JP2007229635A - Coating liquid supply apparatus - Google Patents

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伸彦 村井
Toyoji Terada
豊治 寺田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent occurrence of foamed, solidified and gelated coating liquid when the coating liquid is supplied by a pump after temporarily stored. <P>SOLUTION: A coating liquid temporarily storing tank 41 for temporarily storing the coating liquid and forcibly feeding it to a coating apparatus includes cylindrical parts 41a, 41b having different inner diameters and integrally formed in a vertical direction, a coating liquid discharge hole 412a provided downward at the center of the lowermost part and a coating liquid flow-in hole 411a provided at the side surface lowermost part of the upper stage cylindrical part 41a. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶カラーフィルター製造工程の塗布装置等の枚葉体塗布装置、連続フィルム用コータ、その他の塗布装置に対して塗布液を供給するための塗布液供給装置に関するものである。   The present invention relates to a coating liquid supply apparatus for supplying a coating liquid to a single-wafer coating apparatus such as a coating apparatus in a liquid crystal color filter manufacturing process, a coater for continuous film, and other coating apparatuses.

従来から、塗布装置においては、塗布液の塗布装置に対する安定的供給を行う為に、塗布装置手前にバッファタンクを設け、塗布液供給装置から送液された塗布液をバッファタンクに一時的に貯留して塗布液中の気泡等を除去し、その後、塗布装置に対し塗布液を供給する方法が採られていた（特許文献１参照）。このバッファタンクとしては、塗布液の流出口、および流入口を持った円筒状の容器を使用していた。   Conventionally, in a coating apparatus, a buffer tank is provided in front of the coating apparatus to stably supply the coating liquid to the coating apparatus, and the coating liquid sent from the coating liquid supply apparatus is temporarily stored in the buffer tank. Then, a method of removing bubbles and the like in the coating liquid and then supplying the coating liquid to the coating apparatus has been employed (see Patent Document 1). As the buffer tank, a cylindrical container having a coating solution outlet and an inlet was used.

ここで、流入口は、円筒状の容器の上部であって、バッファタンク内の液面よりも上部に設置されたもの、またはバッファタンクの上部に設置され、そこから配管によって液面下へ導くものであり、
また、流出口は、円筒状の容器の下部に設置されたもの、または円筒状の容器の上部に設置され、そこからタンク底面へ配管し液面下へ導くものであり、
これらを組み合わせてバッファタンクの形状が決定されていた。 Here, the inflow port is the upper part of the cylindrical container, which is installed above the liquid level in the buffer tank, or is installed at the upper part of the buffer tank, from which it is led below the liquid level by piping. Is,
The outlet is installed at the lower part of the cylindrical container, or installed at the upper part of the cylindrical container, from which the pipe is led to the bottom of the tank and led below the liquid level.
The shape of the buffer tank was determined by combining these.

このバッファタンク内を用いることにより、流入時に塗布液に含まれていた気泡は液面へ浮上することを利用して、塗布液中の気泡を除去することができる。   By using the inside of the buffer tank, the bubbles contained in the coating liquid at the time of inflow can be removed by utilizing the fact that the bubbles float to the liquid surface.

図４は従来の塗布液供給装置に含まれるバッファタンクを示す概略平面図、図５は同概略縦断面図である。   FIG. 4 is a schematic plan view showing a buffer tank included in a conventional coating liquid supply apparatus, and FIG. 5 is a schematic vertical sectional view of the same.

このバッファタンク４１は、円筒状の主体部の下部を、下方が漸縮する形状に形成してある。そして、上部の側壁に流入孔４１１をバッファタンク４１の中心に向くように設け、下部中央に流出孔４１２を設けている。また、流入孔４１１よりもやや下方に液面センサー４１３を設けている。   The buffer tank 41 is formed such that the lower part of the cylindrical main body is gradually contracted downward. An inflow hole 411 is provided in the upper side wall so as to face the center of the buffer tank 41, and an outflow hole 412 is provided in the lower center. Further, a liquid level sensor 413 is provided slightly below the inflow hole 411.

この構成の塗布液供給装置では、塗布液は塗布液供給缶（図示せず）から圧縮空気等によって流入孔４１１を通してバッファタンク４１内へ供給される。そして、バッファタンク４１内の塗布液は図示しない機構により液面に不活性ガス（例えばＮ２）で圧力を加えることで流出孔４１２から吐出され、図示しないポンプに供給される。このポンプが、塗布液を図示しない塗布装置に供給する。 In the coating liquid supply apparatus having this configuration, the coating liquid is supplied from the coating liquid supply can (not shown) into the buffer tank 41 through the inflow hole 411 by compressed air or the like. Then, the coating liquid in the buffer tank 41 is discharged from the outflow hole 412 by applying pressure to the liquid surface with an inert gas (for example, N 2 ) by a mechanism (not shown) and supplied to a pump (not shown). This pump supplies the coating liquid to a coating apparatus (not shown).

