JP2007256423A - Method for manufacturing reflector, and light source apparatus and projector - Google Patents

Method for manufacturing reflector, and light source apparatus and projector Download PDF

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JP2007256423A JP2006078261A JP2006078261A JP2007256423A JP 2007256423 A JP2007256423 A JP 2007256423A JP 2006078261 A JP2006078261 A JP 2006078261A JP 2006078261 A JP2006078261 A JP 2006078261A JP 2007256423 A JP2007256423 A JP 2007256423A
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reflecting mirror
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雄二 ▲高▼戸
Yuji Takato
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflector (sub-mirror) manufacturing method for manufacturing a reflector (sub-mirror) by an air-pressure molding method, in which the reflector (sub-mirror) can be prevented from being cracked or broken. <P>SOLUTION: The reflector (sub-mirror) manufacturing method comprises: a tubular member preparation process; an expansion part formation process for forming an expansion part partially expanded on a tubular member by heating the tubular member, charging the heated tubular member into a molding die, and then applying inner pressure by inert gas so that the inner surface shape of the portion in the tubular member corresponds to the reflection surface of the reflector (sub-mirror); a reflector base material formation process (sub-mirror base material formation process) for forming a reflector base material (sub-mirror base material) by cutting off the tubular member on which the expansion part is formed; a micro-crack removing process for removing micro-cracks generated on the cutting surface of the reflector base material (sub-mirror base material); and a reflection layer formation process for forming a reflection layer on a portion, which becomes a reflection surface, out of the reflector base material (sub-mirror base material). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射鏡の製造方法並びに光源装置及びプロジェクタに関する。   The present invention relates to a reflector manufacturing method, a light source device, and a projector.

従来、プロジェクタに用いる光源装置として、副鏡を備える光源装置が知られており(
例えば、特許文献1参照。)、このような副鏡を製造するための方法として、気圧成形法
によって副鏡を製造する方法が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
従来の副鏡の製造方法は、副鏡の材料からなる管状部材を準備する管状部材準備工程と
、管状部材を加熱して成形型に入れた後、管状部材における一部の内面形状が2つの副鏡
を互いに向き合わせたときの反射面の形状となるように、不活性ガスによって内圧をかけ
ることにより管状部材における一部を膨張させて膨張部を形成する膨張部形成工程と、膨
張部が形成された管状部材を切断することにより、2つの副鏡基材を形成する副鏡基材形
成工程と、副鏡基材の内面のうち反射面となる部分に反射層を形成する反射層形成工程と
を含むものである。
Conventionally, a light source device including a secondary mirror is known as a light source device used for a projector (
For example, see Patent Document 1. As a method for manufacturing such a secondary mirror, a method of manufacturing the secondary mirror by a pressure forming method is known (for example, see Patent Document 2).
The conventional secondary mirror manufacturing method includes a tubular member preparation step of preparing a tubular member made of the material of the secondary mirror, and after the tubular member is heated and placed in a mold, a part of the inner surface of the tubular member has two inner shapes. An inflating part forming step for forming an inflating part by inflating a part of the tubular member by applying an internal pressure with an inert gas so as to form a reflecting surface when the secondary mirrors face each other; A secondary mirror base material forming step for forming two secondary mirror base materials by cutting the formed tubular member, and a reflective layer formation for forming a reflective layer on a portion of the inner surface of the secondary mirror base material that becomes a reflective surface Process.

従来の副鏡の製造方法によれば、管状部材における一部の内面形状が2つの副鏡を互い
に向き合わせたときの反射面の形状となるように、不活性ガスによって内圧をかけること
により管状部材における一部を膨張させて膨張部を形成するようにしたため、副鏡の反射
面を形成するための成形型が不要になる。このため、副鏡の連続生産数量が増えても、成
形型の表面が磨耗したり、成形型の表面に副鏡の材料が付着したりすることがなくなるた
め、成形型の表面状態が劣化することがなくなり、製造される副鏡の反射面の特性が劣化
して光利用効率が低下したり、製造コストが上昇したりすることがなくなる。これにより
、光利用効率が高い優れた副鏡を安価な製造コストで製造することができるようになる。
また、従来の副鏡の製造方法によれば、管状部材の内面は不活性ガスのみに接すること
になるため、副鏡の反射面として表面粗さの極めて小さい滑らかな反射面を得ることがで
きる。
このため、従来の副鏡の製造方法によれば、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価な副鏡
を製造することができるようになる。
According to the conventional method for manufacturing a secondary mirror, a tubular member is formed by applying an internal pressure with an inert gas so that the shape of a part of the inner surface of the tubular member becomes the shape of a reflecting surface when the two secondary mirrors face each other. Since a part of the member is inflated to form the inflatable portion, a mold for forming the reflecting surface of the secondary mirror is not necessary. For this reason, even if the continuous production quantity of the secondary mirror increases, the surface of the mold does not wear or the secondary mirror material does not adhere to the surface of the mold, so the surface condition of the mold deteriorates. Therefore, the characteristics of the reflecting surface of the secondary mirror to be manufactured are not deteriorated, so that the light use efficiency is not reduced and the manufacturing cost is not increased. As a result, an excellent secondary mirror having high light utilization efficiency can be manufactured at a low manufacturing cost.
Further, according to the conventional method of manufacturing the secondary mirror, the inner surface of the tubular member comes into contact with only the inert gas, so that a smooth reflective surface with extremely small surface roughness can be obtained as the reflective surface of the secondary mirror. .
Therefore, according to the conventional secondary mirror manufacturing method, it is possible to manufacture an inexpensive secondary mirror that is excellent in surface roughness and light utilization efficiency.

特開平8−31382号公報(図1)JP-A-8-31382 (FIG. 1) 国際公開第2005/017406号パンフレット(図2)International Publication No. 2005/017406 Pamphlet (Figure 2)

しかしながら、従来の副鏡の製造方法においては、副鏡基材形成工程において、管状部
材を切断することにより副鏡基材を形成しているため、副鏡基材の切断面にマイクロクラ
ック(微小なクラック)が発生した副鏡が製造されることがある。このようなマイクロク
ラックが発生した副鏡を光源装置に用いた場合には、副鏡の周辺部分が高温となることに
起因して副鏡内部で熱応力が発生し、熱応力によってマイクロクラックが成長する結果、
副鏡が欠けたり割れたりする可能性がある。
However, in the conventional method for manufacturing a secondary mirror, the secondary mirror base material is formed by cutting the tubular member in the secondary mirror base material forming step. Sub-mirrors that have cracks) may be produced. When a secondary mirror in which such microcracks have occurred is used in a light source device, thermal stress is generated inside the secondary mirror due to the high temperature around the secondary mirror, and microcracks are caused by thermal stress. As a result of growing,
The secondary mirror may be chipped or broken.

なお、このような問題は、気圧成形法によって副鏡を製造する場合にのみ発生するもの
ではなく、光源装置に用いるリフレクタを気圧成形法によって製造する場合にも発生する
ものである。すなわち、リフレクタ及び副鏡を含む反射鏡を製造する場合全般に発生する
問題である。
Such a problem does not occur only when the secondary mirror is manufactured by the atmospheric pressure forming method, but also occurs when the reflector used for the light source device is manufactured by the atmospheric pressure forming method. That is, it is a problem that generally occurs when manufacturing a reflecting mirror including a reflector and a secondary mirror.

そこで、本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、気圧成形法によ
って反射鏡を製造する反射鏡の製造方法において、反射鏡が欠けたり割れたりするのを抑
制することが可能な反射鏡の製造方法を提供することを目的とする。また、そのような優
れた反射鏡の製造方法によって製造されたリフレクタ又は副鏡を備える光源装置を提供す
ることを目的とする。さらにまた、そのような優れた光源装置を備えるプロジェクタを提
供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made to solve such a problem, and in the reflector manufacturing method for manufacturing a reflector by an atmospheric pressure forming method, it is possible to prevent the reflector from being chipped or broken. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a reflecting mirror. Moreover, it aims at providing the light source device provided with the reflector or submirror manufactured by the manufacturing method of such the outstanding reflector. Furthermore, it aims at providing a projector provided with such an excellent light source device.

本発明の反射鏡の製造方法は、発光部を有する発光管と、前記発光部からの光を所定の
方向に反射する反射面を有する反射鏡とを備える光源装置に用いる反射鏡の製造方法であ
って、前記反射鏡の材料からなる管状部材を準備する管状部材準備工程と、前記管状部材
を加熱して成形型に入れた後、前記管状部材における一部の内面形状が前記反射鏡の反射
面に対応した形状となるように、不活性ガスによって内圧をかけることにより前記管状部
材における一部を膨張させて膨張部を形成する膨張部形成工程と、前記膨張部が形成され
た前記管状部材を切断することにより、前記反射鏡の基材を形成する反射鏡基材形成工程
と、前記反射鏡の基材の切断面に発生するマイクロクラックを除去するマイクロクラック
除去工程と、前記反射鏡の基材のうち前記反射面となる部分に反射層を形成する反射層形
成工程とを含むことを特徴とする。
The manufacturing method of the reflecting mirror of this invention is a manufacturing method of the reflecting mirror used for the light source device provided with the arc tube which has a light emission part, and the reflective mirror which has the reflective surface which reflects the light from the said light emission part in a predetermined direction. A tubular member preparing step of preparing a tubular member made of the material of the reflecting mirror, and after heating the tubular member into a mold, a part of the inner surface shape of the tubular member is reflected by the reflecting mirror. An inflatable portion forming step of forming an inflatable portion by inflating a part of the tubular member by applying an internal pressure with an inert gas so as to have a shape corresponding to the surface; and the tubular member in which the inflatable portion is formed A reflecting mirror base material forming step for forming a base material of the reflecting mirror, a micro crack removing step for removing micro cracks generated on a cutting surface of the base material of the reflecting mirror, and Base material Characterized in that it comprises an inner said reflecting layer forming step of forming a reflective layer on the portion to be the reflecting surface.

