JP2007322766A - Liquid crystal display device and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device having stabilized display characteristics by improving moisture resistance and to provide a projector equipped with the above liquid crystal display device as a light modulation means. <P>SOLUTION: The liquid crystal display includes a counter substrate 10 and a TFT array substrate 20 disposed opposing to each other at a predetermined distance, a liquid crystal held in a gap 27 formed by the substrates 10, 20, a sealing material 14 disposed between the substrates 10, 20 and having an injection port 24 where the liquid crystal is injected, and an end-sealing material 19 to seal the injection port 24, wherein the counter substrate 20 is formed with an inclined face 25 inclined outward, formed in the periphery in at least a portion corresponding to the injection port 24 of the sealing member 14, and the end-sealing material 19 is applied so as to cover the inclined face 25. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device and an electronic apparatus.

液晶プロジェクタ等の投射型表示装置の光変調手段として用いられる液晶表示装置は、例えば、図11(a)に示す液晶表示装置80のように、一対の基板70,71間の周縁部にシール材72が配設され、その中央部に液晶層73が封止されて構成されている。液晶層73を形成する液晶はシール材72の注入口74から注入されて、封止材75によってその注入口74が封止された構成となっている。そして、一対の基板70,71の対向面側には液晶層73に電圧を印加する電極が形成され、その電極の内側には非選択電圧印加時において液晶分子の配向を制御する配向膜76(基板71側の配向膜)が形成されている(一方の基板70における配向膜については図示を省略する)。そして、非選択電圧印加時と選択電圧印加時との液晶分子の配向変化に基づいて光源光が変調され、画像光が作製される構成となっている。   A liquid crystal display device used as a light modulation means of a projection display device such as a liquid crystal projector is, for example, a sealing material at a peripheral portion between a pair of substrates 70 and 71 like a liquid crystal display device 80 shown in FIG. 72 is disposed, and a liquid crystal layer 73 is sealed at the center thereof. The liquid crystal forming the liquid crystal layer 73 is injected from the injection port 74 of the sealing material 72, and the injection port 74 is sealed by the sealing material 75. An electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer 73 is formed on the opposing surface side of the pair of substrates 70 and 71, and an alignment film 76 (for controlling the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied) is formed inside the electrode. An alignment film on the substrate 71 side) is formed (the alignment film on one substrate 70 is not shown). Then, the light source light is modulated based on the change in the orientation of the liquid crystal molecules between when the non-selection voltage is applied and when the selection voltage is applied, so that image light is produced.

現在、上述した配向膜として、耐光性や耐熱性に優れた無機材料からなる配向膜の採用が検討されている。しかしながら、柱状構造体からなる無機配向膜は多孔質であるため、従来の封止方法では、封止材と無機配向膜との界面に大きな隙間が形成されるおそれがある。この隙間を通って、液晶表示装置の外部から液晶層に水分や不純物等が浸入した場合には、主に液晶表示装置における液晶分子の配向制御機能が阻害されるという問題がある。   Currently, as the above-described alignment film, the use of an alignment film made of an inorganic material having excellent light resistance and heat resistance is being studied. However, since the inorganic alignment film made of a columnar structure is porous, the conventional sealing method may cause a large gap to be formed at the interface between the sealing material and the inorganic alignment film. When moisture, impurities, or the like enter the liquid crystal layer from the outside of the liquid crystal display device through this gap, there is a problem that the liquid crystal molecule alignment control function in the liquid crystal display device is mainly hindered.

特許文献1には、液晶注入孔の近傍を除き、表示パネルの四周に、シール材の外縁から両基板の面取り部に至る谷溝部(液晶注入孔)が形成されており、シール材のパターンは、ラッパ状に外向きに拡がるこの谷溝部を満たすようにして配置されている。そして、シール材に接するようにして液晶注入孔を封止する注入孔封止材は、両基板の側辺と延在するように配されている。
この構成によれば、液晶注入口だけでなく、両基板の端面の一部を覆うようにして注入口封止材が設けられているので、配向膜と注入口封止材との間に隙間が生じる虞を低減することができ、耐水性の向上を図っている。また、液晶注入孔に谷部を形成することでシール材と注入孔封止材との密着性を向上させており、基板の配置方向に直交する方向からの水分の浸入経路が長くなることから、耐湿性の向上も図られている。
特開2004−144793号公報
In Patent Document 1, except for the vicinity of the liquid crystal injection hole, valley grooves (liquid crystal injection holes) extending from the outer edge of the sealing material to the chamfered portions of both substrates are formed on the four sides of the display panel. The troughs are arranged so as to fill the troughs spreading outward. An injection hole sealing material that seals the liquid crystal injection hole so as to be in contact with the sealing material is arranged so as to extend from the sides of both the substrates.
According to this configuration, since the injection port sealing material is provided so as to cover not only the liquid crystal injection port but also part of the end surfaces of both substrates, there is no gap between the alignment film and the injection port sealing material. The possibility of the occurrence of water is reduced, and the water resistance is improved. In addition, by forming a trough in the liquid crystal injection hole, the adhesion between the sealing material and the injection hole sealing material is improved, and the water infiltration path from the direction orthogonal to the substrate arrangement direction becomes longer. In addition, improvement of moisture resistance is also achieved.
JP 2004-144793 A

しかしながら、上記構成では耐水性に関して充分とは言い切れず、両基板の端面と封止材との間に隙間が生じる虞があった。また、例えば図11(b)に示すように、基板71の側面と封止材75との間から水分が浸入してくると、液晶分子の配向制御機構が阻害されるという問題が出てきてしまう。表示パネルの耐水性は、より短い経路に依存することから、基板と封止材との境界からの水分の侵入経路についても考慮する必要がある。   However, the above configuration cannot be said to be sufficient with respect to water resistance, and there is a possibility that a gap may be formed between the end surfaces of both substrates and the sealing material. Further, for example, as shown in FIG. 11B, when moisture enters between the side surface of the substrate 71 and the sealing material 75, a problem arises in that the alignment control mechanism of liquid crystal molecules is hindered. End up. Since the water resistance of the display panel depends on a shorter path, it is necessary to consider a moisture intrusion path from the boundary between the substrate and the sealing material.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、水分や不純物等の浸入を防止することが可能な封止構造を有し、より信頼性に優れた液晶表示装置および電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and an electronic device having a sealing structure capable of preventing intrusion of moisture, impurities, etc., and having higher reliability. The purpose is to provide equipment.

本発明の液晶表示装置は、上記課題を解決するために、所定間隔をおいて互いに対向配置される一対の基板と、該一対の基板間に形成される隙間に保持される液晶と、一対の基板間に配置され、液晶を注入する注入口を有したシール材と、注入口を封止する封止材と、を備え、一対の基板における一方の基板には、その周縁部における少なくともシール材の注入口に対応する箇所に、外方へ向かって傾斜する傾斜面が形成されており、該傾斜面を被覆するようにして封止材が塗布されることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a liquid crystal display device of the present invention includes a pair of substrates that are arranged to face each other at a predetermined interval, a liquid crystal that is held in a gap formed between the pair of substrates, and a pair of A sealing material disposed between the substrates and having an injection port for injecting liquid crystal; and a sealing material for sealing the injection port. One substrate of the pair of substrates includes at least a sealing material at a peripheral portion thereof An inclined surface that is inclined outward is formed at a location corresponding to the injection port of the above, and a sealing material is applied so as to cover the inclined surface.

