JP2007225745A - Protective film - Google Patents

Protective film Download PDF

Info

Publication number
JP2007225745A
JP2007225745A JP2006044804A JP2006044804A JP2007225745A JP 2007225745 A JP2007225745 A JP 2007225745A JP 2006044804 A JP2006044804 A JP 2006044804A JP 2006044804 A JP2006044804 A JP 2006044804A JP 2007225745 A JP2007225745 A JP 2007225745A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
layer
film
cellulose
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006044804A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanori Yoshihara
眞紀 吉原
Tetsuya Toyoshima
哲也 豊嶋
Kohei Arakawa
公平 荒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP2006044804A priority Critical patent/JP2007225745A/en
Publication of JP2007225745A publication Critical patent/JP2007225745A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protective film that is superior in adhesiveness with an optical component, without inhibiting the optical performances, and is superior in strength, curling property and flexibility. <P>SOLUTION: The protective film for protecting the surface of an optical component is equipped with a base film, which has a hydrophilic resin layer containing a polymer compound having a hydrophilic group and layers, comprising a thermoplastic resin and disposed on both surfaces of the hydrophilic resin layer, wherein the protective film has a residual solvent content of 0.01 wt.% or smaller. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、保護フィルムに関し、特に、光学性能を阻害することなく、光学部品との密着性に優れ、かつ強度、カール性および可撓性に優れる保護フィルムに関する。   The present invention relates to a protective film, and more particularly, to a protective film that has excellent adhesion to optical components without impairing optical performance, and excellent strength, curlability, and flexibility.

従来、光学部品である偏光板の偏光子や、プラズマディスプレイパネル(PDP)の前面フィルタには、その表面を外力等から保護する目的で保護フィルムが設けられている。例えば、PDPの前面フィルタに設けられる保護フィルムとしては、ポリオレフィンからなる層を含むフィルムが用いられる場合がある(特許文献1参照)。また、偏光板は、偏光子と、この偏光子の一方の面に設けられる第1の保護フィルムと、偏光子の他方の面に設けられる第2の保護フィルムとを備えて構成され、各保護フィルムには、低複屈折性および透明性に優れるなどの点でトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)が広く用いられている。   Conventionally, a protective film is provided on a polarizer of an optical component, which is an optical component, or a front filter of a plasma display panel (PDP) for the purpose of protecting the surface from an external force or the like. For example, as a protective film provided on a front filter of a PDP, a film including a layer made of polyolefin may be used (see Patent Document 1). The polarizing plate includes a polarizer, a first protective film provided on one surface of the polarizer, and a second protective film provided on the other surface of the polarizer. As the film, a triacetyl cellulose film (TAC film) is widely used because it has excellent low birefringence and transparency.

特開2005−884981号公報JP 2005-884981 A

しかしながら、PDP用の保護フィルムとしてポリオレフィンからなる層を含むフィルムを用いた場合には、ポリオレフィン層によって保護フィルムに耐衝撃性を付与できるという利点があるものの、ポリオレフィンからなる層は、他の層またはPDPの前面フィルタとの密着性が必ずしも十分ではなく、剥れ易いという問題があった。   However, when a film containing a layer made of polyolefin is used as a protective film for PDP, there is an advantage that impact resistance can be imparted to the protective film by the polyolefin layer. There was a problem that the adhesion of the PDP to the front filter was not always sufficient, and it was easy to peel off.

また、TACフィルムは、その残留溶剤含有率が高く、例えば、高温・高湿度環境下では残留溶剤の揮発により、偏光子から保護フィルムが剥れ易くなるという問題があり、さらに、保護フィルムの寸法変化や偏光子の劣化等を招き光学性能を阻害する等の問題があった。   Further, the TAC film has a high residual solvent content. For example, in a high temperature / high humidity environment, there is a problem that the protective film is easily peeled off from the polarizer due to volatilization of the residual solvent. There has been a problem that the optical performance is hindered due to changes, deterioration of the polarizer, and the like.

本発明の目的は、光学性能を阻害することなく、光学部品との密着性に優れ、かつ強度、カール性および可撓性に優れる保護フィルムを提供することにある。   The objective of this invention is providing the protective film which is excellent in adhesiveness with an optical component, and is excellent in intensity | strength, curl property, and flexibility, without inhibiting optical performance.

なお、このような問題は、保護フィルムを、偏光子やPDPの前面フィルタの保護に用いる場合に限らず、タッチパネル、電界放射型ディスプレイ(FED)、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の表示面の保護に用いる場合や、陰極管表示装置(CRT)の表示面の保護に用いる場合などでも同様に生じていた。   Such a problem is not limited to the case where the protective film is used to protect the polarizer or the front filter of the PDP, but the display surface of a touch panel, a field emission display (FED), an electroluminescence display (ELD), or the like. The same occurs when used for protection or when protecting the display surface of a cathode ray tube display (CRT).

上記課題を解決するために、本発明は、光学部品の表面に設けられ、この表面を外力等から保護するための保護フィルムであって、親水性基を有する高分子化合物を含んでなる親水性樹脂層と、この親水性樹脂層の両面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂からなる層とを有する基材フィルムを備え、当該保護フィルムの残留溶剤含有量が0.01重量%以下であることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a hydrophilic film that is provided on the surface of an optical component and protects the surface from an external force or the like, and includes a polymer compound having a hydrophilic group. A substrate film having a resin layer and a thermoplastic resin layer provided on both surfaces of the hydrophilic resin layer is provided, and the residual solvent content of the protective film is 0.01% by weight or less. And

本発明の保護フィルムによれば、光学性能を阻害することなく、光学部品との密着性に優れ、かつ強度、カール性および可撓性に優れるという効果がある。   According to the protective film of the present invention, there is an effect that the adhesiveness with the optical component is excellent and the strength, curling property and flexibility are excellent without impairing the optical performance.

本発明の保護フィルムは、ガラスや透明樹脂等の光学部品の表面に設けられ、この表面を保護するための保護フィルムである。本保護フィルムは、親水性基を有する高分子化合物を含んでなる親水性樹脂層と、この親水性樹脂層の両面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂からなる層とを有する基材フィルムを備えている。   The protective film of the present invention is provided on the surface of an optical component such as glass or transparent resin, and is a protective film for protecting this surface. The protective film includes a base film having a hydrophilic resin layer containing a polymer compound having a hydrophilic group and layers made of a thermoplastic resin provided on both surfaces of the hydrophilic resin layer. .

(親水性樹脂層)
親水性樹脂層を構成する高分子化合物の親水性基としては、親水性や水分散性機能を有する官能基であればよく、例えば、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、エステル基、アミド基、アミノ基、水酸基、グリシジル基、およびアセチル基などを挙げることができる。この中でも、親水性基としては、水酸基が好ましい。
(Hydrophilic resin layer)
The hydrophilic group of the polymer compound constituting the hydrophilic resin layer may be any functional group having hydrophilicity or water dispersibility function, such as a carboxylic acid group, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, or a sulfonic acid group. , Ester groups, amide groups, amino groups, hydroxyl groups, glycidyl groups, and acetyl groups. Among these, a hydroxyl group is preferable as the hydrophilic group.

親水性基を有する高分子化合物としては、例えば、親水性セルロース誘導体(メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、およびヒドロキシセルロース等)、ポリビニルアルコール誘導体(ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルホマール、およびポリビニルベンザール等)、天然高分子化合物(ゼラチン、カゼイン、およびアラビアゴム等)、親水性ポリエステル誘導体(部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等)、およびポリビニル誘導体(ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、およびポリビニルピラゾール等)を挙げることができる。これらの親水性高分子化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。この中でも、親水性高分子化合物としては、セルロース誘導体が好ましい。   Examples of the polymer compound having a hydrophilic group include hydrophilic cellulose derivatives (methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxy cellulose, etc.), polyvinyl alcohol derivatives (polyvinyl alcohol, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl acetate, polyvinyl acetate). Acetal, polyvinyl homar, and polyvinyl benzal), natural polymer compounds (such as gelatin, casein, and gum arabic), hydrophilic polyester derivatives (such as partially sulfonated polyethylene terephthalate), and polyvinyl derivatives (poly) -N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, polyvinylimidazole, polyvinylpyrazole, etc.). These hydrophilic polymer compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these, a cellulose derivative is preferable as the hydrophilic polymer compound.

セルロース誘導体としては、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、およびセルロースエーテル類などを挙げることができる。セルロース誘導体は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。   Examples of cellulose derivatives include cellulose esters, cellulose carbamates, and cellulose ethers. A cellulose derivative may be used independently and may combine 2 or more types.

セルロースエステル類としては、有機酸エステル類、無機酸エステル類、および有機酸と無機酸との混合酸エステル類を挙げることができる。有機酸エステル類としては、例えば、脂肪族有機酸エステル(セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースC2−C6アルキルカルボン酸エステル、アセチルアルキルセルロースなどのアルキルセルロースエステル、ジクロロメチルセルロースエステル、トリクロロメチルセルロースエステル、トリフルオロメチルセルロースエステルなどのハロアルキルセルロースエステルなど)、および芳香族有機酸エステル(セルロースフタレート、セルロースベンゾエート、セルロース−4−メチルベンゾエートなどのC7−C12芳香族カルボン酸エステルなど)を挙げることができる。無機酸エステル類としては、例えば、リン酸セルロースおよび硫酸セルロースなどを挙げることができる。なお、本願において、Cm−Cnは、炭素数がm〜n個を意味する。   Examples of cellulose esters include organic acid esters, inorganic acid esters, and mixed acid esters of organic and inorganic acids. Examples of organic acid esters include aliphatic organic acid esters (cellulose C2-C6 alkyl carboxylic acid esters such as cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate, acetylalkyl). Alkyl cellulose esters such as cellulose, dichloromethyl cellulose esters, trichloromethyl cellulose esters, haloalkyl cellulose esters such as trifluoromethyl cellulose esters), and aromatic organic acid esters (cellulose phthalates, cellulose benzoates, cellulose-4-methylbenzoates, C7- C12 aromatic carboxylic acid ester). Examples of inorganic acid esters include cellulose phosphate and cellulose sulfate. In the present application, Cm-Cn means m to n carbon atoms.

セルロースカーバメート類としては、例えば、セルロースアリールカーバメート類(セルロースフェニルカーバメートなど)、およびセルロースエーテルカーバメート類(エチルセルロースフェニルカーバメートなど)などを挙げることができる。   Examples of cellulose carbamates include cellulose aryl carbamates (such as cellulose phenyl carbamate) and cellulose ether carbamates (such as ethyl cellulose phenyl carbamate).

セルロースエーテル類としては、例えば、シアノアルキルセルロース(シアノエチルセルロースなど)、C1−C10アルキルセルロース(メチルセルロース、およびエチルセルロースなどのC1−C6アルキルセルロースなど)、アラルキルセルロース(ベンジルセルロースなどのC6−C12アリール−C1−C4アルキルセルロースなど)などを挙げることができる。   Examples of cellulose ethers include cyanoalkyl cellulose (such as cyanoethyl cellulose), C1-C10 alkyl cellulose (such as C1-C6 alkyl cellulose such as methyl cellulose and ethyl cellulose), and aralkyl cellulose (C6-C12 aryl-C1 such as benzyl cellulose). -C4 alkyl cellulose, etc.).

