JP2007281253A - Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure - Google Patents

Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure Download PDF

Info

Publication number
JP2007281253A
JP2007281253A JP2006106711A JP2006106711A JP2007281253A JP 2007281253 A JP2007281253 A JP 2007281253A JP 2006106711 A JP2006106711 A JP 2006106711A JP 2006106711 A JP2006106711 A JP 2006106711A JP 2007281253 A JP2007281253 A JP 2007281253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
hole
metal foil
circuit
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006106711A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Ashizawa
公一 芦澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Foil Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Nippon Foil Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Foil Manufacturing Co Ltd filed Critical Nippon Foil Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2006106711A priority Critical patent/JP2007281253A/en
Publication of JP2007281253A publication Critical patent/JP2007281253A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board where surface mounting of a component is realized without using solder, and to provide a module using the circuit board, a multilayer circuit board and a connector structure. <P>SOLUTION: The circuit board is provided with an insulating substrate 1; at least one through-hole 2 formed in a thickness direction of a desired position in the insulating substrate 1; and a conductor circuit 3 formed by working metal foil which is bonded to one face of the insulating substrate 1 and has conductivity and spring elasticity, in a state where an opening of the through-hole 2 is closed. A linear conductor 4 is inserted into the through-hole 2 and a conductor structure is formed with the conductor circuit 3. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路基板、それを用いた多層回路基板、実装部品を組込んだモジュール、インターポーザおよびコネクタ構造に関し、更に詳しくは、はんだを用いることなく各種の実装部品を表面実装することができる新規構造の回路基板や、それを用いることにより、各層の回路基板のリペア処理が可能である多層回路基板に関する。   The present invention relates to a circuit board, a multilayer circuit board using the circuit board, a module incorporating a mounting component, an interposer, and a connector structure. More specifically, the present invention is a novel device capable of surface-mounting various mounting components without using solder. The present invention relates to a circuit board having a structure and a multilayer circuit board that can repair a circuit board of each layer by using the circuit board.

半導体部品を回路基板に表面実装するに際しては、概ね、はんだを用いたリフロー処理が行なわれている。このリフロー処理では、実装部品の接続端子を例えばはんだボールを介して回路基板の所定箇所に配置した状態で、全体を所定温度のリフロー炉内に導入してはんだを溶融したのち、全体をリフロー炉から取出し、溶融はんだを冷却・固化することにより実装部品を回路基板に固定し、あわせて両者の導通関係がとられている。   When semiconductor components are surface-mounted on a circuit board, a reflow process using solder is generally performed. In this reflow process, with the connection terminals of the mounted components arranged at predetermined locations on the circuit board via, for example, solder balls, the whole is introduced into a reflow furnace at a predetermined temperature to melt the solder, and then the entire reflow furnace The mounted component is fixed to the circuit board by cooling and solidifying the molten solder, and the conductive relationship between the two is taken.

その場合、Pb−Sn共晶はんだの融点は183℃程度であるため、このリフロー処理時に回路基板や実装部品は220〜230℃の高温に曝されることになる。そのため例えば、回路基板の絶縁基材を構成する樹脂としては、このような高温に耐える材料であることが必要となる。
例えば、最近注目を集めている大容量の光配線モジュールに組込む光・電気ハイブリッド基板の場合、耐熱度が60〜80℃程度のアクリル系樹脂で光導波路を構成し、そしてここに各種の半導体素子を搭載した構造になっているのであるが、この光・電気ハイブリッド基板の製造に際しては、半導体素子をはんだリフロー処理で実装することはできない。アクリル系樹脂で構成されている光配線が損壊するからである。
In that case, since the melting point of the Pb—Sn eutectic solder is about 183 ° C., the circuit board and the mounted component are exposed to a high temperature of 220 to 230 ° C. during the reflow process. Therefore, for example, the resin constituting the insulating base material of the circuit board needs to be a material that can withstand such a high temperature.
For example, in the case of an optical / electric hybrid board to be incorporated into a large-capacity optical wiring module that has recently attracted attention, an optical waveguide is made of an acrylic resin having a heat resistance of about 60 to 80 ° C., and various semiconductor elements However, when manufacturing this optical / electric hybrid board, the semiconductor element cannot be mounted by solder reflow processing. This is because the optical wiring composed of the acrylic resin is damaged.

しかも、Pb−Sn共晶はんだに関しては、Pbの人体・環境への悪影響が問題視されているため使用が忌避され、代わってSnを主体として鉛フリーのはんだの開発が進められている。しかしながら、鉛フリーのはんだは一般にPb−Sn共晶はんだよりも高融点であるため、上記したような問題にとっては無意味であるとともに、Snが主体であるということからして、溶融接続部にウィスカーが成長しやすく、そのため短絡事故が起こりやすいという問題がある。   In addition, Pb—Sn eutectic solder has been rejected because Pb has an adverse effect on the human body and the environment, and instead, lead-free solder is being developed mainly using Sn. However, since lead-free solder generally has a higher melting point than Pb—Sn eutectic solder, it is meaningless for the problems described above, and because Sn is the main component, There is a problem that whiskers are easy to grow, and therefore a short-circuit accident easily occurs.

また、回路基板への部品実装に関しては、回路基板側に例えば雌コネクタ部を形成し、実装部品側に雄コネクタ部を形成し、両コネクタ部を機械的に結合して導通関係をとるコネクタ構造で部品実装することも行なわれている。
このコネクタ構造を用いた部品実装の場合、はんだを用いることなく、そして回路基板と実装部品の間は着脱自在な関係にあるので、例えば実装部品に故障が発生した場合でも、その実装部品を取り外して新たな良品部品に取り替える、すなわちリペア処理も可能であるという利点を備えている。
In addition, regarding component mounting on the circuit board, for example, a female connector part is formed on the circuit board side, a male connector part is formed on the mounting part side, and both connector parts are mechanically connected to establish a conductive relationship. The parts are also mounted on the board.
In the case of component mounting using this connector structure, since there is a detachable relationship between the circuit board and the mounting component without using solder, for example, even when a failure occurs in the mounting component, the mounting component is removed. Thus, it is possible to replace with a new non-defective part, that is, to perform repair processing.

しかしながら、従来のコネクタ構造の場合、各コネクタ部はいずれも金型で形成されているため、全体の形状が大きくなり、組立てたモジュールの小型化、薄型化という最近の強い要望に対応することができないという問題がある。
はんだを用いることなく回路基板に部品を実装する方法としては更に、例えば、紙を絶縁材とするプリント配線板に、実装部品の外部リードを銅箔パターンの方から突き刺し、銅箔パターンのばね弾性でその返り部と外部リードの間を電気的に接続する実装方法が提案されている(特許文献1を参照)。
However, in the case of the conventional connector structure, since each connector part is formed of a mold, the overall shape becomes large, and it is possible to meet the recent strong demand for miniaturization and thinning of the assembled module. There is a problem that you can not.
As a method of mounting a component on a circuit board without using solder, for example, a printed wiring board using paper as an insulating material is inserted into the external lead of the mounted component from the direction of the copper foil pattern, and the spring elasticity of the copper foil pattern A mounting method for electrically connecting the return portion and the external lead has been proposed (see Patent Document 1).

