JP2007242828A - Organic el device - Google Patents

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JP2007242828A JP2006062112A JP2006062112A JP2007242828A JP 2007242828 A JP2007242828 A JP 2007242828A JP 2006062112 A JP2006062112 A JP 2006062112A JP 2006062112 A JP2006062112 A JP 2006062112A JP 2007242828 A JP2007242828 A JP 2007242828A
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Shiyouki Maeda
将規 前田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device capable of suppressing a leak current. <P>SOLUTION: The organic EL device A1 is provided with an anode electrode 2 and a cathode electrode 7 which are arranged oppositely each other, and a light-emitting element 5 provided between the anode electrode 2 and the cathode electrode 7 and made of an organic substance. A hole transport layer 4 containing an organic compound having a stereoscopic barrier structure is provided between the anode electrode 2 and the light-emitting layer 5. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、一対の電極間に有機層を介在させ、この有機層に電界を与えることにより発光させる有機EL素子に関する。   The present invention relates to an organic EL element that emits light by interposing an organic layer between a pair of electrodes and applying an electric field to the organic layer.

図5は、従来の有機EL素子の一例を示している(たとえば、特許文献1参照)。同図に示された有機EL素子Xは、基板91上にアノード電極92、正孔注入層93、正孔輸送層94、発光層95、電子輸送層96、陰極バッファ層97、およびカソード電極98が積層された構造とされている。基板91は、透明なガラス製であり、アノード電極92は、たとえばITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極とされている。正孔注入層93は、アノード電極92からの正孔を発光層95に向けて注入するための層であり、銅フタロシアニン(以下、CuPc)からなる。正孔輸送層94は、正孔注入層93からの正孔を発光層95へと輸送するための層であり、NPB(N,N-di(naphthalene-1-yl)-N,N-diphenyl-benzidene)からなる。発光層95は、有機物からなり、赤色光、緑色光、青色光などを自発光する層である。電子輸送層96は、カソード電極98からの電子を発光層95へと輸送するための層である。陰極バッファ層97は、カソード電極98からの電子注入を安定化させるための層であり、たとえばLiFからなる。カソード電極98は、たとえばAl製である。   FIG. 5 shows an example of a conventional organic EL element (see, for example, Patent Document 1). The organic EL element X shown in the figure has an anode electrode 92, a hole injection layer 93, a hole transport layer 94, a light emitting layer 95, an electron transport layer 96, a cathode buffer layer 97, and a cathode electrode 98 on a substrate 91. Is a laminated structure. The substrate 91 is made of transparent glass, and the anode electrode 92 is a transparent electrode made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide). The hole injection layer 93 is a layer for injecting holes from the anode electrode 92 toward the light emitting layer 95, and is made of copper phthalocyanine (hereinafter, CuPc). The hole transport layer 94 is a layer for transporting holes from the hole injection layer 93 to the light emitting layer 95, and includes NPB (N, N-di (naphthalene-1-yl) -N, N-diphenyl). -benzidene). The light emitting layer 95 is made of an organic material and emits red light, green light, blue light and the like. The electron transport layer 96 is a layer for transporting electrons from the cathode electrode 98 to the light emitting layer 95. The cathode buffer layer 97 is a layer for stabilizing electron injection from the cathode electrode 98, and is made of, for example, LiF. The cathode electrode 98 is made of, for example, Al.

アノード電極92には、電源Pの+極が接続される。カソード電極98には、電源Pの−極が接続される。アノード電極92とカソード電極98との間に電圧が印加されると、発光層95において正孔と電子とが再結合する。この再結合によって発光層95が発光する。発光層95から図中上方へと進行する光は、カソード電極98によって図中下方へと反射される。この反射された光と、発光層95から図中下方へと発せられた光とが、アノード電極92および基板91を透して図中下方へと出射される。このように、有機EL素子Xは、いわゆるボトムエミッション型の有機EL素子として構成されている。   The positive electrode of the power source P is connected to the anode electrode 92. The negative electrode of the power source P is connected to the cathode electrode 98. When a voltage is applied between the anode electrode 92 and the cathode electrode 98, holes and electrons are recombined in the light emitting layer 95. By this recombination, the light emitting layer 95 emits light. Light traveling upward in the figure from the light emitting layer 95 is reflected downward in the figure by the cathode electrode 98. The reflected light and the light emitted downward from the light emitting layer 95 are emitted downward through the anode electrode 92 and the substrate 91. Thus, the organic EL element X is configured as a so-called bottom emission type organic EL element.