好ましいセルロース誘導体としては、セルロースエステル類のうち、少なくともアセチル基を有するセルロースエステル、例えば、セルロースアセテート(セルロースモノアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート)、内部可塑化されたセルロース誘導体(アセチルC3−C6アシルセルロース(セルロースアセテートプロピオネート、およびセルロースアセテートブチレートなど)など)を挙げることができる。   Preferred cellulose derivatives include cellulose esters having at least an acetyl group among cellulose esters such as cellulose acetate (cellulose monoacetate, cellulose diacetate, cellulose triacetate), and internally plasticized cellulose derivatives (acetyl C3-C6 acyl). And cellulose (such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate).

セルロースエステル類の平均置換度は、例えば、1〜3程度、好ましくは1.3〜3程度、より好ましくは1.5〜3程度、さらに好ましくは2〜3程度である。なお、前記アセチルC3−C6アシルセルロースにおいて、アセチル基とC3−C6アシル基との割合は、例えば、前者/後者(モル比)=90/10〜5/95程度、好ましくは70/30〜10/90程度、さらに好ましくは50/50〜15/85程度である。   The average substitution degree of cellulose esters is, for example, about 1 to 3, preferably about 1.3 to 3, more preferably about 1.5 to 3, and further preferably about 2 to 3. In the acetyl C3-C6 acylcellulose, the ratio of the acetyl group to the C3-C6 acyl group is, for example, the former / the latter (molar ratio) = 90/10 to 5/95, preferably 70/30 to 10 / 90, more preferably about 50/50 to 15/85.

セルロース誘導体において、セルロース誘導体の平均重合度は、特に制限されず、例えば、50〜8,000、好ましくは100〜7,000、さらに好ましくは200〜6,000程度である。   In the cellulose derivative, the average degree of polymerization of the cellulose derivative is not particularly limited, and is, for example, about 50 to 8,000, preferably about 100 to 7,000, and more preferably about 200 to 6,000.

セルロース誘導体の可塑化としては、(a)セルロースアセテートに、軟質成分として、プロピオネート基およびブチレート基などのC3−C6アシル基を導入し、内部可塑化する方法、(b)セルロース誘導体に、可塑剤を添加し外部可塑化する方法、(c)これら(a)および(b)の方法を組み合わせる方法などを挙げることができる。   As plasticization of the cellulose derivative, (a) a method in which C3-C6 acyl groups such as propionate group and butyrate group are introduced into cellulose acetate as a soft component to internally plasticize, and (b) a plasticizer into the cellulose derivative. And (c) a method of combining these methods (a) and (b).

可塑剤としては、例えば、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、リン酸エステル、およびエポキシ誘導体などを挙げることができる。これらの可塑剤は、単独で用いてもよいし組み合わせて用いてもよい。   Examples of the plasticizer include phthalate esters, fatty acid esters, phosphate esters, and epoxy derivatives. These plasticizers may be used alone or in combination.

フタル酸エステルとしては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレート、ジイソデシルフタレートなどのジC1-10アルキルフタレート、ジシクロヘキシルフタレートなどのジC6−C8シクロアルキルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのアルキル−アラルキルフタレート、ジ(メトキシエチル)フタレートなどが挙げられる。   Examples of the phthalic acid ester include diC1-10 alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, and diisodecyl phthalate, and diC6-C8 cyclo, such as dicyclohexyl phthalate. Examples thereof include alkyl-aralkyl phthalates such as alkyl phthalate and butyl benzyl phthalate, and di (methoxyethyl) phthalate.

脂肪酸エステルとしては、アジピン酸ジエステル(ジオクチルアジペート、ジ(2−エチルヘキシル)アジペートなど)、アゼライン酸ジエステル(ジオクチルアゼレート、ジ(2−エチルヘキシル)アゼレートなど)、セバシン酸ジエステル(ジブチルセバケート、ジオクチルセバケート、ジ(2−エチルヘキシル)セバケートなど)、クエン酸トリエステル(アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリブチルなどのアセチルクエン酸トリエステルなど)などのC6−C12脂肪族ジ又はトリカルボン酸エステル(C6−C12脂肪族ジ又はトリカルボン酸C2−C8アルキルエステル);グリコール類(エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールなど)のモノ又はジC2−C4アルキルカルボン酸エステル(トリエチレングリコールジアセテート、トリエチレングリコールジプロピオネートなど)、トリアセチンおよびジグリセリンテトラカプリレートなどのグリセリンアルキルカルボン酸エステルなど)などの多価アルコールのアルキルカルボン酸エステル;メチルアセチルリシノレートなどが挙げられる。   Examples of fatty acid esters include adipic acid diesters (such as dioctyl adipate and di (2-ethylhexyl) adipate), azelaic acid diesters (such as dioctyl azelate and di (2-ethylhexyl) azelate), and sebacic acid diesters (dibutyl sebacate and dioctyl seba). C6-C12 aliphatic di- or tricarboxylic acid esters (C6-, such as cate, di (2-ethylhexyl) sebacate), citric acid triester (acetyl triester such as triethyl acetyl citrate, tributyl acetyl citrate, etc.) C12 aliphatic di- or tricarboxylic acid C2-C8 alkyl ester); mono- or di-C2-C4 alkyl carboxyl of glycols (ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, etc.) Alkyl carboxylic acid esters of polyhydric alcohols such as esters (such as triethylene glycol diacetate and triethylene glycol dipropionate), glycerol alkyl carboxylic acid esters such as triacetin and diglycerol tetracaprylate); Can be mentioned.

リン酸エステルとしては、トリアルキルフォスフェート(トリエチルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、トリオクチルフォスフェートなどのトリC1−C10アルキルフォスフェート、トリクロロエチルフォスフェートなどのハロゲン含有トリC1−C10アルキルフォスフェートなど)、トリアリールフォスフェート(トリフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、トリス(イソプロピルフェニル)フォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートなどのトリC6−C10アリールフォスフェートなど)、アルキル−ジアリールフォスフェート(オクチルジフェニルフォスフェートなど)、トリ(ブトキシエチル)フォスフェートなどを挙げることができる。   Examples of phosphate esters include trialkyl phosphates (tri-C1-C10 alkyl phosphates such as triethyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, and halogen-containing tri-C1-C10 alkyl phosphates such as trichloroethyl phosphate) , Triaryl phosphates (such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, tris (isopropylphenyl) phosphate, tri C6-C10 aryl phosphate such as cresyl diphenyl phosphate), alkyl-diaryl phosphates (octyl diphenyl) And phosphate (such as phosphate) and tri (butoxyethyl) phosphate.

エポキシ誘導体としては、エポキシ化脂肪酸エステル(アルキルエポキシステアレート、ジイソデシル−4,5−エポキシテトラヒドロフタレートなど)などを挙げることができる。その他の可塑剤としては、ポリエステルなどのオリゴマー型可塑剤などを挙げることができる。好ましい可塑剤としては、フタル酸エステル(特にジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレートなどのジC1−C8アルキルフタレート)、C6−C12アルカンジ又はトリカルボン酸C2−C10アルキルエステル(特にジブチルセバケートなどのセバシン酸ジエステル、アセチルクエン酸トリエチルなどのクエン酸トリエステル)、多価アルコールのアルキルカルボン酸エステル(トリアセチンなど)、リン酸エステル(特にトリフェニルフォスフェートなどのトリアリールフォスフェート)を挙げることができる。   Examples of the epoxy derivative include epoxidized fatty acid esters (alkyl epoxy stearate, diisodecyl-4,5-epoxytetrahydrophthalate, etc.) and the like. Examples of other plasticizers include oligomer type plasticizers such as polyester. Preferred plasticizers include phthalic acid esters (especially di-C1-C8 alkyl phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate), C6-C12 alkanedi or tricarboxylic acid C2-C10 alkyl esters (especially sebacic acid such as dibutyl sebacate). And diesters, citric acid triesters such as triethyl acetyl citrate), alkyl carboxylic acid esters of polyhydric alcohols (such as triacetin), and phosphoric acid esters (particularly triaryl phosphates such as triphenyl phosphate).

セルロース誘導体と可塑剤との割合は、セルロース誘導体の種類などに応じて選択でき、例えば、前者/後者(重量比)=100/0〜50/50程度、好ましくは100/0〜60/40程度、100/0〜70/30程度である。   The ratio between the cellulose derivative and the plasticizer can be selected according to the type of the cellulose derivative and the like. For example, the former / the latter (weight ratio) = about 100/0 to 50/50, preferably about 100/0 to 60/40. 100/0 to 70/30.

(熱可塑性樹脂からなる層)
親水性樹脂層の両面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、および脂環式オレフィンポリマーなどを挙げることができる。この中でも、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂が好ましい。なお、熱可塑性樹脂からなる層は、単層または複数層とすることができる。熱可塑性樹脂からなる層が多層である場合には、熱可塑性樹脂からなる層のうち、前記親水性樹脂層に隣接しない層を前記親水性樹脂層としてもよい。
(Layer made of thermoplastic resin)
Examples of the thermoplastic resin provided on both surfaces of the hydrophilic resin layer include polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyimide resin, acrylic resin, polysulfone resin, polyarylate resin, polyethylene resin, polystyrene resin, poly A vinyl chloride resin, an alicyclic olefin polymer, etc. can be mentioned. Among these, an acrylic resin is preferable as the thermoplastic resin. In addition, the layer which consists of thermoplastic resins can be made into a single layer or multiple layers. When the layer made of the thermoplastic resin is a multilayer, a layer not adjacent to the hydrophilic resin layer among the layers made of the thermoplastic resin may be used as the hydrophilic resin layer.

アクリル樹脂としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステルや、アルキル基の水素がOH基、COOH基もしくはNH基などの官能基によって置換された(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどの単独重合体、または(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、スチレン、酢酸ビニル、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなどの不飽和結合を有するビニル系モノマーとの共重合体を用いることができる。アクリル樹脂としては、これらのうち1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。アクリル樹脂としては、ポリメタクリル酸メチルおよびポリメタクリル酸ブチルがより好ましい。また、アクリル樹脂としては、ガラス転移温度Tgが0〜105℃の範囲のものが好ましい。 Examples of acrylic resins include (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, and ethyl methacrylate, and the hydrogen of the alkyl group depends on a functional group such as OH group, COOH group, or NH 2 group. Homopolymers such as substituted (meth) acrylic acid alkyl esters or (meth) acrylic acid alkyl esters and styrene, vinyl acetate, α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid, vinyl toluene, α-methylstyrene A copolymer with a vinyl monomer having an unsaturated bond such as can be used. As an acrylic resin, only 1 type may be used among these and 2 or more types may be used. As the acrylic resin, polymethyl methacrylate and polybutyl methacrylate are more preferable. Moreover, as an acrylic resin, the thing of the range whose glass transition temperature Tg is 0-105 degreeC is preferable.

基材フィルムの各層を構成する樹脂には、顔料や染料等の着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものを用いることができる。   The resin constituting each layer of the base film includes colorants such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antistatic agents, and antioxidants. A material in which a compounding agent such as an agent, a lubricant, or a solvent is appropriately blended can be used.

