JP2007225426A - 光学異方性膜の試験方法 - Google Patents

Abstract

【課題】複雑なデータ処理を経ずに、容易な計算で、小数点以下３桁以上の屈折率異方性及び正確な屈折率値を求めることができる、光学異方性膜の試験方法を提供する。
【解決手段】 光学異方性膜について、波長λの光を入射角θ_Ｏで入射したときの透過位相差Δ_０を測定し、前記波長λの光を入射角θ_Ｔで入射したときの透過位相差Δ_Ｔを測定し、さらに、前記波長λの光を入射角θ_Ｒで入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ又は透過振幅比角Ψ_Ｔのいずれか一方を測定する。そして、測定された透過位相差Δ_Ｏと、透過位相差Δ_Ｔと、反射振幅比角Ψ_Ｒ又は透過振幅比角Ψ_Ｔのいずれか一方とに基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求め、光学異方性膜を試験する。
【選択図】なし。

Description

本発明は、複雑なデータ処理を経ずに、容易な計算で、小数点以下３桁以上の屈折率異方性（屈折率の差）及び正確な屈折率値を求めることができる、光学異方性膜の試験方法に関するものである。

光の偏光状態を変化させることができる光学異方性膜は、位相差板、視野角補償板などとして液晶表示装置をはじめ様々な光学装置に用いられている。
この光学異方性膜を評価する方法として、例えば、特許文献１には、複数の波長の光を入射した際に発生する反射光強度の入射角依存性を測定する方法が提案されている。特許文献２には、反射光強度の入射角及び入射方位依存性から測定する方法が提案されている。
また、特許文献３には、直線偏光した入射光をレンズを用いて集光し、Ｓ偏光成分のみおよびＰ偏光成分のみのをもつ入射光による反射光強度の入射角および入射方位依存性を能率的に測定する方法が提案されている。しかしながら、これらの方法はパラメータを決定するために最小自乗法などのデータ処理が必要であり、計算に時間を要する上に、小数点以下３桁以上の屈折率異方性及び正確な屈折率値を求められない。

特許文献４には、異方性薄膜に、一定の偏光状態の光を一定の角度で入射したときに発生する反射光の偏光状態の入射方位依存性を測定し、測定された反射光の偏光状態の位相差成分及び振幅比成分の入射方位に関するフーリエ係数を算出し、前記位相差成分の最大値と最小値の差と、前記振幅比成分の最大値と最小値の差を算出し、前記フーリエ係数及び前記各差に基づいて異方性薄膜を評価する方法が提案されている。しかし、この方法もフーリエ変換というデータ処理が必要であり、小数点以下３桁以上の屈折率異方性及び正確な屈折率値を求められない。

特開平５−５６９９号公報 特開平３−６５６３７号公報 特開平８−１５２３０７号公報 特開２０００−１５５０９２号公報

本発明の目的は、複雑なデータ処理を経ずに、容易な計算で、小数点以下３桁以上の屈折率異方性及び正確な屈折率値を求めることができる、光学異方性膜の試験方法を提供することにある。

本発明者は、上記目的を達成するために検討した結果、光学異方性膜について、波長λの光を入射角θ_Ｏで入射したときの透過位相差Δ_Ｏを測定し、前記波長λの光を入射角θ_Ｔで入射したときの透過位相差Δ_Ｔを測定し、さらに、前記波長λの光を入射角θ_Ｒで入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ又は透過振幅比角Ψ_Ｔのいずれか一方を測定し、そして、測定された透過位相差Δ_Ｏと、透過位相差Δ_Ｔと、反射振幅比角Ψ_Ｒ又は透過振幅比角Ψ_Ｔのいずれか一方とに基づくことによって、単純な代数計算で、該光学異方性膜の屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、及びｎ_ｚが容易に求められることを見出した。本発明はこの知見に基づいて完成したものである。

かくして本発明によれば、
（１） 光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ１を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ１を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ１で入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ１を測定する工程と、
測定された透過位相差Δ_Ｏ１、透過位相差Δ_Ｔ１、及び反射振幅比角Ψ_Ｒ１に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、
を含んでなる光学異方性膜の試験方法。