しかしながら、たとえば真空蒸着法を用いて正孔注入層93を形成する場合、図6に示すように、厚さ方向に突出する突起93aが形成されてしまうことがある。これは、正孔注入層93の材料であるCuPcが比較的結晶成長しやすい物質であるからである。このような突起93aを有する正孔注入層93上に、正孔輸送層94を形成すると、正孔輸送層94から突起93aの先端が突出するおそれが大きい。正孔輸送層94の材質であるNPBも、CuPcと同様に比較的結晶成長しやすく、突起93aの形状に依存せずに比較的平坦に成膜されるからである。突起93aが突出した状態で発光層95を形成すると、正孔注入層93と発光層95とが部分的に導通してしまう。このような導通部分は、電流を集中的に流しやすいため、いわゆるリーク電流を生じる原因となる。したがって、たとえば有機EL素子Xを用いてディスプレイを構成した場合、クロストーク発光などの不具合を生じることとなっていた。   However, when the hole injection layer 93 is formed by using, for example, a vacuum deposition method, a protrusion 93a protruding in the thickness direction may be formed as shown in FIG. This is because CuPc, which is the material of the hole injection layer 93, is a substance that is relatively easy to grow crystals. When the hole transport layer 94 is formed on the hole injection layer 93 having such a protrusion 93 a, the tip of the protrusion 93 a is likely to protrude from the hole transport layer 94. This is because NPB, which is the material of the hole transport layer 94, is relatively easy to grow crystals like CuPc, and is formed relatively flat without depending on the shape of the protrusion 93a. If the light emitting layer 95 is formed with the protrusions 93a protruding, the hole injection layer 93 and the light emitting layer 95 are partially connected. Such a conductive portion tends to cause a so-called leakage current because current tends to flow intensively. Therefore, for example, when a display is configured using the organic EL element X, problems such as crosstalk light emission occur.

特開2000−150171号公報JP 2000-150171 A

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、リーク電流を抑制することが可能な有機EL素子を提供することをその課題とする。   The present invention has been made under the circumstances described above, and an object thereof is to provide an organic EL element capable of suppressing a leakage current.

本発明によって提供される有機EL素子は、互いに対向配置されたアノード電極およびカソード電極と、上記アノード電極およびカソード電極の間に介在し、かつ有機物質からなる発光層と、を備える有機EL素子であって、上記アノード電極と上記発光層との間には、立体障害構造を持つ有機化合物を含む層が介在することを特徴としている。   An organic EL device provided by the present invention is an organic EL device comprising an anode electrode and a cathode electrode arranged to face each other, and a light emitting layer made of an organic material and interposed between the anode electrode and the cathode electrode. In addition, a layer containing an organic compound having a steric hindrance structure is interposed between the anode electrode and the light emitting layer.

このような構成によれば、上記立体障害構造を持つ有機化合物は、比較的結晶成長しにくいものであり、その成膜過程がいわゆるアモルファス状態で進行する。このため、上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層が形成される部分に急峻な突起が存在しても、これを完全に覆うことが可能である。これにより、上記発光層が上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層を介さずにその他の層と不当に導通することを回避することが可能である。したがって、上記有機EL素子のリーク電流を抑制することができる。   According to such a configuration, the organic compound having the steric hindrance structure is relatively difficult to grow a crystal, and the film formation process proceeds in a so-called amorphous state. For this reason, even if there is a steep protrusion in the portion where the layer containing the organic compound having the steric hindrance structure is formed, it is possible to completely cover it. Thereby, it is possible to prevent the light emitting layer from being unduly conducted to other layers without going through the layer containing the organic compound having the steric hindrance structure. Therefore, the leakage current of the organic EL element can be suppressed.

