JP2007252249A - 有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法 - Google Patents

有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法 Download PDF

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Abstract

【課題】有機化合物の配列パターンの変更に即座に対応可能で,合成される有機化合物の均一性にも優れる有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法を提供する
【解決手段】本発明によれば,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物を合成する有機化合物合成装置であって,有機化合物を合成するための有機材料を保持する有機化合物合成用基板と,有機化合物合成用基板に合成に要する光を照射する少なくとも1つの光照射装置とを備える有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法が提供される。
【選択図】図1

Description

本発明は,有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法に関する。
生体物質であるDNA(デオキシリボ核酸)を用いた診断において,DNAを基板上に配列したチップ(DNAチップあるいはオリゴヌクレオチドマイクロアレイと呼ばれる。以下,DNAチップという。)を用いる方法が,一人一人の人間の違いに対応した,オーダーメード医療の実現に必須なものとして研究され,実用化されつつある。
図9AにDNAチップを説明するための概略図を,図9Bに図9AのDNAチップの製造方法を説明するための概略図を,それぞれ示す。また,図10にDNAチップの作用原理を示す概略図を示す。
図9A(a)は,DNAチップの平面図である。このDNAチップは,基板10の上に,DNAのセグメントを固定するための区画20が,縦横に形成されているものである。それぞれの区画20の中に,配列の異なるDNAのセグメントが固定される。このようなDNAチップの製造方法としては,あらかじめ区画分だけのDNAを合成しておき,それを基板10上の区画20にそれぞれ並べていく方法と,各区画20上で核酸をつなげて合成していく方法の2種類が考えられている。
このような方法としては,特許文献1〜3に提案されているように,4つの塩基に応じた材料だけで,任意の配列のDNAを直接基板上に合成したり,光リソグラフィを用いたりして基板上のDNAのパターン形成を行う方法がある。更に,インクジェット方式でDNAのパターン化を行う方法が提案されている。
ここで,図9A(b)および図9Bを用いて,上記の基板上で核酸をつなげて合成していく方法の概略を説明する。まず,図9A(b)は図9A(a)のDNAチップの区画20の1つを示した部分拡大図で,DNAチップは,この区画20に,リンカー30を介して,保護基40を形成する。続いて,図9B(a)〜(f)のアルファベット順に,任意の配列を有するDNAは合成される。
すなわち,図9B(a)は,区画20上に保護基40が導入されたリンカー30が設けられた状態を模式的に示したものである。図9B(b)のように,保護基40は,光あるいは酸50に対して反応し,リンカー30から脱離する。その結果,末端に水素原子を有するリンカーの端部30aが現れる。ここに,保護基40が導入された塩基60aを反応させると,塩基60aのイソプロピル(iPr)基を有した部分がリンカーの端部30aにつながる(図9B(c))。この作業を繰り返して行う。すなわち,新たな塩基をつなぎたい保護基40に対して光の照射または酸の供給50を行うと,保護基40がはずれ(図9B(d)),保護基40が導入された塩基60bを反応させると,新たな塩基60bが,保護基40のはずれた部位につながっていく(図9B(e))。このような工程を繰り返すことで,任意の塩基配列70を形成することができ(図9B(f)),それぞれの区画で同様の処理を行うことにより,マイクロアレイを製造することができる。
このようにして製造されたマイクロアレイで遺伝子診断を行う場合には,図10に示すように,例えば検体で発現している遺伝子により合成されたRNA,あるいはDNA自体の塩基配列を得て(80a,80b),このRNAの検出に必要な信号を得ることができる蛍光標識90a,90bなどを付加する。マイクロアレイにこの試料を加えると,マイクロアレイ上の配列70と相補的なRNAあるいはDNA80bのみが,所定の塩基配列の部分に結合する。マイクロアレイ内に残るRNAに結合した蛍光標識90bからの蛍光を検出することで,検体中でどのような遺伝子が発現しているかを知ることができる。このようにして,遺伝子を利用して病気の診断を行うことができる。
このようなマイクロアレイは,基板上のどの区画にどのようなRNA,DNA等の塩基の配列を製造するかは,光照射を行う区画20を決めることで,決定することができる。
