JP2008011830A - Method for cultivating mushroom and method for reducing barrier to growth of mushroom - Google Patents

Method for cultivating mushroom and method for reducing barrier to growth of mushroom Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for cultivating mushroom by which degerming in a mushroom-cultivating facility can be carried out even in a highly humid environment, and the high-quality mushroom can be grown by suppressing the disease thereby; and to provide a method for reducing a barrier to growth of the mushroom. <P>SOLUTION: The method for cultivating the mushroom including a cultivation method of growing an anlage after forming the anlage includes radiating a positive ion and a negative ion for a prescribed period in a cultivation process to degerm various germs in the facility. The method for reducing the barrier to the growth of the mushroom is characterized by the degerming of bacteria of the genus Pseudomonas by radiating the positive ion or the negative ion. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、正負イオンを用いたキノコの栽培方法およびキノコの生育障害を低減する方法に関する。   The present invention relates to a method for cultivating mushrooms using positive and negative ions, and a method for reducing mushroom growth disorders.

現在、シイタケ、エノキタケ、エリンギ等のキノコは、食卓に欠かすことのできない代表的な食材となっている。特に、生産者の側からみれば、近年のキノコ栽培の大型化、輸入キノコの増加に伴い、主要3品目であるシイタケ、エノキタケ、ブナシメジの価格低下が著しいことから、エリンギ、ハタケシメジ等の新品目への期待が高まっている。しかし、概してキノコは、害菌への抵抗力が弱く、栽培室の浄化が技術上の大きな課題となっている。   At present, mushrooms such as shiitake mushrooms, enokitake mushrooms and eringgi are representative ingredients that are indispensable for dining tables. In particular, from the producer's point of view, the prices of the three main products, shiitake, enokitake and beech shimeji, have declined significantly with the recent increase in mushroom cultivation and the increase in imported mushrooms. Expectations are growing. In general, however, mushrooms have poor resistance to harmful bacteria, and purification of the cultivation room is a major technical issue.

たとえばキノコ栽培においては、生育の前期から中期にかけて発生する生育障害の被害を受ける事例が多く、キノコ栽培上の最大の課題となっている。特に、エリンギ栽培においては、この生育障害の1つである「立ち枯れ症状」を抑制することが急務となっている。ここで、「立ち枯れ症状」とは、生育の過程において、子実体が変色し、症状が軽度の場合には、着色、曲がり、菌傘の形成不全が起こり、重度の場合には、子実体の萎縮または腐敗を伴い、さらに重度の場合には枯死に至る症状をいう。あるいは、菌床の再生菌糸が変色し、子実体が形成されるに至らない場合も「立ち枯れ症状」とみなすことができる。   For example, in mushroom cultivation, there are many examples of damage caused by growth disorders that occur from the first to the middle of growth, which is the biggest problem in mushroom cultivation. In particular, in eringi cultivation, there is an urgent need to suppress the “withering symptom”, which is one of the growth disorders. Here, the “withering symptom” refers to discoloration of the fruiting body in the process of growth. When the symptom is mild, coloring, bending, and dysplasia of the umbrella occur. A condition that causes atrophy or rot, and in severe cases leads to death. Alternatively, when the regenerated mycelium of the mycelium is discolored and no fruit body is formed, it can be regarded as a “withering symptom”.

ここで、キノコ栽培施設の浄化方法としては、薬剤散布により害菌を防除する方法がある。しかしながら、キノコ生育前の薬剤散布による浄化では、室内を完全に浄化できてもキノコ生育時の人の出入りなどにより雑菌の進入は否めない。また、キノコ生育中の薬剤使用は、食品衛生上、農薬取締法上の観点からできない。さらに、キノコ栽培室内の洗浄・浄化には、壁面のウレタン吹き付け等を行う必要があり、構造上容易に行えないのが現状であり、洗浄・浄化が困難な施設も多い。   Here, as a purification method of a mushroom cultivation facility, there is a method of controlling harmful bacteria by spraying chemicals. However, in the purification by spraying the drug before growing the mushroom, even if the room can be completely cleaned, the entry of various germs cannot be denied due to the entry and exit of people during the mushroom growth. Also, the use of drugs during mushroom growth is not possible from the viewpoint of food hygiene and the Agricultural Chemicals Control Law. Furthermore, cleaning and purification of the mushroom cultivation room requires spraying urethane on the wall surface, etc., and it is currently difficult to perform structurally, and many facilities are difficult to clean and clean.

薬剤散布以外の害菌防除の方法として、たとえば特許文献1には、オゾンガスを用いた害菌防除の方法が記載されている。しかしながら、この方法によるとオゾンの殺菌作用によりキノコ栽培施設内の害菌を殺菌できるものの、オゾンガスは人体に影響があるため、オゾンガス発生は人のいない夜間に行い、オゾンガス濃度が0.1ppm以下になるまでキノコ栽培施設内に立ち入ることができない。つまり、殺菌中はキノコ栽培施設内に入れず、また、殺菌後もオゾン濃度が0.1ppm以下になるまでキノコ栽培施設内に入れなくなっており、作業時間に制限が生じる。また、キノコ栽培施設内を完全に殺菌できたとしても、殺菌後キノコ栽培施設内に人が出入りすることにより、雑菌が進入する可能性がある。   For example, Patent Literature 1 discloses a method for controlling harmful bacteria using ozone gas as a method for controlling harmful bacteria other than spraying chemicals. However, although this method can sterilize harmful bacteria in mushroom cultivation facilities by the sterilization of ozone, ozone gas has an effect on the human body, so ozone gas is generated at night when no one is present, and the ozone gas concentration is reduced to 0.1 ppm or less. Until then, you cannot enter the mushroom cultivation facility. That is, it cannot enter into the mushroom cultivation facility during sterilization, and after the sterilization, it cannot enter the mushroom cultivation facility until the ozone concentration becomes 0.1 ppm or less, and the working time is limited. Moreover, even if the inside of the mushroom cultivation facility can be completely sterilized, miscellaneous germs may enter when a person enters and leaves the mushroom cultivation facility after sterilization.

また特許文献2には、施設園芸作物の病害を防除するために、空気中の浮遊菌を除去する手段として光触媒反応を利用した除菌装置を空気攪拌装置とともに園芸施設内に併設することが記載されている。しかしながら、空気を充分に光触媒に接触させるために、作物の周辺に均等に光触媒を配置する必要があり、農作業の自由度が制限されるとともに、作物の栽培面積が狭くなり、収穫量が減少してしまうという問題があった。また、園芸施設の規模が大きくなると、設備コストが増大してしまう。さらに、光触媒励起用の光源を絶えず点灯させておかねばならないため、ランニングコストもかさむという問題があった。   Patent Document 2 describes that a sterilization apparatus using a photocatalytic reaction is installed in a horticultural facility together with an air stirrer as a means for removing airborne bacteria in order to control diseases of horticultural horticultural crops. Has been. However, in order to sufficiently bring the air into contact with the photocatalyst, it is necessary to arrange the photocatalyst evenly around the crop, which limits the degree of freedom of farm work, reduces the crop cultivation area, and reduces the yield. There was a problem that. Moreover, when the scale of a horticultural facility increases, the equipment cost increases. Furthermore, since the light source for photocatalyst excitation must be constantly turned on, there is a problem that the running cost is increased.

また特許文献3には、菌茸の栽培、家畜の飼育若しくは魚介類の養殖施設内に、イオン発生装置から正負イオンを放出して施設内に存在する浮遊微生物を不活化することを特徴とする生産施設の除菌方法が記載されている。しかしながら、特許文献3には、たとえばキノコ栽培のいくつかの工程で必須である高湿度環境下において、正負イオンを放出し、除菌を達成する具体的手段については記載されていない。また、キノコ栽培において課題となっている立ち枯れ症状等の生育障害の低減についても記載されていない。
特開2001−309724号公報 特開2002−186364号公報 特開2004−65614号公報
Further, Patent Document 3 is characterized in that floating microorganisms existing in the facility are inactivated by releasing positive and negative ions from the ion generating device in the cultivation of fungi, breeding of livestock, or fishery products. A sterilization method for production facilities is described. However, Patent Document 3 does not describe a specific means for releasing positive and negative ions and achieving sterilization in a high humidity environment that is essential in some steps of mushroom cultivation, for example. Moreover, it does not describe the reduction of growth disorders such as withering symptoms, which is a problem in mushroom cultivation.
JP 2001-309724 A JP 2002-186364 A JP 2004-65614 A

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、キノコ栽培のいくつかの工程で必須である高湿度環境下においても、キノコ栽培施設内の除菌をすることができ、これにより病害を抑制し、高品質のキノコを生育させることができるキノコの栽培方法を提供することである。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and its object is to eliminate sterilization in a mushroom cultivation facility even in a high humidity environment that is essential in several steps of mushroom cultivation. It is possible to provide a method for cultivating mushrooms that can suppress diseases and grow high-quality mushrooms.

本発明の別の目的は、キノコ栽培において問題となる生育障害を低減する方法を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a method for reducing growth disorders that are problematic in mushroom cultivation.

本発明者らは鋭意研究した結果、高湿度環境下においても十分な量の正イオンおよび負イオンを生成させることができるイオン発生器を用い、正イオンおよび負イオンをキノコ栽培施設内に放出して当該施設内の雑菌を除菌することにより、意外にも栽培対象であるキノコ自体には影響を与えることなく、病害が抑制され、高品質のキノコが得られることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors released an ion and a negative ion into a mushroom cultivation facility using an ion generator that can generate a sufficient amount of positive ions and negative ions even in a high humidity environment. It was found that by sterilizing the germs in the facility, the disease was unexpectedly suppressed without affecting the cultivated mushroom itself and a high-quality mushroom was obtained.

また、本発明者らは、上記正負イオンを用いた除菌は、エリンギなどのキノコの生育障害の原因菌の1つであるシュードモナス属菌の除菌にも有効であり、正負イオンを放出することにより、栽培対象であるキノコ自体には影響を与えることなく、効果的にキノコの生育障害を低減できることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。   In addition, the present inventors have also sterilized using positive and negative ions, and are effective for eradicating Pseudomonas spp. Which is one of the causative fungi of mushrooms such as eringi, and release positive and negative ions. By this, it discovered that the growth disorder | damage | failure of a mushroom could be reduced effectively, without affecting the mushroom itself which is a cultivation object. That is, the present invention is as follows.

本発明のキノコの栽培方法は、原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程を含むキノコの栽培方法において、当該栽培工程が実施される施設内に、栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌することを特徴とする。ここで、上記栽培工程が、原基の形成を行なう芽出し工程と原基の生育を行なう生育工程とを含む場合において、当該芽出し工程および/または生育工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出するようにしてもよい。また、上記栽培工程が、原基の形成を行なう芽出し工程と、原基を揃えるならし工程と、原基の生育を行なう生育工程とを含む場合において、当該ならし工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出するようにしてもよい。   The mushroom cultivation method of the present invention is a mushroom cultivation method including a cultivation process for growing a primordium after formation of a primordium. During this period, positive ions and negative ions are released to eliminate germs in the facility. Here, in the case where the cultivation process includes a sprouting process for forming a primordium and a growing process for growing the primordium, positive ions and negative ions are present in the facility where the sprouting process and / or the growing process is performed. Ions may be emitted. In addition, in the case where the cultivation process includes a sprouting process for forming a base, a leveling process for aligning the base, and a growth process for growing the base, in the facility where the leveling process is performed. In addition, positive ions and negative ions may be released.

ここで、本発明のキノコの栽培方法においては、施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2000個/cm3以上となるように正イオンおよび負イオンを放出することが好ましい。 Here, in the method for cultivating mushrooms of the present invention, it is preferable to release positive ions and negative ions so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2000 or more / cm 3 , respectively.

