JP2007272010A - Manufacturing method for liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a liquid crystal display device that facilitates transfer formation and simplifies manufacturing processes. <P>SOLUTION: In the manufacturing method for the liquid crystal display device that performs multi-unit manufacture by cutting a plurality of display regions 3 formed between an array substrate 41 and a color filter substrate 42, a transfer material 24 is applied to a position nearby both a pair of transfer electrodes 23 between adjacent display regions 3 and when the array substrate 41 and color filter substrate 42 are stuck together, the applied transfer material 24 is spread to both the transfer electrodes 23. When the display areas are cut, the transfer material 24 on the transfer electrodes are divided to form transfer parts nearby the display areas 3. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は液晶表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device.

近年、携帯電話やデジタルスチルカメラ等に用いられる比較的小型の液晶表示装置について製造が活発になっている。この様な小型の液晶表示装置を製造する場合、材料となるガラス基板の面積に比べ表示領域が非常に小さくなる為、ガラス基板を切断し同時に多数の液晶表示装置を多面取りする製造方法が一般的である。 In recent years, production of relatively small liquid crystal display devices used for mobile phones, digital still cameras, and the like has been active. When manufacturing such a small liquid crystal display device, since the display area is very small compared to the area of the glass substrate used as a material, a manufacturing method in which a large number of liquid crystal display devices are cut at the same time by cutting the glass substrate is generally used. Is.

また、液晶表示装置に関して端子や駆動素子を有する駆動素子基板と共通電極及びカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板との間の電気的な導通を得るために、駆動素子基板上の電極上に銀ペースト等の導電材料を塗布し、カラーフィルタ基板表面の共通電極で挟んだトランスファ(Transfer)構造を形成する技術 (特許文献1参照)が開示されている。 Further, in order to obtain electrical continuity between the drive element substrate having terminals and drive elements and the color filter substrate having a common electrode and a color filter with respect to the liquid crystal display device, silver paste or the like is formed on the electrodes on the drive element substrate. A technique is disclosed in which a conductive structure is applied to form a transfer structure sandwiched between common electrodes on the surface of a color filter substrate (see Patent Document 1).

特開2000−89247号公報JP 2000-89247 A

しかしながら、従来の方法を取った場合、トランスファ部はシリンジ針でトランスファ材を一電極に対して一点ずつ塗布して形成している。この様な方法を小型の液晶表示装置で用いられている多面取りによる製造方法に用いた場合、基板あたりの多面取りの数が増加するにつれ、塗布回数が増え処理時間が飛躍的に増加する。塗布回数が増加すると、基板あたりの処理時間自体が長くなること、各塗布点でのトランスファ材の塗布状態を良好とする為のシリンジ調整に手間がかかること等の製造上問題があった。 However, when the conventional method is used, the transfer portion is formed by applying a transfer material to the electrode one by one with a syringe needle. When such a method is used in the multi-chamfer manufacturing method used in small liquid crystal display devices, the number of coatings increases and the processing time increases dramatically as the number of multi-chamfers per substrate increases. When the number of times of application increases, the processing time per substrate itself becomes longer, and there are problems in manufacturing such as taking time and effort to adjust the syringe to improve the application state of the transfer material at each application point.

本発明は上述の様な課題を解決するためになされたものであり、特に新たな工程を増やすことなくトランスファ形成における塗布回数を少なくし製造工程を簡略にすることのできる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and in particular, a method for manufacturing a liquid crystal display device that can reduce the number of coatings in transfer formation and simplify the manufacturing process without increasing new processes. The purpose is to provide.

一対の基板間に形成された複数の表示領域間を切断することによって多面取りを行う液晶表示装置の製造方法において、前記隣接した表示領域間の基板上において対向配置された一対のトランスファ電極の双方に近接した位置に導電材料を塗布し、前記一対の基板を貼り合せることによって前記塗布された導電材料を前記トランスファ電極の双方に拡げ、前記表示領域間の切断時にトランスファ電極上の導電材料を分割し、前記表示領域の近傍にトランスファ部をそれぞれ形成する。 In a method of manufacturing a liquid crystal display device that performs multi-face drawing by cutting a plurality of display areas formed between a pair of substrates, both of the pair of transfer electrodes arranged opposite to each other on the substrate between the adjacent display areas A conductive material is applied to a position close to the substrate, and the pair of substrates are bonded to spread the applied conductive material to both the transfer electrodes, and the conductive material on the transfer electrode is divided when the display area is cut. A transfer portion is formed in the vicinity of the display area.

本発明によれば、一対の近接したトランスファ電極の双方に近接した位置に導電材料を塗布し、塗布された導電材料を前記トランスファ電極の双方へ拡げ、前記のトランスファ電極上の導電材料を分割しトランスファ部を形成することにより、トランスファ形成工程の導電材料の塗布回数を減らし製造工程を簡略化できる。 According to the present invention, a conductive material is applied to a position close to both of a pair of adjacent transfer electrodes, the applied conductive material is spread to both of the transfer electrodes, and the conductive material on the transfer electrode is divided. By forming the transfer portion, the number of times of applying the conductive material in the transfer forming process can be reduced and the manufacturing process can be simplified.

実施の形態1.
図1及び図2は、実施の形態1の液晶表示装置の構成を説明するための図であり、図1(a)は液晶表示装置全体の平面模式図、図1(b)は図1(a)におけるC部の拡大斜視模式図、図2は図1(a)におけるA−B断面線での断面模式図である。なお図中では膜構成等を簡略化して示している。
Embodiment 1.
1 and 2 are diagrams for explaining the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment. FIG. 1A is a schematic plan view of the entire liquid crystal display device, and FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line A-B in FIG. 1A. In the drawing, the film configuration and the like are simplified.

図1及び図2に示すように、一対の透明基板であるガラス基板1、2が空間を空けて配置されており、ガラス基板1とガラス基板2は画像表示を行う表示領域3を囲む様に額縁状に形成されたシール材4によって貼り合わされている。更に、ガラス基板1、2間のシール材4で囲まれる空間に液晶5が注入されており、シール材4に設けられた液晶5の注入口は封止材6により封止されている。ここでは、透明基板の材質としてガラスを用いたが透明であれば透明プラスチックや石英等、他の材質であっても良い。 As shown in FIGS. 1 and 2, a pair of transparent substrates, glass substrates 1 and 2, are arranged with a space therebetween, and the glass substrate 1 and the glass substrate 2 surround a display region 3 for displaying an image. It is bonded together by a sealing material 4 formed in a frame shape. Further, the liquid crystal 5 is injected into a space surrounded by the sealing material 4 between the glass substrates 1 and 2, and the injection port of the liquid crystal 5 provided in the sealing material 4 is sealed with the sealing material 6. Here, glass is used as the material of the transparent substrate, but other materials such as transparent plastic and quartz may be used as long as they are transparent.

上述の表示領域3において、ガラス基板1の液晶5に向かう面側の上面にはTFT(Thin Film Transistor)等の駆動素子7、駆動素子7に信号を供給するゲート配線8及びソース配線9、ガラス基板1を覆う多層からなる絶縁膜10、駆動素子7を保護する有機絶縁膜からなる保護膜11、及び駆動素子7に電気的に接続され駆動素子7から供給される電圧により液晶5を駆動する画素電極12などが形成されている(以上説明したガラス基板1及びガラス基板1上面に形成された構成をまとめて端子基板13と呼ぶ。)。 In the display region 3 described above, the upper surface of the glass substrate 1 facing the liquid crystal 5 has a driving element 7 such as a TFT (Thin Film Transistor), a gate wiring 8 and a source wiring 9 for supplying a signal to the driving element 7, glass The insulating film 10 composed of a multilayer covering the substrate 1, the protective film 11 composed of an organic insulating film that protects the driving element 7, and the liquid crystal 5 is driven by a voltage that is electrically connected to the driving element 7 and supplied from the driving element 7. Pixel electrodes 12 and the like are formed (the glass substrate 1 described above and the structure formed on the upper surface of the glass substrate 1 are collectively referred to as a terminal substrate 13).

一方、ガラス基板2の液晶5に向かう面側の上面には、ITO(Indium Tin Oxide)膜等の透明導電膜からなる共通電極14、保護膜の役割を持つオーバーコート膜15、カラーフィルタ16、遮光層17等が形成されており、上述の共通電極14と画素電極12間に電圧を与えて液晶5を駆動することができる(以上説明したガラス基板2及びガラス基板2上面に形成された構成をまとめて対向基板18と呼ぶ。)。また、端子基板13及び対向基板18の液晶5と接する表面には液晶5を配向させる配向膜(図示せず)が形成されている。 On the other hand, on the upper surface of the glass substrate 2 facing the liquid crystal 5, a common electrode 14 made of a transparent conductive film such as an ITO (Indium Tin Oxide) film, an overcoat film 15 serving as a protective film, a color filter 16, The light shielding layer 17 and the like are formed, and the liquid crystal 5 can be driven by applying a voltage between the common electrode 14 and the pixel electrode 12 described above (the configuration formed on the glass substrate 2 and the upper surface of the glass substrate 2 described above). Are collectively referred to as a counter substrate 18). An alignment film (not shown) for aligning the liquid crystal 5 is formed on the surfaces of the terminal substrate 13 and the counter substrate 18 that are in contact with the liquid crystal 5.

また、端子基板13の端部に対向基板18より食み出して設けられた端子領域19には、端子基板13の駆動素子7と同一面側の上面にITO膜等の透明導電膜からなる信号入力用の端子20が形成されている。この端子20に、駆動IC(Integrated Circuit)などを載せた制御基板21がFPC(Flexible Printed Circuit)22等で実装されている。また端子20は、配線(図示せず)によりゲート配線8またはソース配線9に接続されており、入力された信号を、ゲート配線8またはソース配線9に伝達することができる。 In addition, in the terminal region 19 protruding from the counter substrate 18 at the end of the terminal substrate 13, a signal made of a transparent conductive film such as an ITO film on the upper surface of the terminal substrate 13 on the same side as the drive element 7 is provided. An input terminal 20 is formed. A control board 21 on which a driving IC (Integrated Circuit) or the like is mounted is mounted on the terminal 20 with an FPC (Flexible Printed Circuit) 22 or the like. Further, the terminal 20 is connected to the gate wiring 8 or the source wiring 9 by wiring (not shown), and an input signal can be transmitted to the gate wiring 8 or the source wiring 9.

