JP2007229793A - Laser scribing method, electrooptic device, electronic equipment - Google Patents

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豊 山崎
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真 吉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser scribing method for preventing troubles caused by a pattern burning or a pattern breakage of a substrate by suppressing the transmission of laser beams, and to provide an electrooptic device and an electronic equipment. <P>SOLUTION: The laser scribing method comprises a substrate manufacturing step (Figs. (a) and (b)) in which a first substrate 11 formed with a terminal part 11a and a second substrate 12 facing a surface of the first substrate 11 and having the terminal part 11a are arranged; a first cut-scheduled line L1 for cutting the second substrate 12 is provided; and a liquid crystal member 25b as a suppressing member for suppressing the transmission of laser beams 59 is provided between the terminal part 11a and a surface of the second substrate 12 facing the terminal part 11a at least on the first cut-scheduled line L1, and an irradiation step (Fig. (c)) of irradiating the laser beams 59 from a surface opposite to the surface of the second substrate 12 arranged opposite to the surface of the first substrate 11 having the terminal part 11a so that a condensing point P of the laser beams 59 is moved inside the second substrate 12 along the first cut-scheduled line L1. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザスクライブ方法、電気光学装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a laser scribing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

従来より、レーザ光を用いて基板を切断するレーザスクライブ方法が知られている。例えば、特許文献1に記載のレーザスクライブ方法では、切断しようとする基板の内部にレーザ光の集光点を合わせて、即ち、集光点でレーザ光のパワー密度が最大となるようにレーザ光を照射し、多光子吸収という現象を利用することにより、集光点部に改質領域を形成させる。そして、外力を加えることにより改質領域を起点にして当該基板を切断するという方法である。   Conventionally, a laser scribing method for cutting a substrate using laser light is known. For example, in the laser scribing method described in Patent Document 1, the laser beam is focused on the substrate to be cut so that the laser beam condensing point is aligned, that is, the laser beam power density is maximized at the condensing point. And a modified region is formed at the condensing point portion by utilizing the phenomenon of multiphoton absorption. Then, by applying an external force, the substrate is cut starting from the modified region.

特開2002−192371号公報JP 2002-192371 A

しかしながら、上下に貼り合わされた基板の上基板の上方から上基板の内部に集光点を設定してレーザ光を照射すると、照射されたレーザ光が、上基板を透過して下基板に形成されたパターンに到達してしまい、パターン焼けやパターン切断による電気的接続不具合を引き起こしやすくなるという問題があった。   However, when a condensing point is set from above the upper substrate to the inside of the upper substrate and irradiated with laser light, the irradiated laser light is transmitted through the upper substrate and formed on the lower substrate. However, there is a problem in that it tends to cause an electrical connection failure due to pattern burning or pattern cutting.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、レーザ光の透過を抑制し、基板のパターン焼けやパターン切断による不具合を防止することができるレーザスクライブ方法、電気光学装置及び電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a laser scribing method and an electric device capable of suppressing the transmission of laser light and preventing problems caused by pattern burning or pattern cutting of the substrate. To provide an optical device and an electronic apparatus.

上記課題を解決するために、本発明では、パターンが形成された第1基板と、パターンが形成された第1基板の面に対向して第2基板が配置され、第2基板を切断するための切断予定ラインが設けられ、少なくとも切断予定ライン上であって、パターンとパターンに対向する第2基板の面との間に、レーザ光の透過を抑制する抑制部材を備える基板製造工程と、パターンが形成された第1基板の面に対向して配置された第2基板の面の反対面から、切断予定ラインに沿って、第2基板の内部にレーザ光の集光点が移動するようにレーザ光を照射する照射工程とを有することを要旨とする。   In order to solve the above problem, in the present invention, a first substrate on which a pattern is formed, and a second substrate are disposed so as to face the surface of the first substrate on which the pattern is formed, and the second substrate is cut. A substrate manufacturing process comprising a suppression member that suppresses transmission of laser light between the pattern and the surface of the second substrate facing the pattern, at least on the planned cutting line, and a pattern The condensing point of the laser beam moves to the inside of the second substrate along the scheduled cutting line from the surface opposite to the surface of the second substrate disposed opposite to the surface of the first substrate on which is formed. And an irradiation step of irradiating with laser light.

本発明に係るレーザスクライブ方法によれば、基板製造工程では、切断予定ライン上であって、パターンとパターンに対向する第2基板の面との間に、レーザ光の透過を抑制する抑制部材が備えられる。そして、照射工程では、切断予定ラインに沿って照射されたレーザ光のうち第2基板の内部に設定された集光点を超えて、更に透過したレーザ光は、抑止部材に達する。当該抑止部材に達したレーザ光は、抑止部材によってレーザ光の透過が抑制される。従って、集光点を超えたレーザ光は、抑止部材によって進行が抑制され、抑止部材を超える個所に形成されたパターンに対して、レーザ光の強度が弱まるので、パターン焼けや切断によるパターン欠陥等の不具合を防止することができる。   According to the laser scribing method of the present invention, in the substrate manufacturing process, the suppression member that suppresses the transmission of the laser light is on the line to be cut and between the pattern and the surface of the second substrate facing the pattern. Provided. In the irradiation step, the laser light further transmitted beyond the condensing point set inside the second substrate among the laser light irradiated along the planned cutting line reaches the suppression member. The laser beam that reaches the suppression member is suppressed from being transmitted by the suppression member. Therefore, the progress of the laser light beyond the condensing point is suppressed by the suppression member, and the intensity of the laser light is weaker than the pattern formed at the location exceeding the suppression member. Can be prevented.

本発明のレーザスクライブ方法の基板製造工程では、抑止部材は、液晶材であってもよい。   In the substrate manufacturing process of the laser scribing method of the present invention, the suppressing member may be a liquid crystal material.

これによれば、液晶材によって、照射されたレーザ光の透過を抑制することができる。   According to this, the transmission of the irradiated laser light can be suppressed by the liquid crystal material.

本発明のレーザスクライブ方法の基板製造工程には、第1基板と第2基板との間に表示材料としての液晶材を塗布する液晶材塗布工程を有し、抑止部としての液晶材は、表示材料としての液晶材と同じ材料であってもよい。   The substrate manufacturing process of the laser scribing method of the present invention includes a liquid crystal material application process for applying a liquid crystal material as a display material between the first substrate and the second substrate. The same material as the liquid crystal material may be used.

これによれば、抑止部材としての液晶材は、表示材料としての液晶材と同じ材料が用いられるので、材料選定等の工数を省き、作業効率を向上させることができる。   According to this, the same material as the liquid crystal material as the display material is used as the liquid crystal material as the restraining member, so that man-hours such as material selection can be omitted and the working efficiency can be improved.

本発明のレーザスクライブ方法の液晶材塗布工程では、抑止部材としての液晶材と表示材料としての液晶材とを同時期に塗布してもよい。   In the liquid crystal material application step of the laser scribing method of the present invention, the liquid crystal material as the suppressing member and the liquid crystal material as the display material may be applied at the same time.

これによれば、前記抑止部材としての液晶材と前記表示材料としての液晶材とを同時期に設けることにより、基板の製造における作業効率を向上させることができる。   According to this, by providing the liquid crystal material as the suppressing member and the liquid crystal material as the display material at the same time, it is possible to improve the working efficiency in manufacturing the substrate.