本発明の好ましい実施の形態においては、上記立体障害構造を持つ有機化合物は、フェニレンジアミン型の化合物である。このような構成によれば、上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層をアモルファス状態とするのに適している。   In a preferred embodiment of the present invention, the organic compound having a steric hindrance structure is a phenylenediamine type compound. According to such a structure, it is suitable for making the layer containing the organic compound having the steric hindrance structure amorphous.

本発明の好ましい実施の形態においては、上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層は、その厚さが100〜1000Åである。このような構成によれば、上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層が形成される部分に生じた急峻な突起を覆いつつ、上記アノード電極からの正孔の注入および輸送を適切に促進させることができる。   In a preferred embodiment of the present invention, the layer containing an organic compound having a steric hindrance structure has a thickness of 100 to 1000 mm. According to such a configuration, the injection and transport of holes from the anode electrode are appropriately promoted while covering the steep protrusion generated in the portion where the layer containing the organic compound having the steric hindrance structure is formed. be able to.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係る有機EL素子の第1実施形態を示している。本実施形態の有機EL素子A1は、基板1、アノード電極2、正孔注入層3、正孔輸送層4、発光層5、電子輸送層6、およびカソード電極7を備えている。有機EL素子A1は、基板1の図中下面から光を出射する、いわゆるボトムエミッション型の有機El素子として構成されている。   FIG. 1 shows a first embodiment of an organic EL element according to the present invention. The organic EL element A1 of this embodiment includes a substrate 1, an anode electrode 2, a hole injection layer 3, a hole transport layer 4, a light emitting layer 5, an electron transport layer 6, and a cathode electrode 7. The organic EL element A1 is configured as a so-called bottom emission type organic El element that emits light from the lower surface of the substrate 1 in the figure.

基板1は、たとえばガラスからなる透明基板である。基板1は、アノード電極2、正孔注入層3、正孔輸送層4、発光層5、電子輸送層6、およびカソード電極7を支持するためのものである。   The substrate 1 is a transparent substrate made of glass, for example. The substrate 1 is for supporting the anode electrode 2, the hole injection layer 3, the hole transport layer 4, the light emitting layer 5, the electron transport layer 6, and the cathode electrode 7.

アノード電極2は、電源Pの+極に接続されており、正孔を供給するための電極である。アノード電極2は、たとえばITOからなる透明電極とされている。アノード電極2の表面は、たとえば研磨処理が施されており、比較的平坦な面とされている。   The anode electrode 2 is connected to the positive electrode of the power source P and is an electrode for supplying holes. The anode electrode 2 is a transparent electrode made of, for example, ITO. The surface of the anode electrode 2 is polished, for example, and is a relatively flat surface.

正孔注入層3は、アノード電極2から発光層5への正孔注入効率を向上させる役割を有するものである。正孔注入層3は、たとえばCuPcからなる。   The hole injection layer 3 has a role of improving the efficiency of hole injection from the anode electrode 2 to the light emitting layer 5. The hole injection layer 3 is made of CuPc, for example.

正孔輸送層4は、発光層5への正孔の移動を効率良く行うとともに、発光層5における電子と正孔との再結合効率を高める役割を有するものである。正孔輸送層4は、立体障害構造を持つ有機化合物を含んでいる。この立体障害構造を持つ有機化合物としては、たとえばフェニレンジアミン型の化合物を用いる。   The hole transport layer 4 has a role of efficiently transferring holes to the light emitting layer 5 and increasing the recombination efficiency of electrons and holes in the light emitting layer 5. The hole transport layer 4 contains an organic compound having a steric hindrance structure. As the organic compound having this steric hindrance structure, for example, a phenylenediamine type compound is used.

