Eg in the energy band of the light transmissive fine particles is set to 3.2 eV or more.
The light-transmitting fine particles are preferably fine particles composed of one or more selected from the group consisting of zirconia, barium titanate, calcium titanate, potassium tantalate, and gallium nitride.

本発明の光導波路は、本発明の有機高分子組成物を硬化してなるコア部と、前記有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなるクラッド部とを備えてなることを特徴とする。   The optical waveguide of the present invention includes a core portion formed by curing the organic polymer composition of the present invention, and a cladding portion formed by curing an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition. It is characterized by comprising.

本発明の光導波路の製造方法は、クラッド層上に本発明の有機高分子組成物を塗布して塗膜を形成し、次いで、この塗膜をパターニングして所定の形状の光導波路領域とすると共に該光導波路領域の化学反応を進行させ、次いで、この光導波路領域を硬化し、コア部とすることを特徴とする。   In the method for producing an optical waveguide of the present invention, a coating film is formed by applying the organic polymer composition of the present invention on a clad layer, and then the coating film is patterned to form an optical waveguide region having a predetermined shape. In addition, the chemical reaction of the optical waveguide region is allowed to proceed, and then the optical waveguide region is cured to form a core portion.

前記有機高分子を紫外線に対して感光性を有する感光性樹脂とし、前記パターニングの際に、前記塗膜の光導波路領域に紫外線を照射し、この光導波路領域の感光性樹脂の架橋反応を進行させることが好ましい。
前記クラッド層は、本発明の有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなることが好ましい。
The organic polymer is a photosensitive resin that is sensitive to ultraviolet rays. During the patterning, the optical waveguide region of the coating film is irradiated with ultraviolet rays, and the crosslinking reaction of the photosensitive resin in the optical waveguide region proceeds. It is preferable to make it.
The clad layer is preferably formed by curing an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition of the present invention.

本発明の有機高分子組成物によれば、有機高分子の屈折率を調整するための光透過性微粒子の平均粒径を20nm以下としたので、この有機高分子組成物を用いてコア部を、前記有機高分子を用いてクラッド部を、それぞれ形成することにより、光導波路のコア部とクラッド部の熱的特性及び複屈折性を一致させることができ、レイリー散乱による光の散乱損失を低下させることができる。
また、光透過性微粒子の含有量を調整することにより、この有機高分子組成物の屈折率を容易に制御することができる。
また、この有機高分子組成物の塗膜をパターニングすることにより、より簡便かつより低コストで高精度に光導波路を形成することができる。
According to the organic polymer composition of the present invention, since the average particle diameter of the light-transmitting fine particles for adjusting the refractive index of the organic polymer is 20 nm or less, the core portion is formed using this organic polymer composition. By forming the clad part using the organic polymer, the thermal characteristics and birefringence of the core part and clad part of the optical waveguide can be matched, and the light scattering loss due to Rayleigh scattering is reduced. Can be made.
Further, the refractive index of the organic polymer composition can be easily controlled by adjusting the content of the light transmissive fine particles.
Further, by patterning the coating film of the organic polymer composition, an optical waveguide can be formed with higher accuracy at a simpler and lower cost.

本発明の光導波路によれば、本発明の有機高分子組成物を硬化してなるコア部と、前記有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなるクラッド部とを備えたので、コア部とクラッド部の熱的特性及び複屈折性を一致させることができ、レイリー散乱による光の散乱損失を低下させることができる。
また、光透過性微粒子の含有量を調整することにより、コア部の屈折率を容易に制御することができる。
According to the optical waveguide of the present invention, a core formed by curing the organic polymer composition of the present invention and an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition are cured. Since the cladding portion is provided, the thermal characteristics and birefringence of the core portion and the cladding portion can be matched, and the light scattering loss due to Rayleigh scattering can be reduced.
Further, the refractive index of the core part can be easily controlled by adjusting the content of the light transmissive fine particles.

本発明の光導波路の製造方法によれば、クラッド層上に本発明の有機高分子組成物を塗布して塗膜を形成し、次いで、この塗膜をパターニングして所定の形状の光導波路領域とすると共に該光導波路領域の化学反応を進行させ、次いで、この光導波路領域を硬化し、コア部とするので、より簡便かつより低コストで高精度の光導波路を作製することができる。   According to the method for producing an optical waveguide of the present invention, a coating film is formed by applying the organic polymer composition of the present invention on a clad layer, and then the coating film is patterned to form an optical waveguide region having a predetermined shape. In addition, the chemical reaction of the optical waveguide region is allowed to proceed, and then the optical waveguide region is cured to form a core portion. Therefore, a highly accurate optical waveguide can be manufactured more easily and at a lower cost.