更に、上述の端子20は、これも配線(図示せず)により端子基板13上のシール材4の外側に設けられたトランスファ電極23に電気的に接続されている。このトランスファ電極23は、対向基板18上の共通電極14と導電材料であるトランスファ材24を介して電気的に接続されトランスファ部を形成している。このトランスファ部によって、端子基板13上の端子20から入力された信号が対向する対向基板18上の共通電極14に伝達され液晶5を駆動することができる。 Further, the above-described terminal 20 is also electrically connected to a transfer electrode 23 provided outside the sealing material 4 on the terminal substrate 13 by wiring (not shown). The transfer electrode 23 is electrically connected to the common electrode 14 on the counter substrate 18 via a transfer material 24 that is a conductive material to form a transfer portion. By this transfer part, the signal inputted from the terminal 20 on the terminal substrate 13 is transmitted to the common electrode 14 on the opposite substrate 18 which is opposed to drive the liquid crystal 5.

また、本実施の形態1の液晶表示装置のトランスファ部については、図1(b)のトランスファ部での拡大図から判るようにトランスファ電極23の周囲を囲み基板端方向で開放された段差部25を備えている。更に段差部25は3μmの有機絶縁膜からなる保護膜11によって形成され、トランスファ部から端子基板13の端部まで前記の保護膜11を除去した構造となっている。 As for the transfer portion of the liquid crystal display device according to the first embodiment, as shown in the enlarged view of the transfer portion in FIG. 1B, the step portion 25 that surrounds the periphery of the transfer electrode 23 and is opened in the substrate end direction. It has. Further, the step portion 25 is formed by the protective film 11 made of an organic insulating film of 3 μm, and has a structure in which the protective film 11 is removed from the transfer portion to the end portion of the terminal substrate 13.

また、端子基板13の構成に関して、絶縁膜10は、シリコン窒化膜またはシリコン酸化膜等の絶縁膜を適宜組み合わせ用いている。図中では簡略化してあるが、実際には駆動素子7の層間にも絶縁膜10を構成する絶縁膜が存在する。画素電極12としては、液晶表示装置が透過型、反射型、半透過型等の種類に応じてITO膜等の透明導電膜、表面の反射率の高い金属膜、または、両者を適宜組み合わせたものを用いる。表面の反射率の高い金属膜としては、Al、Agやそれらを主成分とする合金膜または前記合金膜を少なくとも一層、構成要素に含んだ多層膜等が有効である。 Further, regarding the configuration of the terminal substrate 13, the insulating film 10 uses an appropriate combination of insulating films such as a silicon nitride film or a silicon oxide film. Although it is simplified in the drawing, there is actually an insulating film constituting the insulating film 10 between the layers of the driving element 7. As the pixel electrode 12, a liquid crystal display device is a transparent conductive film such as an ITO film, a metal film having a high reflectance on the surface, or a combination of both appropriately according to the type of transmission type, reflection type, semi-transmission type, etc. Is used. As the metal film having a high reflectance on the surface, Al, Ag, an alloy film containing them as a main component, or a multilayer film including at least one layer of the alloy film as a component is effective.

以上の説明の様に本実施の形態1の液晶表示装置が構成されている。透過型や半透過型の液晶表示装置ではバックライトユニットが配置されるが、本実施の形態1では一般的な白色光タイプで良く、反射型の液晶表示装置の様に用いられない場合もあるので、ここでは図示せず省略した。また、液晶表示装置では端子基板13と対向基板18の外側にそれぞれ偏光板を配置するのが一般的であるが、本実施の形態1では特別なものを使用する必要がなく、偏光板についても図示せず説明を省略した。 As described above, the liquid crystal display device of the first embodiment is configured. Although a backlight unit is arranged in a transmissive or transflective liquid crystal display device, a general white light type may be used in the first embodiment, and it may not be used like a reflective liquid crystal display device. Therefore, the illustration is omitted here. Further, in the liquid crystal display device, it is common to dispose polarizing plates on the outer sides of the terminal substrate 13 and the counter substrate 18, but in the first embodiment, it is not necessary to use a special one. The description is omitted, not shown.

次に、上述した液晶表示装置の製造工程について説明する。先ず、端子基板13の製造工程について、ここでは、一例として駆動素子7にアモルファスシリコンTFT を用いた製造方法について図3に従って説明する。なお、図中、図1と同一の構成には同一の符号を付し、その説明を省略している。 Next, a manufacturing process of the above-described liquid crystal display device will be described. First, as a process for manufacturing the terminal substrate 13, a manufacturing method using an amorphous silicon TFT as the drive element 7 will be described as an example with reference to FIG. In the figure, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図3(a)に示す様に、ガラス基板1の上にCr、Al、Mo、Ti等を主成分とする配線材料を用いて、表示領域3にはゲート電極26、端子領域19には端子パッド27及びトランスファ部にはトランスファパッド28を形成する。つづいて、シリコン窒化膜等からなる絶縁膜29や、TFTの能動層であるアモルファスシリコン膜等を形成し、シリコンを島状にパターニングしてTFTのチャネル30を形成する。 As shown in FIG. 3A, a wiring material mainly composed of Cr, Al, Mo, Ti or the like is used on the glass substrate 1, and the display region 3 includes a gate electrode 26 and the terminal region 19 includes a terminal. A transfer pad 28 is formed on the pad 27 and the transfer portion. Subsequently, an insulating film 29 made of a silicon nitride film or the like, an amorphous silicon film that is an active layer of a TFT, or the like is formed, and silicon is patterned into an island shape to form a TFT channel 30.

続いて、図3(b)に示す様に、端子パッド27及びトランスファパッド28に対応してコンタクトホール31及びコンタクトホール32を形成し、更に、ソース配線やソース・ドレイン電極33をMo、 Cr、 Ti等を主成分とする金属膜あるいは、これらとAlを主成分とする金属膜の積層膜を用いて形成する。また、同時に、端子パッド34及びトランスファパッド35を形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 3B, a contact hole 31 and a contact hole 32 are formed corresponding to the terminal pad 27 and the transfer pad 28, and further, the source wiring and the source / drain electrode 33 are formed of Mo, Cr, It is formed by using a metal film mainly composed of Ti or the like or a laminated film of these and a metal film mainly composed of Al. At the same time, the terminal pad 34 and the transfer pad 35 are formed.

更に、図3(c)に示す様に有機絶縁膜、または、シリコン窒化膜と有機絶縁膜の積層膜からなる絶縁膜36を形成する。絶縁膜36の画素部、端子部、トランスファ部に対応する部分に開口部を開け、画素部、端子部にはコンタクトホール37、38が、トランスファ部には段差部25が形成される。最後に、表面の反射率の高い金属膜で画素電極12の反射部分39を形成し、ITO膜で画素電極12の透過部分40、端子20、及びトランスファ電極23を形成することによって端子基板13が完成する。 Further, as shown in FIG. 3C, an insulating film 36 made of an organic insulating film or a laminated film of a silicon nitride film and an organic insulating film is formed. Openings are formed in portions of the insulating film 36 corresponding to the pixel portion, terminal portion, and transfer portion, contact holes 37 and 38 are formed in the pixel portion and terminal portion, and a step portion 25 is formed in the transfer portion. Finally, the reflection part 39 of the pixel electrode 12 is formed with a metal film having a high surface reflectance, and the transmission part 40, the terminal 20 and the transfer electrode 23 of the pixel electrode 12 are formed with an ITO film, whereby the terminal substrate 13 is formed. Complete.

また、図2の構成との対応としては、ゲート電極26、絶縁膜29、チャネル30及びソース・ドレイン電極33等によってアモルファスシリコンTFTからなる能動素子7が、絶縁膜29及び絶縁膜36の一部によって、絶縁膜10が、絶縁膜36の一部によって有機絶縁膜からなる保護膜11が構成される。 2 corresponds to the active element 7 made of amorphous silicon TFT by the gate electrode 26, the insulating film 29, the channel 30, the source / drain electrode 33, etc., and a part of the insulating film 29 and the insulating film 36. Thus, the insulating film 10 and the protective film 11 made of an organic insulating film are constituted by a part of the insulating film 36.

ここで絶縁膜36として有機絶縁膜を使用したのは、スピンコート等の方式によって比較的容易に厚い絶縁膜を形成できるからである。数100nm程度のシリコン窒化膜等を用いるよりも1μm以上の絶縁膜を形成することによって、層間で発生する寄生容量を小さくできる。この為、ソース配線やソース・ドレイン電極33と画素電極12を重なる様に配置することも可能となり高開口率の消費電力の少ない液晶表示装置を得ることができる。また、容易に段差部25として1μm以上の段差を形成することができる。 The reason why the organic insulating film is used as the insulating film 36 is that a thick insulating film can be formed relatively easily by a method such as spin coating. By forming an insulating film having a thickness of 1 μm or more rather than using a silicon nitride film or the like of about several hundred nm, the parasitic capacitance generated between the layers can be reduced. Therefore, it is possible to dispose the source wiring / source / drain electrode 33 and the pixel electrode 12 so as to overlap with each other, and a liquid crystal display device with a high aperture ratio and low power consumption can be obtained. Further, a step of 1 μm or more can be easily formed as the step portion 25.

ここでは、半透過型の液晶表示装置について説明したので、画素電極12としては前記の反射部分と透明部分の両方を持ち合わせる構成とした。透過型液晶表示装置の場合には、透過部分のみを持った構成、反射型液晶表示装置では反射部分のみを持った構成となる。 Here, since the transflective liquid crystal display device has been described, the pixel electrode 12 is configured to have both the reflective portion and the transparent portion. In the case of a transmissive liquid crystal display device, it has a configuration having only a transmissive portion, and in the case of a reflective liquid crystal display device, it has a configuration having only a reflective portion.

続いて、液晶表示装置のセル組み立て工程を図4に従って説明する。端子基板13については、上述の製造方法に従い複数の端子基板13を多面取りすることのできるアレイ基板41の形態で準備した。カラーフィルタ16の形成された対向基板18についても、アレイ基板41と同様に複数の対向基板18を多面取りすることのできるカラーフィルタ基板42を使用するが、一般的な物を使用するものとし、製造工程の説明は省略する。図中、膜構成等を簡略化し、多面取りされる複数の端子基板13及び対向基板18は一つのみ示し、他は省略している。 Next, the cell assembly process of the liquid crystal display device will be described with reference to FIG. The terminal board 13 was prepared in the form of an array board 41 that can take a plurality of terminal boards 13 in accordance with the manufacturing method described above. As for the counter substrate 18 on which the color filter 16 is formed, a color filter substrate 42 that can take a plurality of counter substrates 18 in the same manner as the array substrate 41 is used, but a general material is used. The description of the manufacturing process is omitted. In the drawing, the film configuration and the like are simplified, and only one terminal substrate 13 and counter substrate 18 are shown, and the others are omitted.