本発明のレーザスクライブ方法の基板製造工程では、抑止部材は、スペーサ材であってもよい。   In the substrate manufacturing process of the laser scribing method of the present invention, the restraining member may be a spacer material.

これによれば、スペーサ材によって、照射されたレーザ光の透過を抑制することができるとともに、ドライ加工を行うことができる。   According to this, the spacer material can suppress the transmission of the irradiated laser beam and can perform dry processing.

本発明のレーザスクライブ方法では、抑止部としてのスペーサ材は、表示材料としての液晶材に含まれるスペーサ材と同じ材料であってもよい。   In the laser scribing method of the present invention, the spacer material as the suppressing portion may be the same material as the spacer material included in the liquid crystal material as the display material.

これによれば、抑止部材としてのスペーサ材は、表示材料としての液晶材に含まれるスペーサ材と同じ材料が用いられるので、材料選定等の工数を省き、作業効率を向上させることができる。   According to this, since the spacer material as the restraining member is the same material as the spacer material included in the liquid crystal material as the display material, man-hours such as material selection can be omitted and work efficiency can be improved.

本発明のレーザスクライブの基板製造工程では、抑止部材は、樹脂材であることを特徴とするレーザスクライブ方法。   In the laser scribe substrate manufacturing process of the present invention, the restraining member is a resin material.

これによれば、樹脂材によって、照射されたレーザ光の透過を抑制することができる。   According to this, transmission of the irradiated laser beam can be suppressed by the resin material.

本発明のレーザスクライブ方法の基板製造工程では、抑止部材は、金属材であってもよい。   In the substrate manufacturing process of the laser scribing method of the present invention, the suppression member may be a metal material.

これによれば、金属材によって、照射されたレーザ光の透過を抑制することができる。   According to this, transmission of the irradiated laser beam can be suppressed by the metal material.

本発明の電気光学装置は、上記のレーザスクライブ方法によって製造されたことを要旨とする。   The gist of the electro-optical device of the invention is that it is manufactured by the laser scribing method.

これによれば、レーザ光を照射して、第2基板の一部を切断するとき、レーザ光の照射方向に対して抑止部を超える個所にあたる第1基板に形成されたパターンの焼けや切断によるパターン欠陥等の不具合を抑えるので、信頼性の高い電気光学装置を提供することができる。   According to this, when a part of the second substrate is cut by irradiating the laser beam, the pattern formed on the first substrate corresponding to the portion exceeding the suppression portion with respect to the irradiation direction of the laser beam is burned or cut. Since defects such as pattern defects are suppressed, a highly reliable electro-optical device can be provided.

本発明の電気機器は、上記の電気光学装置を搭載したことを要旨とする。   The gist of an electrical apparatus of the present invention is that the above electro-optical device is mounted.

これによれば、信頼性の高い電子機器を提供することができる。   According to this, a highly reliable electronic device can be provided.

以下、本発明を具体化した第1及び第2実施形態について図面に従って説明する。なお、本発明の実施形態では、電気光学装置としての液晶表示パネルが形成された基板に対してレーザ光を照射してスクライブするレーザスクライブ方法と、当該レーザスクライブ方法によって製造された液晶表示パネル及び電子機器を例に説明する。   Hereinafter, first and second embodiments embodying the present invention will be described with reference to the drawings. In the embodiment of the present invention, a laser scribing method for scribing a substrate on which a liquid crystal display panel as an electro-optical device is formed is irradiated with a laser beam, a liquid crystal display panel manufactured by the laser scribing method, and An electronic device will be described as an example.

[第1実施形態]   [First embodiment]

(基板の構成)
まず、基板の構成について説明する。図1は、基板の構成を示し、図1(a)は平面図を示し、同図(b)は同図(a)のA−A線で切った概略断面図を示す。
(Substrate structure)
First, the configuration of the substrate will be described. FIG. 1 shows the structure of a substrate, FIG. 1 (a) shows a plan view, and FIG. 1 (b) shows a schematic cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 (a).

図1(a),(b)において、基板10は、ウエハ形状であり、第1基板11と第2基板12とが接着され、複数の電気光学装置としての液晶表示パネル20で構成されている。1つの液晶表示パネル20は、基板10の液晶表示パネル20の区画形成領域に設けられた切断予定ラインに沿って切断して、基板10から分割される。   1A and 1B, a substrate 10 has a wafer shape, and includes a liquid crystal display panel 20 as a plurality of electro-optical devices by bonding a first substrate 11 and a second substrate 12 together. . One liquid crystal display panel 20 is divided from the substrate 10 by cutting along a scheduled cutting line provided in a partition formation region of the liquid crystal display panel 20 of the substrate 10.

(電気光学装置の構成)
次に、電気光学装置の構成について説明する。図2は、電気光学装置としての液晶表示パネルの構成を示し、図2(a)は平面図を示し、同図(b)は同図(a)のB−B線で切った概略断面図を示す。
(Configuration of electro-optical device)
Next, the configuration of the electro-optical device will be described. 2 shows a configuration of a liquid crystal display panel as an electro-optical device, FIG. 2 (a) is a plan view, and FIG. 2 (b) is a schematic cross-sectional view taken along line BB in FIG. 2 (a). Indicates.

図2において、液晶表示パネル20は、図2(a)および(b)に示すように、TFT(Thin Film Transistor)素子23を有する第1基板11と、対向電極26を有する第2基板12と、シール材24によって接着された両基板11,12の隙間に充填された表示材料としての液晶材25とを備えている。第1基板11は第2基板12より一回り大きく額縁状に張り出した状態となっており、当該張り出した第1基板11の一方の面には、パターンとしての端子部11aが形成されている。   2, the liquid crystal display panel 20 includes a first substrate 11 having a thin film transistor (TFT) element 23 and a second substrate 12 having a counter electrode 26, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). And a liquid crystal material 25 as a display material filled in a gap between the substrates 11 and 12 bonded by the sealing material 24. The first substrate 11 is projected in a frame shape that is slightly larger than the second substrate 12, and a terminal portion 11 a as a pattern is formed on one surface of the projected first substrate 11.

第1基板11は、厚みおよそ1.2mmの石英ガラス基板を用いており、その表面には画素を構成する画素電極(図示省略)と、3端子のうちの一つが画素電極に接続されたTFT素子23が形成されている。TFT素子23の残りの2端子は、画素電極を囲んで互いに絶縁状態で格子状に配置されたデータ線(図示省略)と走査線(図示省略)とに接続されている。データ線は、Y軸方向に引き出されて端子部11aに形成されたデータ線駆動回路部29に接続されている。走査線は、X軸方向に引き出され、左右の額縁領域に形成された2つの走査線駆動回路部33に個々に接続されている。各データ線駆動回路部29および走査線駆動回路部33の入力側配線は、端子部11aに沿って配列した実装端子31にそれぞれ接続されている。端子部11aとは反対側の額縁領域には、2つの走査線駆動回路部33を繋ぐ配線32が設けられている。   The first substrate 11 uses a quartz glass substrate having a thickness of about 1.2 mm, and has a pixel electrode (not shown) constituting a pixel on its surface and a TFT in which one of the three terminals is connected to the pixel electrode. An element 23 is formed. The remaining two terminals of the TFT element 23 are connected to a data line (not shown) and a scanning line (not shown) which are arranged in a grid in a state of being insulated from each other so as to surround the pixel electrode. The data line is drawn out in the Y-axis direction and connected to a data line driving circuit unit 29 formed in the terminal unit 11a. The scanning lines are drawn in the X-axis direction and are individually connected to two scanning line driving circuit units 33 formed in the left and right frame regions. The input side wirings of the data line driving circuit unit 29 and the scanning line driving circuit unit 33 are connected to the mounting terminals 31 arranged along the terminal unit 11a. In the frame region opposite to the terminal portion 11a, a wiring 32 that connects the two scanning line driving circuit portions 33 is provided.