このため、本発明の反射鏡の製造方法によれば、気圧成形法によって反射鏡を製造する
ため、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価な反射鏡を製造することができるようになる。
For this reason, according to the manufacturing method of the reflecting mirror of the present invention, since the reflecting mirror is manufactured by the atmospheric pressure forming method, it is possible to manufacture an inexpensive reflecting mirror having excellent surface roughness and light utilization efficiency.

また、本発明の反射鏡の製造方法によれば、反射鏡の基材の切断面に発生する場合があ
るマイクロクラックを、マイクロクラック除去工程において除去することが可能であるた
め、反射鏡内部で熱応力が発生したとしても、反射鏡が欠けたり割れたりするのを抑制す
ることが可能となる。
Moreover, according to the manufacturing method of the reflecting mirror of the present invention, microcracks that may occur on the cut surface of the base material of the reflecting mirror can be removed in the microcrack removing step. Even if thermal stress occurs, it is possible to prevent the reflecting mirror from being broken or cracked.

なお、この明細書において「マイクロクラック」とは、反射鏡の基材の切断面に発生す
る微小な亀裂のことであり、先端部がV字状の溝のことを意味している。
In this specification, “microcrack” refers to a microcrack that occurs in the cut surface of the base material of the reflector, and means that the tip is a V-shaped groove.

本発明の反射鏡の製造方法においては、前記マイクロクラック除去工程においては、前
記反射鏡の基材の切断面に対してエッチング処理を行うことが好ましい。
In the manufacturing method of the reflective mirror of this invention, it is preferable to perform an etching process with respect to the cut surface of the base material of the said reflective mirror in the said microcrack removal process.

このような方法とすることにより、反射鏡の基材の切断面にマイクロクラックが発生し
ていたとしても、当該マイクロクラックの先端部分の形状をV字状ではなくU字状にする
ことが可能となる。つまり、エッチング処理を行うことにより、反射鏡の基材の切断面に
発生する場合があるマイクロクラックをU字状の溝とすることでマイクロクラックを除去
することが可能となる。このため、亀裂の進行を抑制することが可能となる結果、反射鏡
内部で熱応力が発生したとしても、反射鏡が欠けたり割れたりするのを抑制することが可
能となる。
By adopting such a method, even if a microcrack occurs on the cut surface of the base material of the reflecting mirror, it is possible to make the tip portion of the microcrack into a U shape instead of a V shape. It becomes. That is, by performing the etching process, it is possible to remove the microcracks by making the microcracks that may occur on the cut surface of the base material of the reflecting mirror into a U-shaped groove. For this reason, as a result of suppressing the progress of cracks, even if thermal stress is generated inside the reflecting mirror, the reflecting mirror can be prevented from being chipped or cracked.

本発明の反射鏡の製造方法においては、前記マイクロクラック除去工程においては、前
記反射鏡の基材の切断面に対してレーザ光を照射することが好ましい。
In the manufacturing method of the reflective mirror of this invention, it is preferable to irradiate a laser beam with respect to the cut surface of the base material of the said reflective mirror in the said micro crack removal process.

このような方法とすることにより、反射鏡の基材の切断面にマイクロクラックが発生し
ていたとしても、当該マイクロクラックを含む部分を部分的に溶融することにより、反射
鏡の基材の切断面に発生する場合があるマイクロクラックを消失させることが可能となる
。その結果、反射鏡内部で熱応力が発生したとしても、反射鏡が欠けたり割れたりするの
を抑制することが可能となる。なお、反射鏡の基材の切断面のみに対してレーザ光を照射
すれば、いわゆるファイアポリッシュによる場合と異なり、反射鏡の形状精度を損なうこ
ともない。
By adopting such a method, even if microcracks are generated on the cut surface of the base material of the reflector, the base material of the reflector is cut by partially melting the part including the microcracks. Microcracks that may occur on the surface can be eliminated. As a result, even if thermal stress is generated inside the reflecting mirror, the reflecting mirror can be prevented from being broken or broken. In addition, if laser light is irradiated only to the cut surface of the base material of a reflective mirror, unlike the case of what is called a fire polish, the shape accuracy of a reflective mirror will not be impaired.

本発明の反射鏡の製造方法においては、前記マイクロクラック除去工程においては、前
記反射鏡の基材の切断面に対して研磨加工を行うことが好ましい。
In the manufacturing method of the reflective mirror of this invention, it is preferable to grind | polish with respect to the cut surface of the base material of the said reflective mirror in the said microcrack removal process.

このような方法とすることにより、反射鏡の基材の切断面にマイクロクラックが発生し
ていたとしても、当該マイクロクラックを含む部分をまとめて除去することが可能となる
。その結果、反射鏡内部で熱応力が発生したとしても、反射鏡が欠けたり割れたりするの
を抑制することが可能となる。
By setting it as such a method, even if the microcrack has generate | occur | produced in the cut surface of the base material of a reflective mirror, it becomes possible to remove the part containing the said microcrack collectively. As a result, even if thermal stress is generated inside the reflecting mirror, the reflecting mirror can be prevented from being broken or broken.

本発明の反射鏡の製造方法においては、前記膨張部形成工程においては、前記管状部材
における一部の内面形状が2つの反射鏡を互いに向き合わせたときの前記反射面の形状と
なるように前記膨張部を形成し、前記反射鏡基材形成工程においては、前記反射鏡を2つ
形成することが好ましい。
In the reflecting mirror manufacturing method of the present invention, in the expanding portion forming step, the inner surface shape of a part of the tubular member is the shape of the reflecting surface when two reflecting mirrors face each other. It is preferable to form an inflating part and form the two reflecting mirrors in the reflecting mirror substrate forming step.

このような方法とすることにより、1本の管状部材から同一形状の反射鏡の基材を形成
することが可能となるため、反射鏡を製造する際の製造コストを低減することが可能とな
る。
By adopting such a method, it becomes possible to form a reflecting mirror substrate having the same shape from a single tubular member, so that it is possible to reduce the manufacturing cost when manufacturing the reflecting mirror. .

本発明の光源装置は、発光部を有する管球部及び前記管球部の両側に延びる一対の封止
部を有する発光管と、前記発光管における一方の封止部側に配設され、前記発光部からの
光を被照明領域側に向けて反射するリフレクタとを備える光源装置であって、前記リフレ
クタは上記した本発明の反射鏡の製造方法によって製造された反射鏡であることを特徴と
する。
The light source device of the present invention is disposed on the side of one sealing part in the arc tube, the arc tube having a light bulb and a pair of sealing parts extending on both sides of the tube part, A light source device comprising a reflector that reflects light from a light emitting unit toward an illuminated area, wherein the reflector is a reflector manufactured by the method of manufacturing a reflector according to the present invention described above. To do.

このため、本発明の光源装置は、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価で欠けたり割れた
りするのが抑制されたリフレクタを備える高品質な光源装置となる。
For this reason, the light source device of the present invention is a high-quality light source device including a reflector that is excellent in surface roughness and light utilization efficiency, is inexpensive, and is suppressed from being broken or cracked.

本発明の光源装置は、発光部を有する管球部及び前記管球部の両側に延びる一対の封止
部を有する発光管と、前記発光管における一方の封止部側に配設され、前記発光部からの
光を被照明領域側に向けて反射するリフレクタと、前記発光管における他方の封止部側に
配設され、前記発光部からの光を前記管球部に向けて反射する反射面を有する副鏡とを備
える光源装置であって、前記副鏡は、上記した本発明の反射鏡の製造方法によって製造さ
れた反射鏡であることを特徴とする。
The light source device of the present invention is disposed on the side of one sealing part in the arc tube, the arc tube having a light bulb and a pair of sealing parts extending on both sides of the tube part, A reflector that reflects light from the light emitting portion toward the illuminated region side, and a reflection that is disposed on the other sealing portion side of the arc tube and reflects light from the light emitting portion toward the bulb portion A light source device including a secondary mirror having a surface, wherein the secondary mirror is a reflective mirror manufactured by the method for manufacturing a reflective mirror of the present invention described above.

このため、本発明の光源装置は、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価で欠けたり割れた
りするのが抑制された副鏡を備える高品質な光源装置となる。
For this reason, the light source device of the present invention is a high-quality light source device including a secondary mirror that is excellent in surface roughness and light utilization efficiency and is inexpensive and suppressed from being chipped or broken.

本発明のプロジェクタは、上記した本発明の光源装置を有する照明装置と、前記照明装
置からの光を画像情報に応じて変調する電気光学変調装置と、前記電気光学変調装置によ
って変調された光を投写する投写光学系とを備えることを特徴とする。
The projector of the present invention includes an illumination device having the above-described light source device of the present invention, an electro-optic modulation device that modulates light from the illumination device according to image information, and light modulated by the electro-optic modulation device. A projection optical system for projecting.

このため、本発明のプロジェクタは、上記した優れた光源装置を備える高品質なプロジ
ェクタとなる。
Therefore, the projector according to the present invention is a high-quality projector including the above-described excellent light source device.

以下、本発明の反射鏡の製造方法並びに光源装置及びプロジェクタについて、図に示す
実施の形態に基づいて説明する。
Hereinafter, a reflector manufacturing method, a light source device, and a projector according to the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.