また、液面センサー４１３によりバッファタンク４１内の塗布液量の減少が検知されると、図示しない制御装置から塗布液補給信号を出し、塗布液供給缶からバッファタンク４１へ塗布液を供給させる。
特許第３４１４５７２号公報 When the liquid level sensor 413 detects a decrease in the amount of the coating liquid in the buffer tank 41, a coating liquid replenishment signal is issued from a control device (not shown), and the coating liquid is supplied from the coating liquid supply can to the buffer tank 41.
Japanese Patent No. 3414572

上記した従来の塗布液供給装置では、バッファタンク内に塗布液を供給する際に、バッファタンク内の液面を流動させることで、気泡が発生する。また、バッファタンクへの供給時に塗布液に既に気泡が混入していた場合、それが流出口近くまで流れ込みそのままバッファタンク外へ送出されてしまう。従来のバッファタンクでこれを防ぐためにはタンク容積を大きくしなくてはならず、無駄に液を浪費してしまう。さらに、従来のバッファタンクでは塗布液の滞留部ができてしまい、これが塗布液の固化、ゲル化を促進させてしまう。そして、塗布液に含まれる気泡、または固化、ゲル化した塗布液は塗布品質を著しく低下させることになるという問題があった。
また、図４、図５のバッファタンクでは、以下の２つの問題がある。 In the conventional coating liquid supply apparatus described above, when supplying the coating liquid into the buffer tank, bubbles are generated by flowing the liquid surface in the buffer tank. In addition, when bubbles are already mixed in the coating liquid when supplied to the buffer tank, it flows into the vicinity of the outlet and is sent out of the buffer tank as it is. In order to prevent this in the conventional buffer tank, the tank volume must be increased, and the liquid is wasted. Furthermore, in the conventional buffer tank, a staying portion of the coating liquid is formed, which promotes solidification and gelation of the coating liquid. And the bubble contained in a coating liquid, or the coating liquid which solidified and gelatinized had the problem that coating quality will fall remarkably.
Further, the buffer tanks of FIGS. 4 and 5 have the following two problems.

第１に、塗布液の中には一般的に言ってガスが溶け込んでいる場合が多く、配管内では圧力により気泡になることが阻止されていても、バッファタンクに流入すると同時に圧力差により気泡となってしまう可能性がある。この場合には、図４のように流入孔がバッファタンクの中心を向いているので気泡を含んだままの塗布液をポンプに送り出す可能性が高くなる。この先の流路にフィルター等を設置することが考えられるが、最終的に塗布不良を引き起こす可能性は高くなるだけでなく、フィルターの交換という追加作業が必要になる。   First, gas generally dissolves in the coating solution in general, and even if it is prevented from forming bubbles in the piping due to pressure, it will flow into the buffer tank at the same time due to pressure difference. There is a possibility of becoming. In this case, since the inflow hole faces the center of the buffer tank as shown in FIG. 4, there is a high possibility that the coating liquid containing bubbles is sent out to the pump. Although it is conceivable to install a filter or the like in the flow path ahead, not only will the possibility of causing poor coating eventually increase, but an additional work of replacing the filter will be required.

第２に、流入孔がバッファタンクの中心を向いているので、両サイドに液の流れが悪くなる箇所が発生し易く、滞留した塗布液は自然に凝固し、いわゆるゲルを発生する可能性が生じる。発生したゲルはバッファタンクの底部に溜まり、やがて流出孔を通してポンプへ押し流されることになる。ゲルはフィルターで除去可能ではあるが、フィルターの寿命を短くし、場合によってはすり抜けて塗布品質に問題を生じる可能性もある。   Secondly, since the inflow hole faces the center of the buffer tank, there is a possibility that a portion where the flow of the liquid deteriorates is likely to occur on both sides, and the staying coating liquid naturally solidifies to generate a so-called gel. Arise. The generated gel accumulates at the bottom of the buffer tank and eventually is pushed away to the pump through the outflow hole. Gels can be removed with a filter, but they can shorten the life of the filter and, in some cases, slip through and cause problems with coating quality.

本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、気泡、および固化、ゲル化した塗布液の発生を防止することができる塗布液供給装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a coating liquid supply apparatus that can prevent generation of bubbles, solidified and gelled coating liquid.

上記の目的を達成するための、請求項１の塗布液供給装置は、塗布液を枚葉体又は連続フィルムに塗布して塗布液膜を形成する塗布装置に対して塗布液を供給するためのものであって、塗布液を一時的に貯留し、塗布装置に圧送する塗布液一時貯留タンクを含み、該塗布液一時貯留タンクは、互いに内径が異なり、かつ上下方向に一体的に形成された円筒形部分と、最下部中央に下向きに設けられた塗布液吐出孔と、上段の円筒形部分の側面最下部に設けられた塗布液流入孔とを含むものである。   In order to achieve the above object, a coating liquid supply apparatus according to claim 1 is for supplying a coating liquid to a coating apparatus that forms a coating liquid film by coating the coating liquid on a single wafer or a continuous film. A coating liquid temporary storage tank that temporarily stores the coating liquid and pumps the coating liquid to a coating apparatus, and the coating liquid temporary storage tanks have different inner diameters and are integrally formed in the vertical direction. It includes a cylindrical part, a coating liquid discharge hole provided downward in the center of the lowermost part, and a coating liquid inflow hole provided in the lowermost part of the side surface of the upper cylindrical part.

この場合において、上段の円筒形部分の内径が下段の円筒形部分の内径より大きく、かつ上段の円筒形部分と下段の円筒形部分との境界位置が、塗布液一時貯留タンクの最下部から液面上限までの高さの略１／２であることが好ましい。   In this case, the inner diameter of the upper cylindrical portion is larger than the inner diameter of the lower cylindrical portion, and the boundary position between the upper cylindrical portion and the lower cylindrical portion is from the lowest part of the coating liquid temporary storage tank. It is preferable that the height is approximately ½ of the height to the upper limit of the surface.