ここで、例えば、赤外線吸収剤としては、ニトロソ化合物、その金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、カーボンブラック、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期表4A、5Aもしくは6A族に属する金属の酸化物、炭化物、ホウ化物等の近赤外線吸収剤などを挙げることができる。近赤外線吸収剤は、近赤外線 (約800nm〜1100nm)全体を吸収できるように、選択することが好ましく、2種類以上を併用してもよく、それらの量は、例えば、800nm以上の波長の透過率が10%以下となるように調整される。   Here, for example, as an infrared absorber, a nitroso compound, a metal complex salt thereof, a cyanine compound, a squarylium compound, a thiol nickel complex compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a triallylmethane compound, an imonium compound , Diimonium compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds, aminium salt compounds, carbon black, indium tin oxide, antimony tin oxide, oxides of metals belonging to Group 4A, 5A or 6A, carbide, boron Examples thereof include near infrared absorbers such as chemical compounds. The near-infrared absorber is preferably selected so that the entire near-infrared ray (approximately 800 nm to 1100 nm) can be absorbed, and two or more kinds thereof may be used in combination. The rate is adjusted to 10% or less.

基材フィルムの厚み(平均厚み)は、20μm〜200μmであることが好ましく、40μm〜100μmであることがより好ましい。また、基材フィルムにおいて、最も外側の層の厚みは、通常5μm〜100μmであり、好ましくは10μm以上であり、より好ましくは10μm〜50μmである。   The thickness (average thickness) of the base film is preferably 20 μm to 200 μm, and more preferably 40 μm to 100 μm. In the base film, the thickness of the outermost layer is usually 5 μm to 100 μm, preferably 10 μm or more, and more preferably 10 μm to 50 μm.

基材フィルムにおいて、一方の最表面側の層の厚みと、他方の最表面側の層の厚みとの差は、20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましく、0に近づけば近づくほどさらに好ましい。   In the base film, the difference between the thickness of one outermost layer and the thickness of the other outermost layer is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, and close to 0. The closer it is, the more preferable.

また、基材フィルムにおいて、中間に位置する層(前記一方の最表面側の層および他方の最表面側の層以外の層であって、単層でも複数層でもよい)の厚みは、通常5μm〜100μmであり、好ましくは10μm〜50μmである。前記中間に位置する層の厚みは、前記一方の最表面側の層または前記他方の最表面側の層の厚みとの比が、中間に位置する層の厚み/最表面側の層の厚み=5/1〜1/5であることが好ましい。   In the base film, the thickness of the layer located in the middle (a layer other than the one outermost layer and the other outermost layer, which may be a single layer or a plurality of layers) is usually 5 μm. It is -100 micrometers, Preferably it is 10 micrometers-50 micrometers. The thickness of the intermediate layer is such that the ratio of the thickness of the one outermost layer or the other outermost layer is the thickness of the intermediate layer / the thickness of the outermost layer = It is preferably 5/1 to 1/5.

ここで、前記一方の最表面側の層または前記他方の最表面側の層を構成する樹脂としては、硬いもの、具体的には、鉛筆硬度(JIS K5600−5−4 試験荷重500g)で2Hを超えるものが好ましい。このような樹脂としては、前述したアクリル樹脂が好ましい。この際、基材フィルムでは、比較的軟らかい親水性樹脂層が、アクリル樹脂等からなる他の層に挟まれた構成となることが好ましい。このような構成とすることにより、当該保護フィルムの表面の硬度を十分に確保しつつ、当該保護フィルムの可撓性を向上でき、取扱性を向上できる。この際、親水性樹脂層を構成する樹脂としては、光学部品との密着性を向上できる点で、前記セルロースエステル類が好ましい。   Here, the resin constituting the one outermost layer or the other outermost layer is a hard resin, specifically, a pencil hardness (JIS K5600-5-4 test load 500 g) of 2H. More than that is preferred. As such a resin, the acrylic resin mentioned above is preferable. At this time, the base film preferably has a structure in which a relatively soft hydrophilic resin layer is sandwiched between other layers made of an acrylic resin or the like. By setting it as such a structure, the flexibility of the said protective film can be improved and handleability can be improved, fully ensuring the hardness of the surface of the said protective film. At this time, as the resin constituting the hydrophilic resin layer, the cellulose esters are preferable in that the adhesion to the optical component can be improved.

また、前記一方の最表面側の層を構成する樹脂と、前記他方の最表面側の層を構成する樹脂とは、同じ種類の樹脂であることが好ましい。このような構成とすることにより、例えば、本保護フィルムを偏光子の保護フィルムとして偏光板を構成した際に、偏光板の反りや湾曲、丸まり等が生じるのを抑えることができる。   The resin constituting the one outermost layer and the resin constituting the other outermost layer are preferably the same type of resin. By setting it as such a structure, when this polarizing plate is comprised using this protective film as a protective film of a polarizer, it can suppress that the curvature of a polarizing plate, a curve, roundness, etc. arise.

また、前記一方の最表面側の層または他方の最表面側の層(もしくは保護フィルムの表面)には、線状凹部や線状凸部が実質的に形成されず、その表面が平坦な面であることが好ましい。実質的に形成されないとは、仮に、線状凹部や線状凸部が形成されたとしても、深さが50nm未満もしくは幅が500nmより大きい線状凹部、および高さが50nm未満もしくは幅が500nmより大きい線状凸部であることである。より好ましくは、深さが30nm未満、または、幅が700nmの線状凹部であり、高さが30nm未満、または、幅が700nmより大きい線状凸部である。このような構成とすることにより、線状凹部や線状凸部での光の屈折等に基づく、光の干渉や光漏れの発生を防止でき、光学性能を向上できる。   Further, in the one outermost layer or the other outermost layer (or the surface of the protective film), linear concave portions or linear convex portions are not substantially formed, and the surface is flat. It is preferable that The fact that it is not substantially formed means that even if a linear recess or a linear protrusion is formed, a linear recess having a depth of less than 50 nm or a width of more than 500 nm, and a height of less than 50 nm or a width of 500 nm. It is a larger linear convex part. More preferably, it is a linear concave portion having a depth of less than 30 nm or a width of 700 nm, and a linear convex portion having a height of less than 30 nm or a width of greater than 700 nm. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the occurrence of light interference and light leakage based on the light refraction at the linear concave portions or the linear convex portions, and the optical performance can be improved.

上述した線状凹部の深さ、線状凸部の高さ、及びこれらの幅は、次に述べる方法で求めることができる。保護フィルムに光を照射して、透過光をスクリーンに映し、スクリーン上に現れる光の明又は暗の縞の有る部分(この部分は凹部の深さ及び凸部の高さが大きい部分である。)を30mm角で切り出す。切り出したフィルム片の表面を三次元表面構造解析顕微鏡(視野領域5mm×7mm)を用いて観察し、これを3次元画像に変換し、この3次元画像からMD方向の断面プロファイルを求める。断面プロファイルは、視野領域で1mm間隔で求める。この断面プロファイルに、平均線を引き、この平均線から凹部の底までの長さが凹部深さ、または平均線から凸部の頂までの長さが凸部高さとなる。平均線とプロファイルとの交点間の距離が幅となる。これら凹部深さ及び凸部高さの測定値からそれぞれ最大値を求め、その最大値を示した凹部又は凸部の幅をそれぞれ求める。以上から求められた凹部深さ及び凸部高さの最大値、その最大値を示した凹部の幅及び凸部の幅を、そのフィルムの線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅とする。   The depth of the linear concave portion, the height of the linear convex portion, and the width thereof can be obtained by the following method. The protective film is irradiated with light, the transmitted light is projected onto the screen, and a portion with bright or dark stripes of light appearing on the screen (this portion is a portion where the depth of the concave portion and the height of the convex portion are large. ) Is cut out at 30 mm square. The surface of the cut film piece is observed using a three-dimensional surface structure analysis microscope (field region 5 mm × 7 mm), converted into a three-dimensional image, and a cross-sectional profile in the MD direction is obtained from the three-dimensional image. The cross-sectional profile is obtained at 1 mm intervals in the visual field region. An average line is drawn on the cross-sectional profile, and the length from the average line to the bottom of the concave portion is the depth of the concave portion, or the length from the average line to the top of the convex portion is the convex portion height. The distance between the intersection of the average line and the profile is the width. A maximum value is obtained from each of the measured values of the recess depth and the height of the convex portion, and the width of the concave portion or the convex portion showing the maximum value is obtained. The maximum values of the concave depth and convex height obtained from the above, the width of the concave portion and the width of the convex portion showing the maximum values, the depth of the linear concave portion of the film, the height of the linear convex portion And their width.

基材フィルムにおいて、隣接する各層同士は、直接に接していてもよいし、接着剤(粘着剤を含む)からなる接着層を介して接していてもよい。接着層の平均厚みは、通常0.01μm〜30μm、好ましくは0.1μm〜15μmである。前記接着層は、JIS K7113による引張破壊強度が40MPa以下となる層である。この接着層を構成する接着剤としては、アクリル接着剤、ウレタン接着剤、ポリエステル接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリオレフィン接着剤、変性ポリオレフィン接着剤、ポリビニルアルキルエーテル接着剤、ゴム接着剤、塩化ビニル・酢酸ビニル接着剤、スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体(SBS共重合体)接着剤、その水素添加物(SEBS共重合体)接着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体およびエチレン-スチレン共重合体などのエチレン接着剤、および、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体、およびエチレン・アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル接着剤などを挙げることができる。   In the base film, adjacent layers may be in direct contact with each other, or may be in contact with each other through an adhesive layer made of an adhesive (including a pressure-sensitive adhesive). The average thickness of the adhesive layer is usually 0.01 μm to 30 μm, preferably 0.1 μm to 15 μm. The adhesive layer is a layer having a tensile fracture strength according to JIS K7113 of 40 MPa or less. The adhesive constituting this adhesive layer includes acrylic adhesive, urethane adhesive, polyester adhesive, polyvinyl alcohol adhesive, polyolefin adhesive, modified polyolefin adhesive, polyvinyl alkyl ether adhesive, rubber adhesive, vinyl chloride, Vinyl acetate adhesive, styrene / butadiene / styrene copolymer (SBS copolymer) adhesive, hydrogenated product (SEBS copolymer) adhesive, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene-styrene copolymer, etc. Ethylene adhesives and acrylic ester adhesives such as ethylene / methyl methacrylate copolymers, ethylene / methyl acrylate copolymers, ethylene / ethyl methacrylate copolymers, and ethylene / ethyl acrylate copolymers And so on.

<機能層>
本発明の保護フィルムは、基材フィルムの表面に下記機能を有する機能層をさらに備えていてもよい。このような機能層としては、例えば、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防眩層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、色調補正層および防汚層などを挙げることができる。これらの機能層は、1種類であってもよいし、複数種類であってもよい。
<Functional layer>
The protective film of the present invention may further include a functional layer having the following functions on the surface of the base film. Examples of such a functional layer include a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, an antiglare layer, an electromagnetic wave shielding layer, an infrared absorption layer, a color tone correction layer, and an antifouling layer. These functional layers may be of one type or a plurality of types.