[実施形態1]
実施形態1では、本発明の反射鏡の製造方法を副鏡の製造方法に適用した場合について
説明する。
図1は、実施形態1に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャートである
。図2〜図4は、実施形態1に係る副鏡の製造方法における各工程を模式的に示す図であ
る。図2(a)は管状部材準備工程を模式的に示す図であり、図2(b)及び図2(c)
は管状部材成形工程を模式的に示す図であり、図2(d)は管状部材切断工程を模式的に
示す図である。図3(a)はマイクロクラック除去工程を行う前の副鏡基材2の第1の端
面Pを模式的に示す拡大図であり、図3(b)はマイクロクラック除去工程を行った後
の副鏡基材2の第1の端面Pを模式的に示す拡大図である。図4は反射層形成工程を模
式的に示す図である。
[Embodiment 1]
Embodiment 1 demonstrates the case where the manufacturing method of the reflective mirror of this invention is applied to the manufacturing method of a secondary mirror.
FIG. 1 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a secondary mirror according to the first embodiment. 2-4 is a figure which shows typically each process in the manufacturing method of the submirror which concerns on Embodiment 1. FIG. FIG. 2 (a) is a diagram schematically showing the tubular member preparation step, and FIG. 2 (b) and FIG. 2 (c).
FIG. 2 is a diagram schematically showing a tubular member forming step, and FIG. 2D is a diagram schematically showing a tubular member cutting step. 3 (a) is an enlarged view schematically illustrating front of the first end face P 1 of the secondary mirror substrate 2 for microcrack removing step, FIG. 3 (b) After the microcrack removing step the first end face P 1 of the secondary mirror substrate 2 is an enlarged view schematically showing. FIG. 4 is a diagram schematically showing the reflective layer forming step.

実施形態1に係る副鏡の製造方法は、光源装置に用いる副鏡の製造方法であって、「管
状部材準備工程」、「膨張部形成工程」、「副鏡基材形成工程」、「マイクロクラック除
去工程」及び「反射層形成工程」が順次実施される。以下、これら各工程を順次説明する
The manufacturing method of the secondary mirror according to the first embodiment is a manufacturing method of the secondary mirror used in the light source device, and includes a “tubular member preparation step”, an “expansion portion forming step”, a “secondary mirror substrate forming step”, and “micro The “crack removing step” and the “reflective layer forming step” are sequentially performed. Hereinafter, each of these steps will be described sequentially.

1.管状部材準備工程
まず、図2(a)及びに示すように、副鏡の材料からなる管状部材1を準備する(図1
のステップS10)。
管状部材1の材料としては、硬質ガラスや石英ガラスを好適に用いることができる。な
かでも、石英ガラスを用いることがより好ましい。石英ガラスは熱膨張率が低いうえに内
部歪が残らないため、アニール処理をする必要がないからである。
1. Tubular member preparation step First, as shown in FIG. 2A and FIG. 1, a tubular member 1 made of the material of the secondary mirror is prepared (FIG. 1).
Step S10).
As the material of the tubular member 1, hard glass or quartz glass can be suitably used. Among these, it is more preferable to use quartz glass. This is because quartz glass has a low coefficient of thermal expansion and no internal strain, so that it is not necessary to perform an annealing process.

2.膨張部形成工程
次に、図2(b)に示すように、管状部材1を加熱する。そして、図2(c)に示すよ
うに、成形型Fに入れた後、管状部材1における一部の内面形状が2つの副鏡を互いに向
き合わせたときの反射面の形状となるように、不活性ガスによって内圧をかけることによ
り管状部材1における一部を膨張させて膨張部Eを形成する(図1のステップS20)。
不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガスや窒素ガスを好適に用いることができる。
2. Expansion part formation process Next, as shown in Drawing 2 (b), tubular member 1 is heated. And as shown in FIG.2 (c), after putting in the shaping | molding die F, the shape of a part of inner surface in the tubular member 1 becomes a shape of a reflective surface when two submirrors are mutually faced, By applying an internal pressure with an inert gas, a part of the tubular member 1 is expanded to form an expanded portion E (step S20 in FIG. 1).
As the inert gas, for example, argon gas or nitrogen gas can be suitably used.

3.副鏡基材形成工程
次に、膨張部Eが形成された管状部材1’を切断機等によって切断する(図1のステッ
プS30)。これにより、図2(d)に示すように、2つの副鏡基材2が形成される。こ
の場合、各副鏡基材2における第1の端面Pが「副鏡基材の切断面」となる。
3. Sub-mirror base material formation process Next, tubular member 1 'in which expansion part E was formed is cut with a cutting machine etc. (Step S30 of Drawing 1). Thereby, as shown in FIG.2 (d), the two secondary mirror base materials 2 are formed. In this case, the first end face P 1 of each secondary mirror base material 2 becomes the “cut surface of the secondary mirror base material”.

4.マイクロクラック除去工程
次に、副鏡基材2の第1の端面Pに発生するマイクロクラックを除去する(図1のス
テップS40)。マイクロクラック除去工程においては、副鏡基材2の第1の端面P
対してエッチング処理を行う。
4). Next, the microcrack generated on the first end face P1 of the secondary mirror base material 2 is removed (step S40 in FIG. 1). In the microcrack removing step, an etching process is performed on the first end face P 1 of the secondary mirror base 2.

ここで、マイクロクラックについて説明すると、上記「副鏡基材形成工程」を行うこと
によって得られた副鏡基材2における第1の端面Pには、図3(a)に示すように、マ
イクロクラック(微小な亀裂)aが発生することがある。このようなマイクロクラックa
は先端部がV字状の溝となっている。このため、マイクロクラックaが存在した状態の副
鏡基材2からなる副鏡を光源装置に用いた場合、副鏡の周辺部分が高温となることに起因
して副鏡内部で熱応力が発生し、熱応力によってマイクロクラックaが成長する結果、副
鏡が欠けたり割れたりする可能性がある。
Here, the micro crack will be described. As shown in FIG. 3A, the first end face P 1 in the sub mirror base 2 obtained by performing the above-mentioned “sub mirror base material forming step”, Microcracks (microcracks) a may occur. Such a microcrack a
The tip is a V-shaped groove. For this reason, when the secondary mirror made of the secondary mirror base material 2 in the state where the microcracks a exist is used in the light source device, thermal stress is generated inside the secondary mirror due to the peripheral portion of the secondary mirror becoming high temperature. However, as a result of the growth of microcracks a due to thermal stress, the secondary mirror may be chipped or broken.

そこで、実施形態1に係る副鏡の製造方法においては、マイクロクラック除去工程にお
いて、副鏡基材2の第1の端面Pに対してエッチング処理を行うこととしている。これ
により、副鏡基材2の第1の端面Pにマイクロクラックaが発生していたとしても、エ
ッチング処理を行うことにより、マイクロクラックaの先端部分の形状をV字状ではなく
U字状にすることが可能となる(図3(b)参照。)。つまり、エッチング処理を行うこ
とにより、副鏡基材2の第1の端面Pに発生する場合があるマイクロクラックaをU字
状の溝bとすることでマイクロクラックを除去することが可能となる。
Therefore, in the manufacturing method of the secondary mirror according to the first embodiment, the micro-cracks removal step, is set to be the etching process is performed with respect to the first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2. Thus, even microcracks a had occurred on the first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2, by performing the etching process, U-shaped rather than microcracks a V-shaped shape of the tip portion of the (See FIG. 3B). That is, by performing the etching process, it is possible to remove the microcracks by making the microcracks a that may occur on the first end face P1 of the secondary mirror base material 2 into U-shaped grooves b. Become.

エッチング処理としては、公知のエッチング処理を行えばよい。エッチング処理におい
て使用するエッチング液としては、所定濃度に設定したNaOH溶液などを好適に用いる
ことができる。
As the etching process, a known etching process may be performed. As an etchant used in the etching process, a NaOH solution set to a predetermined concentration can be suitably used.

5.反射層形成工程
そして、図4に示すように、副鏡基材2の内面P(図2(d)参照。)のうち反射面
となる部分に反射層Rを形成する(図1のステップS50)。
反射層Rとしては、例えば、酸化タンタル(Ta)と酸化シリコン(SiO
との誘電体多層膜からなる反射層を好適に用いることができる。
5). Reflective layer forming step And, as shown in FIG. 4, the reflective layer R is formed on the portion that becomes the reflective surface of the inner surface P 3 (see FIG. 2D) of the secondary mirror base 2 (step of FIG. 1). S50).
Examples of the reflective layer R include tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) and silicon oxide (SiO 2 ).
A reflective layer made of a dielectric multilayer film can be suitably used.

以上により、副鏡60(後述する実施形態4で示す図7及び図8参照。)を製造するこ
とができる。
As described above, the secondary mirror 60 (see FIGS. 7 and 8 shown in Embodiment 4 described later) can be manufactured.

このように、実施形態1に係る副鏡の製造方法は、光源装置に用いる副鏡の製造方法で
あって、上述したように、管状部材準備工程と、膨張部形成工程と、副鏡基材形成工程と
、マイクロクラック除去工程と、反射層形成工程とを含んでいる。
Thus, the manufacturing method of the secondary mirror which concerns on Embodiment 1 is a manufacturing method of the secondary mirror used for a light source device, Comprising: As above-mentioned, a tubular member preparation process, an expansion part formation process, and a secondary mirror base material A formation process, a microcrack removal process, and a reflective layer formation process are included.

このため、実施形態1に係る副鏡の製造方法によれば、気圧成形法によって副鏡を製造
するため、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価な副鏡を製造することができるようになる
For this reason, according to the manufacturing method of the secondary mirror which concerns on Embodiment 1, since a secondary mirror is manufactured by an atmospheric pressure forming method, it becomes possible to manufacture an inexpensive secondary mirror with excellent surface roughness and light utilization efficiency. .

また、実施形態1に係る副鏡の製造方法によれば、副鏡基材2の切断面(副鏡基材2の
第1の端面P)に発生する場合があるマイクロクラックaを、マイクロクラック除去工
程において除去することが可能であるため、副鏡内部で熱応力が発生したとしても、副鏡
が欠けたり割れたりするのを抑制することが可能となる。
According to the manufacturing method of the secondary mirror according to the first embodiment, the microcracks a that can occur in the cut surface of the Fukukagamimotozai 2 (first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2), Micro Since it can be removed in the crack removing step, it is possible to prevent the secondary mirror from being chipped or cracked even if thermal stress is generated inside the secondary mirror.