上記構成の液晶表示装置によれば、傾斜面を外方に向けるようにして配置してこの傾斜面上に封止材を塗布することにより、封止材と基板との界面距離が長くなる(封止材と基板との接触面積が増加する)ので、液晶に水分を到達させる可能性を低減することができるとともに、水分の浸入を遅延させることができる。したがって、液晶表示装置の耐水性・耐湿性を向上できる。また、傾斜面上に封止材を塗布することにより、封止材の垂れ下がりを防ぐことができるので、液晶表示装置の耐水性を長期的に維持することができる。このような構成の液晶表示装置によれば、液晶層への水分の混入による表示特性の低下を軽減することができ、安定した表示特性を有した信頼性の高いものとなる。   According to the liquid crystal display device having the above configuration, the interface distance between the sealing material and the substrate is increased by disposing the inclined surface outward and applying the sealing material on the inclined surface ( (The contact area between the sealing material and the substrate is increased), so that the possibility of water reaching the liquid crystal can be reduced and the intrusion of water can be delayed. Therefore, the water resistance and moisture resistance of the liquid crystal display device can be improved. Further, by applying the sealing material on the inclined surface, it is possible to prevent the sealing material from sagging, so that the water resistance of the liquid crystal display device can be maintained for a long time. According to the liquid crystal display device having such a configuration, it is possible to reduce the deterioration of display characteristics due to the mixing of moisture into the liquid crystal layer, and the display device has high reliability with stable display characteristics.

また、傾斜面が湾曲形状となっていても好ましい。
このような構成によれば、封止材の垂れ下がりを防ぐことができるので、液晶表示装置の耐水性を長期的に維持することができるとともに、封止材の塗布量を増加させることができるので、封止材を透過して水分が液晶へと混入する可能性を抑えることができ、液晶表示装置の耐湿性をより向上させることができる。
It is also preferable that the inclined surface has a curved shape.
According to such a configuration, since the sealing material can be prevented from sagging, the water resistance of the liquid crystal display device can be maintained for a long time, and the amount of the sealing material applied can be increased. In addition, it is possible to suppress the possibility of moisture being mixed into the liquid crystal through the sealing material, and the moisture resistance of the liquid crystal display device can be further improved.

また、一方の基板は、その外面と傾斜面との境界、或いは内面と傾斜面との境界が湾曲していることも好ましい。
このような構成によれば、封止材の垂れ下がりを防止できるとともに、基板間に歪みが生じた場合において、封止材にひび割れが入ることを防ぐことができる。よって、液晶表示装置の耐水性・耐湿性をより確実に得ることができる。
Moreover, it is also preferable that one board | substrate has the boundary of the outer surface and an inclined surface, or the boundary of an inner surface and an inclined surface curved.
According to such a configuration, it is possible to prevent the sealing material from sagging and to prevent the sealing material from cracking when distortion occurs between the substrates. Therefore, the water resistance and moisture resistance of the liquid crystal display device can be obtained more reliably.

また、一方の基板の外面に設けられた防塵ガラスが傾斜面を除く大きさで形成されることも好ましい。
このような構成によれば、防塵ガラスの大きさ(面積)を小さくすることができるので、小型化・軽量化が図れるとともにコスト削減が可能となる。
It is also preferable that the dust-proof glass provided on the outer surface of one substrate is formed in a size excluding the inclined surface.
According to such a configuration, since the size (area) of the dust-proof glass can be reduced, the size and weight can be reduced and the cost can be reduced.

本実実施形態の電子機器は、上記液晶表示装置を光変調手段として備えたことを特徴とする。
このような構成によれば、水分等が液晶に影響を与える可能性の少ない液晶表示装置を備えているので、液晶表示装置の各種機能を維持することが可能になり、信頼性に優れた電子機器を提供することができる。
The electronic apparatus according to the present embodiment includes the liquid crystal display device as a light modulation unit.
According to such a configuration, since the liquid crystal display device with a low possibility of moisture or the like having an influence on the liquid crystal is provided, various functions of the liquid crystal display device can be maintained, and an electronic device having excellent reliability. Equipment can be provided.

[第1実施形態]
最初に、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置について、図1〜図8を用いて説明する。
なお本実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下TFTという)素子を用いたアクティブマトリクス方式の透過型液晶表示装置を例にして説明する。
[First embodiment]
First, a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
In this embodiment, an active matrix transmission type liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) element as a switching element will be described as an example.

(液晶表示装置)
図1は、本発明の一実施の形態であるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置の平面構成図であり、図2は、図1におけるH−H’線矢視の側断面構成図であり、図1,2中符号90は液晶表示装置である。
図1,2に示すように、液晶表示装置90は、互いが対向して配置されたTFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層40が挟持され、この液晶層40はTFTアレイ基板10及び対向基板20の周縁部内面側に沿って設けられた平面視略額縁状のシール材14によって、これらTFTアレイ基板10及び対向基板20間に保持されている。シール材14に、例えば、図示しないギャップ材を含有することにより、液晶表示装置90における所定の液晶層厚(セルギャップ)が実現されている。このようにして、TFTアレイ基板10と対向基板20との間に隙間27が形成され、シール材14は、この隙間27に液晶を注入することを可能とする注入口24を有したものとなっている。そして、液晶を隙間27内に留めるべく、注入口24を封止材19によって封止してある。
(Liquid crystal display device)
FIG. 1 is a plan configuration diagram of an active matrix liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side sectional configuration diagram taken along line HH ′ in FIG. Reference numeral 90 in FIGS. 1 and 2 denotes a liquid crystal display device.
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display device 90 includes a liquid crystal layer 40 sandwiched between a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 that are disposed so as to face each other. 10 and the counter substrate 20 are held between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 by a sealing material 14 having a substantially frame shape in plan view provided along the inner surface side of the peripheral portion of the counter substrate 20. A predetermined liquid crystal layer thickness (cell gap) in the liquid crystal display device 90 is realized by including, for example, a gap material (not shown) in the sealing material 14. In this way, a gap 27 is formed between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the sealing material 14 has an injection port 24 that allows liquid crystal to be injected into the gap 27. ing. The inlet 24 is sealed with a sealing material 19 in order to keep the liquid crystal in the gap 27.

ここで、対向基板20としては、TFTアレイ基板10よりもやや小さく、TFTアレイ基板10上に設けられたシール材14と略同じ輪郭をなす基板が用いられており、シール材14によってTFTアレイ基板10と固着されたものとなっている。   Here, as the counter substrate 20, a substrate that is slightly smaller than the TFT array substrate 10 and has substantially the same outline as the sealing material 14 provided on the TFT array substrate 10 is used. 10 is fixed.

さらに、詳細については後述するが、図2に示すように、対向基板20の内面側(TFTアレイ基板10との対向面側)には無機配向膜22が形成されている。なお、TFTアレイ基板10上に形成される無機配向膜の図示については省略する。   Further, as will be described in detail later, as shown in FIG. 2, an inorganic alignment film 22 is formed on the inner surface side of the counter substrate 20 (the surface facing the TFT array substrate 10). The illustration of the inorganic alignment film formed on the TFT array substrate 10 is omitted.

また、図2に示すように、シール材14の外周側には、アクリルやエポキシ樹脂等からなるモールド材15(図1では図示を省略してある。)が形成されている。このモールド材15は、TFTアレイ基板10と対向基板20とを接着するためのもので、このモールド材15によって液晶表示装置90の機械的強度の向上が図られたものとなっている。   As shown in FIG. 2, a molding material 15 (not shown in FIG. 1) made of acrylic, epoxy resin, or the like is formed on the outer peripheral side of the sealing material 14. The molding material 15 is used for bonding the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the mechanical strength of the liquid crystal display device 90 is improved by the molding material 15.

モールド材15は、側断面視においては、注入口24を除いた対向基板20の側周面20a’と、シール材14の外周側及びTFTアレイ基板10の上面10aの一部を外側から覆うように形成されており、これによってTFTアレイ基板10及び対向基板20内に設けられたものとなっている。TFTアレイ基板10及び対向基板20間の隙間27に保持される液晶層40は、シール材14及びモールド材15を熱乾燥させてTFTアレイ基板10及び対向基板20とを接着固定した後、上記シール材14の注入口24から、TFTアレイ基板10及び対向基板20間の隙間27に液晶を注入することにより形成される。   The mold material 15 covers the side peripheral surface 20a ′ of the counter substrate 20 excluding the injection port 24, the outer peripheral side of the sealing material 14, and a part of the upper surface 10a of the TFT array substrate 10 from the outside in a side sectional view. As a result, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are provided. The liquid crystal layer 40 held in the gap 27 between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 is obtained by thermally drying the seal material 14 and the mold material 15 to bond and fix the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and then The liquid crystal is injected into the gap 27 between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 from the injection port 24 of the material 14.

