JP2007272211A - Optical element, and method for the manufacturing optical element - Google Patents

Optical element, and method for the manufacturing optical element Download PDF

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毅 藤原
Yasutsugu Yamauchi
康嗣 山内
Masami Kadowaki
雅美 門脇
Kumiko Okamoto
久美子 岡本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical element having an anisotropic optical film with excellent uniformity. <P>SOLUTION: The optical element has a substrate and the anisotropic optical film formed by applying a composition for forming the anisotropic optical film to the substrate, wherein the optical element is characterized in that average surface roughness of a substrate surface to which the composition for forming the anisotropic optical film is applied is 300Å or less, and a contact angle between the composition for forming the anisotropic optical film and the substrate surface to which the composition is applied is 75° or less. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は光学素子等に関し、より詳しくは、基板上に異方性光学膜を備えた光学素子等に関する。   The present invention relates to an optical element or the like, and more particularly to an optical element or the like provided with an anisotropic optical film on a substrate.

LCD(液晶表示ディスプレイ)では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。OLED(有機EL素子)においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。
従来、これらの偏光板(偏光素子)には、ヨウ素や二色性を有する有機色素をポリビニルアルコール等の高分子材料に溶解または吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に延伸して二色性色素を配向させることにより得られる偏光膜が広く使用されてきた。しかしながら、このようにして製造される従来の偏光膜では、用いる色素や高分子材料によっては耐熱性や耐光性が十分でない;液晶装置製造時における偏光膜の貼り合わせの歩留りが悪い;等の問題があった。
In an LCD (liquid crystal display), a linearly polarizing plate and a circularly polarizing plate are used to control optical rotation and birefringence in display. Also in OLED (organic EL element), a circularly polarizing plate is used to prevent reflection of external light.
Conventionally, in these polarizing plates (polarizing elements), iodine or a dichroic organic dye is dissolved or adsorbed in a polymer material such as polyvinyl alcohol, and the film is stretched into a film in one direction to obtain two colors. A polarizing film obtained by orienting a functional dye has been widely used. However, the conventional polarizing film manufactured in this way has insufficient heat resistance and light resistance depending on the dye or polymer material used; problems such as poor yield of bonding of the polarizing film when manufacturing a liquid crystal device; was there.

一方、ガラスや透明フィルムなどの基材上に二色性色素を含む溶液を、剪断力を加えつつ塗布することにより、二色性色素を配向させて偏光膜を製造する方法が検討されている(例えば、特許文献1,2等参照)。   On the other hand, a method of producing a polarizing film by orienting a dichroic dye by applying a solution containing the dichroic dye on a substrate such as glass or a transparent film while applying a shearing force has been studied. (For example, see Patent Documents 1 and 2).

特表平8−511109号公報JP-T 8-511109 特開2002−277636号公報JP 2002-277636 A

しかしながら、特許文献1,2等に記載の方法を用いて二色性色素を含む溶液を種々の基材上に塗布した場合、好ましい態様で偏光膜が得られない場合があった。即ち、例えば、高分子材料よりなる基材の表面に二色性色素を含む溶液を塗布する場合に、均一な塗膜が得られず塗布欠陥が生じ、光学的に均質な偏光膜、ひいては光学的に均質な光学素子が得られない場合があった。   However, when a solution containing a dichroic dye is applied on various substrates using the methods described in Patent Documents 1 and 2 and the like, a polarizing film may not be obtained in a preferred mode. That is, for example, when a solution containing a dichroic dye is applied to the surface of a base material made of a polymer material, a uniform coating film cannot be obtained, resulting in a coating defect, and an optically uniform polarizing film, and thus optical In some cases, a homogeneous optical element cannot be obtained.

本発明は、上記のような技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、均一性に優れる光学素子を提供することにある。   The present invention has been made to solve the technical problems as described above, and an object of the present invention is to provide an optical element having excellent uniformity.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、異方性光学膜形成用組成物を基板上に塗布して光学素子を形成するに際し、表面に一定の平滑性を有する基板と、基板の表面に対して一定の濡れ性を有する異方性光学膜用組成物とを組み合わせて使用することにより、均一性に優れる光学素子を実現し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have a certain smoothness on the surface when an optical element is formed by applying the composition for forming an anisotropic optical film on a substrate. Discovered that an optical element with excellent uniformity can be realized by combining a substrate and a composition for an anisotropic optical film having a certain wettability with the surface of the substrate, and completed the present invention. It came to do.

即ち、本発明の光学素子は、基板と、基板上に異方性光学膜形成用組成物を塗布して形成する異方性光学膜とを有する光学素子であって、基板の異方性光学膜形成用組成物が塗布される面の平均表面粗さが300Å以下であり、異方性光学膜形成用組成物の基板塗布面に対する接触角が75度以下であることを特徴とする。   That is, the optical element of the present invention is an optical element having a substrate and an anisotropic optical film formed by applying a composition for forming an anisotropic optical film on the substrate, The average surface roughness of the surface on which the film-forming composition is applied is 300 mm or less, and the contact angle of the anisotropic optical film-forming composition with respect to the substrate-coated surface is 75 degrees or less.

ここで、基板の平均表面粗さとしては20Å以上であり、接触角としては40度以上かつ65度以下であることを特徴とすることができる。また、基板の平均表面粗さとしては20Å以上かつ100Å以下であり、接触角としては20度以上かつ40度以下であることを特徴とすることができる。更に、基板の平均表面粗さとしては20Å以上かつ200Å以下であり、接触角としては20度以上かつ40度以下であることを特徴とすることができる。また更に、基板の平均表面粗さとしては1Å以上かつ20Å以下であり、接触角としては15度以上かつ75度以下であることを特徴とすることができる。   Here, the average surface roughness of the substrate is 20 mm or more, and the contact angle is 40 degrees or more and 65 degrees or less. Further, the average surface roughness of the substrate may be from 20 to 100 mm, and the contact angle may be from 20 to 40 degrees. Furthermore, the average surface roughness of the substrate may be from 20 to 200 mm, and the contact angle may be from 20 to 40 degrees. Still further, the average surface roughness of the substrate may be from 1 to 20 mm, and the contact angle may be from 15 to 75 degrees.

一方、基板としては高分子基材を含み、かつ基板の全光線透過率が80%以上であることを特徴とすることができる。また、基板の吸水率としては5%以下であることを特徴とすることができる。   On the other hand, the substrate includes a polymer base material, and the total light transmittance of the substrate is 80% or more. Further, the water absorption rate of the substrate may be 5% or less.

また、本発明は光学素子の製造方法と捉えることができ、本発明の光学素子の製造方法は、基板と、基板上に積層された異方性光学膜とを備える光学素子の製造方法であって、平均表面粗さが300Å以下である基板塗布面上に、基板塗布面に対する接触角が75度以下である異方性光学膜形成用組成物を塗布して異方性光学膜を形成することを特徴としている。   Further, the present invention can be regarded as an optical element manufacturing method, and the optical element manufacturing method of the present invention is an optical element manufacturing method including a substrate and an anisotropic optical film laminated on the substrate. An anisotropic optical film is formed by applying a composition for forming an anisotropic optical film having a contact angle with respect to the substrate coating surface of 75 degrees or less onto the substrate coating surface having an average surface roughness of 300 mm or less. It is characterized by that.

本発明によれば、均一な異方性光学膜を備える光学素子が提供される。   According to the present invention, an optical element including a uniform anisotropic optical film is provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態(実施の形態)について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, the best mode (embodiment) for carrying out the present invention will be described. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.

本実施の形態における異方性光学膜とは、膜の厚み方向及び任意の直交する面内2方向の立体座標系における合計3方向から選ばれる任意の2方向における電磁気学的性質に、異方性を有する光学膜である。電磁気学的性質としては、吸収、屈折などの光学的性質、抵抗、容量などの電気的性質などが挙げられる。吸収、屈折などの光学的異方性を有する膜としては、例えば、直線偏光膜、円偏光膜、位相差膜、導電異方性膜などがある。本実施の形態における異方性光学膜は、特に、偏光膜、位相差膜、導電異方性膜として好適に用いることが可能な光学膜である。
また、本実施の形態における光学素子は、基板と、該基板上に異方性光学膜形成用組成物を塗布して形成された異方性光学膜とを有するものである。以下、この実施形態につき、詳述する。
The anisotropic optical film in the present embodiment is anisotropic in the electromagnetic properties in any two directions selected from a total of three directions in the three-dimensional coordinate system of the film thickness direction and any two orthogonal in-plane directions. It is an optical film having properties. Examples of electromagnetic properties include optical properties such as absorption and refraction, and electrical properties such as resistance and capacitance. Examples of the film having optical anisotropy such as absorption and refraction include a linearly polarizing film, a circularly polarizing film, a retardation film, and a conductive anisotropic film. In particular, the anisotropic optical film in the present embodiment is an optical film that can be suitably used as a polarizing film, a retardation film, and a conductive anisotropic film.
The optical element in the present embodiment includes a substrate and an anisotropic optical film formed by applying an anisotropic optical film forming composition on the substrate. Hereinafter, this embodiment will be described in detail.