本発明のキノコの栽培方法においては、上記施設内の相対湿度が、80〜100%の範囲内であってもよい。   In the mushroom cultivation method of the present invention, the relative humidity in the facility may be in the range of 80 to 100%.

また本発明のキノコの栽培方法においては、上記雑菌がシュードモナス属菌であってもよい。この場合、本発明のキノコの栽培方法によれば、キノコの生育障害を効果的に低減させることができる。   Moreover, in the mushroom cultivation method of the present invention, the above-mentioned bacteria may be Pseudomonas sp. In this case, according to the method for cultivating mushrooms of the present invention, growth failure of mushrooms can be effectively reduced.

また本発明は、原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程が実施される施設内に、前記栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出することにより、シュードモナス属菌を除菌することを特徴とするキノコの生育障害を低減する方法を提供する。ここで、上記栽培工程が、原基の形成を行なう芽出し工程と原基の生育を行なう生育工程とを含む場合において、当該芽出し工程および/または生育工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出するようにしてもよい。また、上記栽培工程が、原基の形成を行なう芽出し工程と、原基を揃えるならし工程と、原基の生育を行なう生育工程とを含む場合において、当該ならし工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出するようにしてもよい。   Further, the present invention, after the formation of the primordial, in the facility where the cultivation process for growing the primordial is carried out, by releasing positive ions and negative ions for a certain period of time during the cultivation process, Disclosed is a method for reducing a growth disorder of a mushroom characterized by sterilizing Pseudomonas sp. Here, in the case where the cultivation process includes a sprouting process for forming a primordium and a growing process for growing the primordium, positive ions and negative ions are present in the facility where the sprouting process and / or the growing process is performed. Ions may be emitted. In addition, in the case where the cultivation process includes a sprouting process for forming a base, a leveling process for aligning the base, and a growth process for growing the base, in the facility where the leveling process is performed. In addition, positive ions and negative ions may be released.

ここで、本発明のキノコの生育障害を低減する方法においては、施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2000個/cm3以上となるように正イオンおよび負イオンを放出することが好ましい。 Here, in the method for reducing the growth disorder of the mushroom of the present invention, the positive ions and the negative ions may be released so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2000 or more / cm 3 , respectively. preferable.

また本発明のキノコの生育障害を低減する方法においては、上記施設内の相対湿度が、80〜100%の範囲内であってもよい。   Moreover, in the method for reducing the growth disorder of the mushroom of the present invention, the relative humidity in the facility may be in the range of 80 to 100%.

本発明のキノコの栽培方法によれば、キノコ栽培施設内が高湿度環境下にある場合であっても、正負イオンの放出によりキノコ栽培施設内の除菌を行なうことができるようになるため、病害が抑制され、高品質のキノコを得ることができる。このような正負イオンの放出により、栽培対象であるキノコが影響を受けることはない。また、正負イオンは人体には無害であるため作業時間に制限がない。   According to the mushroom cultivation method of the present invention, even if the inside of the mushroom cultivation facility is in a high humidity environment, it becomes possible to sterilize the mushroom cultivation facility by releasing positive and negative ions. Diseases are suppressed and high quality mushrooms can be obtained. Such release of positive and negative ions does not affect the mushrooms to be cultivated. In addition, since positive and negative ions are harmless to the human body, there is no limit on working time.

また、本発明のキノコの生育障害を低減する方法によれば、高湿度環境下にあるキノコ栽培施設内に存在するシュードモナス属菌を効果的に除菌することができ、キノコの生育障害を効果的に低減することができる。   Moreover, according to the method for reducing the growth disorder of the mushroom of the present invention, it is possible to effectively sterilize Pseudomonas spp. Existing in the mushroom cultivation facility under a high humidity environment, and the mushroom growth disorder is effective. Can be reduced.

さらに、本発明のキノコの栽培方法およびキノコの生育障害を低減する方法は、既存のキノコ栽培施設に正負イオンを発生するイオン発生器を設置するだけで実施できるため、既存設備の大幅な改良等を要しない。   Furthermore, since the mushroom cultivation method and the method of reducing mushroom growth disorder according to the present invention can be carried out simply by installing an ion generator that generates positive and negative ions in an existing mushroom cultivation facility, a significant improvement of existing facilities, etc. Is not required.

<キノコの栽培方法>
本発明のキノコの栽培方法は、原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程を含むキノコの栽培方法において、当該栽培工程が実施される施設内に、当該栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌することを特徴とする。
<Mushroom cultivation method>
The mushroom cultivation method of the present invention is a mushroom cultivation method including a cultivation process for growing a primordium after forming a primordium, and in the facility where the cultivation process is carried out. It is characterized by releasing positive ions and negative ions for a certain period of time to sterilize germs in the facility.

このように、栽培工程が実施される施設に、正イオンおよび負イオンを放出することにより、当該施設内の雑菌を除菌することができる。これにより病害が抑制され、高品質のキノコを得ることができる。   Thus, by releasing positive ions and negative ions to the facility where the cultivation process is carried out, it is possible to sterilize the germs in the facility. Thereby, disease can be suppressed and high-quality mushrooms can be obtained.

ここで、「雑菌」とは、栽培対象であるキノコ菌以外の菌を意味する。また、「除菌」とは、雑菌に積極的に働きかけて、その雑菌の活動を抑制あるいは停止させることを意味する。   Here, "miscellaneous bacteria" means bacteria other than the mushroom fungus to be cultivated. Further, “bacteria elimination” means that the bacteria are actively worked to suppress or stop the activities of the bacteria.

以下、本発明のキノコの栽培方法を、図1を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明のキノコの栽培方法の好ましい一例を概略的に示すフローチャートである。なお、図1および以下に示す本発明のキノコの栽培方法についての説明は、エリンギついてなされたものであるが、他のキノコについても図1と略同様の工程を有し、本発明のキノコの栽培方法がエリンギ以外のキノコにも適用できることは、当該技術の分野に属するものであれば明らかであろう。   Hereinafter, the cultivation method of the mushroom of this invention is demonstrated in detail, referring FIG. FIG. 1 is a flowchart schematically showing a preferred example of the mushroom cultivation method of the present invention. In addition, although the description about the cultivation method of the mushroom of this invention shown in FIG. 1 and the following is made | formed with eringi, it has the process substantially the same as FIG. 1 also about other mushrooms, and the mushroom of this invention It will be apparent that the cultivation method can be applied to mushrooms other than eringi as long as they belong to the field of the technology.

本発明のキノコの栽培方法においては、まず従来公知の方法により、培地調製を行なう(ステップ101)。具体的には、限定されないが、たとえばスギオガコ等のオガコとフスマ、コメヌカ、コーンコブ等の栄養材とを、当該分野において通常採用される組成比で混合する。ついで、含水率が60〜70%程度となるように水を添加し混合する。これらの混合は、従来公知の方法、たとえば培地攪拌用のミキサー等を用いて行なうことができる。   In the mushroom cultivation method of the present invention, the medium is first prepared by a conventionally known method (step 101). Specifically, although not limited, for example, sawfish such as Sugiogako and nutrients such as bran, rice bran, and corn cob are mixed at a composition ratio that is usually employed in the field. Next, water is added and mixed so that the water content is about 60 to 70%. These can be mixed using a conventionally known method, for example, a mixer for stirring the medium.

続く工程において、従来公知の方法により、たとえばポリプロピレン製の栽培容器に培地を充填する(ステップ102)。充填量は、特に制限されるものではなく、当該分野において通常採用される量を、本発明においても採用することができる。たとえば栽培容器の容量が850mlである場合には充填する培地の量をたとえば530g程度とすることができる。   In the subsequent process, the culture medium is filled into a cultivation container made of polypropylene, for example, by a conventionally known method (step 102). The filling amount is not particularly limited, and an amount usually employed in the field can also be employed in the present invention. For example, when the capacity of the cultivation container is 850 ml, the amount of the medium to be filled can be set to about 530 g, for example.

続く工程において、栽培容器に蓋を施した後、従来公知の方法により、充填された培地の殺菌を行なう(ステップ103)。殺菌方法としては、高圧殺菌、常圧殺菌のいずれの方法でもよい。高圧殺菌の場合、殺菌処理は、通常高圧殺菌釜を用いて行なわれ、たとえば培地温度が約120℃に達した後、同温度をたとえば30分間程度保持することにより行なう。殺菌後の培地は、たとえば10〜30℃まで無菌的に冷却される。   In the subsequent process, after the cultivation container is covered, the filled medium is sterilized by a conventionally known method (step 103). As the sterilization method, either high pressure sterilization or normal pressure sterilization may be used. In the case of high-pressure sterilization, the sterilization treatment is usually performed using a high-pressure sterilization pot. For example, after the medium temperature reaches about 120 ° C., the temperature is maintained for about 30 minutes, for example. The sterilized medium is aseptically cooled to 10 to 30 ° C., for example.

続く工程において、従来公知の方法により、培地にエリンギの種菌を接種する(ステップ104)。接種は、たとえば接種機を用いて行なうことができる。   In the subsequent step, the medium is inoculated with eringi seeds by a conventionally known method (step 104). The inoculation can be performed using, for example, an inoculator.

続く工程において、従来公知の方法により、接種したエリンギの種菌を培養し、引き続いて熟成を行なう(ステップ105)。この工程により、栽培容器内が菌糸で蔓延する。通常、培養は、たとえば21〜23℃程度、相対湿度60%程度の条件下で、25日間程度行なわれ、熟成は、同条件でさらに5〜10日間程度保持することにより行なわれる。   In the subsequent step, the inoculum of the inoculated eringi is cultured by a conventionally known method, and subsequently ripened (step 105). By this process, the inside of the cultivation container spreads with mycelium. Usually, the culture is performed, for example, under conditions of about 21 to 23 ° C. and a relative humidity of about 60% for about 25 days, and ripening is performed by holding for about 5 to 10 days under the same conditions.

続く工程において、従来公知の方法により、菌掻きを行なう(ステップ106)。ここで、「菌掻き」とは、菌糸の蔓延した菌床の表面をかき取ることをいう。このような菌掻き処理により原基の形成を促すことができる。菌掻き方法としては、たとえば「ぶっかき」を挙げることができる。「ぶっかき」とは、種菌とあわせ菌床形成面も掻き取る手法を意味する。なお、菌掻き時に、たとえば霧吹き等による注水処理を施してもよい。   In the subsequent process, the bacteria are scraped by a conventionally known method (step 106). Here, “bacteria scraping” refers to scraping the surface of a fungus bed in which mycelia have spread. Formation of a primordium can be promoted by such a fungus scraping treatment. As a method for scraping bacteria, for example, “bukikaki” can be mentioned. “Bukkaki” means a method of scraping the surface of the fungus together with the inoculum. In addition, when the bacteria are scraped, for example, a water injection process such as spraying may be performed.

続く工程において、芽出しを行なう(ステップ107)。ここで、「芽出し」とは、原基が形成されることをいう。芽出しは、芽出し室と呼ばれる培養、菌掻きが行なわれる培養室とは異なる施設で行なわれることが通常である。芽出し室内の環境条件として、キノコ栽培において通常採用される条件を、本発明においても採用することができる。たとえば、芽出し室内の温度は15〜20℃程度であり、相対湿度は、80〜100%程度、より好ましくは95〜100%程度である。このように、通常芽出し室においては、非常に高い湿度環境が要求される。なお、芽出しは通常、子実体が2〜3cm程度に成長するまで行なわれる。当該芽出し工程の期間は、通常5〜15日間程度である。   In the subsequent process, sprouting is performed (step 107). Here, “emergence” refers to the formation of a primordium. The sprouting is usually performed in a facility different from a culture room called a sprouting room and a culture room in which fungi are scraped. As environmental conditions in the germination room, conditions usually employed in mushroom cultivation can also be employed in the present invention. For example, the temperature in the germination chamber is about 15 to 20 ° C., and the relative humidity is about 80 to 100%, more preferably about 95 to 100%. Thus, a very high humidity environment is required in the normal sprouting chamber. In addition, sprouting is usually performed until the fruit body grows to about 2 to 3 cm. The period of the sprouting step is usually about 5 to 15 days.