図4(a)に示されたアレイ基板41および、カラーフィルタ基板42の表面(アレイ基板41では図の上面側、カラーフィルタ基板42では図の下面側)に、それぞれ別々に、配向膜(図示せず)を形成する。その後、図4(a)に示す様にアレイ基板41表面に、ペースト状の樹脂であるシール材4をノズルによるディスペンス方式、または、スクリーン印刷方式等によって塗布する。ここでは、小型の液晶表示装置の製造時など一枚のガラス基板から多数の液晶表示装置を製造する場合において処理能力の高いスクリーン印刷方式を使用した。 Alignment films (FIG. 4) are separately provided on the surface of the array substrate 41 and the color filter substrate 42 shown in FIG. 4A (on the array substrate 41, the upper surface side in the figure, and on the color filter substrate 42, the lower surface side in the figure). (Not shown). Thereafter, as shown in FIG. 4A, the sealing material 4 which is a paste-like resin is applied to the surface of the array substrate 41 by a dispensing method using a nozzle or a screen printing method. Here, a screen printing method having a high processing capability is used when a large number of liquid crystal display devices are manufactured from a single glass substrate, such as when a small liquid crystal display device is manufactured.

また、アレイ基板41に対しては、トランスファ電極23の近傍に導電材料からなるトランスファ材24を塗布する。導電材料としては、銀ペーストが一般的である。しかし小型の液晶表示装置では、屋外での使用などもあり、使用時にセルに外力がかかることが多い。銀ペーストは比較的剥がれ易いため、信頼性のトラブルが発生し易い。そこで、剥がれ等の発生しにくい導電材料として、金、銀などの導電体をコーティングした球状の樹脂をシール剤中に分散させたペースト材をここでは用いた。また、図示はしないが基板間距離を決めるスペーサー材を散布する工程等も行われる。 Further, a transfer material 24 made of a conductive material is applied to the array substrate 41 in the vicinity of the transfer electrode 23. A silver paste is generally used as the conductive material. However, a small liquid crystal display device may be used outdoors, and an external force is often applied to the cell during use. Since silver paste is relatively easy to peel off, reliability problems are likely to occur. Accordingly, a paste material in which a spherical resin coated with a conductor such as gold or silver is dispersed in a sealant is used here as a conductive material that is unlikely to peel off. Further, although not shown, a step of dispersing a spacer material for determining the distance between the substrates is also performed.

その後、図4(b)に示す様に、これら2枚の基板は、重ね合わされ、熱と圧力を印加し、シール材4で接着されることによって貼り合わされる。この時に、トランスファ材24は、アレイ基板41とカラーフィルタ基板42間で潰され、トランスファ電極23上に拡げられる。その結果、トランスファ材24がトランスファ電極23と共通電極17の表面と密着することによって、トランスファ電極23と共通電極14間は電気的に接続される。これによりカラーフィルタ基板42とアレイ基板41間の導通を取ることができる。図中、表示領域3は一つのみ図示し、他を省略しているが、複数の表示領域3を多面取りできる様に形成されている。 Thereafter, as shown in FIG. 4B, these two substrates are overlapped and bonded together by applying heat and pressure and adhering with the sealing material 4. At this time, the transfer material 24 is crushed between the array substrate 41 and the color filter substrate 42 and spread on the transfer electrode 23. As a result, the transfer material 24 is in close contact with the surfaces of the transfer electrode 23 and the common electrode 17, whereby the transfer electrode 23 and the common electrode 14 are electrically connected. Thereby, conduction between the color filter substrate 42 and the array substrate 41 can be established. In the figure, only one display area 3 is shown and the others are omitted, but the display area 3 is formed so that a plurality of display areas 3 can be obtained.

続いて、図4(c)に示す様に、複数の表示領域3間で基板を切断して、液晶5の注入を行い、注入口部分の封止を行い、セル43が形成される。 Subsequently, as shown in FIG. 4C, the substrate is cut between the plurality of display regions 3, the liquid crystal 5 is injected, the injection port portion is sealed, and the cell 43 is formed.

最後に図1に示す様に、端子20に制御基板21を実装し、必要に応じセル43の外側に偏光板(図示せず)や光源としてのバックライトユニット(図示せず)などを配置することによって液晶表示装置が完成する。 Finally, as shown in FIG. 1, a control board 21 is mounted on the terminal 20, and a polarizing plate (not shown), a backlight unit (not shown) as a light source, etc. are arranged outside the cell 43 as necessary. Thus, the liquid crystal display device is completed.

続いて、本実施の形態1でのトランスファ塗布工程について図5〜図8を用いて詳細に説明する。ここで、図5は本実施の形態1で用いたトランスファ塗布装置を示した模式図である。また、図6は塗布状態を示した塗布位置付近での斜視模式図、図7はアレイ基板41上の表示領域3及び塗布位置の配置を示す平面模式図、図8は塗布位置での詳細位置関係を示した平面模式図である。 Next, the transfer coating process in the first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. Here, FIG. 5 is a schematic diagram showing the transfer coating apparatus used in the first embodiment. 6 is a schematic perspective view in the vicinity of the application position showing the application state, FIG. 7 is a schematic plan view showing the arrangement of the display area 3 and the application position on the array substrate 41, and FIG. 8 is a detailed position at the application position. It is the plane schematic diagram which showed the relationship.

図5の様に、アレイ基板41がトランスファ塗布装置で処理される。図中、アレイ基板41の表面には、多数の表示領域3が示されている。トランスファ塗布装置は、処理するアレイ基板41を載せるステージ44と、トランスファ材24を充填したシリンジ45と、シリンジ45を取り付ける打点ヘッド46、シリンジ45に接続されたチューブ47、シリンジ45にチューブ47を介して圧力を印加する圧力印加ユニット48で構成されている。 As shown in FIG. 5, the array substrate 41 is processed by a transfer coating apparatus. In the drawing, a large number of display areas 3 are shown on the surface of the array substrate 41. The transfer coating apparatus includes a stage 44 on which an array substrate 41 to be processed is placed, a syringe 45 filled with a transfer material 24, a dot head 46 to which the syringe 45 is attached, a tube 47 connected to the syringe 45, and a syringe 47 through the tube 47. And a pressure applying unit 48 for applying pressure.

ステージは図中のX方向、Y方向に基板を載せたまま移動することでトランスファ材24の塗布位置を制御できる。シリンジ45は注射器と同様に先端に針を備えており、シリンジ内のペースト状のトランスファ材24は印加された空気による圧力によって針先から押し出される。また、打点ヘッド46はZ方向に上下動作しシリンジ45の針をアレイ基板41の表面に近づけることで、針先から押し出されたトランスファ材24をアレイ基板41の表面に塗布することができる。圧力印加ユニット48は、チューブ47によってシリンジ45に接続されており、チューブ47に空気を送り込む事によってシリンジ45に圧力を印加することができる。印加する圧力の大きさ、印加するタイミングなどを制御可能である。この装置では、塗布位置の制御はステージ44の動作のみで行うこととしたが、打点ヘッド46がX方向に移動可能な方式としても良く、その方式の方が塗布動作を早く行い易い。 The application position of the transfer material 24 can be controlled by moving the stage while the substrate is placed in the X and Y directions in the figure. The syringe 45 has a needle at the tip like the syringe, and the paste-like transfer material 24 in the syringe is pushed out of the needle tip by the pressure of the applied air. Further, the dot head 46 moves up and down in the Z direction so that the needle of the syringe 45 is brought close to the surface of the array substrate 41, so that the transfer material 24 pushed out from the needle tip can be applied to the surface of the array substrate 41. The pressure application unit 48 is connected to the syringe 45 by a tube 47 and can apply pressure to the syringe 45 by sending air into the tube 47. The magnitude of the pressure to be applied, the timing of application, and the like can be controlled. In this apparatus, the application position is controlled only by the operation of the stage 44. However, a method in which the dot head 46 can be moved in the X direction may be used, and this method facilitates the application operation earlier.

次に図6及び図7を用いて、アレイ基板41表面での塗布位置について説明する。図6の斜視模式図に示す様に、隣り合う二つの端子基板13a及び端子基板13bにおいて、表示領域3a及び表示領域3bの周辺には、周囲を段差部25で囲まれた凹部49が形成されている。凹部49にトランスファ電極が収納された状態で、この凹部49の中央付近にトランスファ材24は塗布される。図中トランスファ部について、トランスファ電極は省略し、トランスファ電極を囲む長方形の段差部25及びトランスファ材24の塗布位置のみ図示している。 Next, the application position on the surface of the array substrate 41 will be described with reference to FIGS. As shown in the schematic perspective view of FIG. 6, in two adjacent terminal boards 13a and 13b, a recess 49 surrounded by a step 25 is formed around the display area 3a and the display area 3b. ing. In a state where the transfer electrode is housed in the recess 49, the transfer material 24 is applied near the center of the recess 49. In the drawing, the transfer electrode is omitted, and only the rectangular step portion 25 surrounding the transfer electrode and the application position of the transfer material 24 are shown.

液晶表示装置を多面取りするにあたり、アレイ基板41上の端子基板13、表示領域3及びトランスファ材24の塗布位置をどのように配置するかについて図7の平面模式図を用いて具体的に説明する。図に示すように、各端子基板13は、図中表示領域3の上側に端子領域19が来る様に、上下方向、左右方向揃えて配置する。この様に配置したことによって隣り合う端子基板13のトランスファ部が同時形成し易い様に近接して配置される。段差部25は隣り合う各端子基板13の双方にかかる様に一つずつ配置される。また各端子基板13の配列の端では、図の様に段差部25を長方形の一端が端子基板13にかかる様に配置した。更にトランスファ材24の塗布位置は、図の様に長方形状の段差部25の中央付近に塗布した。   A method for arranging the application positions of the terminal substrate 13, the display region 3, and the transfer material 24 on the array substrate 41 when the liquid crystal display device is multifaceted will be specifically described with reference to the schematic plan view of FIG. . As shown in the figure, the terminal boards 13 are arranged in the vertical and horizontal directions so that the terminal area 19 comes above the display area 3 in the figure. By arranging in this way, the transfer portions of the adjacent terminal boards 13 are arranged close to each other so as to be easily formed simultaneously. One stepped portion 25 is arranged so as to cover both of the adjacent terminal boards 13. Further, at the end of the arrangement of the terminal boards 13, the step portions 25 are arranged so that one end of the rectangle covers the terminal board 13 as shown in the figure. Further, the transfer material 24 was applied near the center of the rectangular step 25 as shown in the figure.