次に、TFTアレイ基板10上に形成された各構成要素について詳しく説明する。
図1において、TFTアレイ基板10の上には、シール材14が対向基板20の縁に沿って設けられており、その内側に並行して、第2遮光膜23が設けられている。この第2遮光膜23に囲まれた領域が液晶表示装置90の画像表示領域Cとなっている。また、シール材14の外側の領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路104が、この一辺に隣接する2辺に沿って設けられている。
Next, each component formed on the TFT array substrate 10 will be described in detail.
In FIG. 1, a sealing material 14 is provided on the TFT array substrate 10 along the edge of the counter substrate 20, and a second light shielding film 23 is provided in parallel to the inside thereof. An area surrounded by the second light shielding film 23 is an image display area C of the liquid crystal display device 90. A data line driving circuit 101 and an external circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10 in a region outside the sealing material 14, and the scanning line driving circuit 104 is adjacent to the one side. It is provided along two sides.

更に、TFTアレイ基板10の残る一辺には、画像表示領域Cの両側に設けられた走査線駆動回路104間を接続するための複数の配線105が設けられており、ここで、第2遮光膜23の下に隠れてプリチャージ回路を設けてもよい。また、対向基板20の4つのコーナー部の少なくとも1箇所においては、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための導通材106が設けられている。本実施形態では4箇所全てに設けられている。   Furthermore, a plurality of wirings 105 for connecting the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area C are provided on the remaining side of the TFT array substrate 10, where the second light shielding film A precharge circuit may be provided hidden under 23. In addition, at least one of the four corners of the counter substrate 20 is provided with a conductive material 106 for electrical conduction between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20. In this embodiment, it is provided in all four places.

(等価回路)
図3は、液晶表示装置の画像形成領域(画素部若しくは表示領域)を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
図3において、本実施形態による液晶表示装置の画像表示領域(画素部若しくは表示領域)を構成するマトリクス状に形成された複数の画素は、マトリクス状に複数形成された画素電極9と、この画素電極9を制御するためのTFT素子30(トランジスタ素子)とからなり、画像信号が供給されるデータ線6aがTFT素子30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしても良い。
(Equivalent circuit)
FIG. 3 is an equivalent circuit of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix that forms an image forming area (pixel portion or display area) of the liquid crystal display device.
In FIG. 3, a plurality of pixels formed in a matrix form that constitutes an image display area (pixel portion or display area) of the liquid crystal display device according to the present embodiment include a plurality of pixel electrodes 9 formed in a matrix form, and this pixel. A data line 6 a to which an image signal is supplied is composed of a TFT element 30 (transistor element) for controlling the electrode 9, and is electrically connected to the source of the TFT element 30. The image signals S1, S2,..., Sn written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a. good.

また、TFT素子30のゲートに走査線3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線3aにパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9は、TFT素子30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT素子30のスイッチを一定期間だけ閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。   Further, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT element 30, and scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a in a pulse-sequential manner in this order at a predetermined timing. It is configured as follows. The pixel electrode 9 is electrically connected to the drain of the TFT element 30, and the image signal S1, S2,... Supplied from the data line 6a is closed by closing a switch of the TFT element 30 as a switching element for a certain period. , Sn is written at a predetermined timing.

画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板20(図5参照)に形成された共通電極21(図5参照)との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過不可能とされ、ノーマリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過可能とされ、全体として液晶表示装置からは画像信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9と共通電極21との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量17を付加する。このように、液晶に電圧信号が付加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射にした光源光が変調されて、画像光が作成されるようになっている。   Image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal through the pixel electrode 9 are constant between the common electrode 21 (see FIG. 5) formed on the counter substrate 20 (see FIG. 5). Hold for a period. The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gradation display. In the normally white mode, incident light cannot pass through the liquid crystal part according to the applied voltage. In the normally black mode, incident light passes through the liquid crystal part according to the applied voltage. The liquid crystal display device as a whole emits light having a contrast according to the image signal. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, the storage capacitor 17 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and the common electrode 21. Thus, when a voltage signal is added to the liquid crystal, the alignment state of the liquid crystal molecules changes according to the applied voltage level. As a result, the light source light incident on the liquid crystal is modulated to create image light.

したがって、保持特性は更に改善され、コントラスト比の高い液晶表示装置が実現できる。本実施形態では特に、このような蓄積容量17を形成するために、後述の如く走査線と同層、もしくは導電性の遮光膜を利用して低抵抗化された容量線3bを設けている。  Therefore, the holding characteristics are further improved, and a liquid crystal display device with a high contrast ratio can be realized. In this embodiment, in particular, in order to form such a storage capacitor 17, a capacitor line 3b having a low resistance using the same layer as the scanning line or a conductive light shielding film is provided as will be described later.

(平面構造)
次に、図4に基づいて、TFTアレイ基板の画素部(画像表示領域)内の平面構造について詳細に説明する。図4は、TFTアレイ基板側から見た平面図である。
図4に示すように、液晶表示装置のTFTアレイ基板上の画素部内には、マトリクス状に複数の透明な画素電極9(点線部9aにより輪郭が示されている)が設けられており、画素電極9の縦横の境界に各々沿ってデータ線6a、走査線3a及び容量線3bが設けられている。
(Planar structure)
Next, the planar structure in the pixel portion (image display area) of the TFT array substrate will be described in detail with reference to FIG. FIG. 4 is a plan view seen from the TFT array substrate side.
As shown in FIG. 4, a plurality of transparent pixel electrodes 9 (outlined by dotted line portions 9a) are provided in a matrix in the pixel portion on the TFT array substrate of the liquid crystal display device. A data line 6a, a scanning line 3a, and a capacitor line 3b are provided along the vertical and horizontal boundaries of the electrode 9, respectively.

データ線6aは、コンタクトホール5を介して単結晶シリコン層の半導体層1aのうち後述のソース領域に電気的接続されており、画素電極9は、コンタクトホール8を介して半導体層1aのうち後述のドレイン領域に電気的接続されている。また、半導体層1aのうちチャネル領域1a’(図5参照)に対向するように走査線3aが配置されており、走査線3aはゲート電極として機能する。   The data line 6a is electrically connected to a source region described later in the semiconductor layer 1a of the single crystal silicon layer via the contact hole 5, and the pixel electrode 9 is described later in the semiconductor layer 1a via the contact hole 8. Is electrically connected to the drain region. Further, the scanning line 3a is arranged so as to face the channel region 1a '(see FIG. 5) in the semiconductor layer 1a, and the scanning line 3a functions as a gate electrode.

容量線3bは、走査線3aに沿ってほぼ直線状に伸びる本線部(平面視において、走査線3aに沿って形成されている)と、データ線6aと交差する箇所からデータ線6aに沿って、図中、上向きに突出した突出部(平面視において、データ線6aに沿って延設されている)とを有する。   The capacitor line 3b extends along the data line 6a from the main line portion (formed along the scan line 3a in plan view) that extends substantially linearly along the scan line 3a and the data line 6a. In the figure, it has a protruding portion protruding upward (extending along the data line 6a in plan view).

そして、図4中右上がりの斜線で示した領域には、第1遮光膜11aが設けられている。より具体的には、第1遮光膜11aは夫々、画素部において半導体層1aのチャネル領域1a’を含むTFT素子30をTFTアレイ基板10の側から見て覆う位置に設けられており、更に、容量線3bの本線部に対向して走査線3aに沿って直線状に伸びる本線部と、データ線6aと交差する箇所からデータ線6aに沿って図中下向きに突出した突出部とを有する。第1遮光膜11aの各段(画素行)における下向きの突出部の先端は、データ線6a下において次段における容量線3bの上向きの突出部の先端と重ねられている。この重なった箇所には、第1遮光膜11aと容量線3bとを相互に電気的接続するコンタクトホール13が設けられている。すなわち、本実施形態では、第1遮光膜11aは、コンタクトホール13より前段あるいは後段の容量線3bに電気的接続されている。   A first light-shielding film 11a is provided in a region indicated by a diagonal line rising to the right in FIG. More specifically, the first light shielding film 11a is provided at a position where the TFT element 30 including the channel region 1a ′ of the semiconductor layer 1a in the pixel portion is viewed from the TFT array substrate 10 side, The main line portion extends linearly along the scanning line 3a so as to face the main line portion of the capacitor line 3b, and the protrusion portion protrudes downward in the drawing along the data line 6a from a location intersecting the data line 6a. The tip of the downward projecting portion in each stage (pixel row) of the first light shielding film 11a overlaps the tip of the upward projecting portion of the capacitor line 3b in the next stage under the data line 6a. A contact hole 13 for electrically connecting the first light-shielding film 11a and the capacitor line 3b to each other is provided at the overlapping portion. In other words, in the present embodiment, the first light shielding film 11 a is electrically connected to the capacitor line 3 b before or after the contact hole 13.