この場合において、下段の円筒形部分の内径が上段の円筒形部分の内径の約５０〜７０％であり、上段の円筒形部分の最下部に、少なくとも塗布液流入孔の内径と等しい幅の水平部を有していることが好ましい。   In this case, the inner diameter of the lower cylindrical portion is about 50 to 70% of the inner diameter of the upper cylindrical portion, and at the bottom of the upper cylindrical portion, a horizontal line having a width equal to at least the inner diameter of the coating liquid inflow hole. It is preferable to have a part.

また、前記塗布液流入孔が、上段の円筒形部分に対して接線方向に塗布液を流入させるものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said coating liquid inflow hole is what makes a coating liquid flow in a tangential direction with respect to the upper cylindrical part.

また、塗布液の液面が塗布液流入孔よりも上方に位置するように塗布液の液面を制御する液面制御装置をさらに含むことが好ましい。   Moreover, it is preferable to further include a liquid level control device for controlling the liquid level of the coating liquid so that the liquid level of the coating liquid is positioned above the coating liquid inflow hole.

請求項１の塗布液供給装置によれば、塗布液流入孔を塗布液吐出孔から十分に離れた位置に設け、しかも、互いに内径が異なり、かつ上下方向に一体的に形成された円筒形部分を有しているので、気泡等を含む塗布液が直接に塗布液吐出孔に導かれるという不都合を防止することができる。   According to the coating liquid supply apparatus of claim 1, the cylindrical portion formed by providing the coating liquid inflow hole at a position sufficiently separated from the coating liquid discharge hole and having different inner diameters and being integrally formed in the vertical direction. Therefore, it is possible to prevent the problem that the coating liquid containing bubbles or the like is directly guided to the coating liquid discharge hole.

そして、上段の円筒形部分の内径が下段の円筒形部分の内径より大きく、かつ上段の円筒形部分と下段の円筒形部分との境界位置が、塗布液一時貯留タンクの最下部から液面上限までの高さの略１／２である場合には、気泡等を含む塗布液が直接に塗布液吐出孔に導かれるという不都合を確実に防止することができる。この場合において、下段の円筒形部分の内径が上段の円筒形部分の内径の約５０〜７０％であり、上段の円筒形部分の最下部に、少なくとも塗布液流入孔の内径と等しい幅の水平部を有していれば、流入した塗布液が直接に下段の円筒形部分に導かれることを確実に防止することができる。   The inner diameter of the upper cylindrical portion is larger than the inner diameter of the lower cylindrical portion, and the boundary position between the upper cylindrical portion and the lower cylindrical portion is the upper limit of the liquid level from the lowermost part of the coating liquid temporary storage tank. When the height is approximately ½ of the height, it is possible to reliably prevent the inconvenience that the coating liquid containing bubbles or the like is directly guided to the coating liquid discharge hole. In this case, the inner diameter of the lower cylindrical portion is about 50 to 70% of the inner diameter of the upper cylindrical portion, and at the bottom of the upper cylindrical portion, a horizontal line having a width equal to at least the inner diameter of the coating liquid inflow hole. If it has a part, it can prevent reliably that the coating liquid which flowed in is guide | induced to the cylindrical part of a lower stage directly.

また、前記塗布液流入孔が、上段の円筒形部分に対して接線方向に塗布液を流入させるものである場合には、塗布液一時貯留タンク内に流入する塗布液に旋回流を発生させ、塗布液一時貯留タンク内の塗布液の滞留を解消するとともに塗布液を攪拌することができ、塗布液の固化、ゲル化を未然に防止することができる。   Further, in the case where the coating liquid inflow hole is intended to flow the coating liquid in a tangential direction with respect to the upper cylindrical portion, a swirling flow is generated in the coating liquid flowing into the coating liquid temporary storage tank, The stagnation of the coating liquid in the coating liquid temporary storage tank can be eliminated and the coating liquid can be agitated, so that solidification and gelation of the coating liquid can be prevented.

また、塗布液の液面が塗布液流入孔よりも上方に位置するように塗布液の液面を制御する液面制御装置をさらに含む場合には、流入する塗布液が塗布液一時貯留タンク内の塗布液の液面をたたき、気泡等が発生するという不都合の発生を防止することができる。そして、不都合を生じさせることなく、塗布液一時貯留タンクを小型化することができ、塗布液供給装置のコストを抑えることができる。   When the liquid level controller further controls the liquid level of the coating liquid so that the liquid level of the coating liquid is located above the coating liquid inflow hole, the inflowing coating liquid is stored in the coating liquid temporary storage tank. It is possible to prevent the occurrence of inconvenience that the liquid surface of the coating liquid is hit and bubbles are generated. Then, the application liquid temporary storage tank can be reduced in size without causing inconvenience, and the cost of the application liquid supply device can be suppressed.

以下、添付図面を参照して、本発明の塗布液供給装置の実施の形態を詳細に説明する。   Embodiments of a coating liquid supply apparatus of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

図１は、本発明の塗布液供給装置を組み込んだ液晶用ガラス基板塗布装置を示す概略図である。   FIG. 1 is a schematic view showing a liquid crystal glass substrate coating apparatus incorporating the coating liquid supply apparatus of the present invention.