続く工程において、形成された原基を揃える、ならしを行なう(ステップ108)。ならし工程が行なわれる施設内の環境条件として、キノコ栽培において通常採用される条件を、本発明においても採用することができる。たとえば当該施設内の温度は16℃程度、相対湿度は95〜100%とすることができる。このように通常、ならし工程が行なわれる施設(以下、ならし室と称する)においては、非常に高い湿度環境が要求される。ならし工程の期間は、通常3日間程度である。ここで、ならし室は、上記芽出し室とは異なる施設であってもよく、芽出し室と同一の施設であってもよい。また、ならし室は、後述する生育工程(ステップ109)が行なわれる施設(以下、生育室と称する)と異なる施設であってもよく、同一の施設であってもよい。なお、当該ならし工程は、キノコ栽培において必須の工程ではなく、省略することもできる。   In the subsequent step, the formed bases are aligned and leveling is performed (step 108). As the environmental conditions in the facility where the leveling process is performed, conditions normally employed in mushroom cultivation can also be employed in the present invention. For example, the temperature in the facility can be about 16 ° C. and the relative humidity can be 95 to 100%. As described above, in a facility where the leveling process is normally performed (hereinafter referred to as a leveling room), a very high humidity environment is required. The period of the leveling process is usually about 3 days. Here, the leveling room may be a facility different from the germination room or the same facility as the germination room. Further, the leveling room may be a facility different from a facility (hereinafter referred to as a growth chamber) where a growth process (step 109) described later is performed, or may be the same facility. In addition, the said smoothing process is not an essential process in mushroom cultivation, and can also be abbreviate | omitted.

続く工程において、原基の生育を行ない(ステップ109)、収穫する(ステップ110)。本明細書においては、上記原基の形成を行なう芽出し工程(ステップ107)から原基の生育を行なう当該生育工程(ステップ109)までを栽培工程と称する。ここで、本例においては、栽培工程はステップ107〜109までの3つの工程を含むが、これ以外の付加的な工程が栽培工程に含まれることがあってもよい。また、上述のように、ならし工程(ステップ108)は省略されてもよい。   In the subsequent process, the base is grown (step 109) and harvested (step 110). In this specification, the process from the germination step (step 107) for forming the primordium to the growth step (step 109) for growing the primordium is referred to as a cultivation step. Here, in this example, the cultivation process includes three processes from Steps 107 to 109, but additional processes other than this may be included in the cultivation process. Further, as described above, the leveling step (step 108) may be omitted.

本発明において、原基の生育が行なわれる生育室内の環境条件として、キノコ栽培において通常採用される条件を採用することができる。たとえば、生育室内の温度は15〜20℃程度であり、相対湿度は、80〜100%程度、より好ましくは90〜95%程度である。このように、通常生育室においては、非常に高い湿度環境が要求される。当該生育工程の期間は、通常5〜10日間程度である。なお、芽出し室と生育室とは異なる施設であってもよく、同一の施設であってもよい。また、ならし室と生育室とは異なる施設であってもよく、同一の施設であってもよい。   In the present invention, conditions usually employed in mushroom cultivation can be adopted as the environmental conditions in the growth chamber where the primordial growth is performed. For example, the temperature in the growth chamber is about 15 to 20 ° C., and the relative humidity is about 80 to 100%, more preferably about 90 to 95%. Thus, a very high humidity environment is required in the normal growth room. The period of the growth process is usually about 5 to 10 days. The germination room and the growth room may be different facilities or the same facility. Further, the leveling room and the growth room may be different facilities or the same facility.

本発明のキノコの栽培方法においては、上記栽培工程が実施される施設内に、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌することを特徴とする。かかる正イオンおよび負イオンの放出により、栽培対象であるキノコ自体には悪影響を与えることなく、当該施設内の雑菌を除菌することができ、病害が抑制され、高品質のキノコを栽培することができる。   The mushroom cultivation method of the present invention is characterized in that positive ions and negative ions are released into a facility where the cultivation process is carried out to eliminate germs in the facility. By releasing such positive ions and negative ions, it is possible to sterilize the germs in the facility without adversely affecting the mushrooms themselves that are to be cultivated, the disease is suppressed, and high-quality mushrooms are cultivated Can do.

栽培工程が実施される施設内に放出された正イオンおよび負イオンは、当該施設内に浮遊する様々な雑菌に作用し、その活動を抑制あるいは停止させる。当該施設内に浮遊する雑菌としては、たとえば生育障害の原因の1つであるシュードモナス属菌、クラドボトリウム属菌、ペニシリウム属菌などを挙げることができる。   Positive ions and negative ions released into the facility where the cultivation process is carried out act on various germs floating in the facility and suppress or stop the activity. Examples of the germs floating in the facility include Pseudomonas sp., Cladbotrium sp., Penicillium sp., Which are one of the causes of growth disorders.

正イオンおよび負イオンの放出が行なわれる施設は、栽培工程が実施される施設、すなわち、芽出し室、ならし室、生育室のいずれか1種以上の施設である。少なくとも芽出し室、ならし室、生育室のいずれか1つ以上の施設内に正イオンおよび負イオンの放出を行なうことにより、十分な病害抑制効果、キノコの高品質化が認められるが、培養・熟成工程(ステップ105)、菌掻き工程(ステップ106)においても正イオンおよび負イオンの放出を行なうようにしてもよい。なお、上述のように、芽出し室、ならし室、生育室のうちの一部または全部が同一の施設であってもよい。   The facility where positive ions and negative ions are released is a facility where a cultivation process is performed, that is, one or more of a sprouting room, a conditioned room, and a growing room. By releasing positive ions and negative ions into at least one of the germination room, the conditioned room, and the growth room, sufficient disease control effect and high quality mushrooms are recognized. Positive ions and negative ions may be released also in the aging process (step 105) and the fungus scraping process (step 106). As described above, some or all of the germination room, the run-in room, and the growth room may be the same facility.

正イオンおよび負イオンの放出が行なわれる期間は、栽培工程中の一定期間、すなわち、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか1つ以上の工程中の一定期間である。栽培工程中の全期間ではなく、一部の期間に限定された正負イオンの放出であっても十分な病害抑制効果、キノコの高品質化が認められる。   The period during which positive ions and negative ions are released is a certain period during the cultivation process, that is, any one or more of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109). It is a certain period during the process. Even if the release of positive and negative ions limited to a part of the period is not the entire period during the cultivation process, a sufficient disease suppressing effect and high quality mushrooms are recognized.

具体的には、正負イオンの放出は、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか1つの工程でのみ行なってもよい。たとえば、ならし工程(ステップ108)においてのみ正負イオンを放出するようにしてもよい。あるいは、2つ以上の工程で正負イオンの放出を行なってもよい。たとえば、芽出し工程(ステップ107)および生育工程(ステップ109)において正負イオンを放出するようにしてもよい。ならし工程(ステップ108)が省略されている場合でも同様である。   Specifically, the release of positive and negative ions may be performed only in any one of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109). For example, positive and negative ions may be released only in the leveling step (step 108). Alternatively, positive and negative ions may be released in two or more steps. For example, positive and negative ions may be released in the germination process (step 107) and the growth process (step 109). The same applies when the leveling step (step 108) is omitted.

正負イオンの放出を開始および停止するタイミングは、特に限定されるものではない。たとえば、芽出し工程(ステップ107)においてのみ正負イオンを放出する場合、正負イオンの放出を開始するタイミングは、菌掻き工程(ステップ106)を終えた栽培容器を、芽出し室に移して芽出し工程を開始する前であってもよく、およそ同時であってもよく、芽出し工程を開始した後であってもよい。また、正負イオンの放出を停止するタイミングは、次工程のための施設に移す(次工程が同一施設で行なわれる場合は、芽出し工程終了時の)前であってもよく、およそ同時であってもよく、後であってもよい。芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか1つの工程でのみ正負イオンの放出を行なう場合は、当該工程中のできるだけ長い期間にわたって正負イオンの放出を行なうことが好ましく、当該工程中の全期間であることが特に好ましい。正負イオンの放出が極端に短い場合、キノコの品質が損なわれる虞がある。ならし工程(ステップ108)または生育工程(ステップ109)においてのみ正負イオンを放出する場合も、同様である。   The timing for starting and stopping the release of positive and negative ions is not particularly limited. For example, when positive and negative ions are released only in the sprouting process (step 107), the timing of starting the release of positive and negative ions is transferred to the sprouting chamber after the cultivation container that has finished the fungus scraping process (step 106) is started. It may be before, about the same time, or after starting the sprouting process. In addition, the timing of stopping the release of positive and negative ions may be before moving to the facility for the next process (when the next process is performed in the same facility, at the end of the germination process), and at approximately the same time. Or later. In the case where positive and negative ions are released only in any one of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109), positive and negative ions are released over the longest possible period in the process. Is preferable, and it is particularly preferable that the entire period of the process be performed. If the release of positive and negative ions is extremely short, the quality of the mushrooms may be impaired. The same applies when positive and negative ions are released only in the leveling process (step 108) or the growth process (step 109).

また、正負イオンの放出が、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか2つ以上の工程で行なわれる場合も、正負イオンの放出を開始および停止するタイミングは、特に限定されるものではない。たとえば、芽出し工程(ステップ107)と生育工程(ステップ109)とが同一施設で行なわれ、芽出し工程(ステップ107)〜生育工程(ステップ109)にかけて正負イオンを放出する場合、正負イオンの放出を開始するタイミングは、菌掻き工程(ステップ106)を終えた栽培容器を、芽出し室に移して芽出し工程を開始する前であってもよく、およそ同時であってもよく、芽出し工程を開始した後であってもよい。また、正負イオンの放出を停止するタイミングは、生育工程の終了と同時でもよく、終了後であってもよい。また、生育工程の終了前に正負イオンの放出を止めてもよい。正負イオンの放出が、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか2つ以上の工程で行なわれる場合であっても、正負イオンの放出が極端に短いとキノコの品質が損なわれる虞があるため、できるだけ長い期間にわたって正負イオンの放出が行なわれることが好ましい。   In addition, when the release of positive and negative ions is performed in any two or more of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growth process (step 109), the positive and negative ions are released. The timing to stop is not particularly limited. For example, when the germination process (step 107) and the growth process (step 109) are performed in the same facility and positive and negative ions are released from the germination process (step 107) to the growth process (step 109), release of positive and negative ions is started. The timing to perform may be before the cultivation container that has finished the fungus scraping process (step 106) is moved to the budding chamber and the budding process is started, or may be approximately the same, after the budding process is started. There may be. The timing of stopping the release of positive and negative ions may be the same as the end of the growth process or may be after the end. Moreover, you may stop discharge | release of positive / negative ion before completion | finish of a growth process. Even when positive and negative ions are released in any two or more of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109), the positive and negative ions are extremely released. If the length is too short, the quality of the mushroom may be impaired. Therefore, it is preferable that positive and negative ions are released over as long a period as possible.

また、正負イオンの放出は、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のうちの2つ以上の工程にまたがるか否かに関わらず、栽培工程中のある一定期間連続的に行なうようにしてもよく、間欠的に行なうようにしてもよい。   In addition, the release of positive and negative ions can be performed during the cultivation process regardless of whether or not the two or more processes of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109) are performed. It may be performed continuously for a certain period or may be performed intermittently.