(ハードコート層)
ハードコート層は、保護フィルムの硬度を補強するための層であり、JIS K5600-5-4で示す鉛筆硬度試験(試験板はガラス板を用いる)で「H」以上の硬度を示すことが好ましい。このようなハードコート層が設けられた保護フィルムは、その鉛筆硬度が4H以上になることが好ましい。ハードコート層を形成する材料(ハードコート材料)としては、熱や光硬化性の材料であることが好ましく、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料;二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料;などを挙げることができる。これらの中でも、ハードコート材料としては、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is a layer for reinforcing the hardness of the protective film, and preferably exhibits a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test shown in JIS K5600-5-4 (a test plate uses a glass plate). . The protective film provided with such a hard coat layer preferably has a pencil hardness of 4H or higher. The material for forming the hard coat layer (hard coat material) is preferably a heat or photo-curable material, and organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic and urethane acrylate. And inorganic hard coat materials such as silicon dioxide. Among these, as the hard coat material, it is preferable to use urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials from the viewpoint of good adhesive force and excellent productivity.

ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、並びに耐熱性、帯電防止性、および防眩性などの向上を図る目的で、各種フィラーを含有できる。また、ハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、および消泡剤などの添加剤を含有できる。   The hard coat layer contains various fillers for the purpose of adjusting the refractive index, improving the flexural modulus, stabilizing the volume shrinkage, and improving heat resistance, antistatic properties, and antiglare properties, as desired. it can. Further, the hard coat layer can contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, and an antifoaming agent.

ハードコート層の屈折率や帯電防止性を調整するためのフィラーとしては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、錫をドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化錫(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、およびフッ素をドープした酸化錫(FTO)等を挙げることができる。フィラーとしては、透明性を維持できる点で、五酸化アンチモン、ITO、IZO、ATO、FTOが好ましい。これらフィラーの一次粒子径は、通常1nm〜100nm、好ましくは1nm〜30nmである。   Fillers for adjusting the refractive index and antistatic properties of the hard coat layer include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, tin-doped indium oxide (ITO), and antimony. Examples thereof include doped tin oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and fluorine-doped tin oxide (FTO). As the filler, antimony pentoxide, ITO, IZO, ATO, and FTO are preferable in that transparency can be maintained. The primary particle diameter of these fillers is usually 1 nm to 100 nm, preferably 1 nm to 30 nm.

防眩性を付与するためのフィラーとしては、平均粒径が0.5μm〜10μmのものが好ましく、1.0μm〜7.0μmのものがより好ましく、1.0μm〜4.0μmがさらに好ましい。防眩性を付与するフィラーの具体例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ化ビニリデン樹脂およびその他のフッ素樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機樹脂からなるフィラー;または酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ジルコニウム、ITO、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの無機化合物からなるフィラーを挙げることができる。   The filler for imparting antiglare properties preferably has an average particle size of 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 7.0 μm, and even more preferably 1.0 μm to 4.0 μm. Specific examples of fillers that impart antiglare properties include polymethyl methacrylate resins, vinylidene fluoride resins and other fluororesins, silicone resins, epoxy resins, nylon resins, polystyrene resins, phenol resins, polyurethane resins, crosslinked acrylic resins, Filler made of organic resin such as crosslinked polystyrene resin, melamine resin, benzoguanamine resin; or inorganic such as titanium oxide, aluminum oxide, indium oxide, zinc oxide, antimony oxide, tin oxide, zirconium oxide, ITO, magnesium fluoride, silicon oxide The filler which consists of a compound can be mentioned.

ハードコート層は、その屈折率nが、その上に積層される後述の反射防止層の屈折率nとの間に、n≧1.53、及びn 1/2-0.2<n<n 1/2+0.2、の関係を有することが、反射防止機能を発現させるために好ましい。 The hard coat layer has a refractive index n H between the refractive index n L of an antireflection layer to be described later and n H ≧ 1.53 and n H 1/2 −0.2. It is preferable to have a relationship of <n L <n H 1/2 +0.2 in order to develop the antireflection function.

(反射防止層)
反射防止層は、外光の移りこみを防止するための層であり、基材フィルムの表面(外部に露出する面)に直接またはハードコート層等の他の層を介して積層される層である。反射防止層を有する保護フィルムは、入射角5°、波長430nm〜700nmにおける反射率が2.0%以下であることが好ましく、波長550nmにおける反射率が1.0%以下であることが好ましい。
(Antireflection layer)
The antireflection layer is a layer for preventing the transfer of external light, and is a layer laminated on the surface (surface exposed to the outside) of the base film directly or via another layer such as a hard coat layer. is there. The protective film having an antireflection layer preferably has a reflectance of 2.0% or less at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 430 nm to 700 nm, and preferably has a reflectance of 1.0% or less at a wavelength of 550 nm.

反射防止層の厚みは、0.01μm〜1μmが好ましく、0.02μm〜0.5μmがより好ましい。反射防止層は、当該反射防止層が積層される基材となる層(基材フィルムやハードコート層など)の屈折率よりも小さい、好ましくはその屈折率が1.30〜1.45である低屈折率層を積層したもの、無機化合物からなる低屈折率層と無機化合物からなる高屈折率層とを繰り返し積層したもの、などを挙げることができる。   The thickness of the antireflection layer is preferably 0.01 μm to 1 μm, and more preferably 0.02 μm to 0.5 μm. The antireflective layer is smaller than the refractive index of the layer (base film, hard coat layer, etc.) serving as a substrate on which the antireflective layer is laminated, and preferably has a refractive index of 1.30 to 1.45. Examples include those obtained by laminating a low refractive index layer, and those obtained by repeatedly laminating a low refractive index layer made of an inorganic compound and a high refractive index layer made of an inorganic compound.

前記低屈折率層を形成する材料(低屈折率形成用材料)は、被積層体の屈折率の低いものであれば特に制限されない。低屈折率層の形成法は、特に制限されないが、湿式塗工法が、真空蒸着法等に比べて簡易な方法であるため好ましい。低屈折率形成用材料としては、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル材料等を挙げることができる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、前駆体となるモノマーやオリゴマーであってもよい。また、それぞれの材料は、表面の防汚染性付与するために、フッ素基を含有する化合物を含むことが好ましい。   The material for forming the low refractive index layer (low refractive index forming material) is not particularly limited as long as the layered body has a low refractive index. The method for forming the low refractive index layer is not particularly limited, but the wet coating method is preferable because it is a simpler method than the vacuum deposition method or the like. Examples of the low refractive index forming material include a resin material such as an ultraviolet curable acrylic resin, a hybrid material in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, and a sol-gel using a metal alkoxide such as tetraethoxysilane. Materials etc. can be mentioned. The material for forming these low refractive index layers may be a polymerized polymer, or may be a monomer or oligomer serving as a precursor. Moreover, it is preferable that each material contains the compound containing a fluorine group, in order to provide the surface antifouling property.

ゾル−ゲル材料としては、フッ素基を含有するゾル−ゲル材料を用いることができる。フッ素基を含有するゾル−ゲル材料としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式(1):CF(CF)nCHCHSi(OR)(式中、Rは、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物を挙げることができる。具体的には、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等を挙げることができる。この中でも、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、前記nが2〜6の化合物が好ましい。 As the sol-gel material, a sol-gel material containing a fluorine group can be used. Examples of the sol-gel material containing a fluorine group include perfluoroalkylalkoxysilane. As perfluoroalkyl alkoxysilane, for example, general formula (1): CF 3 (CF 2 ) nCH 2 CH 2 Si (OR) 3 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, n represents an integer of 0 to 12). Specifically, as perfluoroalkylalkoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane , And heptadecafluorodecyltriethoxysilane. Among these, as a perfluoroalkyl alkoxysilane, the said n is a compound with 2-6.

また、低屈折率層は、熱硬化性含フッ素化合物または電離放射線硬化型の含むフッ素化合物の硬化物からなるものとすることができる。前記硬化物は、その動摩擦係数が0.03〜0.15であることが好ましく、水に対する接触角が90〜120度であることが好ましい。硬化性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体を挙げることができる。   The low refractive index layer can be made of a cured product of a thermosetting fluorine-containing compound or a fluorine compound containing an ionizing radiation curable type. The cured product preferably has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15, and a contact angle with water of 90 to 120 degrees. Examples of the curable fluorine-containing compound include a perfluoroalkyl group-containing silane compound (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane), etc. And a fluorine-containing copolymer having the above monomer as a structural unit.

含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)を挙げることができる。後者は、共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平10−25388号公報および特開平10−147739号公報に開示されている。   Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), (Meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. As a monomer for imparting a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule like glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, etc. ) Acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.). The latter is disclosed in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739 that a crosslinked structure can be introduced after copolymerization.

低屈折率層を形成するための材料としては、耐傷性を向上できる点で、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム等の微粒子をアルコール溶媒に分散したゾルが含まれたものを用いることができる。この際、前記微粒子は、反射防止性の観点から、屈折率が低いほど好ましい。このような微粒子としては、空隙を有するものであってもよく、特にシリカ中空微粒子が好ましい。中空微粒子の平均粒径は、5nm〜2,000nmが好ましく、20nm〜100nmがより好ましい。ここで、平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。   As a material for forming the low refractive index layer, a material containing a sol in which fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, magnesium fluoride and the like are dispersed in an alcohol solvent is used because it can improve scratch resistance. Can do. In this case, the fine particles are preferably as low as possible from the viewpoint of antireflection properties. Such fine particles may have voids, and silica hollow fine particles are particularly preferable. The average particle size of the hollow fine particles is preferably 5 nm to 2,000 nm, and more preferably 20 nm to 100 nm. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.

なお、含フッ素化合物の硬化物からなる低屈折率層では、その硬化物の屈折率を下げていくと低屈折率層の耐傷性が低下する傾向にあるため、硬化物のみの屈折率と微粒子の添加量とを最適化することにより、耐傷性と低屈折率を両立できる。   In the case of a low refractive index layer made of a cured product of a fluorine-containing compound, the scratch resistance of the low refractive index layer tends to decrease when the refractive index of the cured product is lowered. By optimizing the amount of addition, it is possible to achieve both scratch resistance and a low refractive index.

ここで、低屈折率層を形成する方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、およびグラビアコート法等の塗工法を挙げることができる。低屈折率層の厚さは、0.05μm〜0.3μm程度、特に0.1μm〜0.3μmが好ましい。   Here, examples of the method for forming the low refractive index layer include coating methods such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, and gravure coating. The thickness of the low refractive index layer is preferably about 0.05 μm to 0.3 μm, particularly preferably 0.1 μm to 0.3 μm.

(防汚層)
防汚層は、被積層体の表面に撥水性、撥油性、耐汗性、および防汚性などを付与できる層である。防汚層を形成するために用いる材料としては、フッ素含有有機化合物が好適である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などを挙げることができる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、CVD等の化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚みは、好ましくは1nm〜50nm、より好ましくは3nm〜35nmである。
(Anti-fouling layer)
The antifouling layer is a layer that can impart water repellency, oil repellency, sweat resistance, antifouling properties, and the like to the surface of the laminate. As a material used for forming the antifouling layer, a fluorine-containing organic compound is suitable. Examples of the fluorine-containing organic compound include fluorocarbon, perfluorosilane, and polymer compounds thereof. As a method for forming the antifouling layer, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering, a chemical vapor deposition method such as CVD, a wet coating method, or the like can be used depending on the material to be formed. The average thickness of the antifouling layer is preferably 1 nm to 50 nm, more preferably 3 nm to 35 nm.