一方、携帯電話やパソコンに代表されるように各種の電気・電子機器の小型化、薄型化、多機能化の要望に対処するために、これら機器に組込まれる回路基板としては多層回路基板が多用されている。
この多層回路基板は、それぞれの表面には所定パターンの導体回路が形成されている単位回路基板の複数枚を積層して一体化した多層構造になっていて、これは、例えばスルーホール積層法やビルドアップ工法で製造されている。
On the other hand, multilayer circuit boards are often used as circuit boards to be built into these devices in order to meet the demands for reducing the size, thickness, and functionality of various electrical and electronic devices, such as mobile phones and personal computers. Has been.
This multilayer circuit board has a multilayer structure in which a plurality of unit circuit boards each having a predetermined pattern of conductor circuits formed on each surface are laminated and integrated. Manufactured by build-up method.

この多層回路基板の場合、一般に、基板の所定位置に厚み方向に貫通するスルーホールを穿設し、そして形成されたスルーホールの壁面に無電解めっきなどを施すことにより、電気的な層間接続をとっている。
また、銅箔と熱可塑性フィルムをラミネートし、銅箔を所定の回路パターンにし、回路パターンの所定箇所の裏面の熱可塑性フィルムにレーザビアを形成し、このレーザビアの中に導電ペーストを埋込んで単位回路基板を製造したのち、同様の単位回路基板の複数枚を積層プレスして一体化した構造の多層回路基板も知られているが、この基板の場合は、レーザビアに充填された導電ペーストで層間接続がとられている(非特許文献1を参照)。
In the case of this multilayer circuit board, generally, through-holes penetrating in the thickness direction are formed at predetermined positions on the board, and electroless plating is applied to the wall surfaces of the formed through-holes, thereby providing an electrical interlayer connection. I'm taking it.
Also, the copper foil and thermoplastic film are laminated, the copper foil is made into a predetermined circuit pattern, a laser via is formed in the thermoplastic film on the back of the circuit pattern at a predetermined location, and a conductive paste is embedded in this laser via to unit A multilayer circuit board having a structure in which a plurality of similar unit circuit boards are integrated by laminating and pressing after the circuit board is manufactured is also known. In the case of this board, a conductive paste filled in a laser via is used as an interlayer. Connection is established (see Non-Patent Document 1).

しかしながら、これらの多層回路基板の場合、各単位回路基板が互いに接着して一体化した構造になっているので、仮にある層の回路基板に故障が発生したとしても、全体を分解してその故障した回路基板だけを良品と代替するということができない。すなわち、リペア処理は可能ではない。
特開平11−251711号公報 電気材料、vol.42, No.10, P.9 (2004)
However, in the case of these multilayer circuit boards, since the unit circuit boards are bonded and integrated with each other, even if a failure occurs in the circuit board of a certain layer, the entire circuit board is disassembled and the failure It is not possible to replace only a circuit board with a good product. That is, the repair process is not possible.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-251711 Electrical materials, vol.42, No.10, P.9 (2004)

本発明は、従来の回路基板や多層回路基板における上記した問題を解消して、はんだを用いることなく実装部品の表面実装が可能である回路基板と、その回路基板を用いることにより、各回路基板のリペア処理が可能である多層回路基板、実装部品が着脱自在に実装されているモジュール、インターポーザ、端子間のファインピッチ化を可能にするコネクタ構造の提供を目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problems in conventional circuit boards and multilayer circuit boards, and enables circuit mounting of mounting components without using solder, and each circuit board by using the circuit board. An object of the present invention is to provide a multi-layer circuit board that can be repaired, a module on which mounting components are detachably mounted, an interposer, and a connector structure that enables fine pitches between terminals.

上記した目的を達成するために、本発明においては、
絶縁基材と、前記絶縁基材の所望する位置の厚み方向に形成されている少なくとも1個の貫通孔と、少なくとも前記貫通孔の開口部を閉鎖した状態で前記絶縁基材の片面に接着された導電性とばね弾性を有する金属箔を加工して形成された導体回路とを備えていることを特徴とする回路基板(以下、回路基板Aという)が提供される。
In order to achieve the above object, in the present invention,
An insulating base material, at least one through hole formed in a thickness direction at a desired position of the insulating base material, and at least an opening of the through hole are bonded to one surface of the insulating base material. A circuit board (hereinafter referred to as circuit board A) is provided, which includes a conductive circuit formed by processing a metal foil having electrical conductivity and spring elasticity.

また、本発明においては、
絶縁基材と、前記絶縁基材の所望する位置の厚み方向に形成されている少なくとも1個の貫通孔と、前記貫通孔の両開口部を閉鎖した状態で前記絶縁基材の両面に接着された導電性とばね弾性を有する金属箔を加工して形成された導体回路と、前記貫通孔の両開口部を閉鎖する金属箔部分を貫通して前記貫通孔に挿入されて、前記金属箔部分と圧接状態にある線状導体とを備えていることを特徴とする回路基板(以下、回路基板Bという)が提供される。
In the present invention,
The insulating base material, at least one through hole formed in the thickness direction of the desired position of the insulating base material, and bonded to both surfaces of the insulating base material with both openings of the through hole closed. A conductive circuit formed by processing a metal foil having electrical conductivity and spring elasticity, and a metal foil part that closes both openings of the through hole and inserted into the through hole, and the metal foil part A circuit board (hereinafter referred to as circuit board B) is provided.

その場合、前記貫通孔の開口部を閉鎖する金属箔部分にはスリット孔が形成されていることが好ましく、また、金属箔としては、厚みが50μm以下であり、かつ、厚み0.1mm以上の箔の状態でJIS H3130で規定するばね限界値を測定したときの値が350N/mm2以上である金属の箔を用いることが好ましい。
また、本発明においては、
回路基板Aまたは回路基板Bにおける前記貫通孔の開口部を閉鎖する金属箔部分に、底部に突設する線状または球状の接続端子を有する実装部品の前記接続端子が圧入されて、前記実装部品と前記回路基板の導体回路との間で導通構造が形成されていることを特徴とするモジュールが提供される。
In that case, it is preferable that a slit hole is formed in the metal foil portion that closes the opening of the through-hole, and the metal foil has a thickness of 50 μm or less and a thickness of 0.1 mm or more. It is preferable to use a metal foil having a value of 350 N / mm 2 or more when a spring limit value defined by JIS H3130 is measured in the state of the foil.
In the present invention,
The mounting part having a linear or spherical connection terminal protruding from the bottom is press-fitted into a metal foil part that closes the opening of the through hole in the circuit board A or the circuit board B. A module is provided in which a conductive structure is formed between the circuit board and the conductor circuit of the circuit board.