液晶用ガラス基板塗布装置には、薄膜トランジスタ｛Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ（ＴＦＴ）｝を形成するための塗布装置とカラーフィルターを形成するための塗布装置が存在するが、本発明の塗布液供給装置はそのどちらにも実施できるため、図１の装置は特に用途を特定しない状態で示されている。   The liquid crystal glass substrate coating apparatus includes a coating apparatus for forming a thin film transistor {Thin Film Transistor (TFT)} and a coating apparatus for forming a color filter. Therefore, the apparatus of FIG. 1 is shown in a state that does not particularly specify an application.

図１に示す液晶用ガラス基板塗布装置１は、装置ベース２、制御装置３、塗布液一時貯留タンク４１、基板保持用ステージ５、塗布液吐出装置６、駆動装置７１、７２、塗布液移送ポンプ８、真空ポンプ９、塗布液供給缶１０、第１開閉バルブ１１および第２開閉バルブ１２などから構成され、塗布装置１の横側（図１において液晶用ガラス基板塗布装置１の左側または右側）に配設された図示しない搬送用ロボットから受け取ったガラス基板３１に対してレジスト液などの塗布液を塗布する。   A liquid crystal glass substrate coating apparatus 1 shown in FIG. 1 includes an apparatus base 2, a control apparatus 3, a coating liquid temporary storage tank 41, a substrate holding stage 5, a coating liquid discharge apparatus 6, driving apparatuses 71 and 72, and a coating liquid transfer pump. 8, a vacuum pump 9, a coating liquid supply can 10, a first on-off valve 11 and a second on-off valve 12, and the like, on the lateral side of the coating apparatus 1 (left side or right side of the liquid crystal glass substrate coating apparatus 1 in FIG. 1). A coating solution such as a resist solution is applied to the glass substrate 31 received from a transfer robot (not shown) disposed in the screen.

装置ベース２は、液晶用ガラス基板塗布装置１の各構成部を支える台座として機能するものである。   The apparatus base 2 functions as a pedestal that supports each component of the glass substrate coating apparatus 1 for liquid crystal.

制御装置３は、液晶用ガラス基板塗布装置１が所定の塗布動作を行うように、液晶用ガラス基板塗布装置１における各構成部の動作を、予め組み込まれたプログラムにより制御可能とするものである。   The control device 3 enables the operation of each component in the liquid crystal glass substrate coating apparatus 1 to be controlled by a preinstalled program so that the liquid crystal glass substrate coating apparatus 1 performs a predetermined coating operation. .

塗布液一時貯留タンク４１は、所定量の塗布液（例えば、複数枚のガラス基板３１に塗布することができる量の塗布液）を一時的に貯留するための槽であり、配管を介してそれぞれ塗布液供給缶１０、エア抜きバルブ（図示せず）及び第１開閉バルブ１１に接続される。   The application liquid temporary storage tank 41 is a tank for temporarily storing a predetermined amount of application liquid (for example, an amount of application liquid that can be applied to a plurality of glass substrates 31), and is respectively provided via a pipe. The coating liquid supply can 10 is connected to an air vent valve (not shown) and a first opening / closing valve 11.

基板保持用ステージ５は、塗布対象となるガラス基板３１を、十分な平面度を確保して載置可能な載置面を有するものであり、十分な精度および剛性を維持するために、グラナイトで構成されている。そして、その表面にはガラス基板３１を吸着保持するための多数の小径貫通孔が穿設されていると共に、ガラス基板３１の受取り時または引渡し時に該ガラス基板３１を昇降させるための複数本のリフトピンが表面から出没可能に設けられている。また、ガラス基板３１を位置合わせするためのアラインメント装置（図示せず）が設けられている。   The substrate holding stage 5 has a mounting surface on which the glass substrate 31 to be coated can be mounted with sufficient flatness, and is made of granite in order to maintain sufficient accuracy and rigidity. It is configured. The surface has a plurality of small-diameter through holes for adsorbing and holding the glass substrate 31 and a plurality of lift pins for raising and lowering the glass substrate 31 when the glass substrate 31 is received or delivered. Is provided so that it can appear and disappear from the surface. Further, an alignment device (not shown) for aligning the glass substrate 31 is provided.

塗布液吐出装置６は、長手方向に、塗布液を滲出させるためのスリット状吐出手段（以後口金と称す）６２１を保持し両端の走行装置６１によりガントリを成し、駆動装置７１により図中Ｘ方向に口金６２１を移動可能であるとともに、駆動装置７２により図中Ｚ方向に口金６２１を移動可能である。駆動装置７１は図１の例ではリニアモータであるが、ボールねじ駆動のものにすることも可能である。   The coating liquid discharge device 6 holds a slit-like discharge means (hereinafter referred to as a base) 621 for exuding the coating liquid in the longitudinal direction, forms a gantry with the traveling devices 61 at both ends, and a driving device 71 in the figure X The base 621 can be moved in the direction, and the base 621 can be moved in the Z direction in the figure by the driving device 72. The drive device 71 is a linear motor in the example of FIG. 1, but it can also be a ball screw drive type.

駆動装置７１、７２は、塗布液吐出装置６を図中Ｘ、Ｚのそれぞれの方向に直線駆動可能とするものである。   The driving devices 71 and 72 enable the coating liquid discharge device 6 to be linearly driven in the X and Z directions in the drawing.