本発明の有機高分子組成物及び光導波路並びに光導波路の製造方法を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The best mode for carrying out the organic polymer composition, the optical waveguide, and the method for producing the optical waveguide of the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

「有機高分子組成物」
本発明の有機高分子組成物は、有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための光透過性微粒子とを含有してなる有機高分子組成物であり、この光透過性微粒子の平均粒径が20nm以下の有機高分子組成物である。
ここで、平均粒径とは、光透過性微粒子を水、メチルエチルケトン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の各種溶媒に分散した分散液における平均粒径のことであり、動的光散乱法により測定したものである。
"Organic polymer composition"
The organic polymer composition of the present invention is an organic polymer composition comprising an organic polymer and light-transmitting fine particles for adjusting the refractive index of the organic polymer. Is an organic polymer composition having an average particle size of 20 nm or less.
Here, the average particle diameter is an average particle diameter in a dispersion in which light-transmitting fine particles are dispersed in various solvents such as water, methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether, and is measured by a dynamic light scattering method. Is.

有機高分子としては、光導波路のコア部を伝搬する光に対して高い透過率を有するものであればよく、特に限定されることはないが、可視光線、紫外線等の電磁波に対して感光性を有する感光性樹脂が好ましく、特に、紫外線に対して感光性を有する感光性樹脂が好ましい。
このような感光性樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノール系樹脂、ポリキノリン系樹脂、ポリキノキサリン系樹脂、ポリベンゾオキサゾール系樹脂、ポリベンゾチアゾール系樹脂、ポリベンゾイミダゾール系樹脂等が挙げられる。
The organic polymer is not particularly limited as long as it has a high transmittance with respect to light propagating through the core portion of the optical waveguide, and is sensitive to electromagnetic waves such as visible light and ultraviolet light. A photosensitive resin having a photosensitivity is preferable, and a photosensitive resin having sensitivity to ultraviolet rays is particularly preferable.
Examples of such photosensitive resins include acrylic resins such as polymethyl methacrylate, epoxy resins, polyimide resins, silicone resins, polystyrene resins, polyamide resins, polyester resins, phenol resins, and polyquinoline resins. Examples include resins, polyquinoxaline resins, polybenzoxazole resins, polybenzothiazole resins, polybenzimidazole resins, and the like.

光透過性微粒子としては、屈折率が基材となる有機高分子より高い屈折率を有するもので、その平均粒径が20nm以下、より好ましくは10nm以下の微粒子から適宜選択して使用することができる。
ここで、光透過性微粒子の平均粒径を20nm以下とした理由は、この光透過性微粒子の平均粒径と、有機高分子組成物の塗膜をパターニングする際のパターン再現性との間に相関性があるために、光透過性微粒子の平均粒径を20nm以下とすることで、パターニングに用いられる紫外線等の散乱に起因するパターン鈍りをフォトマスクの線幅精度以下に抑えることが可能になり、したがって、光導波路をより高精度で形成することが可能になるからである。
As the light-transmitting fine particles, those having a refractive index higher than that of the organic polymer as a base material, and having an average particle diameter of 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, are appropriately selected and used. it can.
Here, the reason why the average particle diameter of the light-transmitting fine particles is 20 nm or less is between the average particle diameter of the light-transmitting fine particles and the pattern reproducibility when patterning the coating film of the organic polymer composition. Because of the correlation, by making the average particle size of the light-transmitting fine particles 20 nm or less, it is possible to suppress pattern dullness caused by scattering of ultraviolet rays or the like used for patterning to be less than the line width accuracy of the photomask. Therefore, the optical waveguide can be formed with higher accuracy.