以上のように、本発明のキノコの栽培方法は、栽培工程中のある一定期間、正負イオンによる除菌環境下でキノコを栽培することを特徴としている。このように、栽培工程中の全期間ではなく、一部の期間のみの正負イオンの放出であっても、キノコの品質改善等の効果が認められる。   As described above, the method for cultivating mushrooms of the present invention is characterized in that mushrooms are cultivated in a sterilization environment with positive and negative ions for a certain period during the cultivation process. Thus, the effect of improving the quality of the mushrooms is recognized even if the release of positive and negative ions only during a part of the period, not the entire period during the cultivation process.

(正イオンおよび負イオンの生成方法)
ここで、正イオンおよび負イオンの生成方法について説明する。正イオンおよび負イオンの生成には、放電機構により正負両イオンを発生する従来公知のイオン発生器が用いられる。ここでいう放電機構とは、たとえばセラミックの誘電体を放電電極と誘電電極で挟み込んだ構造を有し、当該放電電極−誘電電極間に高電圧を印加することによって、放電電極近傍でコロナ放電が起こり、これにより空気中の水分子や酸素分子を電離または解離して正負両イオンを生成するような機構をいう。このようにして生成した正イオンおよび負イオンは、それぞれH+(H2O)m(mは任意の自然数)、O2 -(H2O)n(nは任意の自然数)を主体とするイオンである。これらH+(H2O)mおよびO2 -(H2O)nは、施設内に浮遊する菌の表面に付着し、化学反応を起こして活性種であるH22および/または・OHを生成する。H22および・OHは、極めて強力な活性を示すため、これらの作用により菌を取り囲んでその活動を抑制または停止させることができる。ここで、・OHはラジカルのOHを示す。
(Method for generating positive and negative ions)
Here, a method of generating positive ions and negative ions will be described. For generating positive ions and negative ions, a conventionally known ion generator that generates both positive and negative ions by a discharge mechanism is used. The discharge mechanism here has, for example, a structure in which a ceramic dielectric is sandwiched between a discharge electrode and a dielectric electrode, and corona discharge is generated in the vicinity of the discharge electrode by applying a high voltage between the discharge electrode and the dielectric electrode. It is a mechanism that occurs and thereby generates positive and negative ions by ionizing or dissociating water molecules and oxygen molecules in the air. The positive ions and negative ions thus generated are mainly composed of H + (H 2 O) m (m is an arbitrary natural number) and O 2 (H 2 O) n (n is an arbitrary natural number), respectively. Ion. These H + (H 2 O) m and O 2 (H 2 O) n adhere to the surface of bacteria floating in the facility and cause a chemical reaction to generate H 2 O 2 and / or. OH is produced. Since H 2 O 2 and .OH show extremely strong activity, these actions can surround the bacteria and suppress or stop their activity. Here, .OH indicates radical OH.

本発明においては、放電電極−誘電電極間に印加する電圧、すなわち印加電圧は高電圧であることが好ましい。上述のように、正負イオンを放出する栽培工程が実施される施設内は、相対湿度が80〜100%、より好ましくは90〜100%と高湿度環境下にある。このような高湿度環境下では印加電圧が低いと電極表面の放電部分に結露が生じ、放電が起こらなくなる虞がある。具体的には、電極の構造にもよるが、好ましい印加電圧は電極間のピークトゥーピーク(peak to peak)電圧として、少なくとも4kV以上である。相対湿度90%以上の高湿度環境下でも十分な正負イオンを発生させるためには、4.5kV程度以上であることが特に好ましい。   In the present invention, the voltage applied between the discharge electrode and the dielectric electrode, that is, the applied voltage is preferably a high voltage. As described above, the inside of the facility where the cultivation process for releasing positive and negative ions is performed is in a high humidity environment with a relative humidity of 80 to 100%, more preferably 90 to 100%. In such a high humidity environment, if the applied voltage is low, condensation occurs on the discharge portion of the electrode surface, and there is a possibility that discharge will not occur. Specifically, although it depends on the structure of the electrodes, a preferable applied voltage is at least 4 kV or more as a peak-to-peak voltage between the electrodes. In order to generate sufficient positive and negative ions even in a high humidity environment with a relative humidity of 90% or higher, it is particularly preferably about 4.5 kV or higher.

ここで、表1に放電可能な印加電圧と相対湿度との関係を示す。また図2は、表1に示される放電可能な印加電圧を測定するために用いた概略装置図である。図2に示されるように、1m3のアクリルボックス201内に、セラミックの誘電体を放電電極と誘電電極で挟み込んだ構造を有し、当該放電電極と誘電電極間に交流電圧を印加することによってイオンを発生するイオン発生器202と、イオン発生器202のイオン発生部から90mm離れた位置に送風機203(DC8V)を設置し、イオン発生器202と送風機203を結ぶ直線上であって、風下側にイオン発生器202のイオン発生部から150mm離れた位置にイオン測定器204(アンデス電気(株)製 イオンカウンター)を設置した。なお、図2に示すように、イオン測定器204はアクリルボックス201の外側に設置されているが、イオンをカウントできるよう、アクリルボックス201には穴が設けられている。このような装置を用い、種々の相対湿度で、放電可能な印加電圧を測定した。放電可能な電圧とは、電圧を印加後、30秒以内にイオン測定器204によりカウントされたマイナスイオンが1万個/cm3を超える最低電圧を意味する。送風機203は、イオン発生器202のイオン発生部近傍における風速が4m/秒となるように稼動させた。 Here, Table 1 shows the relationship between the applied voltage that can be discharged and the relative humidity. FIG. 2 is a schematic device diagram used for measuring the dischargeable applied voltage shown in Table 1. As shown in FIG. 2, a 1 m 3 acrylic box 201 has a structure in which a ceramic dielectric is sandwiched between a discharge electrode and a dielectric electrode, and an AC voltage is applied between the discharge electrode and the dielectric electrode. An ion generator 202 that generates ions, and a blower 203 (DC8V) is installed at a position 90 mm away from the ion generation portion of the ion generator 202, and is on a straight line connecting the ion generator 202 and the blower 203, and on the leeward side In addition, an ion measuring device 204 (an ion counter manufactured by Andes Electric Co., Ltd.) was installed at a position 150 mm away from the ion generating portion of the ion generator 202. As shown in FIG. 2, the ion measuring device 204 is installed outside the acrylic box 201, but the acrylic box 201 is provided with a hole so that ions can be counted. Using such an apparatus, the applied voltage that can be discharged was measured at various relative humidity. The dischargeable voltage means a minimum voltage at which the number of negative ions counted by the ion measuring instrument 204 within 30 seconds after the voltage is applied exceeds 10,000 / cm 3 . The blower 203 was operated so that the wind speed in the vicinity of the ion generator of the ion generator 202 was 4 m / sec.

Figure 2008011830
Figure 2008011830

表1からわかるように、上記構造を有するイオン発生器においては、相対湿度が80%の場合、少なくとも3.5kV程度、相対湿度が90%の場合、少なくとも4.5kV程度の印加電圧が必要であることがわかる。   As can be seen from Table 1, the ion generator having the above structure requires an applied voltage of at least about 3.5 kV when the relative humidity is 80% and at least about 4.5 kV when the relative humidity is 90%. I know that there is.

また、上記と同じ測定装置において、同様の構造を有するイオン発生器および送風機を用い、印加電圧が異なる場合における、正負イオン発生量(個/cm3)と相対湿度との関係を調べた。その結果を表2に示す。なお、表2に示す正負イオン量は、吹き出し口から10cmの距離における正負両イオンの平均値であり、送風機は、イオン発生器のイオン発生部近傍における風速が5m/秒になるように稼動させた。 Further, in the same measuring apparatus as described above, an ion generator and a blower having the same structure were used, and the relationship between the positive / negative ion generation amount (pieces / cm 3 ) and the relative humidity when the applied voltage was different was examined. The results are shown in Table 2. The amount of positive and negative ions shown in Table 2 is an average value of both positive and negative ions at a distance of 10 cm from the outlet, and the blower is operated so that the wind speed in the vicinity of the ion generation part of the ion generator is 5 m / sec. It was.

Figure 2008011830
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表2から明らかなように、印加電圧が電極間のピークトゥーピーク(peak to peak)電圧として3.5kVである場合には、相対湿度75%で正負イオン量が4割程度減少し、相対湿度80%以上では、正負イオンを発生していないことがわかる。なお、バックグラウンド、すなわちイオン発生器を稼動しない状態でも200〜500個/cm3程度のイオンが存在する。一方、印加電圧が電極間のピークトゥーピーク(peak to peak)電圧として5.3kVである場合には相対湿度が80%以上であっても100,000個/cm3以上の正負イオンを発生することがわかる。 As is apparent from Table 2, when the applied voltage is 3.5 kV as a peak-to-peak voltage between the electrodes, the amount of positive and negative ions decreases by about 40% at a relative humidity of 75%. It can be seen that positive and negative ions are not generated at 80% or more. Even in the background, that is, when the ion generator is not operated, there are about 200 to 500 ions / cm 3 ions. On the other hand, when the applied voltage is 5.3 kV as a peak-to-peak voltage between the electrodes, positive / negative ions of 100,000 ions / cm 3 or more are generated even if the relative humidity is 80% or more. I understand that.

このような結果から、通常イオン発生器によく用いられる3.5kV程度の印加電圧では、高湿度環境を必要とするキノコ栽培施設においては、放電は起こらないことがわかる。また、キノコ栽培施設のような高湿度環境下で放電を可能とするためには印加電圧を高くする必要があることがわかる。   From these results, it can be seen that discharge does not occur in mushroom cultivation facilities that require a high humidity environment at an applied voltage of about 3.5 kV, which is commonly used for ion generators. Moreover, it turns out that it is necessary to make an applied voltage high in order to enable discharge in a high humidity environment such as a mushroom cultivation facility.

(正負イオン放出によるキノコ栽培施設内の雑菌の除菌)
次に、栽培工程が実施される施設内に、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌する方法について具体的に説明する。
(Bacteria elimination in mushroom cultivation facility by positive and negative ion release)
Next, a method for releasing positive ions and negative ions into a facility where the cultivation process is carried out to eliminate germs in the facility will be specifically described.

本発明においては、上記したようなイオン発生器を、栽培工程が実施される施設内に設置し、稼動することにより、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌する。本発明のキノコの栽培方法によれば、イオン発生器を設置するだけでよく、既存設備の改修等を要しない。また、上述したように、芽出し工程(ステップ107)および生育工程(ステップ108)が行なわれる施設内は高湿度環境下にあるが、上述したように、印加電圧を高くすることによって、高湿度環境下であっても施設内の雑菌を効率よく除菌するのに十分な量の正負イオンを発生させることができる。   In the present invention, the ion generator as described above is installed and operated in a facility where the cultivation process is carried out to release positive ions and negative ions, thereby sterilizing germs in the facility. According to the method for cultivating mushrooms of the present invention, it is only necessary to install an ion generator, and it is not necessary to repair existing facilities. Further, as described above, the inside of the facility where the sprouting step (step 107) and the growing step (step 108) are performed is in a high humidity environment. Even under such conditions, it is possible to generate a sufficient amount of positive and negative ions to efficiently sterilize germs in the facility.