発光層5は、発光物質を含んでおり、アノード電極2からの正孔とカソード電極7からの電子とが再結合することにより励起子を生成する場である。上記励起子が発光層5内を移動する過程において上記発光物質が発光する。発光層5に含まれる発光物質の種類を選択することにより、赤色光、緑色光および青色光などを自発光するように構成されている。上記発光物質としては、たとえばトリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体、ビス(ベンゾキノリノラト)ベリリウム錯体、ジトルイルビニルビフェニル、トリ(ジベンゾイルメチル)フェナントロリンユーロピウム錯体(Eu(DBM)3(Phen))、およびフェニルピリジンイリジウム化合物などの蛍光またはりん光性発光物質を使用することができる。もちろん、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリアルキルチオフェン、ポリフルオレン、およびこれらの誘導体などのような高分子発光物質を用いてもよい。 The light-emitting layer 5 contains a light-emitting substance, and is a field where excitons are generated by recombination of holes from the anode electrode 2 and electrons from the cathode electrode 7. In the process in which the excitons move in the light emitting layer 5, the light emitting material emits light. By selecting the type of the luminescent material contained in the light emitting layer 5, red light, green light, blue light and the like are self-luminous. Examples of the light-emitting substance include tris (8-quinolinolato) aluminum complex, bis (benzoquinolinolato) beryllium complex, ditoluylvinylbiphenyl, tri (dibenzoylmethyl) phenanthroline europium complex (Eu (DBM) 3 (Phen)) And fluorescent or phosphorescent emissive materials such as phenylpyridine iridium compounds can be used. Of course, polymer light-emitting substances such as poly (p-phenylene vinylene), polyalkylthiophene, polyfluorene, and derivatives thereof may be used.

電子輸送層6は、発光層5への電子の移動を効率良く行うとともに、発光層5における電子と正孔との再結合効率を高める役割を有するものである。電子輸送層6を構成する材料としては、たとえばアントラキノジメタン、ジフェニルキノン、ペリレンテトラカルボン酸、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ベンズオキサゾール、およびこれらの誘導体を用いることができる。電子輸送層6上には、陰極バッファ層81が形成されている。陰極バッファ層81は、たとえばLiFからなり、電子の注入効率を高めるための層である。なお、電子輸送層6と陰極バッファ層81との間に電子注入層をさらに形成してもよい。   The electron transport layer 6 has a role of efficiently transferring electrons to the light emitting layer 5 and increasing the recombination efficiency of electrons and holes in the light emitting layer 5. As a material constituting the electron transport layer 6, for example, anthraquinodimethane, diphenylquinone, perylenetetracarboxylic acid, triazole, oxazole, oxadiazole, benzoxazole, and derivatives thereof can be used. A cathode buffer layer 81 is formed on the electron transport layer 6. The cathode buffer layer 81 is made of, for example, LiF, and is a layer for increasing electron injection efficiency. An electron injection layer may be further formed between the electron transport layer 6 and the cathode buffer layer 81.

カソード電極7は、電源Pの−極に接続されており、電子を供給するための電極である。カソード電極7は、たとえばAlからなり、比較的反射率が高い層とされている。   The cathode electrode 7 is connected to the negative pole of the power source P and is an electrode for supplying electrons. The cathode electrode 7 is made of, for example, Al and is a layer having a relatively high reflectance.

次に、有機EL素子A1の作用について説明する。   Next, the operation of the organic EL element A1 will be described.

図2は、有機EL素子A1の正孔注入層3、正孔輸送層4、および発光層5の積層部分を示している。正孔注入層3を形成するCuPcは、比較的結晶成長しやすい材質である。このため、たとえば真空蒸着法によって正孔注入層3を形成するときに、基板1の面内方向、すなわち図中左右方向においてCuPcの結晶成長の度合いが局部的にばらつく傾向がある。結晶成長の度合いがばらつくと、正孔注入層3の各部の厚さに大小が生じる。この厚さが周囲部分よりも顕著に大である部分は、図2に示す突起3aとなる。   FIG. 2 shows a stacked portion of the hole injection layer 3, the hole transport layer 4, and the light emitting layer 5 of the organic EL element A1. CuPc forming the hole injection layer 3 is a material that relatively easily grows crystals. For this reason, for example, when the hole injection layer 3 is formed by a vacuum deposition method, the degree of crystal growth of CuPc tends to vary locally in the in-plane direction of the substrate 1, that is, in the horizontal direction in the figure. When the degree of crystal growth varies, the thickness of each part of the hole injection layer 3 varies. A portion where this thickness is significantly larger than the surrounding portion becomes a protrusion 3a shown in FIG.

