JP2007294209A - プラズマ表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の真空容器1と、第2の真空容器2と、それらの間に配設された導電性グリッド11と、第2の真空容器2に配置された絶縁性の被処理物12と、第1の真空容器1から第2の真空容器2内の被処理物12に対してイオンビーム13を照射するイオンビーム照射手段から構成され、第1の真空容器1の電位を第2の真空容器2の電位に対して正とし、導電性グリッド11の電位を第2の真空容器2の電位に対して負となるように構成した。
【選択図】図1
Description
第2の方法は、特許文献2の方法で、プラズマと被処理物の間に複数の多孔板を置いて、その中にガスを満たし、荷電交換衝突過程を利用して、正イオンを途中で中性原子に換えてしまう方法である。中性原子であれば帯電の心配はない。しかし、荷電交換衝突はイオンが加速される途中で確率的に起こるため、発生する中性原子は様々なエネルギーを持ってしまい、さらに、容器内のガス圧力を高めに設定する必要があるため、基板に到達する中性原子の量が散乱によって大きく減少してしまう問題がある(課題2)。
2 第2の真空容器
3 第1と第2の真空容器を電気絶縁する絶縁体スペーサ
4 第1のプラズマ発生手段
5 第2のプラズマ発生手段
6 第1のプラズマ(ドライバープラズマ)
7 第2のプラズマ(ターゲットプラズマ)
8 第1の真空容器に電圧V1を与える電源
9 第2の真空容器に電圧V2を与える電源
10 グリッドに電圧VGを与える電源
11 導電性グリッド
12 絶縁性の被処理物
13 第1のプラズマから第2のプラズマを通過して被処理物に向かうイオンビーム
14 第1のプラズマとグリッドの間に自発的に形成されるイオンシース
15 第1のプラズマとグリッドの間のイオンシースがつくる電位差
16 第1のプラズマの電子の挙動、第1のプラズマからグリッドに向かう電子16はイ オンシースのつくる電位差15によって反射され、第1のプラズマに戻される
17 第2のプラズマの正イオンの挙動、第2のプラズマからグリッドに向かう正イオン 17はイオンシースのつくる電位差15によって反射され、第2のプラズマに戻さ れる。
18 第2のプラズマの電子の挙動、第2のプラズマからグリッドに向かう電子18はグ リッドに加えられた負の電圧VGによって反射され、第2のプラズマに戻される
19 絶縁体で構成された第1の真空容器
20 絶縁体で構成された第2の真空容器
21 第2のプラズマ7と電気的に接触し、接地電位にある電極
22 第1のプラズマ6に電位を与えるための陽極
23 陽極22に電圧V1を与える電源
24 導体または絶縁体で構成される真空容器
25 プラズマを取り囲むことを特徴とする包囲体形陽極
26 第1のプラズマ6にパルスの正電位を与えるためのパルス電源
27 第2のプラズマ7に電気的に接触し、絶縁性被処理物を支える接地電位にある導体
Claims (6)
- その内部にプラズマを発生させる第1のプラズマ発生手段を備えた第1の真空容器と、その内部にプラズマを発生させる第2のプラズマ発生手段を備えた第2の真空容器と、電気的に絶縁して接続した該第1の真空容器と該第2の真空容器の間に配設された導電性グリッドと、該第2の真空容器に配置された絶縁性の被処理材と、該第1の真空容器から該第2の真空容器内の該被処理材に対してイオンビームを照射するイオンビーム照射手段から構成され、
前記第1の真空容器の電位を前記第2の真空容器の電位に対して正とし、前記導電性グリッドの電位を前記第2の真空容器の電位に対して負としたことを特徴とするプラズマ表面処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ表面処理装置において、前記第2の真空容器の電位は接地電位であることを特徴とするプラズマ表面処理装置。
- 請求項1記載のプラズマ表面処理装置において、前記イオンビームは前記第1の真空容器から前記導電性グリッドを介して前記第2の真空容器内の該被処理材に対して照射されることを特徴とするプラズマ表面処理装置。
- その内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段を備えた真空容器と、該真空容器の内部に絶縁性の被処理材を包囲した導電性グリッドと、該被処理材に電気的に接続される導体と、該真空容器から該真空容器の内部の該被処理材に対してイオンビームを照射するイオンビーム照射手段から構成され、
前記グリッドの電位を前記導体の電位に対して負とし、前記真空容器の電位を前記導体の電位に対して正としたことを特徴とするプラズマ表面処理装置。 - 請求項4記載のプラズマ表面処理装置において、前記導体の電位は接地電位であることを特徴とするプラズマ表面処理装置。
- 請求項4記載のプラズマ表面処理装置において、前記イオンビームは前記真空容器から前記導電性グリッドを介して前記被処理材に対して照射されることを特徴とするプラズマ表面処理装置。
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JP2006120091A JP2007294209A (ja) | 2006-04-25 | 2006-04-25 | プラズマ表面処理装置 |
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JP2006120091A Pending JP2007294209A (ja) | 2006-04-25 | 2006-04-25 | プラズマ表面処理装置 |
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- 2006-04-25 JP JP2006120091A patent/JP2007294209A/ja active Pending
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