ここで、栽培工程が実施される施設内における正イオンおよび負イオンの放出は、当該施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2,000個/cm3以上となるように行われることが好ましい。特に正負両イオン量が、それぞれ2,000個/cm3以上となるのが好ましいのは、当該施設の中でも、栽培されているキノコが置かれている部分である。2,000個/cm3未満である場合には、施設内の雑菌を十分に除菌できない虞がある。なお、高湿度環境下にある施設内のあらゆる箇所における正負イオン量を測定することは容易ではないため、本発明においては、好ましくはコンピュータを用いてイオン分布のシミュレーションを行い、施設内のイオン量(個/cm3)を算出する。 Here, the release of positive ions and negative ions in the facility where the cultivation process is performed is performed so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2,000 / cm 3 or more, respectively. Is preferred. In particular, it is preferred that the amount of positive and negative ions is 2,000 / cm 3 or more, respectively, in the facility where the cultivated mushrooms are placed. When the number is less than 2,000 cells / cm 3 , there is a possibility that various germs in the facility cannot be sufficiently sterilized. In addition, since it is not easy to measure the amount of positive and negative ions at every location in a facility under a high-humidity environment, in the present invention, preferably, a simulation of ion distribution is performed using a computer to determine the amount of ions in the facility. Calculate (pieces / cm 3 ).

コンピュータを用いたイオン分布のシミュレーションによる施設内のイオン量(個/cm3)の算出は、たとえば「STREAM」((株)ソフトウェアクレイドルのCFD解析ソフト)を用い、定常解析計算することにより行うことができる。 Calculation of ion quantity (number / cm 3 ) in the facility by simulation of ion distribution using a computer is performed by performing steady state analysis calculation using, for example, “STREAM” (CFD analysis software of Software Cradle Co., Ltd.). Can do.

イオン発生器の設置は、1つの施設内に1つでもよく、2つ以上でもよい。たとえば施設の空間体積が大きい場合等、1つのイオン発生器では上記の好ましいイオン環境、すなわち当該施設内の正負イオンのそれぞれの量が2,000個/cm3以上という環境が達成されない場合には、2つ以上のイオン発生器を設置することが好ましい。施設内におけるイオン発生器の設置場所は、特に限定されるものではない。たとえば、単に床に置くだけでもよく、側壁に取り付けてもよい。あるいは天井に設置してもよい。1つの施設内に2つ以上のイオン発生器を設置する場合であっても、イオン発生器間の位置関係は特に限定されない。 One ion generator may be installed in one facility, or two or more ion generators may be installed. For example, when the space volume of the facility is large, the above-mentioned preferable ion environment, that is, an environment where the amount of positive and negative ions in the facility is not less than 2,000 / cm 3 is not achieved with one ion generator. It is preferable to install two or more ion generators. The installation location of the ion generator in the facility is not particularly limited. For example, it may be simply placed on the floor or attached to the side wall. Or you may install in a ceiling. Even when two or more ion generators are installed in one facility, the positional relationship between the ion generators is not particularly limited.

イオン発生器の設置とともに、発生した正負イオンを施設内空間へ送出するための送風機を施設内に設置することが好ましい。1つの施設内における送風機の数は、1つでもよく、2つ以上でもよい。送風機は、イオン発生器の近くに設置することが好ましい。これにより、発生した正負イオンが効率的に施設内空間へ送出される。また、当該送風機に加えて、あるいは当該送風機の代わりに、施設内の空気を攪拌するためのファンを天井等に設置してもよい。   Along with the installation of the ion generator, it is preferable to install a blower in the facility for sending the generated positive and negative ions to the facility space. The number of fans in one facility may be one or two or more. The blower is preferably installed near the ion generator. Thereby, the generated positive and negative ions are efficiently delivered to the facility space. In addition to the blower or instead of the blower, a fan for stirring the air in the facility may be installed on the ceiling or the like.

<キノコの生育障害の低減方法>
本発明は、原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程が実施される施設内に、当該栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出することにより、シュードモナス属菌を除菌することを特徴とするキノコの生育障害を低減する方法を提供する。正イオンおよび負イオンは、シュードモナス属菌の活動を効果的に抑制あるいは停止させ、これによりキノコの生育障害を大幅に低減することができる。しかも栽培対象であるキノコ自体には悪影響を及ぼすことはなく、高品質のキノコを得ることができる。
<Mushroom growth disorder reduction method>
The present invention relates to Pseudomonas by releasing positive ions and negative ions for a certain period of time during the cultivation process into a facility where the cultivation process for growing the primordium is performed after the formation of the primordium. Disclosed is a method for reducing a growth disorder of a mushroom characterized by sterilizing a genus fungus. Positive ions and negative ions can effectively suppress or stop the activity of Pseudomonas species, thereby significantly reducing mushroom growth disorders. In addition, the mushrooms to be grown are not adversely affected, and high-quality mushrooms can be obtained.

正イオンおよび負イオンの放出が行なわれる施設は、栽培工程が実施される施設、すなわち、芽出し室、ならし室、生育室のいずれか1種以上の施設である。少なくとも芽出し室、ならし室、生育室のいずれか1つ以上の施設内に正イオンおよび負イオンの放出を行なうことにより、十分な病害抑制効果、キノコの高品質化が認められるが、培養・熟成工程(ステップ105)、菌掻き工程(ステップ106)においても正イオンおよび負イオンの放出を行なうようにしてもよい。なお、上述のように、芽出し室、ならし室、生育室のうちの一部または全部が同一の施設であってもよい。   The facility where positive ions and negative ions are released is a facility where a cultivation process is performed, that is, one or more of a sprouting room, a conditioned room, and a growing room. By releasing positive ions and negative ions into at least one of the germination room, the conditioned room, and the growth room, sufficient disease control effect and high quality mushrooms are recognized. Positive ions and negative ions may be released also in the aging process (step 105) and the fungus scraping process (step 106). As described above, some or all of the germination room, the run-in room, and the growth room may be the same facility.

正イオンおよび負イオンの放出が行なわれる期間は、栽培工程中の一定期間、すなわち、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のいずれか1つ以上の工程中の一定期間である。栽培工程中の全期間ではなく、一部の期間に限定された正負イオンの放出であっても十分な病害抑制効果、キノコの高品質化が認められる。正負イオンの放出を開始および停止するタイミングは上述のとおりである。   The period during which positive ions and negative ions are released is a certain period during the cultivation process, that is, any one or more of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109). It is a certain period during the process. Even if the release of positive and negative ions limited to a part of the period is not the entire period during the cultivation process, a sufficient disease suppressing effect and high quality mushrooms are recognized. The timing for starting and stopping the release of positive and negative ions is as described above.

また、正負イオンの放出は、芽出し工程(ステップ107)、ならし工程(ステップ108)、生育工程(ステップ109)のうちの2つ以上の工程にまたがるか否かに関わらず、栽培工程中のある一定期間連続的に行なうようにしてもよく、間欠的に行なうようにしてもよい。   In addition, the release of positive and negative ions can be performed during the cultivation process regardless of whether or not the two or more processes of the sprouting process (step 107), the smoothing process (step 108), and the growing process (step 109) are performed. It may be performed continuously for a certain period or may be performed intermittently.

このように、本発明のキノコの生育障害を低減する方法は、栽培工程中のある一定期間、正負イオンによる除菌環境下でキノコを栽培することを特徴としている。このように、栽培工程中の全期間ではなく、一部の期間のみの正負イオンの放出であっても、立ち枯れ症状等の生育障害を効果的に低減することができる。   Thus, the method for reducing the growth disorder of mushrooms according to the present invention is characterized by cultivating mushrooms in a sterilization environment with positive and negative ions for a certain period during the cultivation process. Thus, even if it is the release of positive and negative ions only in a part of the period, not in the entire period during the cultivation process, it is possible to effectively reduce growth disorders such as withering symptoms.

本発明のキノコの生育障害の低減方法において、正負イオンを生成させる方法については上述したとおりである。すなわち、正イオンおよび負イオンの生成には、放電機構により正負両イオンを発生する従来公知のイオン発生器が用いられる。正負イオンを放出する栽培工程が実施される施設内は、相対湿度が80〜100%、より好ましくは90〜100%と高湿度環境下にあるため、このような高湿度環境下においてもシュードモナス属菌を除菌するのに十分な正負イオンを生成すべく、少なくとも4kV以上、より好ましくは4.5kV以上の印加電圧を必要とする。   The method for generating positive and negative ions in the mushroom growth disorder reducing method of the present invention is as described above. That is, a conventionally known ion generator that generates both positive and negative ions by a discharge mechanism is used to generate positive ions and negative ions. The inside of the facility where the cultivation process for releasing positive and negative ions is carried out is in a high humidity environment with a relative humidity of 80 to 100%, more preferably 90 to 100%. Therefore, even in such a high humidity environment, the genus Pseudomonas An applied voltage of at least 4 kV or more, more preferably 4.5 kV or more is required to generate positive and negative ions sufficient to sterilize the bacteria.

また、本発明のキノコの生育障害の低減方法における、正負イオン放出により栽培工程が実施される施設内のシュードモナス属菌を除菌する方法も上述したとおりである。すなわち、上記したようなイオン発生器を、栽培工程が実施される施設内に設置し、稼動することにより、正イオンおよび負イオンを放出し、当該施設内の雑菌を除菌する。   In addition, the method for eradicating Pseudomonas spp. In a facility where the cultivation process is carried out by releasing positive and negative ions in the method for reducing growth failure of mushrooms of the present invention is also as described above. That is, an ion generator as described above is installed and operated in a facility where the cultivation process is carried out, thereby releasing positive ions and negative ions and sterilizing germs in the facility.

ここで、栽培工程が実施される施設内における正イオンおよび負イオンの放出は、当該施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2,000個/cm3以上となるように行われることが好ましい。2,000個/cm3以上とすることにより、当該施設内のシュードモナス属菌の除菌がより効果的になされ、キノコの生育障害をより効果的に低減することができる。なお、高湿度環境下にある施設内のあらゆる箇所における正負イオン量を測定することは容易ではないため、本発明においては、好ましくはコンピュータを用いてイオン分布のシミュレーションを行い、施設内のイオン量(個/cm3)を算出する。 Here, the release of positive ions and negative ions in the facility where the cultivation process is performed is performed so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2,000 / cm 3 or more, respectively. Is preferred. By setting it to 2,000 cells / cm 3 or more, sterilization of Pseudomonas spp. In the facility is made more effective, and mushroom growth disorders can be reduced more effectively. In addition, since it is not easy to measure the amount of positive and negative ions at every location in a facility under a high-humidity environment, in the present invention, preferably, a simulation of ion distribution is performed using a computer to determine the amount of ions in the facility. Calculate (pieces / cm 3 ).

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.

<実施例1>
(シュードモナス属菌の除菌効果の確認)
あらかじめ帯電防止剤を含ませたガーゼで内部を清拭しておいた閉鎖処理箱(65cm×40cm×30cm)を用意し、その閉鎖処理箱内に、セラミックの誘電体を放電電極と誘電電極で挟み込んだ構造を有し、当該放電電極と誘電電極間に交流電圧を印加することによってイオンを発生するイオン発生器および送風機(風量0.184m3/min)を搭載したイオン送風装置を設置した。このイオン送風装置は、相対湿度40%の条件下で、吹き出し口から10cmの距離において約15万個/cm3のイオン量(正負イオン各々の量)を生成する能力を有する。さらに、風下側であって、イオン送風装置から45cm離れた位置に、送風方向に垂直となるように平板寒天培地(シュードモナス選択培地)を設置した。以上の前準備を行い、まず、処理試験を行なった。処理試験は、閉鎖処理箱内でシュードモナス属菌液(108個/mL)を箱散布し、閉鎖処理箱内のイオン送風装置(イオン発生器と送風機の両方)を10分間稼動させ、設置した平板寒天培地により、空中落下したシュードモナス属菌を採取した。次に、イオン送風装置のイオン発生器を稼動させず、送風機のみを稼動させたこと以外は、処理試験と同様の無処理試験を行なった。それぞれの試験で採取したシュードモナス属菌を22℃にて48時間培養した。同じ処理試験と無処理試験をトータル2回行った。培養後のシュードモナス属菌数を表3に示す。
<Example 1>
(Confirmation of sterilization effect of Pseudomonas sp.)
Prepare a closed processing box (65 cm x 40 cm x 30 cm) whose interior has been wiped with gauze containing an antistatic agent in advance, and place the ceramic dielectric in the closed processing box with the discharge electrode and dielectric electrode. An ion blower having an sandwiched structure and an ion generator that generates ions by applying an AC voltage between the discharge electrode and the dielectric electrode and an air blower (air flow 0.184 m 3 / min) was installed. This ion blower has the ability to generate an amount of ions (amount of positive and negative ions) of about 150,000 ions / cm 3 at a distance of 10 cm from the air outlet under conditions of a relative humidity of 40%. Furthermore, a plate agar medium (Pseudomonas selective medium) was installed on the leeward side at a position 45 cm away from the ion blower so as to be perpendicular to the blowing direction. The pre-preparation described above was performed, and first, a treatment test was performed. In the treatment test, Pseudomonas solution (108 / mL) was sprayed in a closed processing box, the ion blower (both ion generator and blower) in the closed treatment box was operated for 10 minutes, and the installed flat plate Pseudomonas spp. That fell in the air were collected using an agar medium. Next, a non-treatment test similar to the treatment test was performed except that only the blower was operated without operating the ion generator of the ion blower. Pseudomonas bacteria collected in each test were cultured at 22 ° C. for 48 hours. The same treatment test and no treatment test were performed twice in total. Table 3 shows the number of Pseudomonas species after culturing.

