JP2007258575A5 - - Google Patents

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Claims (8)

  1. 光源からの光束で被照明面を照明する照明装置であって、
    第1位相板と第2位相板とを含む、前記光束の偏光状態を変更する偏光変更部を有し、
    前記光束の波長をλ、前記第1位相板に入射する光束の入射角度をθ、前記第1位相板の複屈折量をΔnとすると、前記第1位相板の厚さdは
    を満足し、
    前記第2位相板は、前記第1位相板及び前記第2位相板を通過する光の互いに垂直な方向に振動する直線偏光成分間に所定の位相差を与えるように、前記第1位相板の厚さとの差分を有することを特徴とする照明装置。
  2. 前記偏光変更部は、前記照明装置の瞳に配置されることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  3. 前記偏光変更部は、
    前記光束の偏光状態を第1の偏光状態に変更する第1の偏光変更部と、
    前記光束の偏光状態を前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態に変更する第2の偏光変更部とを有し、
    前記第1の偏光変更部及び前記第2の偏光変更部は、前記光束の光路内に挿脱可能であることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  4. 前記光束の偏光状態を解消する偏光解消板を更に有し、
    前記偏光変更部は、前記偏光解消板と切り替え可能であることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  5. 複数の光学素子と、
    前記被照明面を照明するための有効光源を形成する有効光源形成手段とを更に有し、
    前記複数の光学素子のうち中心の厚さが5mm以下の光学素子に用いる硝材の複屈折量は10[nm/cm]以下であり、
    前記複数の光学素子のうち前記有効光源形成手段よりも前記光源側の配置された光学素子に用いる硝材の複屈折量は5[nm/cm]以下であり、
    前記複数の光学素子のうち前記有効光源形成手段よりも前記被照明面側に配置された光学素子に用いられる硝材の複屈折量は2[nm/cm]以下であり、
    前記硝材は、(1 1 1)又は(1 0 0)の結晶軸が光軸方向に向くように配置されることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  6. 反射膜を有するミラーと、
    透過膜を有するレンズとを更に有し、
    前記反射膜のS偏光とP偏光との間の反射位相差は、前記光束が前記ミラーに入射する角度内において、±10°以下であり、
    前記透過膜のS偏光とP偏光との間の位相差は、前記光束が前記レンズに入射する角度内において、±5°以下であることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
  7. レチクルを照明する照明装置と、
    前記レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系とを有し、
    前記照明装置は、請求項1乃至のうちいずれか一項記載の照明装置であることを特徴とする露光装置。
  8. 請求項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
    露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5319766B2 (ja) 2008-06-20 2013-10-16 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法
JP5185727B2 (ja) 2008-08-22 2013-04-17 ギガフォトン株式会社 偏光純度制御装置及びそれを備えたガスレーザ装置
JP5595015B2 (ja) * 2009-11-16 2014-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法
DE102009055184B4 (de) * 2009-12-22 2011-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2012191148A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Ricoh Co Ltd 面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置
WO2013042679A1 (ja) * 2011-09-19 2013-03-28 株式会社ニコン 照明光学装置、光学系ユニット、照明方法、並びに露光方法及び装置
CN114047137B (zh) * 2021-09-28 2023-09-12 深圳市麓邦技术有限公司 偏振信息转化或复制拼接方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0587728A (ja) * 1991-08-23 1993-04-06 Fuoto Device Kk 偏光解析方法とこれを用いたエリプソメータ
JPH07280649A (ja) * 1994-04-11 1995-10-27 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光導波路型偏波検知装置
DE10124566A1 (de) * 2001-05-15 2002-11-21 Zeiss Carl Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln und Quarzkristallplatte hierfür
JP2003090978A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Canon Inc 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2004145217A (ja) 2002-10-28 2004-05-20 Sharp Corp 投影型画像表示装置
TW200412617A (en) * 2002-12-03 2004-07-16 Nikon Corp Optical illumination device, method for adjusting optical illumination device, exposure device and exposure method
TW201834020A (zh) * 2003-10-28 2018-09-16 日商尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
EP1542044A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-15 JDS Uniphase Corporation Trim retarders incorporating negative birefringence
JP4776891B2 (ja) * 2004-04-23 2011-09-21 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4537115B2 (ja) 2004-05-07 2010-09-01 キヤノン株式会社 偏光分離プリズム
US7548370B2 (en) * 2004-06-29 2009-06-16 Asml Holding N.V. Layered structure for a tile wave plate assembly

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