JP2007293302A - Manufacturing method of optical film, the optical film and image display device - Google Patents

Manufacturing method of optical film, the optical film and image display device Download PDF

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淳 渡部
Katsumi Inoue
克己 井上
Takato Suzuki
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Tetsuya Asakura
徹也 朝倉
Hiroyuki Yoneyama
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of optical film, capable of simultaneously forming at least two coating layers on a transparent support and that is low cost and has high productivity. <P>SOLUTION: The manufacturing method of optical film comprises a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers, by using at least two kinds of coating solutions containing solvent and solute on the transparent support; and a step of drying the solvent in at least two coating layers. When at least two coating layers are set to be 1, 2 to n-1, and n layers, in this order starting from the uppermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the n-th layer is insoluble or is hardly soluble with respect to the main component of the solvent in the (n-1)-th layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film manufacturing method, an optical film, and an image display device.

反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)、電界放出ディスプレイ(FED)、表面電界ディスプレイ(SED)のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、高い透過率、高い物理強度(耐擦傷性など)、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性など)が要求される。   Anti-reflection films such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode tube display (CRT), field emission display (FED), surface electric field display (SED) In various image display devices, it is disposed on the surface of a display in order to prevent a decrease in contrast due to reflection of external light or reflection of an image. Therefore, in addition to high antireflection performance, the antireflection film is required to have high transmittance, high physical strength (such as scratch resistance), chemical resistance, and weather resistance (such as moisture and heat resistance).

反射防止フィルムに用いる反射防止層(高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層など)の形成に、塗布組成物を塗布する方法(ウェット塗布)が提案されている。   A method of applying a coating composition (wet coating) has been proposed for forming an antireflection layer (high refractive index layer, medium refractive index layer, low refractive index layer, etc.) used for an antireflection film.

反射防止フィルムを塗布方法で作製する場合、特定の屈折率を有する膜形成組成物を溶剤中に溶解あるいは分散して調整される塗布組成物を透明支持体基材に塗布、乾燥、必要に応じて硬化することで、単層または多層の薄膜を形成することが必要である。単層の場合は、基材よりも低屈折率を有する層(低屈折率層)を光学膜厚で設計波長の1/4の膜厚で形成すればよい。さらに低反射化が必要な場合には、基材と低屈折率を有する層との間に、透明支持体よりも屈折率の高い層(高屈折率層)を形成すればよく、さらに、反射率を低減するためには、高屈折率層の透明基材側に透明支持体上と高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層を設ける態様も提案されている(特許文献1)。   When producing an antireflection film by a coating method, a coating composition prepared by dissolving or dispersing a film-forming composition having a specific refractive index in a solvent is coated on a transparent support substrate, dried, and if necessary It is necessary to form a single-layer or multi-layer thin film by curing. In the case of a single layer, a layer having a lower refractive index than that of the substrate (low refractive index layer) may be formed with an optical thickness of 1/4 of the design wavelength. If lower reflection is required, a layer having a higher refractive index (high refractive index layer) than that of the transparent support may be formed between the substrate and the layer having a low refractive index. In order to reduce the refractive index, an aspect in which an intermediate refractive index layer having a refractive index intermediate between the transparent support and the high refractive index layer is provided on the transparent substrate side of the high refractive index layer is also proposed (Patent Document 1). ).

屈折率の異なる層を複数層形成する場合、塗布工程が多くなることで、生産性が悪い、コストアップなどの問題が生じたり、2層間の密着性が低いと耐擦傷性が悪くなるなどの問題が生じるため、それを解決する手段として、異なる2層を同時に形成する技術が提案されている(特許文献2及び3)。例えば、含フッ素ポリマーと無機微粒子の両方を含む塗布液を一回塗布、硬化することにより、無機微粒子を含有する高屈折率層と含フッ素ポリマーを含む低屈折率層を同時に形成することからなる反射防止膜の製造方法が開示されている(特許文献2)。すなわち、単層一回塗布による二層の塗布層の形成が行われている。しかし、光学フィルムの製造方法において、低い反射率、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、高い生産性、良好な面状等を達成する具体的な提案は未だなされておらず、これらの改善が望まれている。
特開2003−121606号公報 特開2004−317734号公報 特開2004−359930号公報
When forming a plurality of layers having different refractive indexes, problems such as poor productivity and cost increase occur due to an increase in the number of coating processes, and scratch resistance deteriorates when the adhesion between the two layers is low. Since a problem occurs, a technique for simultaneously forming two different layers has been proposed as means for solving the problem (Patent Documents 2 and 3). For example, the coating liquid containing both the fluorine-containing polymer and the inorganic fine particles is applied and cured once, thereby simultaneously forming the high refractive index layer containing the inorganic fine particles and the low refractive index layer containing the fluorine-containing polymer. A method of manufacturing an antireflection film is disclosed (Patent Document 2). That is, two coating layers are formed by single coating once. However, no specific proposal has yet been made to achieve low reflectance, neutral color, high scratch resistance, high productivity, good surface condition, etc. in the optical film manufacturing method. It is desired.
JP 2003-121606 A JP 2004-317734 A JP 2004-359930 A

本発明の目的は、透明支持体上に、少なくとも2層の塗布層を同時に形成する、低コストで、生産性の高い光学フィルムの製造方法の提供にある。
本発明の他の目的は、低い反射率、ムラのない均一な面状、ニュートラルな色味、耐擦傷性の少なくとも一つが優れる光学フィルムの製造方法の提供にある。
さらに、本発明の製造方法で製造された、低い反射率、ムラのない均一な面状、ニュートラルな色味、耐擦傷性の少なくとも一つが優れる光学フィルムを有する画像表示装置の提供にある。
An object of the present invention is to provide a low-cost and high-productivity optical film manufacturing method in which at least two coating layers are simultaneously formed on a transparent support.
Another object of the present invention is to provide a method for producing an optical film that is excellent in at least one of low reflectance, uniform surface without unevenness, neutral color, and scratch resistance.
Furthermore, the present invention provides an image display device having an optical film manufactured by the manufacturing method of the present invention and having at least one of low reflectance, uniform surface shape without unevenness, neutral color tone, and scratch resistance.

上述のように、2種以上の塗布液を同時に塗布した場合、一般には層間混合が起こり特に光学干渉層のような100nmオーダーの厚みを制御し、光学干渉しうる薄い界面を形成させることは非常に困難である。同時多層塗布としては、写真感光材料のように、塗布直後に各層をゲル化させる手段があるが、この場合でも光学干渉しうる界面を形成し得るかは疑問であり、さらに有機溶剤を用いた場合にはゲル化させる液組成の条件のみで非常な制約がかかり、さらに光学フィルムとしての機能を盛り込むことは事実上不可能である。本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
(1)透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布層を最表面から該透明支持体に向かって順番に1、2、…、n―1、n層としたとき、第n層中の溶質の主成分が第n―1層中の溶剤の主成分に不溶又は難溶である光学フィルムの製造方法。
(2)透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布層を最表面から該透明支持体に向かって順番に1、2、…、n−1、n層としたときに、第n−1層中の溶質の主成分が第n層中の溶剤の主成分に易溶である(1)に記載の光学フィルムの製造方法。
(3)透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法。
(4)透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に1相溶液として混和し、かつ該混合溶液中の溶剤を乾燥させて溶剤量が10重量%減少する間に、液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法。
As described above, when two or more kinds of coating liquids are applied at the same time, generally, inter-layer mixing occurs, and it is very difficult to control the thickness of the order of 100 nm, such as an optical interference layer, and to form a thin interface capable of optical interference. It is difficult to. As simultaneous multilayer coating, there is a means to gel each layer immediately after coating, as in photographic photosensitive materials, but even in this case it is doubtful whether an interface capable of optical interference can be formed, and an organic solvent was used. In some cases, there are very restrictions only on the conditions of the liquid composition to be gelled, and it is practically impossible to incorporate a function as an optical film. As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
(1) A step of simultaneously coating and forming at least two coating layers using at least two coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, and a solvent in the at least two coating layers And drying the
When the at least two coating layers are 1, 2,..., N−1, n layers in order from the outermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the nth layer is n−1. A method for producing an optical film which is insoluble or hardly soluble in a main component of a solvent in a layer.
(2) A step of simultaneously coating and forming at least two coating layers using at least two coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, and a solvent in the at least two coating layers And drying the
When the at least two coating layers are 1, 2, ..., n-1, n layers in order from the outermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the n-1 layer is the first. The manufacturing method of the optical film as described in (1) which is easily soluble in the main component of the solvent in n layer.
(3) A step of simultaneously coating and forming at least two coating layers on at least two coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, and a solvent in the at least two coating layers And drying the
The method for producing an optical film, which is a coating liquid that causes liquid-liquid phase separation and separates into two layers when the coating liquid of at least two layers is mixed at the same volume ratio as the coating amount.
(4) A step of simultaneously coating and forming at least two coating layers using at least two coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, and a solvent in the at least two coating layers And drying the
The coating solution of at least two layers is mixed as a one-phase solution when mixed at the same volume ratio as the coating amount, and the solvent amount is reduced by 10% by weight by drying the solvent in the mixed solution. -The manufacturing method of the optical film which is a coating liquid which raise | generates liquid phase separation and isolate | separates into two layers.

(5)前記光学フィルムの最表層に塗工される塗布液が、熱硬化型または電離放射線硬化型の含フッ素化合物を含有する上記(1)〜(4)のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
(6)前記最表層に塗工される塗布液が、さらにシリコーン化合物を含有する上記(5)に記載の光学フィルムの製造方法。
(7)前記含フッ素化合物が、シリコーン構造単位を分子中に有する上記(5)又は(6)に記載の光学フィルムの製造方法。
(8)前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、2官能以上の、重合性モノマーおよび/またはオリゴマーを含有する上記(1)〜(7)のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
(9)前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、平均粒径1.0μm以上の透光性粒子を含有する上記(1)〜(8)のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
(10)前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、平均粒径100nm以下で、かつ屈折率1.9以上である無機酸化微粒子を含有する上記(1)〜(9)のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
(5) The optical film according to any one of (1) to (4), wherein the coating liquid applied to the outermost layer of the optical film contains a thermosetting or ionizing radiation curable fluorine-containing compound. Production method.
(6) The manufacturing method of the optical film as described in said (5) in which the coating liquid applied to the said outermost layer contains a silicone compound further.
(7) The manufacturing method of the optical film as described in said (5) or (6) in which the said fluorine-containing compound has a silicone structural unit in a molecule | numerator.
(8) The above (1) to (7), wherein the coating liquid of at least one layer applied to any layer other than the outermost layer of the optical film contains a bifunctional or higher polymerizable monomer and / or oligomer. ) Any one of the methods for producing an optical film.
(9) The above (1) to (8), wherein at least one coating liquid applied to any layer other than the outermost layer of the optical film contains translucent particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more. ) Any one of the methods for producing an optical film.
(10) The coating liquid of at least one layer applied to any layer other than the outermost layer of the optical film contains inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.9 or more. The manufacturing method of the optical film in any one of said (1)-(9).

(11)前記少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程が、スロットダイとスライド型塗布ヘッドを有する複合コーターで少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程であり、
透明支持体を含むウェブをバックアップローラーで支持して連続走行させながら、スロットダイを使用して前記ウェブ上に下層を塗布するとともに、該スロットダイの先端部近傍に配置したスライド型の塗布ヘッドを使用して該下層上に上層を少なくとも1層塗布する上記(1)〜(10)のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
(12)前記少なくとも2層の塗布層の溶剤を乾燥する工程の後に、熱処理及び/又は電離線照射により塗膜を硬化させる工程を有する上記(1)〜(11)のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
(13)上記(1)〜(12)のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法で製造された光学フィルム。
(14)上記(13)に記載の光学フィルムを有する画像表示装置。
(11) The step of simultaneously coating and forming the at least two coating layers is a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers with a composite coater having a slot die and a slide type coating head.
While supporting a web including a transparent support with a backup roller and continuously running, a lower layer is applied on the web using a slot die, and a slide type coating head disposed near the tip of the slot die is provided. The method for producing an optical film according to any one of (1) to (10), wherein at least one upper layer is applied on the lower layer.
(12) The optical film as described in any one of (1) to (11) above, which has a step of curing the coating film by heat treatment and / or ionizing ray irradiation after the step of drying the solvent of the at least two coating layers. Manufacturing method.
(13) An optical film manufactured by the method for manufacturing an optical film according to any one of (1) to (12).
(14) An image display device having the optical film according to (13).

本発明の製造方法によれば、本発明に特有の物性・特性を有する塗布液を用いることで、少なくとも2層の光学層(例えば、低屈折率層と高屈折率層)を同時に形成できる。即ち、一回の塗布工程で、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成することによって、少なくとも2層の光学層を有する光学フィルムの製造が可能になる。それゆえ、低コストで、生産性の高い製造方法ができる。   According to the production method of the present invention, at least two optical layers (for example, a low-refractive index layer and a high-refractive index layer) can be simultaneously formed by using a coating liquid having physical properties and characteristics peculiar to the present invention. That is, it is possible to produce an optical film having at least two optical layers by simultaneously coating and forming at least two coating layers in a single coating step. Therefore, a low-cost and highly productive manufacturing method can be achieved.

また、本発明の製造方法では、少なくとも2層の塗布層のうち、最表層となる塗布層に低屈折率用塗布液を用いた場合、低い反射率、ムラのない均一な面状、ニュートラルな色味、耐擦傷性の少なくとも一つが優れる光学フィルム(反射防止フィルム、低反射フィルム等)が一回の工程で得られる。特定の条件では、逐次に光学層を形成したものと同様の反射率で、かつムラのない均一ない光学フィルムが一回の工程で得られる。   Further, in the production method of the present invention, when a low refractive index coating liquid is used for the outermost coating layer of at least two coating layers, a low reflectance, a uniform surface with no unevenness, and a neutral An optical film (antireflection film, low reflection film, etc.) excellent in at least one of color and scratch resistance can be obtained in a single step. Under specific conditions, an optical film having the same reflectance as that in which the optical layers are sequentially formed and having no unevenness can be obtained in one step.

さらに、本発明の製造方法で製造された光学フィルムを有する画像表示装置は、低い反射率及び/又はムラのない均一な面状を有する。   Furthermore, the image display device having the optical film manufactured by the manufacturing method of the present invention has a low reflectance and / or a uniform surface without unevenness.

以下に本発明の詳細を説明する。
本発明の第一態様は、透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布層を最表面から該透明支持体に向かって順番に1、2、…、n―1、n層としたとき、第n層中の溶質の主成分が第n―1層中の溶剤の主成分に不溶又は難溶である光学フィルムの製造方法である。
Details of the present invention will be described below.
The first aspect of the present invention includes a step of simultaneously forming and forming at least two coating layers on a transparent support using at least two types of coating solutions containing a solvent and a solute; A step of drying the solvent in the coating layer,
When the at least two coating layers are 1, 2,..., N−1, n layers in order from the outermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the nth layer is n−1. This is a method for producing an optical film that is insoluble or hardly soluble in the main component of the solvent in the layer.

本発明の第一の態様で更に好ましいのは、第n−1層中の溶質の主成分が第n層中の溶剤の主成分に易溶である光学フィルムの製造方法である。   Further preferred in the first aspect of the present invention is a method for producing an optical film in which the main component of the solute in the n-1th layer is readily soluble in the main component of the solvent in the nth layer.

本発明の第二態様は、透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法である。
The second aspect of the present invention comprises a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers on at least two kinds of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support; and A step of drying the solvent in the coating layer,
The at least two-layer coating liquid is a method for producing an optical film which is a coating liquid that undergoes liquid-liquid phase separation and separates into two layers when mixed at the same volume ratio as the coating amount.

本発明の第三態様は、透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に1相溶液として混和し、かつ該混合溶液中の溶剤を乾燥させて溶剤量が10重量%減少する間に、液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法である。
The third aspect of the present invention is the step of simultaneously coating and forming at least two coating layers on at least two kinds of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support; A step of drying the solvent in the coating layer,
The coating solution of at least two layers is mixed as a one-phase solution when mixed at the same volume ratio as the coating amount, and the solvent amount is reduced by 10% by weight by drying the solvent in the mixed solution. -It is a manufacturing method of the optical film which is a coating liquid which raise | generates liquid phase separation and isolate | separates into two layers.

本発明の製造方法では、透明支持体上に、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布、乾燥、硬化することにより、少なくとも2層の光学層を有する光学フィルムが製造できる。少なくとも2層の塗布層により形成される光学層は、特に限定されず、反射防止層、拡散層、アンチグレア層等の光学層が挙げられる。詳細には、ハードコート層、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層等が挙げられる。   In the production method of the present invention, an optical film having at least two optical layers can be produced by simultaneously coating, drying and curing at least two coating layers on a transparent support. The optical layer formed of at least two coating layers is not particularly limited, and examples thereof include optical layers such as an antireflection layer, a diffusion layer, and an antiglare layer. Specifically, a hard coat layer, a low refractive index layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and the like can be given.