この光透過性微粒子としては、微粒子を構成する材料のエネルギー帯におけるエネルギーギャップEgが3.2eV以上であるものであればよく、特に限定されるものではないが、基材となる上記の有機高分子より高い屈折率を有する微粒子から適宜選択して使用することができる。
ここで、光透過性微粒子のエネルギーギャップEgを3.2eV以上とした理由は、上記の有機高分子組成物の塗膜を紫外線(UV)によりパターニングして光導波路を形成する際に、この有機高分子組成物における紫外線の透過性を高め、パターン精度の良い光導波路を形成することが可能になるからである。
The light-transmitting fine particles are not particularly limited as long as the energy gap Eg in the energy band of the material constituting the fine particles is 3.2 eV or more, and are not particularly limited. The fine particles having a refractive index higher than that of the molecule can be appropriately selected and used.
Here, the reason why the energy gap Eg of the light-transmitting fine particles is set to 3.2 eV or more is that when the optical waveguide is formed by patterning the coating film of the above organic polymer composition with ultraviolet rays (UV), This is because it is possible to increase the transmittance of ultraviolet rays in the polymer composition and form an optical waveguide with good pattern accuracy.

この光透過性微粒子としては、化学的安定性等を考慮すれば、酸化物または窒化物の微粒子が好ましく、例えば、ジルコニア(ZrO)、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸カルシウム(CaTiO)、タンタル酸カリウム(KTaO)、窒化ガリウム(GaN)の群から選択された1種または2種以上からなる微粒子が好ましい。
特に、ジルコニア(ZrO)は、エネルギーギャップEgが5.0eVと極めて高く、また、酸化物としては高い屈折率(2.17)を有するので、好適である。
The light-transmitting fine particles are preferably oxide or nitride fine particles in view of chemical stability and the like. For example, zirconia (ZrO 2 ), barium titanate (BaTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3). ), Potassium tantalate (KTaO 3 ), and gallium nitride (GaN) are preferably used.
In particular, zirconia (ZrO 2 ) is preferable because the energy gap Eg is as extremely high as 5.0 eV and the oxide has a high refractive index (2.17).

次に、光透過性微粒子の平均粒径を20nm以下とした理由を、吸収端が可視光領域に無いジルコニア(ZrO)微粒子を例にとり説明する。
図1は、ジルコニア(ZrO)微粒子の平均粒径の違いによる可視光透過率を示す図である。
ここでは、ジルコニア微粒子として、分散液とした場合の平均分散粒径が9nm及び40nmの2種類のものを用い、各ジルコニア微粒子をトルエン中に0.8v/v%の濃度で分散した2種類のジルコニア微粒子分散液を作製し、これらのジルコニア微粒子分散液を光路長が10mmとなるように調整された石英セルにそれぞれ封入した後、波長400nm〜800nmにおける透過スペクトルを測定した。
図中、実線(−)は平均分散粒径が9nmの分散液の透過スペクトルを示し、また、破線(…)は平均分散粒径が40nmの分散液の透過スペクトルを示している。
Next, the reason why the average particle diameter of the light-transmitting fine particles is set to 20 nm or less will be described by taking zirconia (ZrO 2 ) fine particles having no absorption edge in the visible light region as an example.
FIG. 1 is a graph showing the visible light transmittance depending on the difference in the average particle diameter of zirconia (ZrO 2 ) fine particles.
Here, two kinds of zirconia fine particles having an average dispersed particle diameter of 9 nm and 40 nm when used as a dispersion are used, and two kinds of zirconia fine particles dispersed in toluene at a concentration of 0.8 v / v% are used. Zirconia fine particle dispersions were prepared, and these zirconia fine particle dispersions were sealed in quartz cells adjusted to have an optical path length of 10 mm, respectively, and then transmission spectra at wavelengths of 400 nm to 800 nm were measured.
In the figure, a solid line (-) indicates a transmission spectrum of a dispersion having an average dispersed particle diameter of 9 nm, and a broken line (...) indicates a transmission spectrum of a dispersion having an average dispersed particle diameter of 40 nm.