更に,光照射を用いて基板上に配列パターンを形成する方法としては,半導体集積回路を製造する場合に使用するガラスマスクを用いる方法や,ディスプレイに開発されたマイクロマシンミラーや液晶を用いるもの,インクジェット方式を使用するもの等も考案されている。
米国特許出願公開第2005/0079529号明細書 米国特許第6600031号明細書 米国特許第6375903号明細書
しかしながら,ガラスマスクを用いる方法は,同じ配列パターンを大量に生産する場合には良いが,配列パターンの変更に即座に対応できないという問題があった。また,マイクロマシンミラーや液晶を用いた方法は,配列パターンの変更に対して即座に対応できるものの,ガラスマスクと同様に投影系の光学系を用いているために,装置の小型化には限界がある。また,ガラスマスクを用いる方法では,基板上の各区画に合成されたDNAの均一性に優れているが,他の光学的な方法やインクジェット方式では,得られる化合物の均一性に問題があった。
そのために,有機化合物の配列パターンの変更に即座に対応可能で,合成される有機化合物の均一性にも優れる有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法が希求されていた。
そこで,本発明は,このような問題に鑑みてなされたもので,その目的は,有機化合物の配列パターンの変更に即座に対応可能で,合成される有機化合物の均一性にも優れる,新規かつ改良された有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法を提供することにある。
上記課題を解決するために,本発明の第1の観点によれば,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物を合成する有機化合物合成装置であって,有機化合物を合成するための有機材料を保持する有機化合物合成用基板と,有機化合物合成用基板に合成に要する光を照射する少なくとも1つの光照射装置とを備える有機化合物合成装置が提供される。
かかる構成によれば,有機化合物合成用基板には,有機化合物の合成に必要な有機材料が保持され,光照射装置は,有機化合物の合成に要する光を上記の有機化合物合成用基板に照射する。その結果,有機化合物合成用基板上に,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物が合成される。
上記課題を解決するために,本発明の第2の観点によれば,光源と,光源に連結され光源からの発光に位相を与える位相板とを備える光学素子と,光学素子を保持する光学素子保持基板とを含み,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成に用いられる光照射装置が提供される。
かかる構成によれば,光学素子に設けられた位相板は,光源からの光に位相差を与え,光学素子保持基板は,光学素子を保持する。かかる構成を有する光照射装置は,光源からの発光の光分布を均一にすることができる。
上記の光学素子は,光源からの発光をビーム広がり角の小さい光ビームにするレンズをさらに備えてもよい。かかる構成によれば,上記レンズは,レンズを通過する光源からの発光をビーム広がり角の小さい光ビームにする。その結果,光源からの発光の散逸を防ぐことができる。
上記光源として,半導体を用いた発光素子を用いてもよく,発光ダイオードを用いてもよい。かかる光源を用いることで,光源の大きさを小さくすることが可能となる。
光学素子は,光源からの発光を集光する集光レンズを更に含むことも可能である。かかる集光レンズは,光源からの発光を効率よく集光することができる。
光学素子は,ハウジング構造により覆われ,ハウジング構造は,光学素子からの発光を通過させる開口部を有し,開口部の周囲には遮光材が設けられてもよい。
上記の光照射装置は,位相板により,光源からの発光に180°の位相を与えることが可能である。かかる構成により,光源からの発光に180°の位相が与えられ,光源からの発光の光分布に,光強度の均一な部分を形成することができる。
光学素子は,一の光学素子保持基板にアレイ状に複数配設されてもよい。かかる構成により,上記の光学素子は,複数箇所にまとめて光を照射することができる。
上記複数の光学素子は,別個に制御することができる。かかる構成により,光を照射する箇所を選択することが可能となる。
上記課題を解決するために,本発明の第3の観点によれば,基板と,基板の一方の面に設けられ,縦横に開口部が配列される遮光層とを含み,遮光層は,上記の光照射装置から照射される光の光分布を均一にし,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成に使用される有機化合物合成用基板が提供される。
かかる構成によれば,基板上に形成された遮光層は,光照射装置から照射される光を遮光し,遮光層に縦横に配列された開口部にのみ,均一な光分布の光が照射されるようになる。その結果,上記の開口部では,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み,光照射により重合される有機化合物が,均一に合成されるようになる。