例えば、少なくとも2層の塗布層のうち、1層がハードコート層用塗布液で、他の少なくとも1層が低屈折率用塗布液、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液から選ばれる塗布液を用いた場合、低い反射率、ムラのない均一な面状、ニュートラルな色味、耐擦傷性の少なくとも一つが優れる光学フィルム(反射防止フィルム、低反射フィルム等)が一回の工程で得られる。本発明では、一回の塗布工程で、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成することによって、少なくとも2層の光学層を有する光学フィルムの製造が可能になる。そのため、低コストで、生産性の高い製造方法ができる。また、本発明の製造方法は、逐次に光学層を形成することなく、同時に多層の光学層が形成できるという利点を有する。   For example, of at least two coating layers, one layer is a hard coat layer coating solution, and the other at least one layer is a low refractive index coating solution, a medium refractive index layer coating solution, and a high refractive index layer coating solution. An optical film (antireflection film, low reflection film, etc.) that is excellent in at least one of low reflectance, uniform and uniform surface, neutral color, and scratch resistance is used once. It is obtained by the process. In the present invention, it is possible to produce an optical film having at least two optical layers by simultaneously coating and forming at least two coating layers in a single coating step. Therefore, a low-cost and high-productivity manufacturing method can be achieved. Moreover, the manufacturing method of this invention has the advantage that a multilayer optical layer can be formed simultaneously, without forming an optical layer sequentially.

さらに、本発明の製造方法で製造された光学フィルムを有する画像表示装置は、低い反射率及び/又はムラのない均一な面状を有する。   Furthermore, the image display device having the optical film manufactured by the manufacturing method of the present invention has a low reflectance and / or a uniform surface without unevenness.

[各層の溶剤と溶質の関係]
本発明の光学フィルムの製造方法は、複数の塗布液を同時に塗布、乾燥した際に、各層の溶質成分が互いに混合することなく独立に形成され、かつ層間の界面が光学干渉しうる程度に十分に薄く形成することが可能である。最も単純には各層の塗布液や溶質成分が混ざり合わない、すなわち溶け合わない関係にあれば達成できると考えられるが、例えば有機溶剤系溶液と水溶液のように、ただ単純に溶け合わない塗布液同士を塗布しても必ずしも目的の層構造を得ることはできない。具体的には同時塗布した際に隣り合う層間での関係が以下の関係の何れかを満たすことが必要である。
尚、以下の本文中で記述する「溶剤」とは特に説明がない限り、各層塗布液中における揮発成分のうち最大量(重量単位)を占める(主成分)化合物を、「溶質」とは各層塗布液中に溶解する不揮発成分(固形分)のうち最大量(重量単位)を占める(主成分)化合物を意味し、少なくともこれらの化合物が以下の関係を満たす必要がある。
本明細書では、粒子など塗布液中で溶解せず分散状態にある成分は溶質として扱わない。
[Relationship between solvent and solute in each layer]
The method for producing an optical film of the present invention is sufficient so that when a plurality of coating liquids are applied and dried simultaneously, the solute components of each layer are formed independently without being mixed with each other, and the interface between the layers can optically interfere. It is possible to form a thin film. Most simply, the coating solution and solute components of each layer do not mix, that is, it can be achieved if they are in a relationship that does not dissolve, but for example, a coating solution that simply does not mix, such as an organic solvent solution and an aqueous solution. Even if they are applied to each other, the desired layer structure cannot always be obtained. Specifically, it is necessary that the relationship between adjacent layers satisfies any of the following relationships when simultaneously applied.
Unless otherwise specified, the “solvent” described in the following text refers to the (main component) compound occupying the maximum amount (weight unit) of the volatile components in each layer coating solution, and the “solute” refers to each layer. It means a (main component) compound that occupies the maximum amount (weight unit) among the non-volatile components (solid content) dissolved in the coating solution, and at least these compounds must satisfy the following relationship.
In the present specification, components such as particles that are not dissolved in the coating solution and are in a dispersed state are not treated as solutes.

まず、第一態様としては、隣り合う層のうち支持体側に配置される層(下層)の溶質が、表面側に配置される層(上層)の溶剤に不溶または難溶である関係にすることが好ましい。
ここでいう「不溶」とは溶剤に対して1質量%程度の溶質を添加した際に不溶解成分が残る状態であり、「難溶」とは溶剤に対して10質量%程度の溶質を添加した際に不溶解成分が残る状態、もしくは沈殿にならなくとも溶液が明らかに濁った状態になることを意味する。液の観察は、15ccの透明ガラス瓶内に溶液を約10cc満たした状態で黒紙を背景として白色蛍光灯500ルックス下で行った。
同時塗布後、両者塗布液の各成分が拡散、移動するが下層の溶質が上層の溶剤と相溶性が悪いために下層の成分は上層への移動が妨げられ、結果的に上下層の混合を抑制することができる。
First, as the first aspect, the solute of the layer (lower layer) arranged on the support side among the adjacent layers is insoluble or hardly soluble in the solvent of the layer (upper layer) arranged on the surface side. Is preferred.
“Insoluble” as used herein refers to a state in which an insoluble component remains when a solute of about 1% by mass is added to the solvent, and “slightly soluble” means that about 10% by mass of a solute is added to the solvent. This means that insoluble components remain or the solution becomes clearly turbid even without precipitation. The liquid was observed under a white fluorescent lamp of 500 lux with black paper as a background in a state where about 10 cc of the solution was filled in a 15 cc transparent glass bottle.
After simultaneous application, each component of both coating solutions diffuses and moves, but the lower layer solute is not compatible with the upper layer solvent, so the lower layer component is prevented from moving to the upper layer, resulting in mixing the upper and lower layers. Can be suppressed.

この時、上層の溶質と下層の溶剤との関係は層を分離する点では相溶性を悪くさせる方が好ましいが、そのような関係にすると上層が均一な層とならず海島状に形成されてしまう。これは、乾燥時に下層の溶剤が上層を通過する際に、上層の溶質と混合できないため、上層の溶質が凝集し層構造から球状構造へと界面の形状を変化させるためであると考えられる。
さらに、各層の溶質が共に相手層の溶剤と不溶な関係にすると、液界面で互いの溶質が固相として析出し、もはや均一な界面は形成されない状態となる。
ゆえに、更に好ましい態様として上層の溶質は下層の溶剤に易溶な関係であることが好ましい。
「易溶」とは、溶剤に対して20質量%程度の溶質を添加しても、透明な溶液状態であることを意味する。
At this time, the relationship between the upper layer solute and the lower layer solvent is preferable to make the compatibility worse in terms of separating the layers. However, if such a relationship is established, the upper layer is not formed as a uniform layer but is formed in a sea island shape. End up. This is considered to be because when the solvent of the lower layer passes through the upper layer during drying, it cannot be mixed with the solute of the upper layer, so that the solute of the upper layer aggregates and changes the shape of the interface from the layer structure to the spherical structure.
Furthermore, if the solutes of each layer are insoluble in the solvent of the counterpart layer, the solutes of each other are precipitated as a solid phase at the liquid interface, and a uniform interface is no longer formed.
Therefore, as a more preferred embodiment, it is preferable that the upper layer solute is easily soluble in the lower layer solvent.
“Easily soluble” means that even if a solute of about 20% by mass is added to the solvent, it is in a transparent solution state.

第二態様としては、上層、下層の各成分は混合すると速やかに液−液相分離するような塗布液組成とすることが好ましく、具体的には上層、下層の塗布液を塗布量と同じ容積比で混合すると液−液層分離する関係に調製することが好ましい。この場合塗布後互いの成分が拡散すると、塗布界面近傍で直ちに相分離しそれ以上の拡散が抑制される。さらに、相分離した微小液滴は元の層と合一する可能性も高く、均一な液−液界面を維持することが可能である。
厳密には相分離した各相(液滴)には上下層の溶質がある分配比で混合した相となるが、乾燥による濃度上昇につれ純度が高くなる分配比で更なる相分離を繰り返すため、実質上問題にならない均一な光学界面が形成できる。
液−液相分離は、例えば混合溶液を透明な密閉容器に入れ、攪拌後静置し、2相の液体に分離しているかを目視観察することにより確認できる。攪拌直後は懸濁液として見え、液―液相分離か析出なのか判断しづらい場合にも、24時間静置することで、液ー液相分離の場合なら透明な2相の液体に分離する。
As a second aspect, it is preferable that each component of the upper layer and the lower layer has a coating liquid composition that quickly separates liquid-liquid phase when mixed. Specifically, the upper layer and lower layer coating liquids have the same volume as the coating amount. It is preferable to prepare a liquid-liquid layer separation relationship when mixed at a ratio. In this case, if each component diffuses after coating, phase separation immediately occurs in the vicinity of the coating interface, and further diffusion is suppressed. Further, the phase-separated microdroplets are highly likely to merge with the original layer, and a uniform liquid-liquid interface can be maintained.
Strictly speaking, each phase (droplet) that is phase-separated becomes a phase mixed with a certain distribution ratio of solutes in the upper and lower layers, but because further phase separation is repeated with a distribution ratio that increases in purity as the concentration increases due to drying, A uniform optical interface that is not substantially problematic can be formed.
The liquid-liquid phase separation can be confirmed, for example, by placing the mixed solution in a transparent sealed container, leaving it after stirring, and visually observing whether it is separated into a two-phase liquid. Immediately after stirring, it appears as a suspension, and even if it is difficult to determine whether liquid-liquid phase separation or precipitation, it is allowed to stand for 24 hours, and in the case of liquid-liquid phase separation, it is separated into a transparent two-phase liquid. .

第三態様としては、上層、下層の塗布液を塗布量と同じ容積比で混合すると一相溶液として混和するが、その後溶液を濃縮し溶剤を10質量%減少させる間に液−液相分離する関係に調製することが好ましい。特に低屈折率層とハードコート層のように上層と下層の塗布量の差がある場合、または上層溶質と下層溶質の量に差がある場合には第二の関係を満たす塗布組成を見出すことは困難である。その場合、ある程度乾燥が進んだ状態を見据えた第三の関係を満たすことでも良好な層および界面を形成することができる。この条件をみたせば、塗布直後は混合が起こったとしてもその後の乾燥で速やかに液−液層分離が起こり、実質上良好な界面を形成することができる。   As a third aspect, when the upper layer and lower layer coating solutions are mixed at the same volume ratio as the coating amount, they are mixed as a one-phase solution, but then the solution is concentrated and the liquid-liquid phase separation is performed while the solvent is reduced by 10% by mass. Preferably prepared in relation. Find a coating composition that satisfies the second relationship, especially when there is a difference in the coating amount between the upper layer and the lower layer, such as a low refractive index layer and a hard coat layer, or when there is a difference in the amount of the upper layer solute and the lower layer solute. It is difficult. In that case, a satisfactory layer and interface can also be formed by satisfying the third relationship with a view that the drying has progressed to some extent. If these conditions are satisfied, even if mixing occurs immediately after coating, liquid-liquid layer separation occurs promptly by subsequent drying, and a substantially good interface can be formed.

本発明において、上記第一態様である「隣り合う層のうち支持体側に配置される層(下層)の溶質が、表面側に配置される層(上層)の溶剤に不溶または難溶である関係」にするための手段について説明する。
上層の溶剤によって、下層の溶質の設計は異なるが、上層の溶剤がイソプロピルアルコールやアセトンなどのように誘電率が高い(17以上)溶剤の場合には、下層の溶質は極性が低いことが好ましい。極性の低下のためには、無置換の脂肪族又は芳香族の連結基を導入することが好ましい。例えばジペンタエリスリトールをカプロラクトン変性し、末端にアクリレートを修飾した化合物で、平均分子量が1000〜2000の化合物などが好ましい。具体的にはKAYARAD DPCA−60、DPCA−120(日本化薬(株)製)などが挙げられる。また、特開2002−322430号公報の〔0027〕〜〔0028〕のようにエチレン性不飽和基を含有する繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位を含むコポリマーにおいて、低極性のものを用いることも好ましい。
一方、上層の溶媒がジアルキルケトン(MEK,MiBKなど)やアルキル置換芳香族炭化水素(トルエン)のように誘電率が低い(17未満)場合には、下層の溶質は極性が高いことが好ましい。極性の上昇のためには、分子内に水酸基を含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、分子量30000程度のジアセチルセルロースのアセチル化度を変えることで分子の極性を制御することが可能であり、40%程度のアセチル化度でアセトンに可溶でMEKに難溶の重合体を作製することができる。また、特開2002−322430号公報の〔0027〕〜〔0028〕のようにエチレン性不飽和基を含有する繰り返し単位とそれ以外の繰り返し単位を含むコポリマーにおいて、コポリマー成分がアミド類や水酸基を含むような高極性の官能基を有するものを用いることも好ましい。
In the present invention, the first aspect is “a solute of a layer (lower layer) arranged on the support side among adjacent layers is insoluble or hardly soluble in a solvent of a layer (upper layer) arranged on the surface side. Means for achieving the above will be described.
The design of the lower layer solute differs depending on the upper layer solvent, but when the upper layer solvent is a solvent having a high dielectric constant such as isopropyl alcohol or acetone (17 or more), the lower layer solute preferably has a low polarity. . In order to reduce the polarity, it is preferable to introduce an unsubstituted aliphatic or aromatic linking group. For example, a compound in which dipentaerythritol is modified with caprolactone and acrylate is modified at the terminal, and a compound having an average molecular weight of 1000 to 2000 is preferable. Specific examples include KAYARAD DPCA-60 and DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Moreover, it is also preferable to use a low-polarity copolymer in the copolymer containing a repeating unit containing an ethylenically unsaturated group and another repeating unit as in [0027] to [0028] of JP-A-2002-322430. .
On the other hand, when the upper layer solvent has a low dielectric constant (less than 17) such as a dialkyl ketone (MEK, MiBK, etc.) or an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon (toluene), the lower layer solute preferably has a high polarity. In order to increase the polarity, it is preferable to use a compound containing a hydroxyl group in the molecule. For example, it is possible to control the polarity of the molecule by changing the degree of acetylation of diacetylcellulose having a molecular weight of about 30000, and producing a polymer that is soluble in acetone and hardly soluble in MEK with an acetylation degree of about 40%. can do. Moreover, in a copolymer containing a repeating unit containing an ethylenically unsaturated group and a repeating unit other than that as in [0027] to [0028] of JP-A-2002-322430, the copolymer component contains an amide or a hydroxyl group. It is also preferable to use one having such a highly polar functional group.

溶質の極性に加えて溶解性を低下させるためには、分子量を大きくすることが好ましい。分子量は、800以上100000以下が好ましく、1000以上50000以下が好ましい。分子量が低いと上層の溶剤に対する溶解性が良化してしまい、分子量が大きすぎると自層の塗布液を調製する際に溶解できる溶媒が制限される。   In order to reduce the solubility in addition to the polarity of the solute, it is preferable to increase the molecular weight. The molecular weight is preferably from 800 to 100,000, and more preferably from 1,000 to 50,000. If the molecular weight is low, the solubility of the upper layer in the solvent is improved. If the molecular weight is too large, the solvent that can be dissolved when preparing the coating solution for the own layer is limited.

次に、本発明において、上記第二態様である「上層、下層の各成分は混合すると速やかに液−液相分離するような塗布液組成」とするための手段について説明する。
上層と下層の溶質同士の親和性の低下、分子量制御、無機微粒子の併用が有効である。
溶質同士の親和性を低下させるためには、一方の溶質として含フッ素化合物又は含シリコーン化合物を用いることが好ましい。同一分子内にフッ素原子とシリコーンを含むことが更に好ましく、分子量が8000以上のポリマーであることが最も好ましい。
本発明において、好ましく用いることのできるポリマーについては、後述の低屈折率層に用いるポリマーの頁で詳細に説明する。
Next, in the present invention, a means for achieving the above-mentioned second aspect, “a coating liquid composition that allows liquid-liquid phase separation to be quickly performed when the upper layer and lower layer components are mixed” will be described.
It is effective to reduce the affinity between the upper and lower solutes, control the molecular weight, and use inorganic fine particles together.
In order to reduce the affinity between solutes, it is preferable to use a fluorine-containing compound or a silicone-containing compound as one solute. More preferably, the same molecule contains a fluorine atom and silicone, and most preferably a polymer having a molecular weight of 8000 or more.
In the present invention, the polymer that can be preferably used will be described in detail on the polymer page used in the low refractive index layer described later.

また、溶質の分子量の制御が相分離に対して有効である。両層の溶質とも分子量が高い方が溶解性は低下するが、粘度の上昇を伴うため、塗布時に2層の界面での擾乱により強制的に混合が起こってしまった後に再分離するのに時間を要する傾向がある。従って、両層の溶質の分子量の関係には好ましい領域があり、以下表1に示す。   Control of the molecular weight of the solute is effective for phase separation. The higher the molecular weight of the solutes in both layers, the lower the solubility, but with increased viscosity, it takes time to re-separate after forcible mixing due to disturbance at the interface between the two layers during coating. Tend to require. Therefore, there is a preferable region in the relationship between the molecular weights of the solutes of both layers, which are shown in Table 1 below.

Figure 2007293302
Figure 2007293302

表中、●は好ましい組み合わせを、○はより好ましい組み合わせを、◎は最も好ましい組み合わせを表す。   In the table, ● represents a preferred combination, ○ represents a more preferred combination, and ◎ represents the most preferred combination.