さらに本発明においては、
各回路基板における所望する貫通孔を同軸的に位置合せして回路基板Aの複数枚が積層されて成る多層構造を有し、前記多層構造における共通の前記貫通孔には、各回路基板における前記貫通孔を閉鎖する金属箔部分を着脱自在に貫通する状態で線状導体が挿入されており、前記線状導体を介して各回路基板間の電気的な層間接続構造が形成されていることを特徴とする多層回路基板が提供される。
Furthermore, in the present invention,
A desired through hole in each circuit board is coaxially aligned and has a multilayer structure in which a plurality of circuit boards A are stacked, and the common through hole in the multilayer structure has the above-mentioned in each circuit board. A linear conductor is inserted in a state of detachably penetrating the metal foil portion that closes the through hole, and an electrical interlayer connection structure between the circuit boards is formed via the linear conductor. A featured multilayer circuit board is provided.

また、本発明においては、
片面に突設する雄型接続端子を有するテープケーブルの前記雄型接続端子が、回路基板Aもしくは回路基板B、または前記した多層回路基板の最上層の回路基板における前記貫通孔を開閉する金属箔部分に圧入されていることを特徴とするコネクタ構造が提供される。
In the present invention,
Metal foil for opening and closing the through hole in the circuit board A or the circuit board B, or the uppermost circuit board of the multilayer circuit board, wherein the male connection terminal of the tape cable having the male connection terminal projecting on one side A connector structure is provided that is press-fitted into the part.

本発明の回路基板に部品実装する場合は、実装部品の底部に線状またはBGAのボールを小さくしたような球状の接続端子を配設し、この接続端子を回路基板に形成された貫通孔を閉鎖する金属箔の部分に貫通されればよい。金属箔はばね限界値が350N/mm2以上の導電性材料で構成されているので、この金属箔のばね弾性で実装部品の接続端子が機械的に確保されて、ここに実装部品と回路基板の導通構造が実現する。 When mounting a component on the circuit board of the present invention, a spherical connection terminal such as a linear or BGA ball is arranged at the bottom of the mounting component, and the connection terminal is provided with a through hole formed in the circuit board. What is necessary is just to penetrate the part of the metal foil to close. Since the metal foil is made of a conductive material having a spring limit value of 350 N / mm 2 or more, the connection terminal of the mounting component is mechanically secured by the spring elasticity of the metal foil. The conduction structure is realized.

したがって、本発明の回路基板ははんだを用いることなく、具体的にはリフロー処理を行うことなく実装部品を表面実装することができる。そのため、低融点のアクリル系樹脂を主体とする光・電気ハイブリッド基板を製造する場合においても、実装部品との接続部を本発明の回路基板のような金属箔部分で形成することにより、対処することができる。
また、この回路基板を、それぞれの貫通孔を同軸的に一致させた状態で重ね合わせ、共通する貫通孔の部分に線状導体を挿入すれば、互いの回路基板間の層間接続が実現している多層回路基板を製造することができる。
Therefore, the circuit board of the present invention can surface-mount a mounting component without using solder, specifically, without performing a reflow process. Therefore, even in the case of manufacturing an optical / electric hybrid board mainly composed of an acrylic resin having a low melting point, it is possible to cope with the problem by forming a connection part with a mounting part with a metal foil part like the circuit board of the present invention. be able to.
In addition, if this circuit board is overlapped with each through hole coaxially aligned, and a linear conductor is inserted into the common through hole, interlayer connection between the circuit boards is realized. A multilayer circuit board can be manufactured.

従来の多層回路基板の場合、スルーホールを穿設し、その壁面にめっきを施して層間接続をとっていたのであるが、本発明の多層回路基板では、貫通孔への線状導体の挿入という作業だけで層間接続をとることができる。
また、この多層回路基板の場合、線状導体を貫通孔から抜きとれば各回路基板に分解できるので、例えば、多層回路基板におけるある層の回路基板に故障が発生した場合であっても、全体を分解して故障した回路基板を良品の回路基板に代替することができる。
In the case of a conventional multilayer circuit board, through-holes are drilled and the wall surfaces are plated to make interlayer connections. However, in the multilayer circuit board of the present invention, the insertion of a linear conductor into a through-hole is called Interlayer connection can be established only by work.
In addition, in the case of this multilayer circuit board, if the linear conductor is removed from the through hole, it can be disassembled into each circuit board. For example, even if a failure occurs in a certain layer of the circuit board in the multilayer circuit board, The defective circuit board can be replaced with a non-defective circuit board.

最初に回路基板Aの1例を断面図として図1に示す。
図1において、回路基板Aは、絶縁基材1と、この絶縁基材1の所定位置に一方の表面1aから他方の表面1bにかけて垂直に当該絶縁基材を穿設して形成された貫通孔2と、絶縁基材1の一方の表面(片面)1aに、貫通孔2の上部開口部を閉鎖する状態で接着された後述の金属箔を加工して形成された所定の導体回路3とを備えた構造になっている。
First, an example of the circuit board A is shown in FIG.
In FIG. 1, a circuit board A has an insulating base material 1 and a through hole formed by drilling the insulating base material vertically at a predetermined position of the insulating base material 1 from one surface 1a to the other surface 1b. 2 and a predetermined conductor circuit 3 formed by processing a metal foil, which will be described later, bonded to one surface (one surface) 1a of the insulating base 1 in a state where the upper opening of the through hole 2 is closed. It has a prepared structure.

この回路基板Aは、貫通孔2に後述する線状導体を挿入し、この線状導体が貫通孔2の上部開口部を閉鎖する金属箔の部分(以下、金属箔部分3aという)を貫通した状態で実使用に供される。その状態を図2と図3に示す。
図2と図3において、金属箔部分3aを貫通して貫通孔2に挿入されている線状導体4の腹部4aは、金属箔部分3aの後述するばね弾性によって機械的に把持され、両者は相互に圧接した状態にある。そして、金属箔部分3aは導体回路3の接続端になっているので、線状導体4と導体回路3の間には導通構造が形成されている。したがって、入・出力信号は、線状導体4−金属箔部分3a−導体回路3の経路で伝送されていく。
In this circuit board A, a linear conductor, which will be described later, is inserted into the through hole 2, and the linear conductor penetrates a metal foil portion (hereinafter referred to as a metal foil portion 3a) that closes the upper opening of the through hole 2. Provided for actual use in the state. The state is shown in FIGS.
2 and 3, the abdominal portion 4a of the linear conductor 4 inserted through the metal foil portion 3a and inserted into the through hole 2 is mechanically gripped by spring elasticity described later of the metal foil portion 3a. They are in pressure contact with each other. Since the metal foil portion 3 a is a connection end of the conductor circuit 3, a conduction structure is formed between the linear conductor 4 and the conductor circuit 3. Therefore, the input / output signal is transmitted through the path of the linear conductor 4 -metal foil portion 3 a -conductor circuit 3.

このようなことから、回路基板Aの金属箔部分3aは、当該回路基板Aの電気的接続部として機能する。
図1の回路基板Aにおいて、金属箔部分3aは、図4で示したように、貫通孔2の上部開口部を完全に封口した状態で形成されていてもよく、また図5と図6で示したように、金属箔部分3aの中心部に例えば十文字形状のスリット孔3cが形成されていてもよい。
For this reason, the metal foil portion 3a of the circuit board A functions as an electrical connection portion of the circuit board A.
In the circuit board A of FIG. 1, the metal foil portion 3a may be formed in a state in which the upper opening of the through hole 2 is completely sealed as shown in FIG. As shown, for example, a cross-shaped slit hole 3c may be formed at the center of the metal foil portion 3a.