Figure 2008011830
Figure 2008011830

表3に示されるように、処理試験、すなわちイオン発生器を稼動させた場合には、空中落下したシュードモナス属菌が著しく減少していることがわかる。シュードモナス属菌の減少率は、無処理試験と比較して、1回目が94.8%、2回目が80%であり、除菌効果は非常に高い。   As shown in Table 3, when the treatment test, that is, when the ion generator is operated, it can be seen that the number of Pseudomonas spp. Dropped in the air is significantly reduced. The decrease rate of Pseudomonas spp. Is 94.8% for the first time and 80% for the second time compared with the untreated test, and the sterilization effect is very high.

<実施例2>
(正負イオンを用いたエリンギの栽培)
図1に示されるフローチャートに従い、まず通常用いられる手段により培地調製を行った(ステップ101)。具体的には、培地組成はYK−E改変とし(スギオガコ:290g、コーンコブミール:30g、コメヌカ:45g、フスマ:45g、粉ビート:30g、貝化石:4g、ニヨキデール:2g/1ビン(生重))、含水率は65%とした。次に、調製された培地を容量850mL、口径58mmのポリプロピレン製栽培容器に535g充填して(ステップ102)、16個の培地充填された栽培容器を得た。次に、通常用いられる手段により殺菌した後(ステップ103)、各栽培容器にエリンギ「長菌12号」の種菌を接種した(ステップ104)。続いて、培養室にて20日間培養した後、同室にて熟成を行った(ステップ105)。培養は、温度22℃、相対湿度70%の環境下で行い、熟成は、温度22℃、相対湿度70%の環境下で行った。次に、ぶっかき法により菌掻きを行った(ステップ106)。この際、霧吹きにて5回水を噴霧した。
<Example 2>
(Cultivation of eringi using positive and negative ions)
According to the flowchart shown in FIG. 1, first, a medium was prepared by a commonly used means (step 101). Specifically, the medium composition was YK-E modified (Sugiogako: 290 g, Corn Cobmeal: 30 g, Rice bran: 45 g, Husuma: 45 g, Flour beet: 30 g, Shell fossil: 4 g, Nyokidale: 2 g / 1 bottle (fresh weight )), The water content was 65%. Next, 535 g of the prepared medium was filled in a polypropylene cultivation container having a capacity of 850 mL and a diameter of 58 mm (step 102), and 16 cultivation containers filled with medium were obtained. Next, after sterilizing by means usually used (step 103), each cultivation container was inoculated with an inoculum of “Elongi 12” (step 104). Subsequently, after culturing in a culture room for 20 days, aging was performed in the same room (step 105). The culture was performed in an environment at a temperature of 22 ° C. and a relative humidity of 70%, and aging was performed in an environment of a temperature of 22 ° C. and a relative humidity of 70%. Next, the bacteria were scraped by the scratching method (step 106). At this time, water was sprayed five times with a spray.

続いて、菌掻き処理を施した16個の栽培容器を、図3に示される2.0m×3.5m×2.7mの生育室に移し、当該生育室にて芽出し工程(ステップ107)および生育工程(ステップ109)を行った。具体的には以下のとおりである。   Subsequently, the 16 cultivation containers subjected to the fungus scraping treatment were transferred to a growth room of 2.0 m × 3.5 m × 2.7 m shown in FIG. 3, and a sprouting step (step 107) and A growth step (step 109) was performed. Specifically, it is as follows.

図3は、本実施例において使用した生育室を概略的に示す斜視図である。生育室301は、2.0m(X方向)×3.5m(Y方向)×2.7m(Z方向)の大きさを有し、Y=0の位置にイオン発生器2台(図示せず)を搭載した送風機が2台設置されている(それぞれ送風機302、送風機303)。また、図示されていないが、X=0〜0.55mにかけて、およびX=1.55〜2.0mにかけて、高さ(Z方向)=0.41m、1.25m、1.7mの位置にそれぞれ、栽培容器を置くための棚が設けられている。送風機302および送風機303に搭載されているイオン発生器は、いずれもセラミックの誘電体を放電電極と誘電電極で挟み込んだ構造を有し、印加電圧5.3kV、相対湿度40%の条件下で、送風機吹き出し口から10cmの距離において約100,000個/cm3のイオン量(正負イオン各々の量)を生成する能力を有するものである。 FIG. 3 is a perspective view schematically showing the growth chamber used in this example. The growth chamber 301 has a size of 2.0 m (X direction) × 3.5 m (Y direction) × 2.7 m (Z direction), and two ion generators (not shown) at a position of Y = 0. ) Is installed (two fans 302 and 303, respectively). Although not shown, the height (Z direction) is 0.41 m, 1.25 m, and 1.7 m over X = 0 to 0.55 m and X = 1.55 to 2.0 m. Each has a shelf for placing cultivation containers. Each of the ion generators mounted on the blower 302 and the blower 303 has a structure in which a ceramic dielectric is sandwiched between a discharge electrode and a dielectric electrode, and under conditions of an applied voltage of 5.3 kV and a relative humidity of 40%, It has the ability to generate an amount of ions of about 100,000 ions / cm 3 (amount of positive and negative ions) at a distance of 10 cm from the blower outlet.

芽出し工程(ステップ107)においては、まず、室内温度16.5℃、相対湿度90〜95%に保たれた、上記のような構造の生育室301に、上記16個の菌掻き処理された栽培容器を移し、それとほぼ同時に送風機302および送風機303を稼動させた(4つのイオン発生器も連動して稼動)。イオン発生器への印加電圧は5.3〜5.7kVであった。送風機の風量は4m3/minとした。図示されていないが、送風機302および送風機303の正負イオン吹き出し口にはルーバーが取り付けられており、送風機303はX方向に正負イオンを吹き出し、送風機302はXZ斜め方向に正負イオンを吹き出すようにした。なお、16個の栽培容器は、生育室に設けられている棚にコンテナを置き、その中に配置した。次に、送風機302、送風機303を稼動した状態で13日間保持して芽出し工程を完了させた。 In the sprouting process (step 107), first, the above-mentioned 16 fungi are cultivated in the growth chamber 301 having the above-described structure maintained at a room temperature of 16.5 ° C. and a relative humidity of 90 to 95%. The container was moved, and the blower 302 and the blower 303 were operated almost simultaneously (the four ion generators were also operated in conjunction). The applied voltage to the ion generator was 5.3 to 5.7 kV. The air volume of the blower was 4 m 3 / min. Although not shown, louvers are attached to the positive and negative ion outlets of the blower 302 and the blower 303, the blower 303 blows out positive and negative ions in the X direction, and the blower 302 blows out positive and negative ions in the XZ oblique direction. . In addition, 16 cultivation containers put the container on the shelf provided in the growth room, and have arrange | positioned in it. Next, the sprouting process was completed by holding the blower 302 and the blower 303 for 13 days.

続いて、生育室301内を温度16℃、相対湿度90〜95%とし、引き続き送風機302および送風機303を稼動させた状態で原基の生育を行なった(ステップ109)。また、生育工程中は、生育室301内の炭酸ガス濃度を1000ppmに保ち、1日に1時間、300Luxの照明をあてた。生育期間は、4.0日であった。正負イオンの放出は、生育工程の終了とほぼ同時にストップした。生育工程終了後、収穫を行った(ステップ110)。収量は、1栽培容器あたり平均124.5gであった。   Subsequently, the growth was performed in the growth chamber 301 at a temperature of 16 ° C. and a relative humidity of 90 to 95%, and the blower 302 and the blower 303 were continuously operated (step 109). During the growth process, the carbon dioxide gas concentration in the growth chamber 301 was kept at 1000 ppm, and illumination of 300 Lux was applied for 1 hour per day. The growing period was 4.0 days. The release of positive and negative ions stopped almost simultaneously with the end of the growth process. After completion of the growing process, harvesting was performed (step 110). The yield was 124.5 g on average per cultivation container.

ここで、生育室301内の細菌の数について調査したところ、空中落下細菌数は、送風機302および送風機303の稼動直前で13個であったのが、生育工程(ステップ109)終了後には0個に減少していた。なお、調査方法は、次のとおりである。   Here, when the number of bacteria in the growth chamber 301 was investigated, the number of bacteria falling in the air was 13 immediately before the operation of the blower 302 and the blower 303, but it was 0 after the growth process (step 109). Had decreased. The survey method is as follows.

空中落下細菌数については、まずシャーレ培地(NA培地)を棚面(X=0.45m、Y=1.75m、Z=1.25mの位置)および床面(X=0.45m、Y=1.75m、Z=0mの位置)に1枚づつ設置し、15分開放することにより空中落下細菌を採取した。ついで、それぞれを25℃で48時間培養した後、発生コロニーをカウントし、これらを平均して空中落下細菌数とした。   Regarding the number of bacteria falling in the air, first, petri dish medium (NA medium) was placed on the shelf surface (X = 0.45 m, Y = 1.75 m, Z = 1.25 m position) and floor surface (X = 0.45 m, Y = The bacteria were collected in the air by placing them one by one at a position of 1.75 m and Z = 0 m and opening for 15 minutes. Then, after culturing each at 25 ° C. for 48 hours, the generated colonies were counted, and these were averaged to obtain the number of bacteria falling in the air.

さらに、芽出し工程(ステップ107)および生育工程(ステップ109)中の生育室301内のイオン分布を、コンピュータを用いたシミュレーションにより算出した。図4は、生育室301内のイオン分布を示す等高線図であり、図4(a)は、X=0.45mにおけるYZ平面の等高線図、図4(b)は、X=1.55mにおけるYZ平面の等高線図である。図4(a)および(b)中の横線は、その位置に栽培容器を置くための棚が設けられていることを示す(それぞれ上から1.7m、1.25m、0.41m)。また、図4(a)および(b)中の各数値は、その位置での定常状態におけるイオン量(個/cm3)を示す。なお、当該シミュレーションは、「STREAM」((株)ソフトウェアクレイドルのCFD解析ソフト)を用い、2.0m×3.5m×2.7mを対象空間とし、送風機の風速を約4m/秒と約7m/秒とした入力境界条件で定常解析を行なった。 Furthermore, the ion distribution in the growth chamber 301 during the germination process (step 107) and the growth process (step 109) was calculated by simulation using a computer. FIG. 4 is a contour map showing the ion distribution in the growth chamber 301, FIG. 4 (a) is a contour map of the YZ plane at X = 0.45m, and FIG. 4 (b) is at X = 1.55m. It is a contour map of the YZ plane. The horizontal line in Fig.4 (a) and (b) shows that the shelf for putting a cultivation container in that position is provided (1.7m, 1.25m, 0.41m from the top, respectively). Each numerical value in FIGS. 4A and 4B represents the ion amount (number / cm 3 ) in a steady state at that position. The simulation uses “STREAM” (CFD analysis software of Software Cradle Co., Ltd.), the target space is 2.0 m × 3.5 m × 2.7 m, and the wind speed of the blower is about 4 m / sec, about 7 m. Steady state analysis was performed with an input boundary condition of 1 / sec.