TFT素子30(図4に基づいて説明するが、適宜図5を参照しても良い。)は、ポリシリコン膜等からなる半導体層1aを中心として形成されている。半導体層1aのソース領域(後述)には、コンタクトホール5を介して、データ線6aが接続されている。また、半導体層1aのドレイン領域(後述)には、コンタクトホール8を介して、画素電極9が接続されている。一方、半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分には、チャネル領域1a’が形成されている。   The TFT element 30 (which will be described with reference to FIG. 4 but may refer to FIG. 5 as appropriate) is formed around the semiconductor layer 1a made of a polysilicon film or the like. A data line 6 a is connected to a source region (described later) of the semiconductor layer 1 a through a contact hole 5. Further, a pixel electrode 9 is connected to a drain region (described later) of the semiconductor layer 1 a through a contact hole 8. On the other hand, a channel region 1a 'is formed in a portion of the semiconductor layer 1a facing the scanning line 3a.

(断面構造)
図5は、液晶表示装置の断面構造の説明図であり、図4のA−A’線矢視の側断面に対応するものである。
図5に示すように、本実施形態の液晶表示装置90は、TFTアレイ基板10と、これに対向して配置された対向基板20と、これらの間に挟持された液晶層40とを主体として構成されている。ここで、TFTアレイ基板10は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体10A、およびその内側に形成されたTFT素子30や画素電極9、無機配向膜16などを主体として構成されている。一方の対向基板20は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体20A、およびその内側に形成された共通電極21や無機配向膜22などを主体として構成されている。
(Cross-section structure)
FIG. 5 is an explanatory diagram of a cross-sectional structure of the liquid crystal display device, and corresponds to a side cross section taken along line AA ′ in FIG.
As shown in FIG. 5, the liquid crystal display device 90 of the present embodiment is mainly composed of the TFT array substrate 10, the counter substrate 20 disposed to face the TFT array substrate 10, and the liquid crystal layer 40 sandwiched therebetween. It is configured. Here, the TFT array substrate 10 is mainly composed of a substrate body 10A made of a light-transmitting material such as glass or quartz, and the TFT element 30, the pixel electrode 9 and the inorganic alignment film 16 formed inside thereof. Yes. One counter substrate 20 is mainly composed of a substrate body 20A made of a translucent material such as glass or quartz, a common electrode 21 formed on the inside thereof, an inorganic alignment film 22 and the like.

TFTアレイ基板10の内面側には、後述する第1遮光膜11aおよび第1層間絶縁膜12が形成されている。そして、第1層間絶縁膜12の表面に半導体層1aが形成され、この半導体層1aを中心としてTFT素子30が形成されている。半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分にはチャネル領域1a’が形成され、その両側にソース領域およびドレイン領域が形成されている。このTFT素子30はLDD(Lightly Doped Drain)構造を採用しているため、ソース領域およびドレイン領域に、それぞれ不純物濃度が相対的に高い高濃度領域と、相対的に低い低濃度領域(LDD領域)とが形成されている。すなわち、ソース領域には低濃度ソース領域1bと高濃度ソース領域1dとが形成され、ドレイン領域には低濃度ドレイン領域1cと高濃度ドレイン領域1eとが形成されている。   On the inner surface side of the TFT array substrate 10, a first light shielding film 11a and a first interlayer insulating film 12, which will be described later, are formed. A semiconductor layer 1a is formed on the surface of the first interlayer insulating film 12, and a TFT element 30 is formed around the semiconductor layer 1a. A channel region 1a 'is formed in a portion of the semiconductor layer 1a facing the scanning line 3a, and a source region and a drain region are formed on both sides thereof. Since the TFT element 30 employs an LDD (Lightly Doped Drain) structure, a high concentration region having a relatively high impurity concentration and a low concentration region (LDD region) having a relatively low impurity concentration in the source region and the drain region, respectively. And are formed. That is, a low concentration source region 1b and a high concentration source region 1d are formed in the source region, and a low concentration drain region 1c and a high concentration drain region 1e are formed in the drain region.

半導体層1aの表面には、ゲート絶縁膜2が形成されている。そして、ゲート絶縁膜2の表面に走査線3aが形成されて、チャネル領域1a’との対向部分がゲート電極を構成している。また、ゲート絶縁膜2および走査線3aの表面には、第2層間絶縁膜4が形成されている。そして、第2層間絶縁膜4の表面にデータ線6aが形成され、第2層間絶縁膜4に形成されたコンタクトホール5を介して、そのデータ線6aが高濃度ソース領域1dに接続されている。さらに、第2層間絶縁膜4およびデータ線6aの表面には、第3層間絶縁膜7が形成されている。そして、第3層間絶縁膜7の表面に画素電極9が形成され、第2層間絶縁膜4および第3層間絶縁膜7に形成されたコンタクトホール8を介して、その画素電極9が高濃度ドレイン領域1eに接続されている。さらに、画素電極9を覆うように無機配向膜16が形成され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向を規制しうるようになっている。   A gate insulating film 2 is formed on the surface of the semiconductor layer 1a. A scanning line 3a is formed on the surface of the gate insulating film 2, and a portion facing the channel region 1a 'constitutes a gate electrode. A second interlayer insulating film 4 is formed on the surfaces of the gate insulating film 2 and the scanning line 3a. A data line 6a is formed on the surface of the second interlayer insulating film 4, and the data line 6a is connected to the high-concentration source region 1d through a contact hole 5 formed in the second interlayer insulating film 4. . Further, a third interlayer insulating film 7 is formed on the surfaces of the second interlayer insulating film 4 and the data line 6a. A pixel electrode 9 is formed on the surface of the third interlayer insulating film 7, and the pixel electrode 9 is a high-concentration drain through a contact hole 8 formed in the second interlayer insulating film 4 and the third interlayer insulating film 7. It is connected to the area 1e. Furthermore, an inorganic alignment film 16 is formed so as to cover the pixel electrode 9 so that the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied can be regulated.

なお、本実施形態では、半導体層1aを延設して第1蓄積容量電極1fが形成されている。また、ゲート絶縁膜2を延設して誘電体膜が形成され、その表面に容量線3bが配置されて第2蓄積容量電極が形成されている。これらにより、上述した蓄積容量17が構成されている。   In the present embodiment, the first storage capacitor electrode 1f is formed by extending the semiconductor layer 1a. Further, the gate insulating film 2 is extended to form a dielectric film, and the capacitor line 3b is disposed on the surface thereof to form a second storage capacitor electrode. Thus, the above-described storage capacitor 17 is configured.

また、TFT素子30の形成領域に対応する基板本体10Aの表面に、第1遮光膜11aが形成されている。第1遮光膜11aは、液晶表示装置90に入射した光が、半導体層1aのチャネル領域1a’、低濃度ソース領域1bおよび低濃度ドレイン領域1cに侵入することを防止するものである。   A first light shielding film 11 a is formed on the surface of the substrate body 10 </ b> A corresponding to the formation region of the TFT element 30. The first light shielding film 11a prevents light incident on the liquid crystal display device 90 from entering the channel region 1a ', the low concentration source region 1b, and the low concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a.