続いてトランスファ電極23と段差部25との位置関係を図8の平面模式図を用いて説明する。図8に示す様に長方形状の段差部25に対して、長方形の長手方向の両端にそれぞれ一つずつのトランスファ電極23a、23bが配置されており、トランスファ電極23a、23bは何れも、段差部25によって形成された凹部49に収納されている。トランスファ電極23a、23bより少し小さい領域のトランスファパッド35a、35bも一つずつ形成されている。ここで、トランスファ電極23aと23b、トランスファパッド35aと35bは、図6の隣り合う二つの端子基板13a、13bにそれぞれ対応する。また、塗布されたトランスファ材24は、段差部25の中央付近に点線で示されている。その結果、トランスファ材24は、形成されるトランスファ電極23aと23bの何れにも跨って塗布されている。 Next, the positional relationship between the transfer electrode 23 and the step portion 25 will be described with reference to the schematic plan view of FIG. As shown in FIG. 8, one transfer electrode 23a, 23b is disposed at each of both ends of the rectangular longitudinal direction with respect to the rectangular step portion 25, and each of the transfer electrodes 23a, 23b is a step portion. 25 is housed in a recessed portion 49 formed by 25. One transfer pad 35a, 35b in a region slightly smaller than the transfer electrodes 23a, 23b is also formed. Here, the transfer electrodes 23a and 23b and the transfer pads 35a and 35b correspond to the two adjacent terminal boards 13a and 13b in FIG. The applied transfer material 24 is indicated by a dotted line near the center of the step portion 25. As a result, the transfer material 24 is applied across both the transfer electrodes 23a and 23b to be formed.

以上の説明の様に塗布されたトランスファ材24はアレイ基板41とカラーフィルタ基板42間で潰されることによって機能する。続いて、どの様に潰れトランスファ部として機能するのかについて図を用いて詳細に説明する。ここで、図9はシール材4とトランスファ材24の塗布及び潰された時点での位置関係について説明する為の平面模式図であり、図9(a)はカラーフィルタ基板42上に形成されたシール材4の配置を示す平面図、図9(b)はアレイ基板41上に形成されたトランスファ材24の配置を示す平面図、図9(c)はカラーフィルタ基板42とアレイ基板41を貼り合わせた状態での配置を示す平面図である。(a)、 (b)では、貼り合わせ時の相対する基板との位置関係((a)では、アレイ基板41での段差部25の位置とトランスファ材24の位置、(b)では、カラーフィルタ基板42でのシール材4及びダミーシール50の位置)を点線で示している。 The transfer material 24 applied as described above functions by being crushed between the array substrate 41 and the color filter substrate 42. Next, how the crushing transfer unit functions will be described in detail with reference to the drawings. Here, FIG. 9 is a schematic plan view for explaining the positional relationship when the sealing material 4 and the transfer material 24 are applied and crushed, and FIG. 9A is formed on the color filter substrate 42. FIG. 9B is a plan view showing the arrangement of the transfer material 24 formed on the array substrate 41, and FIG. 9C is a plan view showing the arrangement of the color filter substrate 42 and the array substrate 41. FIG. It is a top view which shows arrangement | positioning in the state put together. In (a) and (b), the positional relationship with the opposing substrates at the time of bonding (in (a), the position of the step portion 25 and the position of the transfer material 24 on the array substrate 41, and in (b), the color filter The positions of the sealing material 4 and the dummy seal 50 on the substrate 42) are indicated by dotted lines.

これより、シール材4とダミーシール50が段差部25を囲む様に配置されている。段差部25の中心付近に塗布されたトランスファ材24は、図9(c)の様に、潰された際に段差部25で囲まれた領域内に拡がる。段差部25、段差部周辺のシール材4、及びダミーシール50は、何れも段差部25で囲まれた領域以外の領域へのトランスファ材24の拡がりを妨げる効果を持つ。これによって、塗布されたトランスファ材24が意図しない領域まで拡がり基板間でのショートを発生すること、十分に段差部25で囲まれた領域内に拡がらずトランスファ部として機能しないこと、といった不具合を防止できる。また、ダミーシール50は、シール材4と同一材料でシール材4を形成するスクリーン印刷で同時に形成されたものである。 Thus, the sealing material 4 and the dummy seal 50 are arranged so as to surround the step portion 25. The transfer material 24 applied in the vicinity of the center of the stepped portion 25 spreads in a region surrounded by the stepped portion 25 when crushed as shown in FIG. 9C. The step portion 25, the seal material 4 around the step portion, and the dummy seal 50 all have an effect of preventing the transfer material 24 from spreading to a region other than the region surrounded by the step portion 25. As a result, the applied transfer material 24 spreads to an unintended region, causes a short circuit between the substrates, and does not spread sufficiently in the region surrounded by the step portion 25 and does not function as a transfer portion. Can be prevented. The dummy seal 50 is simultaneously formed by screen printing in which the sealing material 4 is formed of the same material as the sealing material 4.

ダミーシール50を形成しない場合にも、段差部25は土手の役割をする為、トランスファ材24の不要な拡がりをある程度防止する効果を持つ。しかし、ダミーシール50は、段差の内側方向へ拡がりトランスファ材24を押し戻す効果を持つことから確実に不要な拡がりを防止することが可能となる。また、段差部25を形成しない場合においても、ダミーシール50やシール材4の配置によって不要な拡がりはある程度防止される。しかし、段差部25が本実施の形態1の形状に形成されること、更に膜厚を比較的簡単に厚くできる有機絶縁膜を用い3μm以上の段差部25を形成することによって確実に不要な拡がりを防止することが可能となる。 Even when the dummy seal 50 is not formed, the step portion 25 serves as a bank, and therefore has an effect of preventing the transfer material 24 from spreading unnecessarily to some extent. However, since the dummy seal 50 has the effect of spreading inward in the step and pushing back the transfer material 24, it is possible to reliably prevent unnecessary spreading. Even when the step portion 25 is not formed, unnecessary spread is prevented to some extent by the arrangement of the dummy seal 50 and the seal material 4. However, the stepped portion 25 is formed in the shape of the first embodiment, and further, the stepped portion 25 having a thickness of 3 μm or more is formed by using an organic insulating film capable of relatively easily increasing the film thickness. Can be prevented.

続いて、図10は、トランスファ部近傍の切断時の様子を説明する平面模式図である。この図の様に、表示領域3aと表示領域3bの間での基板の切断によって、トランスファ電極23、トランスファ材24は分割されて、二つの液晶表示装置のそれぞれのトランスファ部(トランスファ電極23a、23b及びトランスファ材24a、24b)として機能することができる。   Subsequently, FIG. 10 is a schematic plan view illustrating a state at the time of cutting near the transfer portion. As shown in this figure, the transfer electrode 23 and the transfer material 24 are divided by cutting the substrate between the display area 3a and the display area 3b, and the transfer portions (transfer electrodes 23a, 23b) of the two liquid crystal display devices are divided. And transfer material 24a, 24b).

以上説明した実施の形態1では、特に新たな工程を増やすことなく二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができる。その結果、トランスファ材24の塗布回数を少なくし製造工程を簡略にすることができる。また、トランスファ材24の塗布工程の処理能力を二倍近くまで改善することができ、液晶表示装置の製造コストを安くすることができる。更に、トランスファ電極23周辺の構造が適正化されている為、塗布されたトランスファ材24が意図しない領域まで拡がり基板間でのショートを発生すること、十分に段差部25で囲まれた領域内に拡がらないことによってトランスファ部として機能しないこと、といった不具合も発生することがない。 In the first embodiment described above, the transfer portions of two liquid crystal display devices can be formed at the same time without particularly adding new processes. As a result, the number of coatings of the transfer material 24 can be reduced and the manufacturing process can be simplified. In addition, the processing capacity of the transfer process of the transfer material 24 can be improved to nearly twice, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced. Further, since the structure around the transfer electrode 23 is optimized, the applied transfer material 24 spreads to an unintended region, causing a short circuit between the substrates, and in a region sufficiently surrounded by the step portion 25. Inconveniences such as not functioning as a transfer unit by not spreading do not occur.

また、実施の形態1では、図8の様に、トランスファ電極23a、23bとトランスファパッド35a、35bが2つずつ形成されており、図6の隣り合う二つの端子基板13a、13bにそれぞれ対応する場合について説明した。しかし、この様な形状に限られる必要はなく、図11(a)の平面模式図にしめす様に、トランスファ電極23が繋がった一つのパターンで形成しても良い。最終的に二つの端子基板13a、13bに分割される為、長方形状の段差部25に対して、長方形の長手方向の両端の部分がそれぞれの端子基板13a、13bのトランスファ電極23a、23bとなる。同様に、図11(b)の様に、トランスファパッド35についても、繋がった一つのパターンで形成しても良い。 Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 8, two transfer electrodes 23a and 23b and two transfer pads 35a and 35b are formed, which correspond to the two adjacent terminal substrates 13a and 13b in FIG. Explained the case. However, it is not necessary to be limited to such a shape, and it may be formed in one pattern in which the transfer electrodes 23 are connected as shown in the schematic plan view of FIG. Since it is finally divided into two terminal boards 13a, 13b, the rectangular longitudinal end portions of the rectangular stepped portion 25 become transfer electrodes 23a, 23b of the respective terminal boards 13a, 13b. . Similarly, as shown in FIG. 11B, the transfer pad 35 may also be formed in a single connected pattern.