実施形態1に係る副鏡の製造方法においては、マイクロクラック除去工程においては、
副鏡基材2の第1の端面Pに対してエッチング処理を行うため、上述したように、マイ
クロクラックaをU字状の溝bとすることでマイクロクラックを除去することが可能とな
る。このため、亀裂の進行を抑制することが可能となる結果、副鏡内部で熱応力が発生し
たとしても、副鏡が欠けたり割れたりするのを抑制することが可能となる。
In the secondary mirror manufacturing method according to Embodiment 1, in the microcrack removal step,
Since the etching process is performed on the first end face P1 of the sub-mirror substrate 2, the microcracks can be removed by making the microcracks a U-shaped grooves b as described above. . For this reason, it becomes possible to suppress the progress of cracks. As a result, even if thermal stress is generated inside the secondary mirror, the secondary mirror can be prevented from being chipped or cracked.

また、実施形態1に係る副鏡の製造方法においては、図2(c)に示すように、成形型
Fに接しているのは管状部材1’の外面であるため、型の傷などの影響が副鏡の反射面に
現れてしまうこともない。このため、製造当初より型寿命末期まで安定した特性を有する
副鏡を製造することができるという効果もある。
Further, in the method for manufacturing the secondary mirror according to the first embodiment, as shown in FIG. 2C, since the outer surface of the tubular member 1 ′ is in contact with the forming die F, the influence of the scratches on the die or the like. Does not appear on the reflecting surface of the secondary mirror. For this reason, there is also an effect that a secondary mirror having stable characteristics from the beginning of manufacture to the end of the mold life can be manufactured.

また、実施形態1に係る副鏡の製造方法においては、膨張部形成工程において、管状部
材1における一部の内面形状が2つの副鏡を互いに向き合わせたときの反射面の形状とな
るように膨張部Eを形成し、副鏡基材形成工程において、膨張部Eが形成された管状部材
1’を切断することにより2つの副鏡基材2を形成している。このため、1本の管状部材
1から同一形状の副鏡基材2を形成することが可能となるため、副鏡を製造する際の製造
コストを低減することが可能となるという効果もある。
Moreover, in the manufacturing method of the secondary mirror which concerns on Embodiment 1, in the expansion | swelling part formation process, the one part inner surface shape in the tubular member 1 becomes a shape of a reflective surface when two secondary mirrors mutually face each other. The expansion part E is formed, and two secondary mirror base materials 2 are formed by cutting the tubular member 1 ′ formed with the expansion part E in the secondary mirror base material forming step. For this reason, since it becomes possible to form the secondary mirror base material 2 of the same shape from the one tubular member 1, there also exists an effect that the manufacturing cost at the time of manufacturing a secondary mirror can be reduced.

[実施形態2]
図5は、実施形態2に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャートである

実施形態2に係る副鏡の製造方法は、基本的には実施形態1に係る副鏡の製造方法と同
様の工程を含むものであるが、マイクロクラック除去工程の内容が実施形態1に係る副鏡
の製造方法とは異なっている。
[Embodiment 2]
FIG. 5 is a flowchart for explaining the method for manufacturing the secondary mirror according to the second embodiment.
The manufacturing method of the secondary mirror according to the second embodiment basically includes the same steps as the manufacturing method of the secondary mirror according to the first embodiment, but the contents of the microcrack removal process are the same as those of the secondary mirror according to the first embodiment. It is different from the manufacturing method.

すなわち、実施形態2に係る副鏡の製造方法においては、図示による説明は省略するが
、マイクロクラック除去工程においては、副鏡基材2の第1の端面Pに対してレーザ光
を照射することとしている(図5のステップS42)。
In other words, in the method for manufacturing the secondary mirror according to the second embodiment, the illustration is omitted, but in the microcrack removing step, the first end face P 1 of the secondary mirror base 2 is irradiated with laser light. (Step S42 in FIG. 5).

これにより、副鏡基材2の第1の端面Pにマイクロクラックaが発生していたとして
も、マイクロクラックaを含む部分を部分的に溶融することにより、マイクロクラックa
を消失させることが可能となる。その結果、副鏡内部で熱応力が発生したとしても、副鏡
が欠けたり割れたりするのを抑制することが可能となる。なお、副鏡基材2の第1の端面
のみに対してレーザ光を照射すれば、いわゆるファイアポリッシュによる場合と異な
り、副鏡の形状精度を損なうこともない。
Thus, even if the microcracks a had occurred on the first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2, by melting the portion including the microcracks a partially, microcracks a
Can be eliminated. As a result, even if thermal stress is generated inside the secondary mirror, it is possible to suppress the secondary mirror from being chipped or cracked. Note that if the laser beam is irradiated only on the first end face P 1 of the secondary mirror base material 2, unlike the case of so-called fire polishing, the shape accuracy of the secondary mirror is not impaired.

実施形態2に係る副鏡の製造方法は、マイクロクラック除去工程の内容以外の点では、
実施形態1に係る副鏡の製造方法と同様の工程を含むものであるため、実施形態1に係る
副鏡の製造方法が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
The manufacturing method of the secondary mirror according to the second embodiment is a point other than the content of the microcrack removing step.
Since the same process as the manufacturing method of the submirror which concerns on Embodiment 1 is included, it has an applicable effect as it is among the effects which the manufacturing method of the submirror which concerns on Embodiment 1 has.

[実施形態3]
図6は、実施形態3に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャートである

実施形態3に係る副鏡の製造方法は、基本的には実施形態1に係る副鏡の製造方法と同
様の工程を含むものであるが、マイクロクラック除去工程の内容が実施形態1に係る副鏡
の製造方法とは異なっている。
[Embodiment 3]
FIG. 6 is a flowchart for explaining the method for manufacturing the secondary mirror according to the third embodiment.
The manufacturing method of the secondary mirror according to the third embodiment basically includes the same steps as the manufacturing method of the secondary mirror according to the first embodiment, but the content of the microcrack removing process is the same as that of the secondary mirror according to the first embodiment. It is different from the manufacturing method.

すなわち、実施形態3に係る副鏡の製造方法においては、図示による説明は省略するが
、マイクロクラック除去工程においては、副鏡基材2の第1の端面Pに対して研磨加工
を行うこととしている。
That is, in the manufacturing method of the secondary mirror of the third embodiment, description thereof is omitted due shown in the microcracks removing step, by performing polishing on the first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2 It is said.

これにより、副鏡基材2の第1の端面Pにマイクロクラックaが発生していたとして
も、マイクロクラックaを含む部分をまとめて除去することが可能となる。その結果、副
鏡内部で熱応力が発生したとしても、副鏡が欠けたり割れたりするのを抑制することが可
能となる。
Thus, even microcracks a had occurred on the first end face P 1 of Fukukagamimotozai 2, it is possible to remove together a portion including microcracks a. As a result, even if thermal stress is generated inside the secondary mirror, it is possible to suppress the secondary mirror from being chipped or cracked.

実施形態3に係る副鏡の製造方法は、マイクロクラック除去工程の内容以外の点では、
実施形態1に係る副鏡の製造方法と同様の工程を含むものであるため、実施形態1に係る
副鏡の製造方法が有する効果のうち該当する効果をそのまま有する。
The manufacturing method of the secondary mirror according to the third embodiment is a point other than the content of the microcrack removing step.
Since the same process as the manufacturing method of the submirror which concerns on Embodiment 1 is included, it has an applicable effect as it is among the effects which the manufacturing method of the submirror which concerns on Embodiment 1 has.

[実施形態4]
実施形態4では、実施形態1に係る副鏡の製造方法によって製造された副鏡を備える光
源装置及びプロジェクタについて説明する。
[Embodiment 4]
In the fourth embodiment, a light source device and a projector including the secondary mirror manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to the first embodiment will be described.

まず、実施形態4に係る光源装置100及びプロジェクタ1000の構成について、図
7及び図8を用いて説明する。
図7は、実施形態4に係るプロジェクタ1000の光学系を示す図である。図8は、実
施形態4に係る光源装置110を説明するために示す図である。
First, configurations of the light source device 100 and the projector 1000 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 7 and 8.
FIG. 7 is a diagram illustrating an optical system of the projector 1000 according to the fourth embodiment. FIG. 8 is a diagram for explaining the light source device 110 according to the fourth embodiment.

なお、以下の説明においては、互いに直交する3つの方向をそれぞれz軸方向(図1に
おける照明光軸100ax方向)、x軸方向(図1における紙面に平行かつz軸に直交す
る方向)及びy軸方向(図1における紙面に垂直かつz軸に直交する方向)とする。
In the following description, three directions orthogonal to each other are defined as a z-axis direction (illumination optical axis 100ax direction in FIG. 1), an x-axis direction (a direction parallel to the paper surface in FIG. 1 and perpendicular to the z-axis), and y. Let it be an axial direction (a direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1 and perpendicular to the z-axis).

実施形態4に係るプロジェクタ1000は、図7に示すように、照明装置100と、照
明装置100からの照明光束を赤色光、緑色光及び青色光の3つの色光に分離して被照明
領域に導光する色分離導光光学系200と、色分離導光光学系200で分離された3つの
色光のそれぞれを画像情報に応じて変調する電気光学変調装置としての3つの液晶装置4
00R,400G,400Bと、これら3つの液晶装置400R,400G,400Bに
よって変調された色光を合成するクロスダイクロイックプリズム500と、クロスダイク
ロイックプリズム500によって合成された光をスクリーンSCR等の投写面に投写する
投写光学系600とを備えたプロジェクタである。
As shown in FIG. 7, the projector 1000 according to the fourth embodiment separates the illumination device 100 and the illumination light flux from the illumination device 100 into three color lights of red light, green light, and blue light and guides them to the illuminated area. The color separation light guide optical system 200 that emits light, and three liquid crystal devices 4 as electro-optic modulation devices that modulate each of the three color lights separated by the color separation light guide optical system 200 according to image information.
00R, 400G, 400B, a cross dichroic prism 500 that combines color lights modulated by these three liquid crystal devices 400R, 400G, 400B, and light combined by the cross dichroic prism 500 are projected onto a projection surface such as a screen SCR. The projector includes a projection optical system 600.