遮光層上にさらにスペーサ層が設けられ,スペーサ層の厚みは,照射光の波長以下であってもよい。
基板の他方の面には,上記の開口部に対応する部位に,照射光を集光する陥没部が形成されてもよい。かかる構成により,基板に形成された陥没部がレンズとして機能し,照射光を集光させる。
上記課題を解決するために,本発明の第4の観点によれば,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成方法であって,(a)上記の有機化合物合成用基板に,有機化合物を重合するための有機材料を供給する工程と,(b)上記の有機化合物合成用基板上の有機材料に,上記の光照射装置を用いて光を照射する工程とを含む有機化合物の合成方法が提供される。
かかる構成によれば,有機化合物合成用基板上に供給された有機材料に,光照射装置から重合に要する光が照射され,有機化合物合成用基板上に有機化合物が合成される。その結果,有機化合物が固定された有機化合物アレイを製造することができる。
上記(b)工程では,有機化合物合成用基板と光照射装置とを相対移動させることも可能である。有機化合物合成用基板と光照射装置とを相対移動させることで,合成操作を効率よく行うことが可能となる。
上記の(a)工程と(b)工程とを,順に複数回繰り返すことも可能である。かかる操作により,任意の繰り返し単位数からなる有機化合物が合成された有機化合物アレイを製造することができる。
本発明によれば,有機化合物の配列パターンの変更に即座に対応可能で,合成される有機化合物の均一性にも優れる有機化合物合成装置,光照射装置,有機化合物合成用基板および有機化合物の合成方法を提供することができる。
以下に添付図面を参照しながら,本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構成を有する構成要素については,同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
(第1の実施形態)
図1は,本発明の第1の実施形態に係る光照射装置100と,有機化合物合成用基板200とを概略的に説明するための模式図である。
図1(a)は,本実施形態に係る光照射装置100と,有機化合物合成用基板200の側面図であり,図1(b)は,本実施形態に係る有機化合物合成用基板200の平面図である。
本実施形態に係る光照射装置100は,光源110と,コリメートレンズ120と,位相板130と,集光レンズ140からなる光学素子と,この光学素子を保持する光学素子保持基板150とを備える。
光源110は,所定の波長の光を発光する。光源110として,例えば半導体を用いた光学素子を使用することができる。半導体を用いた光学素子の例としては,例えば,半導体レーザーや発光ダイオードなどがある。発光波長の選択にあたっては,有機化合物を合成するために必要な光エネルギーに応じて,発光波長を選択することが可能であるが,得られる光エネルギーが大きいという点で,波長の短い光を出射する光源を用いることが好ましい。このような観点から,本実施形態では,例えば,発光波長400nm程度の青色発光ダイオードを使用することができる。
コリメートレンズ120は,このレンズ120に入射する光をビーム広がり角の小さい光ビーム,例えば平行光にする機能を有する。光を平行光にすることができるものであれば,あらゆるレンズを使用することができるが,コスト面から,通常の発光ダイオードプリンタで用いられるようなロッドレンズを使用することが好ましい。
位相板130は,コリメートレンズ120を通過した光に,位相差を与える役割を果たすものである。位相板130は,位相差を自由に設定することが可能であり,位相板130に入射した光に設定された位相差を与えることで,入射光の光分布を整形することができる。
集光レンズ140は,位相レンズ130を通過した光を,集光レンズ140の焦点の位置に集光させる機能を有する。集光レンズ140は,球面レンズや非球面レンズ等の任意のレンズを使用することができる。
上記の光源110,コリメートレンズ120,位相板130および集光レンズ140とから,光学素子が形成される。この光学素子は,光学素子保持基板150により,担持されている。
光学素子保持基板150は,図1(a)においては,光源110の一方の面とコリメートレンズ120の端面の一部を支持するように設けられているが,光源110の周りを覆うように設けられてもよい。上記のようにして,本実施形態に係る光照射装置100は構成されている。
図2は,本実施形態に係る光照射装置100を,光軸方向から見た平面図である。本実施形態に係る光照射装置100は,図2に示すように,1つの光学素子保持基板150に,複数個の光学素子が設けられ,アレイ状となっていてもよい。この場合には,位相板130を,一枚の大きな基板として形成し,この位相板130にコリメートレンズ120および集光レンズ140を連結させることができる。そして,コリメートレンズ120に光源110を接続することができる。