(基板)
本実施の形態における基板としては、特に限定されるものではないが、良好な表面性状、接触角特性と吸水特性を有する基板であることが好ましい。そのような基板を形成する基材としては、例えば、ガラス等の無機材料;トリアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、環状ポレオレフィン系樹脂、又はウレタン系樹脂等の高分子材料;等を挙げることができる。これらは1種を単独で、または2種以上を併用してもよい。特に基板は高分子材料を含有する高分子基材を含む基板であることが好ましい。
(substrate)
Although it does not specifically limit as a board | substrate in this Embodiment, It is preferable that it is a board | substrate which has favorable surface property, a contact angle characteristic, and a water absorption characteristic. As a base material for forming such a substrate, for example, an inorganic material such as glass; triacetate resin, acrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, triacetyl cellulose resin, norbornene resin , Polymer materials such as cyclic polyolefin resin or urethane resin; and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, the substrate is preferably a substrate including a polymer base material containing a polymer material.

基板表面には、特に限定されるものではないが、例えば、物理的又は化学的改質処理手段であるコロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射(UVオゾン)処理等の表面処理を施しても良いし、ポリイミド、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール等の樹脂を被覆するコート処理を施しても良い。コート処理の後に上記コロナ処理等を更に施してもよい。このような処理を施すことで、基板表面に適切な平均表面粗さ(Ra)を付与することができ、基板の濡れ性を制御することができる。特に、物理的改質処理手段を用いると、塗布面の面性状や塗布性が良好になり、二色性が向上したり、光散乱(ヘイズ)が低下したりする。   The substrate surface is not particularly limited, but may be subjected to surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation (UV ozone) treatment, which is a physical or chemical modification treatment means. A coating treatment may be applied to coat a resin such as polyimide, polyvinyl butyral, or polyvinyl acetal. The above corona treatment or the like may be further performed after the coating treatment. By performing such treatment, an appropriate average surface roughness (Ra) can be imparted to the substrate surface, and the wettability of the substrate can be controlled. In particular, when a physical modification treatment means is used, the surface properties and coatability of the coated surface are improved, dichroism is improved, and light scattering (haze) is decreased.

基板表面の、異方性光学膜形成用組成物が塗布される面のRa値としては、300Å以下、好ましくは250Å以下、より好ましくは200Å以下、更に好ましくは150Å以下、特に好ましくは100Å以下であり、下限としては通常、1Å以上、好ましくは3Å以上、より好ましくは5Å以上、更に好ましくは10Å以上、特に好ましくは15Å以上、最も好ましくは20Å以上である。Ra値が過度に小さいと、色素など基板上に塗布された分子の移動が容易となって均一な光学素子が得られない場合がある。
なお、Ra値の測定は、ケーエルエー・テンコール株式会社製アルファステップIQを用いて測定することができる。本実施の形態において、Ra値は、基板表面におけるMD方向およびTD方向のそれぞれ2箇所を500μmの長さで測定し、その平均値として算出した値である。
The Ra value of the surface of the substrate surface to which the composition for forming an anisotropic optical film is applied is 300 mm or less, preferably 250 mm or less, more preferably 200 mm or less, still more preferably 150 mm or less, and particularly preferably 100 mm or less. The lower limit is usually 1 mm or more, preferably 3 mm or more, more preferably 5 mm or more, further preferably 10 mm or more, particularly preferably 15 mm or more, and most preferably 20 mm or more. If the Ra value is excessively small, movement of molecules such as a dye on the substrate is facilitated, and a uniform optical element may not be obtained.
The Ra value can be measured using an alpha step IQ manufactured by KLA-Tencor Corporation. In the present embodiment, the Ra value is a value calculated as an average value obtained by measuring two locations in the MD direction and TD direction on the substrate surface with a length of 500 μm.

基板の吸水率としては、通常、5%以下、好ましくは3%以下、より好ましくは1%以下である。吸水率が過度に大きいと、湿式成膜法にて異方性光学材料の膜を形成する際に基板が吸湿して基板が反り、塗布欠陥が生じやすくなる場合がある。また、湿式成膜法にて異方性光学膜が形成された後に基板が膨潤して光学欠陥が発生する場合がある。
なお、本実施の形態における「吸水率」とは、ASTM D570の試験方法を用い、23℃の水に4時間浸漬させたときの重量変化率を測定した値である。
The water absorption rate of the substrate is usually 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less. If the water absorption is excessively large, the substrate may absorb moisture when the film of the anisotropic optical material is formed by a wet film formation method, and the substrate may be warped, which may easily cause a coating defect. In addition, after the anisotropic optical film is formed by a wet film forming method, the substrate may swell and an optical defect may occur.
The “water absorption rate” in the present embodiment is a value obtained by measuring the rate of change in weight when immersed in water at 23 ° C. for 4 hours using the test method of ASTM D570.

基板表面の、異方性光学膜形成用組成物が塗布される面には、異方性光学膜形成用組成物中に含まれる色素などの異方性光学材料をよりよく一定方向に配向させる観点から、予め配向処理層を設けることができる。配向処理層の形成方法については「液晶便覧」(丸善株式会社、平成12年10月30日発行)226頁〜239頁などに記載の公知の方法によることができる。   An anisotropic optical material such as a dye contained in the anisotropic optical film forming composition is better oriented in a certain direction on the surface of the substrate on which the anisotropic optical film forming composition is applied. From the viewpoint, an alignment treatment layer can be provided in advance. About the formation method of an orientation processing layer, it can be based on the well-known method as described in "Liquid Crystal Handbook" (Maruzen Co., Ltd., issued on October 30, 2000) pp. 226-239.

また、基板の形状としては、一定寸法のフィルム状(枚葉状)であってもよいし、連続フィルム状(帯状)であってもよい。また、基板の膜厚としては、通常、0.01mm〜3mm、好ましくは0.02mm〜2mmである。   Moreover, as a shape of a board | substrate, the film form (sheet-fed form) of a fixed dimension may be sufficient, and a continuous film form (strip | belt shape) may be sufficient. Moreover, as a film thickness of a board | substrate, it is 0.01 mm-3 mm normally, Preferably it is 0.02 mm-2 mm.

基板の全光線透過率としては、通常、80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。
なお、本実施の形態における「全光線透過率」とは、積分球色測定装置を使用して測定されるもので、拡散透過光と平行光線透過光とをあわせた値である。
The total light transmittance of the substrate is usually 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 90% or more.
The “total light transmittance” in the present embodiment is measured using an integrating sphere color measuring device, and is a value obtained by combining diffuse transmission light and parallel light transmission light.

(異方性光学膜形成用組成物)
本実施の形態における異方性光学膜形成用組成物は、異方性光学材料および溶剤を含む(以下、異方性光学膜形成用組成物を「色素溶液」と略記することがある)。また、異方性光学膜形成用組成物には必要に応じ、バインダー樹脂、モノマー、硬化剤、添加剤等が配合されても良い。異方性光学膜形成用組成物の態様としては、溶液状であっても良いし、ゲル状であっても良い。異方性光学材料が溶剤中に分散している状態であっても良い。
(Anisotropic optical film forming composition)
The composition for forming an anisotropic optical film in the present embodiment includes an anisotropic optical material and a solvent (hereinafter, the composition for forming an anisotropic optical film may be abbreviated as “dye solution”). Moreover, binder resin, a monomer, a hardening | curing agent, an additive, etc. may be mix | blended with the composition for anisotropic optical film formation as needed. The anisotropic optical film forming composition may be in the form of a solution or gel. The anisotropic optical material may be dispersed in a solvent.

ここで、異方性光学膜形成用組成物は、組成物として液晶相の状態であることが、溶剤が蒸発した後に形成される異方性光学膜を高配向度に形成する観点から好ましい。なお、本実施の形態において、液晶相の状態であるとは、『液晶の基礎と応用』(松本正一・角田市良著、1991)の1〜16ページに記載されている状態のことをいう。特に3ページに記載されているネマティック相が好ましい。
ここで、異方性光学材料としては、異方性光学膜を形成できるものであればよく、色素や透明材料が挙げられる。
Here, the composition for forming an anisotropic optical film is preferably in a liquid crystal phase as a composition from the viewpoint of forming an anisotropic optical film formed after the solvent evaporates with a high degree of orientation. In the present embodiment, the state of the liquid crystal phase refers to the state described on pages 1 to 16 of “Basics and Applications of Liquid Crystal” (Shoichi Matsumoto and Ryo Tsunoda, 1991). Say. In particular, the nematic phase described on page 3 is preferred.
Here, any anisotropic optical material may be used as long as it can form an anisotropic optical film, and examples thereof include pigments and transparent materials.

