CN103337450B
(zh )
2016-03-02
紫外光/臭氧表面清洗与氧化改性真空设备及其使用方法
JP2006303309A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2008-04-03
US8093072B2
(en )
2012-01-10
Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
JP2005504855A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2006-01-05
JP2009537993A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2010-05-20
JP2004006801A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2005-03-03
JP2012212854A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2014-11-13
JP2012049376A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2013-09-05
US11161139B2
(en )
2021-11-02
Method and system for treating a surface
JP2018500462A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2018-11-15
JP2020013983A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2022-05-24
CN105393333A
(zh )
2016-03-09
用于薄膜处理应用的清洁方法和用于所述清洁方法中的装置
JP5317852B2
(ja )
2013-10-16
紫外線照射装置
CN108779555A
(zh )
2018-11-09
设备和方法
JP2010239142A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2011-07-07
JP4394134B2
(ja )
2010-01-06
ガス容器内部の洗浄方法
JP2008177419A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2009-07-16
JP2012049349A5
(ja )
2013-10-03
基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2003163201A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2005-10-06
CN210001929U
(zh )
2020-01-31
一种远程等离子清洁pecvd腔室的设备
TWI380356B
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2012-12-21
JP6099508B2
(ja )
2017-03-22
ガス捕捉体およびそれを備えた半導体製造装置
KR100905464B1
(ko )
2009-07-02
활성화된 플라즈마 처리장치
JP2001085409A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2005-09-02
JP2002246374A5
(cg-RX-API-DMAC10.html )
2005-09-08