第2基板12は、厚みおよそ1.0mmの透明なガラス基板を用いており、共通電極としての対向電極26が設けられている。対向電極26は、第2基板12の四隅に設けられた上下導通部34を介して第1基板11側に設けられた配線と導通しており、当該配線も端子部11aに設けられた実装端子31に接続されている。   The second substrate 12 is a transparent glass substrate having a thickness of approximately 1.0 mm, and is provided with a counter electrode 26 as a common electrode. The counter electrode 26 is electrically connected to the wiring provided on the first substrate 11 side via the vertical conduction parts 34 provided at the four corners of the second substrate 12, and the wiring is also a mounting terminal provided in the terminal portion 11a. 31 is connected.

液晶材25に面する第1基板11の表面および第2基板12の表面には、それぞれ配向膜27,28が形成されている。   Alignment films 27 and 28 are formed on the surface of the first substrate 11 and the surface of the second substrate 12 facing the liquid crystal material 25, respectively.

液晶表示パネル20は、外部駆動回路と電気的に繋がる中継基板が実装端子31に接続される。そして、外部駆動回路からの入力信号が各データ線駆動回路部29および走査線駆動回路部33に入力されることにより、TFT素子23が画素電極ごとにスイッチングされ、画素電極と対向電極26との間に駆動電圧が印加されて表示が行われる。   In the liquid crystal display panel 20, a relay substrate that is electrically connected to an external drive circuit is connected to the mounting terminal 31. An input signal from the external drive circuit is input to each data line drive circuit unit 29 and the scan line drive circuit unit 33, whereby the TFT element 23 is switched for each pixel electrode, and the pixel electrode and the counter electrode 26 are switched. In the meantime, a drive voltage is applied to display.

(レーザ照射装置の構成)
次に、基板10に形成された液晶表示パネル20の区画形成領域に設けられた切断予定ラインに向けてレーザ光を照射して、当該レーザ光が照射された部分に改質層を形成するためのレーザ照射装置の構成について説明する。
(Configuration of laser irradiation device)
Next, to irradiate the laser beam toward the planned cutting line provided in the partition formation region of the liquid crystal display panel 20 formed on the substrate 10, and to form a modified layer in the portion irradiated with the laser beam. The configuration of the laser irradiation apparatus will be described.

図3は、レーザ照射装置の構成を示す模式図である。図3において、レーザ照射装置40は、パルスレーザ光を出射するレーザ光源41と、出射されたパルスレーザ光を反射するダイクロイックミラー42と、反射したパルスレーザ光を集光する集光手段としての集光レンズ43とを備えている。また、基板10を載置するステージ47と、ステージ47を集光レンズ43に対してX,Y軸方向に移動させる移動手段としてのX軸スライド部48およびY軸スライド部51とを備えている。また、ステージ47に載置された基板10に対して集光レンズ43のZ軸方向の位置を変えて、パルスレーザ光の集光点の位置を調整する調整手段としてのZ軸スライド機構54を備えている。さらに、ダイクロイックミラー42を挟んで集光レンズ43と反対側に位置する撮像装置55を備えている。   FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of the laser irradiation apparatus. In FIG. 3, a laser irradiation device 40 includes a laser light source 41 that emits a pulsed laser beam, a dichroic mirror 42 that reflects the emitted pulsed laser beam, and a collection unit that collects the reflected pulsed laser beam. And an optical lens 43. Further, a stage 47 on which the substrate 10 is placed and an X-axis slide part 48 and a Y-axis slide part 51 as moving means for moving the stage 47 in the X and Y axis directions with respect to the condenser lens 43 are provided. . Further, a Z-axis slide mechanism 54 as an adjusting means for adjusting the position of the condensing point of the pulse laser beam by changing the position of the condensing lens 43 in the Z-axis direction with respect to the substrate 10 placed on the stage 47 is provided. I have. Furthermore, an imaging device 55 is provided that is located on the opposite side of the condenser lens 43 with the dichroic mirror 42 interposed therebetween.

レーザ照射装置40は、上記各構成を制御するメインコンピュータ60を備えており、メインコンピュータ60には、CPUや各種メモリ(図示省略)の他に撮像装置55が撮像した画像情報を処理する画像処理部61を有している。撮像装置55は、同軸落射型光源とCCD(固体撮像素子)が組み込まれたものである。同軸落射型光源から出射した可視光は、集光レンズ43を透過して焦点を結ぶ。   The laser irradiation device 40 includes a main computer 60 that controls each of the above components. The main computer 60 includes image processing for processing image information captured by the imaging device 55 in addition to a CPU and various memories (not shown). A portion 61 is provided. The imaging device 55 incorporates a coaxial incident light source and a CCD (solid-state imaging device). Visible light emitted from the coaxial incident light source passes through the condenser lens 43 and is focused.

メインコンピュータ60には、レーザ加工の際に用いられる各種加工条件のデータを入力する入力部63とレーザ加工時の各種情報を表示する表示部64が接続されている。また、レーザ光源41の出力やパルス幅、パルス周期を制御するレーザ制御部66と、Z軸スライド機構54を駆動して集光レンズ43のZ軸方向の位置を制御するレンズ制御部67とが接続されている。さらに、X軸スライド部48とY軸スライド部51をそれぞれレール68,69に沿って移動させるサーボモータ(図示省略)を駆動するステージ制御部70が接続されている。   Connected to the main computer 60 are an input unit 63 for inputting data of various processing conditions used during laser processing and a display unit 64 for displaying various information during laser processing. A laser control unit 66 that controls the output, pulse width, and pulse period of the laser light source 41 and a lens control unit 67 that drives the Z-axis slide mechanism 54 to control the position of the condenser lens 43 in the Z-axis direction. It is connected. Further, a stage control unit 70 is connected to drive a servo motor (not shown) that moves the X-axis slide unit 48 and the Y-axis slide unit 51 along rails 68 and 69, respectively.

集光レンズ43をZ軸方向に移動させるZ軸スライド機構54には、移動距離を検出可能な位置センサが内蔵されており、レンズ制御部67は、この位置センサの出力を検出して集光レンズ43のZ軸方向の位置を制御可能となっている。したがって、撮像装置55の同軸落射型光源から出射した可視光の焦点が基板10の表面と合うように集光レンズ43をZ軸方向に移動させれば、基板10の厚みを計測することが可能である。   The Z-axis slide mechanism 54 that moves the condenser lens 43 in the Z-axis direction has a built-in position sensor that can detect the movement distance, and the lens control unit 67 detects the output of the position sensor and collects the light. The position of the lens 43 in the Z-axis direction can be controlled. Therefore, the thickness of the substrate 10 can be measured by moving the condenser lens 43 in the Z-axis direction so that the visible light emitted from the coaxial incident light source of the imaging device 55 is in focus with the surface of the substrate 10. It is.