塗布液移送ポンプ８は、図示しないシリンダ、プランジャ、膜状封止部材及び真空ポンプ９と接続されるプランジャ駆動部を備え、立設した状態、すなわちシリンダの軸線を鉛直軸に平行にした状態で使用される。そして、第１開閉バルブ１１、および第２開閉バルブ１２と接続されている。   The coating liquid transfer pump 8 includes a plunger driving unit connected to a cylinder, a plunger, a film-shaped sealing member, and a vacuum pump 9 (not shown), and stands upright, that is, in a state where the axis of the cylinder is parallel to the vertical axis. used. The first on-off valve 11 and the second on-off valve 12 are connected.

塗布液供給缶１０は、剛性材料で製造された外ケースと、可撓性材料で製造された内袋とを含み、外ケースと内袋との間隙に圧縮空気を供給することにより、内袋に封入された塗布液を導出することができる。   The coating liquid supply can 10 includes an outer case made of a rigid material and an inner bag made of a flexible material. By supplying compressed air to the gap between the outer case and the inner bag, the inner bag The coating liquid enclosed in the can be derived.

圧力センサー４２は、塗布液供給缶１０と塗布液一時貯留タンク４１とを接続する配管４３の所定位置に設けられている。   The pressure sensor 42 is provided at a predetermined position of a pipe 43 that connects the coating solution supply can 10 and the coating solution temporary storage tank 41.

次いで、上記の構成の液晶用ガラス基板塗布装置１の動作を説明する。   Next, the operation of the glass substrate coating apparatus 1 having the above configuration will be described.

ガラス基板３１は図示しない搬送用ロボットにより搬送され、図示しない上下動可能なリフトピンにより搬送用ロボットから受け取られ、基板保持用ステージ５に設置される。   The glass substrate 31 is transferred by a transfer robot (not shown), is received from the transfer robot by a lift pin (not shown) that can move up and down, and is placed on the substrate holding stage 5.

基板保持用ステージ上のガラス基板３１は図示しないアライメント装置により位置合せされ、基板保持用ステージ５下部からこれも図示しない吸着装置により小径貫通孔を通して真空吸着することにより基板保持用ステージ５上に固定される。   The glass substrate 31 on the substrate holding stage is aligned by an alignment device (not shown), and fixed on the substrate holding stage 5 by vacuum suction from the lower portion of the substrate holding stage 5 through a small-diameter through hole by an adsorption device (not shown). Is done.

次に塗布液供給缶１０からの塗布液は、外ケースと内袋との間隙に圧縮空気を供給することにより導出路、および配管４３を経て塗布液一時貯留タンク４１に送られる。塗布液は一旦塗布液一時貯留タンク４１に貯留された後、塗布液移送ポンプ８に送られる。   Next, the coating liquid from the coating liquid supply can 10 is sent to the coating liquid temporary storage tank 41 through the outlet path and the piping 43 by supplying compressed air to the gap between the outer case and the inner bag. The coating solution is once stored in the coating solution temporary storage tank 41 and then sent to the coating solution transfer pump 8.

塗布液吐出装置６は長手方向に口金６２１を保持し、両端の走行装置によりガントリを成し、駆動装置７１により図１中Ｘ方向に移動される。また、駆動装置７２により図１中Ｚ方向に移動される。   The coating liquid discharge device 6 holds the base 621 in the longitudinal direction, forms a gantry with traveling devices at both ends, and is moved in the X direction in FIG. Further, it is moved in the Z direction in FIG.

具体的には、例えば、基板保持用ステージ５にガラス基板３１が固定されると、塗布液吐出装置６は（図１中の２基の塗布液吐出装置６の内どちらを使用するかによって）図１中Ｘ１方向またはＸ２方向に移動し、一旦ガラス基板３１の端面近傍で停止し、駆動装置７２により口金６２１を移動させることによりガラス基板３１に接近させてプリ吐出を行い、塗布液ビードをガラス基板３１上に形成してから改めて移動を再開し、ガラス基板３１に塗布液を塗布して塗膜を形成する。   Specifically, for example, when the glass substrate 31 is fixed to the substrate holding stage 5, the coating liquid discharge device 6 (depending on which of the two coating liquid discharge devices 6 in FIG. 1 is used). In FIG. 1, it moves in the X1 direction or the X2 direction, once stops near the end surface of the glass substrate 31, and moves the base 621 by the driving device 72 so as to approach the glass substrate 31 and perform pre-discharge, thereby applying the coating liquid bead. After being formed on the glass substrate 31, the movement is restarted, and a coating solution is applied to the glass substrate 31 to form a coating film.

塗布終了後は、駆動装置７２により口金６２１をガラス基板３１から離れた退避位置に移動させ、駆動装置７１により塗布液吐出装置６を塗布方向と逆方向に移動させ、ガラス基板３１に対する塗布液の塗布を終了する。   After the application is completed, the base 621 is moved to the retracted position away from the glass substrate 31 by the driving device 72, the coating liquid discharge device 6 is moved in the direction opposite to the coating direction by the driving device 71, and the coating liquid is applied to the glass substrate 31. Finish application.

その後、塗布液吐出装置６は口金６２１のスリット部が清掃され、及び初期化され、次の塗布のためのスタンバイ状態になる。   Thereafter, the slit of the base 621 of the coating liquid discharge device 6 is cleaned and initialized, and enters a standby state for the next coating.