（２） 光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ２を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ２測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ２で入射したときの透過振幅比角Ψ_Ｔ２とを測定する工程と、
測定された透過位相差Δ_Ｏ２、透過位相差Δ_Ｔ２、及び透過振幅比角Ψ_Ｔ２に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、
を含んでなる光学異方性膜の試験方法。
（３） 前記（１）又は（２）に記載の試験方法を用いることを含む光学異方性膜を製造する方法。
が提供される。

本発明の光学異方性膜の試験方法によれば、複雑なデータ処理を経ずに、容易な計算で、小数点以下３桁以上の屈折率異方性及び正確な屈折率値を求めることができる、

本発明の試験法が適用できる、光学異方性膜は、光を透過する性質のあるものであれば、特に限定されない。光学異方性膜は、通常、膜厚が２０〜２５０μｍ、好ましくは４０〜１８０μｍである。光学異方性膜は、通常、薄いので、互いに直交するｘ軸及びｙ軸を膜面に平行な方向に、ｚ軸を膜に垂直（厚さ）な方向にとり、そして、ｎ_ｘを光学異方性膜の面内遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙを光学異方性膜の面内遅相軸に面内で直交する方向の屈折率、ｎ_ｚを光学異方性膜の厚み方向の屈折率と定義している。また、本発明の試験法に用いる光は、レーザー光のように細い平行光線であることが好ましい。光学異方性膜に照射される光の範囲を狭くでき、より正確な試験が可能になる。
光学異方性膜の具体例としては、透明樹脂フィルムを延伸することによって得られる位相差板（位相差フィルム）、液晶などの光学異方性物質を塗布した膜、極性基を有する化合物を塗布しラビング処理した膜（配向膜など）などが挙げられる。

本発明の第一の光学異方性膜の試験法は、光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ１を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ１を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ１で入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ１を測定する工程と、
測定された透過位相差Δ_Ｏ１、透過位相差Δ_Ｔ１、及び反射振幅比角Ψ_Ｒ１に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、を含んでなるものである。

透過位相差Δ_Ｏ１及びΔ_Ｔ１は、エリプソメータなどの偏光解析装置、複屈折解析装置によって、測定することができる。
光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ１は、入射面がｘｚ面であるときに、式（１）で表すことができる。
Δ_Ｏ１＝（ｎ_ｘ（１−ξ_Ｏ１ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５
−ｎ_ｙ（１−ξ_Ｏ１ ^２／ｎ_ｙ ^２）^０．５）×ｄ 式（１）
ただし、ξ_Ｏ１＝ｓｉｎθ_Ｏ１である。
また、ｄは膜厚、ｎ_ｘは光学異方性膜の面内遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙは光学異方性膜の面内遅相軸に面内で直交する方向の屈折率、ｎ_ｚは光学異方性膜の厚み方向の屈折率である。
特に、入射角θ_Ｏ１が０°のとき、Δ_Ｏ１は、（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ となる。

同様に、光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｔで入射したときの透過位相差Δ_Ｔは、入射面がｘｚ面であるときに、式（２）で表すことができる。
Δ_Ｔ１＝（ｎ_ｘ（１−ξ_Ｔ１ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５
−ｎ_ｙ（１−ξ_Ｔ１ ^２／ｎ_ｙ ^２）^０．５）×ｄ 式（２）
ただし、ξ_Ｔ１＝ｓｉｎθ_Ｔ１である。

透過位相差Δ_Ｏ１、及び透過位相差Δ_Ｔ１を求める際の、入射角θ_Ｏ１及びθ_Ｔ１は異なるものであれば、特に制限されない。測定精度を高めるために、入射角θ_Ｏ１は２５度以下にすることが好ましく、１０度以下にすることがより好ましく、０度にすることが特に好ましい。また、入射角θ_Ｔ１は３０度以上にすることが好ましく、４０度以上にすることがより好ましい。なお、入射面がｙｚ面であるときにも、透過位相差Δ_Ｏ１及び透過位相差Δ_Ｔ１について同様な式を求めることができるので、入射面に応じて、透過位相差Δ_Ｏ１及び透過位相差Δ_Ｔ１の式を選択する。