本実施形態においては、正孔注入層3上に形成される正孔輸送層4は、その材質がフェニレンジアミン型の化合物とされている。フェニレンジアミン型の化合物は、立体障害構造を持つ有機化合物である。このため、正孔輸送層4をたとえば真空蒸着法によって形成するときには、CuPcやNPBと比べて極端に結晶成長が進展しにくい。このような正孔輸送層4は、アモルファス状態で成膜されやすい。アモルファス状態の成膜においては、正孔輸送層4の厚さ分布が突起3aなどの正孔注入層3の形状に大きく依存される。この結果、正孔輸送層4は、正孔注入層3の形状を倣うように形成されることとなり、突起3aを完全に覆うものとなる。これにより、突起3aが発光層5内に進入することを回避することが可能であり、正孔注入層3と発光層5とが直接導通することを防止することができる。したがって、有機EL素子A1のリーク電流を抑制することが可能であり、たとえば有機EL素子A1を用いたディスプレイにおいてクロストーク発光などが生じるおそれを小さくすることができる。   In this embodiment, the hole transport layer 4 formed on the hole injection layer 3 is made of a phenylenediamine type compound. A phenylenediamine type compound is an organic compound having a steric hindrance structure. For this reason, when the hole transport layer 4 is formed by, for example, a vacuum deposition method, crystal growth is extremely difficult to progress as compared with CuPc or NPB. Such a hole transport layer 4 is easily formed in an amorphous state. In the film formation in an amorphous state, the thickness distribution of the hole transport layer 4 depends greatly on the shape of the hole injection layer 3 such as the protrusion 3a. As a result, the hole transport layer 4 is formed to follow the shape of the hole injection layer 3 and completely covers the protrusion 3a. Accordingly, it is possible to avoid the protrusion 3a from entering the light emitting layer 5, and it is possible to prevent the hole injection layer 3 and the light emitting layer 5 from being directly conducted. Therefore, it is possible to suppress the leakage current of the organic EL element A1, and for example, it is possible to reduce a possibility that crosstalk light emission or the like occurs in a display using the organic EL element A1.

以下、有機EL素子A1の実施例、およびこれの比較例を作製し、これらの素子の特性を測定した。   Hereinafter, the Example of organic EL element A1 and the comparative example of this were produced, and the characteristic of these elements was measured.

実施例1においては、以下の方法により有機EL素子A1を作製した。まず、ガラス製の基板1上に、ITOからなるアノード電極2を形成する。このアノード電極2上に、厚さ200ÅのCuPcからなる正孔注入層3を真空蒸着法により形成する。次に、正孔注入層3上に厚さ400Åのフェニレンジアミン型の化合物からなる正孔輸送層4を真空蒸着法により形成する。また、正孔輸送層4上に厚さ400Åの発光層5を真空蒸着法により形成する。さらに、発光層5上に、厚さ200Åの電子輸送層6、厚さ5Åの陰極バッファ層81を真空蒸着法により形成する。そして、厚さ1500ÅのAlからなるカソード電極7を形成する。   In Example 1, organic EL element A1 was produced by the following method. First, an anode electrode 2 made of ITO is formed on a glass substrate 1. A hole injection layer 3 made of CuPc having a thickness of 200 mm is formed on the anode electrode 2 by a vacuum deposition method. Next, a hole transport layer 4 made of a phenylenediamine type compound having a thickness of 400 mm is formed on the hole injection layer 3 by a vacuum deposition method. Further, the light emitting layer 5 having a thickness of 400 mm is formed on the hole transport layer 4 by a vacuum deposition method. Further, an electron transport layer 6 having a thickness of 200 mm and a cathode buffer layer 81 having a thickness of 5 mm are formed on the light emitting layer 5 by a vacuum deposition method. Then, a cathode electrode 7 made of Al having a thickness of 1500 mm is formed.

比較例においては、正孔輸送層4をNPBを用いて形成した点を除き、上述した実施例1と同様の方法で有機EL素子を作製した。   In the comparative example, an organic EL element was produced by the same method as in Example 1 described above except that the hole transport layer 4 was formed using NPB.