一方、ガラス基板３１は、小径貫通孔にＮ２等のガスを送り込むことにより基板保持用ステージ５への吸着が解除され、リフトピンによりステージ５から上方に持ち上げられる。その後、ガラス基板３１は前述の搬送用ロボットとは別の搬送用ロボット（これも図示せず）によりリフトピンから取り上げられ、減圧乾燥等の次工程（図示せず）に搬送される。 On the other hand, the glass substrate 31 is released from suction to the substrate holding stage 5 by feeding a gas such as N 2 into the small-diameter through hole, and is lifted upward from the stage 5 by lift pins. Thereafter, the glass substrate 31 is picked up from the lift pins by a transfer robot (also not shown) different from the transfer robot described above and transferred to the next process (not shown) such as reduced pressure drying.

以上がガラス基板３１に対して塗布液を塗布する動作の１サイクルである。   The above is one cycle of the operation of applying the coating liquid to the glass substrate 31.

次に、本発明の塗布液供給装置の主要部を説明する。   Next, the main part of the coating liquid supply apparatus of the present invention will be described.

図２は本発明の塗布液供給装置の主要部である塗布液一時貯留タンク４１の概略平面図、図３は同概略縦断面図である。   2 is a schematic plan view of a coating liquid temporary storage tank 41 which is a main part of the coating liquid supply apparatus of the present invention, and FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view thereof.

塗布液一時貯留タンク４１は、互いに内径が異なり、かつ上下方向に一体的に形成された円筒形部分４１ａ、４１ｂと、最下部中央に下向きに設けられた塗布液吐出孔４１２ａと、上段の円筒形部分４１ａの側面最下部に設けられた塗布液流入孔４１１ａとを含んでいる。   The coating liquid temporary storage tank 41 has cylindrical portions 41a and 41b that have different inner diameters and are integrally formed in the vertical direction, a coating liquid discharge hole 412a that is provided downward in the center of the lowermost part, and an upper cylinder. And a coating liquid inflow hole 411a provided at the lowermost part of the side surface of the shape portion 41a.

そして、上段の円筒形部分４１ａの内径Ｄ１が下段の円筒形部分４１ｂの内径Ｄ２より大きく、かつ上段の円筒形部分４１ａと下段の円筒形部分４１ｂとの境界位置が、塗布液一時貯留タンク４１の最下部から液面上限までの高さＨの略１／２であることが好ましい。この場合において、下段の円筒形部分４１ｂの内径Ｄ２が上段の円筒形部分４１ａの内径Ｄ１の約５０〜７０％であり、上段の円筒形部分４１ａの最下部に、少なくとも塗布液流入孔４１１ａの内径と等しい幅の水平部４１１ｂを有していることが好ましい。この場合には、上段の円筒形部分４１ａの容積を下段の円筒形部分４１ｂの容積の２〜４倍に設定して、塗布液一時貯留タンク４１の下部から塗布液移送ポンプ８に安定的に塗布液を供給することができる。また、少なくとも塗布液流入孔４１１ａの内径と等しい幅の水平部４１１ｂによって、塗布液が流入後に直ちに下段の円筒形部分４１ｂに導かれること（気泡を含んでいる可能性が高い塗布液が下段の円筒形部分４１ｂに導かれること）を防止することができる。   Then, the inner diameter D1 of the upper cylindrical portion 41a is larger than the inner diameter D2 of the lower cylindrical portion 41b, and the boundary position between the upper cylindrical portion 41a and the lower cylindrical portion 41b is the coating liquid temporary storage tank 41. It is preferable that the height is approximately ½ of the height H from the lowermost part to the upper limit of the liquid level. In this case, the inner diameter D2 of the lower cylindrical portion 41b is about 50 to 70% of the inner diameter D1 of the upper cylindrical portion 41a, and at least the coating liquid inflow hole 411a is provided at the lowermost portion of the upper cylindrical portion 41a. It is preferable to have a horizontal portion 411b having a width equal to the inner diameter. In this case, the volume of the upper cylindrical portion 41a is set to 2 to 4 times the volume of the lower cylindrical portion 41b, and the coating liquid transfer pump 8 is stably supplied from the lower part of the coating liquid temporary storage tank 41. A coating solution can be supplied. Further, at least by the horizontal portion 411b having a width equal to the inner diameter of the coating liquid inflow hole 411a, the coating liquid is guided to the lower cylindrical portion 41b immediately after flowing in (the coating liquid having a high possibility of containing bubbles is in the lower stage). Guiding to the cylindrical portion 41b) can be prevented.

また、上段の円筒形部分４１ａの最下部の外周部が所定の曲率のアールＲであることが好ましく、塗布液溜まりが発生することを防止することができる。   Moreover, it is preferable that the lowermost outer peripheral part of the upper cylindrical part 41a is the rounded radius R of a predetermined curvature, and it can prevent that a coating liquid pool generate | occur | produces.