(色素)
色素については、通常、二色性色素が用いられる。また、色素は、配向制御のため液晶相を有する色素であることが好ましい。ここで、液晶相を有する色素とは、溶剤中でリオトロピック液晶性を示す色素を意味する。
(Dye)
As the dye, a dichroic dye is usually used. The dye is preferably a dye having a liquid crystal phase for alignment control. Here, the dye having a liquid crystal phase means a dye exhibiting lyotropic liquid crystallinity in a solvent.

色素として、具体的には、アゾ系色素、スチルベン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、縮合多環系色素(ペリレン系、オキサジン系)等が挙げられる。これら色素の中でも、異方性光学膜中で高い分子配列を取り得るアゾ系色素が好ましい。アゾ系色素とは、アゾ基を少なくとも1個以上持つ色素をいう。その一分子中のアゾ基の数は、色調および製造面の観点から、2以上が好ましく、6以下が好ましく、更に好ましくは4以下である。   Specific examples of the dye include azo dyes, stilbene dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and condensed polycyclic dyes (perylene and oxazine dyes). Among these dyes, azo dyes that can take a high molecular arrangement in the anisotropic optical film are preferable. An azo dye means a dye having at least one azo group. The number of azo groups in one molecule is preferably 2 or more, preferably 6 or less, more preferably 4 or less, from the viewpoint of color tone and production.

色素としては、下記式(1)で表される色素が好ましい。

Figure 2007272211
As the dye, a dye represented by the following formula (1) is preferable.
Figure 2007272211

上記式(1)おいて、Aは、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。Rは、水素原子、水酸基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。nは、0または1を表す。Xは、1または2を表す。なお、Xが2の場合、1分子中に含まれる複数のAは、同一であっても異なっていてもよい。 In the above formula (1), A represents a phenylene group which may have a substituent or a naphthylene group which may have a substituent. R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkoxy group which may have a substituent. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, or a phenyl group that may have a substituent. n represents 0 or 1. X represents 1 or 2. When X is 2, a plurality of A contained in one molecule may be the same or different.

また、下記式(2)で表される色素も好ましい。

Figure 2007272211
Moreover, the pigment | dye represented by following formula (2) is also preferable.
Figure 2007272211

上記式(2)において、Bは、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。Rは、水素原子、水酸基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表す。RおよびRは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。mは、0または1を表す。Yは、1または2を表す。なお、Yが2の場合、1分子中に含まれる複数のBは、同一であっても異なっていてもよい。 In the above formula (2), B represents a phenylene group which may have a substituent or a naphthylene group which may have a substituent. R 4 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkoxy group which may have a substituent. R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or a phenyl group which may have a substituent. m represents 0 or 1. Y represents 1 or 2. When Y is 2, the plurality of B contained in one molecule may be the same or different.

更に、下記式(3)で表される色素も好ましい。

Figure 2007272211
Furthermore, the pigment | dye represented by following formula (3) is also preferable.
Figure 2007272211

上記式(3)において、Dは、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。pは、0または1を表す。 In the above formula (3), D 1 represents a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. To express. A 1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted phenyl group. p represents 0 or 1.

本実施の形態において、置換基を有していてもよいとは、置換基を1以上有していてもよいことを意味する。また、本実施の形態における上記式(1)〜(3)で表される色素は、分子中の親水性基の数にもよるが、通常、水溶性の色素であり、また、通常、二色性色素である。   In the present embodiment, “may have a substituent” means having one or more substituents. The dyes represented by the above formulas (1) to (3) in the present embodiment are usually water-soluble dyes depending on the number of hydrophilic groups in the molecule. It is a chromatic dye.

前記式(3)において、Dが、置換基を有していてもよい芳香族複素環基である場合、芳香族複素環基のヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。特に、窒素原子を有する芳香族複素環基を有することが、液晶性発現濃度低下のため好ましい。芳香族複素環基として具体的には、例えば、ピリジル基、キノリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基などが挙げられ、好ましくは、ピリジル基である。 In the formula (3), when D 1 is an aromatic heterocyclic group which may have a substituent, examples of the hetero atom of the aromatic heterocyclic group include a nitrogen atom and a sulfur atom. In particular, it is preferable to have an aromatic heterocyclic group having a nitrogen atom for decreasing the liquid crystal expression density. Specific examples of the aromatic heterocyclic group include a pyridyl group, a quinolyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group, and a pyridyl group is preferable.

前記式(3)において、Aは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基としては、具体的にはフェニレン基或いはナフチレン基が挙げられる。
フェニレン基としては1,4−フェニレン基であることが好ましく、ナフチレン基としては1,4−ナフチレン基であることが、色素同士が相互作用を示すために好ましい。
In the formula (3), A 1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenylene group and a naphthylene group.
The phenylene group is preferably a 1,4-phenylene group, and the naphthylene group is preferably a 1,4-naphthylene group because the dyes interact with each other.

また、前記式(1)〜(3)における、A,B,DおよびAのフェニレン基、ナフチレン基、芳香族炭化水素基或いは芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、カルボキシ基、スルホ基、水酸基およびシアノ基が挙げられる。特に、色素の溶解性を高めるために導入される親水性基や色調を調節するために導入される電子供与性基や電子吸引性を有する基が好ましい。これら置換基は更に置換基を有していてもよく、その例としては同様にアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、カルボキシ基、スルホ基、水酸基およびシアノ基が挙げられる。 In the above formulas (1) to (3), the substituents which the phenylene group, naphthylene group, aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group of A, B, D 1 and A 1 may have. Includes an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, a carbamoyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxyl group and a cyano group. In particular, a hydrophilic group introduced to enhance the solubility of the dye, an electron donating group introduced to adjust the color tone, or a group having an electron withdrawing property are preferable. These substituents may further have a substituent, and examples thereof include an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, a carbamoyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxyl group and a cyano group.

具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、ヒドロキシエチル基、1,2−ジヒドロキシプロピル基等の置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基);メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、1,2−ジヒドロキシプロポキシ基等の置換基を有していてもよいアルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜4のアルコキシ基);メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基等のアルキルアミノ基(好ましくは炭素数1〜4のアルキル基で置換されたアミノ基);フェニルアミノ基;アセチル基、ベンゾイル基等のアシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜7のアシル基で置換されたアミノ基)等の置換基を有していてもよいアミノ基;フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基等の置換カルバモイル基;カルボキシ基;スルホ基;水酸基;およびシアノ基等が挙げられる。   Specifically, an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms) which may have a substituent such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, a hydroxyethyl group, or a 1,2-dihydroxypropyl group. Alkyl group); alkoxy group (preferably carbon number) which may have a substituent such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, hydroxyethoxy group, 1,2-dihydroxypropoxy group, etc. An alkylamino group such as a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, or a dimethylamino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms); a phenylamino group An acetyl group such as an acetyl group or a benzoyl group (preferably an amino group substituted with an acyl group having 2 to 7 carbon atoms) Cyano group; a phenylamino group, a substituted carbamoyl group such as naphthyl amino group; a carboxyl group; a sulfo group; a hydroxyl group; and a cyano group.

これらの置換基のうち、好ましくはスルホ基、水酸基、カルボキシ基である。
前記式(1)〜(3)における、R、R、R〜Rがアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。該アルキル基は置換基を有していてもよい。
また、前記式(1)〜(2)における、RおよびRがアルコキシ基である場合、該アルコキシ基としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は置換基を有していてもよい。
更に、前記式(1)〜(3)における、R〜Rのアルキル基、アルコキシ基或いはフェニル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、カルボキシ基およびスルホ基が挙げられる。
Of these substituents, preferred are a sulfo group, a hydroxyl group and a carboxy group.
In the above formulas (1) to (3), when R 2 , R 3 , R 5 to R 8 are alkyl groups, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may have a substituent.
Moreover, when R < 1 > and R < 4 > in said Formula (1)-(2) is an alkoxy group, as this alkoxy group, a C1-C4 alkoxy group is preferable. The alkoxy group may have a substituent.
Furthermore, examples of the substituent that the alkyl group, alkoxy group, or phenyl group of R 1 to R 8 in formulas (1) to (3) may have include a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfo group.

前記式(1)〜(3)で表される色素の分子量としては、遊離酸の形で、好ましくは450以上、好ましくは1500以下、更に好ましくは1100以下である。   The molecular weight of the dyes represented by the formulas (1) to (3) is preferably 450 or more, preferably 1500 or less, more preferably 1100 or less in the form of a free acid.

前記式(1)〜(3)で表される色素は、湿式成膜法により形成される異方性色素膜用の色素として適しており、また波長分散性が低く、その二色比も高いので、該色素を用いて高い分子配向度を示す異方性色素膜を得ることができる。従って、該色素を用いた色素組成物を異方性色素膜に使用すれば、偏光特性の高い異方性色素膜を得ることが出来る。
なお、異方性光学材料として色素を用いて製造された異方性光学膜を異方性色素膜と言うものとする。
The dyes represented by the formulas (1) to (3) are suitable as dyes for anisotropic dye films formed by a wet film forming method, have low wavelength dispersion, and have a high dichroic ratio. Therefore, an anisotropic dye film showing a high degree of molecular orientation can be obtained using the dye. Therefore, if a dye composition using the dye is used for the anisotropic dye film, an anisotropic dye film having high polarization characteristics can be obtained.
An anisotropic optical film manufactured using a dye as the anisotropic optical material is referred to as an anisotropic dye film.