また、少なくとも一方の塗布液に酸化物無機微粒子を使用することが相分離の促進に有効である。酸化物無機微粒子が有効に作用する原因については明確でないが、表面に複数の水酸基などの極性の高い部分を有する高分子化合物のように振る舞い、相分離挙動を変えているものと推定される。酸化物無機微粒子は、表面の極性のコントロールのために公知の表面処理をすることができる。酸化物無機粒子の表面処理は、例えば、WO2004/017105号に記載の重合性官能基を有するオルガノシラン化合物及び触媒を用いることができる。また、表面の疎水化のために特開平11−43319号に記載の方法を用いることも好ましい。この目的で使用する酸化物無機微粒の直径は1〜150nmが好ましく、更に好ましくは3〜100nmである。この領域にすることで、微粒子自身の分散安定性に優れ、かつ透明性が高い塗膜が形成できる。   In addition, it is effective for promoting phase separation to use oxide inorganic fine particles in at least one coating solution. The cause of the effective action of the oxide inorganic fine particles is not clear, but it is presumed that it behaves like a polymer compound having a highly polar portion such as a plurality of hydroxyl groups on the surface and changes the phase separation behavior. The oxide inorganic fine particles can be subjected to a known surface treatment for controlling the polarity of the surface. For the surface treatment of the oxide inorganic particles, for example, an organosilane compound having a polymerizable functional group and a catalyst described in WO2004 / 017105 can be used. It is also preferable to use the method described in JP-A No. 11-43319 for hydrophobizing the surface. The diameter of the oxide inorganic fine particles used for this purpose is preferably 1 to 150 nm, more preferably 3 to 100 nm. By setting it as this area | region, the coating film which is excellent in dispersion stability of microparticles | fine-particles itself, and has high transparency can be formed.

[光学フィルムの形成法等]
本発明の2層以上の塗布液を同時に塗布する工程は、カーテンコート法、エクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、スライドコート法、およびこれらの組み合わせ等より選択できる。特にダイコートスロットを1つ以上含むダイコート法およびダイ/スライド複合コート法が好ましいが、特にこの方法に限定されるものではない。
[Method of forming optical film]
The step of simultaneously applying two or more coating solutions of the present invention can be selected from a curtain coating method, an extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), a slide coating method, and combinations thereof. . In particular, a die coating method including one or more die coating slots and a die / slide composite coating method are preferable, but the method is not particularly limited to this method.

本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法(ダイコート法)が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域(20cc/m以下)で好ましく用いることができるスロットダイ/スライド複合コーターについて、以下に説明する。 In order to supply the film of the present invention with high productivity, an extrusion method (die coating method) is preferably used. In particular, a slot die / slide composite coater that can be preferably used in a region with a small wet coating amount (20 cc / m 2 or less) such as a hard coat layer or an antireflection layer will be described below.

[スロットダイ/スライド複合コーターの構成]
以下図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。図1は本発明を実施するために使用可能なスロットダイ/スライド複合コーターの断面図である。図1のコーター10はバックアップロール11に支持されて連続走行する透明支持体を含むウェブ(透明支持体のみからなるウェブでもよいし、透明支持体上に他の光学層が形成されたウェブでもよい)Wに対して、スロットダイ13から下層の塗布液14をビード14aにして塗布する。スロットダイ13の先端部の近傍に(図1ではスロットダイ13の上面)にスライド型の塗布ヘッドが設けられ、上層塗布液54はスライド51を流れることで、その下層を含めウェブW上に同時に2層が塗布され、塗膜14bが形成される。
即ち、透明支持体を含むウェブWをバックアップロール11で支持して連続走行させながら、スロットダイ13を使用して該透明支持体上に下層を塗布するとともに、該スロットダイの先端部の近傍に配置したスライド型の塗布ヘッドを使用して該下層の上に上層を塗布する。図1は、同時に2層形成可能な複合コーターであるが、スライド型の塗布ヘッドを複数個設けることにより、一回の塗布で複数層の塗布層を形成することができる。
[Configuration of slot die / slide composite coater]
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a slot die / slide composite coater that can be used to practice the present invention. The coater 10 in FIG. 1 is a web including a transparent support that is continuously supported by a backup roll 11 (a web made of only a transparent support may be used, or a web in which another optical layer is formed on the transparent support. ) The lower coating liquid 14 is applied to W from the slot die 13 as beads 14a. A slide type coating head is provided in the vicinity of the tip of the slot die 13 (the upper surface of the slot die 13 in FIG. 1), and the upper layer coating liquid 54 flows on the slide 51 so that the lower layer and its lower layer are simultaneously formed on the web W. Two layers are applied to form a coating film 14b.
That is, while the web W including the transparent support is continuously run while being supported by the backup roll 11, the lower layer is applied onto the transparent support using the slot die 13 and in the vicinity of the tip of the slot die. The upper layer is applied on the lower layer using a slide-type application head arranged. FIG. 1 shows a composite coater capable of forming two layers simultaneously. By providing a plurality of slide-type coating heads, a plurality of coating layers can be formed by a single coating.

スロットダイ13の内部にはポケット15、50、スロット16、52が形成されている。ポケット15、50は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット15、50は、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット15、50への塗布液の供給は、スロットダイ13の側面から、あるいはスロット開口部16a、52aとは反対側の面中央から行う。また、ポケット15、50には塗布液が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。   Inside the slot die 13, pockets 15 and 50 and slots 16 and 52 are formed. The pockets 15 and 50 have curved and straight cross sections, and may be, for example, substantially circular or semicircular. The pockets 15 and 50 are liquid reservoir spaces for the coating liquid extended with the cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13, and the length of the effective extension is generally equal to or slightly longer than the coating width. is there. The supply of the coating liquid to the pockets 15 and 50 is performed from the side surface of the slot die 13 or from the center of the surface opposite to the slot openings 16a and 52a. The pockets 15 and 50 are provided with stoppers that prevent the coating liquid from leaking out.

スロット16は、ポケット15からウェブWへの塗布液14の流路であり、ポケット15と同様にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット16のスロット先端における、バックアップロール11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°〜90°が好ましい。   The slot 16 is a flow path of the coating liquid 14 from the pocket 15 to the web W, and has a cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13 similarly to the pocket 15, and the opening 16a located on the web side is generally Using a width regulating plate (not shown), the width is adjusted to be approximately the same as the coating width. The angle between the slot tip of the slot 16 and the tangent in the web running direction of the backup roll 11 is preferably 30 ° to 90 °.

スロット52は、ポケット50からスライド51への塗布液54の流路であり、ポケット15と同様にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部52aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。   The slot 52 is a flow path of the coating liquid 54 from the pocket 50 to the slide 51. Like the pocket 15, the slot 52 has a cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13, and the opening 52a located on the web side is generally Using a width regulating plate (not shown), the width is adjusted to be approximately the same as the coating width.

スロット16の開口部16aが位置するスロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされている。このランド18であって、スロット16に対してウェブWの走行方向の上流側を上流側リップランド18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。   The tip lip 17 of the slot die 13 where the opening 16a of the slot 16 is located is tapered, and the tip is a flat portion 18 called a land. In this land 18, the upstream side in the running direction of the web W with respect to the slot 16 is referred to as an upstream lip land 18 a and the downstream side is referred to as a downstream lip land 18 b.

スライド51はスロットダイ13の上面にあり、ポケット50から塗布液が流れる。スライド51は、一般に、図示しないエッジガイドのようなものを用いて、おおむね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。   The slide 51 is on the upper surface of the slot die 13, and the coating liquid flows from the pocket 50. Generally, the slide 51 is adjusted so as to have a width that is approximately the same as the coating width by using an edge guide (not shown).

スライド面の長さは1.5mm〜50mmの範囲とすることが好ましく、1.5mm〜20mmがより好ましく、2mm〜10mmであることが最も好ましい。スライド面の長さは塗布液の粘度や、使用する溶媒の揮発性のしやすさに応じて、調節することが望ましい。
スライド型塗布ヘッドから流す塗布量は100ml/m以下が好ましく、より好ましくは1〜80ml/m、更に好ましくは2〜50ml/mである。
特に4ml/mより塗布量が少ない場合は、スライド面で液が切れやすいため、5ml/m以上の流量で垂れ流したのち、所定量に調節した方が良い。
The length of the slide surface is preferably in the range of 1.5 mm to 50 mm, more preferably 1.5 mm to 20 mm, and most preferably 2 mm to 10 mm. It is desirable to adjust the length of the slide surface according to the viscosity of the coating solution and the volatility of the solvent used.
The coating amount to flow from the slide type coating head is preferably 100 ml / m 2 or less, more preferably 1~80ml / m 2, more preferably from 2~50ml / m 2.
In particular, when the application amount is less than 4 ml / m 2 , the liquid is easily cut off on the slide surface, so it is better to adjust the flow rate to a predetermined amount after dripping at a flow rate of 5 ml / m 2 or more.

スライド面での塗布液の揮発を防止するために、スライド面全体を覆うカバーをつけることが望ましい。カバー55とスライド51、バックアップロールWを囲む断面積は550mm以下が望ましく、250mm以下がより好ましく、60mm以下であることが最も好ましい。
なおスライド型の塗布ヘッドは公知であり、例えば特開2003−164788号公報に開示されている。
In order to prevent volatilization of the coating liquid on the slide surface, it is desirable to attach a cover that covers the entire slide surface. Cover 55 and sliding 51, the cross-sectional area is 550 mm 2 or less is desirable to surround the backup roll W, more preferably 250 mm 2 or less, and most preferably 60 mm 2 or less.
Note that slide-type coating heads are known and disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-164788.

図2は、スロットダイ13の断面形状を示す図である。図2(B)のスロットダイは一般的なものであり、上流側リップランド31aと下流側リップランド31bのウェブWとの距離は等しい。なお、符号32はポケット、33はスロットを示している。これに対して、(A)のスロットダイでは、下流側リップランド長さILOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が20μm以下の塗布を精度良くおこなうことができる。勿論、本発明では(A)のスロットダイを用いることが好ましい。   FIG. 2 is a view showing a cross-sectional shape of the slot die 13. The slot die in FIG. 2B is a general one, and the distance between the upstream lip land 31a and the web W of the downstream lip land 31b is equal. Reference numeral 32 denotes a pocket, and 33 denotes a slot. On the other hand, in the slot die of (A), the downstream side lip land length ILO is shortened, so that application with a wet film thickness of 20 μm or less can be performed with high accuracy. Of course, in the present invention, it is preferable to use the slot die (A).

上流側リップランド18aのウェブWの走行方向ランド長さIUPは特に限定はされないが、500μm〜1mmの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド18bのウェブWの走行方向ランド長さILOは30μm〜100μmであり、好ましくは30μm〜80μm、さらに好ましくは30μm〜60μmである。下流側リップのランド長さILOが30μm以上であると、先端リップのエッジあるいはランドの欠け、塗膜へのスジの発生が防止される。また、下流側の濡れ線位置の設定が容易になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題が発生しない。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さILOが100μm以下であると、ビードの形成性が良好となり、薄層を良好に塗布することができる。   The running direction land length IUP of the web W of the upstream lip land 18a is not particularly limited, but is preferably used in the range of 500 μm to 1 mm. The run direction land length ILO of the web W of the downstream lip land 18b is 30 μm to 100 μm, preferably 30 μm to 80 μm, and more preferably 30 μm to 60 μm. When the land length ILO of the downstream lip is 30 μm or more, the edge of the tip lip or the chip of the land and the streaks on the coating film are prevented. Further, the setting of the wet line position on the downstream side is facilitated, and the problem that the coating liquid is likely to spread on the downstream side does not occur. It has been conventionally known that this spreading of the coating liquid on the downstream side means non-uniform wetting lines and leads to a problem of causing a defective shape such as a streak on the coating surface. On the other hand, when the land length ILO of the downstream lip is 100 μm or less, the bead formability is good, and a thin layer can be satisfactorily applied.

さらに、下流側リップランド18bは、上流側リップランド18aよりもウェブWに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差(以下、オーバーバイト長さLOと称する)は30μm〜120μmが好ましく、さらに好ましくは30μm〜100μm、もっとも好ましくは30μm〜80μmである。スロットダイ13がオーバーバイト形状のとき、先端リップ17とウェブWの隙間GLとは、下流側リップランド18bとウェブWの隙間を示す。   Further, the downstream lip land 18b has an overbite shape closer to the web W than the upstream lip land 18a. Therefore, the degree of decompression can be lowered, and a bead suitable for thin film coating can be formed. The difference in distance between the downstream lip land 18b and the web W of the upstream lip land 18a (hereinafter referred to as the overbite length LO) is preferably 30 μm to 120 μm, more preferably 30 μm to 100 μm, most preferably 30 μm to 80 μm. It is. When the slot die 13 has an overbite shape, the gap GL between the tip lip 17 and the web W indicates the gap between the downstream lip land 18b and the web W.

また、ウェブWの進行方向側とは反対側に、ビード14aに対して減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー(図示せず)を設置することも可能である。これによりビードの更なる安定化が図れ、例えばバックアップロールの偏心によるウェブと先端リップとの変動などに対しても、ムラのない高精度な塗布が可能となる。   Moreover, it is also possible to install a decompression chamber (not shown) at a position not in contact with the bead 14a on the side opposite to the traveling direction side of the web W so that the decompression can be adjusted with respect to the bead 14a. As a result, the beads can be further stabilized, and, for example, even with respect to fluctuations in the web and the tip lip due to the eccentricity of the backup roll, it is possible to apply with high accuracy without unevenness.

スロットダイ、スライドヘッドは必要に応じて2層以上設置しても構わない。ただし、安定したビードを形成するためにスロットダイは少なくとも1層設けることが好ましい。   Two or more slot dies and slide heads may be installed as necessary. However, it is preferable to provide at least one slot die in order to form a stable bead.

本発明において、2層以上を同時に塗布するためには、乾燥後に必要な層の膜厚に応じて塗布時のウエット塗布量を設定することができるが、上層と下層とのウエット塗布量比[上層/下層]は1/0.5〜1/100が好ましく、1/1〜1/50が更に好ましく、最も好ましくは1/2〜1/30である。前記流量比に加え、下層が上層に対して相対的に高い粘度で、固形分濃度が高く、表面張力が高い方が、塗膜面状が良化し、両層の界面での混合防止に有効である。   In the present invention, in order to apply two or more layers simultaneously, the wet coating amount at the time of coating can be set according to the film thickness of the layer required after drying, but the wet coating amount ratio between the upper layer and the lower layer [ The upper layer / lower layer] is preferably 1 / 0.5 to 1/100, more preferably 1/1 to 1/50, and most preferably 1/2 to 1/30. In addition to the flow ratio, the lower layer has a relatively high viscosity with respect to the upper layer, the solid content concentration is higher, and the surface tension is higher, which improves the coating surface and is effective in preventing mixing at the interface between both layers. It is.

[材質、精度]
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が20μm以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを30〜100μmの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第2817053号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径5μm以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド(以下、WCと称す)などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。WC結晶の平均粒径としては、粒径3μm以下がさらに好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が5μm以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
[Material and accuracy]
The longer the length of the tip lip on the traveling direction side of the web in the web traveling direction, the more disadvantageous it is for bead formation.If this length varies between arbitrary locations in the slot die width direction, It becomes unstable. Therefore, it is preferable that the fluctuation width in the slot die width direction is within 20 μm.
Further, regarding the material of the tip lip of the slot die, if a material such as stainless steel is used, the length of the slot die tip lip in the web running direction is set to 30 to 100 μm as described above. Even within this range, the accuracy of the tip lip cannot be satisfied. Therefore, in order to maintain high processing accuracy, it is important to use a cemented carbide material as described in Japanese Patent No. 2817053. Specifically, at least the tip lip of the slot die is preferably made of a cemented carbide formed by bonding carbide crystals having an average particle size of 5 μm or less. Cemented carbides include carbide crystal particles such as tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) bonded by a bonding metal such as cobalt, and other bonding metals include titanium, tantalum, niobium, and mixed metals thereof. Can also be used. The average particle size of the WC crystal is more preferably 3 μm or less.
In order to realize high-precision coating, the length of the land on the web traveling direction side of the tip lip and the variation in the slot die width direction of the gap with the web are also important factors. It is desirable to achieve a combination of these two factors, that is, straightness within a range in which the fluctuation range of the gap can be suppressed to some extent. Preferably, the straightness of the tip lip and the backup roll is set so that the fluctuation width of the gap in the slot die width direction is 5 μm or less.

[塗布速度]
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、前記塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、該塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。前記ダイコート法を用い、25m/分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。また、塗布時にビード部で塗布液が混合してしまうことを抑制するためには、塗布速度を上げることが好ましく、またビードの安定性を付与するには塗布速度には上限があるため、以下の塗布速度領域が好ましい。すなわち塗布速度は5〜100m/分が好ましく、更に好ましくは10〜80m/分、最も好ましくは20〜60m/分である。
[Application speed]
By achieving the accuracy of the backup roll and the tip lip as described above, the coating method preferably used in the present invention has high film thickness stability during high-speed coating. Furthermore, since the coating method is a pre-weighing method, it is easy to ensure a stable film thickness even during high-speed coating. With respect to a coating solution of a low coating amount, the coating method can be applied at high speed with good film thickness stability. Although application is possible by other application methods, the dip coating method inevitably causes vibration of the application liquid in the liquid receiving tank, and stepped unevenness is likely to occur. In the reverse roll coating method, stepped unevenness is likely to occur due to eccentricity and deflection of the roll related to coating. Moreover, since these coating methods are post-measuring methods, it is difficult to ensure a stable film thickness. From the viewpoint of productivity, it is preferable to apply the die coating method at 25 m / min or more. Further, in order to prevent the coating liquid from being mixed at the bead portion during coating, it is preferable to increase the coating speed, and there is an upper limit to the coating speed to impart bead stability. The coating speed region is preferable. That is, the coating speed is preferably 5 to 100 m / min, more preferably 10 to 80 m / min, and most preferably 20 to 60 m / min.