光源110をアレイ状に形成した場合には,一度に有機化合物合成用基板200の複数箇所へ光を照射することが可能となる。また,これら複数の光源110は,それぞれ個別に制御可能であるため,光を照射する箇所を選択することが可能である。
図1(a),図2に示したように,1つの光学素子において,光源110,コリメートレンズ120,位相板130および集光レンズ140は,同一の光軸上に設けられている。
本発明の第1の実施形態に係る有機化合物合成用基板200は,図1(a)に示したように,基板210,遮光層220,開口部240およびスペーサ層250を備える。
基板210は,ガラスやプラスチックなど通常使用されているものを用いることが可能である。図1(b)に示したように,基板210の一方の面上には遮光部材が設けられ,遮光層220を形成している。遮光層220には,縦横に複数の開口部240が設けられている。この開口部240は,遮光層220のうち,遮光部材が設けられていない部位であって,遮光層220に形成された陥没部である。この開口部240が,本実施形態に係る有機化合物合成用基板200における区画230として機能する。
遮光層220は,金属,塗料,またはカーボンのような光を遮断する材料等を用いて形成される。用いる遮光材は,光源110の発光波長に応じて,変更する必要がある。
遮光層220に縦横に形成された,アレイ状の複数の開口部240は,光照射装置100からの光照射により合成される有機化合物が固定される部位である。
また,遮光層220と遮光層220に形成された開口部240とは,光照射装置100からの発光に対してスリットとして機能する。このために,遮光層220に形成する開口部240の幅を調節することで,光照射装置からの照射光の光分布を均一にすることが可能となる。
遮光層220上には,基板210と同じ材料を用いてスペーサ層250を設けることもできる。スペーサ層250を形成する場合には,スペーサ層250の厚みは,光源110の発光波長と同程度とすることが好ましい。
スペーサ層250を形成する際には,図1(a)のように,開口部240がスペーサ層250を形成する材料によって充填され,スペーサ層250の表面を略平面としてもよいし,開口部240の部分はスペーサ層250を形成しないようにして,区画230を陥没部として維持してもよい。また,開口部240にあたる部位が凸形状となるようにスペーサ層250を形成してもよい。
スペーサ層250により開口部240にあたる部位が略平面または凸形状となっても,有機化合物の合成に必要な試薬が液体である場合には,スペーサ層250に表面処理を施し液体との親和性を制御することで,液体自身の表面張力を用いて液体を保持することが可能である。
スペーサ層250を設けた場合には,開口部240の上部に位置するスペーサ層250の部位が,本実施形態に係る有機化合物合成用基板200の区画230として機能する。
本実施形態に係る光照射装置100は,図1(a)に示したように,有機化合物合成用基板200の裏側の面(z軸負方向側の面)から基板200に向かって光を照射してもよい。これは,有機化合物合成用基板200に,例えば有機化合物を合成するための有機材料を供給する装置を設けた場合に,光照射装置100の光軸と有機材料を供給する装置とが重なってしまう可能性があるためである。また,光照射装置100の光源110として,発光ダイオードを用いる場合には,発光ダイオードの焦点距離は短い場合が多いために,開口部240との間隔を短くすることが必要となる。このような場合には,有機化合物合成用基板200の表側から光を照射してもよい。
続いて,図3を用いて,本実施形態に係る発光ダイオードヘッド100と有機化合物合成用基板200における遮光層220の機能について説明する。図3は,本実施形態に係る発光ダイオードヘッド100および有機化合物合成用基板200における遮光層220の機能について説明するための模式図である。
図3に示すように,光源110を出てコリメートレンズ120により平行光となった光束300は,位相板130により所定の位相が与えられる。位相板130は,図3に示したように,例えば,略凸形状を有している。光束300に位相差が与えられる範囲は,光軸に対して直交する方向の凸形状部分の幅により決定され,与えられる位相差は,光軸に対して平行な方向の凸形状部分の高さにより決定される。
光束300の一部に対して位相差が与えられると,位相差が与えられた部分の光分布が変化する。例えば,光束300としてガウス光を用いた場合に,位相板130によってガウス光に位相差を与えると,位相板130を通過した後の光束310は,図3のような平坦部を有する光束となる。このように,光分布に平坦部が形成されると,この平坦部では光エネルギーが均一になるという効果がある。
位相板130により光分布が均一となった光束は,集光レンズ140の焦点の位置に集光されることとなる。このとき,集光レンズ140と遮光層220との間隔を,集光レンズ140の焦点距離とすることが好ましい。このようにすることで,開口部240に最も光強度の大きな光束300を集めることができる。