以上のような機能層を形成する場合には、被積層体の表面に親水化処理を施すことができる。親水化処理の手段としては、例えば、コロナ放電処理、スパッタ処理、低圧UV照射、およびプラズマ処理などの表面処理法を採用できる。   When the functional layer as described above is formed, the surface of the laminated body can be subjected to a hydrophilic treatment. As means for hydrophilic treatment, for example, surface treatment methods such as corona discharge treatment, sputtering treatment, low-pressure UV irradiation, and plasma treatment can be employed.

前記保護フィルムの残留溶剤含有量は、0.01重量%以下である。残留溶剤量が上記範囲であることにより、例えば、高温・高湿度環境下において保護フィルムから揮発した溶剤によって、貼付対象である光学部品から当該保護フィルムが剥れるのを防止でき、さらに、当該保護フィルムが変形するのを防止できることにより、光学部品(例えば、偏光子)の光学性能への影響を抑えることもできる。残留溶剤量が上記範囲となる保護フィルムは、例えば、複数の樹脂を共押出成形して得てもよいし、単層の熱可塑性樹脂層をドライラミネーション、熱ラミネーションにより貼り合わせ得てもよい。ただし、生産性の点で共押出成形により得たものが好ましい。共押出成形の場合には、複雑な工程(例えば、乾燥工程や塗工工程)を経なくてもよいため、ゴミなどの外部異物の混入が少なく、優れた光学性能を発揮できる。   The residual solvent content of the protective film is 0.01% by weight or less. When the amount of the residual solvent is within the above range, for example, the protective film can be prevented from being peeled off from the optical component to be applied by the solvent volatilized from the protective film in a high temperature / high humidity environment. By preventing the film from being deformed, the influence on the optical performance of the optical component (for example, a polarizer) can be suppressed. The protective film in which the residual solvent amount falls within the above range may be obtained, for example, by co-extrusion molding of a plurality of resins, or a single thermoplastic resin layer may be bonded by dry lamination or thermal lamination. However, those obtained by coextrusion molding are preferred in terms of productivity. In the case of coextrusion molding, it is not necessary to go through a complicated process (for example, a drying process or a coating process). Therefore, there is little mixing of external foreign matters such as dust, and excellent optical performance can be exhibited.

保護フィルムの透湿度が10g/m・24h以上であることが好ましく、10g/m・24h〜200g/m・24hであることがより好ましい。保護フィルムの透湿度を上記好適な範囲とすることにより、保護フィルムを構成する各層間の密着性を向上できる。なお、透湿度は、40℃、92%RHの環境下で、24時間放置する試験条件で、JIS Z 0208に記載のカップ法により測定できる。 Preferably the moisture permeability of the protective film is 10g / m 2 · 24h or more, more preferably 10g / m 2 · 24h~200g / m 2 · 24h. By setting the moisture permeability of the protective film to the above-mentioned preferable range, the adhesion between the layers constituting the protective film can be improved. The moisture permeability can be measured by the cup method described in JIS Z 0208 under the test conditions of leaving for 24 hours in an environment of 40 ° C. and 92% RH.

保護フィルムは、全光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。また、当該保護フィルムは、ヘーズが2%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。   The protective film preferably has a total light transmittance of 85% or more, and more preferably 90% or more. The protective film preferably has a haze of 2% or less, and more preferably 1% or less.

保護フィルムの光弾性係数の絶対値が30×10−13cm/dyn以下であることが好ましく、10×10−13cm/dyn以下であることがより好ましく、5×10−13cm/dyn以下であることがさらに好ましい。光弾性係数が上記数値よりも大きくなると、例えば、当該保護フィルムを偏光子に貼付した場合には、貼付された偏光子の収縮応力により、保護フィルムに位相差が発現しやすくなり、偏光フィルムの光学性能を低下させるおそれがある。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the protective film is preferably 30 × 10 −13 cm 2 / dyn or less, more preferably 10 × 10 −13 cm 2 / dyn or less, and more preferably 5 × 10 −13 cm 2. More preferably, it is not more than / dyn. When the photoelastic coefficient is larger than the above numerical value, for example, when the protective film is attached to the polarizer, the protective film tends to develop a phase difference due to the shrinkage stress of the attached polarizer, There is a risk of deteriorating optical performance.

保護フィルムは、面内レターデーションRe(Re=d×(n-n)で定義される値、n、nは、当該保護フィルムの面内主屈折率;dは当該保護フィルムの平均厚み)が小さいものが好ましい。具体的には、当該保護フィルムの面内レターデーションReは、波長550nmにおいて50nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましい。 Protective film is a value defined by the in-plane retardation Re (Re = d × (n x -n y), n x, n y are in-plane principal refractive index of the protective film; d is of the protective film Those having a small (average thickness) are preferred. Specifically, the in-plane retardation Re of the protective film is preferably 50 nm or less, more preferably 10 nm or less at a wavelength of 550 nm.

保護フィルムは、親水性樹脂層における380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率をna(λ)、この親水性樹脂層に隣接する層における380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率をnb(λ)として、式(1)の関係を満たすことが好ましい。
|na(λ)−nb(λ)| ≦ 0.05 (1)
特に、|na(λ)−nb(λ)|≦0.045であることがより好ましい。なお、na(λ)及びnb(λ)は、波長λにおける主屈折率の平均値である。|na(λ)−nb(λ)|の値が上記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、保護フィルムの表面に干渉縞が生じるおそれがある。
The protective film has a refractive index na (λ) at a wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm in the hydrophilic resin layer, and a refractive index at a wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm in a layer adjacent to the hydrophilic resin layer. As λ), it is preferable to satisfy the relationship of the formula (1).
| Na (λ) −nb (λ) | ≦ 0.05 (1)
In particular, it is more preferable that | na (λ) −nb (λ) | ≦ 0.045. Note that na (λ) and nb (λ) are average values of the main refractive indexes at the wavelength λ. When the value of | na (λ) −nb (λ) | exceeds the above value, interference fringes may occur on the surface of the protective film due to interface reflection caused by a difference in refractive index at the interface.

<保護フィルムの用途>
保護フィルムは、例えば、光学用途に用いられる下記光学部品の保護フィルムとして用いられる。すなわち、光学部品としては、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)の表示面側に配置される部材とすることができる。このような光学部品としては、液晶表示装置(LCD)に用いられる偏光板(もしくは偏光子)や、プラズマディスプレイパネル(PDP)の前面フィルタ、タッチパネル、電界放射型ディスプレイ(FED)、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)の表示面等を挙げることができる。また、本発明の保護フィルムを陰極管表示装置(CRT)の表示面に貼付することもできる。また、保護フィルムは、自動車や電車等、建築物等に設けられている窓ガラスに貼付して用いることもできる。
<Uses of protective film>
A protective film is used as a protective film of the following optical component used for an optical use, for example. That is, as an optical component, it can be set as the member arrange | positioned at the display surface side of a flat panel display (FPD), for example. Examples of such optical components include polarizing plates (or polarizers) used in liquid crystal display devices (LCDs), front filters for plasma display panels (PDPs), touch panels, field emission displays (FEDs), and electroluminescence displays. (ELD) display surface and the like. Moreover, the protective film of this invention can also be affixed on the display surface of a cathode ray tube display (CRT). Further, the protective film can be used by being attached to a window glass provided in a building such as an automobile or a train.

本発明について、実施例および比較例により、より詳細に説明する。
実施例および比較例に示す偏光板および表示装置は、下記の方法により評価を行った。
The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples.
The polarizing plates and display devices shown in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.

<ハードコート層および低屈折率層の屈折率>
高速分光エリプソメトリ(J.A.Woollam社製、M-2000U)を用い,温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、入射角度55度、60度、及び65度で、波長領域400〜1000nmのスペクトルを測定し、これらの測定結果から算出した。
<Refractive index of hard coat layer and low refractive index layer>
Using high-speed spectroscopic ellipsometry (manufactured by JA Woollam, M-2000U) under the conditions of a temperature of 20 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 60 ± 5%, the incident angles are 55 °, 60 °, and 65 °, A spectrum in the wavelength region of 400 to 1000 nm was measured and calculated from these measurement results.

<各樹脂層の屈折率>
熱可塑性樹脂を単層にて成形し、プリズムカプラー(Metricon社製、model2010)を用い、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、波長633nm、407nm、532nmにおける屈折率の値から、Caucyの分散式により、380nm〜780nmの屈折率を算出した。
<Refractive index of each resin layer>
A thermoplastic resin is molded into a single layer, and a refractive index at wavelengths of 633 nm, 407 nm, and 532 nm under the conditions of a temperature of 20 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 60 ± 5% using a prism coupler (manufactured by Metricon, model 2010). From the value, the refractive index of 380 nm to 780 nm was calculated by the Caucy's dispersion formula.

<各樹脂層の引張弾性率>
熱可塑性樹脂を単層にて成形して、1cm×25cmの試験片を切り出し、ASTM882に基づき、引張試験機(東洋ボールドウィン社製、テンシロンUTM-10T-PL)を用いて引張速度25mm/minの条件で測定した。同様の測定を5回行い、その算術平均値を引張弾性率の代表値とした。
<Tensile elastic modulus of each resin layer>
A thermoplastic resin is molded as a single layer, a 1 cm × 25 cm test piece is cut out, and a tensile tester (Tensilon UTM-10T-PL, manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.) is used at a tensile speed of 25 mm / min based on ASTM882. Measured under conditions. The same measurement was performed 5 times, and the arithmetic average value was taken as the representative value of the tensile modulus.

<各樹脂層の膜厚>
保護フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム(大和工業社製、RUB-2100)を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し測定した。
<Thickness of each resin layer>
After embedding the protective film in an epoxy resin, it was sliced using a microtome (manufactured by Yamato Kogyo Co., Ltd., RUB-2100), and the cross section was observed and measured using a scanning electron microscope.

<保護フィルムの透湿度>
40℃、92%RHの環境下に24時間放置する試験条件で、JIS Z 0208に記載のカップ法に準じた方法で測定した。透湿度の単位はg/m・24hである。
<Water permeability of protective film>
The measurement was performed by a method according to the cup method described in JIS Z 0208 under the test conditions of leaving for 24 hours in an environment of 40 ° C. and 92% RH. The unit of moisture permeability is g / m 2 · 24h.

<保護フィルムの残留溶剤含有量>
保護フィルムの残留溶剤含有量は、表面に吸着していた水分や有機物を完全に除去した内径4mmのガラスチューブの試料容器に保護フィルム50mgを入れた後、その容器を温度200℃で30分間加熱し、容器から出てきた気体を連続的に捕集した。そして、捕集した気体を熱脱着ガスクロマトグラフィー質量分析計(TDS-GC-MS)で分析した。
<Residual solvent content of protective film>
The residual solvent content of the protective film was determined by adding 50 mg of protective film to a glass tube sample container with an inner diameter of 4 mm from which moisture and organic substances adsorbed on the surface were completely removed, and then heating the container at a temperature of 200 ° C. for 30 minutes. And the gas which came out of the container was collected continuously. The collected gas was analyzed by a thermal desorption gas chromatography mass spectrometer (TDS-GC-MS).