図1から明らかなように、ジルコニア微粒子の平均分散粒径が9nmでは、可視光領域における光透過率が93%であるのに対し、平均分散粒径が40nmでは、可視光領域における光透過率が6%であり、両者には可視光領域における透過率に明瞭な差が生じている。
この光透過率の差は、ジルコニア微粒子によるレイリー散乱の大きさの違いと見なすことができるので、ジルコニア微粒子の平均分散粒径、すなわち光透過性微粒子の平均粒径を20nm以下とすることで、光の散乱損失を低減することができることが明らかになった。
As is clear from FIG. 1, when the average dispersed particle size of the zirconia fine particles is 9 nm, the light transmittance in the visible light region is 93%, whereas when the average dispersed particle size is 40 nm, the light transmittance in the visible light region. Is 6%, and there is a clear difference in the transmittance in the visible light region.
This difference in light transmittance can be regarded as a difference in the magnitude of Rayleigh scattering by the zirconia fine particles, so by setting the average dispersed particle size of the zirconia fine particles, that is, the average particle size of the light transmissive fine particles to 20 nm or less, It has become clear that light scattering loss can be reduced.

「光導波路」
図2は、本発明の一実施形態の光導波路を示す断面図であり、図において、1は基板、2は基板1上に形成された本実施形態の有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなる下部クラッド層、3は下部クラッド層2上に形成された本実施形態の有機高分子組成物を硬化してなるストライプ状のコア部、4は下部クラッド層2と同一組成の有機高分子を硬化してなる上部クラッド層である。
"Optical waveguide"
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an optical waveguide according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, 2 is an organic high polymer contained in the organic polymer composition of this embodiment formed on the substrate 1. A lower clad layer formed by curing an organic polymer having the same composition as the molecule, 3 is a striped core portion formed by curing the organic polymer composition of the present embodiment formed on the lower clad layer 2, and 4 is This is an upper cladding layer formed by curing an organic polymer having the same composition as that of the lower cladding layer 2.

基板1としては、乾燥または熱処理の際の温度に耐え得る基板であればよく、ガラス基板、透光性のセラミックス基板、シリコン基板等が好適に用いられる。
なお、熱処理温度が200℃〜250℃程度の場合、熱変形等が生じないのであれば、耐熱性プラスチック基板も用いることができる。
The substrate 1 may be any substrate that can withstand the temperature during drying or heat treatment, and a glass substrate, a translucent ceramic substrate, a silicon substrate, or the like is preferably used.
In the case where the heat treatment temperature is about 200 ° C. to 250 ° C., a heat resistant plastic substrate can also be used as long as thermal deformation does not occur.

この光導波路は、次のようにして作製することができる。
基板1上に、本実施形態の有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を加熱・硬化して下部クラッド層2とする。
次いで、この下部クラッド層2上に本実施形態の有機高分子組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜をフォトリソグラフィ等を用いてコアの形状にパターニングし、このコアの形状の塗膜を加熱・硬化し、所定の形状の光導波路領域であるコア部3とする。
This optical waveguide can be manufactured as follows.
On the substrate 1, an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition of the present embodiment is applied to form a coating film, and this coating film is heated and cured to form the lower cladding layer 2 And
Next, the organic polymer composition of the present embodiment is applied onto the lower cladding layer 2 to form a coating film, and the coating film is patterned into a core shape using photolithography or the like. The coating film is heated and cured to form the core portion 3 which is an optical waveguide region having a predetermined shape.

このパターニングの際に、光導波路領域の化学反応を進行させる。
この化学反応としては、上記の有機高分子を紫外線に対して感光性を有する感光性樹脂とし、パターニングの際に塗膜の光導波路領域に紫外線を照射し、この光導波路領域の感光性樹脂の架橋反応を進行させることが好ましい。
次いで、このコア部3及び下部クラッド層2上に、本発明の有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を加熱・硬化して上部クラッド層4とする。
During this patterning, a chemical reaction in the optical waveguide region is advanced.
As this chemical reaction, the above organic polymer is made a photosensitive resin that is sensitive to ultraviolet rays, and the optical waveguide region of the coating film is irradiated with ultraviolet rays at the time of patterning, and the photosensitive resin in the optical waveguide region is irradiated. It is preferable to advance the crosslinking reaction.
Next, an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition of the present invention is applied onto the core 3 and the lower cladding layer 2 to form a coating film, and the coating film is heated. Curing to form the upper clad layer 4

上記の塗布方法としては、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、ロールコート法、メニスカスコート法、グラビア印刷法、インクジェット法、スリップダイコート法等、塗布液を基板の表面に塗布する通常のウエットコート法を用いることができる。これらの内、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法は、短時間で薄膜を形成することができるので、特に好ましい塗布法である。   Examples of the coating method include a spray coating method, a bar coating method, a spin coating method, a dip coating method, a screen printing method, a roll coating method, a meniscus coating method, a gravure printing method, an inkjet method, and a slip die coating method. A normal wet coating method applied to the surface of the substrate can be used. Among these, the spray coating method, the bar coating method, and the spin coating method are particularly preferable coating methods because a thin film can be formed in a short time.