レーザ光源41は、例えばチタンサファイアを固体光源とするレーザ光をフェムト秒のパルス幅で出射するいわゆるフェムト秒レーザである。この場合、パルスレーザ光は、波長分散特性を有しており、中心波長が800nmであり、その半値幅はおよそ20nmである。またパルス幅はおよそ300fs(フェムト秒)、パルス周期は1kHz、出力はおよそ700mWである。   The laser light source 41 is a so-called femtosecond laser that emits laser light using, for example, titanium sapphire as a solid light source with a pulse width of femtoseconds. In this case, the pulsed laser light has wavelength dispersion characteristics, the center wavelength is 800 nm, and the half width is about 20 nm. The pulse width is about 300 fs (femtosecond), the pulse period is 1 kHz, and the output is about 700 mW.

集光レンズ43は、この場合、倍率が100倍、開口数(NA)が0.8、WD(Working Distance)が3mmの対物レンズである。集光レンズ43はZ軸スライド機構54から延びたスライドアーム54aによって支持されている。   In this case, the condenser lens 43 is an objective lens having a magnification of 100 times, a numerical aperture (NA) of 0.8, and a WD (Working Distance) of 3 mm. The condenser lens 43 is supported by a slide arm 54 a extending from the Z-axis slide mechanism 54.

なお、本実施形態では、ステージ47は、Y軸スライド部51に支持されているが、X軸スライド部48とY軸スライド部51との位置関係を逆転させてX軸スライド部48に支持される形態としてもよい。また、ステージ47をθテーブル(図示せず)を介してY軸スライド部51に支持することが好ましい。これによれば、基板10を光軸41aに対してより垂直な状態とすることが可能である。   In this embodiment, the stage 47 is supported by the Y-axis slide unit 51, but is supported by the X-axis slide unit 48 by reversing the positional relationship between the X-axis slide unit 48 and the Y-axis slide unit 51. It is good also as a form. Moreover, it is preferable to support the stage 47 on the Y-axis slide part 51 via a θ table (not shown). According to this, it is possible to make the board | substrate 10 into a more perpendicular | vertical state with respect to the optical axis 41a.

(レーザスクライブ方法)
次に、第1実施形態に係るレーザスクライブ方法について説明する。図4は、本実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図である。
(Laser scribing method)
Next, the laser scribing method according to the first embodiment will be described. FIG. 4 is a process diagram showing the scribing method in this embodiment.

まず、基板製造工程について説明する。図4(a)の液晶塗布工程では、TFT素子23や端子部11a等が形成された第1基板の面にシール材24を形成した後、シール材24によって区画された第1,第2区画領域S1,S2のそれぞれに液晶材25(25a,25b)を塗布する。第1区画領域S1は、TFT素子23等が形成された領域であり、第2区画領域S2は、端子部11aが形成された領域である。塗布された液晶材25のうち、第1区画領域S1に塗布された液晶材25は、表示材料としての液晶材25aであり、第2区画領域S2に塗布された液晶材25は、後の工程のレーザ光の透過を抑制する抑止部材としての液晶材25bであり、液晶材25aは、少なくとも第2基板12の一部を切断するために設けられた第1切断予定ラインL1上であって、第1基板11の端子部11aと第1基板11に対向する第2基板12の面との間に塗布する。なお、液晶材25には、第1基板11と第2基板12との間のスペースを確保するためのスペーサ材が含まれていてもよい。   First, the substrate manufacturing process will be described. In the liquid crystal application step of FIG. 4A, after the sealing material 24 is formed on the surface of the first substrate on which the TFT elements 23, the terminal portions 11a, and the like are formed, the first and second sections partitioned by the sealing material 24. A liquid crystal material 25 (25a, 25b) is applied to each of the regions S1, S2. The first partition region S1 is a region where the TFT elements 23 and the like are formed, and the second partition region S2 is a region where the terminal portions 11a are formed. Of the applied liquid crystal material 25, the liquid crystal material 25 applied to the first partition region S1 is a liquid crystal material 25a as a display material, and the liquid crystal material 25 applied to the second partition region S2 is a subsequent process. Is a liquid crystal material 25b as a suppressing member that suppresses the transmission of the laser light, and the liquid crystal material 25a is on the first scheduled cutting line L1 provided for cutting at least a part of the second substrate 12, The coating is applied between the terminal portion 11 a of the first substrate 11 and the surface of the second substrate 12 facing the first substrate 11. Note that the liquid crystal material 25 may include a spacer material for securing a space between the first substrate 11 and the second substrate 12.

次に、図4(b)では、第1基板11と、対向電極26等が形成された第2基板12とをシール材24の接着力によって接着する。   Next, in FIG. 4B, the first substrate 11 and the second substrate 12 on which the counter electrode 26 and the like are formed are bonded by the adhesive force of the sealing material 24.

以上の工程を経ることにより、基板10が形成される。   Through the above steps, the substrate 10 is formed.

次に、照射工程について説明する。図4(c)の照射工程では、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第1及び第2切断予定ラインL1,L2のうち、第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射する。第1切断予定ラインL1は、第2基板12を部分的に切断するために設けられたラインであり、第1切断予定ラインL1の延長線上には第1基板11の端子部11aが形成されている。第2切断予定ラインL2は、第1及び第2基板11,12を切断して、液晶表示パネル20に分割するために設けられたラインである。   Next, the irradiation process will be described. In the irradiation step of FIG. 4C, the laser beam 59 is used along the first scheduled cutting line L1 among the first and second scheduled cutting lines L1 and L2 provided on the substrate 10 using the laser irradiation device 40. Irradiate. The first scheduled cutting line L1 is a line provided for partially cutting the second substrate 12, and the terminal portion 11a of the first substrate 11 is formed on the extended line of the first scheduled cutting line L1. Yes. The second scheduled cutting line L2 is a line provided for cutting the first and second substrates 11 and 12 and dividing them into the liquid crystal display panel 20.

レーザ光59は、第2基板12の対向電極26等が形成された面の反対面から第2基板12に向けて、第2基板12と略垂直な方向に、かつ、第1切断予定ラインL1に沿って、第2基板12の内部にレーザ光59の集光点Pが位置するように照射される。   The laser beam 59 is directed from the surface opposite to the surface on which the counter electrode 26 and the like of the second substrate 12 are formed toward the second substrate 12 in a direction substantially perpendicular to the second substrate 12 and the first scheduled cutting line L1. The laser beam 59 is irradiated so that the condensing point P of the laser beam 59 is positioned inside the second substrate 12.

そして、第1切断予定ラインL1に沿って、集光点Pをレーザ光が照射される第2基板12の面に近づく方向に位置設定し、レーザ光59を照射しながら走査する。これを複数回走査することにより、第2基板12の内部に第1切断予定ラインL1に沿った改質層Rc1が形成される。   Then, along the first scheduled cutting line L1, the condensing point P is set in a direction approaching the surface of the second substrate 12 irradiated with the laser beam, and scanning is performed while irradiating the laser beam 59. By scanning this multiple times, the modified layer Rc1 along the first cutting scheduled line L1 is formed inside the second substrate 12.

次に、図4(d)に示すように、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第2切断予定ラインL2に沿ってレーザ光59を照射する。そして、同図(c)と同様に、レーザ光59を照射しながら複数回走査により、第1及び第2基板11,12の内部に第2切断予定ラインL2に沿った改質層Rc2が形成される。   Next, as shown in FIG. 4D, the laser irradiation device 40 is used to irradiate the laser beam 59 along the second scheduled cutting line L <b> 2 provided on the substrate 10. Then, similarly to FIG. 5C, the modified layer Rc2 is formed along the second scheduled cutting line L2 in the first and second substrates 11 and 12 by scanning a plurality of times while irradiating the laser beam 59. Is done.