<線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅の測定方法>
前述した方法により、線状凹部の深さ、線状凸部の高さ、およびこれらの幅を測定した。得られた凹部深さ及び凸部高さの最大値、その最大値を示した凹部の幅及び凸部の幅を、そのフィルムの線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅とし、以下の基準で評価した。
◎:線状凹部の深さ、または凸部の高さが20nm以下で,且つ幅が800nm以上
○:線状凹部の深さ、または凸部の高さが30nm以下で、且つ幅が700nm以上
×:線状凹部の深さ、または凸部の高さが50nm以下で、且つ幅が500nm以上
<Measuring method of depth of linear concave part, height of linear convex part and their width>
By the method described above, the depth of the linear concave portion, the height of the linear convex portion, and the width thereof were measured. The maximum value of the obtained concave depth and convex height, the width of the concave portion and the width of the convex portion showing the maximum value, the depth of the linear concave portion of the film, the height of the linear convex portion and those And evaluated according to the following criteria.
A: Depth of linear recess or height of projection is 20 nm or less and width is 800 nm or more. O: Depth of linear recess or height of projection is 30 nm or less and width is 700 nm or more. X: Depth of linear concave part or height of convex part is 50 nm or less and width is 500 nm or more

<密着性>
保護フィルムを温度60℃、湿度90%で300時間放置し、放置後の保護フィルム端面の界面剥離を目視観察した。
○:剥離なし
×:端面に剥離が見られる
<Adhesion>
The protective film was allowed to stand at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% for 300 hours, and the interface peeling of the protective film end face after the standing was visually observed.
○: No peeling ×: Peeling is observed on the end face

<鉛筆硬度>
JIS K5600−5−4を参考にして、上から500gの荷重を掛けるとともに、45度の角度に傾けた鉛筆で、保護フィルムの表面(偏光子側とは反対側の面)を5mm程度引っかき、傷の付き具合を確認した。
<Pencil hardness>
With reference to JIS K5600-5-4, while applying a load of 500 g from above, scratch the surface of the protective film (surface opposite to the polarizer side) by about 5 mm with a pencil inclined at an angle of 45 degrees. The degree of damage was confirmed.

<干渉縞観察>
暗幕のような光を通さない黒布の上に保護フィルムを置き、三波長蛍光灯(松下電器社製、ナショナル蛍光灯:FL20SS・ENW/18)で照らして、保護フィルムの表面を目視観察し、以下の基準で評価した。
○:干渉縞が見えない
△:干渉縞がうっすらと見える
×:干渉縞が目立つ
<Observation of interference fringes>
A protective film is placed on a black cloth that does not transmit light, such as a dark curtain, and the surface of the protective film is visually observed with a three-wavelength fluorescent lamp (manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., National Fluorescent Lamp: FL20SS / ENW / 18). The evaluation was based on the following criteria.
○: Interference fringes are not visible △: Interference fringes are slightly visible ×: Interference fringes are conspicuous

<可撓性試験>
保護フィルムを1cm×5cmに打ち抜いて試験フィルムを得た。得られた試験フィルム3mmφのスチール製の棒に巻きつけ、巻きつけたフィルムが棒のところで折れるか否かをテストした。合計10回テストを行い、折れなかった回数によって下記指標で可撓性を表した。
○:割れたフィルム片が1枚以下
×:割れたフィルム片が2枚以上
<Flexibility test>
A protective film was punched into 1 cm × 5 cm to obtain a test film. The obtained test film was wound around a steel rod having a diameter of 3 mmφ, and whether or not the wound film was broken at the rod was tested. The test was conducted a total of 10 times, and the flexibility was expressed by the following index according to the number of times the test was not broken.
○: One or less pieces of broken film ×: Two or more pieces of broken film

<カール性の評価>
保護フィルムを10cm×10cmの大きさに切り出し、水平盤上に置き、試験片のカール状態を観察して次の基準にてカール性を評価した。
◎:全くカールが認められず、良好
○:殆ど目立たないが、わずかにカールが認められる。
×:明らかにカールが認められ、実用上問題のあるレベル。
<Evaluation of curling properties>
The protective film was cut into a size of 10 cm × 10 cm, placed on a horizontal plate, the curl state of the test piece was observed, and the curl property was evaluated according to the following criteria.
A: No curling is observed and good. B: Almost inconspicuous but slightly curled.
X: Curl is clearly recognized and there is a problem in practical use.

<耐久性試験>
本保護フィルムを含む、液晶ディスプレイまたはプラズマディスプレイを、温度60℃、湿度90%の恒温槽に500時間放置した後に取り出して、以下の項目について評価を行った。
(気泡の有無)
表面に発生した気泡の数を目視で計測した。
○:気泡が見られない
×:気泡が見られる
(剥れの有無)
保護フィルム端面での剥れを目視判定した。
○:剥れが見られない
×:剥れが見られる
<Durability test>
The liquid crystal display or plasma display including this protective film was taken out after being left in a thermostatic bath having a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% for 500 hours, and the following items were evaluated.
(With or without air bubbles)
The number of bubbles generated on the surface was visually measured.
○: No bubbles are observed ×: Bubbles are observed (existence of peeling)
The peeling at the end face of the protective film was visually judged.
○: Peeling is not seen ×: Peeling is seen

<製造例1:セルロースアセテートブチレートの製造>
親水性基を有する高分子化合物であるアセチルアシルセルロースとしてのセルロースアセテートブチレート(アセチル基の置換度:1.0、ブチリル基の置換度:1.7、重量平均分子量:15.5万;イーストマンケミカル社製CAB−381−20)91重量%と、可塑剤であるジグリセリンテトラカプリレート9重量%を二軸エクストルーダーを用いて190℃で混練し、5mm程度にカッティングしてセルロースアセテートブチレートを得た。
<Production Example 1: Production of cellulose acetate butyrate>
Cellulose acetate butyrate as acetylacylcellulose which is a polymer compound having a hydrophilic group (acetyl group substitution degree: 1.0, butyryl group substitution degree: 1.7, weight average molecular weight: 155,000; yeast Cellulose acetate butyrate by kneading 91% by weight of CAB-381-20) manufactured by Man Chemical Co., Ltd. and 9% by weight of diglycerin tetracaprylate, a plasticizer, at 190 ° C. using a biaxial extruder and cutting to about 5 mm. Got the rate.

<製造例2:マレイミド・オレフィン共重合体の製造>
攪拌機、窒素導入管、温度計および脱気管の付いた反応釜にN−メチルマレイミド100重量部に対し、t−ブチルパーオキシネオデカノエート0.67重量部およびトルエンとメタノールの混合溶媒(1:1重量比)1050重量部を仕込み、窒素で数回パージした後、イソブテン400重量部を仕込み、60℃で6時間反応を行った。得られたN−メチルマレイミド・イソブテン共重合体粒子を遠心分離後乾燥した。得られたN−メチルマレイミド・イソブテン共重合体の元素分析結果(C;64.7重量%、H;7.8重量%、N;8.4重量%)より、生成N−メチルマレイミド・イソブテン共重合体中のN−メチルマレイミド単位及びイソブテン単位は、それぞれ50モル%であった。上記N−メチルマレイミド・イソブテン共重合体80重量%およびアクリロニトリル含量30重量%のアクリロニトリル・スチレン共重合体20重量%をドライブレンドした後、30mmφ2軸押出機(株式会社日本製鋼所製、商品名TEX30)に供し、溶融混練の後、ペレット化した。得られた樹脂組成物ペレットのガラス転移温度は140℃であった。
<Production Example 2: Production of maleimide / olefin copolymer>
In a reaction kettle equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a thermometer, and a deaeration tube, 100 parts by weight of N-methylmaleimide, 0.67 parts by weight of t-butylperoxyneodecanoate and a mixed solvent of toluene and methanol (1 : 1 part by weight) 1050 parts by weight were charged and purged several times with nitrogen, and then 400 parts by weight of isobutene was added and reacted at 60 ° C. for 6 hours. The obtained N-methylmaleimide / isobutene copolymer particles were centrifuged and dried. From the results of elemental analysis of the obtained N-methylmaleimide / isobutene copolymer (C; 64.7% by weight, H; 7.8% by weight, N; 8.4% by weight), the produced N-methylmaleimide / isobutene The N-methylmaleimide unit and isobutene unit in the copolymer were each 50 mol%. After dry blending 80% by weight of the N-methylmaleimide / isobutene copolymer and 20% by weight of an acrylonitrile / styrene copolymer having an acrylonitrile content of 30% by weight, a 30 mmφ twin screw extruder (trade name: TEX30, manufactured by Nippon Steel Works, Ltd.) And pelletized after melt-kneading. The glass transition temperature of the obtained resin composition pellet was 140 ° C.

<製造例3:ハードコート材料Hの調製>
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート30部、および2,2-ジフェニルエタン-1-オン10部を、ホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子(平均粒子径20nm、水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に1つの割合で結合している)の40%メチルイソブチルケトン溶液を、五酸化アンチモン微粒子の重量がハードコート層形成用組成物全固形分の50重量%を占める割合で混合して、ハードコート材料Hを調製した。
<Production Example 3: Preparation of hard coat material H>
30 parts of a hexafunctional urethane acrylate oligomer, 40 parts of butyl acrylate, 30 parts of isobornyl methacrylate, and 10 parts of 2,2-diphenylethane-1-one were mixed with a homogenizer, and antimony pentoxide fine particles (average particle diameter of 20 nm, A 40% methyl isobutyl ketone solution in which the hydroxyl group is bonded to the antimony atoms appearing on the surface of the pyrochlore structure at a ratio of 50%, and the weight of the antimony pentoxide fine particles is 50% of the total solid content of the hard coat layer forming composition. The hard coat material H was prepared by mixing at a ratio of weight%.

<製造例4:低屈折率形成用材料Lの調製)
含フッ素モノマーである、フッ化ビニデリン70重量部およびテトラフルオロエチレン30重量部をメチルイソブチルケトンに溶解した。次に、この溶解物に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を、含フッ素モノマー固形分に対して中空シリカ固形分で30重量%、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(信越化学社製)を前記固形分に対して3重量%、光ラジカル発生剤イルガキュア184(チバ・スペシャリティケミカルズ社製)を前記固形分に対して5重量%添加し、低屈折率形成用材料Lを調製した。
<Production Example 4: Preparation of low refractive index forming material L)
70 parts by weight of vinylidene fluoride and 30 parts by weight of tetrafluoroethylene, which are fluorine-containing monomers, were dissolved in methyl isobutyl ketone. Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., solid content: 20% by weight, average primary particle diameter: about 35 nm, outer shell thickness: about 8 nm) is hollowed into this dissolved matter with respect to the fluorine-containing monomer solid content. 30% by weight of silica solid content, 3% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with respect to the solid content, and Irgacure 184 (produced by Ciba Specialty Chemicals) with respect to the solid content 5% by weight was added to prepare a low refractive index forming material L.

<製造例5:トリアセチルセルロースフィルムの作製>
酢化度61.0%のトリアセチルセルロース(TAC)100質量部とトリフェニルフォスフェート15質量部を塩化メチレン450質量部とメタノール50質量部の混合溶媒に溶解し、35℃のステンレスベルト上に流延し、剥離可能となったところでステンレスベルトから剥がし、ロール搬送装置を用いて搬送しながら、徐々に温度を上げ、最終的に120℃で乾燥しトリアセチルセルロースフィルムを作製した。
<Production Example 5: Production of triacetyl cellulose film>
100 parts by mass of triacetyl cellulose (TAC) having an acetylation degree of 61.0% and 15 parts by mass of triphenyl phosphate are dissolved in a mixed solvent of 450 parts by mass of methylene chloride and 50 parts by mass of methanol and placed on a 35 ° C. stainless steel belt. The film was cast and peeled off from the stainless steel belt and gradually raised in temperature while being conveyed using a roll conveying device, and finally dried at 120 ° C. to produce a triacetyl cellulose film.