照明装置100は、被照明領域側に照明光束を射出する光源装置110と、光源装置1
10からの集束光を略平行光として射出する凹レンズ90と、凹レンズ90から射出され
る照明光束を複数の部分光束に分割するための複数の第1小レンズ122を有する第1レ
ンズアレイ120と、第1レンズアレイ120の複数の第1小レンズ122に対応する複
数の第2小レンズ132を有する第2レンズアレイ130と、第2レンズアレイ130か
らの各部分光束を偏光方向の揃った略1種類の直線偏光光に変換して射出する偏光変換素
子140と、偏光変換素子140から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させるた
めの重畳レンズ150とを有している。
The illuminating device 100 includes a light source device 110 that emits an illuminating light beam toward the illuminated area, and a light source device 1.
A first lens array 120 having a concave lens 90 that emits the focused light from 10 as substantially parallel light, and a plurality of first small lenses 122 for dividing the illumination light beam emitted from the concave lens 90 into a plurality of partial light beams, The second lens array 130 having a plurality of second small lenses 132 corresponding to the plurality of first small lenses 122 of the first lens array 120, and approximately 1 in which the partial light beams from the second lens array 130 are aligned in the polarization direction. It has a polarization conversion element 140 that converts into a kind of linearly polarized light and emits it, and a superimposing lens 150 that superimposes each partial light beam emitted from the polarization conversion element 140 in the illuminated area.

実施形態4に係る光源装置110は、図7及び図8に示すように、リフレクタとしての
楕円面リフレクタ10と、楕円面リフレクタ10の第1焦点近傍に発光中心を有する発光
管20と、反射手段としての副鏡60とを有している。光源装置110は、照明光軸10
0axを中心軸とする光束を射出する。
As shown in FIGS. 7 and 8, the light source device 110 according to the fourth embodiment includes an ellipsoidal reflector 10 as a reflector, an arc tube 20 having a light emission center near the first focal point of the ellipsoidal reflector 10, and reflecting means. As a secondary mirror 60. The light source device 110 includes an illumination optical axis 10
A light beam having a central axis of 0ax is emitted.

発光管20は、図8に示すように、照明光軸100axに沿って配置された一対の電極
42,52を内蔵する管球部30と、管球部30の両側に延びる一対の封止部40,50
と、一対の封止部40,50内にそれぞれ封止された一対の金属箔44,54と、一対の
金属箔44,54にそれぞれ電気的に接続された一対のリード線46,56とを有してい
る。そして、管球部30の外面と一対の封止部40,50の外面とは、滑らかに接続され
ている。リード線46,56に電圧が印加されると、電極42,52間に電位差が発生し
放電が生じアーク像が生成される。このアーク像が発光部である。
As shown in FIG. 8, the arc tube 20 includes a tube bulb 30 containing a pair of electrodes 42 and 52 arranged along the illumination optical axis 100ax, and a pair of sealing portions extending on both sides of the tube bulb 30. 40, 50
A pair of metal foils 44 and 54 sealed in the pair of sealing portions 40 and 50, respectively, and a pair of lead wires 46 and 56 electrically connected to the pair of metal foils 44 and 54, respectively. Have. And the outer surface of the tube part 30 and the outer surface of a pair of sealing parts 40 and 50 are connected smoothly. When a voltage is applied to the lead wires 46 and 56, a potential difference is generated between the electrodes 42 and 52, a discharge is generated, and an arc image is generated. This arc image is a light emitting part.

なお、発光管20の構成要素の条件等を例示的に示すと、管球部30及び封止部40,
50は、例えば石英ガラス製であり、管球部30内には、水銀、希ガス及び少量のハロゲ
ンが封入されている。電極42,52は、例えばタングステン電極であり、金属箔44,
54は、例えばモリブデン箔である。リード線46,56は、例えばモリブデン又はタン
グステンから構成されている。
また、発光管20としては、高輝度発光する種々の発光管を採用でき、例えば高圧水銀
ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等を採用できる。
In addition, when the conditions of the components of the arc tube 20 are exemplarily shown, the tube portion 30 and the sealing portion 40,
50 is made of, for example, quartz glass, and mercury, a rare gas, and a small amount of halogen are enclosed in the tube portion 30. The electrodes 42 and 52 are, for example, tungsten electrodes, and the metal foil 44,
For example, 54 is a molybdenum foil. The lead wires 46 and 56 are made of, for example, molybdenum or tungsten.
Further, as the arc tube 20, various arc tubes that emit light with high luminance can be employed, for example, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like.

楕円面リフレクタ10は、図8に示すように、発光管20の封止部(一方の封止部)4
0を挿通・固定するための開口部12と、発光管20から放射された光を第2焦点位置に
向けて反射する反射面14とを有している。楕円面リフレクタ10は、楕円面リフレクタ
10の開口部12に充填されたセメントなどの無機系接着剤Cによって発光管20の封止
部40に固着されている。
As shown in FIG. 8, the ellipsoidal reflector 10 includes a sealing portion (one sealing portion) 4 of the arc tube 20.
It has an opening 12 for inserting and fixing 0, and a reflecting surface 14 that reflects the light emitted from the arc tube 20 toward the second focal position. The ellipsoidal reflector 10 is fixed to the sealing portion 40 of the arc tube 20 with an inorganic adhesive C such as cement filled in the opening 12 of the ellipsoidal reflector 10.

反射面14を構成する基材の材料としては、例えば、結晶化ガラスやアルミナ(Al
)などを好適に用いることができる。反射面14の内面には、例えば、酸化チタン(
TiO)と酸化シリコン(SiO)との誘電体多層膜からなる可視光反射層が形成さ
れている。
Examples of the material of the base material constituting the reflecting surface 14 include crystallized glass and alumina (Al 2
O 3 ) and the like can be preferably used. For example, titanium oxide (
A visible light reflecting layer made of a dielectric multilayer film of TiO 2 ) and silicon oxide (SiO 2 ) is formed.

副鏡60は、図8に示すように、発光管20の封止部(他方の封止部)50に挿通・固
定するための開口部62と、発光管20から被照明領域側に向けて放射された光を発光管
20に向けて反射する反射面64とを有している。副鏡60によって反射された光は、発
光管20を透過して楕円面リフレクタ10に入射する。副鏡60は、副鏡60の開口部6
2に充填されたセメントなどの無機系接着剤Cによって発光管20の封止部50に固着さ
れている。
As shown in FIG. 8, the secondary mirror 60 has an opening 62 for insertion / fixation into the sealing portion (the other sealing portion) 50 of the arc tube 20 and the arc tube 20 toward the illuminated region. And a reflecting surface 64 that reflects the emitted light toward the arc tube 20. The light reflected by the secondary mirror 60 passes through the arc tube 20 and enters the ellipsoidal reflector 10. The secondary mirror 60 has an opening 6 of the secondary mirror 60.
2 is fixed to the sealing portion 50 of the arc tube 20 by an inorganic adhesive C such as cement filled in 2.

なお、実施形態4に係る光源装置110及びプロジェクタ1000における副鏡60は
、実施形態1に係る副鏡の製造方法によって製造されたものである。
The secondary mirror 60 in the light source device 110 and the projector 1000 according to the fourth embodiment is manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to the first embodiment.

凹レンズ90は、図7に示すように、楕円面リフレクタ10の被照明領域側に配置され
ている。そして、楕円面リフレクタ10からの光を第1レンズアレイ120に向けて射出
するように構成されている。
As shown in FIG. 7, the concave lens 90 is arranged on the illuminated area side of the ellipsoidal reflector 10. The light from the ellipsoidal reflector 10 is emitted toward the first lens array 120.

第1レンズアレイ120は、凹レンズ90からの光を複数の部分光束に分割する光束分
割光学素子としての機能を有し、照明光軸100axと直交する面内にマトリクス状に配
列される複数の第1小レンズ122を備えた構成を有している。図示による説明は省略す
るが、第1小レンズ122の外形形状は、液晶装置400R,400G,400Bの画像
形成領域の外形形状に関して相似形である。
The first lens array 120 has a function as a light beam splitting optical element that splits light from the concave lens 90 into a plurality of partial light beams, and a plurality of first lens arrays 120 arranged in a matrix in a plane orthogonal to the illumination optical axis 100ax. It has a configuration provided with one small lens 122. Although not illustrated, the outer shape of the first small lens 122 is similar to the outer shape of the image forming area of the liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B.

第2レンズアレイ130は、上述した第1レンズアレイ120により分割された複数の
部分光束を集光する光学素子であり、第1レンズアレイ120と同様に照明光軸100a
xに直交する面内にマトリクス状に配列される複数の第2小レンズ132を備えた構成を
有している。
The second lens array 130 is an optical element that collects a plurality of partial light beams divided by the first lens array 120 described above, and similarly to the first lens array 120, the illumination optical axis 100a.
It has a configuration including a plurality of second small lenses 132 arranged in a matrix in a plane orthogonal to x.

偏光変換素子140は、第1レンズアレイ120により分割された各部分光束の偏光方
向を、偏光方向の揃った略1種類の直線偏光光として射出する偏光変換素子である。
偏光変換素子140は、光源装置110からの照明光束に含まれる偏光成分のうち一方
の直線偏光成分をそのまま透過し、他方の直線偏光成分を照明光軸100axに垂直な方
向に反射する偏光分離層と、偏光分離層で反射された他方の直線偏光成分を照明光軸10
0axに平行な方向に反射する反射層と、反射層で反射された他方の直線偏光成分を一方
の直線偏光成分に変換する位相差板とを有している。
The polarization conversion element 140 is a polarization conversion element that emits the polarization direction of each partial light beam divided by the first lens array 120 as approximately one type of linearly polarized light having a uniform polarization direction.
The polarization conversion element 140 transmits one linear polarization component of the polarization component included in the illumination light beam from the light source device 110 as it is, and reflects the other linear polarization component in a direction perpendicular to the illumination optical axis 100ax. And the other linearly polarized light component reflected by the polarization separation layer is used as the illumination optical axis 10.
A reflective layer that reflects in a direction parallel to 0ax; and a retardation plate that converts the other linearly polarized light component reflected by the reflective layer into one linearly polarized light component.