一方、対向基板20における基板本体20Aの内面には、第2遮光膜23が形成されている。第2遮光膜23は、液晶表示装置90に入射した光が半導体層1aのチャネル領域1a’や低濃度ソース領域1b、低濃度ドレイン領域1c等に侵入するのを防止するものであり、平面視において半導体層1aと重なる領域に設けられている(図4参照)。また、第2遮光膜23を含む対向基板20の内面には、略全面に亘ってITO等の導電体からなる共通電極21が形成されている。さらに、共通電極21の表面には無機配向膜22が形成され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向を規制しうるようになっている。   On the other hand, a second light shielding film 23 is formed on the inner surface of the substrate body 20 </ b> A in the counter substrate 20. The second light shielding film 23 prevents light incident on the liquid crystal display device 90 from entering the channel region 1a ′, the low concentration source region 1b, the low concentration drain region 1c, and the like of the semiconductor layer 1a. Are provided in a region overlapping with the semiconductor layer 1a (see FIG. 4). A common electrode 21 made of a conductor such as ITO is formed on the entire inner surface of the counter substrate 20 including the second light shielding film 23 over the entire surface. Further, an inorganic alignment film 22 is formed on the surface of the common electrode 21 so that the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied can be regulated.

そして、TFTアレイ基板10と対向基板20との間には、ネマチック液晶等からなる液晶層40が挟持されている。このネマチック液晶分子は、正の誘電率異方性を有するものであり、非選択電圧印加時には基板に沿って水平配向し、選択電圧印加時には電界方向に沿って垂直配向する。またネマチック液晶分子は、正の屈折率異方性を有するものであり、その複屈折と液晶層厚との積(リタデーション)Δndは、例えば約0.40μm(60℃)となっている。なお、TFTアレイ基板10の無機配向膜16による配向規制方向と、対向基板20の無機配向膜22による配向規制方向とは、約90°ねじれた状態に設定されている。これにより、本実施形態の液晶表示装置90は、ツイステッドネマチックモードで動作するようになっている。   A liquid crystal layer 40 made of nematic liquid crystal or the like is sandwiched between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20. The nematic liquid crystal molecules have a positive dielectric anisotropy, and are horizontally aligned along the substrate when a non-selection voltage is applied, and vertically aligned along the electric field direction when a selection voltage is applied. The nematic liquid crystal molecules have positive refractive index anisotropy, and the product (retardation) Δnd of the birefringence and the liquid crystal layer thickness is, for example, about 0.40 μm (60 ° C.). Note that the alignment regulation direction by the inorganic alignment film 16 of the TFT array substrate 10 and the alignment regulation direction by the inorganic alignment film 22 of the counter substrate 20 are set to be twisted by about 90 °. As a result, the liquid crystal display device 90 of the present embodiment operates in the twisted nematic mode.

また両基板10,20の外側には、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素をドープした材料等からなる偏光板18,28が配置されている。なお各偏光板18,28は、サファイヤガラスや水晶等の高熱伝導率材料からなる支持基板上に装着して、液晶表示装置90から離間配置することが望ましい。各偏光板18,28は、その吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する機能を有する。TFTアレイ基板10側の偏光板18は、その透過軸が無機配向膜16の配向規制方向と略一致するように配置され、対向基板20側の偏光板28は、その透過軸が無機配向膜22の配向規制方向と略一致するように配置されている。   Further, polarizing plates 18 and 28 made of a material obtained by doping polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like are disposed outside the substrates 10 and 20. The polarizing plates 18 and 28 are preferably mounted on a support substrate made of a high thermal conductivity material such as sapphire glass or quartz, and are spaced apart from the liquid crystal display device 90. Each of the polarizing plates 18 and 28 has a function of absorbing linearly polarized light in the absorption axis direction and transmitting linearly polarized light in the transmission axis direction. The polarizing plate 18 on the TFT array substrate 10 side is arranged so that its transmission axis substantially coincides with the alignment regulating direction of the inorganic alignment film 16, and the polarizing plate 28 on the counter substrate 20 side has its transmission axis on the inorganic alignment film 22. It is arrange | positioned so that it may correspond with the orientation control direction of this.

液晶表示装置90は、対向基板20を光源側に向けて配置している。その光源光のうち偏光板28の透過軸と一致する直線偏光のみが偏光板28を透過して液晶表示装置90に入射されるようになっている。非選択電圧印加時の液晶表示装置90では、基板に対して水平配向した液晶分子が液晶層40の厚さ方向に約90°ねじれたらせん状に積層配置されている。そのため、液晶表示装置90に入射した直線偏光は、約90°旋光されて液晶表示装置90から出射する。この直線偏光は、偏光板18の透過軸と一致するため、偏光板18を透過する。したがって、非選択電圧印加時の液晶表示装置90では白表示が行われるようになっている(ノーマリーホワイトモード)。   The liquid crystal display device 90 is arranged with the counter substrate 20 facing the light source side. Of the light source light, only linearly polarized light that matches the transmission axis of the polarizing plate 28 passes through the polarizing plate 28 and enters the liquid crystal display device 90. In the liquid crystal display device 90 when a non-selection voltage is applied, the liquid crystal molecules horizontally aligned with respect to the substrate are stacked and arranged in a spiral shape by twisting about 90 ° in the thickness direction of the liquid crystal layer 40. Therefore, the linearly polarized light incident on the liquid crystal display device 90 is rotated about 90 ° and emitted from the liquid crystal display device 90. Since this linearly polarized light coincides with the transmission axis of the polarizing plate 18, it passes through the polarizing plate 18. Therefore, white display is performed on the liquid crystal display device 90 when the non-selection voltage is applied (normally white mode).

また、選択電圧印加時の液晶表示装置90では、液晶分子が基板に対して垂直配向している。そのため、液晶表示装置90に入射した直線偏光は、旋光されることなく液晶表示装置90から出射する。この直線偏光は、偏光板18の透過軸と直交するため、偏光板18を透過しない。したがって、選択電圧印加時の液晶表示装置90では黒表示が行われるようになっている。   Further, in the liquid crystal display device 90 when the selection voltage is applied, the liquid crystal molecules are vertically aligned with respect to the substrate. Therefore, the linearly polarized light incident on the liquid crystal display device 90 is emitted from the liquid crystal display device 90 without being rotated. Since this linearly polarized light is orthogonal to the transmission axis of the polarizing plate 18, it does not pass through the polarizing plate 18. Therefore, black display is performed on the liquid crystal display device 90 when the selection voltage is applied.

(無機配向膜)
上述したように、両基板10,20の内側には無機配向膜16,22が形成されている。無機配向膜16,22は、SiOやSiO等のシリコン酸化物、またはAl、ZnO、MgOやITO等の金属酸化物等により、厚さ0.02〜0.3μm(好ましくは、0.02〜0.08μm)程度に形成されている。無機配向膜16,22を製造するには、例えばイオンビームスパッタ法やマグネトロンスパッタ法等のスパッタ法、蒸着法、ゾルゲル法、自己組織化法などを利用することが可能である。
(Inorganic alignment film)
As described above, the inorganic alignment films 16 and 22 are formed inside both the substrates 10 and 20. The inorganic alignment films 16 and 22 have a thickness of 0.02 to 0.3 μm (preferably, a silicon oxide such as SiO 2 or SiO, or a metal oxide such as Al 2 O 3 , ZnO, MgO, or ITO). 0.02 to 0.08 μm). In order to manufacture the inorganic alignment films 16 and 22, for example, a sputtering method such as an ion beam sputtering method or a magnetron sputtering method, a vapor deposition method, a sol-gel method, a self-organization method, or the like can be used.

ここで、例えばイオンビームスパッタ装置を用いて無機配向膜16,22を形成する場合、イオン源から照射されたイオンビームによってターゲットから無機配向膜16,22の形成材料となるスパッタ粒子を放射してTFTアレイ基板10或いは対向基板20上に堆積することにより、これら基板10,20上に無機材料からなる柱状構造体が無数に形成され、無機配向膜16,22が構成される。   Here, when the inorganic alignment films 16 and 22 are formed using, for example, an ion beam sputtering apparatus, sputtered particles serving as a material for forming the inorganic alignment films 16 and 22 are emitted from the target by an ion beam irradiated from an ion source. By depositing on the TFT array substrate 10 or the counter substrate 20, an infinite number of columnar structures made of an inorganic material are formed on the substrates 10 and 20, and the inorganic alignment films 16 and 22 are configured.

