JP2007266638A5 - - Google Patents

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  1. 第１の基板を載置した第１の基板保持部が基板支持部から水平方向に退避する工程と、第１の基板を前記第１の基板保持部に載置し、該第１の基板保持部が反応炉側に向くように回転する工程と、第１の基板を基板搬送装置の前記第１の基板保持部に保持する工程と、前記基板搬送装置の第２の基板保持部の高さよりも前記反応炉内の基板載置部に載置された第２の基板の高さが高くなるように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との鉛直方向の相対位置を変える工程と、前記第２の基板保持部を第２の基板の下方に挿入するように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との水平方向の相対位置を変える工程と、第２の基板が前記第２の基板保持部に保持されるように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との鉛直方向の相対位置を変える工程と、前記第２の基板保持部に保持された第２の基板を前記基板載置部から引き出すように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との水平方向の相対位置を変える工程と、前記基板載置部の高さが前記第２の基板保持部に保持する第２の基板の上面から前記第１の基板保持部に保持する第１の基板の下面までの範囲内になるように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との鉛直方向の相対位置を変える工程と、第１の基板を保持した前記第１の基板保持部を前記基板載置部の上方に挿入するように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との水平方向の相対位置を変える工程と、第１の基板が前記基板載置部に載置されるように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との鉛直方向の相対位置を変える工程と、前記第１の基板保持部を前記基板載置部から引き出すように、前記基板搬送装置と前記基板載置部との水平方向の相対位置を変える工程と、前記基板載置部に載置された第１の基板を前記反応炉内で処理する処理工程とを有し、前記基板搬送装置は、第１の基板を２つ以上の前記反応炉内の前記基板載置部へ交互に搬送し、前記基板載置部それぞれから第２の基板を前記基板保持部へ戻す際に次に処理する第１の基板と入れ替える工程と、を有することを特徴とする基板の処理方法。
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