また、本実施の形態1では、図7の様に、一つの表示装置に対して端子領域19と反対側のコーナー部分にトランスファ部を二箇所備えた表示装置について説明した。更に小型の液晶表示装置では、トランスファ部での導通の抵抗が高くても表示上問題が出にくい為、一つの表示装置に対して一箇所のトランスファ部を備えた表示装置を設計することも可能である。図12のアレイ基板41上の表示領域3及び端子領域19の配置を示した平面模式図に変形例を示す。この様な場合、図の様に、隣り合う端子基板13の間に一列おきにトランスファ材24を塗布する様にして製造することができる。また、この場合、端子領域19の位置に対してトランスファ部の位置が左右異なる二種類の表示装置が製造される。ただし、表示品質上の要求する仕様を満たすことができれば同一の製品として利用することが可能である。この様な配置で製造しても、二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができ実施の形態1と同様の効果を得ることができる。   Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 7, the display device provided with two transfer portions in the corner portion opposite to the terminal region 19 with respect to one display device has been described. Furthermore, in a small liquid crystal display device, it is difficult for a display problem to occur even if the resistance of conduction at the transfer portion is high. Therefore, it is possible to design a display device having one transfer portion for one display device. It is. A modification is shown in the schematic plan view showing the arrangement of the display area 3 and the terminal area 19 on the array substrate 41 in FIG. In such a case, as shown in the drawing, the transfer material 24 can be applied every other row between the adjacent terminal substrates 13. In this case, two types of display devices in which the position of the transfer part is different from the position of the terminal region 19 are manufactured. However, it can be used as the same product as long as the specifications required for display quality can be satisfied. Even if manufactured in such an arrangement, the transfer portions of the two liquid crystal display devices can be formed simultaneously, and the same effect as in the first embodiment can be obtained.

また、他の変形例を、図13のアレイ基板41上の表示領域3及び端子領域19の配置を示した平面模式図に示す。この様に端子領域19の位置に対して片側に二つのトランスファ部を設置した表示装置を設計することも可能である。この様な場合、図12で説明した様に、端子領域19の位置に対してトランスファ部の位置が左右異なる二種類の表示装置として製造しても構わない。ここでは図13の様に、アレイ基板41上の配置で、各端子基板13は、図中表示領域3の上側に端子領域19が来るものと、下側に来るものを交互に配置した。この様に配置すると隣り合う端子基板13のトランスファ部が同時形成し易い様に、近接して配置され、全ての表示装置において端子領域19の位置に対するトランスファ部の位置が一致する様に製造することができる。この様な配置で製造しても、二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができ実施の形態1と同様の効果を得ることができる。   Another modification is shown in a schematic plan view showing the arrangement of the display area 3 and the terminal area 19 on the array substrate 41 in FIG. In this way, it is possible to design a display device in which two transfer portions are installed on one side with respect to the position of the terminal region 19. In such a case, as described with reference to FIG. 12, two types of display devices in which the position of the transfer portion is different from the position of the terminal region 19 may be manufactured. Here, as shown in FIG. 13, each terminal substrate 13 is arranged on the array substrate 41 alternately with the terminal region 19 coming above the display region 3 and the one coming below the display region 3 in the figure. When arranged in this way, the transfer parts of the adjacent terminal boards 13 are arranged close to each other so that it is easy to form at the same time, and manufacturing is performed so that the position of the transfer part matches the position of the terminal region 19 in all display devices. Can do. Even if manufactured in such an arrangement, the transfer portions of the two liquid crystal display devices can be formed simultaneously, and the same effect as in the first embodiment can be obtained.

以上説明した実施の形態1において、トランスファ材24の拡がりを妨げるダミーシール50をトランスファ電極23の近傍に段差部25を囲む様に配置した。これはトランスファ材24を最も有効に段差部25で囲まれた領域内に拡げる為であってトランスファ電極23の近傍であれば他の位置に塗布してもトランスファ材24が意図しない領域まで拡がることを防止する等の効果がある。 In the first embodiment described above, the dummy seal 50 that prevents the transfer material 24 from spreading is disposed in the vicinity of the transfer electrode 23 so as to surround the step portion 25. This is because the transfer material 24 is most effectively spread in the region surrounded by the stepped portion 25. If the transfer material 24 is in the vicinity of the transfer electrode 23, the transfer material 24 spreads to an unintended region even if applied to other positions. There is an effect such as preventing.

実施の形態2.
実施の形態1では、長方形状の段差部25で囲まれた凹部49の中央付近に塗布したトランスファ材24を基板間で潰すことのみで凹部49内に拡げた。十分に両端のトランスファ電極23上まで拡がらないと、抵抗値の要求の厳しい種類の表示装置などでは、必要な抵抗値が得られず不良品となる場合がある。そこで、確実にトランスファ材24を両側のトランスファ電極23上まで拡げられる実施の形態2について説明する。
Embodiment 2.
In the first embodiment, the transfer material 24 applied in the vicinity of the center of the concave portion 49 surrounded by the rectangular step portion 25 is expanded in the concave portion 49 only by crushing between the substrates. If it does not sufficiently extend onto the transfer electrodes 23 at both ends, a required resistance value may not be obtained in a display device or the like having a strict resistance value, resulting in a defective product. Therefore, a second embodiment in which the transfer material 24 is surely expanded onto the transfer electrodes 23 on both sides will be described.

本実施の形態2では、ダミーシール50の形成方法のみが実施の形態1と異なるが、この変更以外については、製造方法、構造は実施の形態1と同様である為、説明を省略する。   In the second embodiment, only the method for forming the dummy seal 50 is different from that in the first embodiment. Except for this change, the manufacturing method and structure are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

ここで、図14は本実施の形態2でのシール材4、ダミーシール50及びトランスファ材24の塗布及び潰された時点での位置関係について説明する為の平面模式図であり、図14(a)はカラーフィルタ基板42上に形成されたシール材4の配置を示す平面図、図14(b)はアレイ基板41上に形成されたトランスファ材24の配置を示す平面図、図14(c)はカラーフィルタ基板42とアレイ基板41を貼り合わせた状態での配置を示す平面図である。(a)、 (b)では、貼り合わせ時の相対する基板との位置関係((a)では、アレイ基板41での段差部25の位置とトランスファ材24の位置、(b)では、カラーフィルタ基板42でのシール材4及びダミーシール50の位置)を点線で示している。 Here, FIG. 14 is a schematic plan view for explaining the positional relationship when the sealing material 4, the dummy seal 50, and the transfer material 24 are applied and crushed in the second embodiment, and FIG. ) Is a plan view showing the arrangement of the sealing material 4 formed on the color filter substrate 42, FIG. 14B is a plan view showing the arrangement of the transfer material 24 formed on the array substrate 41, and FIG. 14C. FIG. 4 is a plan view showing an arrangement in a state where the color filter substrate 42 and the array substrate 41 are bonded together. In (a) and (b), the positional relationship with the opposing substrates at the time of bonding (in (a), the position of the step portion 25 and the position of the transfer material 24 on the array substrate 41, and in (b), the color filter The positions of the sealing material 4 and the dummy seal 50 on the substrate 42) are indicated by dotted lines.

図14(a)、図14(b)より、シール材4とダミーシール50が段差部25を囲む様に配置されている。更に実施の形態1と異なり、隣り合う二つの端子基板13間の境界部付近に、長方形の段差部25を横切る様にダミーシール50を追加配置している。 14A and 14B, the sealing material 4 and the dummy seal 50 are arranged so as to surround the stepped portion 25. Further, unlike the first embodiment, a dummy seal 50 is additionally arranged near the boundary between two adjacent terminal boards 13 so as to cross the rectangular stepped portion 25.

段差部25の中心付近に塗布されたトランスファ材24は、図14(c)の様に、潰された際に段差部25で囲まれた領域内に拡がる。実施の形態1と同様に段差部25、段差部周辺のシール材4、及びダミーシール50は、何れも段差部25で囲まれた領域以外の領域へのトランスファ材24の拡がりを妨げる効果を持つ。更に本実施の形態2で追加配置されたダミーシール50は最終的に形成される二つのトランスファ電極23の間に、トランスファ材24の塗布位置に重なる様に配置されており、潰されることによって端子基板13の境界付近から拡がる。その際にトランスファ材24を段差部25で囲まれた領域内で、中央部から左右のトランスファ電極23の方向へ押し出す効果を持つ。この様にして段差部25で囲まれた領域内にトランスファ材24を確実に拡げることが可能となる。続いて、実施の形態1と同様に基板を切断することによってトランスファ電極23、トランスファ材24は分割されて、二つの液晶表示装置のそれぞれのトランスファ部として機能することができる。 As shown in FIG. 14C, the transfer material 24 applied near the center of the stepped portion 25 spreads into a region surrounded by the stepped portion 25 when crushed. As in the first embodiment, the step portion 25, the seal material 4 around the step portion, and the dummy seal 50 all have an effect of preventing the transfer material 24 from spreading to a region other than the region surrounded by the step portion 25. . Further, the dummy seal 50 additionally arranged in the second embodiment is arranged between two finally formed transfer electrodes 23 so as to overlap the application position of the transfer material 24, and the terminal is formed by being crushed. It spreads from near the boundary of the substrate 13. At this time, the transfer material 24 is pushed out from the central portion toward the left and right transfer electrodes 23 in the region surrounded by the step portion 25. In this manner, the transfer material 24 can be reliably expanded in the region surrounded by the step portion 25. Subsequently, the transfer electrode 23 and the transfer material 24 are divided by cutting the substrate in the same manner as in the first embodiment, and can function as respective transfer portions of the two liquid crystal display devices.

以上説明した実施の形態2では、二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができ実施の形態1と同様の効果を得ることができると共に、段差部25で囲まれた領域内にトランスファ材24を確実に拡げることが可能となる。   In the second embodiment described above, the transfer portions of the two liquid crystal display devices can be formed at the same time, and the same effects as those of the first embodiment can be obtained. The material 24 can be reliably expanded.

実施の形態3.
実施の形態2で説明した方法と異なる方法で、トランスファ材24を確実に両側のトランスファ電極23上まで拡げられる方法である実施の形態3について説明する。本実施の形態3では、トランスファ材24の塗布方法のみが実施の形態1と異なるが、この変更以外については、製造方法、構造は実施の形態1と同様である為、説明を省略する。
Embodiment 3.
A third embodiment will be described, which is a method in which the transfer material 24 is surely spread over the transfer electrodes 23 on both sides by a method different from the method described in the second embodiment. In the third embodiment, only the coating method of the transfer material 24 is different from that in the first embodiment. Except for this change, the manufacturing method and structure are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

実施の形態1で説明した図5の様なトランスファ塗布装置を用いた場合、塗布されたトランスファ材24は、図8の平面図で示された様に、塗布形状が円形であった。しかし、本実施の形態3では、トランスファ材24の塗布形状について、塗布されるアレイ基板41と水平な断面において円形から扁平させる。更に、扁平方向は最終的に形成される二つのトランスファ電極23の方向へ扁平して塗布する。 When the transfer coating apparatus as shown in FIG. 5 described in the first embodiment is used, the applied transfer material 24 has a circular coating shape as shown in the plan view of FIG. However, in the third embodiment, the application shape of the transfer material 24 is flattened from a circle in a horizontal cross section with the array substrate 41 to be applied. Furthermore, the flat direction is flattened in the direction of the two transfer electrodes 23 to be finally formed.