重畳レンズ150は、第1レンズアレイ120、第2レンズアレイ130及び偏光変換
素子140を経た複数の部分光束を集光して液晶装置400R,400G,400Bの画
像形成領域近傍に重畳させるための光学素子である。なお、図7に示す重畳レンズ150
は1枚のレンズで構成されているが、複数のレンズを組み合わせた複合レンズで構成され
ていてもよい。
The superimposing lens 150 condenses a plurality of partial light beams that have passed through the first lens array 120, the second lens array 130, and the polarization conversion element 140, and superimposes them on the vicinity of the image forming regions of the liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B. It is an element. The superimposing lens 150 shown in FIG.
Is composed of one lens, but may be composed of a compound lens in which a plurality of lenses are combined.

色分離導光光学系200は、図7に示すように、ダイクロイックミラー210,220
と、反射ミラー230,240,250と、リレーレンズ260,270とを有している
。色分離導光光学系200は、照明装置100から射出される照明光束を赤色光、緑色光
及び青色光の3つの色光に分離して、それぞれの色光を照明対象となる液晶装置400R
,400G,400Bに導く機能を有している。
As shown in FIG. 7, the color separation light guide optical system 200 includes dichroic mirrors 210 and 220.
And reflection mirrors 230, 240, 250 and relay lenses 260, 270. The color separation light guide optical system 200 separates the illumination light beam emitted from the illumination device 100 into three color lights of red light, green light, and blue light, and each color light is a liquid crystal device 400R to be illuminated.
, 400G, 400B.

ダイクロイックミラー210,220は、基板上に所定の波長領域の光束を反射し、他
の波長領域の光束を透過する波長選択膜が形成された光学素子である。光路前段に配置さ
れるダイクロイックミラー210は、赤色光成分を反射し、その他の色光成分を透過する
ミラーである。光路後段に配置されるダイクロイックミラー220は、緑色光成分を反射
し、青色光成分を透過するミラーである。
The dichroic mirrors 210 and 220 are optical elements on which a wavelength selection film that reflects a light beam in a predetermined wavelength region and transmits a light beam in another wavelength region is formed on a substrate. The dichroic mirror 210 disposed in the front stage of the optical path is a mirror that reflects a red light component and transmits other color light components. The dichroic mirror 220 disposed in the latter stage of the optical path is a mirror that reflects the green light component and transmits the blue light component.

ダイクロイックミラー210で反射された赤色光成分は、反射ミラー230により曲折
され、集光レンズ300Rを介して赤色光用の液晶装置400Rの画像形成領域に入射す
る。
The red light component reflected by the dichroic mirror 210 is bent by the reflection mirror 230 and enters the image forming area of the liquid crystal device 400R for red light through the condenser lens 300R.

集光レンズ300Rは、重畳レンズ150からの各部分光束を各主光線に対して略平行
な光束に変換するために設けられている。他の液晶装置400G,400Bの光路前段に
配設される集光レンズ300G,300Bも、集光レンズ300Rと同様に構成されてい
る。
The condenser lens 300R is provided to convert each partial light beam from the superimposing lens 150 into a light beam substantially parallel to each principal ray. The condensing lenses 300G and 300B disposed in the preceding stage of the optical path of the other liquid crystal devices 400G and 400B are configured in the same manner as the condensing lens 300R.

ダイクロイックミラー210を通過した緑色光成分及び青色光成分のうち緑色光成分は
、ダイクロイックミラー220によって反射され、集光レンズ300Gを通過して緑色光
用の液晶装置400Gの画像形成領域に入射する。一方、青色光成分は、ダイクロイック
ミラー220を透過し、入射側レンズ260、入射側の反射ミラー240、リレーレンズ
270、射出側の反射ミラー250及び集光レンズ300Bを通過して青色光用の液晶装
置400Bの画像形成領域に入射する。入射側レンズ260、リレーレンズ270及び反
射ミラー240,250は、ダイクロイックミラー220を透過した青色光成分を液晶装
置400Bまで導く機能を有している。
Of the green light component and the blue light component that have passed through the dichroic mirror 210, the green light component is reflected by the dichroic mirror 220, passes through the condenser lens 300G, and enters the image forming region of the green light liquid crystal device 400G. On the other hand, the blue light component is transmitted through the dichroic mirror 220, passes through the incident side lens 260, the incident side reflection mirror 240, the relay lens 270, the emission side reflection mirror 250, and the condensing lens 300B, and is a liquid crystal for blue light. The light enters the image forming area of the apparatus 400B. The incident side lens 260, the relay lens 270, and the reflection mirrors 240 and 250 have a function of guiding the blue light component transmitted through the dichroic mirror 220 to the liquid crystal device 400B.

なお、青色光の光路にこのような入射側レンズ260、リレーレンズ270及び反射ミ
ラー240,250が設けられているのは、青色光の光路の長さが他の色光の光路の長さ
よりも長いため、光の発散等による光の利用効率の低下を防止するためである。実施形態
4に係るプロジェクタ1000においては、青色光の光路の長さが長いのでこのような構
成とされているが、赤色光の光路の長さを長くして、入射側レンズ260、リレーレンズ
270及び反射ミラー240,250を赤色光の光路に用いる構成も考えられる。
The reason that the incident side lens 260, the relay lens 270, and the reflection mirrors 240 and 250 are provided in the optical path of blue light is that the length of the optical path of blue light is longer than the length of the optical paths of other color lights. For this reason, a decrease in light use efficiency due to light divergence or the like is prevented. The projector 1000 according to the fourth embodiment has such a configuration because the optical path length of blue light is long, but the length of the optical path of red light is increased so that the incident side lens 260 and the relay lens 270 are configured. And the structure which uses the reflective mirrors 240 and 250 for the optical path of red light is also considered.

液晶装置400R,400G,400Bは、入射した照明光束を画像情報に応じて変調
するものであり、照明装置100の照明対象となる。なお、図示を省略したが、各集光レ
ンズ300R,300G,300Bと各液晶装置400R,400G,400Bとの間に
は、それぞれ入射側偏光板が配置され、各液晶装置400R,400G,400Bとクロ
スダイクロイックプリズム500との間には、それぞれ射出側偏光板が配置されている。
これら入射側偏光板、液晶装置400R,400G,400B及び射出側偏光板によって
、入射する各色光の光変調が行われる。
液晶装置400R,400G,400Bは、一対の透明なガラス基板に電気光学物質で
ある液晶を密閉封入したものであり、例えば、ポリシリコンTFTをスイッチング素子と
して、与えられた画像信号に応じて、入射側偏光板から射出された1種類の直線偏光の偏
光方向を変調する。
The liquid crystal devices 400 </ b> R, 400 </ b> G, and 400 </ b> B modulate the incident illumination light beam according to image information, and are the illumination target of the illumination device 100. Although not shown, incident side polarizing plates are arranged between the condenser lenses 300R, 300G, and 300B and the liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B, respectively, and the liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B, Between the cross dichroic prism 500, an exit-side polarizing plate is disposed.
The incident-side polarizing plate, the liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B and the exit-side polarizing plate modulate light of each incident color light.
The liquid crystal devices 400R, 400G, and 400B are a pair of transparent glass substrates in which a liquid crystal that is an electro-optical material is hermetically sealed. For example, a polysilicon TFT is used as a switching element and incident according to a given image signal. Modulates the polarization direction of one type of linearly polarized light emitted from the side polarizing plate.

クロスダイクロイックプリズム500は、射出側偏光板から射出された色光毎に変調さ
れた光学像を合成してカラー画像を形成する光学素子である。このクロスダイクロイック
プリズム500は、4つの直角プリズムを貼り合わせた平面視略正方形状をなし、直角プ
リズム同士を貼り合わせた略X字状の界面には、誘電体多層膜が形成されている。略X字
状の一方の界面に形成された誘電体多層膜は、赤色光を反射するものであり、他方の界面
に形成された誘電体多層膜は、青色光を反射するものである。これらの誘電体多層膜によ
って赤色光及び青色光は曲折され、緑色光の進行方向と揃えられることにより、3つの色
光が合成される。
The cross dichroic prism 500 is an optical element that forms a color image by synthesizing an optical image modulated for each color light emitted from the emission side polarizing plate. The cross dichroic prism 500 has a substantially square shape in plan view in which four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film is formed on a substantially X-shaped interface in which the right-angle prisms are bonded together. The dielectric multilayer film formed at one of the substantially X-shaped interfaces reflects red light, and the dielectric multilayer film formed at the other interface reflects blue light. By these dielectric multilayer films, the red light and the blue light are bent and aligned with the traveling direction of the green light, so that the three color lights are synthesized.

クロスダイクロイックプリズム500から射出されたカラー画像は、投写光学系600
によって拡大投写され、スクリーンSCR上で大画面画像を形成する。
The color image emitted from the cross dichroic prism 500 is output from the projection optical system 600.
Is enlarged and projected to form a large screen image on the screen SCR.

このように、実施形態4に係る光源装置110は、上記したように、発光管20と、楕
円面リフレクタ10と、副鏡60とを備える光源装置である。そして、副鏡60は、実施
形態1に係る副鏡の製造方法によって製造された副鏡である。
As described above, the light source device 110 according to the fourth embodiment is a light source device including the arc tube 20, the elliptical reflector 10, and the secondary mirror 60 as described above. The secondary mirror 60 is a secondary mirror manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to the first embodiment.

このため、実施形態4に係る光源装置110は、表面粗さ及び光利用効率に優れ安価で
欠けたり割れたりするのが抑制された副鏡60を備える高品質な光源装置となる。
For this reason, the light source device 110 according to the fourth embodiment is a high-quality light source device including the secondary mirror 60 that is excellent in surface roughness and light utilization efficiency and is inexpensive and suppressed from being chipped or broken.