光分布に平坦な部位が形成された光310は,遮光層220に集光する際に,遮光層220自身がスリットの役割を果たすことで更に不要な光がカットされ,光分布の均一な光320となる。この光分布の均一な光320によって,有機化合物合成用基板200に形成された1つの開口部240全体に渡って,均一な光強度を有する光が照射されるため,開口部240上に局在化されている有機材料に生ずる反応に,ムラが生じない。その結果,1つの区画230に合成される有機化合物は,均一なものとなる。
図4は,本実施形態に係る光照射装置100および有機化合物合成用基板200の斜視図である。図4から明らかなように,本実施形態に係る光照射装置100に設けられた光学素子の個数は,有機化合物合成用基板200にx軸方向に沿って形成された区画230の個数と同数となるように形成されている。また,光照射装置100を形成する各光学素子は,それぞれ個別に制御できるようになっている。
上記のように,光学素子の個数と,光照射装置100に対して平行な方向の区画230の個数とが1対1に対応することで,光学素子の光源110のオン・オフをそれぞれ切り替えることで,対応する区画230を露光するか,しないかを制御できる。このように,本実施形態に係る光照射装置100と有機化合物合成用基板200とを用いることで,有機化合物の配列パターンの変更に即座に対応可能することができる。
光照射装置100は,例えばy軸正方向に向かって,有機化合物合成用基板200をスキャンし,光照射装置100に対して平行な方向(x軸)に沿った1列の区画230を露光していく。例えば,露光すべき区画230が全部でN個存在し,1つあたりの区画230を露光するのに要する時間をtとすると,全露光時間は,有機化合物合成用基板200全体でN×tとなる。
また,光照射装置100の光源110として発光ダイオードを使用した場合には,従来の水銀ランプを用いた方法と比較して光量を多くすることが可能となるため,有機化合物を合成するための光化学反応に要する時間を短くすることができる。
有機化合物を合成する際,特に,DNA合成などで塩基を25〜70層繰り返して反応させる場合には,各露光での位置合わせが必要となる。本実施形態に係る有機化合物合成用基板200では,この位置合わせを遮光層220のパターン検出で行うことができる。本実施形態に係る有機化合物合成用基板200では,遮光層220として遮光材が基板210に作りつけられているために,位置精度に対する要求はさほど厳しくなく,例えば数μm程度で十分である。
なお,図4では,光源110とコリメートレンズ120とは,1対1に対応するように描かれているが,複数の光源110に対してコリメートレンズ120,位相板130,集光レンズ140とを共有するように設計しても良い。このような構造とすることにより,隣接する光源110間の間隔(ピッチ)を狭くすることができる。
例えば,複数の光源110からの発光を,単一のコリメートレンズ120や,単一の集光レンズ140で集光してもよい。また,図4では,光源110とコリメートレンズ120との光軸が一致するような配置となっているが,複数のコリメートレンズ120を千鳥配置に配置して,あわせて1つのコリメートレンズとして機能させてもよい。
図4においては,光照射装置100は1つのみであったが,図5のように複数の光照射装置100を用いることも可能である。図5においては,同様の光照射装置100aと100bを用いて,各区画230の露光を行う場合について図示している。
個の光照射装置100を用いて,同時に露光を行うことで,有機化合物合成用基板200を露光するために必要な時間は,1つの光照射装置100を用いた場合に要する時間の1/Nとなる。例えば,有機化合物合成用基板200の区画230が全部でNs個ある場合には,露光回数はN/Nとなり,有機化合物合成用基板200全部を露光するために要する時間は,(N/N)×tとなる。各光照射装置100が担当する領域は決まっているため,光照射装置100のy軸方向に関する相対位置は,精度を必要とせず,組み込み時の微調整で得られる精度で充分である。
なお,図5では光照射装置100を2つ用いた場合ついて図示しているが,組み込まれる光照射装置100の個数は上記の個数に限定されず,3つ以上組み込んでもよい。また,用いる光照射装置100の個数は,露光すべき有機化合物合成用基板200の大きさ等により決定することが可能である。
上記のような光照射装置100および有機化合物合成用基板200を用いて,1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み,光照射によって重合される有機化合物を合成し,有機化合物アレイを製造する方法を,以下に詳細に説明する。
以下では,上記の有機化合物の例として,任意の塩基配列を有するDNAを合成する場合を説明する。この場合には,上記の1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位が,4種類の塩基アデニン(A),チミン(T),グアニン(G),シトシン(C)に対応する。