また、前記塗布液流入孔４１１ａが、上段の円筒形部分４１ａに対して接線方向に塗布液を流入させるものであることが好ましく、流入した塗布液を上段の円筒形部分４１ａの内面に沿って旋回するように移動させることができ、上段の円筒形部分４１ａの内面の抵抗を小さくすることができ、塗布液の滞留が生じないようにすることができる。また、上段の円筒形部分４１ａにおいて塗布液が移動する時間を長くすることができ、この結果、塗布液に含まれるガスが溶け出すための時間を長くすることができ、ひいては、流入した塗布液が下段の円筒形部分４１ｂに導かれるまでに、ほぼ確実に気泡を除去することができる。   The coating liquid inflow hole 411a preferably allows the coating liquid to flow in a tangential direction with respect to the upper cylindrical portion 41a. The flowing coating liquid flows along the inner surface of the upper cylindrical portion 41a. It can be moved so as to turn, the resistance of the inner surface of the upper cylindrical portion 41a can be reduced, and the retention of the coating liquid can be prevented. Further, it is possible to lengthen the time for the coating liquid to move in the upper cylindrical portion 41a. As a result, it is possible to lengthen the time for the gas contained in the coating liquid to dissolve, and as a result, the coating liquid that has flowed in. Until it is guided to the lower cylindrical portion 41b, the bubbles can be removed almost certainly.

なお、塗布液一時貯留タンク４１の内面は、液抵抗を最小にするために、溶接跡の除去、表面処理による平滑化などを行うことが好ましい。   The inner surface of the coating liquid temporary storage tank 41 is preferably subjected to removal of welding marks, smoothing by surface treatment, etc. in order to minimize the liquid resistance.

さらに、上段の円筒形部分４１ａの、塗布液流入孔４１１ａの取り付け位置よりも上方の所定位置に対応させて液面センサー４１３ａを設けている。この液面センサー４１３ａは、フロートなどを利用した直接方式のものであってもよく、または静電センサーや光学センサーを利用した間接方式のものであってもよいが、発泡や凝縮の問題等を考慮すると間接方式のものであることが好ましい。静電センサーを利用する場合には、塗布液一時貯留タンク４１内の塗布液の量によって静電容量が変化することを利用しており、塗布液一時貯留タンク４１の材質が樹脂等の非金属である場合に好適である。また、光学式センサーを利用する場合には、上段の円筒形部分４１ａに窓を開けて液の有無を見る方法や直接液面をレーザー反射などで見る方法などを利用しており、塗布液一時貯留タンク４１の材質は全く制約を受けない。ただし、塗布液に侵されない材質であることが必要である。したがって、金属製の場合には、ステンレススチール製であることが好ましいが、塗布液に対して腐食性を示す場合には、耐食性の表面処理を施したものであってもよい。   Furthermore, a liquid level sensor 413a is provided in correspondence with a predetermined position above the attachment position of the coating liquid inflow hole 411a of the upper cylindrical portion 41a. The liquid level sensor 413a may be a direct type using a float or the like, or an indirect type using an electrostatic sensor or an optical sensor. In consideration of the indirect system, it is preferable. When the electrostatic sensor is used, it is used that the capacitance changes depending on the amount of the application liquid in the application liquid temporary storage tank 41, and the material of the application liquid temporary storage tank 41 is a non-metal such as resin. Is preferable. Further, when using an optical sensor, a method of opening a window in the upper cylindrical portion 41a to check the presence or absence of liquid or a method of directly viewing the liquid level by laser reflection or the like is used. The material of the storage tank 41 is not restricted at all. However, it is necessary that the material is not affected by the coating liquid. Therefore, in the case of being made of metal, it is preferably made of stainless steel. However, when it is corrosive to the coating liquid, it may be subjected to a corrosion-resistant surface treatment.

そして、液面センサー４１３ａによって、液面が予め設定した所定レベルより低いことが検出された場合に、図示しない制御装置によって、塗布液供給缶１０からの塗布液の供給を行わせ、液面を常に塗布液流入孔４１１ａよりも上方に位置させる。   Then, when the liquid level sensor 413a detects that the liquid level is lower than a predetermined level set in advance, the control unit (not shown) supplies the coating liquid from the coating liquid supply can 10 to change the liquid level. It is always positioned above the coating liquid inflow hole 411a.

大別すると、液晶用ガラス基板塗布装置には、基板保持用ステージ５が固定され、塗布液吐出装置６が水平に移動する形式のもの(図１参照)と、塗布液吐出装置６が固定され、基板保持用ステージ５が水平移動する形式のものとがあるが、本発明の塗布液供給装置はどちらの形式のものにも適用可能である。   Broadly classifying, the substrate holding stage 5 is fixed to the glass substrate coating apparatus for liquid crystal, and the coating liquid discharging apparatus 6 is moved horizontally (see FIG. 1) and the coating liquid discharging apparatus 6 is fixed. The substrate holding stage 5 may be of a type that moves horizontally, but the coating liquid supply device of the present invention is applicable to either type.

また、前記実施形態では液晶用ガラス基板塗布装置に適用されるものついて説明したが、フィルム上に塗膜を形成する磁気テープ用などのフィルムコータを始めとして、凡そ塗布液を塗布し塗膜を形成する装置であればあらゆる装置に適用可能である。   In the above embodiment, the liquid crystal glass substrate coating apparatus has been described. However, the coating liquid is applied by coating a coating liquid, including a film coater for a magnetic tape that forms a coating film on a film. The present invention can be applied to any device as long as it is a forming device.

本発明の塗布液供給装置を組み込んだ液晶用ガラス基板塗布装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the glass substrate coating device for liquid crystals incorporating the coating liquid supply apparatus of this invention. 本発明の塗布液供給装置の主要部である塗布液一時貯留タンクの概略平面図である。It is a schematic plan view of the coating liquid temporary storage tank which is the principal part of the coating liquid supply apparatus of this invention. 同概略縦断面図である。It is the same schematic longitudinal cross-sectional view. 従来のバッファタンクの概略平面図である。It is a schematic plan view of the conventional buffer tank. 同概略縦断面図である。It is the same schematic longitudinal cross-sectional view.