そして、図4(e)では、基板10に外力を与えることにより、改質層Rc1,Rc2を起点として、第1及び第2基板11,12が切断され、液晶表示パネル20が形成される。   4E, by applying an external force to the substrate 10, the first and second substrates 11 and 12 are cut from the modified layers Rc1 and Rc2, and the liquid crystal display panel 20 is formed.

(電子機器の構成)
次に、電子機器の構成について説明する。図5は、電子機器としてのプロジェクタの構成を示す斜視図である。図5において、プロジェクタ80を構成する光学系に液晶表示パネル20が搭載されている。
(Configuration of electronic equipment)
Next, the configuration of the electronic device will be described. FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a projector as an electronic apparatus. In FIG. 5, the liquid crystal display panel 20 is mounted on the optical system constituting the projector 80.

従って、上記の第1実施形態によれば、以下に示す効果がある。   Therefore, according to the first embodiment, there are the following effects.

(1)第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射したとき、集光点Pを超えて透過したレーザ光59は、第1基板11と第2基板12との間の第1切断予定ラインL1上に形成された液晶材25bによって、反射、散乱または吸収されるので、レーザ光59の透過がほぼ抑制され、端子部11aの実装端子31等への照射をほぼ抑えることができる。従って、端子部11aのパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。   (1) When the laser light 59 is irradiated along the first scheduled cutting line L1, the laser light 59 transmitted beyond the condensing point P is first cut between the first substrate 11 and the second substrate 12. Since the liquid crystal material 25b formed on the planned line L1 is reflected, scattered or absorbed, the transmission of the laser light 59 is substantially suppressed, and the irradiation of the mounting portion 31 and the like of the terminal portion 11a can be substantially suppressed. Accordingly, it is possible to reduce defects such as pattern burning and pattern defects of the terminal portion 11a.

(2)抑止部材としての液晶材25bは、表示材料としての液晶材25aと同じ材料を用いるので、材料選定等の管理を省いて、作業効率を向上させることができる。   (2) Since the liquid crystal material 25b as the suppressing member uses the same material as the liquid crystal material 25a as the display material, management such as material selection can be omitted and work efficiency can be improved.

(3)液晶材25a,25bは、液晶材塗布工程において同時期に形成されるので、作業効率を向上させることができる。   (3) Since the liquid crystal materials 25a and 25b are formed at the same time in the liquid crystal material application step, the working efficiency can be improved.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態について説明する。なお、基板の構成、電気光学装置としての液晶表示パネルの構成、レーザ照射装置の構成及び電子機器としてのプロジェクタの構成については、第1実施形態と同じなので説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described. The configuration of the substrate, the configuration of the liquid crystal display panel as the electro-optical device, the configuration of the laser irradiation device, and the configuration of the projector as the electronic apparatus are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

(レーザスクライブ方法)
図6は、本実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図である。
(Laser scribing method)
FIG. 6 is a process diagram showing the scribing method in the present embodiment.

まず、基板製造工程について説明する。図6(a)では、TFT素子23や端子部11a等が形成された第1基板の面にシール材24を形成した後、シール材24によって区画された第1,第2区画領域S1,S2のうち、第1区画領域S1に液晶材25を塗布し、第2区画領域S2には、抑止部材としてのスペーサ材90を散布する。スペーサ材90は、少なくとも第2基板12の一部を切断するために設けられた第1切断予定ラインL1上であって、第1基板11の端子部11aと第1基板11に対向する第2基板12の面との間に塗布する。スペーサ材90としては、ガラスファイバ、シリカ、プラスチック等を用いることができる。なお、スペーサ材90は、第1区画領域S1に塗布した液晶材25に含まれるスペーサ材と同じもの用いることができる。   First, the substrate manufacturing process will be described. In FIG. 6A, after the sealing material 24 is formed on the surface of the first substrate on which the TFT element 23, the terminal portion 11a and the like are formed, the first and second partitioned regions S1, S2 partitioned by the sealing material 24 are formed. Among them, the liquid crystal material 25 is applied to the first partition region S1, and the spacer material 90 as a restraining member is sprayed on the second partition region S2. The spacer material 90 is on a first scheduled cutting line L <b> 1 provided for cutting at least a part of the second substrate 12, and is opposed to the terminal portion 11 a of the first substrate 11 and the first substrate 11. It is applied between the surface of the substrate 12. As the spacer material 90, glass fiber, silica, plastic, or the like can be used. In addition, the spacer material 90 can use the same thing as the spacer material contained in the liquid crystal material 25 apply | coated to 1st division area S1.

次に、図6(b)では、第1基板11と、対向電極26等が形成された第2基板12とをシール材24の接着力によって接着する。   Next, in FIG. 6B, the first substrate 11 and the second substrate 12 on which the counter electrode 26 and the like are formed are bonded by the adhesive force of the sealing material 24.

以上の工程を経ることにより、基板10が形成される。   Through the above steps, the substrate 10 is formed.

次に、照射工程について説明する。図6(c)の照射工程では、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第1及び第2切断予定ラインL1,L2のうち、第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射する。第1切断予定ラインL1は、第2基板12を部分的に切断するために設けられたラインであり、第1切断予定ラインL1の延長線上には第1基板11の端子部11aが形成されている。第2切断予定ラインL2は、第1及び第2基板11,12を切断して、液晶表示パネル20に分割するために設けられたラインである。   Next, the irradiation process will be described. In the irradiation step of FIG. 6C, the laser beam 59 is used along the first scheduled cutting line L1 among the first and second scheduled cutting lines L1 and L2 provided on the substrate 10 using the laser irradiation device 40. Irradiate. The first scheduled cutting line L1 is a line provided for partially cutting the second substrate 12, and the terminal portion 11a of the first substrate 11 is formed on the extended line of the first scheduled cutting line L1. Yes. The second scheduled cutting line L2 is a line provided for cutting the first and second substrates 11 and 12 and dividing them into the liquid crystal display panel 20.

レーザ光59は、第2基板12の対向電極26等が形成された面の反対面から第2基板12に向けて、第2基板12と略垂直な方向に、かつ、第1切断予定ラインL1に沿って、第2基板12の内部にレーザ光59の集光点Pが位置するように照射される。   The laser beam 59 is directed from the surface opposite to the surface on which the counter electrode 26 and the like of the second substrate 12 are formed toward the second substrate 12 in a direction substantially perpendicular to the second substrate 12 and the first scheduled cutting line L1. The laser beam 59 is irradiated so that the condensing point P of the laser beam 59 is positioned inside the second substrate 12.

そして、第1切断予定ラインL1に沿って、集光点Pをレーザ光が照射される第2基板12の面に近づく方向に位置設定し、レーザ光59を照射しながら走査する。これを複数回走査することにより、第2基板12の内部に第1切断予定ラインL1に沿った改質層Rc1が形成される。   Then, along the first scheduled cutting line L1, the condensing point P is set in a direction approaching the surface of the second substrate 12 irradiated with the laser beam, and scanning is performed while irradiating the laser beam 59. By scanning this multiple times, the modified layer Rc1 along the first cutting scheduled line L1 is formed inside the second substrate 12.