金属箔部分3aが図4で示したような状態になっている回路基板Aを実使用すると、図7で示したように、貫通孔2を封口する金属箔部分3aは貫通孔2に下方から上方に向かって挿入された線状導体4の先端部4bで突き破られる。そして、その結果、金属箔部分3aには湾曲(図では上方へ)した複雑な形状をした複数の破裂片3bが発生し、これら破裂片3bがそれぞればね弾性を発揮して線状導体4の腹部4aと圧接し、この線状導体4を把持することにより両者間の導通構造が形成される。   When the circuit board A in which the metal foil portion 3a is in the state shown in FIG. 4 is actually used, the metal foil portion 3a that seals the through hole 2 is inserted into the through hole 2 from below as shown in FIG. It is pierced by the front end portion 4b of the linear conductor 4 inserted upward. As a result, a plurality of rupture pieces 3b having a complicated shape curved (upward in the drawing) are generated in the metal foil portion 3a, and each of the rupture pieces 3b exhibits spring elasticity to form the linear conductor 4. By pressing the abdomen 4a and gripping the linear conductor 4, a conduction structure between them is formed.

金属箔部分3aに図6で示したようなスリット孔3cが形成されている回路基板Aを実使用すると、図8で示したように、貫通孔2に下方から上方に向かって挿入された線状導体4は、スリット孔3cを拡径し、スリット孔3cの4つの舌片部3dを上方に湾曲させて金属箔部分3aを貫通する。その結果、舌片部3dはばね弾性を発揮して線状導体4の腹部4aと圧接し、この線状導体4を把持することにより両者間の導通構造が形成される。   When the circuit board A in which the slit hole 3c as shown in FIG. 6 is formed in the metal foil portion 3a is actually used, as shown in FIG. 8, the line inserted into the through hole 2 from below to above. The conductor 4 expands the diameter of the slit hole 3c, curves the four tongue pieces 3d of the slit hole 3c upward, and penetrates the metal foil portion 3a. As a result, the tongue piece 3d exhibits spring elasticity and presses against the abdomen 4a of the linear conductor 4, and by holding the linear conductor 4, a conductive structure between them is formed.

これら両者の導通構造を対比すると、後者の場合は、スリット孔3cをガイドにして線状導体4が金属箔部分3aと接触するので、両者の圧接状態は安定化し、形成された導通構造の信頼性が高くなるので好適である。
このような効果を発揮するスリット孔3cの平面視形状は、貫通孔の径や挿入される線状導体の断面形状との関係で適宜に設計される。このスリット孔3cは、図6で示した平面視形状の外に、例えば図9、図10で示したような形状のものであってもよい。
Comparing these two conductive structures, in the latter case, the linear conductor 4 comes into contact with the metal foil portion 3a with the slit hole 3c as a guide, so that the pressure contact state between them is stabilized, and the reliability of the formed conductive structure is confirmed. This is preferable because the property is increased.
The plan view shape of the slit hole 3c exhibiting such an effect is appropriately designed in relation to the diameter of the through hole and the cross-sectional shape of the inserted linear conductor. The slit hole 3c may have a shape as shown in FIGS. 9 and 10, for example, in addition to the shape in plan view shown in FIG.

なお、用いる線状導体としては、その直径が20〜200μm程度であることが実用的であり、またその断面形状は格別限定されることはないが、金属箔部分3aとの抵触抵抗が小さい形状であることが好ましい。
線状導体4の材料としては、例えば、Cu,リン青銅、Au,Ni,Ni−P,Cu−P,Cu−Zn,Cu−Sn,Cu−Ni−Zn,Cu−Ni−Si−Mg,Cu−Cr−Sn−Zn,Cu−Ni−Sn−P,Cu−Cr−Zr−Zn,Cu−Beなどをあげることができる。
In addition, as a linear conductor to be used, it is practical that the diameter is about 20-200 micrometers, and the cross-sectional shape is not specifically limited, However, The shape with small conflict resistance with the metal foil part 3a It is preferable that
Examples of the material of the linear conductor 4 include Cu, phosphor bronze, Au, Ni, Ni—P, Cu—P, Cu—Zn, Cu—Sn, Cu—Ni—Zn, Cu—Ni—Si—Mg, Cu-Cr-Sn-Zn, Cu-Ni-Sn-P, Cu-Cr-Zr-Zn, Cu-Be, and the like can be given.

この回路基板Aは次のようにして製造することができる。
まず図11で示したように、絶縁基材1を用意し、その片面1aに接着剤を用いて金属箔3Aを接着して中間体Aを製造する。または、半硬化もしくは前駆体の絶縁基材1と金属箔3Aを熱プレスすることにより中間体Aを製造する。
絶縁基材1としては、従来から回路基板に使用されているものであれば何であってもよく、例えば、ガラス繊維−エポキシ樹脂から成るFR−4やFR−5、あるいはCEM−3などのリジッドな基材や、例えばポリイミドフィルム、液晶ポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどのフレキシブルな基材を使用することができる。
This circuit board A can be manufactured as follows.
First, as shown in FIG. 11, prepared insulating substrate 1, to produce intermediate A 1 by bonding a metal foil 3A using an adhesive on one surface thereof 1a. Or to produce intermediate A 1 by semi-curing or an insulating substrate 1 and metal foils 3A precursors to hot pressing.
The insulating base material 1 may be anything as long as it is conventionally used for a circuit board, for example, a rigid such as FR-4, FR-5 made of glass fiber-epoxy resin, or CEM-3. A flexible substrate such as a polyimide film, a liquid crystal polymer film, a polyethylene terephthalate film, or a polyethylene naphthalate film can be used.

金属箔3Aとしては、これが導体回路3に転化し、また同時に貫通孔の開口部を閉鎖する金属箔部分で線状導体をそのばね弾性で圧接して当該線状導体を確保しなければならないという点からして、エッチングなどで導体回路の加工を容易に行なうことができ、良好な導電性と後述する高いばね限界値を備えた金属材料から成ることが好ましい。
ばね弾性の点でいえば、厚み0.1mmの箔にした状態でJIS H3130で規定する方法で測定したときのばね限界値が350N/mm2以上の値を示す材料であることが好ましい。
As the metal foil 3A, this is converted into the conductor circuit 3, and at the same time, the linear conductor must be secured by the spring elasticity of the metal foil portion that closes the opening of the through hole. From the point of view, it is preferable that the conductor circuit can be easily processed by etching or the like, and is made of a metal material having good conductivity and a high spring limit value described later.
In terms of spring elasticity, it is preferable that the material has a spring limit value of 350 N / mm 2 or more when measured by the method defined in JIS H3130 in the state of 0.1 mm thick foil.