図4より、送風機401、送風機402(図3の送風機302、送風機303に相当する)のごく近傍を除いては、正負両イオンの各々の量は、2000個/cm3以上であることがわかる。 From FIG. 4, it can be seen that the amount of each of the positive and negative ions is 2000 / cm 3 or more except in the very vicinity of the blower 401 and the blower 402 (corresponding to the blower 302 and the blower 303 in FIG. 3). .

<実施例3>
菌掻き処理(ステップ106)を施した16個の栽培容器を図3に示される生育室301に移して芽出し工程(ステップ107)を開始する6日前から生育工程(ステップ109)終了時まで正負イオンを放出すること以外は、実施例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Example 3>
Sixteen cultivation containers subjected to the fungus scraping treatment (step 106) are transferred to the growth chamber 301 shown in FIG. 3, and positive and negative ions from 6 days before the germination process (step 107) is started until the end of the growth process (step 109). Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 2 except that it was released. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

ここで、生育室301内の細菌の数について調査したところ、空中落下細菌数は、芽出し工程(ステップ107)開始時5個であったのが、生育工程(ステップ109)終了後には0個に減少していた。   Here, when the number of bacteria in the growth chamber 301 was investigated, the number of bacteria falling in the air was 5 at the start of the budding process (step 107), but decreased to 0 after the growth process (step 109). It was decreasing.

<比較例1>
図3に示される生育室301において、イオン発生器を搭載した送風機302および送風機303を設置する代わりに酸化チタン光触媒式除菌装置(日本無機株式会社製 フレッシュロング(登録商標)PCE−101)を1台設置し、芽出し工程(ステップ107)の開始時にこれを稼動すること以外は実施例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative Example 1>
In the growth chamber 301 shown in FIG. 3, instead of installing the blower 302 and the blower 303 equipped with an ion generator, a titanium oxide photocatalytic sterilizer (Fresh Long (registered trademark) PCE-101 manufactured by Nippon Inorganic Co., Ltd.) is used. One unit was installed, and eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 2 except that it was operated at the start of the budding process (step 107). Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

ここで、生育室301内の細菌の数について調査したところ、空中落下細菌数は、芽出し工程(ステップ107)開始時92個であったのが、生育工程(ステップ109)終了後には12個に減少していた。   Here, when the number of bacteria in the growth chamber 301 was examined, the number of bacteria falling in the air was 92 at the start of the budding process (step 107), but now 12 after the growth process (step 109). It was decreasing.

<比較例2>
図3に示される生育室301において、生育室301内の雑菌を除菌するための装置を何も設けないこと以外は実施例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative example 2>
In the growth chamber 301 shown in FIG. 3, eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 2 except that no device for sterilizing the germs in the growth chamber 301 was provided. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<実施例4>
接種した種菌がエリンギ「長菌15号」の種菌であること以外は実施例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Example 4>
The eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 2 except that the inoculated inoculum was an inoculum of eringi “long fungus 15”. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<実施例5>
接種した種菌がエリンギ「長菌15号」の種菌であること以外は実施例3と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Example 5>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 3 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Eringi "Nagae No. 15". Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<比較例3>
接種した種菌がエリンギ「長菌15号」の種菌であること以外は比較例1と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative Example 3>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Comparative Example 1 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Eringi "Nagae No. 15". Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<比較例4>
接種した種菌がエリンギ「長菌15号」の種菌であること以外は比較例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative Example 4>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Comparative Example 2 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Eringi "Nagae No. 15". Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<実施例6>
接種した種菌が、株式会社かつらぎ産業 エリンギ「KE106号」の種菌であること以外は実施例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Example 6>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 2 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Katsuragi Sangyo Eringi “KE106”. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<実施例7>
接種した種菌が、株式会社かつらぎ産業 エリンギ「KE106号」の種菌であること以外は実施例3と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Example 7>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 3 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Katsuragi Sangyo Co., Ltd. “KE106”. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<比較例5>
接種した種菌が、株式会社かつらぎ産業 エリンギ「KE106号」の種菌であること以外は比較例1と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative Example 5>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Comparative Example 1 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Katsuragi Sangyo Eringi “KE106”. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

<比較例6>
接種した種菌が、株式会社かつらぎ産業 エリンギ「KE106号」の種菌であること以外は比較例2と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。なお、芽出し工程日数、生育工程日数およびエリンギの収量は表4のとおりである。
<Comparative Example 6>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Comparative Example 2 except that the inoculated inoculum was an inoculum of Katsuragi Sangyo Eringi “KE106”. Table 4 shows the number of days of sprouting process, the number of days of growing process, and the yield of eringi.

上記実施例2〜7および比較例1〜6で得られたエリンギの品質、立ち枯れ症状発生度および防除価を表4に示す。   Table 4 shows the quality of the eringi obtained in Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 6, the degree of withering symptoms, and the control value.

Figure 2008011830
Figure 2008011830

ここで、表4における「平均収量(g)」は、収穫された16株のエリンギの収量の平均値である。「収量比」は、施設内に除菌装置を設けない従来の栽培方法(比較例2、比較例4および比較例6)で得られたエリンギの平均収量を100としたときの平均収量である。エリンギの「品質」は、収量、菌傘の不整形や、菌柄のねじれ、ささくれ発生度、立ち枯れ症状の程度を目視で判断し、この平均を算出した値である。なお、以下のような基準で数値化している。
1:否=収量が100g未満で子実体の菌傘、菌柄に著しく奇形および病害虫の発生が見られる。
2:やや否=1と3の中間。
3:中=収量が100g以上で子実体の菌傘、菌柄に奇形および病害虫の発生が見られる。
4:やや良=3と5の中間。
5:良=収量が130g以上で子実体の菌傘、菌柄に奇形および病害虫がない。
Here, the “average yield (g)” in Table 4 is an average value of the yield of 16 harvested eringi. “Yield ratio” is the average yield when the average yield of eringi obtained by the conventional cultivation method (Comparative Example 2, Comparative Example 4 and Comparative Example 6) in which no sterilization apparatus is provided in the facility is defined as 100. . The “quality” of the eringi is a value obtained by visually determining the yield, the irregular shape of the fungus, the twist of the fungus pattern, the occurrence of the flapping, and the degree of the withering symptom, and calculating the average. The numerical value is based on the following criteria.
1: No = Yield is less than 100 g, and abnormal malformations and pests are observed in the fruit umbrella and fungus of the fruiting body.
2: Slightly no intermediate between 1 and 3.
3: Medium = yield is 100 g or more, and malformations and pests appear on the fungus and fungus of the fruit body.
4: Slightly good = intermediate between 3 and 5.
5: Good = yield is 130 g or more, and there are no malformations and pests in the fungus umbrella and fungus of the fruit body.

「立ち枯れ症状発生度」は、16株それぞれについて立ち枯れ症状の有無を調査し、その発生程度を6段階(発生程度の軽いものから順に0〜5)に分類して、以下の式(1)に当てはめることにより得られた数値である。   The “degree of withering symptom occurrence” was investigated for the presence or absence of withering symptom for each of the 16 strains, and the degree of occurrence was classified into 6 levels (from 0 to 5 in order from the lightest occurrence) to It is a numerical value obtained by fitting.

立ち枯れ症状発生度={Σ(発生程度×発生株数)}/(調査した株数) (1)
なお、発生程度0〜5は、それぞれ以下のような症状をいい、目視で判断した。ここで、奇形とは菌柄(茎)の曲がりやささくれ立ち、傘の不整形のことをいう。
0:発生なし。
1:菌傘、菌柄の一部分に変色が見られる。
2:株の1/3程度に変色・奇形が見られる。
3:株の半分程度に変色・奇形が見られる。
4:株の2/3程度に変色・奇形が見られる。
5:株全体が変色・萎縮し、枯死にいたる。
Occurrence of withering symptoms = {Σ (degree of occurrence × number of strains)} / (number of strains investigated) (1)
In addition, the generation | occurrence | production degree 0-5 said the following symptoms, respectively, and judged visually. Here, the malformation means that the fungus pattern (stem) is bent or raised and the umbrella is irregularly shaped.
0: No occurrence.
1: Discoloration is seen in a part of fungus umbrella and fungus pattern.
2: Discoloration / deformation is observed in about 1/3 of the stock.
3: Discoloration / deformation is seen in about half of the stock.
4: Discoloration / deformation is observed in about 2/3 of the stock.
5: The entire strain is discolored / shrinked, leading to death.

「防除価」(%)とは、施設内に除菌装置を設けない従来の栽培方法(比較例2、比較例4および比較例6)における立ち枯れ症状発生度に対して、どれだけ立ち枯れ症状発生度を減らすことができたかを数値化したものである。すなわち、「防除価」(%)は以下の式(2)で表される。   “Control value” (%) means how much withering symptoms occur with respect to the degree of withering symptoms in the conventional cultivation methods (Comparative Example 2, Comparative Example 4 and Comparative Example 6) in which no sterilization apparatus is provided in the facility. It is a quantification of whether the degree could be reduced. That is, the “control value” (%) is represented by the following formula (2).

防除価(%)=100−{(立ち枯れ症状発生度)/(比較例2、比較例4または比較例6における立ち枯れ症状発生度)}×100 (2)
表4に示されるように、いずれの品種においても本発明に従う栽培方法により、エリンギの品質は大きく向上した。また、長菌12号および長菌15号の場合には、光触媒式除菌装置を用いた栽培方法(比較例2、比較例4および比較例6)と比較しても本発明に従う栽培方法により、エリンギの品質が向上した。立ち枯れ症状発生度は、いずれの品種においても著しい低減効果が認められ、特に長菌12号および長菌15号においては、光触媒式除菌装置を用いた栽培方法(比較例2、比較例4および比較例6)よりも優れた低減効果が認められた。このことは、防除価の数値からも明らかである。
Control value (%) = 100 − {(degree of occurrence of withering symptoms) / (degree of occurrence of withering symptoms in Comparative Example 2, Comparative Example 4 or Comparative Example 6)} × 100 (2)
As shown in Table 4, in all cultivars, the quality of eringi was greatly improved by the cultivation method according to the present invention. Moreover, in the case of long bacteria 12 and long bacteria 15, even if compared with the cultivation method (Comparative Example 2, Comparative Example 4 and Comparative Example 6) using the photocatalytic sterilization apparatus, the cultivation method according to the present invention is used. , The quality of eringi improved. The degree of withering symptom occurrence is significantly reduced in all cultivars, and in particular, in the long bacteria No. 12 and the long bacteria No. 15, a cultivation method using a photocatalytic disinfection device (Comparative Example 2, Comparative Example 4 and A reduction effect superior to that of Comparative Example 6) was observed. This is apparent from the numerical value of the control value.

以下の実施例および比較例では、実際の生産者施設においてエリンギの栽培を行い、正負イオンの放出による除菌効果、立ち枯れ症状低減効果を確認した。   In the following examples and comparative examples, eringi was cultivated in an actual producer facility, and the sterilization effect and the withering symptom reduction effect by releasing positive and negative ions were confirmed.