反射振幅比角Ψ_Ｒ１は、偏光解析装置によって測定することができる。反射振幅比角の測定においては、光学異方性膜の表面における反射光だけを測定したいので、光学異方性膜の裏面における反射を抑えるために、膜裏側に光吸収材や光拡散材を設けることが好ましい。
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ１で入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ１は、ｔａｎ^−１｜Ｒ_ｐ／Ｒ_ｓ｜で定義される値である。Ｒ_ｐはｐ偏光の複素振幅反射率であり、Ｒ_ｓはｓ偏光の複素振幅反射率である。
ｓ偏光にとって光学異方性膜は等方性に感じられるので、ｓ偏光の反射は、フレネルの反射係数の式がそのまま適用できる。
一方ｐ偏光にとって光学異方性膜は異方性を有する結晶に感じられるので、ｐ偏光の反射はＭａｘｗｅｌｌの電磁波理論の式を適用する。

先ず、Ｍａｘｗｅｌｌ方程式から異方性膜を伝播するそれぞれの部分波の伝播ベクトルを求め、その部分波の偏光ベクトルを求める。次いで空気−異方性膜界面に境界条件を適用して複素振幅反射率Ｒ_ｐを求める。その結果、ｔａｎΨ_Ｒ１は、入射面がｘｚ面であるときに、式（３）で表すことができる。
ｔａｎΨ_Ｒ１＝｜（（ξ_ｐ＋αξ_Ｒ）ｃｏｓθ_Ｒ１−１）×（ｃｏｓθ_Ｒ１＋ξ_ｓ））
／（（ξ_ｐ＋αξ_Ｒ）ｃｏｓθ_Ｒ１＋１）×（ｃｏｓθ_Ｒ１＋ξ_ｓ））｜ 式（３）
ただし、ξ_Ｒ＝ｓｉｎθ_Ｒ１、 ξ_ｓ＝ｎ_ｙ（１−ξ_Ｒ ^２／ｎ_ｙ ^２）^０．５、
ξ_ｐ＝ｎ_ｘ（１−ξ_Ｒ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５、
α＝（ｎ_ｘ ^２−ξ_ｐ ^２−ξ_Ｒξ_ｐ）／（ξ_Ｒ ^２＋ξ_Ｒξ_ｐ−ｎ_ｚ ^２）
である。なお、測定は通常、空気中で行われるので、光学異方性膜の周囲の屈折率ｎ_ｉは１である。

反射振幅比角Ψ_Ｒ１を求める際の、入射角θ_Ｒ１は、特に制限されないが、測定精度を高めるために、入射角θ_Ｒ１を３０度以上にすることが好ましく、４０度以上にすることがより好ましい。また、θ_Ｒ１は、本発明の光学異方性膜のＢｒｅｗｓｔｅｒ角にすると測定精度が最も高くなる。なお、入射面がｙｚ面であるときにも、反射振幅比角Ψ_Ｒ１について同様な式を求めることができるので、入射面に応じて、反射振幅比角Ψ_Ｒ１の式を選択する。

膜厚ｄは、マイクロメーター等によって測定することができる。そして、上記の式（１）、式（２）、及び式（３）の連立方程式を解くことによって、ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚを代数計算によって算出することができる。

透過位相差Δ_Ｏ１、透過位相差Δ_Ｔ１、及び反射振幅比角Ψ_Ｒ１を、入射光の波長λを分光装置等で切り替えて、測定することによって、それぞれの波長依存性がわかる。例えば、図１、図２及び図３に示すような、透過位相差Δ_Ｏ１、透過位相差Δ_Ｔ１、及び反射振幅比角Ψ_Ｒ１の波長依存性が求められる。
そして、上記連立方程式を入射光の波長毎に解くことによって、波長毎の屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚを求めることができる。それによって図４に示すような、屈折率の波長依存性が求められる。

本発明の第二の光学異方性膜の試験法は、光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ２を測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ２測定する工程と、
該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ２で入射したときの透過振幅比角Ψ_Ｔ２とを測定する工程と、
測定された透過位相差Δ_Ｏ２、透過位相差Δ_Ｔ２、及び透過振幅比角Ψ_Ｔ２に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、を含んでなるものである。

透過位相差Δ_Ｏ２及びΔ_Ｔ２は、エリプソメータなどの偏光解析装置、複屈折解析装置によって、測定することができる。
光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ２は、入射面がｘｚ面であるときに、式（４）で表すことができる。
Δ_Ｏ２＝（ｎ_ｘ（１−ξ_Ｏ２ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５
−ｎ_ｙ（１−ξ_Ｏ２ ^２／ｎ_ｙ ^２）^０．５）×ｄ 式（４）
ただし、ξ_Ｏ２＝ｓｉｎθ_Ｏ２である。
また、ｄは膜厚、ｎ_ｘは光学異方性膜の面内遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙは光学異方性膜の面内遅相軸に面内で直交する方向の屈折率、ｎ_ｚは光学異方性膜の厚み方向の屈折率である。
特に、入射角θ_Ｏ２が０°のとき、Δ_Ｏ２は、（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ となる。