[乾燥工程]
本発明のフィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開2001−286817号、同2001−314798号、同2003−126768号、同2003−315505号、同2004−34002号の各公報などが挙げられる。
乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。溶剤の蒸発速度が同じ場合には、乾燥の前半は比較的低温であることが、溶質分子や共存する微粒子などの拡散が低減するため塗設された層の界面の混合が抑制されるため好ましい。また、乾燥の後半の温度は、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
[Drying process]
The film of the present invention is preferably applied on a support directly or via another layer and then conveyed by a web to a heated zone to dry the solvent.
Various knowledges can be used as a method for drying the solvent. Specific examples include JP-A Nos. 2001-286817, 2001-314798, 2003-126768, 2003-315505, and 2004-34002.
The temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is preferably a relatively low temperature, and the latter half is preferably a relatively high temperature. When the evaporation rate of the solvent is the same, it is preferable that the first half of the drying is relatively low temperature because mixing of the interface of the coated layer is suppressed in order to reduce diffusion of solute molecules and coexisting fine particles. . Moreover, it is preferable that the temperature of the latter half of drying is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize. For example, some of the commercially available photo radical generators used in combination with ultraviolet curable resins volatilize around several tens of percent within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some acrylate monomers and the like undergo volatilization in warm air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize as described above.

また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
Moreover, the dry wind after apply | coating the coating composition of each layer on a support body has the wind speed of the coating-film surface of 0.1-2 m / sec while the solid content concentration of the said coating composition is 1-50%. It is preferable to be in the range in order to prevent drying unevenness.
Moreover, after apply | coating the coating composition of each layer on a support body, the temperature difference of the conveyance roll which contacts the surface opposite to the coating surface of a support body in a drying zone, and a support body is 0 to 20 degreeC or less. Then, the drying nonuniformity by the heat transfer nonuniformity on a conveyance roll can be prevented, and it is preferable.

[硬化工程]
本発明のフィルムは溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線および/または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
[Curing process]
After drying the solvent, the film of the present invention can be passed through a zone where the coating film is cured by ionizing radiation and / or heat on the web to cure the coating film.
The ionizing radiation species in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of curable composition forming the film. Although it can be selected, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and high energy can be easily obtained.
As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be preferably used.

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。   Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は10mJ/cm以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm〜10000mJ/cmであり、特に好ましくは、50mJ/cm〜2000mJ/cmである。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation.

本発明では、特に、支持体上に積層された少なくとも一層を、電離放射線を照射しかつ電離放射線照射開始から0.5秒以上の間、膜面温度60℃以上に加熱した状態で、酸素濃度10体積%以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。
また電離放射線照射と同時および/または連続して酸素濃度3体積%以下の雰囲気で加熱されることも好ましい。
特に最外層であり、かつ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
In the present invention, in particular, at least one layer laminated on the support is irradiated with ionizing radiation and heated at a film surface temperature of 60 ° C. or more for 0.5 seconds or more from the start of ionizing radiation irradiation, It is preferable to harden by the process of irradiating with ionizing radiation in an atmosphere of 10% by volume or less.
It is also preferable to heat in an atmosphere having an oxygen concentration of 3% by volume or less simultaneously and / or continuously with ionizing radiation irradiation.
In particular, it is preferable that the low refractive index layer which is the outermost layer and has a small film thickness is cured by this method. The curing reaction is accelerated by heat, and a film having excellent physical strength and chemical resistance can be formed.

[形成方法]
本発明では、1回の塗布で透明支持体上に複数の塗布液を同時に塗布、乾燥、硬化し、ハードコート層や反射防止層などの光学層を複数層形成することが好ましい。これにより塗布、乾燥、硬化ゾーンを大幅に減らすことができ、生産性、コストの点で好ましい。また、3層以上の層を形成する場合には、全ての層を同時に塗布できなくとも、本発明の製造方法を用い、2層同時塗布のステーションを連続的に配置することでも十分に設備・生産上のメリットを得ることができる。例えば、透明支持体の上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の4層を形成する場合は、ハードコート層と中屈折率層を同時に形成し、続いて高屈折率層と低屈折率層の表層2層を同時に形成することで、透明支持体を送り出してから巻取りまでの間に、塗布ステーションと乾燥、硬化ゾーンのセットを2個並べるだけでよいことになり、大きな効果がある。
[Formation method]
In the present invention, it is preferable that a plurality of coating liquids are simultaneously coated, dried and cured on a transparent support by a single coating to form a plurality of optical layers such as a hard coat layer and an antireflection layer. Thereby, the coating, drying and curing zones can be greatly reduced, which is preferable in terms of productivity and cost. In addition, when forming three or more layers, even if not all layers can be applied simultaneously, the manufacturing method of the present invention is used, and it is sufficient to install two-layer simultaneous application stations continuously. Production benefits can be obtained. For example, when four layers of a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed on a transparent support, the hard coat layer and the medium refractive index layer are formed simultaneously, By forming the surface layer of the high refractive index layer and the low refractive index layer simultaneously, it is only necessary to arrange two sets of coating stations and drying / curing zones between the time when the transparent support is fed and the time of winding. That is a big effect.

[反射防止フィルムの構成]
本発明の製造方法により形成される光学フィルムは特に限定されず、反射防止フィルム、光拡散フィルム、アンチグレアフィルム等が挙げられるが、本発明の製造方法は特に反射防止フィルムに好適である。
以下、反射防止フィルムの構成例を図面を引用しながら説明する。
[Configuration of antireflection film]
The optical film formed by the production method of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include an antireflection film, a light diffusion film, and an antiglare film. The production method of the present invention is particularly suitable for an antireflection film.
Hereinafter, a configuration example of the antireflection film will be described with reference to the drawings.

図3は、優れた反射防止性能を有する多層反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。透明支持体1、ハードコート性を有する層(以下、ハードコート層)2、中屈折率層3、高屈折率層4、低屈折率層(最外層)5の順序の層構成を有する。透明支持体1、中屈折率層3、高屈折率層4および低屈折率層5は、以下の関係を満足する屈折率を有することが望ましい。
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
図3のような層構成では、特開昭59−50401号公報に記載されているように、中屈折率層が下記数式(I)、高屈折率層が下記数式(II)、低屈折率層が下記数式(III)をそれぞれ満足することがより優れた反射防止性能を有する反射防止フィルムを作製できる点で好ましい。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a layer structure of a multilayer antireflection film having excellent antireflection performance. It has a layer structure in the order of a transparent support 1, a layer having hard coat properties (hereinafter, hard coat layer) 2, a medium refractive index layer 3, a high refractive index layer 4, and a low refractive index layer (outermost layer) 5. The transparent support 1, the medium refractive index layer 3, the high refractive index layer 4, and the low refractive index layer 5 desirably have refractive indexes that satisfy the following relationship.
Refractive index of high refractive index layer> refractive index of medium refractive index layer> refractive index of transparent support> refractive index of low refractive index layer The layer structure as shown in FIG. 3 is described in JP-A-59-50401. As shown in the graph, the intermediate refractive index layer satisfies the following formula (I), the high refractive index layer satisfies the following formula (II), and the low refractive index layer satisfies the following formula (III). It is preferable at the point which can produce the antireflection film which has.

数式(I)
(hλ/4)×0.7<n3d3<(hλ/4)×1.3
Formula (I)
(Hλ / 4) × 0.7 <n3d3 <(hλ / 4) × 1.3

数式(I)中、hは正の整数(一般に1、2または3)であり、n3は中屈折率層の屈折率であり、そして、d3は中屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In formula (I), h is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n3 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer. . λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

数式(II)
(iλ/4)×0.7<n4d4<(iλ/4)×1.3
Formula (II)
(Iλ / 4) × 0.7 <n4d4 <(iλ / 4) × 1.3

数式(II)中、iは正の整数(一般に1、2または3)であり、n4は高屈折率層の屈折率であり、そして、d4は高屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In formula (II), i is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n4 is the refractive index of the high refractive index layer, and d4 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer. . λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

数式(III)
(jλ/4)×0.7<n5d5<(jλ/4)×1.3
Formula (III)
(Jλ / 4) × 0.7 <n5d5 <(jλ / 4) × 1.3

数式(III)中、jは正の奇数(一般に1)であり、n5は低屈折率層の屈折率であり、そして、d5は低屈折率層の層厚(nm)である。λは可視光線の波長(nm)であり、380〜680nmの範囲の値である。   In Formula (III), j is a positive odd number (generally 1), n5 is the refractive index of the low refractive index layer, and d5 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. λ is the wavelength (nm) of visible light, and is a value in the range of 380 to 680 nm.

図3のような層構成では、中屈折率層が下記数式(IV)、高屈折率層が下記数式(V)、低屈折率層が下記数式(VI)をそれぞれ満足することが、特に好ましい。
ここで、λは500nmである。
In the layer configuration as shown in FIG. 3, it is particularly preferable that the middle refractive index layer satisfies the following formula (IV), the high refractive index layer satisfies the following formula (V), and the low refractive index layer satisfies the following formula (VI). .
Here, λ is 500 nm.

数式(IV)
(λ/4)×0.80<n3d3<(λ/4)×1.00
数式(V)
(λ/2)×0.75<n4d4<(λ/2)×0.95
数式(VI)
(λ/4)×0.95<n5d5<(λ/4)×1.05
Formula (IV)
(Λ / 4) × 0.80 <n3d3 <(λ / 4) × 1.00
Formula (V)
(Λ / 2) × 0.75 <n4d4 <(λ / 2) × 0.95
Formula (VI)
(Λ / 4) × 0.95 <n5d5 <(λ / 4) × 1.05

図4は、優れた反射防止性能を有する多層反射防止フィルムの別の層構成を模式的に示す断面図である。透明支持体1、ハードコート層2、低屈折率層(最外層)3の順序の層構成を有する。ハードコート層は表面に微細な凹凸を設け、防眩機能を付与させることも可能である。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another layer configuration of a multilayer antireflection film having excellent antireflection performance. The transparent support 1, the hard coat layer 2, and the low refractive index layer (outermost layer) 3 are arranged in this order. The hard coat layer can be provided with fine irregularities on the surface to impart an antiglare function.

図5は、ハードコート層の表面に微細な凹凸を設ける手段として、ハードコート層中に微粒子を用いた場合の防眩性反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。透明支持体1、防眩ハードコート層2、低屈折率層(最外層)3の順序の層構成を有する。微粒子は透光性であることが好ましい。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the layer structure of an antiglare antireflection film when fine particles are used in the hard coat layer as means for providing fine irregularities on the surface of the hard coat layer. It has a layer structure in the order of a transparent support 1, an antiglare hard coat layer 2, and a low refractive index layer (outermost layer) 3. The fine particles are preferably translucent.

本発明の反射防止フィルムの積分反射率は3%以下が好ましく、1.5%以下がより好ましく、0.5%以下が特に好ましい。鏡面反射率は、表面凹凸のない光沢フィルムでは積分反射率とほぼ同等の値を示し、好ましい範囲も同じである。表面に凹凸を形成した防眩姓フィルムは、鏡面反射率を効果的に減じる事ができ、黒のしまり、白ちゃけ現象など他の支障がない範囲で、上記のより好ましい方向に調整する事も出来る。
低反射率を得る場合は、屈折率の異なる層を積層するため、屈折率と膜厚を調整しないと色味が強く、品質上で問題が起きる可能性がある。本発明の反射防止フィルムの色味は|a|≦10、|b|≦10が好ましく、|a|≦7、|b|≦7が特に好ましい、|a|≦5、|b|≦5が更に好ましく、|a|≦4、|b|≦4が特に好ましい。
The integrated reflectance of the antireflection film of the present invention is preferably 3% or less, more preferably 1.5% or less, and particularly preferably 0.5% or less. The specular reflectance shows a value almost equal to the integrated reflectance in a glossy film having no surface irregularities, and the preferred range is also the same. An anti-glare film with irregularities on the surface can effectively reduce the specular reflectivity and adjust it in the above preferred direction as long as there are no other problems such as blackening and whitening. You can also.
In order to obtain a low reflectance, layers having different refractive indexes are laminated. Therefore, if the refractive index and the film thickness are not adjusted, the color is strong, and there may be a problem in quality. The color of the antireflection film of the present invention is preferably | a * | ≦ 10, | b * | ≦ 10, particularly preferably | a * | ≦ 7, | b * | ≦ 7, | a * | ≦ 5, | B * | ≦ 5 is more preferable, and | a * | ≦ 4 and | b * | ≦ 4 are particularly preferable.

[透明支持体]
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム等が使用できる。
支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜200μmであり、30μm〜150μmであることがより好ましく、30〜90μmであることがさらに好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることがさらに好ましい。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることがさらに好ましい。
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテンが含まれる。トリアセチルセルロース、およびポリオレフィンがレターデーションが小さく、光学的均一性も高いため、偏光板用途として好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
[Transparent support]
The support for the film of the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, and transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, and the like can be used.
Although the thickness of a support body can use the thing of about 25 micrometers-1000 micrometers normally, Preferably it is 25 micrometers-200 micrometers, It is more preferable that it is 30 micrometers-150 micrometers, It is further more preferable that it is 30-90 micrometers.
Any width of the support can be used, but from the viewpoint of handling, yield, and productivity, a width of 100 to 5000 mm is usually used, preferably 800 to 3000 mm, and preferably 1000 to 2000 mm. More preferably.
The surface of the support is preferably smooth, and the average roughness Ra is preferably 1 μm or less, preferably 0.0001 to 0.5 μm, and 0.001 to 0.1 μm. Is more preferable.
The transparent support is preferably a plastic film. Examples of the plastic film include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose) and polyolefins (eg, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, triacetylcellulose, Polyolefin is preferable for polarizing plates because of its low retardation and high optical uniformity, and triacetyl cellulose is particularly preferable when used for liquid crystal display devices.

[樹脂組成物]
本発明では各層の成分として反応性モノマー、反応性オリゴマー等の樹脂組成物を用いることができる。樹脂組成物は電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることができる。すなわち、樹脂組成物は電離放射線硬化性のモノマーやオリゴマーを含む塗布組成物であり、透明支持体上に塗布し、反応性のモノマーやオリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより層を形成することができる。
電離放射線硬化性の反応性モノマーやオリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
特に、最外層以外の層形成に重合性モノマーおよび/またはオリゴマーを用いることが好ましい。最外層以外の層形成に用いられる重合性モノマーやオリゴマーとしては、一分子中に2個以上の官能基を有する多官能モノマー、多官能オリゴマーであることが、膜強度や密着性を向上させる点で好ましい。
一層中に含まれる反応性モノマーは2種以上を併用しても構わない。その場合少なくとも1種は多官能モノマーであることが好ましい。
[Resin composition]
In the present invention, a resin composition such as a reactive monomer or a reactive oligomer can be used as a component of each layer. The resin composition can be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, the resin composition is a coating composition containing an ionizing radiation curable monomer or oligomer, and is formed on a transparent support by coating the reactive monomer or oligomer with a crosslinking reaction or a polymerization reaction. can do.
The functional group of the ionizing radiation curable reactive monomer or oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.
In particular, it is preferable to use a polymerizable monomer and / or oligomer for forming a layer other than the outermost layer. The polymerizable monomer or oligomer used for forming a layer other than the outermost layer is a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer having two or more functional groups in one molecule, which improves film strength and adhesion. Is preferable.
Two or more kinds of reactive monomers contained in one layer may be used in combination. In this case, at least one kind is preferably a polyfunctional monomer.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
As a specific example of a photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group,
(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane ;
Etc.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate , Tripentaerythritol hexatriacrylate and the like. In the present specification, “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid”, and “(meth) acryloyl” represent “acrylate or methacrylate”, “acrylic acid or methacrylic acid”, and “acryloyl or methacryloyl”, respectively. .

モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開2005−76005号、同2005−36105号に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
As the monomer binder, monomers having different refractive indexes can be used to control the refractive index of each layer. Examples of particularly high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like.
Further, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.

光重合性モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.
Examples of the photo radical polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones.

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX-S,BP-100,BDMK,CTX,BMS,2-EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,500,907,369,1173,2959,4265,4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等が挙げられる。   As a commercially available photo radical polymerization initiator, Kayacure (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. MCA, etc.), Irgacure (651, 184, 500, 907, 369, 1173, 2959, 4265, 4263, etc.) manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046) manufactured by Sartomer , KT37, KIP150, TZT) and the like.

特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が挙げられる。
In particular, photocleavable photoradical polymerization initiators are preferred. The photocleavable photoradical polymerization initiator is described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takashiro, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991).
Examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Geigy Japan.