この様な扁平した形状にトランスファ材24を塗布することのできる方法がいくつか考えられ、以下で順番に説明を行う。第一の方法として、図15のトランスファ材24の塗布方法を示す模式図を用いて説明する。図15(a)の斜視模式図に示す様に、このシリンジ45は先端の針の断面が円形でなく楕円形状となっている。この針の楕円形状の長手方向が、塗布される段差部25で囲まれた長方形の長手方向と一致する様にシリンジ45をアレイ基板41に対してセットして塗布を行う。この様にして塗布を行うと、図15(b)の平面模式図に示す様に、塗布されたトランスファ材24は楕円形状となる。また、扁平方向は最終的に段差部25で囲まれた長方形の両端に形成される二つのトランスファ電極23の方向へ扁平して塗布される。   Several methods that can apply the transfer material 24 to such a flat shape are conceivable, which will be described in turn below. A first method will be described with reference to a schematic diagram showing a method for applying the transfer material 24 in FIG. As shown in the schematic perspective view of FIG. 15A, the syringe 45 has an elliptical cross section at the tip. Application is performed by setting the syringe 45 to the array substrate 41 so that the longitudinal direction of the elliptical shape of the needle coincides with the longitudinal direction of the rectangle surrounded by the stepped portion 25 to be applied. When application is performed in this manner, the applied transfer material 24 becomes elliptical as shown in the schematic plan view of FIG. Further, the flattened direction is finally flattened in the direction of the two transfer electrodes 23 formed at both ends of the rectangle surrounded by the step portion 25.

続いて第二の方法として、図16のトランスファ材24の塗布方法を示す模式図を用いて説明する。図16(a) の斜視模式図に示す様に、このシリンジ45は、先端の針がアレイ基板41に対して垂直方向から傾いている。この針の傾いた方向と塗布される段差部25で囲まれた長方形の長手方向を一致する様にシリンジ45をアレイ基板41に対してセットして塗布を行う。塗布動作は、図中矢印で示している様にアレイ基板41に対して垂直に上下動作させる。この様にして塗布を行うと、図16(b) の平面模式図に示す様に、塗布されたトランスファ材24は段差部25で囲まれた長方形の長手方向に扁平した形状となる。これは、傾いた針の側面にもトランスファ材24が回り込んで塗布される為である。   Next, a second method will be described with reference to a schematic diagram showing a method for applying the transfer material 24 in FIG. As shown in the schematic perspective view of FIG. 16A, the tip of the syringe 45 is inclined with respect to the array substrate 41 from the vertical direction. Application is performed by setting the syringe 45 on the array substrate 41 so that the direction in which the needle is inclined coincides with the longitudinal direction of the rectangle surrounded by the stepped portion 25 to be applied. The coating operation is performed vertically with respect to the array substrate 41 as indicated by arrows in the figure. When the application is performed in this manner, the applied transfer material 24 is flattened in the longitudinal direction of the rectangle surrounded by the step portions 25 as shown in the schematic plan view of FIG. This is because the transfer material 24 wraps around the side of the inclined needle and is applied.

また、図17にシリンジ45自体を傾けたトランスファ材24の塗布方法を示す斜視模式図を示す。この様な場合にも針がアレイ基板41に対して垂直方向から傾いている状態には変わりが無い為、塗布されたトランスファ材24は図16(b)と同様の形状となる。 FIG. 17 is a schematic perspective view showing a method for applying the transfer material 24 with the syringe 45 itself inclined. Even in such a case, the state in which the needles are inclined from the vertical direction with respect to the array substrate 41 is not changed, so that the applied transfer material 24 has the same shape as that in FIG.

続いて第三の方法として、図18のトランスファ材24の塗布方法を示す模式図を用いて説明する。図18(a) の斜視模式図に示す様に、このシリンジ45は、アレイ基板41に対して垂直方向から傾いている。この傾いた方向と塗布される段差部25で囲まれた長方形の長手方向を一致する様にシリンジ45をアレイ基板41に対してセットして塗布を行う。塗布動作は、図中矢印で示している様にシリンジ45の傾いた方向と平行に上下動作させる。この様にして塗布を行うと、図18(b) の平面模式図に示す様に、塗布されたトランスファ材24は段差部25で囲まれた長方形の長手方向に扁平した形状となる。   Next, a third method will be described with reference to a schematic diagram showing a method for applying the transfer material 24 in FIG. As shown in the schematic perspective view of FIG. 18A, the syringe 45 is inclined from the vertical direction with respect to the array substrate 41. Application is performed by setting the syringe 45 to the array substrate 41 so that the inclined direction coincides with the longitudinal direction of the rectangle surrounded by the stepped portion 25 to be applied. The coating operation is moved up and down in parallel with the direction in which the syringe 45 is inclined as shown by the arrows in the figure. When the application is performed in this manner, the applied transfer material 24 is flattened in the longitudinal direction of the rectangle surrounded by the step portion 25 as shown in the schematic plan view of FIG.

この様な形状となることは以下の様に説明できる。トランスファ材24はペースト状であることから粘性をもっている。この為、図18(a)でも示されている様に、シリンジ針がアレイ基板41から離れる際にトランスファ材24は上方へ伸びる。動作方向が基板と垂直である場合には、伸びたトランスファ材24は真下に戻る為に、塗布形状は円形となる。しかし、動作が斜め方向の場合は、伸びたトランスファ材24が横に倒れる様に基板上に付着する為、図18(b)に示す様な扁平形状となる。 Such a shape can be explained as follows. Since the transfer material 24 is paste-like, it has viscosity. Therefore, as shown in FIG. 18A, when the syringe needle is separated from the array substrate 41, the transfer material 24 extends upward. When the operation direction is perpendicular to the substrate, the extended transfer material 24 returns directly below, so that the coating shape is circular. However, when the operation is in an oblique direction, the extended transfer material 24 adheres to the substrate so as to fall sideways, and thus has a flat shape as shown in FIG.

また、図19のトランスファ材24の塗布方法を示す斜視模式図に示す様に、シリンジ45自体はアレイ基板41に対し垂直として、動作方向のみを垂直方向から傾いた方向とすることもできる。この様な場合にも、トランスファ材24はアレイ基板41に対して斜めに伸びる。その結果、塗布されたトランスファ材24は図18(b)と同様の形状となる。 Further, as shown in the schematic perspective view showing the method of applying the transfer material 24 in FIG. 19, the syringe 45 itself can be perpendicular to the array substrate 41 and only the operation direction can be inclined from the vertical direction. Even in such a case, the transfer material 24 extends obliquely with respect to the array substrate 41. As a result, the applied transfer material 24 has the same shape as in FIG.

以上説明した何れの方法でも、トランスファ材24を、近接した二つのトランスファ電極23の方向へ扁平して塗布できる。この様にトランスファ材24が形成されていると、円形に塗布された場合に比べて、段差部25で囲まれた領域の長方形状に近い。この為、アレイ基板41とカラーフィルタ基板42間で潰される際に、確実にトランスファ材24を両側のトランスファ電極23上まで拡げられる。また、二つのトランスファ電極23の方向へ扁平する様にトランスファ材24を塗布したのは、最も有効に段差部25で囲まれた領域内に拡げる為であって、少なくとも一つのトランスファ電極23の方向へ扁平して塗布することでトランスファ電極23上へトランスファ材24を確実に拡げる効果がある。 In any of the methods described above, the transfer material 24 can be applied flatly in the direction of the two adjacent transfer electrodes 23. When the transfer material 24 is formed in this way, it is close to the rectangular shape of the region surrounded by the step portion 25 as compared with a case where the transfer material 24 is applied in a circular shape. For this reason, when being crushed between the array substrate 41 and the color filter substrate 42, the transfer material 24 is surely spread over the transfer electrodes 23 on both sides. The reason why the transfer material 24 is applied so as to flatten in the direction of the two transfer electrodes 23 is to spread the region in the region surrounded by the stepped portion 25 most effectively. By flattening and applying, the transfer material 24 is surely spread on the transfer electrode 23.

以上説明した実施の形態3では、実施の形態1と同様に二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができる効果を得ると共に、実施の形態2と同様に段差部25で囲まれた領域内のトランスファ電極23上へトランスファ材24を確実に拡げることが可能となる。   In the third embodiment described above, the effect that the transfer portions of the two liquid crystal display devices can be formed simultaneously as in the first embodiment is obtained, and the step portion 25 is surrounded as in the second embodiment. It becomes possible to reliably spread the transfer material 24 on the transfer electrode 23 in the region.

実施の形態4.
実施の形態1では、二つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができ、トランスファ材24の塗布工程の処理能力を向上する方法について説明を行った。続いて、更に処理能力向上の効果が高い四つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成可能な方法である実施の形態4について説明する。
Embodiment 4.
In the first embodiment, a method has been described in which the transfer portions of two liquid crystal display devices can be formed at the same time, and the throughput of the transfer material 24 is improved. Next, Embodiment 4 will be described, which is a method capable of simultaneously forming the transfer portions of four liquid crystal display devices that are further effective in improving the processing capability.

本実施の形態4では、段差部25の形状、ダミーシール50の形成位置及びトランスファ材24の塗布位置等が実施の形態1と異なるが、この変更以外については、製造方法、構造は実施の形態1と同様である為、説明を省略する。   In the fourth embodiment, the shape of the stepped portion 25, the formation position of the dummy seal 50, the application position of the transfer material 24, and the like are different from those of the first embodiment, but the manufacturing method and structure are the same as those of the first embodiment except for this change. Since it is the same as 1, the description is omitted.