同様に、光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｔ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ２は、入射面がｘｚ面であるときに、式（５）で表すことができる。
Δ_Ｔ２＝（ｎ_ｘ（１−ξ_Ｔ２ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５
−ｎ_ｙ（１−ξ_Ｔ２ ^２／ｎ_ｙ ^２）^０．５）×ｄ 式（５）
ただし、ξ_Ｔ２＝ｓｉｎθ_Ｔ２である。

透過位相差Δ_Ｏ２、及び透過位相差Δ_Ｔ２を求める際の、入射角θ_Ｏ２及びθ_Ｔ２は異なるものであれば、特に制限されない。測定精度を高めるために、入射角θ_Ｏ２は２５度以下にすることが好ましく、１０度以下にすることがより好ましく、０度にすることが特に好ましい。また入射角θ_Ｔ２は３０度以上にすることが好ましく、４０度以上にすることがより好ましい。なお、入射面がｙｚ面であるときにも、透過位相差Δ_Ｏ２及び透過位相差Δ_Ｔ２について同様な式を求めることができるので、入射面に応じて、透過位相差Δ_Ｏ２及び透過位相差Δ_Ｔ２の式を選択する。

透過振幅比角Ψ_Ｔ２は、偏光解析装置によって測定することができる。
波長λの光を入射角θ_Ｒ２で入射したときの透過振幅比角Ψ_Ｔ２はｔａｎ^−１｜Ｔ_Ｐ１・Ｔ_Ｐ２／Ｔ_Ｓ１・Ｔ_Ｓ２｜で定義される値である。すなわち、ｔａｎΨ_Ｔ２は式（６）で表される。
ｔａｎΨ_Ｔ２＝｜Ｔ_Ｐ１・Ｔ_Ｐ２／Ｔ_Ｓ１・Ｔ_Ｓ２｜ 式（６）
なお、入射面がｘｚ面であるときに、ｓ偏光に対して光学異方性膜は等方性に感じられるので、Ｔ_Ｓ１及びＴ_Ｓ２は、フレネルの式に従って、次式で表される。
Ｔ_Ｓ１＝２ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２
／（ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２＋ｎ_ｙ（１−（ｎ_ｉｓｉｎθ_Ｒ２／ｎ_ｙ）^２）^０．５）
Ｔ_Ｓ２＝２ｎ_ｙ（１−（ｎ_ｉｓｉｎθ_Ｒ２／ｎ_ｙ）^２）^０．５
／（ｎ_ｙ（１−（ｎ_ｉｓｉｎθ_Ｒ２／ｎ_ｙ）^２）^０．５＋ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２）

一方、入射面がｘｚ面であるときに、ｐ偏光に対して光学異方性膜は異方性に感じれらるので、結晶光学の理論とＭａｘｗｅｌｌの電磁波理論を適用する。次いで、空気−異方性膜界面における境界条件を考慮する。その結果、Ｔ_Ｐ１及びＴ_Ｐ２は、次式で表される。
Ｔ_Ｐ１＝［（ξ_ｚ１ ^（ｒ）−ξ_ｚ１ ^（ｉ））−ξ_ｘ（ｔａｎα_ｒ１＋ｔａｎα_ｉ１）］
／［（ξ_ｚ１ ^（ｒ）−ξ_ｚ１ ^（ｔ））−ξ_ｘ（ｔａｎα_ｒ１＋ｔａｎα_ｔ１）］
×［（１＋ｔａｎ^２α_ｔ１）／（１＋ｔａｎ^２α_ｉ１）］^０．５
但し、ξ_ｘ＝ｎ_ｉｓｉｎθ_Ｒ２、ξ_ｚ１ ^（ｉ）＝ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２、
ξ_ｚ１ ^（ｒ）＝−ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２、
ξ_ｚ１ ^（ｔ）＝ｎ_ｘ（１−ξ_ｘ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５、
ｔａｎα_ｉ１＝ｔａｎθ_Ｒ２、ｔａｎα_ｒ１＝ｔａｎθ_Ｒ２、
ｔａｎα_ｔ１＝−ξ_ｘξ_ｚ１ ^（ｔ）／（ξ_ｘ ^２−ｎ_ｚ ^２） 、である。