本実施の形態における色素は、前記式(1)〜(3)で示されるような遊離酸の形のまま使用してもよく、酸基の一部が塩型を取っているものであってもよい。また、塩型の色素と遊離酸型の色素が混在していてもよい。また、製造時に塩型で得られた場合はそのまま使用してもよいし、所望の塩型に変換してもよい。塩型の交換方法としては、公知の方法を任意に用いることができ、例えば以下の方法が挙げられる。   The dye in the present embodiment may be used in the form of a free acid as represented by the above formulas (1) to (3), and a part of the acid group takes a salt form. Also good. Further, a salt-type dye and a free acid-type dye may be mixed. Moreover, when it is obtained in a salt form at the time of production, it may be used as it is or may be converted into a desired salt form. As a salt type exchange method, a known method can be arbitrarily used, and examples thereof include the following methods.

1)塩型で得られた色素の水溶液に塩酸等の強酸を添加し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液(例えば水酸化リチウム水溶液)で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
2)塩型で得られた色素の水溶液に、所望の対イオンを有する大過剰の中性塩(例えば、塩化リチウム)を添加し、塩析ケーキの形で塩交換を行う方法。
3)塩型で得られた色素の水溶液を、強酸性陽イオン交換樹脂で処理し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液(例えば水酸化リチウム水溶液)で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
4)予め所望の対イオンを有するアルカリ溶液(例えば水酸化リチウム水溶液)で処理した強酸性陽イオン交換樹脂に、塩型で得られた色素の水溶液を作用させ、塩交換を行う方法。
1) A strong acid such as hydrochloric acid is added to an aqueous solution of a dye obtained in a salt form, the dye is acidified in the form of a free acid, and then the dye is added with an alkaline solution having a desired counter ion (for example, an aqueous lithium hydroxide solution). A method of neutralizing acidic groups and salt exchange.
2) A method of performing salt exchange in the form of a salting-out cake by adding a large excess of a neutral salt (eg, lithium chloride) having a desired counter ion to an aqueous dye solution obtained in a salt form.
3) An aqueous solution of a dye obtained in a salt form is treated with a strongly acidic cation exchange resin, and the dye is acidified in the form of a free acid, and then an alkali solution having a desired counter ion (for example, an aqueous lithium hydroxide solution). ) To neutralize the acidic group of the dye and perform salt exchange.
4) A method of performing salt exchange by allowing an aqueous solution of a dye obtained in a salt form to act on a strongly acidic cation exchange resin previously treated with an alkaline solution having a desired counter ion (for example, an aqueous lithium hydroxide solution).

また、本実施の形態における色素が有する酸性基が遊離酸型となるか、塩型となるかは、色素のpKaと色素水溶液のpHに依存する。
上記の塩型の例としては、Na、Li、K等のアルカリ金属の塩、アルキル基もしくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、または有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、炭素数1〜6の低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換された炭素数1〜6の低級アルキルアミン、カルボキシ置換された炭素数1〜6の低級アルキルアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は1種類に限られず複数種混在していてもよい。
Whether the acidic group of the dye in the present embodiment is a free acid type or a salt type depends on the pKa of the dye and the pH of the aqueous dye solution.
Examples of the salt type include salts of alkali metals such as Na, Li and K, ammonium salts which may be substituted with alkyl groups or hydroxyalkyl groups, and organic amine salts. Examples of the organic amine include a lower alkyl amine having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxy substituted lower alkyl amine having 1 to 6 carbon atoms, a carboxy substituted lower alkyl amine having 1 to 6 carbon atoms, and the like. In the case of these salt types, the type is not limited to one type, and a plurality of types may be mixed.

本実施の形態における式(1)〜(3)で表される色素の遊離酸の形での好ましい例としては、例えば以下に示す構造の色素が挙げられるが、これに限定されるものではない。   Preferable examples of the dyes represented by the formulas (1) to (3) in the present embodiment in the form of free acid include, but are not limited to, dyes having the structure shown below, for example. .

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上述したような色素は単独で使用することができるが、これらの2種以上を併用してもよく、また、配向を低下させない程度に上記例示色素以外の色素を配合して用いることもできる。これにより各種の色相を有する異方性色素膜を製造することができる。   Although the above-mentioned pigment | dyes can be used independently, these 2 or more types may be used together, and pigment | dyes other than the said exemplary pigment | dye can also be mix | blended and used to such an extent that orientation is not reduced. Thereby, anisotropic dye films having various hues can be produced.

他の色素を配合する場合の配合用色素の例としては、C.I.Direct Yellow 12、C.I.Direct Yellow 34、C.I.Direct Yellow 86、C.I.Direct Yellow 142、C.I.Direct
Yellow 132、C.I.Acid Yellow 25、C.I.Direct Orange 39、C.I.Direct Orange 72、C.I.Direct Orange 79、C.I.Acid Orange 28、C.I.Direct Red 39、C.I.Direct Red 79、C.I.Direct Red 81、C.I.Direct Red 83、C.I.Direct Red 89、C.I.Acid Red 37、C.I.Direct Violet 9、C.I.Direct Violet 35、C.I.Direct Violet 48、C.I.Direct Violet 57、C.I.Direct Blue 1、C.I.Direct Blue 67、C.I.Direct Blue 83、C.I.Direct Blue 90、C.I.Direct Green 42、C.I.Direct Green 51、C.I.Direct Green 59等が挙げられる。
Examples of blending pigments when blending other pigments include C.I. I. Direct Yellow 12, C.I. I. Direct Yellow 34, C.I. I. Direct Yellow 86, C.I. I. Direct Yellow 142, C.I. I. Direct
Yellow 132, C.I. I. Acid Yellow 25, C.I. I. Direct Orange 39, C.I. I. Direct Orange 72, C.I. I. Direct Orange 79, C.I. I. Acid Orange 28, C.I. I. Direct Red 39, C.I. I. Direct Red 79, C.I. I. Direct Red 81, C.I. I. Direct Red 83, C.I. I. Direct Red 89, C.I. I. Acid Red 37, C.I. I. Direct Violet 9, C.I. I. Direct Violet 35, C.I. I. Direct Violet 48, C.I. I. Direct Violet 57, C.I. I. Direct Blue 1, C.I. I. Direct Blue 67, C.I. I. Direct Blue 83, C.I. I. Direct Blue 90, C.I. I. Direct Green 42, C.I. I. Direct Green 51, C.I. I. Direct Green 59 etc. are mentioned.

(透明材料)
一方、異方性材料のうち透明材料としては、例えば、以下のA−1〜A−21等のリオトロピック液晶性化合物などが挙げられる。なお、リオトロピック液晶性化合物とは、特定の溶媒に、特定の濃度範囲で溶解した場合に液晶性を示す化合物である(丸善株式会社、液晶便覧3p等を参照)。
(Transparent material)
On the other hand, examples of the transparent material among anisotropic materials include lyotropic liquid crystalline compounds such as the following A-1 to A-21. The lyotropic liquid crystalline compound is a compound that exhibits liquid crystallinity when dissolved in a specific solvent in a specific concentration range (see Maruzen Co., Ltd., Liquid Crystal Handbook 3p, etc.).

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また、その他の透明材料としては、以下のB−1〜B−7の化合物等が挙げられる。これらのB−1〜B−7の化合物は、前記のリオトロピック液晶性化合物と併用することにより、リオトロピック液晶性化合物と相互作用して配向しやすいため、好ましい。   Other transparent materials include the following compounds B-1 to B-7. These B-1 to B-7 compounds are preferred because they are easily combined with the lyotropic liquid crystalline compound when used in combination with the lyotropic liquid crystalline compound.

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なお、透明材料は、1種を用いても良く、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   In addition, 1 type may be used for a transparent material and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(溶剤)
溶剤としては、水、水混和性のある有機溶剤、或いはこれらの混合物が適している。有機溶剤の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類などの単独又は2種以上の混合溶剤が挙げられる。
(solvent)
As the solvent, water, a water-miscible organic solvent, or a mixture thereof is suitable. Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and glycerin, glycols such as ethylene glycol and diethylene glycol, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, or a mixture of two or more. A solvent is mentioned.

(濃度)
異方性光学膜形成用組成物中の異方性光学材料の濃度としては、成膜条件にもよるが、通常、0.01重量%以上、特に0.1重量%以上であることが好ましく、通常、50重量%以下、特に30重量%以下であることが好ましい。異方性光学材料濃度が過度に低いと、得られる異方性光学膜において十分な二色比などの異方性を得ることができず、過度に高いと、粘度が高くなり均一な薄膜塗布が難しくなったり、異方性光学膜形成用組成物中で異方性光学材料が析出したりする恐れがある。
(concentration)
The concentration of the anisotropic optical material in the composition for forming an anisotropic optical film is usually 0.01% by weight or more, particularly preferably 0.1% by weight or more, although it depends on the film forming conditions. Usually, it is preferably 50% by weight or less, particularly preferably 30% by weight or less. If the anisotropic optical material concentration is excessively low, sufficient anisotropy such as a dichroic ratio cannot be obtained in the obtained anisotropic optical film. If it is excessively high, the viscosity becomes high and uniform thin film coating is possible. May become difficult, or an anisotropic optical material may precipitate in the composition for forming an anisotropic optical film.