本実施の形態4での、アレイ基板41上の表示領域3及び端子領域19の配置を図20の平面模式図に示す。図に示す様に、各端子基板13は、表示領域3に対して端子領域19の配置された端部と反対側の端部のコーナー部に来る様に、トランスファ部が配置されている。更に、端子基板13は、端子領域19の位置が一行毎に変わる様に配置されている。この様に配置したことによって近接する四つの端子基板13でトランスファ部が同時形成し易い様に、近接して配置される。図中トランスファ部について、トランスファ電極23は省略し、トランスファ電極23を囲む四角形の段差部25及びトランスファ材24の塗布位置のみ図示している。段差部25は近接する四つの各端子基板13にかかる様に一つずつ配置される。また、各端子基板13の配列の端では、図の様に段差部25を四角形の一端が端子基板13にかかる様に配置した。トランスファ材24の塗布位置は、図の様に四角形の段差部25の中央付近とした。 The arrangement of the display area 3 and the terminal area 19 on the array substrate 41 in the fourth embodiment is shown in the schematic plan view of FIG. As shown in the drawing, each terminal board 13 has a transfer portion arranged so as to come to a corner portion of the end portion opposite to the end portion where the terminal region 19 is arranged with respect to the display region 3. Further, the terminal board 13 is arranged such that the position of the terminal region 19 changes for each row. By arranging in this way, the four terminal boards 13 that are close to each other are arranged close to each other so that the transfer portions can be easily formed simultaneously. In the drawing, the transfer electrode 23 is omitted for the transfer portion, and only the rectangular step portion 25 surrounding the transfer electrode 23 and the application position of the transfer material 24 are shown. The step portions 25 are arranged one by one so as to cover the four terminal boards 13 that are close to each other. Further, at the end of the arrangement of the terminal boards 13, the stepped portions 25 are arranged so that one end of the quadrangular area is over the terminal board 13 as shown in the figure. The application position of the transfer material 24 was set near the center of the rectangular step portion 25 as shown in the figure.

ここで、図21は本実施の形態4でのシール材4、トランスファ材24の塗布及び潰された時点での位置関係について説明する為の平面模式図であり、図21(a)はカラーフィルタ基板42上に形成されたシール材4の配置を示す平面図、図21(b)はアレイ基板41上に形成されたトランスファ材24の配置を示す平面図、図21(c)はカラーフィルタ基板42とアレイ基板41を貼り合わせた状態での配置を示す平面図である。(a)、 (b)では、貼り合わせ時の相対する基板との位置関係((a)では、アレイ基板41での段差部25の位置とトランスファ材24の位置、(b)では、カラーフィルタ基板42でのシール材4の位置)を点線で示している。 Here, FIG. 21 is a schematic plan view for explaining the positional relationship when the sealing material 4 and the transfer material 24 are applied and crushed in the fourth embodiment, and FIG. 21 is a plan view showing the arrangement of the sealing material 4 formed on the substrate 42, FIG. 21B is a plan view showing the arrangement of the transfer material 24 formed on the array substrate 41, and FIG. 21C is a color filter substrate. 4 is a plan view showing an arrangement in a state where 42 and an array substrate 41 are bonded together. In (a) and (b), the positional relationship with the opposing substrates at the time of bonding (in (a), the position of the step portion 25 and the position of the transfer material 24 on the array substrate 41, and in (b), the color filter The position of the sealing material 4 on the substrate 42) is indicated by a dotted line.

図21(a)、図21(b)より、シール材4が段差部25を囲む様に配置されている。段差部25の中心付近に塗布されたトランスファ材24は、図21(c)の様に、潰された際に段差部25で囲まれた領域内に拡がる。実施の形態1と同様に段差部25及び段差部周辺のシール材4は、段差部25で囲まれた領域以外の領域に拡がるのを防止する効果を持つ。続いて、実施の形態1と同様に基板を切断することによってトランスファ電極23、トランスファ材24は分割されて、四つの液晶表示装置のそれぞれのトランスファ部として機能することができる。 21A and 21B, the sealing material 4 is disposed so as to surround the step portion 25. The transfer material 24 applied in the vicinity of the center of the step portion 25 spreads in the region surrounded by the step portion 25 when crushed as shown in FIG. Similar to the first embodiment, the step portion 25 and the seal material 4 around the step portion have an effect of preventing the region from expanding to a region other than the region surrounded by the step portion 25. Subsequently, the transfer electrode 23 and the transfer material 24 are divided by cutting the substrate in the same manner as in the first embodiment, and can function as transfer portions of the four liquid crystal display devices.

以上説明した実施の形態4では、特に新たな工程を増やすことなく四つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができる。その結果、トランスファ材24の塗布回数を少なくし製造工程を簡略にすることができる。また、工程の処理能力を四倍近くまで改善することができ、液晶表示装置の製造コストを安くすることができる。更に、トランスファ電極23周辺の構造が適正化されている為、塗布されたトランスファ材24が意図しない領域まで拡がり基板間でのショートを発生すること、十分に段差部25で囲まれた領域内に拡がらないことによってトランスファ部として機能しないこと、といった不具合も発生することがない。 In the fourth embodiment described above, the transfer portions of four liquid crystal display devices can be formed at the same time without adding new processes. As a result, the number of coatings of the transfer material 24 can be reduced and the manufacturing process can be simplified. Further, the processing capacity of the process can be improved to nearly four times, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced. Further, since the structure around the transfer electrode 23 is optimized, the applied transfer material 24 spreads to an unintended region, causing a short circuit between the substrates, and in a region sufficiently surrounded by the step portion 25. Inconveniences such as not functioning as a transfer unit by not spreading do not occur.

実施の形態5.
実施の形態4では、段差部25及び段差部周辺のシール材4が、トランスファ材24の段差部25で囲まれた領域以外への拡がりを防止する効果を持つ為、実施の形態1で設置した様な拡がりを防止する役割を持つダミーシール50を配置しなかった。しかし、実施の形態2で説明した段差部25で囲まれた領域内にトランスファ材24を確実に拡げる効果を持つダミーシール50については、実施の形態4に追加しても効果的である。続いて、トランスファ材24を拡げる効果を向上した実施の形態5について説明する。
Embodiment 5.
In the fourth embodiment, since the step portion 25 and the seal material 4 around the step portion have an effect of preventing the transfer material 24 from spreading outside the region surrounded by the step portion 25, the step portion 25 is installed in the first embodiment. The dummy seal 50 having the role of preventing such spread was not arranged. However, even if the dummy seal 50 having the effect of reliably expanding the transfer material 24 in the region surrounded by the step portion 25 described in the second embodiment is added to the fourth embodiment, it is effective. Next, a fifth embodiment in which the effect of expanding the transfer material 24 is improved will be described.

本実施の形態5では、ダミーシール50の形成方法、段差部25の形状のみが実施の形態4と異なるが、この変更以外については、製造方法、構造は実施の形態4と同様である為、説明を省略する。   In the fifth embodiment, only the method for forming the dummy seal 50 and the shape of the stepped portion 25 are different from those in the fourth embodiment, but the manufacturing method and structure are the same as those in the fourth embodiment except for this change. Description is omitted.

ここで、図22は本実施の形態5でのシール材4、ダミーシール50及びトランスファ材24の塗布及び潰された時点での位置関係について説明する為の平面模式図であり、図22(a)はカラーフィルタ基板42上に形成されたシール材4の配置を示す平面図、図22(b)はアレイ基板41上に形成されたトランスファ材24の配置を示す平面図、図22(c)はカラーフィルタ基板42とアレイ基板41を貼り合わせた状態での配置を示す平面図である。(a)、 (b)では、貼り合わせ時の相対する基板との位置関係((a)では、アレイ基板41での段差部25の位置とトランスファ材24の位置、(b)では、カラーフィルタ基板42でのシール材4及びダミーシール50の位置)を点線で示している。 Here, FIG. 22 is a schematic plan view for explaining the positional relationship when the seal material 4, the dummy seal 50, and the transfer material 24 are applied and crushed in the fifth embodiment, and FIG. ) Is a plan view showing the arrangement of the sealing material 4 formed on the color filter substrate 42, FIG. 22B is a plan view showing the arrangement of the transfer material 24 formed on the array substrate 41, and FIG. FIG. 4 is a plan view showing an arrangement in a state where the color filter substrate 42 and the array substrate 41 are bonded together. In (a) and (b), the positional relationship with the opposing substrates at the time of bonding (in (a), the position of the step portion 25 and the position of the transfer material 24 on the array substrate 41, and in (b), the color filter The positions of the sealing material 4 and the dummy seal 50 on the substrate 42) are indicated by dotted lines.

まず、段差部25を、四つのトランスファ部の方向にトランスファ材24が拡がり易くなる様に実施の形態4より変更した。形状としては、図22(a)、図22(b)の様に、長手方向がそれぞれ、四つのトランスファ部の方向に一致する二つの長方形を組み合わせた斜め十字形状とした。また、この斜め十字形状の段差部25を端子基板13間の境界部付近で四つに分割する様な十字形状にダミーシール50を配置している。 First, the step portion 25 is changed from that of the fourth embodiment so that the transfer material 24 can easily spread in the direction of the four transfer portions. As shown in FIGS. 22 (a) and 22 (b), the shape is an oblique cross formed by combining two rectangles whose longitudinal directions coincide with the directions of the four transfer portions. In addition, the dummy seal 50 is arranged in a cross shape so that the oblique cross-shaped step portion 25 is divided into four near the boundary between the terminal boards 13.

段差部25の中心付近に塗布されたトランスファ材24は、図22(c)の様に、潰された際に段差部25で囲まれた領域内に拡がる。実施の形態4と同様に段差部25及び段差部周辺のシール材4は、何れも段差部25で囲まれた領域以外の領域に拡がるのを防止する効果を持つ。また、段差部25の形状の変更によって、中央部から斜め十字形状の四つのそれぞれの端部方向へ導く作用が大きくなる。更に本実施の形態5で追加配置されたダミーシール50は、最終的に形成される四つのトランスファ電極23の間に、トランスファ材24の塗布位置に重なる様に配置されており、潰されることによって端子基板13の境界付近から拡がる。その際にトランスファ材24を段差部25で囲まれた領域内で、中央部から斜め十字形状の四つのそれぞれの端部の方向、すなわちトランスファ電極23の方向へ押し出す効果を持つ。この様にして段差部25で囲まれた領域内にトランスファ材24を確実に拡げることが可能となる。 The transfer material 24 applied in the vicinity of the center of the stepped portion 25 spreads in a region surrounded by the stepped portion 25 when crushed as shown in FIG. As in the fourth embodiment, both the step portion 25 and the seal material 4 around the step portion have an effect of preventing spreading to a region other than the region surrounded by the step portion 25. Further, by changing the shape of the stepped portion 25, the effect of leading from the center portion toward the four end portions of the oblique cross shape increases. Further, the dummy seal 50 additionally arranged in the fifth embodiment is arranged so as to overlap the application position of the transfer material 24 between the four transfer electrodes 23 to be finally formed. It spreads from near the boundary of the terminal board 13. At this time, the transfer material 24 is pushed out from the central portion in the direction of each of the four oblique cross-shaped ends, that is, in the direction of the transfer electrode 23 in the region surrounded by the step portion 25. In this manner, the transfer material 24 can be reliably expanded in the region surrounded by the step portion 25.

