JP2008009444A - 電気光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】画素電極11とトランジスタの半導体層12とは、データ線6と同層の第1中継電極層16と、固定電極層17と同層の第2中継電極層18とを介して電気的に接続され、固定電極層17は、遮光性を備え、第1の方向で隣り合うデータ線の間で分断され、この分断部分に第2中継電極層18が形成されている。固定電極層17において第1の方向に延設された部分の第2の方向の線幅は、第2の方向のうち第2中継電極層18にコンタクトホールを介して接続された画素電極11が配置されている画素側において、第2中継電極層18における第2の方向の線幅よりも狭い。蓄積容量の一方の電極13と前記固定電極層17とは、前記データ線6と同層の容量中継電極層を介して電気的に接続されている電気光学装置。
【選択図】図2
Description
図1は本発明が適用される液晶表示装置の画素回路の構成例を示す回路図である。図において、画素1は、図示しない液晶表示パネル上に行列状に二次元配置されるものである。液晶表示パネルは、液晶物質層を一対(2枚)の基板で挟んで構成されるものである。したがって、一対の基板は、互いに液晶物質層を介して対向する状態に配置される。一般に、一対の基板は、光透過性を有するガラス基板を用いて構成される。そして、一方の基板には画素単位で画素電極が形成され、これに対向する他方の基板には全画素共通の対向電極が形成される。以降の説明では、画素電極を有する基板をアレイ基板、対向電極を有する基板を対向基板と呼ぶこととする。
図10は、本発明の第2実施形態の特徴部を説明するための主要部の平面レイアウト図である。この図に示す第2実施形態が、上述した第1実施形態と異なるところは、第2中継電極層18とコンタクトホール31、32のレイアウトであり、他の構成は同様であることとする。
図11は、本発明の第3実施形態の特徴部を説明するための主要部の平面レイアウト図である。この図に示す第3実施形態が、上述した第2実施形態と異なるところは、固定電極17に接続されるコンタクトホール29、30のレイアウトであり、他の構成は同様であることとする。
Claims (4)
- 電気光学物質層を介して対向する一対の基板の一方の基板上に、隣接する複数のデータ線と、画素電極と、前記画素電極を制御するトランジスタと、蓄積容量と、前記蓄積容量に電位を供給する固定電極層とを含む積層構造を有する電気光学装置であって、
前記固定電極層は、隣り合う前記データ線の間で分断され、該分断部分には前記固定電極層と同層の中継電極層が形成され、
前記中継電極層の前記データ線方向の線幅は、前記固定電極層の前記分断部分における前記データ線方向の線幅よりも迫り出して形成される
ことを特徴とする電気光学装置。 - 電気光学物質層を介して対向する一対の基板の一方の基板上に、隣接する複数のデータ線と、画素電極と、前記画素電極を制御するトランジスタと、蓄積容量と、前記蓄積容量に電位を供給する固定電極層とを含む積層構造を有する電気光学装置であって、
前記固定電極層は、隣り合う前記データ線の間で分断され、該分断部分には前記固定電極層と同層の中継電極層が形成され、
前記中継電極層の前記データ線方向の線幅は、前記固定電極層の前記分断部分における前記データ線方向の線幅よりも迫り出して形成され、
前記固定電極層と前記蓄積容量とは、前記データ線と同層の容量中継電極層を介して電気的に接続されている
ことを特徴とする電気光学装置。 - 電気光学物質層を介して対向する一対の基板の一方の基板上に、第1の方向に沿って形成された走査線と、前記第1の方向に交差する第2の方向に沿って形成されたデータ線と、前記走査線及び前記データ線の交差部に対応して設けられた画素電極と、前記画素電極をスイッチング制御するトランジスタと、蓄積容量と、前記蓄積容量に電位を供給する固定電極層とを含む積層構造を有する電気光学装置であって、
前記画素電極と前記トランジスタの半導体層とは、前記データ線と同層の第1中継電極層と、前記固定電極層が前記第1の方向で隣り合うデータ線の間で分断された該第1中継電極よりも上層の第2中継電極層とを介して電気的に接続され、
前記第2中継電極層の第2の方向の線幅は、該第2中継電極層にコンタクトホールを介して接続された画素電極が配置されている画素側において、前記固定電極層の前記第1の方向に延設された部分の第2の方向の線幅よりも大きく設定され、
前記蓄積容量の一方の電極と前記固定電極層とは、前記データ線と同層の容量中継電極層を介して電気的に接続されている
ことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項3記載の電気光学装置において、
前記第2中継電極層の上層及び下層の各絶縁膜に開口径の異なる2つのコンタクトホールが形成されると共に、
前記2つのコンタクトホールは、前記第2の方向に配列され、かつ前記第1の方向において開口径の小さいコンタクトホールは開口径の大きいコンタクトホールの形成幅の範囲内に配置される
ことを特徴とする電気光学装置。
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