まず,有機化合物合成用基板200の区画230に,有機化合物を固定するためのリンカーを準備する。このリンカーの末端には,光照射によって解離する保護基を付けておく。
続いて,塩基を結合させたい区画230に対して光を照射するために,光照射装置100と有機化合物合成用基板200のいずれか一方を移動させ,光を照射する。その結果,光が照射された区画230では,リンカーの末端に導入された保護基がはずれ,リンカーと塩基とが結合できるようになる。
その後,反応させたい塩基を含む溶液を区画230に供給する。その結果,リンカーと塩基とが反応し,塩基鎖が1つ生成される。
続いて,2種類目の塩基を結合させたい場合には,以上の操作を繰り返すことで,任意の塩基配列を有するDNAが固定された有機化合物合成用基板,すなわち,DNAアレイを作成することができる。
また,本実施形態に係る光照射装置100と,有機化合物合成用基板200とを含む有機化合物合成装置を製造して,上記の操作を自動化することも可能である。この有機化合物合成装置には,例えば,有機化合物を合成するために必要な有機材料を供給する有機材料供給装置などを設けることも可能である。
(第2の実施形態)
図6は,本発明の第2の実施形態に係る光照射装置103と有機化合物合成用基板400を概略的に説明するための模式図である。
本実施形態に係る光照射装置103は,光源110と,コリメートレンズ120と,位相板130を備える光学素子と,この光学素子を保持する光学素子保持基板150とから構成される。本実施形態に係る光照射装置103は,集光レンズ140を備えない点を除いては,本発明の第1の実施形態に係る光照射装置100と同様の構造である。
本実施形態に係る光照射装置103は,集光レンズ140を備えていないため,位相板130を通過した光源110からの光は,平行光のまま本実施形態に係る有機化合物合成用基板400に照射されることになる。また,本実施形態に関しては,コリメートレンズ120は,光源110に対して1対1で用意することが好ましい。
本実施形態に係る有機化合物合成用基板400は,基板410と,遮光層420と,スペーサ層440とを備える。
基板410は,ガラスやプラスチックなど通常使用されているものを用いることが可能である。図6(a)に示したように,基板410の一方の面上には,遮光部材が設けられ,遮光層420を形成している。この遮光層420と,遮光層420に設けられた開口部430については,本発明の第1の実施形態と同様であるので,詳細な説明は省略する。
基板410の遮光層420が形成されている面と反対側の面には,レンズ形状の陥没部である集光レンズ部450が形成されている。この集光レンズ部450の光軸,すなわち,略円弧形状部分のz軸に対して平行な中心軸は,遮光層420に形成された開口部430の中心軸に合うようにする。
開口部430に効果的に光を集光させるためには,集光レンズ部450に形成されたレンズの焦点距離の長さと,基板410の厚みとを一致させることが望ましい。レンズの焦点距離の長さと基板410の厚みが一致しない場合には,光照射装置103から照射された光の一部が開口部430に集光されないことになる。
上記の集光レンズ部450は,基板410に対して例えばホットプレス法を用いて形成することができる。また,開口部430と集光レンズ部450との相対的な位置関係が重要となるため,開口部430は,フォトリソグラフィを用いて形成してもよい。
また,本実施形態に係る光照射装置103からの照射光は平行光であるため,光照射装置100と有機化合物合成用基板400との距離を調整する必要はない。
(第3の実施形態)
図7は,本発明の第3の実施形態に係る光照射装置105と有機化合物合成用基板500とを概略的に説明するための模式図である。
本実施形態に係る光照射装置105は,光源110と,コリメートレンズ120と,位相板130と,集光レンズ140とを含む光学素子と,この光学素子を保持する光学素子保持基板150と,光学素子を覆うハウジング構造160と,遮光材170とを備える。
光学素子および光学素子保持基板150に関しては,上記の第1の実施形態の場合と機能がほぼ同一で,同様の効果を奏するものであるので,詳細な説明は省略する。本実施形態に係る光照射装置105は,遮光材170を取り付けるために,光学素子を覆うように設けられるハウジング構造160を備える。このハウジング構造160は,光学素子の周りを囲むように設けられ,光学素子保持基板150に連結されている。ハウジング構造160には,光学素子の光軸上に開口部が設けられており,この開口部の周囲に,遮光材170が配設される。遮光材170として使用可能な材質は,金属,塗料,またはカーボンといった,光を遮断する材料である。
光源110からの光は,位相板130を通過することにより,図3に示したような平坦部を有する光となる。この平坦部を有する光が,ハウジング構造160に設けられた遮光材170によるスリットを通過することにより,均一な光強度を有する光が光照射装置100から有機化合物合成用基板500に照射されることとなる。
本実施形態に係る光照射装置105には,遮光材170が取り付けられているため,有機化合物合成用基板500には遮光層を設ける必要がない。従って,有機化合物合成用基板500をより安価に製造することができる。