(添加剤)
異方性光学膜形成用組成物には、さらに必要に応じて、界面活性剤、レベリング剤、カップリング剤、pH調整剤等の添加剤を配合することができる。添加剤により、濡れ性、塗布性等を向上させ得る場合がある。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性およびノニオン性のいずれも使用可能である。その添加濃度は、特に限定されるものではないが、添加した効果を得るために十分であって、かつ分子の配向を阻害しない量として、異方性光学膜形成用組成物中の濃度として通常、0.05重量%以上、0.5重量%以下が好ましい。
また、異方性光学膜形成用組成物中での異方性光学材料の造塩や凝集などの不安定性を抑制する等の目的のために、公知の酸/アルカリ等のpH調整剤等を、異方性光学膜形成用組成物の構成成分の混合の前後或いは混合中のいずれかで添加してもよい。
なお、上記以外の添加剤として“Additive for Coating”, Edited by J.Bieleman,Willey−VCH(2000)記載の公知の添加剤を用いることもできる。
(Additive)
In the composition for forming an anisotropic optical film, additives such as a surfactant, a leveling agent, a coupling agent, and a pH adjuster can be further blended as necessary. Depending on the additive, wettability, applicability and the like may be improved.
As the surfactant, any of anionic, cationic and nonionic can be used. The concentration of the additive is not particularly limited, but is usually sufficient for obtaining the added effect and does not inhibit the molecular orientation, and is usually the concentration in the composition for forming an anisotropic optical film. 0.05 wt% or more and 0.5 wt% or less is preferable.
In addition, for the purpose of suppressing instability such as salt formation and aggregation of the anisotropic optical material in the composition for forming an anisotropic optical film, a known pH adjuster such as acid / alkali is added. Further, it may be added either before or after mixing the constituent components of the composition for forming an anisotropic optical film or during mixing.
As additives other than those mentioned above, “Additive for Coating”, Edited by J. et al. Known additives described in Bieleman, Willy-VCH (2000) can also be used.

本実施の形態における異方性光学膜形成用組成物の、基板塗布面に対する接触角としては75度以下、好ましくは65度以下、より好ましくは55度以下であり、特に好ましくは40度以下であり、下限としては通常、15度以上、好ましくは20度以上、より好ましくは25度以上、特に好ましくは40度以上である。接触角が過度に小さいと、液流れが起こり、膜に不均一な部分が生じる場合がある。
また、接触角を調節する方法としては、上述した基板表面に対する表面処理条件を変える方法、或いは、異方性光学膜形成用組成物の組成を変える方法が挙げられる。
表面処理条件を変える方法としては、例えば、処理時間を変えたり、処理強度を変えたりすることができる。
例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂などの樹脂基板に紫外線照射処理をする場合、処理時間を長くすることにより、接触角を低くすることができる。また、例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂などの樹脂基板にプラズマ処理をする場合、プラズマの処理強度を高くすることにより、接触角を低くすることができる。
また、市販の基板によっても、接触角は異なる。例えば、基板の表面粗さを大きくすれば、接触角を低くすることができる。
そして、異方性光学膜形成用組成物の組成を変える方法としては、添加する異方性光学材料の種類や濃度を変えたり、添加剤等を変えたりすることができる。
例えば、疎水性基板に対して、水を溶媒とする異方性光学膜形成用組成物を使用する場合、疎水性を有する異方性光学材料を使用すれば、接触角は低くすることができる。
また、アルキル基を有する異方性光学材料を使用すれば、接触角を低くすることができる。
更に、異方性光学材料の濃度を高くすると、接触角を低くすることができる。
また更に、界面活性剤などの添加剤を使用すれば、接触角を低くすることができる。
以上の具体例においては、接触角を低くする場合について記載したが、上記と逆の操作を行えば、接触角を高くできることは言うまでもない。
なお、本実施の形態における接触角の測定方法としては、協和界面科学株式会社製の接触角計(表面張力計)CA−DTを用いることができる。直径約1.5mmの液滴を作り、基板表面を液滴に接触させ、液滴が静かに基板表面へ移動した30秒後に液滴のθ/2を測定する。これにより、接触角θを得る(θ/2法)。
The contact angle of the composition for forming an anisotropic optical film in the present embodiment with respect to the substrate coating surface is 75 degrees or less, preferably 65 degrees or less, more preferably 55 degrees or less, and particularly preferably 40 degrees or less. The lower limit is usually 15 degrees or more, preferably 20 degrees or more, more preferably 25 degrees or more, and particularly preferably 40 degrees or more. If the contact angle is too small, liquid flow may occur and uneven portions may occur in the film.
Examples of the method for adjusting the contact angle include a method for changing the surface treatment conditions for the substrate surface described above, and a method for changing the composition of the composition for forming an anisotropic optical film.
As a method for changing the surface treatment conditions, for example, the treatment time can be changed or the treatment intensity can be changed.
For example, when an ultraviolet irradiation treatment is performed on a resin substrate such as a polyethylene terephthalate resin, the contact angle can be lowered by increasing the treatment time. For example, when a plasma treatment is performed on a resin substrate such as a polyethylene terephthalate resin, the contact angle can be lowered by increasing the plasma treatment strength.
Also, the contact angle varies depending on the commercially available substrate. For example, if the surface roughness of the substrate is increased, the contact angle can be lowered.
And as a method of changing the composition of the composition for anisotropic optical film formation, the kind and density | concentration of the anisotropic optical material to add, an additive, etc. can be changed.
For example, when an anisotropic optical film forming composition using water as a solvent is used for a hydrophobic substrate, the contact angle can be lowered by using an anisotropic optical material having hydrophobicity. .
Moreover, if an anisotropic optical material having an alkyl group is used, the contact angle can be lowered.
Furthermore, when the concentration of the anisotropic optical material is increased, the contact angle can be decreased.
Furthermore, if an additive such as a surfactant is used, the contact angle can be lowered.
In the above specific examples, the case of lowering the contact angle has been described, but it goes without saying that the contact angle can be increased by performing the reverse operation to the above.
In addition, as a measuring method of the contact angle in this Embodiment, Kyowa Interface Science Co., Ltd. contact angle meter (surface tension meter) CA-DT can be used. A droplet having a diameter of about 1.5 mm is formed, the substrate surface is brought into contact with the droplet, and θ / 2 of the droplet is measured 30 seconds after the droplet gently moves to the substrate surface. Thereby, the contact angle θ is obtained (θ / 2 method).

(異方性光学膜)
本実施の形態における異方性光学膜は、上記異方性光学膜形成用組成物を上記基板上に塗布して形成される異方性光学膜であって、異方性光学膜の配向方向が、通常、塗布方向と一致する。なお、本実施の形態において異方性光学膜の配向方向とは、例えば、偏光膜であれば、偏光の透過軸または吸収軸であり、位相差膜であれば、進相軸または遅相軸のことである。
(Anisotropic optical film)
The anisotropic optical film in the present embodiment is an anisotropic optical film formed by applying the anisotropic optical film forming composition on the substrate, and the orientation direction of the anisotropic optical film Usually coincides with the application direction. In the present embodiment, the orientation direction of the anisotropic optical film is, for example, a polarizing transmission axis or absorption axis in the case of a polarizing film, and a fast axis or slow axis in the case of a retardation film. That is.

そして、本実施の形態における異方性光学膜は、光吸収の異方性を利用し直線偏光、円偏光、楕円偏光等を得る偏光膜または位相差膜として機能する他、膜形成プロセスと基板や有機化合物(色素や透明材料)を含有する組成物の選択により、屈折異方性や伝導異方性などの各種異方性膜として機能化が可能である。   The anisotropic optical film in this embodiment functions as a polarizing film or retardation film that obtains linearly polarized light, circularly polarized light, elliptically polarized light, etc. by utilizing the anisotropy of light absorption, as well as a film forming process and a substrate. Or a composition containing an organic compound (pigment or transparent material) can be functionalized as various anisotropic films such as refractive anisotropy and conduction anisotropy.

本実施の形態における異方性光学膜は、通常、湿式成膜法により製造される。ここで、湿式成膜法とは、塗布液を基板上に塗布し、塗布液に含まれる化合物(色素や透明材料)を配向及び/又は積層して得る方法をいう。   The anisotropic optical film in the present embodiment is usually manufactured by a wet film forming method. Here, the wet film forming method refers to a method in which a coating solution is applied on a substrate, and a compound (pigment or transparent material) contained in the coating solution is oriented and / or laminated.