Ｔ_Ｐ２＝［（ξ_ｚ２ ^（ｒ）−ξ_ｚ２ ^（ｉ））−ξ_ｘ（ｔａｎα_ｒ２＋ｔａｎα_ｉ２）］
／［（ξ_ｚ２ ^（ｒ）−ξ_ｚ２ ^（ｔ））−ξ_ｘ（ｔａｎα_ｒ２＋ｔａｎα_ｔ２）］
×［（１＋ｔａｎ^２α_ｔ２）／（１＋ｔａｎ^２α_ｉ２）］^０．５、
但し、ξ_ｚ２ ^（ｉ）＝ｎ_ｘ（１−ξ_ｘ ^２／ｎ_ｚ ^２）^０．５、ξ_ｚ２ ^（ｒ）＝−ξ_ｚ２ ^（ｉ）、
ξ_ｚ２ ^（ｔ）＝ｎ_ｉｃｏｓθ_Ｒ２、
ｔａｎα_ｉ２＝−ξ_ｘξ_ｚ２ ^（ｉ）／（ξ_ｘ ^２−ｎ_ｚ ^２）、
ｔａｎα_ｒ２＝ξ_ｘξ_ｚ２ ^（ｒ）／（ξ_ｘ ^２−ｎ_ｚ ^２）、
ｔａｎα_ｔ２＝ｔａｎθ_Ｒ２ 、である。なお、測定は通常、空気中で行われるので、光学異方性膜の周囲の屈折率ｎ_ｉは１である。

透過振幅比角Ψ_Ｔ２を求める際の、入射角θ_Ｒ２は、特に制限されないが、測定精度を高めるために、入射角θ_Ｒ２を３０度以上にすることが好ましく、４０度以上にすることがより好ましく、６０度以上にすることが特に好ましい。なお、入射面がｙｚ面であるときにも、反射振幅比角Ψ_Ｔ２について同様な式を求めることができるので、入射面に応じて、透過振幅比角Ψ_Ｔ２の式を選択する。

膜厚ｄは、マイクロメーター等によって測定することができる。そして、上記の式（４）、式（５）、及び式（６）の連立方程式を解くことによって、ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚを代数計算によって算出することができる。

透過位相差Δ_Ｏ２、透過位相差Δ_Ｔ２、及び透過振幅比角Ψ_Ｔ２を、入射光の波長λを分光装置等によって切り替えて、測定することによって、それぞれの波長依存性がわかる。そして、上記連立方程式を入射光の波長毎に解くことによって、波長毎の屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚを求めることができる。

以上のように、本発明の試験方法によれば、少なくとも二つの入射角における透過光位相差を測定し、少なくとも一つの入射角における透過振幅比角又は反射振幅比角を測定し、その値に基づいて、最小自乗法などの複雑なデータ処理をせずに、代数幾何学的な計算をするだけで、光学異方性膜の屈折率異方性及び３方向の屈折率を正確に求めることができる。

本発明の光学異方性膜の製造方法は、前記試験方法を用いることを含む製法である。
透明樹脂を押出成形法や溶液キャスト成形法などのよって成膜する方法；さらに延伸をする方法；液晶などの光学異方性物質を塗布する方法などの光学異方性膜の製造方法においては、所望の屈折率異方性及び屈折率をもつ光学異方性膜を得るために、製造工程の諸条件、例えば、温度、圧力、膜厚、成膜速度、粘度などの条件を変更し、屈折率等が所望の値に近づくように、自動又は手動でフィードバック制御している。そして、このフィードバック制御に必要な屈折率異方性及び屈折率の正確な値を求めるために本発明の試験方法が用いられるのである。

波長５５０ｎｍでの屈折率が１．５３３の光学等方性プラスチック材料を横延伸して、平均膜厚４３μｍのフィルムを得た、このフィルムの屈折率ｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚを本発明の試験法を用いて試験を行なった。透過位相差及び反射振幅比角の測定には分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム社製）を使用した。
最初にフィルムの光学主軸を測定装置の座標系ｘｙｚ（実験座標系）と一致させるようにフィルムをセットした。
垂直入射（入射角０度）の条件で、可視光線領域の波長λに対する透過位相差Δ_Ｏを測定した。結果を図１に示した。