<実施例8>
32個の培地充填された栽培容器を得た後、通常用いられる手段により殺菌し、各栽培容器に社団法人長野県農村工学研究所 エリンギE−3号「エリンコ」の種菌を接種すること以外は実施例2と同様にしてステップ106(菌掻き工程)まで行った。次に、32個の栽培容器を、芽出し室に移し、芽出し工程を行なった(ステップ107)。次に、芽出しが行なわれた32個の栽培容器をならし室(7.2m×5.4m×2.7m)に移し、ならし工程を3日間行なった(ステップ108)。ならし室内の温度は16℃、相対湿度は95〜100%ととした。図5は、ならし室内の構造を示す上面図である。図5に示されるように、当該ならし室には、実施例2と同一の、イオン発生器を2つ搭載した送風機501および502の2台を図5に示される位置に設置した。なお、32個の栽培容器は、図5に示されるように、ならし室に設けられている高さ80cmの棚上であって、ならし室のほぼ中央に当たる位置503に配置した。ここで、ならし室内の正負イオン放出は、ならし工程開始1週間前から行い、ならし工程終了まで連続稼動とした。
<Example 8>
After obtaining 32 culture containers filled with medium, sterilize by means usually used, except inoculating each culture container with the inoculum of Nagano Prefectural Institute of Rural Engineering Eringi E-3 “Erinco” It carried out similarly to Example 2 to step 106 (bacteria scraping process). Next, 32 cultivation containers were moved to the sprout room, and a sprout process was performed (step 107). Next, the 32 cultivated containers that had been sprouting were transferred to a leveling room (7.2 m × 5.4 m × 2.7 m), and the leveling process was performed for 3 days (step 108). The conditioned room temperature was 16 ° C. and the relative humidity was 95-100%. FIG. 5 is a top view showing the structure of the leveling room. As shown in FIG. 5, two fans 501 and 502, which are the same as those in Example 2, and equipped with two ion generators, were installed at the position shown in FIG. 5. As shown in FIG. 5, the 32 cultivation containers were placed on a shelf having a height of 80 cm provided in the leveling room and at a position 503 corresponding to the center of the leveling room. Here, positive / negative ion release in the run-in room was performed one week before the start of the run-in process, and was continuously operated until the end of the run-in process.

このように本実施例において、正負イオンの放出はならし工程のみとした。表5にならし室内の送風機稼動直前の空中落下菌数と浮遊菌数および送風機稼動1週間後、すなわちならし工程開始時の空中落下菌数と浮遊菌数を示す。   Thus, in this embodiment, positive and negative ions are released only in the leveling process. Table 5 shows the number of bacteria falling in the air and the number of airborne bacteria immediately before the blower in the run-in room, and the number of bacteria falling in the air and the number of airborne bacteria at the start of the smoothing process one week later.

Figure 2008011830
Figure 2008011830

表5に示されるように、糸状菌、細菌のいずれも1週間の送風機の稼動により、数の低下が認められた。なお、糸状菌数および細菌数の調査方法は、糸状菌の培養時間が72時間であること以外は実施例2と同じである。   As shown in Table 5, both the filamentous fungi and the bacteria were found to have decreased in number due to the operation of the blower for one week. The method for investigating the number of filamentous fungi and the number of bacteria is the same as in Example 2 except that the culture time of the filamentous fungus is 72 hours.

次に、ならし工程を終えた32個の栽培容器を生育室に移し生育工程を行なった(ステップ109)。生育室内の温度は16℃、相対湿度は90%とした。生育工程中、炭酸ガス濃度を1500〜2000ppmに制御し、1日に12時間、150Luxの照明をあてた。生育期間は、16日であった。生育工程終了後、収穫を行った(ステップ110)。収量は、1栽培容器あたり平均151.8gであった。   Next, 32 cultivation containers which finished the leveling process were moved to the growth room, and the growth process was performed (step 109). The temperature in the growth chamber was 16 ° C. and the relative humidity was 90%. During the growth process, the carbon dioxide concentration was controlled to 1500 to 2000 ppm, and 150 Lux was applied for 12 hours a day. The growing period was 16 days. After completion of the growing process, harvesting was performed (step 110). The yield was 151.8 g on average per cultivation container.

<実施例9>
ならし室内の正負イオン放出が、ならし工程開始2週間前から行うこと以外は実施例8と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。表5に、ならし室内の送風機稼動2週間後の空中落下菌数と浮遊菌数を示す。
<Example 9>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 8 except that the release of positive and negative ions in the conditioned room was performed 2 weeks before the start of the conditioned process. Table 5 shows the number of bacteria falling in the air and the number of airborne bacteria after 2 weeks of running-in air blower operation.

<比較例7>
ならし室内の雑菌を除菌するための装置を何も設けないこと以外は実施例8と同様にしてエリンギを栽培し、収穫した。
<Comparative Example 7>
Eringi was cultivated and harvested in the same manner as in Example 8 except that no apparatus for sterilizing indoor germs was provided.

上記実施例8、9および比較例7で得られたエリンギの収量、品質、着色発生度、立ち枯れ症状発生度および防除価を表6に示す。なお、「着色発生度」は、甚:5〜微:1として目視で判断し、その平均を算出したものである。数値の基準は以下のとおりである。
0:発生なし。
1:菌傘茎の一部に着色。
2:菌傘茎の1/3に着色。
3:菌傘茎の1/2に着色。
4:菌傘茎の2/3に着色。
5:菌傘茎全体に着色。
Table 6 shows the yield, quality, degree of coloration, degree of withering and the control value of eringi obtained in Examples 8 and 9 and Comparative Example 7. In addition, "the coloring generation degree" is visually judged as 甚: 5 to fine: 1, and the average is calculated. The numerical criteria are as follows.
0: No occurrence.
1: Colored part of fungus umbrella stem.
2: Colored 1/3 of the fungus stem.
3: Colored on half of the fungus stem.
4: Colored 2/3 of the fungus stem.
5: The entire fungus stem is colored.

Figure 2008011830
Figure 2008011830

表6に示されるように、正負イオンの放出により、エリンギの品質が向上することがわかった。また、正負イオンの放出により、立ち枯れ症状および子実体の着色を大幅に低減できることがわかった。   As shown in Table 6, it was found that the release of positive and negative ions improves the quality of eringi. It was also found that the release of positive and negative ions can significantly reduce the withering symptoms and the coloring of fruiting bodies.

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   It should be understood that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明のキノコの栽培方法の好ましい一例を概略的に示すフローチャートである。It is a flowchart which shows roughly a preferable example of the cultivation method of the mushroom of this invention. 表1に示される放電可能な印加電圧を測定するために用いた概略装置図である。It is the schematic apparatus used in order to measure the applied voltage which can be discharged shown by Table 1. FIG. 実施例2において使用した生育室を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly the growth chamber used in Example 2. FIG. 図3に示される生育室のイオン分布を示す等高線図であり、(a)は、X=0.45mにおけるYZ平面の等高線図、(b)は、X=1.55mにおけるYZ平面の等高線図である。It is a contour map which shows ion distribution of the growth chamber shown by FIG. 3, (a) is a contour map of the YZ plane in X = 0.45m, (b) is a contour map of the YZ plane in X = 1.55m. It is. 実施例8で使用した、ならし室内の構造を示す上面図である。It is a top view which shows the structure of the leveling room used in Example 8.

符号の説明Explanation of symbols

201 アクリルボックス、202 イオン発生器、203 送風機、204 イオン測定器、301 生育室、302,303,401,402,501,502 送風機。   201 acrylic box, 202 ion generator, 203 blower, 204 ion measuring device, 301 growth room, 302, 303, 401, 402, 501, 502 blower.

Claims (11)

原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程を含むキノコの栽培方法において、
前記栽培工程が実施される施設内に、前記栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出し、前記施設内の雑菌を除菌することを特徴とするキノコの栽培方法。
In the cultivation method of mushrooms including the cultivation process of growing the primordium after the formation of the primordium,
A method for cultivating mushrooms, wherein positive ions and negative ions are released in a facility where the cultivation step is carried out for a certain period of time during the cultivation step to eliminate germs in the facility.
前記栽培工程は、原基の形成を行なう芽出し工程と原基の生育を行なう生育工程とを含み、前記芽出し工程および/または前記生育工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項1に記載のキノコの栽培方法。   The cultivation process includes a sprouting process for forming a primordium and a growing process for growing the primordium, and releases positive ions and negative ions into the facility where the sprouting process and / or the growing process is performed. The cultivation method of the mushroom of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記栽培工程は、原基の形成を行なう芽出し工程と、原基を揃えるならし工程と、原基の生育を行なう生育工程とを含み、前記ならし工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項1に記載のキノコの栽培方法。   The cultivation process includes a sprouting process for forming a primordial base, a leveling process for aligning the primordial base, and a growth process for growing the primordial base. In the facility where the leveling process is performed, positive ions and The method for cultivating mushrooms according to claim 1, wherein negative ions are released. 施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2000個/cm3以上となるように正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のキノコの栽培方法。 Cultivation of mushrooms according to any one of claims 1 to 3, wherein positive ions and negative ions are released so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2000 pieces / cm 3 or more, respectively. Method. 施設内の相対湿度が、80〜100%の範囲内であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のキノコの栽培方法。   5. The mushroom cultivation method according to claim 1, wherein the relative humidity in the facility is in the range of 80 to 100%. 前記雑菌がシュードモナス属菌であることを特徴とする請求項1〜5のいずかに記載のキノコの栽培方法。   The mushroom cultivation method according to any one of claims 1 to 5, wherein the miscellaneous bacteria are Pseudomonas species. 原基の形成を行なった後、原基の生育を行なう栽培工程が実施される施設内に、前記栽培工程中の一定の期間、正イオンおよび負イオンを放出することにより、シュードモナス属菌を除菌することを特徴とするキノコの生育障害を低減する方法。   After the formation of the primordium, Pseudomonas sp. Is eliminated by releasing positive ions and negative ions for a certain period of time during the cultivation process in the facility where the cultivation process for growing the primordial is carried out. A method for reducing growth failure of mushrooms characterized by fungi. 前記栽培工程は、原基の形成を行なう芽出し工程と原基の生育を行なう生育工程とを含み、前記芽出し工程および/または前記生育工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項7に記載のキノコの生育障害を低減する方法。   The cultivation process includes a sprouting process for forming a primordium and a growing process for growing the primordium, and releases positive ions and negative ions into the facility where the sprouting process and / or the growing process is performed. The method for reducing a growth disorder of a mushroom according to claim 7. 前記栽培工程は、原基の形成を行なう芽出し工程と、原基を揃えるならし工程と、原基の生育を行なう生育工程とを含み、前記ならし工程が行なわれる施設内に、正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項7に記載のキノコの生育障害を低減する方法。   The cultivation process includes a sprouting process for forming a primordial base, a leveling process for aligning the primordial base, and a growth process for growing the primordial base. In the facility where the leveling process is performed, positive ions and The method for reducing mushroom growth disorder according to claim 7, wherein negative ions are released. 施設内の正イオンおよび負イオンの量が、それぞれ2000個/cm3以上となるように正イオンおよび負イオンを放出することを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載のキノコの生育障害を低減する方法。 The growth of mushrooms according to any one of claims 7 to 9, wherein positive ions and negative ions are released so that the amount of positive ions and negative ions in the facility is 2000 / cm 3 or more, respectively. How to reduce obstacles. 施設内の相対湿度が、80〜100%の範囲内であることを特徴とする請求項7〜10のいずれかに記載のキノコの生育障害を低減する方法。   The relative humidity in a facility is in the range of 80 to 100%, and the method for reducing mushroom growth disorder according to any one of claims 7 to 10.
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