上記湿式成膜法としては、特に限定されるものではないが、例えば、原崎勇次著「コーティング工学」(株式会社朝倉書店、1971年3月20日発行)253頁〜277頁に記載の方法、市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」(株式会社シーエムシー出版、1998年3月3日発行)118頁〜149頁に記載の方法、基板(予め配向処理を施してもよい)上にスロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法、カーテンコート法、ファウンテン法、ディップ法等で塗布する方法が挙げられる。
中でも、スロットダイコート法を採用すると、均一性の高い異方性光学膜が得られるため好適である。
The wet film forming method is not particularly limited. For example, the method described in pages 253 to 277 of Yuji Harasaki, “Coating Engineering” (Asakura Shoten Co., Ltd., published on March 20, 1971), Supervised by Kunihiro Ichimura, “Creation and Application of Molecular Coordination Materials” (CMC Publishing Co., Ltd., published on March 3, 1998), pages 118 to 149, on the substrate (which may be pre-aligned) Examples thereof include a slot die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a bar coating method, a roll coating method, a blade coating method, a curtain coating method, a fountain method, and a dip method.
Among these, the slot die coating method is preferable because an anisotropic optical film with high uniformity can be obtained.

湿式成膜法を採用する場合において、塗布速度としては通常、5mm/秒〜1000mm/秒、好ましくは10mm/秒〜300mm/秒である。塗布速度が過度に小さいと、異方性光学膜の異方性が低くなるおそれがある。一方、過度に大きいと、均一に塗布できないおそれがある。   In the case of employing the wet film forming method, the coating speed is usually 5 mm / second to 1000 mm / second, preferably 10 mm / second to 300 mm / second. If the coating speed is too small, the anisotropy of the anisotropic optical film may be lowered. On the other hand, when too large, there exists a possibility that it cannot apply | coat uniformly.

なお、異方性光学膜形成用組成物の基板上への塗布時の温度としては、通常、0℃以上80℃以下、好ましくは40℃以下である。また、異方性光学膜形成用組成物の基板上への塗布時の湿度は、通常、10%RH以上、好ましくは30%RH以上で、通常、80RH%以下である。   In addition, as temperature at the time of application | coating on the board | substrate of the composition for anisotropic optical film formation, it is 0 degreeC or more and 80 degrees C or less, Preferably it is 40 degrees C or less. Moreover, the humidity at the time of application | coating on the board | substrate of the composition for anisotropic optical film formation is 10% RH or more normally, Preferably it is 30% RH or more, and is normally 80RH% or less.

また、異方性光学膜の膜厚としては、乾燥膜厚として、通常、10nm以上、好ましくは50nm以上で、上限として、通常、30μm以下、好ましくは1μm以下である。異方性光学膜の膜厚が過度に大きいと、膜内で分子の均一な配向を得ることが難しくなるおそれがあり、一方、過度に小さいと、均一な膜厚とすることが難しくなるおそれがある。   The thickness of the anisotropic optical film is usually 10 nm or more, preferably 50 nm or more as the dry film thickness, and is usually 30 μm or less, preferably 1 μm or less as the upper limit. If the film thickness of the anisotropic optical film is excessively large, it may be difficult to obtain a uniform orientation of molecules within the film, while if it is excessively small, it may be difficult to obtain a uniform film thickness. There is.

(光学素子)
本実施の形態における光学素子は、基板の該異方性光学膜形成用組成物が塗布される面の平均表面粗さが300Å以下であり、該異方性光学膜形成用組成物の該基板塗布面に対する接触角が75度以下であることを特徴とする。
この組み合わせにより、均一な異方性光学膜を得ることができ、この異方性光学膜を有する光学素子は、二色比などの異方性が高いものであったり、光散乱(ヘイズ)の低いものとなる。
特に、基板の平均表面粗さが20Å以上であり、前記接触角が40度以上かつ65度以下である場合;基板の平均表面粗さが20Å以上かつ100Å以下であり、前記接触角が20度以上かつ40度以下である場合;基板の平均表面粗さが20Å以上かつ200Å以下であり、前記接触角が20度以上かつ40度以下である場合;或いは基板の平均表面粗さが1Å以上かつ20Å以下であり、前記接触角が15度以上かつ75度以下である場合に、特に高い効果が得られる。
本実施の形態における光学素子は、基板と異方性光学膜とを有するものであるが、必要に応じ、保護層を積層して使用することができる。この保護層は、例えば、トリアセテート、アクリル、ポリエステル、ポリイミド、トリアセチルセルロース又はウレタン系のフィルム等の透明な高分子膜によりラミネーションして形成され、実用に供される。
(Optical element)
In the optical element in the present embodiment, the surface of the substrate on which the anisotropic optical film-forming composition is applied has an average surface roughness of 300 mm or less, and the anisotropic optical film-forming composition has the substrate. The contact angle with respect to the coated surface is 75 degrees or less.
By this combination, a uniform anisotropic optical film can be obtained, and an optical element having this anisotropic optical film has a high anisotropy such as a dichroic ratio or a light scattering (haze). It will be low.
In particular, when the average surface roughness of the substrate is 20 ° or more and the contact angle is 40 ° or more and 65 ° or less; the average surface roughness of the substrate is 20 ° or more and 100 ° or less, and the contact angle is 20 °. When the average surface roughness of the substrate is 20 ° to 200 ° and the contact angle is 20 ° to 40 °; or the average surface roughness of the substrate is 1 ° to A particularly high effect is obtained when the contact angle is 20 ° or less and the contact angle is 15 ° or more and 75 ° or less.
The optical element in the present embodiment has a substrate and an anisotropic optical film, but can be used by stacking a protective layer as necessary. This protective layer is formed by lamination with a transparent polymer film such as triacetate, acrylic, polyester, polyimide, triacetyl cellulose, or urethane film, and is put to practical use.

本実施の形態における光学素子は、その用途に応じて種々の構成を採用することができる。本実施の形態における異方性光学膜をLCDやOLEDなどの各種の表示素子に偏光膜や位相差膜等として用いる場合には、これらの表示素子を構成する電極基板などの表面に直接異方性光学膜を形成したり、異方性光学膜を形成した基板をこれら表示素子の構成部材として用いたりすることができる。
また、本実施の形態における異方性光学膜は、ガラスなどの高耐熱性基板上に直接形成することが可能であり、高耐熱性の偏光素子を得ることができるという点から、液晶ディスプレーや有機ELディスプレーだけでなく液晶プロジェクタや車載用表示パネル等、高耐熱性が求められる用途に好適な光学素子となり得る。
The optical element in the present embodiment can employ various configurations depending on the application. When the anisotropic optical film according to the present embodiment is used as a polarizing film or a retardation film for various display elements such as LCDs and OLEDs, the anisotropic optical film is directly anisotropic on the surface of the electrode substrate constituting these display elements. For example, a substrate having an anisotropic optical film formed thereon or a substrate having an anisotropic optical film formed thereon can be used as a constituent member of these display elements.
In addition, the anisotropic optical film in this embodiment can be directly formed on a high heat resistant substrate such as glass, and a high heat resistant polarizing element can be obtained. It can be an optical element suitable not only for organic EL displays but also for applications that require high heat resistance such as liquid crystal projectors and in-vehicle display panels.

本実施の形態における光学素子は、光学機能を有する他の部材や他の光学膜と組み合わせて構成することができる。光学機能を有する他の部材としては、特に限定されるものではないが、例えば、反射防止フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、拡散フィルム、光学補償フィルム、円偏光フィルム等を挙げることができる。なお、これらは適宜、粘着フィルム等を用いて積層することができる。   The optical element in the present embodiment can be configured in combination with another member having an optical function or another optical film. Other members having an optical function are not particularly limited. For example, an antireflection film, a retardation film, a brightness enhancement film, a reflection film, a transflective film, a diffusion film, an optical compensation film, and a circularly polarized light are used. A film etc. can be mentioned. In addition, these can be laminated | stacked suitably using an adhesive film etc.

また、これら光学機能を有する他の部材は、特に限定されるものではないが、例えば以下の様な方法により、形成することができる。
位相差フィルムは、例えば特許第2841377号公報、特許第3094113号公報などに記載の延伸処理を施したり、特許第3168850号公報などに記載された処理を施したりする手法を採用することにより、形成することができる。
輝度向上フィルムは、例えば特開2002−169025号公報や特開2003−29030号公報に記載されるような方法で微細孔を形成する手法、或いは、選択反射の中心波長が異なる2層以上のコレステリック液晶層を重畳する手法を採用することにより、形成することができる。
反射フィルム又は半透過反射フィルムは、蒸着やスパッタリングなどで得られた金属薄膜を用いる手法を採用することにより、形成することができる。
また、拡散フィルムは、上記の保護層に微粒子を含む樹脂溶液をコーティングする手法を採用することにより、形成することができる。
更に、位相差フィルムや光学補償フィルムは、ディスコティック液晶性化合物、ネマティック液晶性化合物などの液晶性化合物を塗布して配向させる手法を採用することにより、形成することができる。
Further, the other members having these optical functions are not particularly limited, but can be formed by the following method, for example.
The retardation film is formed, for example, by applying a stretching process described in Japanese Patent No. 2841377, Japanese Patent No. 3094113, or a process described in Japanese Patent No. 3168850. can do.
For example, the brightness enhancement film may be formed by a method of forming micropores by a method as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-169025 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-29030, or two or more cholesteric layers having different central wavelengths of selective reflection It can be formed by adopting a method of superposing liquid crystal layers.
The reflective film or transflective film can be formed by employing a technique using a metal thin film obtained by vapor deposition or sputtering.
Moreover, a diffusion film can be formed by employ | adopting the method of coating the resin solution containing microparticles | fine-particles on said protective layer.
Further, the retardation film and the optical compensation film can be formed by adopting a method of applying and aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal compound or a nematic liquid crystal compound.