次に、図6(d)に示すように、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第2切断予定ラインL2に沿ってレーザ光59を照射する。そして、同図(c)と同様に、レーザ光59を照射しながら複数回走査により、第1及び第2基板11,12の内部に第2切断予定ラインL2に沿った改質層Rc2が形成される。   Next, as shown in FIG. 6D, the laser irradiation device 40 is used to irradiate the laser beam 59 along the second scheduled cutting line L <b> 2 provided on the substrate 10. Then, similarly to FIG. 5C, the modified layer Rc2 is formed along the second scheduled cutting line L2 in the first and second substrates 11 and 12 by scanning a plurality of times while irradiating the laser beam 59. Is done.

そして、図6(e)では、基板10に外力を与えることにより、改質層Rc1,Rc2を起点として、第1及び第2基板11,12が切断され、液晶表示パネル20が形成される。   6E, by applying an external force to the substrate 10, the first and second substrates 11 and 12 are cut from the modified layers Rc1 and Rc2, and the liquid crystal display panel 20 is formed.

従って、上記の第2実施形態によれば、以下に示す効果がある。   Therefore, according to said 2nd Embodiment, there exists an effect shown below.

(1)第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射したとき、集光点Pを超えて透過したレーザ光59は、第1基板11と第2基板12との間の第1切断予定ラインL1上に形成されたスペーサ材90によって、反射、散乱または吸収されるので、レーザ光59の透過がほぼ抑制され、端子部11aの実装端子31等への照射をほぼ抑えることができる。従って、端子部11aのパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。   (1) When the laser light 59 is irradiated along the first scheduled cutting line L1, the laser light 59 transmitted beyond the condensing point P is first cut between the first substrate 11 and the second substrate 12. Since the spacer material 90 formed on the planned line L1 is reflected, scattered or absorbed, the transmission of the laser light 59 is substantially suppressed, and the irradiation of the terminal portion 11a on the mounting terminal 31 and the like can be substantially suppressed. Accordingly, it is possible to reduce defects such as pattern burning and pattern defects of the terminal portion 11a.

(2)抑止部材としてのスペーサ材90は、液晶材25に含まれるスペーサ材と同じ材料を用いるので、材料選定等の管理作業を省いて、作業効率を向上させることができる。   (2) Since the spacer material 90 as the restraining member uses the same material as the spacer material included in the liquid crystal material 25, management work such as material selection can be omitted and work efficiency can be improved.

(3)スペーサ材90は、固体物質であるため基板10を分割した際に、容易に排除することができる。   (3) Since the spacer material 90 is a solid substance, it can be easily removed when the substrate 10 is divided.

[第3実施形態]
次に、第3実施形態について説明する。なお、基板の構成、電気光学装置としての液晶表示パネルの構成、レーザ照射装置の構成及び電子機器としてのプロジェクタの構成については、第1実施形態と同じなので説明を省略する。
[Third embodiment]
Next, a third embodiment will be described. The configuration of the substrate, the configuration of the liquid crystal display panel as the electro-optical device, the configuration of the laser irradiation device, and the configuration of the projector as the electronic apparatus are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

(レーザスクライブ方法)
図7は、本実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図である。
(Laser scribing method)
FIG. 7 is a process diagram showing a scribing method in the present embodiment.

まず、基板製造工程について説明する。図7(a)では、TFT素子23や端子部11a等が形成された第1基板の面にシール材24を形成した後、シール材24によって区画された第1,第2区画領域S1,S2のうち、第1区画領域S1に液晶材25を塗布し、第2区画領域S2には、抑止部材としての樹脂材100を配置する。樹脂材100は、少なくとも第2基板12の一部を切断するために設けられた第1切断予定ラインL1上であって、第1基板11の端子部11aと第1基板11に対向する第2基板12の面との間に配置する。樹脂材100は、例えば、エポキシ樹脂や塩化ビニル樹脂等を用いることができる。また、樹脂材100の色彩は、黒色を採用することが好ましいが、半透明であってもよい。   First, the substrate manufacturing process will be described. In FIG. 7A, after the sealing material 24 is formed on the surface of the first substrate on which the TFT element 23, the terminal portion 11a, and the like are formed, the first and second partitioned regions S1, S2 partitioned by the sealing material 24 are formed. Among them, the liquid crystal material 25 is applied to the first partition region S1, and the resin material 100 as a restraining member is disposed in the second partition region S2. The resin material 100 is on the first scheduled cutting line L <b> 1 provided for cutting at least a part of the second substrate 12, and is the second portion facing the terminal portion 11 a of the first substrate 11 and the first substrate 11. It arrange | positions between the surfaces of the board | substrate 12. FIG. As the resin material 100, for example, an epoxy resin, a vinyl chloride resin, or the like can be used. Further, the color of the resin material 100 is preferably black, but may be translucent.

次に、図7(b)では、第1基板11と、対向電極26等が形成された第2基板12とをシール材24の接着力によって接着する。   Next, in FIG. 7B, the first substrate 11 and the second substrate 12 on which the counter electrode 26 and the like are formed are bonded by the adhesive force of the sealing material 24.

以上の工程を経ることにより、基板10が形成される。   Through the above steps, the substrate 10 is formed.

次に、照射工程について説明する。図7(c)の照射工程では、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第1及び第2切断予定ラインL1,L2のうち、第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射する。第1切断予定ラインL1は、第2基板12を部分的に切断するために設けられたラインであり、第1切断予定ラインL1の延長線上には第1基板11の端子部11aが形成されている。第2切断予定ラインL2は、第1及び第2基板11,12を切断して、液晶表示パネル20に分割するために設けられたラインである。   Next, the irradiation process will be described. In the irradiation step of FIG. 7C, the laser beam 59 is used along the first scheduled cutting line L1 among the first and second scheduled cutting lines L1 and L2 provided on the substrate 10 using the laser irradiation device 40. Irradiate. The first scheduled cutting line L1 is a line provided for partially cutting the second substrate 12, and the terminal portion 11a of the first substrate 11 is formed on the extended line of the first scheduled cutting line L1. Yes. The second scheduled cutting line L2 is a line provided for cutting the first and second substrates 11 and 12 and dividing them into the liquid crystal display panel 20.

レーザ光59は、第2基板12の対向電極26等が形成された面の反対面から第2基板12に向けて、第2基板12と略垂直な方向に、かつ、第1切断予定ラインL1に沿って、第2基板12の内部にレーザ光59の集光点Pが位置するように照射される。   The laser beam 59 is directed from the surface opposite to the surface on which the counter electrode 26 and the like of the second substrate 12 are formed toward the second substrate 12 in a direction substantially perpendicular to the second substrate 12 and the first scheduled cutting line L1. The laser beam 59 is irradiated so that the condensing point P of the laser beam 59 is positioned inside the second substrate 12.

そして、第1切断予定ラインL1に沿って、集光点Pをレーザ光が照射される第2基板12の面に近づく方向に位置設定し、レーザ光59を照射しながら走査する。これを複数回走査することにより、第2基板12の内部に第1切断予定ラインL1に沿った改質層Rc1が形成される。   Then, along the first scheduled cutting line L1, the condensing point P is set in a direction approaching the surface of the second substrate 12 irradiated with the laser beam, and scanning is performed while irradiating the laser beam 59. By scanning this multiple times, the modified layer Rc1 along the first cutting scheduled line L1 is formed inside the second substrate 12.