符号の説明Explanation of symbols

６ 塗布液吐出装置
４１ 塗布液一時貯留タンク
４１ａ 上段の円筒形部分
４１ｂ 下段の円筒形部分
４１１ａ 塗布液流入孔
４１１ｂ 水平部
４１２ａ 塗布液吐出孔




6 Coating solution discharge device 41 Coating solution temporary storage tank 41a Upper cylindrical portion 41b Lower cylindrical portion 411a Coating solution inflow hole 411b Horizontal portion 412a Coating solution discharge hole




Claims (5)

塗布液を枚葉体又は連続フィルムに塗布して塗布液膜を形成する塗布装置（６）に対して塗布液を供給するための塗布液供給装置において、
該塗布液供給装置が、塗布液を一時的に貯留し、塗布装置に圧送する塗布液一時貯留タンク（４１）を含み、
該塗布液一時貯留タンク（４１）は、互いに内径が異なり、かつ上下方向に一体的に形成された円筒形部分（４１ａ）、（４１ｂ）と、最下部中央に下向きに設けられた塗布液吐出孔（４１２ａ）と、上段の円筒形部分（４１ａ）の側面最下部に設けられた塗布液流入孔（４１１ａ）とを含むことを特徴とする塗布液供給装置。 In the coating liquid supply apparatus for supplying the coating liquid to the coating apparatus (6) that forms the coating liquid film by coating the coating liquid on the sheet or continuous film,
The coating liquid supply apparatus includes a coating liquid temporary storage tank (41) for temporarily storing the coating liquid and pumping the coating liquid to the coating apparatus,
The coating liquid temporary storage tank (41) has cylindrical portions (41a) and (41b) which have different inner diameters and are integrally formed in the vertical direction, and a coating liquid discharge provided downwardly at the center of the lowermost part. The coating liquid supply apparatus characterized by including a hole (412a) and a coating liquid inflow hole (411a) provided at the bottom of the side surface of the upper cylindrical portion (41a). 上段の円筒形部分（４１ａ）の内径が下段の円筒形部分（４１ｂ）の内径より大きく、かつ上段の円筒形部分（４１ａ）と下段の円筒形部分（４１ｂ）との境界位置が、塗布液一時貯留タンク（４１）の最下部から液面上限までの高さの略１／２である請求項１に記載の塗布液供給装置。 The inner diameter of the upper cylindrical portion (41a) is larger than the inner diameter of the lower cylindrical portion (41b), and the boundary position between the upper cylindrical portion (41a) and the lower cylindrical portion (41b) is the coating liquid. The coating liquid supply apparatus according to claim 1, which is approximately ½ of the height from the lowermost part of the temporary storage tank (41) to the upper limit of the liquid level. 下段の円筒形部分（４１ｂ）の内径が上段の円筒形部分（４１ａ）の内径の約５０〜７０％であり、上段の円筒形部分（４１ａ）の最下部に、少なくとも塗布液流入孔（４１１ａ）の内径と等しい幅の水平部（４１１ｂ）を有している請求項２に記載の塗布液供給装置。 The inner diameter of the lower cylindrical portion (41b) is about 50 to 70% of the inner diameter of the upper cylindrical portion (41a), and at least the coating liquid inflow hole (411a) is formed at the lowermost portion of the upper cylindrical portion (41a). The coating liquid supply apparatus according to claim 2, wherein the coating liquid supply apparatus has a horizontal portion (411 b) having a width equal to that of the inner diameter. 塗布液流入孔（４１１ａ）は、上段の円筒形部分（４１ａ）に対して接線方向に塗布液を流入させるものである請求項１から請求項３の何れかに記載の塗布液供給装置。 The coating liquid supply device according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating liquid inflow hole (411a) allows the coating liquid to flow in a tangential direction with respect to the upper cylindrical portion (41a). 塗布液の液面が塗布液流入孔（４１ａ）よりも上方に位置するように塗布液の液面を制御する液面制御装置をさらに含む請求項１から請求項４の何れかに記載の塗布液供給装置。






5. The coating according to claim 1, further comprising a liquid level control device for controlling the liquid level of the coating liquid so that the liquid level of the coating liquid is located above the coating liquid inflow hole (41a). Liquid supply device.






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Cited By (1)

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009172491A (en) * 2008-01-22 2009-08-06 Daikin Ind Ltd Electrostatic sprayer

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5513683U (en) * 1978-07-12 1980-01-28
JPS58163372A (en) * 1982-03-24 1983-09-28 テルモ株式会社 Apparatus for removing gas bubble in blood
JPH09192568A (en) * 1996-01-22 1997-07-29 Chugai Ro Co Ltd Apparatus for supplying coating material to die coater
JP3414572B2 (en) * 1996-02-06 2003-06-09 東レ株式会社 Coating device and coating method
JP3628895B2 (en) * 1999-01-28 2005-03-16 大日本スクリーン製造株式会社 Treatment liquid supply device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105537051A (en) * 2015-12-08 2016-05-04 无锡万能胶粘剂有限公司 Device for brush-coating with binder

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