フィルムを回転して入射角６０度の条件（入射面がｘｚ面であった）に設置し、可視光線領域の波長λに対する透過位相差Δ_Ｔを測定した。結果を図２に示した。

裏反射の影響を除去するために、フィルムの裏面に黒ビニールテープを貼り付けた。フィルムを入射角７０度の条件（入射面がｘｚ面であった）に設置し、可視光線領域の波長λに対する反射振幅比角Ψ_Ｒを測定した。結果を図３に示した。

Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、及びΨ_Ｒを測定したフィルムの厚さをマイクロメーターで測定した。膜厚は４３．０μｍであった。

最後に、図１、図２、及び図３に示した測定値Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、Ψ_Ｒを、式（１）、式（２）、式（３）に代入し、ｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚを算出した。結果を図４に示した。

実施例１において、入射角６０度の透過位相差Δ_Ｔを測定するのと同時に、透過振幅比角Ψ_Ｔを測定した。結果を図５に示した。
Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、及びΨ_Ｔを測定したフィルムの厚さをマイクロメーターで測定した。膜厚は４３．０μｍであった。

最後に、図１、図２、及び図５に示した測定値Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、Ψ_Ｔを、式（４）、式（５）、式（６）に代入し、ｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚを算出した。結果を図６に示した。

以上の結果から、各波長におけるΔ_Ｏ、Δ_Ｔ、Ψ_Ｒを測定し、その値を式（１）、式（２）、式（３）に代入するだけで、各波長におけるｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚを単純な代数計算で算出できることがわかる。同様に、各波長におけるΔ_Ｏ、Δ_Ｔ、Ψ_Ｔを測定し、その値を式（４）、式（５）、式（６）に代入するだけで、各波長におけるｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚを単純な代数計算で算出できることがわかる。

入射角 ０度のときの透過位相差Δ_Ｏの波長依存性を示した図である。 入射角６０度のときの透過位相差Δ_Ｔの波長依存性を示した図である。 入射角７０度のときの反射振幅比角Ψ_Ｒの波長依存性を示した図である。 Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、及びΨ_Ｒに基づいて計算されたｎ_ｘ，ｎ_ｙ，及びｎ_ｚの波長依存性を示した図である。 入射角６０度のときの透過振幅比角Ψ_Ｔの波長依存性を示した図である。 Δ_Ｏ、Δ_Ｔ、及びΨ_Ｔに基づいて計算されたｎ_ｘ，ｎ_ｙ，及びｎ_ｚの波長依存性を示した図である。

符号の説明

Δ_Ｏ：入射角 ０度のときの透過位相差
Δ_Ｔ：入射角６０度のときの透過位相差
Ψ_Ｒ：入射角７０度のときの反射振幅比角
Ψ_Ｔ：入射角６０度のときの透過振幅比角
ｎ_ｘ：光学異方性膜の面内遅相軸方向の屈折率
ｎ_ｙ：光学異方性膜の面内遅相軸に面内で直交する方向の屈折率
ｎ_ｚ：光学異方性膜の厚み方向の屈折率

Claims (3)

1. 光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ１で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ1を測定する工程と、
   該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ1で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ1を測定する工程と、
   該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ1で入射したときの反射振幅比角Ψ_Ｒ1を測定する工程と、
   測定された透過位相差Δ_Ｏ1、透過位相差Δ_Ｔ1、及び反射振幅比角Ψ_Ｒ1に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、
   を含んでなる光学異方性膜の試験方法。
2. 光学異方性膜に、波長λの光を入射角θ_Ｏ２で入射したときの透過位相差Δ_Ｏ２を測定する工程と、
   該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｔ2で入射したときの透過位相差Δ_Ｔ2測定する工程と、
   該光学異方性膜に、前記波長λの光を入射角θ_Ｒ2で入射したときの透過振幅比角Ψ_Ｔ2とを測定する工程と、
   測定された透過位相差Δ_Ｏ2、透過位相差Δ_Ｔ2、及び透過振幅比角Ψ_Ｔ2に基づいて、該光学異方性膜の屈折率を求める工程と、
   を含んでなる光学異方性膜の試験方法。
3. 請求項１又は２に記載の試験方法を用いることを含む光学異方性膜を製造する方法。
   

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