このばね限界値が350N/mm2より低い値の材料を用いると、それが仮に高い導電性を示す材料であったとしても、永久変形量が大きく、ばねとしての復元力がないという問題が発生して、線状導体と導体回路との導通構造の信頼性が低下してしまう。
このような点、更に導電性の問題を考えると、金属箔としては銅合金箔が好適であり、具体的には、C2600(黄銅)、C7701(洋白)、C7025(コルソン合金)、C5212(リン青銅)、C1700(ベリリウム銅)、C18040、C64770、C19400、C64710、C42500、C64725、C64740、C44250、C19020、C19025などをあげることができる。
If a material with a spring limit value lower than 350 N / mm 2 is used, there is a problem that even if it is a material exhibiting high conductivity, the amount of permanent deformation is large and there is no restoring force as a spring. As a result, the reliability of the conductive structure between the linear conductor and the conductor circuit is lowered.
Considering this point and the problem of conductivity, a copper alloy foil is suitable as the metal foil. Specifically, C2600 (brass), C7701 (Western), C7025 (Corson alloy), C5212 ( Phosphor bronze), C1700 (beryllium copper), C18040, C64770, C19400, C64710, C42500, C64725, C64740, C44250, C19020, C19025, and the like.

なお、上記した銅合金箔はばね弾性の点では好適であるが、IACSが10〜80%程度であり、導電性の点では、純銅に比べて劣る。しかしながら、この銅合金箔の片面または両面に、あるいは必要とされる部分のみに例えばめっきを施してCuやAu、Agを好適とする高導電性の金属材料の層を形成することにより、良好な導電性も確保することができる。   In addition, although the above-mentioned copper alloy foil is suitable in terms of spring elasticity, IACS is about 10 to 80%, which is inferior to pure copper in terms of conductivity. However, by forming a layer of a highly conductive metal material suitable for Cu, Au, Ag, for example, by plating on one side or both sides of this copper alloy foil, or only the required part, it is possible to obtain a good Conductivity can also be secured.

従来から回路基板の導体回路の材料として使用されてきた圧延銅箔や電解銅箔は、それ単独では本発明の金属箔として使用することができない。これらの銅箔は、いずれもばね限界値が300N/mm2以下と低いからである。
しかしながら、これら圧延銅箔や電解銅箔であっても、その片面や両面、または少なくとも線状導体と圧接する部分にCu-Co,Cu−Fe,Cu−Ni,Cu−Sn,Cu−Zn,Cu−Fe−Ni,Cu−Ni−P,Cu−Sn−Co,Cu−Sn−Ni,Cu−Sn−Znなどの銅合金やNi−Pなどの合金、Ni,Fe,Coなどの金属のめっきを施してその部分の実質的なばね限界値を高めることにより、本発明の金属箔として使用することができる。
A rolled copper foil or an electrolytic copper foil that has been conventionally used as a conductor circuit material of a circuit board cannot be used alone as the metal foil of the present invention. This is because any of these copper foils has a low spring limit value of 300 N / mm 2 or less.
However, even with these rolled copper foils and electrolytic copper foils, Cu—Co, Cu—Fe, Cu—Ni, Cu—Sn, Cu—Zn, Copper alloys such as Cu-Fe-Ni, Cu-Ni-P, Cu-Sn-Co, Cu-Sn-Ni, Cu-Sn-Zn, alloys such as Ni-P, metals such as Ni, Fe, and Co It can be used as the metal foil of the present invention by plating to increase the substantial spring limit value of the portion.

用いる金属箔3Aは、その厚みが50μm以下に設定される。厚みを50μmよりも厚くすると、当該金属箔にエッチング処理を行なって導体回路を形成するときに、信頼性が高く、ファインな導体回路を得ることが困難になるからである。好ましい厚みは、3〜50μm、より好ましくは9〜18μm程度に設定する。
このような金属箔3Aを絶縁基材1に接着する場合、相互間の接着力を高めるために、金属箔の接着面側に、例えば脱脂したのち銅などの金属微粒子を電析して当該接着面を粗面化する処理、シランカップリング剤のような接着促進剤を付与する処理、またはそれら処理の併用などの表面処理を施すことが好ましい。
The thickness of the metal foil 3A to be used is set to 50 μm or less. This is because if the thickness is greater than 50 μm, it is difficult to obtain a fine conductor circuit with high reliability when a conductive circuit is formed by etching the metal foil. The preferred thickness is set to about 3 to 50 μm, more preferably about 9 to 18 μm.
When bonding such a metal foil 3A to the insulating substrate 1, in order to increase the adhesion between them, the metal foil such as copper is electrodeposited on the bonding surface side of the metal foil and then bonded. It is preferable to perform a surface treatment such as a treatment for roughening the surface, a treatment for applying an adhesion promoter such as a silane coupling agent, or a combination of these treatments.

ついで、図12で示したように、中間体Aの絶縁基材1の裏面から例えば炭酸ガスレーザを照射して絶縁基材のみを除去し、金属箔3Aの裏面が表出している孔(貫通孔)2を穿設して中間体Aを製造する。この貫通孔2の孔径は50μm〜1mm程度に設定され、また貫通孔2の形成箇所は、製造する回路基板において、前記した導通構造を形成すべき箇所に設定される。なお、中間体Aの製造に際しては、絶縁基材1にまず貫通孔2を穿設し、その後、絶縁基材に金属箔3Aを接着してもよい。 Next, as shown in FIG. 12, for example, a carbon dioxide laser is irradiated from the back surface of the insulating base material 1 of the intermediate A 1 to remove only the insulating base material, and the hole (penetration) where the back surface of the metal foil 3A is exposed. holes) 2 and drilled to produce intermediate a 2 in. The diameter of the through hole 2 is set to about 50 μm to 1 mm, and the place where the through hole 2 is formed is set to a place where the above-described conductive structure is to be formed in the circuit board to be manufactured. Incidentally, in the production of Intermediate A 2, first drilled through-holes 2 in the insulating substrate 1, may then be bonded to the metal foil 3A in the insulating substrate.

ついで、図12の中間体Aの金属箔3Aに、フォトリソグラフィーとエッチング技術を適用して所望するパターンの導体回路3と貫通孔2の箇所には金属箔部分3aを形成して、図1で示した回路基板Aにする。
この過程で、同時に、金属箔部分3aに図13で示したように前記したスリット孔3cを形成してもよい。
Next, the metal foil 3A of the intermediate body A 2 in FIG. 12 is applied with photolithography and etching techniques to form a metal foil portion 3a at the positions of the conductor circuit 3 and the through hole 2 having a desired pattern. The circuit board A shown in FIG.
In this process, at the same time, the slit hole 3c described above may be formed in the metal foil portion 3a as shown in FIG.