次に、図7(d)に示すように、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第2切断予定ラインL2に沿ってレーザ光59を照射する。そして、同図(c)と同様に、レーザ光59を照射しながら複数回走査により、第1及び第2基板11,12の内部に第2切断予定ラインL2に沿った改質層Rc2が形成される。   Next, as illustrated in FIG. 7D, the laser beam 59 is irradiated along the second scheduled cutting line L <b> 2 provided on the substrate 10 using the laser irradiation device 40. Then, similarly to FIG. 5C, the modified layer Rc2 is formed along the second scheduled cutting line L2 in the first and second substrates 11 and 12 by scanning a plurality of times while irradiating the laser beam 59. Is done.

そして、図7(e)では、基板10に外力を与えることにより、改質層Rc1,Rc2を起点として、第1及び第2基板11,12が切断され、液晶表示パネル20が形成される。   7E, by applying an external force to the substrate 10, the first and second substrates 11 and 12 are cut from the modified layers Rc1 and Rc2, and the liquid crystal display panel 20 is formed.

従って、上記の第3実施形態によれば、以下に示す効果がある。   Therefore, according to the third embodiment, there are the following effects.

(1)第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射したとき、集光点Pを超えて透過したレーザ光59は、第1基板11と第2基板12との間の第1切断予定ラインL1上に配置された樹脂材100によって、反射、散乱または吸収されるので、レーザ光59の透過がほぼ抑制され、端子部11aの実装端子31等への照射をほぼ抑えることができる。従って、端子部11aのパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。   (1) When the laser light 59 is irradiated along the first scheduled cutting line L1, the laser light 59 transmitted beyond the condensing point P is first cut between the first substrate 11 and the second substrate 12. Since the resin material 100 arranged on the planned line L1 is reflected, scattered or absorbed, the transmission of the laser light 59 is substantially suppressed, and the irradiation to the mounting terminal 31 of the terminal portion 11a can be substantially suppressed. Accordingly, it is possible to reduce defects such as pattern burning and pattern defects of the terminal portion 11a.

[第4実施形態]
次に、第4実施形態について説明する。なお、基板の構成、電気光学装置としての液晶表示パネルの構成、レーザ照射装置の構成及び電子機器としてのプロジェクタの構成については、第1実施形態と同じなので説明を省略する。
[Fourth embodiment]
Next, a fourth embodiment will be described. The configuration of the substrate, the configuration of the liquid crystal display panel as the electro-optical device, the configuration of the laser irradiation device, and the configuration of the projector as the electronic apparatus are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

(レーザスクライブ方法)
図8は、本実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図である。
(Laser scribing method)
FIG. 8 is a process diagram showing the scribing method in the present embodiment.

まず、基板製造工程について説明する。図8(a)では、TFT素子23や端子部11a等が形成された第1基板の面にシール材24を形成した後、シール材24によって区画された第1,第2区画領域S1,S2のうち、第1区画領域S1に液晶材25を塗布し、第2区画領域S2には、抑止部材としての金属材110を配置する。金属材110は、少なくとも第2基板12の一部を切断するために設けられた第1切断予定ラインL1上であって、第1基板11の端子部11aと第1基板11に対向する第2基板12の面との間に配置する。   First, the substrate manufacturing process will be described. In FIG. 8A, after the sealing material 24 is formed on the surface of the first substrate on which the TFT element 23, the terminal portion 11a, and the like are formed, the first and second partitioned regions S1, S2 partitioned by the sealing material 24 are used. Among them, the liquid crystal material 25 is applied to the first partition region S1, and the metal material 110 as a restraining member is disposed in the second partition region S2. The metal material 110 is on a first scheduled cutting line L1 provided for cutting at least a part of the second substrate 12 and is opposite to the terminal portion 11a of the first substrate 11 and the first substrate 11. It arrange | positions between the surfaces of the board | substrate 12. FIG.

次に、図8(b)では、第1基板11と、対向電極26等が形成された第2基板12とをシール材24の接着力によって接着する。   Next, in FIG. 8B, the first substrate 11 and the second substrate 12 on which the counter electrode 26 and the like are formed are bonded by the adhesive force of the sealing material 24.

以上の工程を経ることにより、基板10が形成される。   Through the above steps, the substrate 10 is formed.

次に、照射工程について説明する。図8(c)の照射工程では、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第1及び第2切断予定ラインL1,L2のうち、第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射する。第1切断予定ラインL1は、第2基板12を部分的に切断するために設けられたラインであり、第1切断予定ラインL1の延長線上には第1基板11の端子部11aが形成されている。第2切断予定ラインL2は、第1及び第2基板11,12を切断して、液晶表示パネル20に分割するために設けられたラインである。   Next, the irradiation process will be described. In the irradiation process of FIG. 8C, the laser beam 59 is used along the first scheduled cutting line L1 out of the first and second scheduled cutting lines L1 and L2 provided on the substrate 10 using the laser irradiation device 40. Irradiate. The first scheduled cutting line L1 is a line provided for partially cutting the second substrate 12, and the terminal portion 11a of the first substrate 11 is formed on the extended line of the first scheduled cutting line L1. Yes. The second scheduled cutting line L2 is a line provided for cutting the first and second substrates 11 and 12 and dividing them into the liquid crystal display panel 20.

レーザ光59は、第2基板12の対向電極26等が形成された面の反対面から第2基板12に向けて、第2基板12と略垂直な方向に、かつ、第1切断予定ラインL1に沿って、第2基板12の内部にレーザ光59の集光点Pが位置するように照射される。   The laser beam 59 is directed from the surface opposite to the surface on which the counter electrode 26 and the like of the second substrate 12 are formed toward the second substrate 12 in a direction substantially perpendicular to the second substrate 12 and the first scheduled cutting line L1. The laser beam 59 is irradiated so that the condensing point P of the laser beam 59 is positioned inside the second substrate 12.

そして、第1切断予定ラインL1に沿って、集光点Pをレーザ光が照射される第2基板12の面に近づく方向に位置設定し、レーザ光59を照射しながら走査する。これを複数回走査することにより、第2基板12の内部に第1切断予定ラインL1に沿った改質層Rc1が形成される。   Then, along the first scheduled cutting line L1, the condensing point P is set in a direction approaching the surface of the second substrate 12 irradiated with the laser beam, and scanning is performed while irradiating the laser beam 59. By scanning this multiple times, the modified layer Rc1 along the first cutting scheduled line L1 is formed inside the second substrate 12.

次に、図8(d)に示すように、レーザ照射装置40を用いて、基板10に設けられた第2切断予定ラインL2に沿ってレーザ光59を照射する。そして、同図(c)と同様に、レーザ光59を照射しながら複数回走査により、第1及び第2基板11,12の内部に第2切断予定ラインL2に沿った改質層Rc2が形成される。   Next, as illustrated in FIG. 8D, the laser irradiation device 40 is used to irradiate the laser beam 59 along the second scheduled cutting line L <b> 2 provided on the substrate 10. Then, similarly to FIG. 5C, the modified layer Rc2 is formed along the second scheduled cutting line L2 in the first and second substrates 11 and 12 by scanning a plurality of times while irradiating the laser beam 59. Is done.

そして、図8(e)では、基板10に外力を与えることにより、改質層Rc1,Rc2を起点として、第1及び第2基板11,12が切断され、液晶表示パネル20が形成される。   8E, by applying an external force to the substrate 10, the first and second substrates 11 and 12 are cut from the modified layers Rc1 and Rc2, and the liquid crystal display panel 20 is formed.

従って、上記の第4実施形態によれば、以下に示す効果がある。   Therefore, according to the fourth embodiment, there are the following effects.