光重合開始剤は、モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
光重合反応は、塗布層の塗布形成および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Examples of commercially available photosensitizers include Kayacure (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after the coating layer is formed and dried.

[塗布溶剤]
本発明の各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、前述の隣り合う溶質との溶解性や相分離の関係を満たすことを前提とし、その他に塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃を超える溶剤を少量含有することが好ましい。
[Coating solvent]
The solvent used in the coating composition for forming each layer of the present invention is based on the premise that each component can be dissolved or dispersed and that the above-mentioned relationship with solubility and phase separation with adjacent solutes is satisfied. In addition, various solvents selected from the viewpoints of being easy to form a uniform surface in the coating process and the drying process, ensuring liquid storage stability, having an appropriate saturated vapor pressure, and the like can be used.
Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or less at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of solvent having a boiling point exceeding 100 ° C. is included for adjusting the drying speed.

沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ether) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

沸点が100℃を超える溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。   Examples of the solvent having a boiling point exceeding 100 ° C. include octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), chlorobenzene (131.7 ° C.), Dioxane (101.3 ° C.), dibutyl ether (142.4 ° C.), isobutyl acetate (118 ° C.), cyclohexanone (155.7 ° C.), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C.), Examples thereof include 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

以下、本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムを構成する層について説明する。
[ハードコート層]
本発明のフィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは透明支持体の一方の面にハードコート層が設けられる。
Hereinafter, the layer which comprises the optical film of this invention, especially an antireflection film is demonstrated.
[Hard coat layer]
In order to give the physical strength of the film to the film of the present invention, a hard coat layer is preferably provided on one surface of the transparent support.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜1.75の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.49〜1.65であり、更に好ましくは1.50〜1.55である。本発明では、ハードコート層の屈折率は反射率、色味、ムラ、コストの点から、この範囲により大きくても、小さくても好ましくない。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 1.75, more preferably 1.49 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .65, and more preferably 1.50 to 1.55. In the present invention, the refractive index of the hard coat layer is unfavorable whether it is larger or smaller than this range from the viewpoint of reflectance, color, unevenness and cost.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜30μm、さらに好ましくは2μm〜20μm、最も好ましくは3μm〜15μmである。ハードコート層が厚すぎると、カール、生産性、コストの点から好ましくない。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に好ましくは5H以上である。
さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film, the thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 30 μm, more preferably 2 μm. ˜20 μm, most preferably 3 μm to 15 μm. If the hard coat layer is too thick, it is not preferable from the viewpoint of curling, productivity and cost.
Further, the strength of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test. More preferably, it is 5H or more.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、前記の電離放射線硬化性のモノマーやオリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、反応性モノマーや反応性オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の反応性モノマーや反応性オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it can be formed by coating a coating composition containing the above-mentioned ionizing radiation-curable monomer or oligomer on a transparent support and causing the reactive monomer or reactive oligomer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction.
The functional group of the ionizing radiation-curable reactive monomer or reactive oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable functional group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

ハードコート層には、内部散乱性付与、防眩性付与の目的で、平均粒径が1.0〜20.0μm、好ましくは1.5〜15.0μm、更に好ましくは、1.5〜10μmの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。透光性粒子の含有量はハードコート層の前固形分中の0〜66wt%が好ましく。1〜50wt%がより好ましく、更に好ましくは3〜30%である。
透光性粒子の平均粒径は、粒子の電子顕微鏡写真をコールターカウンター法により測定し算出することができる。
The hard coat layer has an average particle size of 1.0 to 20.0 μm, preferably 1.5 to 15.0 μm, more preferably 1.5 to 10 μm for the purpose of imparting internal scattering properties and antiglare properties. The light-transmitting particles, for example, inorganic compound particles or resin particles may be contained. The content of the translucent particles is preferably 0 to 66 wt% in the previous solid content of the hard coat layer. 1 to 50 wt% is more preferable, and 3 to 30% is more preferable.
The average particle diameter of the translucent particles can be calculated by measuring an electron micrograph of the particles by a Coulter counter method.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率または低屈折率モノマーまたは無機微粒子、或いは両者を加えることができる。無機微粒子としては特に制限はないが、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウムなどの1種以上が主成分の無機微粒子が好ましく用いることができる。無機微粒子の平均粒径は100nm以下が望ましく、1〜80nmがより望ましく、2〜50nmが更に望ましく、特に望ましくは5〜30nmである。粒径が大きすぎるとヘイズが大きくなり、粒径が小さすぎると凝集し易い、分散が難しいなどの問題がある。無機微粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記モノマーおよび/又はオリゴマー等が重合して生成した重合体、また、無機微粒子を含有する場合は、その中に分散された無機微粒子を含んでバインダーと称する。
無機微粒子の平均粒径はコールカウンター法により測定できる。
In order to control the refractive index of the hard coat layer, a high refractive index or low refractive index monomer, inorganic fine particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer. The inorganic fine particles are not particularly limited, but inorganic fine particles mainly composed of one or more of silicon dioxide, aluminum oxide, zirconia oxide, titanium oxide, zinc oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide and the like can be preferably used. . The average particle size of the inorganic fine particles is desirably 100 nm or less, more desirably 1 to 80 nm, still more desirably 2 to 50 nm, and particularly desirably 5 to 30 nm. If the particle size is too large, the haze increases, and if the particle size is too small, the particles easily aggregate and are difficult to disperse. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic fine particles also have an effect of suppressing curing shrinkage due to a crosslinking reaction. In the present invention, after the hard coat layer is formed, a polymer produced by polymerizing the monomer and / or oligomer, and when containing inorganic fine particles, the binder contains inorganic fine particles dispersed therein. Called.
The average particle size of the inorganic fine particles can be measured by a coal counter method.

ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズ(全ヘイズ値から内部ヘイズ値を引いた値。内部ヘイズ値はフィルム表面の凹凸をフィルム表面と同じ屈折率の物質により無くすことで測定可能である。)が0.3%〜20%であることが好ましく、0.4%〜10%であることがより好ましい。更に好ましくは0.6%〜5%である。
本発明の反射防止フィルムは、表面の反射率を抑えることで高い反射防止性能を有するため、画像の鮮明性を維持し、明室での白ボケを抑制するために、ハードコート層の防眩機能を付与しないで用いることも、良好な画質を得る面からは好ましい。
The haze of the hard coat layer varies depending on the function imparted to the antireflection film.
In addition to the function of suppressing the reflectance of the surface, when the anti-glare function is imparted by the surface scattering of the hard coat layer, the surface haze (the value obtained by subtracting the internal haze value from the total haze value. The internal haze value is the film surface). Is preferably 0.3% to 20%, and more preferably 0.4% to 10%. More preferably, it is 0.6% to 5%.
Since the antireflection film of the present invention has high antireflection performance by suppressing the reflectance of the surface, the antiglare of the hard coat layer is maintained in order to maintain the sharpness of the image and suppress white blur in a bright room. It is also preferable to use without adding a function from the viewpoint of obtaining good image quality.

また、ハードコート層に透光性粒子を含有して内部散乱を付与する場合、内部ヘイズは目的により好ましい範囲が異なるが、内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値は10%〜90%であることが好ましく、特に好ましくは15%〜80%であり、更に好ましくは20%〜70%である。最も好ましいのは20〜40%である。一方、正面コントラストを重視する場合は、0%〜30%が好ましく、更に好ましくは1%〜20%であり、最も好ましくは1%〜10%である。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
In addition, when the hard coat layer contains translucent particles to give internal scattering, the preferred range of internal haze varies depending on the purpose, but due to internal scattering, liquid crystal panel patterns, color unevenness, luminance unevenness, glare, etc. are observed. When making it difficult or providing the function of expanding the viewing angle by scattering, the internal haze value is preferably 10% to 90%, particularly preferably 15% to 80%, and more preferably 20% to 70%. Most preferred is 20 to 40%. On the other hand, when importance is attached to the front contrast, 0% to 30% is preferable, more preferably 1% to 20%, and most preferably 1% to 10%.
The film of the present invention can freely set surface haze and internal haze according to the purpose.

また、ハードコート層の表面凹凸形状については、中心線平均粗さ(Ra)を0.30μm以下とすることが好ましい。Raは、より好ましくは0.01〜0.20μmであり、更に好ましくは0.02〜0.12μm以下である。Raが大きいと表面散乱起因の白ボケ感が出たり、ハードコート層上に形成する層の均一性が得づらいなどの問題がある。平均山谷間距離(Sm)は20〜200μmが好ましく。より好ましくは40〜160μmで、更に好ましくは50〜130μmである。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。   Moreover, about the surface uneven | corrugated shape of a hard-coat layer, it is preferable that centerline average roughness (Ra) shall be 0.30 micrometer or less. Ra is more preferably 0.01 to 0.20 μm, and further preferably 0.02 to 0.12 μm or less. When Ra is large, there are problems such as white blurring caused by surface scattering and uniformity of the layer formed on the hard coat layer. The average mountain-valley distance (Sm) is preferably 20 to 200 μm. More preferably, it is 40-160 micrometers, More preferably, it is 50-130 micrometers. In the film of the present invention, the surface unevenness of the hard coat layer is dominant to the surface unevenness of the film, and the center line average roughness of the antireflection film is adjusted by adjusting the center line average roughness of the hard coat layer. It can be set as the said range.

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。反射防止フィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは70%以上であり、更に好ましくは80%以上である。   In order to maintain the sharpness of the image, it is preferable to adjust the clarity of the transmitted image in addition to adjusting the uneven shape of the surface. The transmitted image definition of the antireflection film is preferably 60% or more. The transmitted image clarity is generally an index indicating the degree of blurring of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. The transmitted image definition is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.

[高屈折率層、中屈折率層]
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
[High refractive index layer, medium refractive index layer]
The film of the present invention can be provided with a high refractive index layer and a medium refractive index layer to enhance antireflection properties.
In the following specification, the high refractive index layer and the medium refractive index layer may be collectively referred to as a high refractive index layer. In the present invention, “high”, “medium”, and “low” in the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the low refractive index layer represent the relative refractive index relationship between the layers. In terms of the relationship with the transparent support, the refractive index preferably satisfies the relationship of transparent support> low refractive index layer, high refractive index layer> transparent support.
In the present specification, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer may be collectively referred to as an antireflection layer.

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.20であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.00、更に好ましくは、1.65〜1.90、最も好ましくは1.70〜1.85である。高屈折率層の屈折率は高いほど反射率は低減しやすいが、色味が強くなったり、高屈折率層中の無機微粒子の量が多くなることで、層がもろくなる、ヘイズが大きくなるなどの問題があり、本発明では、以上の範囲に調整することが好ましい。   In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.20, more preferably It is 1.60 to 2.00, more preferably 1.65 to 1.90, and most preferably 1.70 to 1.85. The higher the refractive index of the high refractive index layer, the easier it is to reduce the reflectance. However, the color becomes stronger and the amount of inorganic fine particles in the high refractive index layer increases, so that the layer becomes brittle and haze increases. In the present invention, it is preferable to adjust to the above range.

支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55乃至1.80であることが好ましく、低屈折率層及び/又は高屈折率層との屈折率差は0.08以上が好ましく、0.10以上が特に好ましい。   When an antireflection film is formed by coating a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in order from the support, the refractive index of the medium refractive index layer is higher than the refractive index of the low refractive index layer. It adjusts so that it may become a value between the refractive indexes of a refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80, and the refractive index difference between the low refractive index layer and / or the high refractive index layer is preferably 0.08 or more, and 0.10 or more. Is particularly preferred.

本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層のバインダー(例えば、電離放射線硬化性のモノマーやオリゴマーなどであり、ハードコート層の項で説明したもの等が使用できる)には、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率無機微粒子を加えることが好ましい。高屈折率無機微粒子としては特に制限はないが、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウムなどの1種以上が主成分の無機微粒子が好ましく用いることができる。特に好ましくは、酸化ジルコニウム(屈折率:略2.2)または酸化チタン(屈折率:略2.5)を主成分とする無機微粒子である。無機微粒子の屈折率としては1.9以上が好ましく、2.0以上が特に好ましい。無機微粒子の平均粒径は100nm以下が望ましく、1〜80nmがより望ましく、2〜50nmが更に望ましく、特に望ましくは5〜30nmである。粒径が大きすぎるとヘイズが大きくなり、粒径が小さすぎると凝集し易く、分散が難しいなどの問題がある。   For the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer used in the present invention (for example, the ionizing radiation-curable monomer or oligomer, and those described in the section of the hard coat layer can be used), the hard coat layer For the purpose of controlling the refractive index, it is preferable to add high refractive index inorganic fine particles. The high refractive index inorganic fine particles are not particularly limited, but inorganic fine particles mainly composed of one or more of aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide and the like can be preferably used. . Particularly preferred are inorganic fine particles mainly composed of zirconium oxide (refractive index: approximately 2.2) or titanium oxide (refractive index: approximately 2.5). The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.9 or more, particularly preferably 2.0 or more. The average particle size of the inorganic fine particles is desirably 100 nm or less, more desirably 1 to 80 nm, still more desirably 2 to 50 nm, and particularly desirably 5 to 30 nm. If the particle size is too large, the haze increases, and if the particle size is too small, the particles tend to aggregate and are difficult to disperse.

高屈折率層および中屈折率層に用いる無機微粒子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形成に使用することが好ましい。本発明で使用する無機粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。   The inorganic fine particles used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer are preferably used for forming the high refractive index layer and the medium refractive index layer in a dispersion state. Inorganic particles used in the present invention are dispersed in a dispersion liquid or coating liquid, or are used in plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion, or to improve affinity and binding properties with a binder component. A physical surface treatment, a chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent or the like may be performed.

さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性のモノマーやオリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
Furthermore, it is preferable to cause the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction with the dispersant simultaneously with or after the coating of the layer.
The binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer thus prepared includes, for example, the above-mentioned preferable dispersant and an ionizing radiation curable monomer or oligomer cross-linked or polymerized, and the binder is an anion of the dispersant. It becomes a form in which a sex group is incorporated. Furthermore, the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a function in which the anionic group maintains the dispersion state of the inorganic particles, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains inorganic particles. To improve the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and medium refractive index layer.

高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、5〜80質量%添加する。   The binder of the high refractive index layer is added in an amount of 5 to 80% by mass based on the solid content of the coating composition of the layer.

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは30〜75質量%である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
The content of inorganic particles in the high refractive index layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, and particularly preferably 30 to 75% by mass with respect to the mass of the high refractive index layer. . Two or more inorganic particles may be used in combination in the high refractive index layer.
The high refractive index layer contains an ionizing radiation curable compound containing an aromatic ring, an ionizing radiation curable compound containing a halogenated element other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), and atoms such as S, N, P, etc. A binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as an ionizing radiation curable compound can also be preferably used.

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。   The film thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When using a high refractive index layer as an optical interference layer described later, the thickness is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, and particularly preferably 60 to 150 nm.

高屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。
The haze of the high refractive index layer is preferably as low as possible. It is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
The high refractive index layer is preferably constructed directly on the transparent support or via another layer.

[低屈折率層]
反射率を低減するため、本発明の反射防止フィルムの最表層には低屈折率層を用いる必要がある。
[Low refractive index layer]
In order to reduce the reflectance, it is necessary to use a low refractive index layer as the outermost layer of the antireflection film of the present invention.

低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。低屈折率層形成後の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に好ましくは5H以上である。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90度以上であることが好ましい。更に好ましくは95度以上であり、特に好ましくは100度以上である。低屈折率層表面の動摩擦係数0.03〜0.30であるのが好ましい。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.46.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The strength after forming the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test under a 500 g load. More preferably, it is 5H or more.
In order to improve the antifouling performance of the optical film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 degrees or more. More preferably, it is 95 degrees or more, and particularly preferably 100 degrees or more. The dynamic friction coefficient of the surface of the low refractive index layer is preferably 0.03 to 0.30.

低屈折率層を形成する組成物には、樹脂成分としては熱硬化型または電離放射線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマーいずれも用いることができるが、(A)熱硬化型または電離放射線硬化型の含フッ素化合物(含フッ素ポリマー、含フッ素ゾルゲル素材など)を用いることが特に好ましい。また(B)無機粒子及び/又は(C)オルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましいが、(A)〜(C)の3種全てを含有することが特に好ましい。   In the composition for forming the low refractive index layer, any of thermosetting or ionizing radiation curable monomers, oligomers and polymers can be used as the resin component. (A) Thermosetting type or ionizing radiation curable type It is particularly preferable to use a fluorine-containing compound (fluorine-containing polymer, fluorine-containing sol-gel material, etc.). Moreover, although it is preferable to contain (B) inorganic particle and / or (C) organosilane compound, it is especially preferable to contain all three types (A) to (C).

含フッ素化合物としては防汚性、耐久性の観点から、シリコーン構造単位を分子中に有しているものも好ましい。
含フッ素化合物は層の皮膜形成成分として、低屈折率層塗布溶液に30質量%〜90質量%含まれることが好ましく、30質量%〜70質量%が含まれることがさらに好ましい。
As the fluorine-containing compound, those having a silicone structural unit in the molecule are preferred from the viewpoint of antifouling properties and durability.
The fluorine-containing compound is preferably contained in the low refractive index layer coating solution in an amount of 30% by mass to 90% by mass, and more preferably 30% by mass to 70% by mass, as a film forming component of the layer.