次に回路基板Bについて説明する。
回路基板Bでは、図14で示したように、絶縁基材1の両面に導体回路3.3が形成され、貫通孔2の上部開口部と下部開口部のいずれも閉鎖して金属箔部分3a,3aが形成されていて、貫通孔2に線状導体4を挿入することにより、線状導体4は、下部の金属箔部分3a、上部の金属箔部分3aのいずれとも導通構造を形成している。このことにより、回路基板Bでは、上面の導体回路3と下面の導体回路3の間における層間接続がとられている。
Next, the circuit board B will be described.
In the circuit board B, as shown in FIG. 14, conductor circuits 3.3 are formed on both surfaces of the insulating base 1, and both the upper opening and the lower opening of the through hole 2 are closed to close the metal foil portion 3a. , 3a are formed, and by inserting the linear conductor 4 into the through hole 2, the linear conductor 4 forms a conductive structure with both the lower metal foil portion 3a and the upper metal foil portion 3a. Yes. As a result, in the circuit board B, an interlayer connection is established between the conductor circuit 3 on the upper surface and the conductor circuit 3 on the lower surface.

この回路基板Bを製造する場合には、一旦、図1で示した回路基板Aを製造したのち、回路基板Aの絶縁基材1の下面に金属箔を接着し、ついで回路基板Aの場合と同様にしてその金属箔に導体回路3と金属箔部分3aを形成すればよい。あるいは、絶縁基材1に貫通孔2を形成したのち両面に金属箔3Aを接着し、各金属箔のそれぞれに導体回路3と金属箔部分3aを形成してもよい。   In the case of manufacturing the circuit board B, after manufacturing the circuit board A shown in FIG. 1, a metal foil is bonded to the lower surface of the insulating base 1 of the circuit board A, and then the circuit board A is used. Similarly, the conductor circuit 3 and the metal foil portion 3a may be formed on the metal foil. Or after forming the through-hole 2 in the insulating base material 1, metal foil 3A may be adhere | attached on both surfaces, and the conductor circuit 3 and the metal foil part 3a may be formed in each of each metal foil.

次に本発明のモジュールについて説明する。
このモジュールは、回路基板Aまたは回路基板Bに所定の実装部品を表面実装して組立てられる。
実装部品5には、図15で示したように、例えばLSIのインターポーザの底部に線状の接続端子5aが下方に突設した状態で所定の配列パターンをなして設けられている。なお、この接続端子としては、BGAのボールを小さくしたような球状のものであってもよい。
Next, the module of the present invention will be described.
This module is assembled by mounting a predetermined mounting component on the circuit board A or the circuit board B.
As shown in FIG. 15, for example, the mounting component 5 is provided with a predetermined arrangement pattern in a state where linear connection terminals 5 a protrude downward from the bottom of an LSI interposer. In addition, as this connection terminal, the spherical thing which made the ball | bowl of BGA small may be sufficient.

一方、回路基板A(またはB)の実装面には、同じく図15で示したように、上記した接続端子5aの配列パターンに対応する配列で、既に説明した金属箔部分3aが形成されている。
そして、仮想線で示したように、これら各金属箔部分3aの上に実装部品5の接続端子5aを裁置し、ついで全体を下方に押圧して接続端子5aを金属箔部分3aの下方に位置する貫通孔の中に圧入する。
On the other hand, on the mounting surface of the circuit board A (or B), as already shown in FIG. 15, the already described metal foil portion 3a is formed in an arrangement corresponding to the arrangement pattern of the connection terminals 5a. .
Then, as indicated by phantom lines, the connection terminals 5a of the mounting component 5 are placed on the respective metal foil portions 3a, and then the whole is pressed downward to bring the connection terminals 5a below the metal foil portions 3a. Press fit into the located through hole.

金属箔部分3aのばね弾性により各接続端子5aは固定され、ここに、実装部品と回路基板A(またはB)との導通構造が実現して、1個のモジュールが組立てられる。
このモジュールの場合、接続端子5aと回路基板Aの導体回路3ははんだ接続されていないので、実装部品5は回路基板A(またはB)から着脱自在になっている。そのため、仮に実装部品5が故障を起こした場合でも、それを回路基板A(またはB)から取り外し、新たな良品を実装することができる。
Each connection terminal 5a is fixed by the spring elasticity of the metal foil portion 3a. Here, a conduction structure between the mounting component and the circuit board A (or B) is realized, and one module is assembled.
In the case of this module, since the connection terminal 5a and the conductor circuit 3 of the circuit board A are not solder-connected, the mounting component 5 is detachable from the circuit board A (or B). Therefore, even if the mounting component 5 has a failure, it can be removed from the circuit board A (or B) and a new good product can be mounted.

次に本発明の多層回路基板について説明する。
多層回路基板の製造に際しては、単位回路基板として回路基板Aが使用される。
まず、図16で示したように、例えば4枚の回路基板Aを重ね合わせて4層構造の積層体を組立てる。この回路基板Aは、金属箔部分3aにスリット孔3cが形成されている。このとき、各回路基板の層間接続をとるべき箇所では、各回路基板Aの貫通孔2を同軸的に位置合せする。
Next, the multilayer circuit board of the present invention will be described.
In manufacturing a multilayer circuit board, the circuit board A is used as a unit circuit board.
First, as shown in FIG. 16, for example, four circuit boards A are overlapped to assemble a laminated body having a four-layer structure. In this circuit board A, slit holes 3c are formed in the metal foil portion 3a. At this time, the through hole 2 of each circuit board A is coaxially aligned at a location where the interlayer connection of each circuit board is to be taken.

ついで、図17で示したように、この多層構造における共通孔となっている貫通孔2に線状導体4を挿入する。各回路基板Aの導体回路と線状導体との間で導通構造が形成されるので、各回路基板Aの間で層間接続が実現している4層構造の多層回路基板が得られる。
なお、この構造においては、回路基板Aにおけるスリット孔の形状や大きさを適宜に設定することにより、金属箔部分3aと線状導体4の圧接状態を変化させることができる。すなわち、線状導体4を貫通孔2から抜けにくくしたり、逆に容易に抜けるようにすることもできる。
Next, as shown in FIG. 17, the linear conductor 4 is inserted into the through hole 2 which is a common hole in this multilayer structure. Since a conductive structure is formed between the conductor circuit and the linear conductor of each circuit board A, a multilayer circuit board having a four-layer structure in which an interlayer connection is realized between the circuit boards A is obtained.
In this structure, the pressure contact state between the metal foil portion 3a and the linear conductor 4 can be changed by appropriately setting the shape and size of the slit hole in the circuit board A. That is, it is possible to make it difficult for the linear conductor 4 to be removed from the through-hole 2 or to easily remove it.

また、例えば、2層目(上から)の回路基板Aと線状導体4の導通構造を形成しない設計仕様の場合には、図18で示したように、2層目の回路基板として、貫通孔2を閉鎖する金属箔部が形成されていない回路基板を用いればよい。
この多層回路基板の場合、従来のようにスルーホールめっきで層間接続をとる構造ではない。したがって、製造時にあっては、従来のような湿式めっきとそれに伴う前処理や洗浄などの工程が不要になる。このことによって、多層回路基板の製造時のコストを大幅に低減することが可能になる。
Further, for example, in the case of a design specification that does not form a conductive structure between the second layer (from above) circuit board A and the linear conductor 4, as shown in FIG. What is necessary is just to use the circuit board in which the metal foil part which closes the hole 2 is not formed.
In the case of this multilayer circuit board, it is not a structure in which interlayer connection is made by through-hole plating as in the prior art. Therefore, conventional manufacturing processes such as wet plating and the accompanying pretreatment and cleaning are not required during manufacturing. This makes it possible to significantly reduce the cost for manufacturing the multilayer circuit board.