加熱・硬化の雰囲気は、有機高分子の化学反応を進行させる必要があることから、大気中が好ましい。
加熱・硬化の温度及び時間は、有機高分子の化学反応を進行させ硬化させるに充分な温度であることが好ましく、例えば、75℃以上、5分〜30分が好ましい。
The atmosphere for heating and curing is preferably in the air because it is necessary to advance the chemical reaction of the organic polymer.
The temperature and time for heating and curing are preferably temperatures sufficient to advance and cure the organic polymer chemical reaction, and are preferably 75 ° C. or higher and 5 to 30 minutes, for example.

以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
「実施例」
光透過性微粒子として、5.0eVと極めて高いエネルギーギャップEgを有し、酸化物としては2.17という高屈折率を有する平均粒径10nmのジルコニア微粒子を用い、また、有機ポリマー(有機高分子)として、可視光領域での透過性に優れたポジ型の感光性アクリル樹脂前駆体を用い、これらジルコニア微粒子及び感光性アクリル樹脂前駆体を、ジルコニア微粒子の感光性アクリル樹脂前駆体に対する含有率が0.7v/v%となるようにメチルエチルケトン(MEK)中に分散させ、有機ポリマー組成物を作製した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention concretely, this invention is not limited by these Examples.
"Example"
As the light-transmitting fine particles, zirconia fine particles having an extremely high energy gap Eg of 5.0 eV and a high refractive index of 2.17 as the oxide and having an average particle diameter of 10 nm are used. ) Using a positive type photosensitive acrylic resin precursor excellent in transparency in the visible light region, and the content ratio of the zirconia fine particles and the photosensitive acrylic resin precursor to the photosensitive acrylic resin precursor of the zirconia fine particles is An organic polymer composition was prepared by dispersing in methyl ethyl ketone (MEK) so as to be 0.7 v / v%.

次いで、基板上に、上記の有機ポリマー組成物に含まれる感光性アクリル樹脂前駆体と同じ組成のアクリル樹脂前駆体をスピンコート法により塗布し、その後、加熱・硬化させ、下部クラッド層を形成した。
次いで、この下部クラッド層上に、上記の有機ポリマー組成物をスピンコート法により塗布し、80℃にて5分間プリベークさせて塗膜とし、この塗膜にコア径が10μmの直線導波路形成用フォトマスクを用いて紫外線照射を行うことにより、所定の光導波路パターンを転写し、その後現像を行った。
次いで、大気中、80℃にて30分間加熱し、有機ポリマー組成物を完全に硬化させ、コア径が10μmのストライプ状のコア部を形成した。このコア部の幅を10点測定した結果、平均で9.8μmであった。
Next, an acrylic resin precursor having the same composition as the photosensitive acrylic resin precursor contained in the organic polymer composition was applied onto the substrate by a spin coating method, and then heated and cured to form a lower cladding layer. .
Next, the organic polymer composition is applied onto the lower clad layer by a spin coating method, pre-baked at 80 ° C. for 5 minutes to form a coating film, and a linear waveguide having a core diameter of 10 μm is formed on the coating film. A predetermined optical waveguide pattern was transferred by ultraviolet irradiation using a photomask, and then developed.
Subsequently, it heated at 80 degreeC in air | atmosphere for 30 minutes, the organic polymer composition was hardened | cured completely, and the core part of a stripe shape whose core diameter is 10 micrometers was formed. As a result of measuring the width of this core part at 10 points, it was 9.8 μm on average.

次いで、このコア部及び下部クラッド層上に、上記のアクリル樹脂前駆体をスピンコート法により塗布し、その後、加熱・硬化させ、上部クラッド層を形成し、3次元埋込型光導波路を作製した。
この3次元埋込型光導波路の波長1.3μmにおける光伝播損失を測定した結果、0.02dB/cmであった。
Next, the acrylic resin precursor is applied onto the core portion and the lower clad layer by a spin coat method, and then heated and cured to form an upper clad layer to produce a three-dimensional embedded optical waveguide. .
As a result of measuring the light propagation loss at a wavelength of 1.3 μm of this three-dimensional embedded optical waveguide, it was 0.02 dB / cm.