本発明では、低屈折率層用のバインダーとして、耐薬品性、生産性の観点から含フッ素ポリマーを好ましく用いる。含フッ素ポリマーとしては、熱硬化型、電離放射線硬化型のいずれも用いることができる。本発明では高屈折率層と低屈折率層を同時に形成することが好ましい。高屈折率層成分との親和性、結合性を高め、反射防止フィルムの耐擦傷性を高めるためには、含フッ素ポリマーは電離放射線硬化型であることが特に好ましい。熱硬化型を用いる場合は、熱硬化型、電離放射線硬化型の両方の架橋性基を有するバインダー成分を同時に用いることが好ましい。   In the present invention, a fluorine-containing polymer is preferably used as a binder for the low refractive index layer from the viewpoint of chemical resistance and productivity. As the fluorine-containing polymer, either a thermosetting type or an ionizing radiation curable type can be used. In the present invention, it is preferable to form the high refractive index layer and the low refractive index layer simultaneously. In order to increase the affinity and binding properties with the high refractive index layer component and to improve the scratch resistance of the antireflection film, the fluoropolymer is particularly preferably an ionizing radiation curable type. When using a thermosetting type, it is preferable to use simultaneously the binder component which has both a thermosetting type and ionizing-radiation-curable type crosslinkable group.

以下架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物について好ましい態様を説明する。
架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性または重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
Hereinafter, preferred embodiments of the fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group will be described.
Examples of the fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group include a copolymer of a fluorine-containing monomer and a monomer having a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) (meta ) Acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like.

架橋性基付与のためのモノマーとしては、1つの態様としては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーを挙げることができる。又別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い含フッ素共重合体を合成後、さらにそれら置換基を修飾して架橋性若しくは重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。後者の態様は特開平10−25388号公報および特開平10−147739号公報により開示されている。   As an example of the monomer for imparting a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate can be exemplified. In another embodiment, after synthesizing a fluorinated copolymer using a monomer having a functional group such as a hydroxyl group, the monomer is further modified to introduce a crosslinkable or polymerizable functional group by modifying the substituent. It is. These monomers include (meth) acrylate monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.) Is mentioned. The latter embodiment is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 10-25388 and 10-147739.

上記含フッ素共重合体には、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーンを導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。
主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平6−93100号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド(市販のものではVPS-0501、1001(商品名;ワコー純薬工業(株)社製))等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。また、側鎖に導入する方法は、例えばJ.Appl.Polym.Sci.2000,78,1955、特開昭56−28219号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン(例えばサイラプレーンシリーズ(チッソ株式会社製)など)を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。
The fluorine-containing copolymer may contain a copolymerizable component as appropriate from the viewpoints of solubility, dispersibility, coating property, antifouling property, antistatic property and the like. In particular, for imparting antifouling properties and slipperiness, it is preferable to introduce silicone, and it can be introduced into both the main chain and the side chain.
The polysiloxane partial structure introduction method to the main chain is, for example, an azo group-containing polysiloxane amide described in JP-A-6-93100 (VPS-0501, 1001 (trade name; Wako Pure Chemical Industries, Ltd. And a method using a polymer-type initiator such as a company)). Further, the method of introducing into the side chain is, for example, as described in J. Appl. Polym. Sci. 2000, 78, 1955, JP-A-56-28219, etc. For example, a silaplane series (manufactured by Chisso Corporation) can be synthesized by a method of introducing a polymer reaction or a method of polymerizing a polysiloxane-containing silicon macromer, and both methods can be preferably used.

上記のポリマーに対しては特開2000−17028号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開2002−145952号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開2004−170901号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に(メタ)アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。
これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
As described in JP 2000-17028 A, a curing agent having a polymerizable unsaturated group may be used in combination with the above polymer. Moreover, combined use with the compound which has a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-145952 is also preferable. Examples of the compound having a polyfunctional polymerizable unsaturated group include the above-described monomers having two or more ethylenically unsaturated groups. Moreover, the hydrolysis-condensation product of the organosilane described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-170901 is also preferable, and the hydrolysis-condensation product of the organosilane containing a (meth) acryloyl group is especially preferable.
These compounds are particularly preferred because they have a large combined effect for improving scratch resistance, particularly when a compound having a polymerizable unsaturated group is used in the polymer body.

ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。   When the polymer itself does not have sufficient curability, necessary curability can be imparted by blending a crosslinkable compound. For example, when the polymer body contains a hydroxyl group, various amino compounds are preferably used as the curing agent. The amino compound used as the crosslinkable compound is, for example, a compound containing one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group in total, specifically, for example, a melamine compound, Examples include urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like. For curing these compounds, an organic acid or a salt thereof is preferably used.

これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開2003−222702号公報、特開2003−183322号公報等に記載されている。   Specific examples of these fluoropolymers are described in JP2003-222702A, JP2003-183322A, and the like.

[防汚剤]
本発明のフィルム、特にフィルムの最上層には防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。
これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜7質量%の場合である。防汚剤は含フッ素化合物の分子中に構造単位として含んで用いることも好ましい。
[Anti-fouling agent]
For the purpose of imparting antifouling properties, water resistance, chemical resistance, slipperiness, etc., to the film of the present invention, particularly the uppermost layer of the film, a known silicone-based or fluorine-based antifouling agent, slipping agent, etc. It is preferable to add appropriately.
When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. The case is particularly preferably 0.1 to 7% by mass. The antifouling agent is also preferably used as a structural unit in the molecule of the fluorine-containing compound.

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、3000〜30000であることが特に好ましく、10000〜20000であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221 (以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 3000-30000, It is most preferable that it is 10,000-20000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0. Most preferably, it is mass%. Examples of preferable silicone compounds include X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -22-1821 (named above), Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, FM-4421, FM-5521, FM6621, FM-1121, Gelest DMS-U22, RMS-033, RMS- 083, UMS-182, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141, FMS221 (named above) are not limited to these.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CFCF,−CH(CFH,−CH(CFCF,−CHCH(CFH等)であっても、分岐構造(例えばCH(CF,CHCF(CF,CH(CH)CFCF,CH(CH)(CFCFH等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えばCHOCHCFCF,CHCHOCHH,CHCHOCHCH17,CHCHOCFCFOCFCFH等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。 As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.), alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl group, perfluorocyclopentyl, etc. Group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond (for example, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 C 8 F 17 , CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H , etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.

フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   It is preferable that the fluorine-based compound further has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the low refractive index layer film. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Examples of preferred fluorine-based compounds include Daikin Chemical Industries, Ltd., R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (named above), Dainippon Ink Co., Ltd., Megafac F-171. , F-172, F-179A, and defender MCF-300 (named above), but are not limited thereto.

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。   For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic properties, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass. Examples of preferred compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., MegaFace F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

[低屈折率粒子]
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの10%以上150%以下が好ましく、より好ましくは15%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は10nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは15nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
ここで、無機粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
[Low refractive index particles]
The inorganic particles contained in the low refractive index layer desirably have a low refractive index, and examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 10% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 15% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 10 nm or more and 150 nm or less, more preferably 15 nm or more and 80 nm or less, and further preferably 40 nm or more and 60 nm or less.
Here, the average particle diameter of the inorganic particles is measured by a Coulter counter.

シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。   If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”.
Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

低屈折率粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。 The coating amount of the low refractive index particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated.

[中空シリカ粒子]
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
[Hollow silica particles]
For the purpose of further reducing the refractive index, it is preferable to use hollow silica fine particles.

中空のシリカ微粒子は屈折率が1.15〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最も好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(VIII)で表される空隙率xは
(数式VIII)
x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.15未満の低屈折率の粒子は好ましくない。
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x expressed by the following formula (VIII) is (formula VIII)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably it is 10-60%, More preferably, it is 20-60%, Most preferably, it is 30-60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.15. Rate particles are not preferred.

中空シリカの製造方法は、例えば特開2001−233611や特開2002−79616に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開2002−79616に記載の方法で算出することができる。   A method for producing hollow silica is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616. In particular, particles having cavities inside the shell and having fine pores in the shell are particularly preferred. The refractive index of these hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A-2002-79616.

中空シリカの塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上100nm以下、更に好ましくは、40nm以上65nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、20〜300m/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m/g、最も好ましくは40〜90m/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることが出来る。
The coating amount of the hollow silica is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of lowering the refractive index and the effect of improving the scratch resistance will be reduced.
The average particle diameter of the hollow silica is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and still more preferably 40 nm to 65 nm.
If the particle size of the silica particles is too small, the proportion of cavities will decrease and a decrease in refractive index cannot be expected. Getting worse. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Further, two or more kinds of hollow silica having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica can be determined from an electron micrograph.
The specific surface area of the hollow silica in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be obtained by the BET method using nitrogen.

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上100nm以下、最も好ましくは40nm以上80nm以下である。   In the present invention, silica particles having no voids can be used in combination with hollow silica. The preferred particle size of silica without voids is 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and most preferably 40 nm to 80 nm.

[偏光板用保護フィルム]
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合は、偏光板を作成するにあたり、反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フイルム(偏光板用保護フイルム)として用いるために、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが必須である。
[Protective film for polarizing plate]
When the antireflection film of the present invention is used in a liquid crystal display device, a low refractive index layer is provided in order to use the antireflection film as a surface protective film for a polarizing film (protective film for a polarizing plate) in preparing a polarizing plate. It is essential to improve the adhesion to the polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component by hydrophilizing the surface of the transparent support opposite to the side, that is, the surface to be bonded to the polarizing film.

透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、(1)予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層(例、ハードコート層、中屈折率層、表層2層など)を塗設する手法、(2)透明支持体の一方の面に上記の各層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法、の2つが考えられるが、(1)はハードコートを塗設するべき面まで親水化されるため、支持体とハードコート層との密着性の確保が困難となるため、(2)の手法が好ましい。
As the transparent support, it is particularly preferable to use a triacetyl cellulose film.
As a method for producing a protective film for polarizing plate in the present invention, (1) each of the above-mentioned layers (eg, hard coat layer, medium refractive index layer, two surface layers, etc.) on one surface of a previously saponified transparent support. There are two methods: (2) a method of coating each layer on one side of the transparent support, and then a saponification treatment on the side to be bonded to the polarizing film. Since the surface to which the coat is to be applied is hydrophilized, it is difficult to ensure the adhesion between the support and the hard coat layer, so the method (2) is preferred.

[鹸化処理]
(1)浸漬法
アルカリ液の中に反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フイルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/lであり、特に好ましくは1〜2mol/lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜70℃、特に好ましくは40〜60℃である。
上記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
[Saponification]
(1) Immersion method This is a technique in which an antireflection film is immersed in an alkaline solution under appropriate conditions to saponify all surfaces that are reactive with alkali on the entire surface of the film, requiring no special equipment. Therefore, it is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / l, particularly preferably 1 to 2 mol / l. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-70 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the above saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set according to the material and configuration of the antireflection film and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に低屈折率層を有する表面までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止層の受けるダメージの指標として、反射防止構造層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち反射防止フィルムの貼り合わせ面の、水に対する接触角を用いた場合、特に支持体がトリアセチルセルロースであれば、20度〜50度、好ましくは30度〜50度、より好ましくは40度〜50度を上記接触角とするのが好ましい。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、20度未満では、反射防止膜の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度、耐光性を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the surface having the antireflection layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the low refractive index layer, the better from the viewpoint of adhesion to the polarizing film, while the dipping method simultaneously reduces the low refractive index. Since the surface having the rate layer is damaged by alkali, it is important to set the reaction conditions to the minimum necessary. As an index of the damage received by the antireflection layer due to alkali, particularly when the surface of the transparent support opposite to the side having the antireflection structure layer, that is, the bonding angle of the antireflection film, the contact angle with water is used. When the support is triacetylcellulose, the contact angle is preferably 20 to 50 degrees, preferably 30 to 50 degrees, more preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, there is a problem in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if the angle is less than 20 degrees, the damage received by the antireflection film is too large, and physical strength and light resistance are impaired.

(2)アルカリ液塗布法
上述の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、この時、反射防止フィルムの貼り合わせ面の水に対する接触角が、10〜50度となるように鹸化処理を行なうことが好ましい。また、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾルーゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
(2) Alkaline liquid application method As a means for avoiding damage to the antireflection film in the above-described immersion method, the alkaline liquid is applied only on the surface opposite to the surface having the antireflection film under appropriate conditions, heated, washed with water, A drying alkaline solution coating method is preferably used. The application in this case means that an alkali solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and at this time, the contact angle with respect to water of the bonded surface of the antireflection film is 10 to 50 degrees. It is preferable to perform a saponification treatment. In addition to the application, it may include spraying, contact with a belt containing liquid, or the like. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (1) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, peeling, etc. caused by alkali solution, so it is not desirable to use the immersion method, but this coating method does not contact the solution and should be used without problems. Is possible.

上記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods (1) and (2) above, since each layer can be formed by unwinding from a roll-shaped support, a series of operations can be performed in addition to the above-described antireflection film production process. You can go. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

[画像表示装置]
本発明の光学フィルムや該光学フィルムを具備する偏光板は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)、電界放出ディスプレイ(FED)、表面電界ディスプレイ(SED)のような様々な画像表示装置に用いることができる。例えば、画像表示装置は、画像制御部と画像表示部(画像表示パネル)とを少なくとも有し、低屈折率層が視認側になるように配置されていることが好ましい。また、本発明の光学フィルムが反射防止フィルムである場合、該反射防止フィルムを有する偏光板を、液晶表示装置の液晶セルのガラスに直接または他の層を介して接着して用いることができる。
[Image display device]
The optical film of the present invention and the polarizing plate comprising the optical film are a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode tube display (CRT), a field emission display (FED). ), And various image display devices such as a surface electric field display (SED). For example, the image display device preferably includes at least an image control unit and an image display unit (image display panel), and is disposed so that the low refractive index layer is on the viewing side. Further, when the optical film of the present invention is an antireflection film, a polarizing plate having the antireflection film can be used by directly adhering to a glass of a liquid crystal cell of a liquid crystal display device or via another layer.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお特別の断りの無い限り「部」及び「%」は質量基準である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

(パーフルオロオレフィン共重合体(P1)の合成)
電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量1リットルのセパラブルフラスコに、水酸基含有含フッ素重合体(特開平11−189621公報実施例1に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー、数平均分子量35000)を50.0g、重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチルメチルフェノール0.01g及びメチルエチルルケトン(MEK)370gを仕込み、20℃で溶解した。次いで、この系に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを3.0gを添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート0.1gを添加して反応を開始し、系の温度を55〜65℃に保持し5時間攪拌を継続することにより、水酸基の約30%がメタクリレート化したパーフルオロオレフィン共重合体(P1)のMEK溶液を得た。
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (P1))
In a 1-liter separable flask equipped with a magnetic stirrer, a glass cooling tube, and a thermometer, a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer (fluorinated silicone-containing thermosetting polymer described in Example 1 of JP-A-11-189621) 50.0 g of average molecular weight 35000), 0.01 g of 2,6-di-t-butylmethylphenol and 370 g of methyl ethyl ketone (MEK) as a polymerization inhibitor were charged and dissolved at 20 ° C. Next, 3.0 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added to this system and stirred until the solution became homogeneous, then 0.1 g of dibutyltin dilaurate was added to start the reaction, and the temperature of the system was changed to 55. By maintaining the temperature at ˜65 ° C. and continuing stirring for 5 hours, a MEK solution of a perfluoroolefin copolymer (P1) in which about 30% of the hydroxyl groups were methacrylated was obtained.

(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3質量部を加え混合したのち、イオン交換水30質量部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of sol solution a)
Add a stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts by mass of methyl ethyl ketone, part by mass of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate After mixing, 30 parts by mass of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(分散液Aの調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616号公報の調製例4に準じサイズを変更して作成)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30質量部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5質量部を加え混合した後に、イオン交換水を9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加した。この分散液にシリカの含量がほぼ一定となるようにメチルイソブチルケトンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。最後にメチルイソブチルケトンで固形分濃度を30質量%に調整し分散液Aを得た。分散液に異物の発生はなかった。得られた分散液Aのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
(Preparation of dispersion A)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20 mass%, silica particle refractive index 1.31, change size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616. Prepared) 30 parts by mass of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1.5 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added to and mixed with 500 parts by mass. Part by weight was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature and added 1.8 mass parts of acetylacetone. While adding methyl isobutyl ketone so that the silica content was almost constant, the solvent was replaced by vacuum distillation at a pressure of 20 kPa. Finally, the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone to obtain dispersion A. There was no generation of foreign matter in the dispersion. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

[実施例1]
(反射防止フィルムの作製)
[Example 1]
(Preparation of antireflection film)

(ハードコート層用塗布液HC−Aの調整)
変成ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPCA−120、日本化薬(株)製)36質量部を、7.0質量部のメチルエチルケトンと30.5質量部のメチルイソブチルケトンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.5質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、25質量部のMIBK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiOゾルのメチルイソブチルケトン分散物、日産化学(株)製)を添加し、撹拌して混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液HC−Aを調製した。
(Adjustment of hard coat layer coating solution HC-A)
36 parts by mass of modified dipentaerythritol hexaacrylate (DPCA-120, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 7.0 parts by mass of methyl ethyl ketone and 30.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone. After adding 1.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) to the resulting solution and stirring until dissolved, 25 parts by mass of MIBK-ST (average particle size of 10 to 20 nm, solid content) 30 mass% SiO 2 sol methyl isobutyl ketone dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to obtain a mixture, which was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore size of 3 μm and hard-coated. A layer coating solution HC-A was prepared.