<実施例1>
(保護フィルムの作成)
ポリメチルメタクリレート樹脂(表中PMMAと表記、吸水率0.3%)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置した第1のダブルフライト型一軸押出機に投入し、押出機出口温度260℃で溶融樹脂を、マルチマニホールドダイを構成する、ダイスリップの表面粗さRaが0.1μmである第1のマニホールドダイに供給した。
<Example 1>
(Creation of protective film)
Polymethylmethacrylate resin (indicated as PMMA in the table, water absorption 0.3%) was charged into the first double-flight type single screw extruder equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with an opening of 10 μm, and the exit temperature of the extruder The molten resin was supplied at 260 ° C. to the first manifold die constituting the multi-manifold die and having a die slip surface roughness Ra of 0.1 μm.

また、製造例1で得られたセルロースアセテートブチレート(表中CABと表記、吸水率1.6%)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置した第2のダブルフライト型の一軸押出機に導入し、押出機出口温度260℃で溶融樹脂を、マルチマニホールドダイを構成する、ダイスリップの表面粗さRaが0.1μmである第2のマニホールドダイに供給した。そして、溶融状態のポリメチルメタクリレート樹脂、セルロースアセテートブチレート、接着剤としてエチレン−酢酸ビニル共重合体のそれぞれをマルチマニホールドダイから260℃で吐出させ、130℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、50℃に温度調整された冷却ロールに通して、ポリメチルメタクリレート樹脂層(20μm:樹脂層A)−接着層(4μm)−セルロースアセテートブチレート層(32μm:樹脂層B)−接着層(4μm)−ポリメチルメタクリレート樹脂層(20μm:樹脂層C)の3層構成からなる、幅600mm、厚さ80μmの基材フィルム1を共押出成形により得た。   In addition, the cellulose acetate butyrate obtained in Production Example 1 (indicated as CAB in the table, water absorption 1.6%) is a second double-flight type uniaxial shaft provided with a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 10 μm. The molten resin was introduced into the extruder at an extruder outlet temperature of 260 ° C., and supplied to a second manifold die constituting the multi-manifold die with a die slip surface roughness Ra of 0.1 μm. Then, molten polymethyl methacrylate resin, cellulose acetate butyrate, and ethylene-vinyl acetate copolymer as an adhesive are each discharged from a multi-manifold die at 260 ° C. and cast onto a cooling roll adjusted to 130 ° C. Then, it is passed through a cooling roll whose temperature is adjusted to 50 ° C., and a polymethyl methacrylate resin layer (20 μm: resin layer A) —adhesive layer (4 μm) —cellulose acetate butyrate layer (32 μm: resin layer B) —adhesive layer A base film 1 having a width of 600 mm and a thickness of 80 μm composed of a three-layer structure of (4 μm) -polymethyl methacrylate resin layer (20 μm: resin layer C) was obtained by coextrusion molding.

(反射防止層の形成)
基材フィルム1の両面に、高周波発信機(出力0.8KW)を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力が0.055N/mの基材フィルム1Aを得た。次に、基材フィルム1Aの片面に、温度25℃、湿度60%RHの環境下で、ダイコーターを用いてハードコート材料Hを塗工し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm)して、厚さ5μmのハードコート層を形成し、ハードコート層付き基材フィルム1Bを得た。ハードコート層の屈折率は1.62であり、ハードコート層側の鉛筆硬度が4Hを越えるものであった。
(Formation of antireflection layer)
Corona discharge treatment was performed on both surfaces of the base film 1 using a high frequency transmitter (output 0.8 kW) to obtain a base film 1A having a surface tension of 0.055 N / m. Next, the hard coat material H is applied to one side of the base film 1A using a die coater in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH, and dried in a drying furnace at 80 ° C. for 5 minutes. A film was obtained. Further, this film was irradiated with ultraviolet rays (integrated irradiation amount 300 mJ / cm 2 ) to form a hard coat layer having a thickness of 5 μm to obtain a base film 1B with a hard coat layer. The refractive index of the hard coat layer was 1.62, and the pencil hardness on the hard coat layer side exceeded 4H.

ハードコート層付き基材フィルム1Bのハードコート層側に、温度25℃、湿度60%RHの環境下でワイヤーバーコーターを用いて低屈折率層形成用材料Lを塗工し、1時間放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、次いで出力160W/cm、照射距離60mmの条件で低圧水銀ランプにより紫外線を照射して厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.37)を形成し保護フィルム1を得た。保護フィルム1は、その残留溶剤含有量が0.01重量%以下であり、光弾性係数が2×10−13cm/dynであった。また、保護フィルムの表面の、線状凹部の深さまたは凸部の高さは、20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であった。 On the hard coat layer side of the base film 1B with the hard coat layer, a low refractive index layer forming material L is applied using a wire bar coater in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH, and left for 1 hour. The coating obtained was heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere, and then irradiated with ultraviolet light from a low-pressure mercury lamp under the conditions of an output of 160 W / cm and an irradiation distance of 60 mm, and a low refractive index of 100 nm in thickness. A layer (refractive index 1.37) was formed to obtain the protective film 1. The protective film 1 had a residual solvent content of 0.01% by weight or less and a photoelastic coefficient of 2 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth of the linear recessed part or the height of the convex part of the surface of the protective film was 20 nm or less, and the width | variety was the range of 800 nm or more.

<実施例2>
実施例1においてポリメチルメタクリレート樹脂の代わりに製造例2で得られたマレイミド・オレフィン共重合体(表中、MIOと表記)を用いる他は、実施例1と同様にして基材フィルムを得、この基材フィルム上に前記ハードコート層および低屈折率層を積層して保護フィルム2を作製した。保護フィルム2は、その残留溶剤含有量が0.01重量%以下であり、光弾性係数が9.5×10−13cm/dynであった。また、保護フィルム2の表面の、線状凹部の深さまたは凸部は、その高さが20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であった。ハードコート層側の鉛筆硬度が4Hを越えるものであった。
<Example 2>
A base film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the maleimide / olefin copolymer obtained in Production Example 2 (indicated in the table as MIO) was used instead of the polymethyl methacrylate resin in Example 1. A protective film 2 was produced by laminating the hard coat layer and the low refractive index layer on the base film. The protective film 2 had a residual solvent content of 0.01% by weight or less and a photoelastic coefficient of 9.5 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth or convex part of the linear recessed part of the surface of the protective film 2 was the range whose height is 20 nm or less and whose width is 800 nm or more. The pencil hardness on the hard coat layer side exceeded 4H.

<比較例1:親水性樹脂層なし>
厚み32μmの脂環式オレフィン樹脂フィルム(日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム、表中COPと表記)の両面に、ポリスチレン樹脂(表中、PSと表記)からなる厚み20μmの単層押出成形フィルムを圧着ラミネートより貼り合せた基材フィルムを得、この基材フィルム上に前記ハードコート層および低屈折率層を積層して保護フィルム3を作製した。保護フィルム3は、その残留溶剤含有量が0.01重量%以下であり、光弾性係数が6.0×10−13cm/dynであった。また、保護フィルムの表面の、線状凹部の深さまたは凸部は、その高さが20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であった。
<Comparative Example 1: No hydrophilic resin layer>
A 20 μm-thick single-layer extrusion film made of polystyrene resin (shown as PS in the table) is pressure-bonded to both sides of a 32 μm-thick alicyclic olefin resin film (manufactured by Zeon Corporation, ZEONOR film, indicated as COP in the table) The base film bonded from the laminate was obtained, and the protective film 3 was produced by laminating the hard coat layer and the low refractive index layer on the base film. The protective film 3 had a residual solvent content of 0.01% by weight or less and a photoelastic coefficient of 6.0 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth or convex part of the linear recessed part of the surface of a protective film was the range whose height is 20 nm or less and whose width is 800 nm or more.

<比較例2:親水性樹脂層としてトリアセチルセルロースフィルムを使用>
製造例5で得られた厚み32μmのトリアセチルセルロースフィルム(表中TACと表記、吸水率4%)の両面にポリメチルメタクリレート樹脂からなる厚み20μmの単層押出成形フィルムをアクリル系接着剤により貼り合せて基材フィルムを得、この基材フィルム上に前記ハードコート層および低屈折率層を積層して保護フィルム4を作製した。保護フィルム4は、その残留溶剤含有量が0.2重量%であり、光弾性係数が2×10−13cm/dynであった。また、保護フィルム4の表面の、線状凹部の深さまたは凸部は、その高さが30nm以下であり、かつ幅が700nm以上の範囲であった。
<Comparative Example 2: Use of triacetyl cellulose film as hydrophilic resin layer>
A single-layer extruded film of 20 μm thickness made of polymethylmethacrylate resin is attached to both sides of the 32 μm-thick triacetyl cellulose film obtained in Production Example 5 (indicated as TAC in the table, water absorption 4%) with an acrylic adhesive. In addition, a base film was obtained, and the hard coat layer and the low refractive index layer were laminated on the base film to prepare a protective film 4. The protective film 4 had a residual solvent content of 0.2% by weight and a photoelastic coefficient of 2 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth or convex part of the linear recessed part of the surface of the protective film 4 was the range whose height is 30 nm or less and whose width is 700 nm or more.

<比較例3:単層(PMMA)>
ポリメチルメタクリレート樹脂からなる厚み80μmの単層押出成形フィルムを基材フィルムとし、この基材フィルム上に前記ハードコート層および低屈折率層を積層して保護フィルム5を作製した。前記実施例1において、保護フィルム1に代えて保護フィルム5を用いた。保護フィルム5は、その残留溶剤含有量が0.01重量%以下であり、光弾性係数が−6×10−13cm/dynであった。また、保護フィルムの表面の、線状凹部の深さまたは凸部は、その高さが20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であった。
<Comparative Example 3: Single layer (PMMA)>
A protective film 5 was prepared by stacking the hard coat layer and the low-refractive index layer on a base film made of a single-layer extruded film having a thickness of 80 μm made of polymethyl methacrylate resin. In Example 1, the protective film 5 was used in place of the protective film 1. The protective film 5 had a residual solvent content of 0.01% by weight or less and a photoelastic coefficient of −6 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth or convex part of the linear recessed part of the surface of a protective film was the range whose height is 20 nm or less and whose width is 800 nm or more.

<比較例4:単層(TAC)>
保護フィルム1に代えて、トリアセチルセルロースからなる厚み80μmの単層キャスト成形フィルムを基材フィルムとし、この基材フィルム上に前記ハードコート層および低屈折率層を積層して保護フィルム6を作製した。保護フィルム6は、その残留溶剤含有量が0.2重量%以下であり、光弾性係数が12×10−13cm/dynであった。また、保護フィルムの表面の、線状凹部の深さまたは凸部は、その高さが20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であった。
<Comparative Example 4: Single layer (TAC)>
Instead of the protective film 1, a single-layer cast molded film made of triacetyl cellulose having a thickness of 80 μm is used as a base film, and the hard coat layer and the low refractive index layer are laminated on the base film to produce a protective film 6. did. The protective film 6 had a residual solvent content of 0.2% by weight or less and a photoelastic coefficient of 12 × 10 −13 cm 2 / dyn. Moreover, the depth or convex part of the linear recessed part of the surface of a protective film was the range whose height is 20 nm or less and whose width is 800 nm or more.