(1)第1切断予定ラインL1に沿ってレーザ光59を照射したとき、集光点Pを超えて透過したレーザ光59は、第1基板11と第2基板12との間の第1切断予定ラインL1上に配置された金属材110によって、反射または散乱されるので、レーザ光59の透過がほぼ抑制され、端子部11aの実装端子31等への照射をほぼ抑えることができる。従って、端子部11aのパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。   (1) When the laser light 59 is irradiated along the first scheduled cutting line L1, the laser light 59 transmitted beyond the condensing point P is first cut between the first substrate 11 and the second substrate 12. Since it is reflected or scattered by the metal material 110 disposed on the planned line L1, the transmission of the laser light 59 is substantially suppressed, and the irradiation of the mounting portion 31 and the like of the terminal portion 11a can be substantially suppressed. Accordingly, it is possible to reduce defects such as pattern burning and pattern defects of the terminal portion 11a.

本発明は、上記の第1〜第4実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。   The present invention is not limited to the first to fourth embodiments described above, and the following modifications can be given.

(変形例1)第1実施形態において、第2区画領域S2いっぱいに液晶材25bを塗布したが、これに限定されず、少なくとも端子部11aを覆う程度であってもよい。このようにしても、レーザ光59による端子部11aの損傷等を防止することができる。   (Modification 1) In the first embodiment, the liquid crystal material 25b is applied to fill the second partition region S2. However, the present invention is not limited to this, and may be at least enough to cover the terminal portion 11a. Even in this case, damage or the like of the terminal portion 11a due to the laser beam 59 can be prevented.

基板の構成を示し、(a)は平面図、(b)概略断面図。The structure of a board | substrate is shown, (a) is a top view, (b) schematic sectional drawing. 電気光学装置としての液晶表示パネルの構成を示し、(a)は平面図、(b)は概略断面図。The structure of the liquid crystal display panel as an electro-optical apparatus is shown, (a) is a top view, (b) is a schematic sectional drawing. レーザ照射装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser irradiation apparatus. 第1実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図。Process drawing which shows the scribing method in 1st Embodiment. 電子機器としてのプロジェクタの構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the projector as an electronic device. 第2実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図。Process drawing which shows the scribe method in 2nd Embodiment. 第3実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図。Process drawing which shows the scribe method in 3rd Embodiment. 第4実施形態におけるスクライブ方法を示す工程図。Process drawing which shows the scribe method in 4th Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10…基板、11…第1基板、11a…パターンとしての端子部、12…第2基板、24…シール材、25…液晶材、25a…表示材料としての液晶材、25b…抑止部材としての液晶材、31…実装端子、40…レーザ照射装置、59…レーザ光、80…プロジェクタ、90…抑止部材としてのスペーサ材、100…抑止部材としての樹脂材、110…抑止部材としての金属材、S1…第1区画領域、S2…第2区画領域、L1…第1切断予定ライン、L2…第2切断予定ライン、P…集光点、Rc1,Rc2…改質層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Board | substrate, 11 ... 1st board | substrate, 11a ... Terminal part as a pattern, 12 ... 2nd board | substrate, 24 ... Sealing material, 25 ... Liquid crystal material, 25a ... Liquid crystal material as a display material, 25b ... Liquid crystal as a suppression member 31 ... Mounting terminal, 40 ... Laser irradiation device, 59 ... Laser light, 80 ... Projector, 90 ... Spacer material as deterrence member, 100 ... Resin material as deterrence member, 110 ... Metal material as deterrence member, S1 ... 1st division area, S2 ... 2nd division area, L1 ... 1st scheduled cutting line, L2 ... 2nd scheduled cutting line, P ... Condensing point, Rc1, Rc2 ... Modified layer.

Claims (10)

パターンが形成された第1基板と、前記パターンが形成された前記第1基板の面に対向して第2基板が配置され、前記第2基板を切断するための切断予定ラインが設けられ、少なくとも前記切断予定ライン上であって、前記パターンと前記パターンに対向する前記第2基板の面との間に、レーザ光の透過を抑制する抑制部材を備える基板製造工程と、
前記パターンが形成された前記第1基板の面に対向して配置された前記第2基板の面の反対面から、前記切断予定ラインに沿って、前記第2基板の内部にレーザ光の集光点が移動するように前記レーザ光を照射する照射工程と、を有することを特徴とするレーザスクライブ方法。
A first substrate on which a pattern is formed, a second substrate is disposed opposite to the surface of the first substrate on which the pattern is formed, and a cutting line for cutting the second substrate is provided, and at least A substrate manufacturing process comprising a suppression member that suppresses transmission of laser light between the pattern and the surface of the second substrate facing the pattern on the planned cutting line;
Condensing laser light into the second substrate from the surface opposite to the surface of the second substrate disposed opposite to the surface of the first substrate on which the pattern is formed, along the planned cutting line. And an irradiation step of irradiating the laser beam so that the point moves.
請求項1に記載のレーザスクライブ方法において、
前記基板製造工程では、前記抑止部材は、液晶材であることを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 1, wherein
In the substrate manufacturing process, the restraining member is a liquid crystal material.
請求項2に記載のレーザスクライブ方法において、
前記基板製造工程は、前記第1基板と前記第2基板との間に表示材料としての液晶材を塗布する液晶材塗布工程を有し、
前記抑止部としての液晶材は、前記表示材料としての液晶材と同じ材料であることを特徴とするレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 2, wherein
The substrate manufacturing step includes a liquid crystal material application step of applying a liquid crystal material as a display material between the first substrate and the second substrate,
The laser scribing method, wherein the liquid crystal material as the suppression unit is the same material as the liquid crystal material as the display material.
請求項2または3に記載のレーザスクライブ方法において、
前記液晶材塗布工程では、前記抑止部材としての液晶材と前記表示材料としての液晶材とを同時期に塗布することを特徴とするレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 2 or 3,
In the liquid crystal material application step, a liquid crystal material as the suppressing member and a liquid crystal material as the display material are applied at the same time.
請求項1に記載のレーザスクライブ方法において、
前記基板製造工程では、前記抑止部材は、スペーサ材であることを特徴とするレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 1, wherein
In the substrate manufacturing process, the restraining member is a spacer material.
請求項1〜5のいずれか一項に記載のレーザスクライブ方法において、
前記抑止部としてのスペーサ材は、前記表示材料としての液晶材に含まれるスペーサ材と同じ材料であることを特徴とするレーザスクライブ方法。
In the laser scribing method according to any one of claims 1 to 5,
The laser scribing method, wherein the spacer material as the restraining portion is the same material as the spacer material included in the liquid crystal material as the display material.
請求項1に記載のレーザスクライブ方法において、
前記基板製造工程では、前記抑止部材は、樹脂材であることを特徴とするレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 1, wherein
In the substrate manufacturing process, the restraining member is a resin material.
請求項1に記載のレーザスクライブ方法において、
前記基板製造工程では、抑止部材は、金属材であることを特徴とするレーザスクライブ方法。
The laser scribing method according to claim 1, wherein
In the substrate manufacturing process, the restraining member is a metal material.
請求項1〜8のいずれか一項に記載のレーザスクライブ方法によって製造された電気光学装置。   An electro-optical device manufactured by the laser scribing method according to claim 1. 請求項9に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 9.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009086092A (en) * 2007-09-28 2009-04-23 Aji Kk Method of manufacturing optical component and method of manufacturing photographing device
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JP2014091660A (en) * 2012-11-06 2014-05-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Method of cutting glass film laminate

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