以上説明した実施の形態5では、実施の形態4と同様に四つの液晶表示装置のトランスファ部を同時に形成することができる効果を得ると共に、実施の形態2と同様に段差部25で囲まれた領域内にトランスファ材24を確実に拡げることが可能となる。   In the fifth embodiment described above, the effect that the transfer portions of four liquid crystal display devices can be formed simultaneously as in the fourth embodiment is obtained, and the step portion 25 is surrounded as in the second embodiment. It is possible to reliably spread the transfer material 24 in the region.

以上説明した実施の形態1〜5において、トランスファ材24を段差部25で囲まれた領域の中央部に塗布することによって、分割されて形成される何れのトランスファ電極23にも跨る様に塗布した。これはトランスファ材24を最も有効に段差部25で囲まれた領域内に拡げる為であってトランスファ電極23に近接していれば他の位置に塗布しても構わない。 In Embodiment 1-5 demonstrated above, it apply | coated so that it might straddle over any transfer electrode 23 formed by apply | coating the transfer material 24 to the center part of the area | region enclosed by the level | step-difference part 25. . This is because the transfer material 24 is most effectively spread within the region surrounded by the stepped portion 25, and may be applied to other positions as long as it is close to the transfer electrode 23.

以上、実施の形態1〜5として、駆動素子7の一例としてアモルファスシリコン膜を能動層として用いたTFTを用いて説明を行った。駆動素子7としては、能動層にポリシリコン膜を使ったTFT、更に薄膜ダイオードも駆動素子7に含まれ、その他、能動的に信号を制御できる素子を全て含む。これらの駆動素子7を用いた液晶表示装置等についても、端子基板13上の電極と対向基板18上の電極間を電気的に接続するトランスファ部を持つ場合には、全て同様の効果がある。 As described above, Embodiments 1 to 5 have been described using TFTs using an amorphous silicon film as an active layer as an example of the drive element 7. The driving element 7 includes a TFT using a polysilicon film as an active layer, and further a thin film diode. The driving element 7 includes all elements capable of actively controlling signals. The liquid crystal display device using these drive elements 7 also has the same effect if it has a transfer portion that electrically connects the electrodes on the terminal substrate 13 and the electrodes on the counter substrate 18.

また、実施の形態1〜5として、駆動素子7を持つ液晶表示装置について例を挙げて説明したが、パッシブ方式の液晶表示装置等、駆動素子7を特別に持たない場合についても、端子基板13上の電極と対向基板18上の電極間を電気的に接続するトランスファ部を持つ場合には、全て同様の効果がある。 In addition, as the first to fifth embodiments, the liquid crystal display device having the drive element 7 has been described as an example. However, the terminal substrate 13 is also used when the drive element 7 is not specially provided, such as a passive liquid crystal display device. In the case of having a transfer portion that electrically connects the upper electrode and the electrode on the counter substrate 18, all the same effects are obtained.

実施の形態1〜5の変形例として、対向基板18に設けた共通電極14を端子基板13側に設置して、画素電極12との間に横方向に液晶5に対して電界をかける横電界方式を用いた液晶表示装置の場合についても、対向基板18にも電極を備えるタイプの様に端子基板13上の電極と対向基板18上の電極間を電気的に接続するトランスファ部を持つ場合には、全て同様の効果がある。 As a modification of the first to fifth embodiments, a common electrode 14 provided on the counter substrate 18 is installed on the terminal substrate 13 side, and a horizontal electric field is applied to the liquid crystal 5 in the horizontal direction between the pixel electrode 12. Also in the case of a liquid crystal display device using the method, as in the case of a type in which the counter substrate 18 is also provided with an electrode, a transfer unit that electrically connects the electrode on the terminal substrate 13 and the electrode on the counter substrate 18 is provided. All have the same effect.

本発明の実施の形態1における液晶表示装置全体を示した平面模式図及びトランスファ部付近における斜視模式図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing the entire liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention and a schematic perspective view in the vicinity of a transfer portion. 本発明の実施の形態1における液晶表示装置を示した断面模式図である。It is the cross-sectional schematic diagram which showed the liquid crystal display device in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における液晶表示装置の端子基板の製造工程を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the manufacturing process of the terminal substrate of the liquid crystal display device in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における液晶表示装置のセル組み立て工程を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the cell assembly process of the liquid crystal display device in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1で用いられるトランスファ塗布装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the transfer coating apparatus used in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1での塗布位置付近の斜視模式図である。It is a perspective schematic diagram of the application position vicinity in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1のアレイ基板上の表示領域及び塗布位置の配置を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows arrangement | positioning of the display area and application | coating position on the array substrate of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1での塗布位置付近の平面模式図である。It is a plane schematic diagram of the application position vicinity in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1でのシール材とトランスファ材の塗布及び潰された時点での位置関係を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the positional relationship at the time of application | coating and crushing of the sealing material and transfer material in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1でのトランスファ部近傍の切断時の様子を説明する平面模式図である。It is a plane schematic diagram explaining the mode at the time of the cutting | disconnection of the transfer part vicinity in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1の変形例での塗布位置付近の平面模式図である。It is a schematic plan view of the vicinity of the application position in a modification of the first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態1の変形例でのアレイ基板上の表示領域及び端子領域の配置を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows arrangement | positioning of the display area and terminal area on an array board | substrate in the modification of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1の変形例でのアレイ基板上の表示領域及び端子領域の配置を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows arrangement | positioning of the display area and terminal area on an array board | substrate in the modification of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2でのシール材とトランスファ材の塗布及び潰された時点での位置関係を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the positional relationship at the time of application | coating and crushing of the sealing material and transfer material in Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3でのトランスファ材の塗布方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating method of the transfer material in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3でのトランスファ材の塗布方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating method of the transfer material in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3でのトランスファ材の塗布方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating method of the transfer material in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3でのトランスファ材の塗布方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating method of the transfer material in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3でのトランスファ材の塗布方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating method of the transfer material in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4でのアレイ基板上の表示領域及び端子領域の配置を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows arrangement | positioning of the display area and terminal area on an array board | substrate in Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態4でのシール材とトランスファ材の塗布及び潰された時点での位置関係を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the positional relationship at the time of application | coating and crushing of the sealing material and transfer material in Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5でのシール材とトランスファ材の塗布及び潰された時点での位置関係を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the positional relationship at the time of application | coating and crushing of the sealing material and transfer material in Embodiment 5 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

3 表示領域、23 トランスファ電極、24 トランスファ材、41 アレイ基板、42 カラーフィルタ基板、49 凹部、50 ダミーシール。 3 Display area, 23 Transfer electrode, 24 Transfer material, 41 Array substrate, 42 Color filter substrate, 49 Recess, 50 Dummy seal.

Claims (8)

一対の基板間に形成された複数の表示領域間を切断することによって多面取りを行う液晶表示装置の製造方法において、前記隣接した表示領域間の基板上において対向配置された一対のトランスファ電極の双方に近接した位置に導電材料を塗布する工程と、前記一対の基板を貼り合せることによって前記塗布された導電材料を前記トランスファ電極の双方に拡げる工程と、前記表示領域間の切断時にトランスファ電極上の導電材料を分割し、前記表示領域の近傍にトランスファ部をそれぞれ形成する工程とを備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In a method of manufacturing a liquid crystal display device that performs multi-face drawing by cutting a plurality of display areas formed between a pair of substrates, both of the pair of transfer electrodes arranged opposite to each other on the substrate between the adjacent display areas A step of applying a conductive material to a position close to the substrate, a step of spreading the applied conductive material to both of the transfer electrodes by bonding the pair of substrates, and a step on the transfer electrode when cutting between the display regions And a step of dividing the conductive material and forming transfer portions in the vicinity of the display region. 基板に形成された凹部に一対のトランスファ電極を収納した状態で導電材料を塗布することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductive material is applied in a state where the pair of transfer electrodes is housed in the recess formed in the substrate. 一対のトランスファ電極の近傍に、導電材料の拡がりを妨げるダミーシールを設けたことを特徴とする請求項1或いは2の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。 3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein a dummy seal that prevents the conductive material from spreading is provided in the vicinity of the pair of transfer electrodes. 導電材料を一対のトランスファ電極の少なくとも一方へ扁平して塗布することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductive material is applied flatly to at least one of the pair of transfer electrodes. 一対の基板間に形成された複数の表示領域間を切断することによって多面取りを行う液晶表示装置の製造方法において、前記隣接した四つの表示領域で囲まれた基板上において対向配置された四つのトランスファ電極の全てに近接した位置に導電材料を塗布する工程と、前記一対の基板を貼り合せることによって前記塗布された導電材料を前記四つのトランスファ電極の全てに拡げる工程と、前記表示領域間の切断時にトランスファ電極上の導電材料を四分割し、前記表示領域の近傍にトランスファ部をそれぞれ形成する工程とを備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In a method of manufacturing a liquid crystal display device that performs multi-face drawing by cutting a plurality of display areas formed between a pair of substrates, four of the four opposingly arranged substrates are surrounded by the four adjacent display areas. A step of applying a conductive material to a position close to all of the transfer electrodes; a step of spreading the applied conductive material to all of the four transfer electrodes by bonding the pair of substrates; and between the display regions And a step of dividing the conductive material on the transfer electrode into four parts at the time of cutting and forming transfer portions in the vicinity of the display region. 基板に形成された凹部に四つのトランスファ電極の全てを収納した状態で導電材料を塗布することを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。 6. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 5, wherein the conductive material is applied in a state where all of the four transfer electrodes are accommodated in the recess formed in the substrate. 導電材料の塗布位置にダミーシールを設けたことを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein a dummy seal is provided at a position where the conductive material is applied. 何れのトランスファ電極にも跨って導電材料を塗布することを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の液晶表示装置の製造方法。

The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein a conductive material is applied across any transfer electrode.

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