また、実施形態4に係るプロジェクタ1000は、上記した光源装置110を有する照
明装置100と、照明装置100からの光を画像情報に応じて変調する液晶装置400R
,400G,400Bと、液晶装置400R,400G,400Bによって変調された光
を投写する投写光学系600とを備えるため、高品質なプロジェクタとなる。
In addition, the projector 1000 according to the fourth embodiment includes an illumination device 100 including the light source device 110 described above, and a liquid crystal device 400R that modulates light from the illumination device 100 according to image information.
, 400G, 400B and the projection optical system 600 that projects the light modulated by the liquid crystal devices 400R, 400G, 400B, a high-quality projector.

以上、本発明の反射鏡の製造方法並びに光源装置及びプロジェクタを上記の各実施形態
に基づいて説明したが、本発明は上記の各実施形態に限られるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のよう
な変形も可能である。
As mentioned above, although the manufacturing method of the reflective mirror of this invention, the light source device, and the projector were demonstrated based on said each embodiment, this invention is not limited to said each embodiment, In the range which does not deviate from the summary. For example, the following modifications are possible.

(1)上記実施形態4に係る光源装置110及びプロジェクタ1000においては、副鏡
60として、実施形態1に係る副鏡の製造方法によって製造された副鏡を用いているが、
本発明はこれに限定されるものではなく、実施形態2に係る副鏡の製造方法によって製造
された副鏡を用いてもよいし、実施形態3に係る副鏡の製造方法によって製造された副鏡
を用いてもよい。
(1) In the light source device 110 and the projector 1000 according to the fourth embodiment, the secondary mirror 60 manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to the first embodiment is used as the secondary mirror 60.
The present invention is not limited to this, and a secondary mirror manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to Embodiment 2 may be used, or a secondary mirror manufactured by the secondary mirror manufacturing method according to Embodiment 3 may be used. A mirror may be used.

(2)上記実施形態1に係る副鏡の製造方法においては、マイクロクラック除去工程にお
いて、副鏡基材2の第1の端面Pに発生するマイクロクラックを除去する場合を例示的
に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、副鏡基材形成工程にお
いて、管状部材1’における一部(膨張部E)だけではなく両端部も切断した場合には、
副鏡基材2の第2の端面Pにマイクロクラックが発生する可能性がある。この場合は、
マイクロクラック除去工程において、副鏡基材2の第2の端面Pに発生するマイクロク
ラックをも除去してもよい。ただし、副鏡を発光管に装着した後において、副鏡基材2の
第1の端面Pは第2の端面Pに比べて高温になり易いが、副鏡基材2の第2の端面P
は第1の端面Pに比べて高温になりにくいため、第2の端面Pにマイクロクラック
が存在していたとしてもそこから割れが発生する確率は低い。このため、副鏡基材2の第
2の端面Pに対するマイクロクラックの除去は、必要に応じて行えばよい。
(2) In the secondary mirror manufacturing method according to Embodiment 1 described above, the case where the microcracks generated on the first end face P1 of the secondary mirror base 2 are removed in the microcrack removing step has been exemplified. However, the present invention is not limited to this. For example, in the secondary mirror base material forming step, when not only a part of the tubular member 1 ′ (expanded part E) but also both ends are cut,
The second end surface P 2 to microcracks Fukukagamimotozai 2 may occur. in this case,
In the microcrack removing step, microcracks generated on the second end face P2 of the secondary mirror base material 2 may also be removed. However, after the mounting the secondary mirror in the light emitting tube, a first end face P 1 of the Fukukagamimotozai 2 are liable to high temperatures in comparison with the second end surface P 2, the second of Fukukagamimotozai 2 End face P
Since the 2 less likely to higher temperature than the first end face P 1, the probability of cracks are also therefrom a second end face P 2 microcrack is present is low. Therefore, removal of micro-cracks to the second end surface P 2 of the Fukukagamimotozai 2 may be performed as needed.

(3)本発明の反射鏡の製造方法におけるマイクロクラック除去工程として、実施形態1
では副鏡基材の切断面に対してエッチング処理を行う場合を説明し、実施形態2では副鏡
基材の切断面に対してレーザ光を照射する場合を説明し、実施形態3では副鏡基材の切断
面に対して研磨加工を行う場合を説明し、各処理を単独で行う場合を例示的に説明したが
、本発明はこれに限定されるものではなく、各処理を併せて行ってもよい。マイクロクラ
ック除去工程として、例えば、副鏡基材の切断面に対して研磨加工を行った後、副鏡基材
の切断面に対してエッチング処理を行ってもよいし、副鏡基材の切断面に対して研磨加工
を行った後、副鏡基材の切断面に対してレーザ光を照射してもよい。
(3) As a microcrack removing step in the manufacturing method of the reflecting mirror of the present invention, Embodiment 1
Explains the case of performing an etching process on the cut surface of the sub-mirror substrate, Embodiment 2 describes the case of irradiating the cut surface of the sub-mirror substrate with laser light, and Embodiment 3 describes the sub-mirror. The case where the polishing process is performed on the cut surface of the base material has been described, and the case where each process is performed alone has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and each process is performed together. May be. As the microcrack removing step, for example, after the grinding process is performed on the cut surface of the secondary mirror base material, the etching process may be performed on the cut surface of the secondary mirror base material, or the secondary mirror base material is cut. After polishing the surface, the cut surface of the secondary mirror base material may be irradiated with laser light.

(4)上記実施形態1に係る副鏡の製造方法において、1つの管状部材から2つの副鏡基
材を形成する場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、1つ
の管状部材から1つの副鏡基材を形成してもよい。
(4) In the method for manufacturing the secondary mirror according to the first embodiment, the case where two secondary mirror base materials are formed from one tubular member has been described as an example, but the present invention is not limited to this. One sub-mirror substrate may be formed from one tubular member.

(5)上記実施形態1〜3では、本発明の反射鏡の製造方法を副鏡の製造方法に適用した
場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、上記実施形態1〜3
に係る副鏡の製造方法をリフレクタの製造方法として適用し、そのリフレクタの製造方法
によって製造されたリフレクタを上記実施形態4の光源装置110及びプロジェクタ10
00に用いてもよい。
(5) In the first to third embodiments, the case where the method for manufacturing a reflecting mirror of the present invention is applied to a method for manufacturing a secondary mirror has been described, but the present invention is not limited to this, and the first embodiment described above. ~ 3
The secondary mirror manufacturing method is applied as a reflector manufacturing method, and the reflector manufactured by the reflector manufacturing method is used as the light source device 110 and the projector 10 of the fourth embodiment.
It may be used for 00.

(6)本発明の光源装置をプロジェクタに適用した例について説明したが、本発明はこれ
に限定されるものではない。本発明の光源装置を他の光学機器(例えば、光ディスク装置
など。)に適用することも可能である。
(6) Although the example in which the light source device of the present invention is applied to a projector has been described, the present invention is not limited to this. The light source device of the present invention can also be applied to other optical devices (for example, an optical disc device).

(7)上記実施形態4に係る光源装置110は、リフレクタとして、楕円面リフレクタを
用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、放物面リフレクタも好ましく用いる
ことができる。
(7) Although the light source device 110 according to Embodiment 4 uses an elliptical reflector as a reflector, the present invention is not limited to this, and a parabolic reflector can also be preferably used.

(8)上記実施形態4に係るプロジェクタ1000においては、光均一化光学系として、
第1レンズアレイ120及び第2レンズアレイ130からなるレンズインテグレータ光学
系を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、導光ロッドからなるロッドイン
テグレータ光学系をも好ましく用いることができる。
(8) In the projector 1000 according to the fourth embodiment, as a light uniformizing optical system,
Although the lens integrator optical system including the first lens array 120 and the second lens array 130 is used, the present invention is not limited to this, and a rod integrator optical system including a light guide rod can also be preferably used. .

(9)上記実施形態4に係るプロジェクタ1000は透過型のプロジェクタであるが、本
発明はこれに限定されるものではない。本発明は反射型のプロジェクタにも適用すること
が可能である。ここで、「透過型」とは、透過型の液晶装置等のように光変調手段として
の電気光学変調装置が光を透過するタイプであることを意味しており、「反射型」とは、
反射型の液晶装置等のように光変調手段としての電気光学変調装置が光を反射するタイプ
であることを意味している。反射型のプロジェクタにこの発明を適用した場合にも、透過
型のプロジェクタと同様の効果を得ることができる。
(9) The projector 1000 according to the fourth embodiment is a transmissive projector, but the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to a reflection type projector. Here, “transmission type” means that an electro-optic modulation device as a light modulation means, such as a transmission type liquid crystal device, transmits light, and “reflection type”
This means that an electro-optic modulation device as a light modulation means, such as a reflective liquid crystal device, is a type that reflects light. Even when the present invention is applied to a reflective projector, the same effect as that of a transmissive projector can be obtained.

(10)上記実施形態4に係るプロジェクタ1000において、3つの液晶装置400R
,400G,400Bを用いたプロジェクタを例示して説明したが、本発明はこれに限定
されるものではなく、1つ、2つ又は4つ以上の液晶装置を用いたプロジェクタにも適用
可能である。
(10) In the projector 1000 according to the fourth embodiment, the three liquid crystal devices 400R
However, the present invention is not limited to this, and can be applied to a projector using one, two, or four or more liquid crystal devices. .

(11)上記実施形態4に係るプロジェクタ1000は、電気光学変調装置として液晶装
置を用いているが、本発明はこれに限定されるものではない。電気光学変調装置としては
、一般に、画像情報に応じて入射光を変調するものであればよく、マイクロミラー型光変
調装置などを利用してもよい。マイクロミラー型光変調装置としては、例えば、DMD(
デジタルマイクロミラーデバイス)(TI社の商標)を用いることができる。
(11) Although the projector 1000 according to the fourth embodiment uses a liquid crystal device as the electro-optic modulation device, the present invention is not limited to this. In general, the electro-optic modulation device may be any device that modulates incident light in accordance with image information, and a micromirror light modulation device or the like may be used. As a micromirror type light modulation device, for example, DMD (
A digital micromirror device (trademark of TI) can be used.