なお,光照射装置105に設けられた遮光材170と有機化合物合成用基板500の材質とが金属等の導体である場合には,光照射装置105と有機化合物合成用基板500との間の空間を,コンデンサーとみなすことができる。この場合には,この光照射装置105と有機化合物合成用基板500とからなるコンデンサーの静電容量をモニターすることで,光照射装置105と有機化合物合成用基板500の間の距離を知ることができる。さらに,このコンデンサーに流れる微少電流を用いてピエゾ素子を動作させることで,光照射装置105の位置調整をサブミクロンの距離で行うことができる。
以下に,実施例を示しながら,本発明の第1の実施形態に係る光照射装置100と有機化合物合成用基板200を説明する。
(シミュレーションの方法)
本発明の第1の実施形態に係る光照射装置100をシミュレートするために,以下のような条件を設定した。
光源110からの発光波長は420nmの青色光とし,40μmの径の光束を有するガウス光とした。位相板130は,同心円状のものであり,光束の70%,すなわち,約30μmの領域で180°の位相差を与える構造となっている。集光レンズ140と有機化合物合成用基板200の遮光層220との距離は,1mm(1000μm)である。また,光源110と位相板130との距離は,120μmとした。
図8は,本発明の第1の実施形態に係る光照射装置100をシミュレートした結果を示したグラフ図である。各グラフの横軸は,ガウス光の光束の径を表しており,0の位置が光軸の位置である。なお,横軸の単位はμmである。また,各グラフの縦軸は,ガウス光の光量を表している。
図8(a)は,遮光層220上に集光した光の分布を表したシミュレーション結果である。このグラフ図から,直径約10μm,すなわち,光軸から半径約5μmの範囲で,光量が平坦となる部分が生じていることがわかる。しかしながら,光軸から半径5〜15μmの範囲で光量はスロープ状に減衰しており,光量が平坦である部分の周りに,光量が一定ではない部分が存在している。
図8(b)は,図8(a)の光が開口部230を通過した後の光分布を示したものであり,スペーサ層250の厚みは,発光波長とほぼ同じ0.4μm(400nm)である。なお,開口部230の開口は,直径14μmとした。これを見ると,開口部230を通過した光は,光軸から半径約7μmを超えた部分では急激に光量が減少しており,光量が平坦である部分のみが開口部230を通過していることがわかる。また,光軸からの半径が約7μmの部分では,回折により遮光層220の裏側に回り込んだ光によって,分布がわずかながら乱れていることがわかる。
図8(c)は,スペーサ層の厚みを2μmとし,開口部230の開口の直径を14μmとした場合のシミュレーション結果である。これを見ると,開口部230から回折により遮光層220の裏側に回り込んだ光によって分布が大きく乱され,光量が平坦な部分にも光量の乱れが生じていることがわかる。
以上の結果から,スペーサ層の厚みは,光源として用いる光の発光波長程度とすることがよいといえる。
このように,本発明の各実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板とを用いることで,有機化合物合成用基板に形成された区画に照射される光の分布を,均一なものとすることができる。区画全体に一定の光量の光が照射されることで,有機化合物の合成も均一に行われるようになり,均一な性質を有する有機化合物アレイを製造することができる。
以上,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された範疇内において,各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば,上述した実施形態においては,光照射装置100に位相板130配設される場合について記載したが,位相板130の代わりに,例えば磨りガラス状の拡散板を用いてもよい。かかる拡散板を用いることにより,焦点がぼけることとなり,均一な光分布を得ることができる。
また,上述した実施形態においては,コリメートレンズ120を通過した光源110からの発光が,位相板130に入射する場合について記載したが,位相板130とコリメートレンズ120との配置を入れ替えて,位相板130を通過した光源110からの発光が,コリメートレンズ120に入射するようにしてもよい。