また、この多層回路基板は、線状導体を抜けば個別の回路基板に解体することができるので、不良の回路基板を良品に交換することができる。
次に本発明のコネクタ構造を説明する。
図19で示したように、例えば銅張りポリイミドフィルムを用いて製造されたフレキシブルケーブル6を用意する。このケーブル6の先端部には、線状の接続端子6aが所定のパターンで配列している雄型コネクタ部が形成されている。そして、回路基板A(またはB)の所定の箇所には、前記した接続端子6aの配列パターンに対応した配列パターンで、既に説明した金属箔部分3aが配列されて雌型コネクタ部を形成している。
Moreover, since this multilayer circuit board can be disassembled into individual circuit boards by removing the linear conductors, a defective circuit board can be replaced with a non-defective product.
Next, the connector structure of the present invention will be described.
As shown in FIG. 19, for example, a flexible cable 6 manufactured using a copper-clad polyimide film is prepared. A male connector portion in which linear connection terminals 6 a are arranged in a predetermined pattern is formed at the distal end portion of the cable 6. Then, the metal foil portions 3a already described are arranged in predetermined positions on the circuit board A (or B) in an arrangement pattern corresponding to the arrangement pattern of the connection terminals 6a to form a female connector portion. Yes.

そして、雌型コネクタ部に雄型コネクタ部を圧接して接続端子6aを金属箔部分3aを介して貫通孔の中に挿入することにより、接続端子6aと回路基板Aの導体回路3との導通構造が形成され、ここにコネクタ構造が実現する。   Then, the male connector portion is pressed against the female connector portion, and the connection terminal 6a is inserted into the through hole through the metal foil portion 3a, whereby the connection terminal 6a and the conductor circuit 3 on the circuit board A are electrically connected. A structure is formed, where a connector structure is realized.

本発明によれば、回路基板A(またはB)を用いることにより、はんだを使用することなく実装部品を表面実装することができる。また、湿式めっきを適用しなくても、複数枚の回路基板Aの金属箔部分を線状導体で機械的に結合することにより、各層の層間接続がとれていて、かつ個々の回路基板に分解できる多層回路基板をローコストで組立てることができる。また、回路基板A(またはB)を雌型コネクタ部として機能させることにより、コネクタ構造を組立てることができる。   According to the present invention, by using the circuit board A (or B), the mounting component can be surface-mounted without using solder. Also, even if wet plating is not applied, the metal foil portions of a plurality of circuit boards A are mechanically connected by linear conductors, so that the interlayer connection between the layers can be taken and the circuit boards can be disassembled into individual circuit boards. Multilayer circuit boards that can be assembled can be assembled at low cost. In addition, the connector structure can be assembled by causing the circuit board A (or B) to function as a female connector portion.

本発明の回路基板Aの1例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one example of the circuit board A of this invention. 回路基板Aに線状導体を配置して実使用に供した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which has arrange | positioned the linear conductor to the circuit board A and used for actual use. 図2の状態にある回路基板Aの一部切欠斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view of a circuit board A in the state of FIG. 2. 貫通孔の上部開口部を完全に封口して金属箔部分が形成された状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state by which the upper opening part of the through-hole was completely sealed and the metal foil part was formed. 金属箔部分にスリット孔を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the slit hole in the metal foil part. スリット孔の1例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of a slit hole. 図4の金属箔部分を線状導体が貫通した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which the linear conductor penetrated the metal foil part of FIG. スリット孔を有する金属箔部分を線状導体が貫通した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which the linear conductor penetrated the metal foil part which has a slit hole. スリット孔の別の例を示す平面図である。It is a top view which shows another example of a slit hole. 別のスリット孔を示す平面図である。It is a top view which shows another slit hole. 中間体Aを示す断面図である。Is a sectional view showing an intermediate A 1. 中間体Aを示す断面図である。Is a sectional view showing an intermediate A 2. 金属箔部分にスリット孔を形成した回路基板Aを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit board A which formed the slit hole in the metal foil part. 本発明の回路基板Bを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit board B of this invention. 本発明のモジュールを説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the module of this invention. 回路基板Aを重ね合わせた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which accumulated the circuit board A. FIG. 組立てられた本発明の多層回路基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the multilayer circuit board of this invention assembled. 他の多層回路基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another multilayer circuit board. 本発明のコネクタ構造を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the connector structure of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 絶縁基材
1a 絶縁基材1の一方の表面
1b 絶縁基材1の他方の表面
2 貫通孔
3 導体回路
3A 金属箔
3a 金属箔部分
3b 破裂片
3c スリット孔
3d 舌片部
4 線状導体
4a 線状導体4の腹部
4b 線状導体4の先端部
5 実装部品
5a 接続端子
6 テープケーブル
6a 接続端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating base material 1a One surface 1b of insulating base material 1b The other surface of insulating base material 2 Through-hole 3 Conductor circuit 3A Metal foil 3a Metal foil part 3b Rupture piece 3c Slit hole 3d Tongue piece part 4 Linear conductor 4a Abdominal part 4b of linear conductor 4 Tip part of linear conductor 4 5 Mounting parts 5a Connection terminal 6 Tape cable 6a Connection terminal

Claims (11)