(中屈折率層用塗布液MAの調整)
市販ジルコニア含有UV硬化型ハードコート液(デソライトZ7404、JSR(株)製)、固形分濃度約61%、溶媒メチルイソブチルケトン、固形分中ZrO含率約70%、重合性モノマー、重合開始剤含有)49.2質量部にジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)40質量部を加え、固形分濃度が3.5重量%になるようにメチルイソブチルケトン(MiBK)とイソプロパノール(IPA)を加え、10分間攪拌した。MiBKとIPAの比は1:1.5(質量比)となるように調製した。前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して中屈折率層用塗布液MAを調製した。
この塗布液より形成される層の屈折率は1.60であった。
(Adjustment of coating liquid MA for medium refractive index layer)
Commercially available zirconia-containing UV curable hard coat solution (Desolite Z7404, manufactured by JSR Corporation), solid content concentration of about 61%, solvent methyl isobutyl ketone, ZrO 2 content in solid content of about 70%, polymerizable monomer, polymerization initiator Contained) 49.2 parts by mass of 40 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) so that the solid content concentration is 3.5% by weight To the mixture, methyl isobutyl ketone (MiBK) and isopropanol (IPA) were added and stirred for 10 minutes. The ratio of MiBK to IPA was adjusted to 1: 1.5 (mass ratio). The mixed solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a coating solution MA for a medium refractive index layer.
The refractive index of the layer formed from this coating solution was 1.60.

(高屈折率用塗布液HAの調整)
市販ジルコニア含有UV硬化型ハードコート液(デソライトZ7404、JSR(株)製、固形分濃度約61%、溶媒メチルイソブチルケトン、固形分中ZrO含率約70%、重合性モノマー、重合開始剤含有)に、固形分濃度3.0%になるようにメチルイソブチルケトン(MiBK)とイソプロパノール(IPA)を加え、10分間攪拌した。MiBKとIPAの比は1:2(質量比)となるように調製した。
前記混合液を孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過して高屈折率用塗布液HAを調製した。
この塗布液より形成される層の屈折率は1.72であった。
(Adjustment of coating liquid HA for high refractive index)
Commercially available zirconia-containing UV curable hard coat solution (Desolite Z7404, manufactured by JSR Corporation, solid content concentration of about 61%, solvent methyl isobutyl ketone, ZrO 2 content of solid content of about 70%, polymerizable monomer, polymerization initiator included ) Were added with methyl isobutyl ketone (MiBK) and isopropanol (IPA) to a solid content concentration of 3.0% and stirred for 10 minutes. The ratio of MiBK to IPA was adjusted to 1: 2 (mass ratio).
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) having a pore diameter of 3 μm to prepare a coating solution HA for high refractive index.
The refractive index of the layer formed from this coating solution was 1.72.

(低屈折率層用塗布液LAの調整)
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)283質量部、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)の30質量部、前記ゾル液a10質量部を混合し、減圧蒸留下で溶剤をIPAに置換したのち、固形分濃度を2.2質量%に調整した。攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液LAを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(Adjustment of coating solution LA for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and hydroxyl group (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) 283 parts by mass, colloidal silica dispersion MEK-ST-L (trade name) , 30 parts by mass of an average particle diameter of 45 nm, solid content concentration of 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by mass of the sol solution a, and after substituting the solvent with IPA under reduced pressure distillation, It adjusted to 2.2 mass%. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution LA. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.45.

(同時重層による反射防止フィルムの作成)
以下の手順にて実施例1の反射防止フィルムを作成した。80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フィルム(株)製、屈折率:1.48)に、スロットダイ1層とスライド3層の複合コーターを用いて、上記のハードコート層用塗布液HC−A、中屈折率層用塗布液MA、高屈折率用塗布液HA、低屈折率用塗布液LAをそれぞれ乾燥後の膜厚が13μm、65nm、120nm、90nmとなるようにウェット塗布量を適宜調整し、30m/分の速度でウェブを搬送しながら塗布を行い、続いて100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し塗布層を硬化させ、さらに110℃で10分熱硬化処理を行い、反射防止フィルムを作成した。紫外線照射には線出力160W/cmのメタルハライドランプを用いた。
(Preparation of antireflection film by simultaneous layering)
The antireflection film of Example 1 was prepared by the following procedure. Using a composite coater consisting of one slot die layer and three slide layers on a triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index: 1.48) having a thickness of 80 μm, the above hard coat layer Coating liquid HC-A, medium refractive index layer coating liquid MA, high refractive index coating liquid HA, and low refractive index coating liquid LA so that the film thickness after drying is 13 μm, 65 nm, 120 nm, and 90 nm, respectively. The wet coating amount was adjusted as appropriate, coating was performed while the web was conveyed at a speed of 30 m / min, and then dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with UV rays of 500 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration is 0.05% by volume, the coating layer is cured, and further heat-cured at 110 ° C. for 10 minutes to produce an antireflection film. did. A metal halide lamp with a linear output of 160 W / cm was used for ultraviolet irradiation.

[比較例1]
以下の手順にて比較例1の反射防止フィルム(逐次に層を形成する方法に相当)を作成した。80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フィルム(株)製、屈折率:1.47)に、上記のハードコート層用塗布液HC−Aを、スロットルダイコーターを用いて塗布し、100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.1体積%にした条件下で紫外線を70mJ/cm照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層(屈折率:1.51、膜厚:13μm)を形成した。
続いて、上記の中屈折率層用塗布液MAをスロットルダイコーターを用いて塗布し、100℃で乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.1体積%にした条件下で紫外線を200mJ/cm照射して、塗布層を硬化させ、中屈折率層(膜厚:65nm)を設けた。
続いて、上記の高屈折率層用塗布液HAをスロットルダイコーターを用いて塗布し、100℃で乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.1体積%にした条件下で紫外線を200mJ/cm照射して、塗布層を硬化させ、高屈折率層(膜厚:120nm)を設けた。
続いて、上記の低屈折率層用塗布液LAをスロットルダイコーターを用いて塗布し、100℃で乾燥した後、窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し、更に110℃で10分加熱し、塗布層を硬化させ、低屈折率層(屈折率:1.45、膜厚:90nm)を設けた。
[Comparative Example 1]
The antireflection film of Comparative Example 1 (corresponding to a method of sequentially forming layers) was prepared by the following procedure. Apply the above hard coat layer coating solution HC-A to a 80 μm thick triacetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index: 1.47) using a throttle die coater. And dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with ultraviolet rays of 70 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration was 0.1% by volume, the coating layer was cured, and a hard coat layer (refractive index: 1.51, film thickness: 13 μm). ) Was formed.
Subsequently, the medium refractive index layer coating solution MA was applied using a throttle die coater, dried at 100 ° C., purged with nitrogen, and irradiated with ultraviolet rays at a concentration of 0.1% by volume of 200 mJ of ultraviolet rays. / Cm 2 was applied to cure the coating layer, and a medium refractive index layer (film thickness: 65 nm) was provided.
Subsequently, the coating liquid HA for the high refractive index layer is applied using a throttle die coater, dried at 100 ° C., purged with nitrogen, and irradiated with 200 mJ of ultraviolet rays under a condition where the oxygen concentration is 0.1 vol%. / Cm 2 was applied to cure the coating layer, and a high refractive index layer (film thickness: 120 nm) was provided.
Subsequently, the coating liquid LA for the low refractive index layer is applied using a throttle die coater, dried at 100 ° C., purged with nitrogen, and irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ under a condition where the oxygen concentration is 0.05% by volume. / Cm 2 irradiation and further heating at 110 ° C. for 10 minutes to cure the coating layer, and a low refractive index layer (refractive index: 1.45, film thickness: 90 nm) was provided.

[比較例2]
上記の中屈折率層用塗布液MA、高屈折率用塗布液HA、低屈折率用塗布液LAの溶剤として使用したIPAをMEKに置き換えた中屈折率層用塗布液MB、高屈折率用塗布液MB、低屈折率用塗布液LBを使用した以外はすべて実施例1と同様に処理して同時重層により反射防止フィルムを作成した。
[Comparative Example 2]
Medium refractive index layer coating liquid MB, in which IPA used as a solvent for the above medium refractive index layer coating liquid MA, high refractive index coating liquid HA, and low refractive index coating liquid LA is replaced with MEK, for high refractive index An antireflection film was prepared by simultaneous multilayering in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid MB and the low refractive index coating liquid LB were used.

[実施例2〜5、比較例3〜4]
ハードコート層用塗布液HC−A、および低屈折率層用塗布液LAの溶質組成を用い、表2に示したとおりの溶剤種および溶液濃度に主溶剤で調製した各塗布液を使用し、スロットダイ1層とスライド1層の複合コーターを用いて、上記のハードコート層用塗布液HC−A、低屈折率用塗布液LAをそれぞれ乾燥後の膜厚が13μm、90nmとなるようにウェット塗布量を適宜調整し、30m/分の速度でウェブを搬送しながら塗布を行い、続いて100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し塗布層を硬化させ、さらに110℃で10分熱硬化処理を行い、低反射フィルムを作成した。
[Examples 2-5, Comparative Examples 3-4]
Using the solute composition of the coating liquid HC-A for hard coat layer and the coating liquid LA for low refractive index layer, using each coating liquid prepared with the main solvent in the solvent type and solution concentration as shown in Table 2, Using a hard coat layer coating liquid HC-A and a low refractive index coating liquid LA using a composite coater with one slot die layer and one slide layer, the film thickness after drying is 13 μm and 90 nm, respectively. The coating amount was adjusted as appropriate, coating was performed while the web was conveyed at a speed of 30 m / min, and then dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with UV rays of 500 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration is 0.05% by volume, the coating layer is cured, and further heat-cured at 110 ° C. for 10 minutes to produce a low reflection film. did.

(ハードコート層用塗布液HC−Cの調整)
変成ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPCA−120、日本化薬(株)製)42質量部を、7.0質量部のMEKと42質量部のMiBKの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)1.5質量部と同(イルガキュア184、チバガイギー社製)1.5質量部を加え、溶解するまで攪拌したのち、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液HC−Cを調製した。
(Adjustment of hard coat layer coating solution HC-C)
42 parts by mass of modified dipentaerythritol hexaacrylate (DPCA-120, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 7.0 parts by mass of MEK and 42 parts by mass of MiBK. To the obtained solution, 1.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 1.5 parts by mass (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) were added, stirred until dissolved, and a pore size of 3 μm. A hard coat layer coating solution HC-C was prepared by filtration through a polypropylene filter (PPE-03).

(低屈折率層用塗布液LCの調整)
パーフルオロオレフィン重合体(P1)62質量部(固形分)、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)の108質量部、前記ゾル液a14.5質量部を混合し、MEKで固形分濃度が2.2質量%に調整した。攪拌溶解の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液LCを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.43であった。
(Adjustment of coating liquid LC for low refractive index layer)
108 parts by mass of perfluoroolefin polymer (P1) 62 parts by mass (solid content), colloidal silica dispersion MEK-ST-L (trade name, average particle size 45 nm, solids concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) And 14.5 parts by mass of the sol liquid a were mixed, and the solid content concentration was adjusted to 2.2% by mass with MEK. After stirring and dissolving, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating liquid LC. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.43.

(低屈折率層用塗布液LDの調整)
パーフルオロオレフィン重合体(P1)66質量部(固形分)、中空シリカ微粒子ゾル分散液(分散液A)96質量部、前記ゾル液a14.5質量部を混MEKに溶解し、固形分濃度が2.2質量%に調整した。攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液LDを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.39であった。
(Adjustment of coating liquid LD for low refractive index layer)
66 parts by mass (solid content) of perfluoroolefin polymer (P1), 96 parts by mass of hollow silica fine particle sol dispersion (dispersion A), and 14.5 parts by mass of the sol liquid a were dissolved in mixed MEK. It adjusted to 2.2 mass%. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution LD. The refractive index of the layer formed by this coating solution was 1.39.

(低屈折率層用塗布液LEの調整)
熱架橋性含フッ素ポリマー(特開平11−189621公報実施例1に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー、数平均分子量35000)13.6質量部、硬化剤(サイメル303;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)3.40質量部、硬化触媒(キャタリスト4050;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)0.33質量部をIPA400質量部に溶解し、更に、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)の30質量部、前記ゾル液a10質量部を混合し、減圧蒸留下で溶剤をIPAに置換したのち、固形分濃度を2.2質量%に調整した。攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液LEを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.44であった。
(Adjustment of coating liquid LE for low refractive index layer)
13.6 parts by mass of thermally crosslinkable fluorine-containing polymer (fluorinated silicone-containing thermosetting polymer described in Example 1 of JP-A-11-189621, number average molecular weight 35000), curing agent (Cymel 303; trade name, Nippon Cytec Industries, Ltd.) Co., Ltd.) 3.40 parts by mass, curing catalyst (Catalyst 4050; trade name, manufactured by Nippon Cytec Industries, Inc.) 0.33 parts by mass in IPA 400 parts by mass, and colloidal silica dispersion MEK- 30 parts by mass of ST-L (trade name, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by mass of the sol solution a were mixed, and the solvent was replaced with IPA under reduced pressure distillation. After that, the solid content concentration was adjusted to 2.2% by mass. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution LE. The refractive index of the layer formed by this coating solution was 1.44.

(低屈折率層用塗布液LFの調整)
パーフルオロオレフィン共重合体(P1)10質量部(固形分)をMEKで希釈して2.2質量%に調整した。攪拌溶解の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液LFを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.43であった。
(Adjustment of coating solution LF for low refractive index layer)
10 parts by mass (solid content) of the perfluoroolefin copolymer (P1) was diluted with MEK and adjusted to 2.2% by mass. After stirring and dissolving, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution LF. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.43.

[実施例6]
上記のハードコート層用塗布液HC−C、低屈折率用塗布液LCをそれぞれ乾燥後の膜厚が11μm、90nmとなるようにウェット塗布量を適宜調整し、30m/分の速度でウェブを搬送しながら塗布を行い、続いて100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し塗布層を硬化させ、低反射フィルムを作成した。
[Example 6]
Adjust the wet coating amount appropriately so that the film thickness after drying the coating liquid HC-C for hard coat layer and the coating liquid LC for low refractive index is 11 μm and 90 nm, respectively, and the web is applied at a speed of 30 m / min. Application was carried out while transporting, followed by drying at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 under a condition where the oxygen concentration was 0.05% by volume, the coating layer was cured to prepare a low reflection film.

[実施例7]
低屈折率用塗布液LCを低屈折率用塗布液LDに変えた以外は実施例6と同様な手法にて低反射防止フィルムを作成した。
[Example 7]
A low antireflective film was prepared in the same manner as in Example 6 except that the low refractive index coating liquid LC was changed to the low refractive index coating liquid LD.

[実施例8]
ハードコート層用塗布液HC−Cの調整において、粒径6μmの透光性PMMA粒子(MX−600、綜研化学(株)製)を4.23質量部加えた以外は、ハードコート層用塗布液HC−Cと同様にして、ハードコート用塗布液HC−Dを調整した。透光性粒子の添加は、45質量%MiBK分散液で行い、ハードコート層用塗布液中の透光性粒子を除く固形分濃度が45質量%になるように調整した。
実施例6において、ハードコート層用塗布液HC−Cの代わりにハードコート用塗布液HC−Dを用いた以外は実施例6と同様に処理を行い、防眩性低反射フィルムを作成した。
[Example 8]
Hard coat layer coating except that in the preparation of the hard coat layer coating solution HC-C, 4.23 parts by mass of translucent PMMA particles (MX-600, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 6 μm were added. The coating liquid HC-D for hard coat was prepared in the same manner as the liquid HC-C. The translucent particles were added with a 45% by mass MiBK dispersion, and the solid content concentration excluding the translucent particles in the hard coat layer coating solution was adjusted to 45% by mass.
In Example 6, an anti-glare low-reflection film was prepared in the same manner as in Example 6 except that the hard coat coating solution HC-D was used instead of the hard coat layer coating solution HC-C.

(反射防止フィルムの評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を表2にまとめる。
(1)反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで着色処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計V−550(日本分光(株)製)にて5°鏡面反射率、および積分反射率を測定した。
(2)塗布面状
塗布方向に長さ30cmに切り出したフィルムの裏面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで着色処理し、裏面反射をなくした状態で、目視にて面状の観察を行った。干渉色や反射率のムラや層混合による白濁状の散乱の優劣を以下に示す指標に従って評価した。
◎:全面に渡り光学的に均一で、正反射以外の方向では透明感のある黒色として見える。
○:透明感が悪く、僅かに白濁して見える。
△:一見して反射光が白濁して見える。所々程度が違ってムラ状に見える。
×:明らかに白濁して見え、面内でも強いムラ状に見える。
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated. The results are summarized in Table 2.
(1) Reflectance The surface of the back of the film was roughened with sandpaper, then colored with black ink, and with no back reflection, 5 ° with a spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation). Specular reflectance and integral reflectance were measured.
(2) Coating surface shape The surface of the film cut out to a length of 30 cm in the coating direction was roughened with sandpaper, then colored with black ink, and the surface was observed visually with no back reflection. went. The superiority or inferiority of the scattering of white turbidity due to interference color and reflectance unevenness or layer mixing was evaluated according to the following indicators.
(Double-circle): It is optically uniform over the whole surface, and it looks as transparent black in directions other than regular reflection.
○: The transparency is poor, and it appears slightly cloudy.
Δ: Reflected light appears cloudy at first glance. It looks uneven in some places.
X: Appears to be clouded clearly and appears to be strongly uneven even in the surface.