本発明の第1の実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板を概略的に示した模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る光照射装置の平面図である。 本発明の第1の実施形態に係る光照射装置の機能を概略的に説明するための模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板の斜視図である。 本発明の第1の実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板の斜視図である。 本発明の第2の実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板を概略的に説明するための模式図である。 本発明の第3の実施形態に係る光照射装置と有機化合物合成用基板を概略的に説明するための模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る光照射装置をシミュレートした結果を示すグラフ図である。 従来のDNAチップを概略的に説明するための模式図である。 従来のDNAチップの製造方法を概略的に示した模式図である。 従来のDNAチップが機能する様子を概略的に示した模式図である。
符号の説明
100,103,105 光照射装置
110 光源
120 コリメートレンズ
130 位相板
140 集光レンズ
150 光学素子保持基板
160 ハウジング構造
170 遮光材
200 有機化合物合成用基板
210 基板
220 遮光層
230 区画
240 開口部
250 スペーサ層
300 光
310 光分布に平坦部を有する光
320 均一な光分布を有する光
400 有機化合物合成用基板
410 基板
420 遮光層
430 開口部
440 スペーサ層
450 集光レンズ部
500 有機化合物合成用基板

Claims (15)

  1. 1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物を合成する有機化合物合成装置であって:
    前記有機化合物を合成するための有機材料を保持する有機化合物合成用基板と,
    前記有機化合物合成用基板に,合成に要する光を照射する少なくとも1つの光照射装置と,
    を備えることを特徴とする,有機化合物合成装置。
  2. 光源と,前記光源に連結され前記光源からの発光に位相を与える位相板と,を備える光学素子と,
    前記光学素子を保持する光学素子保持基板と,
    を含み,
    1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成に用いられることを特徴とする,光照射装置。
  3. 前記光学素子は,前記光源からの発光をビーム広がり角の小さい光ビームにするレンズをさらに備えることを特徴とする,請求項2に記載の光照射装置。
  4. 前記光源は,半導体を用いた発光素子であることを特徴とする,請求項2または3に記載の光照射装置。
  5. 前記光源は,発光ダイオードであることを特徴とする,請求項4に記載の光照射装置。
  6. 前記光学素子は,光源からの発光を集光する集光レンズを更に含むことを特徴とする,請求項2〜5のいずれかに記載の光照射装置。
  7. 前記光学素子は,ハウジング構造により覆われ,
    前記ハウジング構造は,前記光学素子からの発光を通過させる開口部を有し,前記開口部の周囲には遮光材が設けられることを特徴とする,請求項2〜6のいずれかに記載の光照射装置。
  8. 前記位相板は,前記光源からの発光に180°の位相を与えることを特徴とする,請求項2〜7のいずれかに記載の光照射装置。
  9. 前記光学素子は,一の前記光学素子保持基板にアレイ状に複数配設されることを特徴とする,請求項2〜8のいずれかに記載の光照射装置。
  10. 基板と,
    前記基板の一方の面に設けられ,縦横に開口部が配列される遮光層と,
    を含み,
    前記遮光層は,請求項2〜9のいずれかに記載の光照射装置からの照射光の光分布を均一にし,
    1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成に使用されることを特徴とする,有機化合物合成用基板。
  11. 前記遮光層上にさらにスペーサ層が設けられ,
    前記スペーサ層の厚みは,前記照射光の波長以下であることを特徴とする,請求項10に記載の有機化合物合成用基板。
  12. 前記基板の他方の面には,前記開口部に対応する部位に前記照射光を集光する陥没部が形成されることを特徴とする,請求項10または11に記載の有機化合物合成用基板。
  13. 1種または2種以上の重合可能な繰り返し単位を含み光照射により重合される有機化合物の合成方法であって:
    (a)請求項10〜12のいずれかに記載の有機化合物合成用基板に,前記有機化合物を重合するための有機材料を供給する工程と,
    (b)前記有機化合物合成用基板上の前記有機材料に,請求項2〜9のいずれかに記載の光照射装置を用いて光を照射する工程と,
    を含むことを特徴とする,有機化合物の合成方法。
  14. 前記(b)工程では,前記有機化合物合成用基板と前記光照射装置とを相対移動させることを特徴とする,請求項13に記載の有機化合物の合成方法。
  15. 前記(a)工程と前記(b)工程とを,順に複数回繰り返すことを特徴とする,請求項13または14に記載の有機化合物の合成方法。
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