(12)本発明は、投写画像を観察する側から投写するフロント投写型プロジェクタに適
用する場合にも、投写画像を観察する側とは反対の側から投写するリア投写型プロジェク
タに適用する場合にも可能である。
(12) The present invention is applied to a rear projection type projector that projects from a side opposite to the side that observes the projected image, even when applied to a front projection type projector that projects from the side that observes the projected image. Is also possible.

実施形態1に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャート。3 is a flowchart for explaining a method for manufacturing the secondary mirror according to the first embodiment. 実施形態1に係る副鏡の製造方法における各工程を模式的に示す図。The figure which shows each process in the manufacturing method of the sub mirror which concerns on Embodiment 1 typically. 実施形態1に係る副鏡の製造方法における各工程を模式的に示す図。The figure which shows each process in the manufacturing method of the sub mirror which concerns on Embodiment 1 typically. 実施形態1に係る副鏡の製造方法における各工程を模式的に示す図。The figure which shows each process in the manufacturing method of the sub mirror which concerns on Embodiment 1 typically. 実施形態2に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャート。9 is a flowchart shown for explaining a method of manufacturing the secondary mirror according to the second embodiment. 実施形態3に係る副鏡の製造方法を説明するために示すフローチャート。10 is a flowchart shown for explaining a method of manufacturing the secondary mirror according to the third embodiment. 実施形態4に係るプロジェクタ1000の光学系を示す図。FIG. 10 is a diagram showing an optical system of a projector 1000 according to a fourth embodiment. 実施形態4に係る光源装置110を説明するために示す図。The figure shown in order to demonstrate the light source device 110 which concerns on Embodiment 4. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…管状部材、1’…膨張部が形成された管状部材、2…副鏡基材、10…楕円面リフレ
クタ、12…開口部、14…反射面、20…発光管、30…管球部、40,50…封止部
、42,52…電極、44,54…金属箔、46,56…リード線、60…副鏡、62…
開口部、64…反射面、90…凹レンズ、100…照明装置、100ax…照明光軸、1
10…光源装置、120…第1レンズアレイ、122…第1小レンズ、130…第2レン
ズアレイ、132…第2小レンズ、140…偏光変換素子、150…重畳レンズ、200
…色分離導光光学系、210,220…ダイクロイックミラー、230,240,250
…反射ミラー、260…入射側レンズ、270…リレーレンズ、300R,300G,3
00B…集光レンズ、400R,400G,400B…液晶装置、500…クロスダイク
ロイックプリズム、600…投写光学系、1000…プロジェクタ、a…マイクロクラッ
ク、b…U字状の溝、C…無機系接着剤、E…膨張部、F…成形型、P,P…副鏡基
材の端面、P…副鏡基材の内面、R…反射層、SCR…スクリーン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Tubular member, 1 '... Tubular member in which the expansion part was formed, 2 ... Secondary mirror base material, 10 ... Ellipsoidal reflector, 12 ... Opening part, 14 ... Reflecting surface, 20 ... Light emitting tube, 30 ... Tube part , 40, 50 ... sealing part, 42, 52 ... electrode, 44, 54 ... metal foil, 46, 56 ... lead wire, 60 ... secondary mirror, 62 ...
Opening portion, 64 ... reflecting surface, 90 ... concave lens, 100 ... illuminating device, 100ax ... illumination optical axis, 1
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light source device, 120 ... 1st lens array, 122 ... 1st small lens, 130 ... 2nd lens array, 132 ... 2nd small lens, 140 ... Polarization conversion element, 150 ... Superimposing lens, 200
... color separation light guide optical system, 210, 220 ... dichroic mirror, 230, 240, 250
... reflection mirror, 260 ... incident side lens, 270 ... relay lens, 300R, 300G, 3
00B ... Condensing lens, 400R, 400G, 400B ... Liquid crystal device, 500 ... Cross dichroic prism, 600 ... Projection optical system, 1000 ... Projector, a ... Microcrack, b ... U-shaped groove, C ... Inorganic adhesive , E ... expansion unit, F ... mold, the end surface of the P 1, P 2 ... Fukukagamimotozai, the inner surface of the P 3 ... Fukukagamimoto material, R ... reflection layer, SCR ... screen

Claims (8)

発光部を有する発光管と、前記発光部からの光を所定の方向に反射する反射面を有する
反射鏡とを備える光源装置に用いる反射鏡の製造方法であって、
前記反射鏡の材料からなる管状部材を準備する管状部材準備工程と、
前記管状部材を加熱して成形型に入れた後、前記管状部材における一部の内面形状が前
記反射鏡の反射面に対応した形状となるように、不活性ガスによって内圧をかけることに
より前記管状部材における一部を膨張させて膨張部を形成する膨張部形成工程と、
前記膨張部が形成された前記管状部材を切断することにより、前記反射鏡の基材を形成
する反射鏡基材形成工程と、
前記反射鏡の基材の切断面に発生するマイクロクラックを除去するマイクロクラック除
去工程と、
前記反射鏡の基材のうち前記反射面となる部分に反射層を形成する反射層形成工程とを
含むことを特徴とする反射鏡の製造方法。
A manufacturing method of a reflecting mirror used in a light source device including an arc tube having a light emitting unit and a reflecting mirror having a reflecting surface that reflects light from the light emitting unit in a predetermined direction,
A tubular member preparation step of preparing a tubular member made of the material of the reflecting mirror;
After the tubular member is heated and placed in the mold, the tubular member is subjected to internal pressure with an inert gas so that a part of the inner surface of the tubular member has a shape corresponding to the reflecting surface of the reflecting mirror. An inflatable portion forming step of inflating a part of the member to form an inflatable portion;
A reflecting mirror base material forming step of forming a base material of the reflecting mirror by cutting the tubular member in which the expanding portion is formed;
A microcrack removing step of removing microcracks generated on the cut surface of the base material of the reflecting mirror;
A reflective layer forming step of forming a reflective layer on a portion of the base material of the reflective mirror that serves as the reflective surface.
請求項1に記載の反射鏡の製造方法において、
前記マイクロクラック除去工程においては、前記反射鏡の基材の切断面に対してエッチ
ング処理を行うことを特徴とする反射鏡の製造方法。
In the manufacturing method of the reflecting mirror according to claim 1,
In the microcrack removing step, an etching process is performed on the cut surface of the base material of the reflecting mirror.
請求項1に記載の反射鏡の製造方法において、
前記マイクロクラック除去工程においては、前記反射鏡の基材の切断面に対してレーザ
光を照射することを特徴とする反射鏡の製造方法。
In the manufacturing method of the reflecting mirror according to claim 1,
In the microcrack removing step, a laser beam is irradiated to the cut surface of the base material of the reflecting mirror.
請求項1に記載の反射鏡の製造方法において、
前記マイクロクラック除去工程においては、前記反射鏡の基材の切断面に対して研磨加
工を行うことを特徴とする反射鏡の製造方法。
In the manufacturing method of the reflecting mirror according to claim 1,
In the microcrack removing step, a polishing process is performed on the cut surface of the base material of the reflecting mirror.
請求項1〜4のいずれかに記載の反射鏡の製造方法において、
前記膨張部形成工程においては、前記管状部材における一部の内面形状が2つの反射鏡
を互いに向き合わせたときの前記反射面の形状となるように前記膨張部を形成し、
前記反射鏡基材形成工程においては、前記反射鏡を2つ形成することを特徴とする反射
鏡の製造方法。
In the manufacturing method of the reflecting mirror in any one of Claims 1-4,
In the expanding portion forming step, the expanding portion is formed so that a part of the inner surface shape of the tubular member becomes the shape of the reflecting surface when two reflecting mirrors face each other,
In the reflecting mirror base material forming step, two reflecting mirrors are formed.
発光部を有する管球部及び前記管球部の両側に延びる一対の封止部を有する発光管と、
前記発光管における一方の封止部側に配設され、前記発光部からの光を被照明領域側に向
けて反射するリフレクタとを備える光源装置であって、
前記リフレクタは、請求項1〜5のいずれかに記載の反射鏡の製造方法によって製造さ
れた反射鏡であることを特徴とする光源装置。
An arc tube having a tube portion having a light emitting portion and a pair of sealing portions extending on both sides of the tube portion;
A light source device including a reflector disposed on one sealing portion side of the arc tube and reflecting light from the light emitting portion toward an illuminated area side;
6. The light source device according to claim 1, wherein the reflector is a reflecting mirror manufactured by the reflecting mirror manufacturing method according to any one of claims 1 to 5.
発光部を有する管球部及び前記管球部の両側に延びる一対の封止部を有する発光管と、
前記発光管における一方の封止部側に配設され、前記発光部からの光を被照明領域側に向
けて反射するリフレクタと、前記発光管における他方の封止部側に配設され、前記発光部
からの光を前記管球部に向けて反射する反射面を有する副鏡とを備える光源装置であって

前記副鏡は、請求項1〜5のいずれかに記載の反射鏡の製造方法によって製造された反
射鏡であることを特徴とする光源装置。
An arc tube having a tube portion having a light emitting portion and a pair of sealing portions extending on both sides of the tube portion;
A reflector disposed on one sealing portion side of the arc tube, reflecting light from the light emitting portion toward the illuminated region side, and disposed on the other sealing portion side of the arc tube; A light source device including a secondary mirror having a reflecting surface that reflects light from the light emitting unit toward the tube part,
The light source device according to claim 1, wherein the sub mirror is a reflecting mirror manufactured by the reflecting mirror manufacturing method according to claim 1.
請求項6又は7に記載の光源装置を有する照明装置と、
前記照明装置からの光を画像情報に応じて変調する電気光学変調装置と、
前記電気光学変調装置によって変調された光を投写する投写光学系とを備えることを特
徴とするプロジェクタ。
A lighting device having the light source device according to claim 6 or 7,
An electro-optic modulator that modulates light from the illumination device according to image information;
A projector comprising: a projection optical system that projects light modulated by the electro-optic modulation device.
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