得られた保護フィルム1〜6の評価結果を表1に示す。   The evaluation results of the obtained protective films 1 to 6 are shown in Table 1.

Figure 2007225745
Figure 2007225745

表1に示すように、実施例1,2では、干渉縞がなく、密着性、表面硬度、カール性、および可撓性に優れていることがわかった。これに対して、比較例1では、密着性および干渉縞の発生という点などで劣っていた。比較例2では、カール性が不十分であった。比較例3では、可撓性が不十分であった。比較例4では、干渉縞が生じ、カール性および可撓性が不十分であった。   As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, it was found that there was no interference fringe and excellent adhesion, surface hardness, curling property, and flexibility. In contrast, Comparative Example 1 was inferior in terms of adhesion and generation of interference fringes. In Comparative Example 2, the curling property was insufficient. In Comparative Example 3, the flexibility was insufficient. In Comparative Example 4, interference fringes were generated, and curling properties and flexibility were insufficient.

<実施例3>
実施例1で得られた保護フィルム1のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム1を市販の40インチ型の液晶ディスプレイの表示面に貼り合わせて、表示装置D1を得た。
<Example 3>
An acrylic adhesive is applied to the surface of the protective film 1 obtained in Example 1 where the hard coat layer is not formed, and the protective film 1 is bonded to the display surface of a commercially available 40-inch liquid crystal display. Display device D1 was obtained.

<実施例4>
実施例2の保護フィルム2のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム2を市販の40インチ型の液晶ディスプレイの表示面に貼り合わせて、表示装置D2を得た。
<Example 4>
An acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the protective film 2 of Example 2 on which the hard coat layer is not formed, and the protective film 2 is bonded to the display surface of a commercially available 40-inch liquid crystal display. D2 was obtained.

<実施例5>
実施例1で得られた保護フィルム1のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム1を市販の50インチのプラズマディスプレイの前面フィルタに貼り合わせて、表示装置D3を得た。
<Example 5>
An acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the protective film 1 obtained in Example 1 where the hard coat layer is not formed, and the protective film 1 is bonded to a front filter of a commercially available 50-inch plasma display, A display device D3 was obtained.

<実施例6>
実施例2で得られた保護フィルム2のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム2を市販の50インチのプラズマディスプレイの前面フィルタに貼り合わせて、表示装置D4を得た。
<Example 6>
An acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the protective film 2 obtained in Example 2 where the hard coat layer is not formed, and the protective film 2 is bonded to a front filter of a commercially available 50-inch plasma display, A display device D4 was obtained.

<比較例5>
比較例2で得られた保護フィルム4のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム4を市販の40インチ型の液晶ディスプレイの表示面に貼り合わせて、表示装置D5を得た。
<Comparative Example 5>
An acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the protective film 4 obtained in Comparative Example 2 where the hard coat layer is not formed, and the protective film 4 is bonded to the display surface of a commercially available 40-inch liquid crystal display. Display device D5 was obtained.

<比較例6>
比較例2で得られた保護フィルム4のハードコート層が形成されていない面にアクリル系粘着剤を塗設して、保護フィルム4を市販の50インチのプラズマディスプレイの前面フィルタに貼り合わせて、表示装置D6を得た。
<Comparative Example 6>
An acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the protective film 4 obtained in Comparative Example 2 where the hard coat layer is not formed, and the protective film 4 is bonded to a front filter of a commercially available 50-inch plasma display, A display device D6 was obtained.

これらの表示装置D1〜D6の評価結果を表2に示す。   Table 2 shows the evaluation results of these display devices D1 to D6.

Figure 2007225745
Figure 2007225745

表2に示すように、実施例3〜6の表示装置では、保護フィルムにおいて気泡や剥れが見られなかった。これに対して、比較例5,6の表示装置では、保護フィルムにおいて、気泡や剥れが見られた。

As shown in Table 2, in the display devices of Examples 3 to 6, no bubbles or peeling were observed in the protective film. On the other hand, in the display devices of Comparative Examples 5 and 6, bubbles and peeling were observed in the protective film.

Claims (10)

光学部品の表面に設けられ、この表面を保護するための保護フィルムであって、
親水性基を有する高分子化合物を含んでなる親水性樹脂層と、この親水性樹脂層の両面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂からなる層と、を有する基材フィルムを備え、
当該保護フィルムの残留溶剤含有量が0.01重量%以下であることを特徴とする保護フィルム。
A protective film provided on the surface of the optical component for protecting the surface,
A base film having a hydrophilic resin layer containing a polymer compound having a hydrophilic group and layers made of a thermoplastic resin provided on both surfaces of the hydrophilic resin layer,
A protective film having a residual solvent content of 0.01% by weight or less.
請求項1に記載の保護フィルムにおいて、
前記親水性基を有する高分子化合物は、セルロースエステル類であることを特徴とする保護フィルム。
The protective film according to claim 1,
The protective film, wherein the polymer compound having a hydrophilic group is a cellulose ester.
請求項2に記載の保護フィルムにおいて、
前記セルロースエステル類は、炭素数3〜6個のアシル基を有するアセチルアシルセルロースであることを特徴とする保護フィルム。
In the protective film of Claim 2,
The cellulose ester is an acetylacylcellulose having an acyl group having 3 to 6 carbon atoms.
請求項1〜3のいずれかに記載の保護フィルムにおいて、
前記基材フィルムは、共押出成形法により得られたものであることを特徴とする保護フィルム。
In the protective film in any one of Claims 1-3,
The protective film according to claim 1, wherein the base film is obtained by a coextrusion molding method.
請求項1〜4のいずれかに記載の保護フィルムにおいて、
前記基材フィルムの表面は、線状凹部または線状凸部が実質的に形成されていない平坦な面であることを特徴とする保護フィルム。
In the protective film in any one of Claims 1-4,
The surface of the said base film is a flat surface in which the linear recessed part or the linear convex part is not substantially formed, The protective film characterized by the above-mentioned.
請求項1〜5のいずれかに記載の保護フィルムにおいて、
前記基材フィルムの表面に設けられる反射防止層をさらに備えることを特徴とする保護フィルム。
In the protective film in any one of Claims 1-5,
A protective film further comprising an antireflection layer provided on the surface of the base film.
請求項6に記載の保護フィルムにおいて、
入射角5°、波長430nm〜700nmにおける反射率が2.0%以下であり、波長550nmにおける反射率が1.0%以下であることを特徴とする保護フィルム。
The protective film according to claim 6,
A protective film having an incident angle of 5 °, a reflectance at a wavelength of 430 nm to 700 nm of 2.0% or less, and a reflectance at a wavelength of 550 nm of 1.0% or less.
請求項7に記載の保護フィルムにおいて、
前記基材フィルムと前記反射防止層との間に設けられるハードコート層をさらに備えることを特徴とする保護フィルム。
The protective film according to claim 7,
A protective film, further comprising a hard coat layer provided between the base film and the antireflection layer.
請求項1〜8のいずれかに記載の保護フィルムにおいて、
前記光学部品は、偏光板を構成する偏光子であることを特徴とする保護フィルム。
In the protective film in any one of Claims 1-8,
The protective film, wherein the optical component is a polarizer constituting a polarizing plate.
請求項1〜8のいずれかに記載の保護フィルムにおいて、
前記光学部品は、プラズマディスプレイパネルの前面フィルタであることを特徴とする保護フィルム。

In the protective film in any one of Claims 1-8,
The protective film according to claim 1, wherein the optical component is a front filter of a plasma display panel.

JP2006044804A 2006-02-22 2006-02-22 Protective film Pending JP2007225745A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006044804A JP2007225745A (en) 2006-02-22 2006-02-22 Protective film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006044804A JP2007225745A (en) 2006-02-22 2006-02-22 Protective film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007225745A true JP2007225745A (en) 2007-09-06

Family

ID=38547653

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006044804A Pending JP2007225745A (en) 2006-02-22 2006-02-22 Protective film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007225745A (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002301788A (en) * 2000-12-26 2002-10-15 Konica Corp Cellulose ester film, protective film for polarizing plate using the same and polarizing plate
JP2004226799A (en) * 2003-01-24 2004-08-12 Konica Minolta Holdings Inc Polarizing plate protective film, polarizing plate, and material for image display
JP2005055619A (en) * 2003-08-01 2005-03-03 Nippon Zeon Co Ltd Optical film
WO2005050300A1 (en) * 2003-11-21 2005-06-02 Zeon Corporation Liquid crystal display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002301788A (en) * 2000-12-26 2002-10-15 Konica Corp Cellulose ester film, protective film for polarizing plate using the same and polarizing plate
JP2004226799A (en) * 2003-01-24 2004-08-12 Konica Minolta Holdings Inc Polarizing plate protective film, polarizing plate, and material for image display
JP2005055619A (en) * 2003-08-01 2005-03-03 Nippon Zeon Co Ltd Optical film
WO2005050300A1 (en) * 2003-11-21 2005-06-02 Zeon Corporation Liquid crystal display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4878796B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP5102958B2 (en) Method for producing antireflection film
US20070285776A1 (en) Anti-Reflection Film
JP2007188100A (en) Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP5092886B2 (en) Antireflection film
JP2007233215A (en) Polarizing plate
KR20060111622A (en) Antireflection film, polarizing plate, method for producing them, liquid crystal display element, liquid crystal display device, and image display device
WO2005093464A1 (en) Method for producing antireflective film, antireflective film, polarizing plate and image display
JP5232365B2 (en) Optical film containing fluorinated photopolymerization initiator, antireflection film, polarizing plate, and image display device using the same
JP2007219110A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device
US20070231505A1 (en) Polarizing Plate and Liquid Crystal Display Device
JP2007140229A (en) Hard coat film, polarizing plate and liquid crystal display apparatus
JP5116166B2 (en) Hard coat film, optical element and image display device
JP2007168429A (en) Antireflection film, its manufacturing method and polarizing plate using the same, and display device
JP4393232B2 (en) Method for producing antireflection film
JP2007034213A (en) Antireflection film, and polarizing plate and display device using the same
JP2006072320A (en) Method for manufacturing anti-reflection film, anti-reflection film, polarizer, and image display device
JP2007177192A (en) Transparent film and its production process, polarizing plate and image display device
JP2007041495A (en) Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate using the anti-glare and anti-reflection film and liquid crystal display device using the polarizing plate
JP2005275391A (en) Antireflection film and manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device using the same
JP4191992B2 (en) Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP4914564B2 (en) Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP5211087B2 (en) Cellulose acylate film, polarizing plate using the same, and image display device using them
JP2006251043A (en) Optical functional film, manufacturing method of the same and polarizing plate using the same, and image display device
JP2007072100A (en) Optical film or anti-reflection film, or polarizing plate using the same, liquid crystal display apparatus using the polarizing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080811

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100514

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100901

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100907

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101108

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110111