「比較例1」
実施例にてジルコニア微粒子の平均粒径を40nmとした以外は、実施例に準じて3次元埋込型光導波路を作製した。
この3次元埋込型光導波路の現像・硬化後のコア部の幅を10点測定した結果、平均で9.4μmであった。
また、この3次元埋込型光導波路の波長1.3μmにおける光伝播損失を測定した結果、0.3dB/cmであった。
"Comparative Example 1"
A three-dimensional embedded optical waveguide was produced according to the example except that the average particle diameter of the zirconia fine particles was 40 nm in the example.
As a result of measuring the width of the core portion after development and curing of this three-dimensional embedded optical waveguide, the average was 9.4 μm.
The light propagation loss at a wavelength of 1.3 μm of this three-dimensional embedded optical waveguide was measured and found to be 0.3 dB / cm.

「比較例2」
実施例にてジルコニア微粒子を平均粒径が10nmの酸化チタン微粒子とした以外は、実施例に準じて3次元埋込型光導波路を作製した。
この3次元埋込型光導波路の現像・硬化後のコア部の幅を10点測定した結果、平均で9.2μmであった。
また、この3次元埋込型光導波路の波長1.3μmにおける光伝播損失を測定した結果、0.03dB/cmであった。
"Comparative Example 2"
A three-dimensional embedded optical waveguide was produced in the same manner as in the examples except that the zirconia fine particles were replaced with titanium oxide fine particles having an average particle diameter of 10 nm.
As a result of measuring the width of the core portion after development and curing of this three-dimensional embedded optical waveguide, the average value was 9.2 μm.
Further, the optical propagation loss at a wavelength of 1.3 μm of this three-dimensional embedded optical waveguide was measured and found to be 0.03 dB / cm.

本発明の有機高分子組成物は、有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための平均粒径が20nm以下の光透過性微粒子とを含有したことにより、光導波路のコア部とクラッド部の熱的特性及び複屈折性を一致させるとともに、光の散乱損失を低くし、屈折率の制御を容易としたものであるから、3次元埋込型光導波路等の光導波路はもちろんのこと、マッハツェンダ型光導波路、光カプラ、スラブ型導波路、光ファイバ等の光デバイスにおいても、その効果は大である。   The organic polymer composition of the present invention contains an organic polymer and light-transmitting fine particles having an average particle diameter of 20 nm or less for adjusting the refractive index of the organic polymer. As well as the thermal characteristics and birefringence of the cladding and the birefringence, the light scattering loss is reduced and the refractive index is easily controlled. Even in an optical device such as a Mach-Zehnder type optical waveguide, an optical coupler, a slab type waveguide, or an optical fiber, the effect is great.

ジルコニア微粒子の平均粒径の違いによる可視光透過率を示す図である。It is a figure which shows the visible light transmittance | permeability by the difference in the average particle diameter of a zirconia microparticle. 本発明の一実施形態の光導波路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the optical waveguide of one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 下部クラッド層
3 コア部
4 上部クラッド層
1 Substrate 2 Lower clad layer 3 Core part 4 Upper clad layer

Claims (7)