絶縁基材と、
前記絶縁基材の所望する位置の厚み方向に形成されている少なくとも1個の貫通孔と、
少なくとも前記貫通孔の開口部を閉鎖した状態で前記絶縁基材の片面に接着された導電性とばね弾性を有する金属箔を加工して形成された導体回路とを備えていることを特徴とする回路基板。
An insulating substrate;
At least one through-hole formed in the thickness direction of the desired position of the insulating substrate;
A conductive circuit formed by processing a metal foil having electrical conductivity and spring elasticity bonded to one surface of the insulating base material with at least an opening of the through hole being closed is provided. Circuit board.
絶縁基材と、
前記絶縁基材の所望する位置の厚み方向に形成されている少なくとも1個の貫通孔と、
前記貫通孔の両開口部を閉鎖した状態で前記絶縁基材の両面に接着された導電性とばね弾性を有する金属箔を加工して形成された導体回路と、
前記貫通孔の両開口部を閉鎖する金属箔部分を貫通して前記貫通孔に挿入されて、前記金属箔部分と圧接状態にある線状導体とを備えていることを特徴とする回路基板。
An insulating substrate;
At least one through-hole formed in the thickness direction of the desired position of the insulating substrate;
A conductor circuit formed by processing a metal foil having electrical conductivity and spring elasticity bonded to both surfaces of the insulating substrate in a state where both openings of the through hole are closed;
A circuit board comprising a linear conductor that is inserted into the through-hole through a metal foil portion that closes both openings of the through-hole and is in pressure contact with the metal foil portion.
前記貫通孔の開口部を閉鎖する金属箔部分には、スリット孔が形成されている請求項1または2の回路基板。   The circuit board according to claim 1, wherein a slit hole is formed in a metal foil portion that closes the opening of the through hole. 前記金属箔は、厚みが50μm以下であり、かつ厚み0.1mm以上の箔の状態でJIS H3130で規定するばね限界値を測定したときの値が350N/mm2以上の値を示す合金の箔である請求項1〜3のいずれかの回路基板。 The metal foil is an alloy foil having a thickness of 50 μm or less and a value of 350 N / mm 2 or more when a spring limit value specified by JIS H3130 is measured in a state of a foil having a thickness of 0.1 mm or more. The circuit board according to claim 1. 前記合金が銅合金である請求項4の回路基板。   The circuit board according to claim 4, wherein the alloy is a copper alloy. 前記銅合金が、C2600(黄銅)、C7701(洋白)、C7025(コルソン合金)、C5212(リン青銅)、C1700(ベリリウム銅)、C18040、C64770、C19400、C64710、C42500、C64725、C64740、C44250、C19020またはC19025のいずれかである請求項4の回路基板。   The copper alloy is C2600 (brass), C7701 (white), C7025 (Corson alloy), C5212 (phosphor bronze), C1700 (beryllium copper), C18040, C64770, C19400, C64710, C42500, C64725, C64740, C44250, The circuit board according to claim 4, wherein the circuit board is either C19020 or C19025. 前記銅合金の箔の少なくとも片面には、銅または銀のめっきが施されている請求項5または6の回路基板。   7. The circuit board according to claim 5, wherein at least one surface of the copper alloy foil is plated with copper or silver. 前記金属箔が圧延銅箔または電解銅箔であり、それら銅箔の少なくとも前記貫通孔の開口部を閉鎖すべき箇所には、厚み0.1mm以上の箔の状態でJIS H3130で規定するばね限界値を測定したときの値が350N/mm2以上の値を示す金属または合金のめっきが施されており、かつ、全体の厚みが50μm以下である請求項1〜3のいずれかの回路基板。 The metal foil is a rolled copper foil or an electrolytic copper foil, and at least a portion of the copper foil where the opening of the through hole is to be closed is a spring limit specified by JIS H3130 in a state of a foil having a thickness of 0.1 mm or more. The circuit board according to any one of claims 1 to 3, wherein a metal or alloy showing a value of 350 N / mm 2 or more when measured is plated, and the total thickness is 50 µm or less. 請求項1または2の回路基板における前記貫通孔の開口部を閉鎖する金属箔部分に、底部に突設する線状または球状の接続端子を有する実装部品の前記接続端子が圧入されて、前記実装部品と前記回路基板の導体回路との間で導通構造が形成されていることを特徴とするモジュール。   The mounting terminal of a mounting component having a linear or spherical connecting terminal projecting from the bottom is pressed into a metal foil portion that closes the opening of the through hole in the circuit board according to claim 1 or 2, and the mounting is performed. A module in which a conduction structure is formed between a component and a conductor circuit of the circuit board. 各回路基板における所望する貫通孔を同軸的に位置合せして請求項1の回路基板の複数枚が積層されて成る多層構造を有し、
前記多層構造における共通の前記貫通孔には、各回路基板における前記貫通孔を閉鎖する金属箔部分を着脱自在に貫通する状態で線状導体が挿入されており、
前記線状導体を介して各回路基板間の電気的な層間接続構造が形成されていることを特徴とする多層回路基板。
A multilayer structure formed by laminating a plurality of circuit boards according to claim 1 by coaxially aligning desired through holes in each circuit board,
A linear conductor is inserted into the common through hole in the multilayer structure in a state of detachably penetrating a metal foil portion that closes the through hole in each circuit board,
An electrical interlayer connection structure between circuit boards is formed through the linear conductor.
片面に突設する雄型接続端子を有するテープケーブルの前記雄型接続端子が、請求項1もしくは2の回路基板、または請求項10の多層回路基板の最上層の回路基板における前記貫通孔を閉鎖する金属箔部分に圧入されていることを特徴とするコネクタ構造。   The male connection terminal of a tape cable having a male connection terminal projecting on one side closes the through hole in the circuit board according to claim 1 or 2, or the uppermost circuit board of the multilayer circuit board according to claim 10. A connector structure that is press-fitted into a metal foil portion.
JP2006106711A 2006-04-07 2006-04-07 Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure Pending JP2007281253A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006106711A JP2007281253A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006106711A JP2007281253A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007281253A true JP2007281253A (en) 2007-10-25

Family

ID=38682388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006106711A Pending JP2007281253A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007281253A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016170902A1 (en) * 2015-04-24 2016-10-27 スタンレー電気株式会社 Electronic device production method, electronic device, circuit board production method, and circuit board
JP2019040936A (en) * 2017-08-23 2019-03-14 田淵電機株式会社 Substrate assembly

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016170902A1 (en) * 2015-04-24 2016-10-27 スタンレー電気株式会社 Electronic device production method, electronic device, circuit board production method, and circuit board
JP2019040936A (en) * 2017-08-23 2019-03-14 田淵電機株式会社 Substrate assembly

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8146243B2 (en) Method of manufacturing a device incorporated substrate and method of manufacturing a printed circuit board
JP4767269B2 (en) Method for manufacturing printed circuit board
JP2001237512A (en) Double-sided circuit board, maltilayer interconnection board using it, and manufacturing method of double-sided circuit board
JPWO2009141927A1 (en) Printed wiring board and manufacturing method thereof
EP1708552A2 (en) Method of production of circuit board utilizing electroplating
CN103493610A (en) Rigid-flexible substrate and method for manufacturing same
JP6139653B2 (en) Component built-in resin multilayer board
US6335076B1 (en) Multi-layer wiring board and method for manufacturing the same
EP1903840A1 (en) Wiring board, wiring material, copper-clad laminate, and wiring board fabrication method
JPS63229897A (en) Manufacture of rigid type multilayer printed circuit board
CN107645855B (en) Leadless electroplating circuit board and manufacturing method thereof
JP2007281253A (en) Circuit board, multilayer circuit board using the same, module and connector structure
JP4389756B2 (en) Manufacturing method of multilayer flexible printed wiring board
JP3905802B2 (en) Printed wiring board and manufacturing method thereof
JP4711757B2 (en) Wiring board
JP2014007256A (en) Wiring board and method for manufacturing the same
JP5323395B2 (en) Electronic module and method for manufacturing electronic module
JP2006324282A (en) Multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
CN109310006A (en) Printed circuit board
JP5003940B2 (en) Wiring board
JP4506196B2 (en) Multilayer wiring board evaluation method, wiring pattern, and evaluation member
KR100827310B1 (en) Printed Circuit Board and the method of manufacturing thereof
JP2517315B2 (en) Electronic circuit package
JP4984502B2 (en) BGA type carrier substrate manufacturing method and BGA type carrier substrate
JP2006156553A (en) Flexible printed-wiring board and manufacturing method thereof, and manufacturing method of multilayer flexible printed-wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090529

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090603

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20091021

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02