実施例1および比較例1の有機EL素子のそれぞれに、逆バイアスとなる−15Vの電圧を印加したときのリーク電流を測定した。その測定結果を、表1に示す。   A leakage current was measured when a voltage of −15 V serving as a reverse bias was applied to each of the organic EL elements of Example 1 and Comparative Example 1. The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2007242828
Figure 2007242828

表1に示すように、実施例1および比較例の有機EL素子を比較すると、比較例においては、リーク電流の大きさが−257nAであったが、実施例1においては、リーク電流が−103nAであった。実施例1によれば、上記リーク電流を比較例の半分以下とすることができた。これは、図2に示したように、正孔注入層3に生じた突起3aがフェニレンジアミン型の化合物からなる正孔輸送層4によって完全に覆われた状態とすることにより、正孔注入層3と発光層5とが直接導通することを防止したためと考えられる。また、正孔輸送層4の厚さを100〜1000Åとすれば、このようなリーク電流の抑制効果と、正孔の輸送効果とを適切に発揮させることが可能であった。   As shown in Table 1, when comparing the organic EL elements of Example 1 and the comparative example, the magnitude of the leakage current was −257 nA in the comparative example, but the leakage current was −103 nA in Example 1. Met. According to Example 1, the leak current could be reduced to half or less of the comparative example. As shown in FIG. 2, this is because the protrusion 3a generated in the hole injection layer 3 is completely covered by the hole transport layer 4 made of a phenylenediamine type compound. 3 and the light emitting layer 5 are considered to be prevented from conducting directly. In addition, when the thickness of the hole transport layer 4 is set to 100 to 1000 mm, it is possible to appropriately exhibit such a leakage current suppressing effect and a hole transport effect.

図3および図4は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。   3 and 4 show another embodiment of the present invention. In these drawings, the same or similar elements as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the above embodiment.

図3は、本発明に係る有機EL素子の第2実施形態を示している。本実施形態の有機EL素子A2は、単独の正孔輸送層を備えない点と、フィルタ82および色変換層83を備える点とが、上述した第1実施形態と異なっている。本図に示されたように、アノード電極2と発光層5との間に正孔注入層3のみが形成されている。正孔注入層3は、フェニレンジアミン型の化合物によって形成されている。本実施形態においては、正孔注入層3が、第1実施形態の正孔輸送層4の機能を兼ねる構成とされている。   FIG. 3 shows a second embodiment of the organic EL element according to the present invention. The organic EL element A2 of this embodiment is different from the first embodiment described above in that it does not include a single hole transport layer and in that it includes a filter 82 and a color conversion layer 83. As shown in this figure, only the hole injection layer 3 is formed between the anode electrode 2 and the light emitting layer 5. The hole injection layer 3 is formed of a phenylenediamine type compound. In the present embodiment, the hole injection layer 3 is configured to also function as the hole transport layer 4 of the first embodiment.

フィルタ82および色変換層83は、基板1上に積層されており、保護層84によって覆われている。色変換層83は、発光層5から発せられた光に対して波長変換を施すことにより、色調が変化された光として透過させるための層であり、一般的に有機物質からなる。たとえば、発光層5から発せられた青色光に対して波長変換を施すことにより赤色光あるいは緑色光として出射する。フィルタ82は、たとえば赤色光または緑色光などに特有の波長帯域の光を選択的に透過させることにより、これらの光の彩度を高めるための層である。   The filter 82 and the color conversion layer 83 are stacked on the substrate 1 and are covered with a protective layer 84. The color conversion layer 83 is a layer for transmitting light emitted from the light emitting layer 5 as wavelength-converted light by performing wavelength conversion, and is generally made of an organic substance. For example, the blue light emitted from the light emitting layer 5 is emitted as red light or green light by performing wavelength conversion. The filter 82 is a layer for selectively transmitting light in a wavelength band specific to red light or green light, for example, thereby increasing the saturation of these lights.

このような実施形態においては、有機物質からなる色変換層83が脆弱であるため、アノード電極2に研磨処理を施すと、保護層84を介しているにもかかわらず色変換層83が破壊されるおそれが大きい。このため、アノード電極2には研磨処理を施すことが困難である。アノード電極2を透明電極とするために採用されているITOは、比較的結晶成長しやすい。このため、上述した第1実施形態における正孔注入層3と同様に、図4に示す突起2aが形成されやすい。この突起2aが発光層5内に進入すると、リーク電流を増大させてしまう。   In such an embodiment, since the color conversion layer 83 made of an organic substance is fragile, when the polishing process is performed on the anode electrode 2, the color conversion layer 83 is destroyed even though the protective layer 84 is interposed. There is a high risk of For this reason, it is difficult to polish the anode electrode 2. ITO employed to make the anode electrode 2 a transparent electrode is relatively easy to grow crystals. Therefore, like the hole injection layer 3 in the first embodiment described above, the protrusion 2a shown in FIG. 4 is easily formed. When the protrusion 2a enters the light emitting layer 5, the leakage current increases.