そして液晶表示装置90では、柱状構造体に沿って液晶分子が配向するので、この無機配向膜22により非選択電圧印加時の液晶分子を所定方向に配向規制することが可能となっている。また、液晶分子にプレティルトを付与することができる。   In the liquid crystal display device 90, since the liquid crystal molecules are aligned along the columnar structure, the inorganic alignment film 22 can regulate the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied in a predetermined direction. In addition, pretilt can be imparted to the liquid crystal molecules.

(封止構造)
次に、本実施形態における液晶表示装置の特徴部分について以下に述べる。
ここで、シール材14に設けられた注入口24を封止材19によって封止する構造を封止構造とし、この封止構造の一例について図6及び図7に基づいて詳しく説明する。なお、図7は図6のN−N’線矢視の断面図であって、特に封止構造部分を拡大した図である。また、TFTアレイ基板10及び対向基板20におけるそれぞれの内面とは、互いの対向面側、つまり、液晶が配置された面のことである。一方、TFTアレイ基板10及び対向基板20におけるそれぞれの外面とは、液晶が配置されない、内面とは反対側の面のことである。
(Sealing structure)
Next, the characteristic part of the liquid crystal display device in this embodiment will be described below.
Here, a structure in which the injection port 24 provided in the sealing material 14 is sealed with the sealing material 19 is a sealing structure, and an example of this sealing structure will be described in detail with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line NN ′ in FIG. 6, and is an enlarged view of the sealing structure portion. Further, the inner surfaces of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are the surfaces facing each other, that is, the surfaces on which the liquid crystal is arranged. On the other hand, the respective outer surfaces of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are surfaces opposite to the inner surface where no liquid crystal is disposed.

シール材14は、上述したように液晶を注入するための注入口24を有したものとなっており、図6にその形状例を示す。シール材14は、対向基板20の周縁部に沿って設けられ、TFTアレイ基板10上に設けられた外部回路接続端子102側の辺の略中央部に所定の大きさの開口を形成すべく、その両端が離間したものとなっている。このシール材14の一部に形成された開口が、TFTアレイ基板10及び対向基板20間に液晶を注入するための注入口24として機能する。   The sealing material 14 has the injection port 24 for injecting liquid crystal as described above, and FIG. 6 shows an example of its shape. The sealing material 14 is provided along the peripheral edge of the counter substrate 20, and an opening having a predetermined size is formed at a substantially central portion of the side on the external circuit connection terminal 102 side provided on the TFT array substrate 10. The both ends are separated. An opening formed in a part of the sealing material 14 functions as an injection port 24 for injecting liquid crystal between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.

一方、図6,7に示すように、本実施形態の対向基板20には、その周縁部において、少なくともシール材14の注入口24に対応する箇所に、外方(上面20a側)へ向かって傾斜する傾斜面25が形成されている。傾斜面25は、対向基板20の内外面(上面20a及び下面20b)を繋ぐように所定の角度θで傾斜し、好ましくは注入口24の開口領域以上の大きさで形成される。さらに、図6に示したモールド材15は、シール材14の注入口24に対応する箇所に、注入口24の開口を確保するための開口部26を有して構成されている。   On the other hand, as shown in FIGS. 6 and 7, the counter substrate 20 according to the present embodiment has a peripheral portion at least at a position corresponding to the injection port 24 of the sealing material 14 toward the outside (on the upper surface 20 a side). An inclined surface 25 that is inclined is formed. The inclined surface 25 is inclined at a predetermined angle θ so as to connect the inner and outer surfaces (the upper surface 20 a and the lower surface 20 b) of the counter substrate 20, and preferably has a size larger than the opening region of the injection port 24. Furthermore, the molding material 15 shown in FIG. 6 has an opening 26 for securing the opening of the injection port 24 at a position corresponding to the injection port 24 of the sealing material 14.

そして、図6,7に示すように、この傾斜面25上及びTFTアレイ基板10の上面10aの一部を外側から覆うようにして封止材19を設けることにより、モールド材15の開口部26を含むようにしてシール材14の注入口24が封止される。詳しくは、対向基板20の周縁部の一部に設けられる傾斜面25は、対向基板20の上面20a(外面)及び下面20b(内面)を繋ぐべく、この下面20bに対して所定の傾斜角度θで傾斜するよう形成されている。そして、この傾斜面25上及びTFTアレイ基板10の上面10aの一部を外側から覆うとともに、平面視における注入口24の両側を越えてモールド材15の側面に至るまで設けられる封止材19によって、注入口24が封止されている。封止材19は、液晶層40との間に空隙を生じさせることなく、液晶層40へ接触するようにして注入口24の内部を略満たしたものとなっている。ここで、上述したように、対向基板20の対向面側には、TFTアレイ基板10の内面(上面10a)に沿って略一定の厚さで形成される無機配向膜22が設けられている。なお、TFTアレイ基板10上にも無機配向膜が形成されているが、図7では図示を省略する。   6 and 7, the sealing material 19 is provided so as to cover the inclined surface 25 and a part of the upper surface 10a of the TFT array substrate 10 from the outside, whereby the opening 26 of the molding material 15 is provided. The inlet 24 of the sealing material 14 is sealed so as to include Specifically, the inclined surface 25 provided on a part of the peripheral edge of the counter substrate 20 has a predetermined inclination angle θ with respect to the lower surface 20b so as to connect the upper surface 20a (outer surface) and the lower surface 20b (inner surface) of the counter substrate 20. It is formed to incline at. Then, a part of the inclined surface 25 and a part of the upper surface 10a of the TFT array substrate 10 are covered from the outside, and the sealing material 19 is provided to reach the side surface of the molding material 15 beyond both sides of the injection port 24 in plan view. The injection port 24 is sealed. The sealing material 19 substantially fills the inside of the injection port 24 so as to be in contact with the liquid crystal layer 40 without generating a gap between the sealing material 19 and the liquid crystal layer 40. Here, as described above, the inorganic alignment film 22 formed with a substantially constant thickness along the inner surface (upper surface 10 a) of the TFT array substrate 10 is provided on the opposite surface side of the opposite substrate 20. Although an inorganic alignment film is also formed on the TFT array substrate 10, the illustration is omitted in FIG.

液晶表示装置90は、TFTアレイ基板10及び対向基板20によって挟持されている液晶層40に水分や不純物等が浸入すると、液晶表示装置90の各種機能が阻害されることになり、特に分極構造を持つ液晶中に分極性分子である水が浸入すると、液晶の配向不良が発生することになって表示特性を低下させる虞がある。そのため、安定した表示特性を備えた信頼性の高い液晶表示装置90を得るには、外部からの水分に対しての高い防湿性を備えたことが望ましい。   In the liquid crystal display device 90, when moisture or impurities enter the liquid crystal layer 40 sandwiched between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, various functions of the liquid crystal display device 90 are hindered. If water, which is a polarizable molecule, permeates into the liquid crystal, the liquid crystal may have poor alignment and display characteristics may be deteriorated. Therefore, in order to obtain a highly reliable liquid crystal display device 90 having stable display characteristics, it is desirable to have a high moisture resistance against moisture from the outside.

本実施形態の封止構造では、上述したように、シール材14の注入口24に対応するようにして、対向基板20における周縁部の一部に傾斜面25を形成し、TFTアレイ基板10の上面10aの一部及びこの傾斜面25上を覆うようにして封止材19を塗布して注入口24を封止する構成とした。   In the sealing structure of this embodiment, as described above, the inclined surface 25 is formed on a part of the peripheral edge of the counter substrate 20 so as to correspond to the injection port 24 of the sealing material 14, and the TFT array substrate 10. The injection port 24 is sealed by applying the sealing material 19 so as to cover a part of the upper surface 10 a and the inclined surface 25.