有機高分子と、この有機高分子の屈折率を調整するための光透過性微粒子とを含有してなる有機高分子組成物であって、
前記光透過性微粒子の平均粒径は20nm以下であることを特徴とする有機高分子組成物。
An organic polymer composition comprising an organic polymer and light-transmitting fine particles for adjusting the refractive index of the organic polymer,
The average particle diameter of the said light transmissive fine particle is 20 nm or less, The organic polymer composition characterized by the above-mentioned.
前記有機高分子は感光性樹脂であり、前記光透過性微粒子のエネルギー帯におけるエネルギーギャップEgは3.2eV以上であることを特徴とする請求項1記載の有機高分子組成物。   The organic polymer composition according to claim 1, wherein the organic polymer is a photosensitive resin, and an energy gap Eg in an energy band of the light-transmitting fine particles is 3.2 eV or more. 前記光透過性微粒子は、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、タンタル酸カリウム、窒化ガリウムの群から選択された1種または2種以上からなる微粒子であることを特徴とする請求項1または2記載の有機高分子組成物。   The light transmissive fine particles are fine particles composed of one or more selected from the group consisting of zirconia, barium titanate, calcium titanate, potassium tantalate, and gallium nitride. The organic polymer composition described. 請求項1、2または3記載の有機高分子組成物を硬化してなるコア部と、前記有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなるクラッド部とを備えてなることを特徴とする光導波路。   A core portion formed by curing the organic polymer composition according to claim 1, 2, or 3, and a clad portion formed by curing an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition An optical waveguide comprising: クラッド層上に請求項1、2または3記載の有機高分子組成物を塗布して塗膜を形成し、次いで、この塗膜をパターニングして所定の形状の光導波路領域とすると共に該光導波路領域の化学反応を進行させ、次いで、この光導波路領域を硬化し、コア部とすることを特徴とする光導波路の製造方法。   A coating film is formed by applying the organic polymer composition according to claim 1, 2 or 3 on the cladding layer, and then the coating film is patterned to form an optical waveguide region having a predetermined shape. A method of manufacturing an optical waveguide, wherein a chemical reaction of the region is allowed to proceed, and then the optical waveguide region is cured to form a core portion. 前記有機高分子を紫外線に対して感光性を有する感光性樹脂とし、
前記パターニングの際に、前記塗膜の光導波路領域に紫外線を照射し、この光導波路領域の感光性樹脂の架橋反応を進行させることを特徴とする請求項5記載の光導波路の製造方法。
The organic polymer is a photosensitive resin having sensitivity to ultraviolet rays,
6. The method of manufacturing an optical waveguide according to claim 5, wherein, during the patterning, the optical waveguide region of the coating film is irradiated with ultraviolet rays to cause a crosslinking reaction of the photosensitive resin in the optical waveguide region.
前記クラッド層は、請求項1、2または3記載の有機高分子組成物に含まれる有機高分子と同一組成の有機高分子を硬化してなることを特徴とする請求項5または6記載の光導波路の製造方法。   The optical waveguide according to claim 5 or 6, wherein the cladding layer is formed by curing an organic polymer having the same composition as the organic polymer contained in the organic polymer composition according to claim 1, 2 or 3. A method for manufacturing a waveguide.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272150A (en) * 2008-05-08 2009-11-19 Seiko Epson Corp Organic el device, electronic apparatus, and method for manufacturing of organic el device
JP2014080361A (en) * 2013-10-25 2014-05-08 Sakai Chem Ind Co Ltd Zirconium oxide dispersion, method for producing the same and resin composition containing the same
US9959572B2 (en) 2009-12-10 2018-05-01 Royal Bank Of Canada Coordinated processing of data by networked computing resources
JP2022502541A (en) * 2018-09-26 2022-01-11 トリンゼオ ヨーロッパ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Composition containing scattered particles

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61291650A (en) * 1985-06-18 1986-12-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd Resin composition having high refractive index
JP2003075997A (en) * 2001-06-22 2003-03-12 Toray Ind Inc Positive photosensitive resin composition
JP2005215529A (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Ngk Spark Plug Co Ltd Device with optical waveguide structure and manufacturing method therefor
JP2005344005A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Toray Ind Inc Resin composition, relief pattern and optical element

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61291650A (en) * 1985-06-18 1986-12-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd Resin composition having high refractive index
JP2003075997A (en) * 2001-06-22 2003-03-12 Toray Ind Inc Positive photosensitive resin composition
JP2005215529A (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Ngk Spark Plug Co Ltd Device with optical waveguide structure and manufacturing method therefor
JP2005344005A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Toray Ind Inc Resin composition, relief pattern and optical element

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272150A (en) * 2008-05-08 2009-11-19 Seiko Epson Corp Organic el device, electronic apparatus, and method for manufacturing of organic el device
US9959572B2 (en) 2009-12-10 2018-05-01 Royal Bank Of Canada Coordinated processing of data by networked computing resources
JP2014080361A (en) * 2013-10-25 2014-05-08 Sakai Chem Ind Co Ltd Zirconium oxide dispersion, method for producing the same and resin composition containing the same
JP2022502541A (en) * 2018-09-26 2022-01-11 トリンゼオ ヨーロッパ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Composition containing scattered particles
JP7569785B2 (en) 2018-09-26 2024-10-18 トリンゼオ ヨーロッパ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Compositions containing scattering particles

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