本実施形態においては、アノード電極2上の正孔注入層3がフェニレンジアミン型の化合物によって形成されている。このため、正孔注入層3によって突起2aを完全に覆うことができる。したがって、アノード電極2と発光層5とが直接導通することを防止可能であり、有機EL素子A2のリーク電流を抑制することができる。   In the present embodiment, the hole injection layer 3 on the anode electrode 2 is formed of a phenylenediamine type compound. For this reason, the protrusion 2 a can be completely covered by the hole injection layer 3. Therefore, direct conduction between the anode electrode 2 and the light emitting layer 5 can be prevented, and the leakage current of the organic EL element A2 can be suppressed.

本発明に係る有機EL素子は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る有機EL素子の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。   The organic EL device according to the present invention is not limited to the above-described embodiment. The specific configuration of each part of the organic EL element according to the present invention can be varied in design in various ways.

本発明でいう立体障害構造を持つ有機化合物は、図2に示す突起3aや図4に示す突起2aを完全に覆うことが可能な程度に、アモルファス状態で成膜される材質であって、正孔の注入や輸送を促進するのに適した材質であればよい。フェニレンジアミン型の化合物は、このような材質のうち特に本発明が意図する効果を発揮させるのに好ましい材質であり、立体障害構造を持つ有機化合物としては、このほかにスピロ誘導体、オルトテトラフェニレン誘導体、およびトリフェニルアミン誘導体などがある。   The organic compound having a steric hindrance structure referred to in the present invention is a material formed in an amorphous state to such an extent that it can completely cover the protrusion 3a shown in FIG. 2 and the protrusion 2a shown in FIG. Any material suitable for facilitating the injection and transportation of holes may be used. Of these materials, the phenylenediamine type compound is a material that is particularly preferable for exhibiting the effect intended by the present invention. Other organic compounds having a steric hindrance structure include spiro derivatives and orthotetraphenylene derivatives. And triphenylamine derivatives.

本発明に係る有機EL素子の第1実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the organic EL element which concerns on this invention. 図1に示す有機EL素子の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the organic EL element shown in FIG. 本発明に係る有機EL素子の第2実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the organic EL element which concerns on this invention. 図3に示す有機EL素子の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the organic EL element shown in FIG. 従来の有機EL素子の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the conventional organic EL element. 図5に示す有機EL素子の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the organic EL element shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

A1,A2 有機EL素子
1 基板
2 アノード電極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 電子輸送層
7 カソード電極
A1, A2 Organic EL element 1 Substrate 2 Anode electrode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Electron transport layer 7 Cathode electrode

Claims (3)

互いに対向配置されたアノード電極およびカソード電極と、
上記アノード電極およびカソード電極の間に介在し、かつ有機物質からなる発光層と、
を備える有機EL素子であって、
上記アノード電極と上記発光層との間には、立体障害構造を持つ有機化合物を含む層が介在することを特徴とする、有機EL素子。
An anode electrode and a cathode electrode arranged opposite to each other;
A light-emitting layer interposed between the anode electrode and the cathode electrode and made of an organic substance;
An organic EL device comprising:
An organic EL element, wherein a layer containing an organic compound having a steric hindrance structure is interposed between the anode electrode and the light emitting layer.
上記立体障害構造を持つ有機化合物は、フェニレンジアミン型の化合物である、請求項1に記載の有機EL素子。   The organic EL device according to claim 1, wherein the organic compound having a steric hindrance structure is a phenylenediamine type compound. 上記立体障害構造を持つ有機化合物を含む層は、その厚さが100〜1000Åである、請求項1または2に記載の有機EL素子。   The organic EL device according to claim 1, wherein the layer containing the organic compound having a steric hindrance structure has a thickness of 100 to 1000 mm.
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