以上、詳述したとおり、本実施の形態において、均一な異方性光学膜を得るためには、異方性光学材料の配向方向が膜厚方向にできるだけ均一であることが必要と考えられることから、基板表面の平滑性が一定以上に高いことが必要である。次に、異方性光学材料溶液の濡れ性が良好過ぎると基板表面の分子のならび方に影響され、場合によっては異方性光学材料の平面内の配向性が悪くなる。異方性光学材料溶液の濡れ性が悪いとハジキなどの塗布欠陥になると考えられる。また、基板の吸湿性が高い場合には、湿式成膜法にて異方性光学材料の膜を形成する際に基板が吸湿して基板が反る場合がある。そのような場合には、結果として欠陥が生じやすくなっており、湿式成膜法にて異方性光学膜が形成された後に膨潤して光学欠陥が発生する場合がある。   As described above, in this embodiment, in order to obtain a uniform anisotropic optical film, it is considered necessary that the orientation direction of the anisotropic optical material be as uniform as possible in the film thickness direction. Therefore, the smoothness of the substrate surface needs to be higher than a certain level. Next, if the wettability of the anisotropic optical material solution is too good, it is affected by the alignment of molecules on the substrate surface, and in some cases the in-plane orientation of the anisotropic optical material is deteriorated. If the wettability of the anisotropic optical material solution is poor, coating defects such as repellency are considered. In addition, when the substrate has high hygroscopicity, the substrate may absorb moisture when the film of the anisotropic optical material is formed by a wet film formation method, and the substrate may be warped. In such a case, defects are likely to occur as a result, and the optical defects may occur due to swelling after the anisotropic optical film is formed by the wet film formation method.

次に、実施例により本実施の形態をさらに具体的に説明するが、本実施の形態はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。   Next, the present embodiment will be described more specifically by way of examples. However, the present embodiment is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

(製造例1)
水78部に例示色素(I)のLi塩21部と下記例示色素(II)1部を撹拌溶解させて異方性光学膜形成用組成物を得た。
(Production Example 1)
21 parts of Li salt of Exemplified Dye (I) and 1 part of Exemplified Dye (II) below were stirred and dissolved in 78 parts of water to obtain a composition for forming an anisotropic optical film.

Figure 2007272211
Figure 2007272211

Figure 2007272211
Figure 2007272211

(実施例1〜19)
得られた異方性光学膜形成用組成物を表1に示す種々の処理がされた種々の基板表面に湿式成膜法により成膜し、その塗布性を評価した。結果を表1に示した。湿式成膜法による成膜は、ワイヤーバー#2(松尾産業株式会社製)を用いた。得られた異方性光学膜の膜厚は約0.5μmであった。なお、塗布速度は約30mm/秒であった。
(Examples 1 to 19)
The obtained composition for forming an anisotropic optical film was formed on various substrate surfaces subjected to various treatments shown in Table 1 by a wet film forming method, and the coating property was evaluated. The results are shown in Table 1. For the film formation by the wet film formation method, wire bar # 2 (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd.) was used. The film thickness of the obtained anisotropic optical film was about 0.5 μm. The coating speed was about 30 mm / second.

Figure 2007272211
Figure 2007272211

[表面粗さ(Ra)]
ケーエルエー・テンコール株式会社製アルファステップIQを用いて測定した基板の平均表面粗さである。
[接触角(度)]
基板表面に対する、異方性光学膜形成用組成物の接触角である。協和界面科学株式会社製表面張力計CA−DTを用いて測定した。
[吸水率(%)]
メトラー社製電子天秤DRAGON204を用いて測定した基板の吸水率である。
[全光線透過率(%)]
島津製作所株式会社製Solidspec3700を用いて測定した基板の全光線透過率である。
[塗布性]
基板上に異方性光学膜形成用組成物を塗布した状態を目視にて観察し、以下の基準に従って評価した。
◎:均一で無欠陥。
○:均一だが、直径1mm以下の欠陥を有する。
△:ほぼ均一だが、直径1mm以上の欠陥を有する。
×:不均一で、欠陥を有する。
[二色比]
異方性光学膜の二色比である。特定波長(550nm)での平行及び直交透過率の対数(吸光度)の比の値として測定した。
[Surface roughness (Ra)]
It is the average surface roughness of the substrate measured using an alpha step IQ manufactured by KLA-Tencor Corporation.
[Contact angle (degrees)]
It is a contact angle of the composition for forming an anisotropic optical film with respect to the substrate surface. It measured using Kyowa Interface Science Co., Ltd. surface tension meter CA-DT.
[Water absorption rate (%)]
It is the water absorption rate of the substrate measured using METTLER Electronic Balance DRAGON204.
[Total light transmittance (%)]
It is the total light transmittance of the board | substrate measured using Shimadzu Corporation Solidspec3700.
[Applicability]
The state in which the composition for forming an anisotropic optical film was applied on the substrate was visually observed and evaluated according to the following criteria.
A: Uniform and defect-free.
○: Uniform but has a defect of 1 mm or less in diameter.
Δ: Almost uniform, but has defects with a diameter of 1 mm or more.
X: It is nonuniform and has a defect.
[Dual color ratio]
It is a dichroic ratio of an anisotropic optical film. It was measured as the value of the ratio of the logarithm (absorbance) of parallel and orthogonal transmittance at a specific wavelength (550 nm).

[基板]
PET(T100):三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製ダイアホイル(登録商標)T100。
PET(T600):三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製ダイアホイル(登録商標)T600。
PET(O300):三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製ダイアホイル(登録商標)O300。
PET(T680):三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製ダイアホイル(登録商標)T680。
アートン:JSR株式会社製アートンフィルム。
[substrate]
PET (T100): Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd. Diafoil (registered trademark) T100.
PET (T600): Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd. Diafoil (registered trademark) T600.
PET (O300): Diafoil (registered trademark) O300 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.
PET (T680): Diafoil (registered trademark) T680 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.
Arton: Arton film manufactured by JSR Corporation.

[処理]
帯電防止層コートG−01:三菱化学ポリエステル株式会社製コート。
帯電防止層コートJ−30:三菱化学ポリエステル株式会社製コート。
易接着層07コート:三菱化学ポリエステル株式会社製コート。
易接着層36コート:三菱化学ポリエステル株式会社製コート。
易接着層54コート:三菱化学ポリエステル株式会社製コート。
コロナ処理:信光電気計装株式会社製コロナスキャナーASA−4,13kV,150mm/秒,d≒1mm。
プラズマ処理:サムコ株式会社製コンパクトエッチャーFA−1,10W,1秒。
[processing]
Antistatic layer coat G-01: Coated by Mitsubishi Chemical Polyester Corporation.
Antistatic layer coat J-30: Coated by Mitsubishi Chemical Polyester Corporation.
Easy adhesion layer 07 coat: Coated by Mitsubishi Chemical Polyester Corporation.
Easy-adhesion layer 36 coat: Coated by Mitsubishi Chemical Polyester Corporation.
Easy-adhesion layer 54 coat: Coated by Mitsubishi Chemical Polyester Corporation.
Corona treatment: Corona Scanner ASA-4, 13 kV, 150 mm / sec, d≈1 mm, manufactured by Shinko Electric Instrumentation Co., Ltd.
Plasma treatment: Compact etcher FA-1, 10W, 1 second, manufactured by Samco Corporation.

(実施例20)
製造例1で得られた異方性光学膜形成用組成物を表2に示す種々の処理がされた基板表面に湿式成膜法により成膜し、その塗布性を評価した。結果を表2に示した。湿式成膜法による成膜は、ワイヤーバー#2(松尾産業株式会社製)を用いた。得られた異方性光学膜の膜厚は約0.5μmであった。なお、塗布速度は240mm/秒であった。
(Example 20)
The composition for forming an anisotropic optical film obtained in Production Example 1 was formed on a surface of a substrate subjected to various treatments shown in Table 2 by a wet film forming method, and the coating property was evaluated. The results are shown in Table 2. For the film formation by the wet film formation method, wire bar # 2 (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd.) was used. The film thickness of the obtained anisotropic optical film was about 0.5 μm. The coating speed was 240 mm / second.