実施例1は積分反射率が1.4%であり良好な反射防止性能を示した。実施例1は第1層のハードコート層の溶質の主成分(DPCA−120)がその上層の第2層の溶剤の主成分(IPA)に難溶な関係、すなわち請求項1の条件を満たしている。比較例1は、積分反射率は1.5%で良好な性能といえるが、それぞれの層を個別に塗布しているため、各層の塗布むらに起因して部分的に色味の違う面状となった。比較例2は、白濁や強い色ムラが全面に生じ、光学フィルムとはいい難い面状となり、反射率測定も不可能であった。比較例2は各層の溶質の主成分が隣り合う層の溶剤に可溶な関係にあり、激しく層間混合を起こしたものと考えられる。   In Example 1, the integrated reflectance was 1.4%, which showed good antireflection performance. In Example 1, the solute main component (DPCA-120) of the hard coat layer of the first layer is insoluble in the main component (IPA) of the solvent of the second layer, that is, the condition of claim 1 is satisfied. ing. Comparative Example 1 can be said to have good performance with an integrated reflectance of 1.5%. However, since each layer is applied individually, the surface is partially different in color due to uneven application of each layer. It was. In Comparative Example 2, white turbidity and strong color unevenness occurred on the entire surface, resulting in a surface shape that was difficult to be called an optical film, and reflectance measurement was impossible. In Comparative Example 2, the main component of the solute of each layer is soluble in the solvent of the adjacent layer, and it is considered that the interlayer mixing was vigorously caused.

実施例2〜7及び比較例3〜4の2層構成の低反射フィルムの結果を表2に示す。実施例2及び3のフィルムは下層の溶質であるモノマー素材が上層の溶剤であるIPAに難溶であり、かつ上層の溶質であるフッ素ポリマーは下層の溶剤であるMiBKに易溶であり、すなわち請求項1および2の関係を満たしており、界面混合が起こらず良好な反射率性能が得られた。比較例3は上層の溶質が下層の溶剤に不溶であるために、上層が均一な層とならず海島状の厚みムラが生じ、僅かに白味がかった面状となった。   Table 2 shows the results of the two-layer low reflection films of Examples 2 to 7 and Comparative Examples 3 to 4. In the films of Examples 2 and 3, the monomer material which is the lower layer solute is hardly soluble in IPA which is the upper layer solvent, and the fluoropolymer which is the upper layer solute is easily soluble in the lower layer solvent MiBK, that is, The relationship of claims 1 and 2 was satisfied, and interfacial mixing did not occur, and good reflectance performance was obtained. In Comparative Example 3, since the solute of the upper layer was insoluble in the solvent of the lower layer, the upper layer was not a uniform layer, and sea-island-like thickness unevenness occurred, resulting in a slightly whitish surface.

実施例2及び4は、上層と下層の塗布液を塗布量比(容積比)で混合した際に相分離状態となり(即ち請求項3の関係を満たしており)、また実施例3、5、6及び7は、上層と下層の塗布液を塗布量比(容積比)で混合したのち溶剤を蒸発乾燥させると速やかに相分離が起こった(即ち請求項4の関係を満たしていた)。これらの実施例では塗布直後から界面混合が抑制され、結果良好な反射率性能のフィルムが得られた。これに対し比較例4で得られたフィルムでは、白濁状の面状となり、かつ反射率性能も下がらなかった。また、本発明の光学フィルムはハードコート層を有しているため、耐擦傷性にも優れている。   In Examples 2 and 4, when the upper layer and lower layer coating liquids were mixed at a coating amount ratio (volume ratio), the phases were separated (that is, the relationship of claim 3 was satisfied). In Nos. 6 and 7, when the upper layer and lower layer coating liquids were mixed at a coating amount ratio (volume ratio) and the solvent was evaporated to dryness, phase separation occurred rapidly (that is, the relationship of claim 4 was satisfied). In these examples, interfacial mixing was suppressed immediately after coating, and as a result, a film with good reflectance performance was obtained. On the other hand, the film obtained in Comparative Example 4 had a white turbid surface, and the reflectance performance was not lowered. Moreover, since the optical film of this invention has a hard-coat layer, it is excellent also in abrasion resistance.

Figure 2007293302
Figure 2007293302

実施例8において、上層と下層の溶質の溶解性、混合液の性状は実施例6と同じ結果であった。実施例8の防眩性低反射フィルムにおいても同様の評価を行ったところ、鏡面反射率は0.9%、積分反射率は1.4%であり良好な反射率性能が得られた。また表面凹凸による防眩効果により、蛍光灯などの光源や周囲の移りこみがさらに認識しづらくなりディスプレイ用表面フィルムとして満足のいく性能が得られた。   In Example 8, the solubility of the upper layer and lower layer solutes and the properties of the mixed solution were the same as in Example 6. When the same evaluation was performed on the anti-glare low-reflection film of Example 8, the specular reflectance was 0.9% and the integrated reflectance was 1.4%, and good reflectance performance was obtained. In addition, the antiglare effect due to the surface unevenness made it difficult to recognize light sources such as fluorescent lamps and surrounding migration, and satisfactory performance as a surface film for display was obtained.

また、本発明の光学フィルムは種々のモードの液晶表示装置に用いる偏光板、有機ELに用いる偏光板とλ/4板を組み合わせた表面保護板、PETフィルムに適用した平面CRTあるいはPDP用表面保護板、SED用表面保護フィルム等、様々なディスプレイに用いることができた。   In addition, the optical film of the present invention is a polarizing plate used for liquid crystal display devices of various modes, a surface protection plate combining a polarizing plate used for organic EL and a λ / 4 plate, a surface protection for flat CRT or PDP applied to a PET film. It could be used for various displays such as plates and SED surface protection films.

[実施例9]
ハードコート層用塗布液HC−A、および低屈折率層用塗布液LEの溶質組成を用い、表3に示した通りの溶剤種および溶液濃度に主溶剤で調製した各塗布液を使用し、スロットダイ1層とスライド1層の複合コーターを用いて、上記のハードコート層用塗布液と低屈折率用塗布液をそれぞれ乾燥後の膜厚が13μm、90nmとなるようにウェット塗布量を適宜調整し、30m/分の速度でウェブを搬送しながら塗布を行った。80℃で2分乾燥後、更に続いて100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し塗布層を硬化させ、さらに110℃で10分熱硬化処理を行い、低反射フィルムを作成した。
[Example 9]
Using the solute composition of the hard coat layer coating solution HC-A and the low refractive index layer coating solution LE, using each coating solution prepared with the main solvent in the solvent type and solution concentration as shown in Table 3, Using a composite coater with one slot die layer and one slide layer, the wet coating amount is appropriately adjusted so that the film thickness after drying the coating solution for hard coat layer and the coating solution for low refractive index is 13 μm and 90 nm, respectively. It adjusted and it apply | coated, conveying a web at the speed of 30 m / min. After drying at 80 ° C. for 2 minutes, it was further dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, purging with nitrogen and irradiating with UV rays of 500 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration is 0.05% by volume, the coating layer is cured, and further heat-cured at 110 ° C. for 10 minutes to produce a low reflection film. did.

[実施例10]
ハードコート層用塗布液HC−A、および低屈折率層用塗布液LFの溶質組成を用い、表3に示したとおりの溶剤種および溶液濃度に主溶剤で調製した各塗布液を使用し、スロットダイ1層とスライド1層の複合コーターを用いて、上記のハードコート層用塗布液と低屈折率用塗布液をそれぞれ乾燥後の膜厚が13μm、90nmとなるようにウェット塗布量を適宜調整し、30m/分の速度でウェブを搬送しながら塗布を行った。80℃で2分乾燥後、更に続いて100℃で2分間乾燥した。次に窒素パージし、酸素濃度を0.05体積%にした条件下で紫外線を500mJ/cm照射し塗布層を硬化させ低反射フィルムを作成した。
[Example 10]
Using the solute composition of the coating liquid HC-A for hard coat layer and the coating liquid LF for low refractive index layer, using each coating liquid prepared with the main solvent in the solvent type and solution concentration as shown in Table 3, Using a composite coater with one slot die layer and one slide layer, the wet coating amount is appropriately adjusted so that the film thickness after drying the coating solution for hard coat layer and the coating solution for low refractive index is 13 μm and 90 nm, respectively. It adjusted and it apply | coated, conveying a web at the speed of 30 m / min. After drying at 80 ° C. for 2 minutes, it was further dried at 100 ° C. for 2 minutes. Next, the film was purged with nitrogen and irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 under the condition that the oxygen concentration was 0.05% by volume to cure the coating layer, thereby preparing a low reflection film.

上記の実施例と同様に評価した結果を表3に示す。   The results evaluated in the same manner as in the above examples are shown in Table 3.

Figure 2007293302
Figure 2007293302

表3によれば、本発明に従えば、面状に優れた低反射フィルムが同時得られることが分る。   According to Table 3, according to this invention, it turns out that the low reflection film excellent in planar shape is obtained simultaneously.

本発明を実施したスロットダイとスライド1層の複合コーターの断面図である。It is sectional drawing of the composite coater of the slot die and slide 1 layer which implemented this invention. (A)は本発明のスロットダイ13の断面形状を示し、(B)は一般的なスロットダイ30の断面形状を示す。(A) shows the cross-sectional shape of the slot die 13 of the present invention, and (B) shows the cross-sectional shape of a general slot die 30. 本発明の反射防止フィルムの1実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止光学フィルムの別の1実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another one Embodiment of the antireflection optical film of this invention. 本発明の反射防止光学フィルムのさらに別の1実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another one Embodiment of the antireflection optical film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 コーター
11 バックアップロール
W ウェブ
13 スロットダイ
14、54 塗布液
14a ビード
14b 塗膜
15、50 ポケット
16、52 スロット
16a、52a スロット開口部
17 先端リップ
18 ランド
18a 上流側リップランド
18b 下流側リップランド
IUP 上流側リップランド18aのランド長さ
ILO 下流側リップランド18bのランド長さ
LO オーバーバイト長さ(下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差)
GL 先端リップ17とウェブWの隙間(下流側リップランド18bとウェブWの隙間)30 一般的なスロットダイ
31a 上流側リップランド
31b 下流側リップランド
32 ポケット
33 スロット
51 スライド
55 カバー
10 Coater 11 Backup roll W Web 13 Slot die 14, 54 Coating liquid 14a Bead 14b Coating film 15, 50 Pocket 16, 52 Slot 16a, 52a Slot opening 17 Tip lip 18 Land 18a Upstream lip land 18b Downstream lip land IUP Land length ILO of upstream lip land 18a Land length LO of downstream lip land 18b LO Overbite length (difference in distance between downstream lip land 18b and web W of upstream lip land 18a)
GL Gap between the tip lip 17 and the web W (gap between the downstream lip land 18b and the web W) 30 General slot die 31a Upstream lip land 31b Downstream lip land 32 Pocket 33 Slot 51 Slide 55 Cover

Claims (14)

透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布層を最表面から該透明支持体に向かって順番に1、2、…、n―1、n層としたとき、第n層中の溶質の主成分が第n―1層中の溶剤の主成分に不溶又は難溶である光学フィルムの製造方法。
Using at least two types of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers, and drying the solvent in the at least two coating layers A process,
When the at least two coating layers are 1, 2,..., N−1, n layers in order from the outermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the nth layer is n−1. A method for producing an optical film which is insoluble or hardly soluble in a main component of a solvent in a layer.
透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布層を最表面から該透明支持体に向かって順番に1、2、…、n−1、n層としたときに、第n−1層中の溶質の主成分が第n層中の溶剤の主成分に易溶である請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
Using at least two types of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers, and drying the solvent in the at least two coating layers A process,
When the at least two coating layers are 1, 2, ..., n-1, n layers in order from the outermost surface toward the transparent support, the main component of the solute in the n-1 layer is the first. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the optical film is easily soluble in a main component of the solvent in the n layer.
透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法。
Using at least two types of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers, and drying the solvent in the at least two coating layers A process,
The method for producing an optical film, which is a coating liquid that causes liquid-liquid phase separation and separates into two layers when the coating liquid of at least two layers is mixed at the same volume ratio as the coating amount.
透明支持体上に、溶剤と溶質とを含有する塗布液の少なくとも2種を用いて、少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程と、該少なくとも2層の塗布層中の溶剤を乾燥する工程とを有し、
該少なくとも2層の塗布液は、塗布量と同じ容積比率で混合した場合に1相溶液として混和し、かつ該混合溶液中の溶剤を乾燥させて溶剤量が10重量%減少する間に、液−液相分離を起こし2層に分離する塗布液である光学フィルムの製造方法。
Using at least two types of coating solutions containing a solvent and a solute on a transparent support, a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers, and drying the solvent in the at least two coating layers A process,
The coating solution of at least two layers is mixed as a one-phase solution when mixed at the same volume ratio as the coating amount, and the solvent amount is reduced by 10% by weight by drying the solvent in the mixed solution. -The manufacturing method of the optical film which is a coating liquid which raise | generates liquid phase separation and isolate | separates into two layers.
前記光学フィルムの最表層に塗工される塗布液が、熱硬化型または電離放射線硬化型の含フッ素化合物を含有する請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical film in any one of Claims 1-4 in which the coating liquid applied to the outermost layer of the said optical film contains a thermosetting type or an ionizing radiation hardening type fluorine-containing compound. 前記最表層に塗工される塗布液が、さらにシリコーン化合物を含有する請求項5に記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 5, wherein the coating solution applied to the outermost layer further contains a silicone compound. 前記含フッ素化合物が、シリコーン構造単位を分子中に有する請求項5又は6に記載の光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical film of Claim 5 or 6 in which the said fluorine-containing compound has a silicone structural unit in a molecule | numerator. 前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、2官能以上の、重合性モノマーおよび/またはオリゴマーを含有する請求項1〜7のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。   The at least 1 layer coating liquid applied to any layer other than the outermost layer of the said optical film contains the bifunctional or more polymerizable monomer and / or oligomer of Claim 1-7. Manufacturing method of optical film. 前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、平均粒径1.0μm以上の透光性粒子を含有する請求項1〜8のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。   The at least 1 layer coating liquid applied to any layer other than the outermost layer of the said optical film contains translucent particle | grains with an average particle diameter of 1.0 micrometer or more. Manufacturing method of optical film. 前記光学フィルムの最表層以外のいずれかの層に塗工される少なくとも1層の塗布液が、平均粒径100nm以下で、かつ屈折率1.9以上である無機酸化微粒子を含有する請求項1〜9のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。   The coating liquid of at least one layer applied to any layer other than the outermost layer of the optical film contains inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.9 or more. The manufacturing method of the optical film in any one of -9. 前記少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程が、スロットダイとスライド型塗布ヘッドを有する複合コーターで少なくとも2層の塗布層を同時に塗布形成する工程であり、
透明支持体を含むウェブをバックアップローラーで支持して連続走行させながら、スロットダイを使用して前記ウェブ上に下層を塗布するとともに、該スロットダイの先端部近傍に配置したスライド型の塗布ヘッドを使用して該下層上に上層を少なくとも1層塗布する請求項1〜10のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
The step of simultaneously coating and forming the at least two coating layers is a step of simultaneously coating and forming at least two coating layers with a composite coater having a slot die and a slide type coating head;
While supporting a web including a transparent support with a backup roller and continuously running, a lower layer is applied on the web using a slot die, and a slide type coating head disposed near the tip of the slot die is provided. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein at least one upper layer is applied on the lower layer.
前記少なくとも2層の塗布層の溶剤を乾燥する工程の後に、熱処理及び/又は電離線照射により塗膜を硬化させる工程を有する請求項1〜11のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical film in any one of Claims 1-11 which has the process of hardening a coating film by heat processing and / or ionizing ray irradiation after the process of drying the solvent of the said at least 2 layer of coating layer. 請求項1〜12のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法で製造された光学フィルム。   The optical film manufactured with the manufacturing method of the optical film in any one of Claims 1-12. 請求項13に記載の光学フィルムを有する画像表示装置。   An image display device comprising the optical film according to claim 13.
JP2007079982A 2006-03-28 2007-03-26 Manufacturing method of optical film, the optical film and image display device Pending JP2007293302A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011186056A (en) * 2010-03-05 2011-09-22 Fujifilm Corp Method of producing antiglare film
JP2011213110A (en) * 2010-03-16 2011-10-27 Fujifilm Corp Method of manufacturing multilayered film
WO2018180504A1 (en) * 2017-03-31 2018-10-04 グンゼ株式会社 Anti-reflection film

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