このような封止構造によれば、封止材19と対向基板20との接触面積が増加する。つまり、封止材19と対向基板20間との界面距離が長くなるということになる。よって、液晶層40に水分を到達させる可能性を低減することができるとともに、水分の浸入を遅延させることができる。したがって、上記したような、液晶層40への水分の混入による表示特性の低下を軽減でき、安定した表示特性を有した信頼性の高い液晶表示装置90を得ることができる。また、傾斜面25の角度θが小さい程、封止材19と無機配向膜16との界面距離を長くすることができるとともに、重力による封止材19の垂れ下がりを防止することができる。傾斜面25の角度θは、画像表示領域との係わり合いからも適宜決定される。加えて、封止材19の塗布量を増やしてその厚みを増加させることも可能となり、水分透過性を低減させることができる。   According to such a sealing structure, the contact area between the sealing material 19 and the counter substrate 20 increases. That is, the interface distance between the sealing material 19 and the counter substrate 20 becomes long. Therefore, it is possible to reduce the possibility of moisture reaching the liquid crystal layer 40 and to delay the penetration of moisture. Therefore, it is possible to reduce the deterioration of display characteristics due to the mixing of moisture into the liquid crystal layer 40 as described above, and to obtain a highly reliable liquid crystal display device 90 having stable display characteristics. Further, as the angle θ of the inclined surface 25 is smaller, the interface distance between the sealing material 19 and the inorganic alignment film 16 can be increased and the dripping of the sealing material 19 due to gravity can be prevented. The angle θ of the inclined surface 25 is appropriately determined also from the relationship with the image display area. In addition, the thickness of the sealing material 19 can be increased by increasing the coating amount, and the moisture permeability can be reduced.

なお、傾斜面25の他の形状としては、図8に示すように、対向基板20の上面20aと傾斜面25との境界部分、及び下面20bと傾斜面25との境界部分を曲面化しても良い。対向基板20の上面20aと傾斜面25との境界に曲部47を形成することにより、封止材19の垂れ下がりを防止することができ、対向基板20の下面20bと傾斜面25との境界(角部)に曲部48を形成することにより、封止材19に何らかの負荷が掛かった場合(例えば、基板10,20間に歪みが生じた場合)にも、封止材19にひび割れが生じることを防ぐことができる。したがって、より安定した耐水性及び耐湿性を確保することができる。   In addition, as another shape of the inclined surface 25, as shown in FIG. 8, the boundary portion between the upper surface 20a and the inclined surface 25 of the counter substrate 20 and the boundary portion between the lower surface 20b and the inclined surface 25 may be curved. good. By forming the curved portion 47 at the boundary between the upper surface 20a of the counter substrate 20 and the inclined surface 25, the sealing material 19 can be prevented from drooping, and the boundary between the lower surface 20b of the counter substrate 20 and the inclined surface 25 ( By forming the curved portion 48 at the corner portion, the sealing material 19 is cracked even when some load is applied to the sealing material 19 (for example, when distortion occurs between the substrates 10 and 20). Can be prevented. Therefore, more stable water resistance and moisture resistance can be ensured.

また、傾斜面25全体を曲面化してもよく、外方へ向かって突出するように全体的に湾曲形状とすることで、上記同様の効果を奏することができる。また、このように傾斜面25を湾曲化させることで封止材19の塗布量を増加させることができる。そのため、水分が封止材19を透過して液晶へと混入する可能性を低減させることができ、液晶表示装置90の耐湿性をより向上させることができる。
このように、上記したいずれの形状を成す傾斜面25による封止構造においても、封止材19と各基板10,20との界面距離を長くとった構造となっている。
Further, the entire inclined surface 25 may be curved, and the same effect as described above can be achieved by making the entire curved surface so as to protrude outward. Moreover, the application amount of the sealing material 19 can be increased by curving the inclined surface 25 in this way. Therefore, the possibility that moisture permeates the liquid crystal through the sealing material 19 can be reduced, and the moisture resistance of the liquid crystal display device 90 can be further improved.
Thus, even in the sealing structure by the inclined surface 25 having any of the shapes described above, the interface distance between the sealing material 19 and each of the substrates 10 and 20 is long.

さらに、傾斜面25の表面に凹凸を形成してもよい。このような形状によれば、平滑な面に比べて、封止材19と対向基板20との密着面積を凹凸形状に沿った分だけ増加させることができる。よって、水分の浸入の可能性をより低減させることができる。また、封止材19と対向基板20との接触面積が増えることで、封止材19と対向基板20との密着性が向上する。このようなアンカー効果によって封止材19の垂れ下がりがさらに防止される。   Further, irregularities may be formed on the surface of the inclined surface 25. According to such a shape, compared with a smooth surface, the contact area between the sealing material 19 and the counter substrate 20 can be increased by an amount along the uneven shape. Therefore, the possibility of moisture intrusion can be further reduced. Further, since the contact area between the sealing material 19 and the counter substrate 20 is increased, the adhesion between the sealing material 19 and the counter substrate 20 is improved. Such an anchor effect further prevents the sealing material 19 from sagging.

また、上記実施形態においては、傾斜面を湾曲化させる際、外方へ向かって突出するようにしたが、内側へ窪むようにして湾曲させることも可能である。   Moreover, in the said embodiment, when curving an inclined surface, it protruded outward, but it is also possible to curve so that it may become depressed inside.

なお、対向基板20の周縁部全体に亘って傾斜面を形成してもよい。このような構成によれば、モールド材15と対向基板20との境界距離が長くなる。これにより、モールド材15側においても、各基板10,20との境界に隙間が生じることを防止することができ、水分等が液晶層40に浸入する可能性を少なくすることができる。   An inclined surface may be formed over the entire periphery of the counter substrate 20. According to such a configuration, the boundary distance between the molding material 15 and the counter substrate 20 becomes long. Thereby, also on the molding material 15 side, it is possible to prevent a gap from being formed at the boundary with each of the substrates 10 and 20, and to reduce the possibility of moisture and the like entering the liquid crystal layer 40.

ここで、本実施形態における液晶表示装置90は、封止材19が設けられるTFTアレイ基板10の上面10aに無機配向膜16が形成された構造としたが、無機配向膜16は、柱状構造体で構成された多孔質からなるものであるため、封止材19とTFTアレイ基板10との間においても隙間が生じる虞がある。よって、封止材19と無機配向膜16との界面には大きな隙間が形成される虞があり、これらの隙間(境界)を通って、液晶表示装置90の外部から水分や不純物等が液晶層に浸入し、上述したような不具合を発生させる心配がある。そのため、液晶層40を挟持する領域にのみ無機配向膜16を設けることで、多孔質と封止材19との間に大きな隙間が形成されるのを防止するようにしてもよい。勿論、無機配向膜22においても同様の構成を適用することができる。   Here, the liquid crystal display device 90 in the present embodiment has a structure in which the inorganic alignment film 16 is formed on the upper surface 10a of the TFT array substrate 10 on which the sealing material 19 is provided. The inorganic alignment film 16 is a columnar structure. Therefore, a gap may be generated between the sealing material 19 and the TFT array substrate 10. Therefore, there is a possibility that a large gap may be formed at the interface between the sealing material 19 and the inorganic alignment film 16, and moisture, impurities, and the like may pass through the gap (boundary) from the outside of the liquid crystal display device 90. There is a concern that the above-mentioned problems may occur. Therefore, the inorganic alignment film 16 may be provided only in the region where the liquid crystal layer 40 is sandwiched to prevent a large gap from being formed between the porous material and the sealing material 19. Of course, the same configuration can be applied to the inorganic alignment film 22.

また、図11に示すように、通常、基板70,71には、これら基板70,71の表面に塵が付着したり傷が付くことを防止するための防塵ガラス77,78がそれぞれ設けられる。本実施形態の構成によれば、図2に示すように、対向基板20の傾斜面25を除いた上面20aに防塵ガラス33を設ければ良いことから、従来に比べて、対向基板20側の防塵ガラスの大きさが小さくてすむ。   As shown in FIG. 11, the substrates 70 and 71 are usually provided with dust-proof glasses 77 and 78 for preventing dust from adhering to or scratching the surfaces of the substrates 70 and 71, respectively. According to the configuration of the present embodiment, as shown in FIG. 2, the dust-proof glass 33 may be provided on the upper surface 20 a excluding the inclined surface 25 of the counter substrate 20. The size of the dust-proof glass can be small.