(実施例21〜26)
製造例1で得られた異方性光学膜形成用組成物を表2に示す種々の処理がされた基板表面に湿式成膜法により成膜し、その塗布性を評価した。結果を表2に示した。湿式成膜法による成膜は、スロットダイコータを用いた。得られた異方性光学膜の膜厚は約0.5μmであった。なお、塗布速度は12mm/秒であった。
(Examples 21 to 26)
The composition for forming an anisotropic optical film obtained in Production Example 1 was formed on a surface of a substrate subjected to various treatments shown in Table 2 by a wet film forming method, and the coating property was evaluated. The results are shown in Table 2. A slot die coater was used for film formation by the wet film formation method. The film thickness of the obtained anisotropic optical film was about 0.5 μm. The coating speed was 12 mm / second.

(実施例27〜35,比較例1)
製造例1で得られた異方性光学膜形成用組成物を表2に示す処理なし、または種々の処理がされた基板表面に湿式成膜法により成膜し、その塗布性を評価した。結果を表2に示した。湿式成膜法による成膜は、ワイヤーバー#2(松尾産業株式会社製)を用いた。得られた異方性光学膜の膜厚は約0.5μmであった。なお、塗布速度は約30mm/秒であった。
(Examples 27 to 35, Comparative Example 1)
The composition for forming an anisotropic optical film obtained in Production Example 1 was formed on a surface of a substrate which was not subjected to the treatment shown in Table 2 or was subjected to various treatments by a wet film formation method, and the coating property was evaluated. The results are shown in Table 2. For the film formation by the wet film formation method, wire bar # 2 (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd.) was used. The film thickness of the obtained anisotropic optical film was about 0.5 μm. The coating speed was about 30 mm / second.

Figure 2007272211
Figure 2007272211

以下の指標以外の指標については、表1と同様である。
[基板]
TAC:LONZA社製トリアセテートフィルム。
[処理]
ポリイミド層コート:日立化成デュポンマイクロシステム社製LX−1400。
プラズマ処理:サムコ株式会社製コンパクトエッチャーFA−1,20W,1秒(実施例21)、20W,3秒(実施例22)、20W,5秒(実施例23)、20W,10秒(実施例24)、100W,1秒(実施例25)、50W,1秒(実施例26)、10W,1秒(実施例27)。
The indices other than the following indices are the same as in Table 1.
[substrate]
TAC: Triacetate film manufactured by LONZA.
[processing]
Polyimide layer coat: Hitachi Chemical DuPont Microsystems LX-1400.
Plasma treatment: Compact etcher FA-1, 20 W, 1 second (Example 21), 20 W, 3 seconds (Example 22), 20 W, 5 seconds (Example 23), 20 W, 10 seconds (Example) manufactured by Samco Corporation 24), 100 W, 1 second (Example 25), 50 W, 1 second (Example 26), 10 W, 1 second (Example 27).

図1は、上記表1,2の結果をまとめたものである。図1に示すとおり、基板の異方性光学膜形成用組成物が塗布される面の平均表面粗さ(Ra)が300Å以下であり、該組成物の該基板塗布面に対する接触角が75度以下である場合に、塗布性が良好であり、均一な異方性光学膜を有する光学素子を提供することができる。この場合、高速塗布を行った場合でも均一な塗膜が得られるため、結果として製造コストの低減も可能である。
また、適切な表面粗さと濡れ性を持つ基板を得る手法として、基板表面にコロナ処理、プラズマ処理または紫外線照射(UVオゾン)処理等を施す手法が採用可能である。
更に、二色性についても良好な値が実現される。
FIG. 1 summarizes the results of Tables 1 and 2 above. As shown in FIG. 1, the average surface roughness (Ra) of the surface of the substrate on which the composition for forming an anisotropic optical film is applied is 300 mm or less, and the contact angle of the composition with respect to the substrate application surface is 75 degrees. In the case of the following, it is possible to provide an optical element having good coatability and having a uniform anisotropic optical film. In this case, since a uniform coating film can be obtained even when high-speed coating is performed, the manufacturing cost can be reduced as a result.
In addition, as a technique for obtaining a substrate having an appropriate surface roughness and wettability, a technique of subjecting the substrate surface to corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation (UV ozone) treatment, or the like can be employed.
In addition, good values for dichroism are achieved.

(製造例2)
水87部に例示化合物(III)13部を攪拌溶解させて異方性光学膜形成用組成物を得た。
(Production Example 2)
13 parts of exemplary compound (III) was stirred and dissolved in 87 parts of water to obtain a composition for forming an anisotropic optical film.

Figure 2007272211
Figure 2007272211

(実施例36〜38,比較例2)
製造例2で製造された異方性光学膜形成用組成物を表3に示す処理なし、または種々の処理がされた基板表面に湿式成膜法により成膜し、その塗布性を評価した。成膜は20℃以下で行った。結果を表3に示した。湿式成膜法による成膜は、アプリケータ(株式会社井元製作所製)のギャップ20μmを用いた。得られた異方性光学膜の膜厚は約1μmであった。なお、塗布速度は240mm/秒であった。
(Examples 36 to 38, Comparative Example 2)
The anisotropic optical film-forming composition produced in Production Example 2 was formed on a surface of a substrate that had not been treated as shown in Table 3 or was subjected to various treatments by a wet film-forming method, and the coating property was evaluated. Film formation was performed at 20 ° C. or lower. The results are shown in Table 3. Film formation by the wet film formation method used an applicator (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) with a gap of 20 μm. The film thickness of the obtained anisotropic optical film was about 1 μm. The coating speed was 240 mm / second.

[ヘイズ]
スガ試験機株式会社製、自動ヘーズコンピュータ、TMダブルビーム方式HZ−2を用いて測定した。ヘイズ値は、Td/Tt(Td:拡散光線透過率、Tt:全光線透過率)で求めた。光源は、D65を使用した。
[Haze]
Measured using an automatic haze computer, TM double beam system HZ-2, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The haze value was determined by Td / Tt (Td: diffuse light transmittance, Tt: total light transmittance). D65 was used as the light source.

Figure 2007272211
Figure 2007272211

[処理]
ポリイミド層コート:日産化学工業株式会社製SE−5300
UVO3処理:株式会社オーク製作所製UVドライプロセッサー
[processing]
Polyimide layer coat: SE-5300 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
UVO3 treatment: UV dry processor manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.

表1,2の結果をまとめたものである。The results of Tables 1 and 2 are summarized.

Claims (8)

基板と、該基板上に異方性光学膜形成用組成物を塗布して形成する異方性光学膜とを有する光学素子であって、
該基板の該異方性光学膜形成用組成物が塗布される面の平均表面粗さが300Å以下であり、該異方性光学膜形成用組成物の該基板塗布面に対する接触角が75度以下であることを特徴とする光学素子。
An optical element having a substrate and an anisotropic optical film formed by applying a composition for forming an anisotropic optical film on the substrate,
The surface of the substrate on which the anisotropic optical film-forming composition is applied has an average surface roughness of 300 mm or less, and the contact angle of the anisotropic optical film-forming composition with respect to the substrate-coated surface is 75 degrees. An optical element characterized by the following.
前記基板の平均表面粗さが20Å以上であり、前記接触角が40度以上かつ65度以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the average surface roughness of the substrate is 20 mm or more, and the contact angle is 40 degrees or more and 65 degrees or less. 前記基板の平均表面粗さが20Å以上かつ100Å以下であり、前記接触角が20度以上かつ40度以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the average surface roughness of the substrate is 20 to 100 degrees and the contact angle is 20 to 40 degrees. 前記基板の平均表面粗さが20Å以上かつ200Å以下であり、前記接触角が20度以上かつ40度以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the average surface roughness of the substrate is 20 to 200 ° and the contact angle is 20 to 40 degrees. 前記基板の平均表面粗さが1Å以上かつ20Å以下であり、前記接触角が15度以上かつ75度以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the average surface roughness of the substrate is 1 to 20 ° and the contact angle is 15 to 75 °. 前記基板が高分子基材を含み、当該基板の全光線透過率が80%以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光学素子。   The optical element according to claim 1, wherein the substrate includes a polymer base material, and the total light transmittance of the substrate is 80% or more. 前記基板の吸水率が5%以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学素子。   The optical element according to claim 1, wherein the substrate has a water absorption of 5% or less. 基板と、当該基板上に積層された異方性光学膜とを備える光学素子の製造方法であって、
平均表面粗さが300Å以下である基板塗布面上に、該基板塗布面に対する接触角が75度以下である異方性光学膜形成用組成物を塗布して異方性光学膜を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
A manufacturing method of an optical element comprising a substrate and an anisotropic optical film laminated on the substrate,
An anisotropic optical film is formed by applying a composition for forming an anisotropic optical film having a contact angle with respect to the substrate coating surface of 75 ° or less onto a substrate coating surface having an average surface roughness of 300 mm or less. A method for producing an optical element characterized by the above.
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