(電子機器)
次に、本発明の液晶表示装置をプロジェクタに適用した例について図9を用いて説明する。図9は、プロジェクタ50(電子機器)の要部を示す概略構成図である。このプロジェクタ50は、上述した各実施形態に係る液晶表示装置を光変調手段として備えたものである。
(Electronics)
Next, an example in which the liquid crystal display device of the present invention is applied to a projector will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating a main part of the projector 50 (electronic device). The projector 50 includes the liquid crystal display device according to each of the above-described embodiments as light modulation means.

図9において、51は光源、52,53はダイクロイックミラー、54,55,56は反射ミラー、57は入射レンズ、58はリレーレンズ、59は出射レンズ、60,61,62は本発明の液晶表示装置からなる光変調手段、63はクロスダイクロイックプリズム、64は投射レンズである。光源51は、メタルハライド等のランプ65とランプの光を反射するリフレクタ66とからなる。   In FIG. 9, 51 is a light source, 52 and 53 are dichroic mirrors, 54, 55 and 56 are reflection mirrors, 57 is an entrance lens, 58 is a relay lens, 59 is an exit lens, and 60, 61 and 62 are liquid crystal displays of the present invention. An optical modulation means comprising the device, 63 is a cross dichroic prism, and 64 is a projection lens. The light source 51 includes a lamp 65 such as a metal halide and a reflector 66 that reflects the light of the lamp.

ダイクロイックミラー52は、光源51からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー54で反射されて、赤色光用光変調手段60に入射される。また、ダイクロイックミラー52で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー53によって反射され、緑色光用光変調手段61に入射される。さらに、ダイクロイックミラー52で反射された青色光は、ダイクロイックミラー53を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ57、リレーレンズ58および出射レンズ59を含むリレーレンズ系からなる導光手段67が設けられている。この導光手段67を介して、青色光が青色光用光変調手段62に入射される。   The dichroic mirror 52 transmits red light included in white light from the light source 51 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 54 and is incident on the light modulation means 60 for red light. The green light reflected by the dichroic mirror 52 is reflected by the dichroic mirror 53 and is incident on the light modulating means 61 for green light. Further, the blue light reflected by the dichroic mirror 52 passes through the dichroic mirror 53. For blue light, in order to prevent light loss due to a long optical path, a light guide means 67 comprising a relay lens system including an incident lens 57, a relay lens 58 and an exit lens 59 is provided. Blue light is incident on the light modulating means 62 for blue light through the light guiding means 67.

各光変調手段60,61,62により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム63に入射する。このクロスダイクロイックプリズム63は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ64によってスクリーン68上に投影され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the respective light modulation means 60, 61 and 62 are incident on the cross dichroic prism 63. The cross dichroic prism 63 is formed by bonding four right-angle prisms. A dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in an X shape at the interface. Yes. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 68 by the projection lens 64 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

上記実施形態の液晶表示装置は、外部から水分等が液晶層に浸入する可能性を低減するため防湿性が高く、安定した表示特性を備えた信頼性の高いものである。よって、本発明のプロジェクタ50は、上記液晶表示装置を光変調手段として備えているので、液晶表示装置における液晶分子の配向制御機能を維持することが可能になり、信頼性が高く優れた表示特性を備えたものとなる。   The liquid crystal display device of the above embodiment is highly reliable with high moisture resistance and stable display characteristics in order to reduce the possibility of moisture or the like entering the liquid crystal layer from the outside. Therefore, since the projector 50 according to the present invention includes the liquid crystal display device as a light modulation unit, it is possible to maintain the alignment control function of the liquid crystal molecules in the liquid crystal display device, and the display characteristics are highly reliable and excellent. It will be equipped with.

なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
例えば、実施形態では透過型液晶表示装置を例にして説明したが、反射型液晶表示装置に本発明を適用することも可能である。
It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the embodiments, the transmissive liquid crystal display device has been described as an example, but the present invention can also be applied to a reflective liquid crystal display device.

例えば、本発明の液晶表示装置を、プロジェクタ以外の電子機器に適用することも可能である。その具体例として、携帯電話を挙げることができる。
図10は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図10において、符号500は携帯電話本体を示し、符号501は上記液晶表示装置を用いた表示部を示している。このような電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた表示部を備えているので、信頼性の高い表示部を備えた高品質の電子機器として提供することができる。
For example, the liquid crystal display device of the present invention can be applied to electronic devices other than projectors. A specific example is a mobile phone.
FIG. 10 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 10, reference numeral 500 indicates a mobile phone body, and reference numeral 501 indicates a display unit using the liquid crystal display device. Since such an electronic device includes a display portion using the liquid crystal display device of the above embodiment, it can be provided as a high-quality electronic device including a highly reliable display portion.

また、その他の電子機器としては、例えばICカード、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が挙げられる。   Other electronic devices include, for example, IC cards, video cameras, personal computers, head-mounted displays, fax machines with display functions, digital camera finders, portable TVs, DSP devices, PDAs, electronic notebooks, and electronic bulletin boards. And advertising announcement displays.

液晶表示装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of a liquid crystal display device. 図1のH−H’断面図である。It is H-H 'sectional drawing of FIG. 液晶表示装置の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal display device. 液晶表示装置の平面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the planar structure of a liquid crystal display device. 液晶表示装置の断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the cross-sectional structure of a liquid crystal display device. 封止構造を示す平面図である。It is a top view which shows a sealing structure. 図6のN−N’断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line N-N ′ of FIG. 6. 他の封止構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another sealing structure. 本発明の電子機器の一実施形態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows one Embodiment of the electronic device of this invention. 本発明の電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows other embodiment of the electronic device of this invention. 従来の封止構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conventional sealing structure.

符号の説明Explanation of symbols

90…液晶表示装置、10…TFTアレイ基板、14…シール材、15…モールド材、16,22…無機配向膜、19…封止材、20…対向基板、24…注入口、25…傾斜面、33…防塵ガラス、40…液晶層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 90 ... Liquid crystal display device, 10 ... TFT array substrate, 14 ... Sealing material, 15 ... Mold material, 16, 22 ... Inorganic alignment film, 19 ... Sealing material, 20 ... Opposite substrate, 24 ... Injection port, 25 ... Inclined surface 33 ... dustproof glass, 40 ... liquid crystal layer

Claims (5)

所定間隔をおいて互いに対向配置される一対の基板と、
該一対の基板間に形成される隙間に保持される液晶と、
前記一対の基板間に配置され、前記液晶を注入する注入口を有したシール材と、
前記注入口を封止する封止材と、を備え、
前記一対の基板における一方の前記基板には、その周縁部における少なくとも前記シール材の注入口に対応する箇所に、外方へ向かって傾斜する傾斜面が形成されており、該傾斜面を被覆するようにして前記封止材が塗布されることを特徴とする液晶表示装置。
A pair of substrates disposed opposite to each other at a predetermined interval;
Liquid crystal held in a gap formed between the pair of substrates;
A sealing material disposed between the pair of substrates and having an inlet for injecting the liquid crystal;
A sealing material for sealing the inlet,
One of the pair of substrates is formed with an inclined surface that is inclined outwardly at least at a position corresponding to the inlet of the sealing material at a peripheral edge thereof, and covers the inclined surface. Thus, the sealing material is applied.
前記傾斜面が湾曲形状となっていることを特徴とする液晶表示装置。     A liquid crystal display device, wherein the inclined surface has a curved shape. 前記一方の基板は、その外面と前記傾斜面との境界、或いは内面と前記傾斜面との境界が湾曲していることを特徴とする液晶表示装置。     The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the one substrate has a curved boundary between an outer surface and the inclined surface or an inner surface and the inclined surface. 一方の前記基板の外面に設けられた防塵ガラスが前記傾斜面を除く大きさで形成されることを特徴とする液晶表示装置。     A liquid crystal display device, wherein a dust-proof glass provided on an outer surface of one of the substrates is formed in a size excluding the inclined surface. 請求項1から4のいずれかに記載の液晶表示装置を光変調手段として備えたことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the liquid crystal display device according to claim 1 as light modulation means.
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