JP2007220402A - Method of encapsulating organic electroluminescent element and organic electroluminescent element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an encapsulating method free from degrading performance of an organic EL element, and an organic EL element manufactured by the method, at the time of firm fixing of a thin and lightweight organic EL element with an encapsulating material by an adhesive. <P>SOLUTION: In the encapsulating method of the organic EL element encapsulating an organic EL element having a first electrode, at least one organic compound layer containing a light-emitting layer, and a second electrode on a substrate with a flexible encapsulating member with a barrier property through an adhesive, the adhesive is arranged an a whole surface including the outer periphery face of a light-emitting part of the organic EL element with the light-emitting part and a tip part of an outside fetching electrode in an exposed state, the flexible encapsulating member is overlapped on the adhesive, and only an adhesive part on the outer periphery face of the flexible encapsulating member is crimped to be put under a curing treatment afterwards. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子とも言う)の封止方法及びこの方法により製造された有機EL素子に関するものである。   The present invention relates to a method for sealing an organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) and an organic EL element produced by this method.

近年、有機物質を使用した有機EL素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子や書き込み光源アレイとしての用途が有望視されており、活発な研究開発が進められている。有機EL素子は、基板上に形成された第1電極(陽極又は陰極)と、その上に積層された有機発光物質を含有する有機化合物層(単層部又は多層部)すなわち発光層と、この発光層上に積層された第2電極(陰極又は陽極)とを有する薄膜型の素子である。この様な有機EL素子に電圧を印加すると、有機化合物層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られている。   In recent years, organic EL elements using organic substances have been promising for use as solid light-emitting inexpensive, large-area full-color display elements and writing light source arrays, and active research and development have been promoted. The organic EL element includes a first electrode (anode or cathode) formed on a substrate, an organic compound layer (single layer portion or multilayer portion) containing an organic light emitting material laminated thereon, that is, a light emitting layer, It is a thin film type element having a second electrode (cathode or anode) laminated on the light emitting layer. When a voltage is applied to such an organic EL element, electrons are injected from the cathode and holes are injected from the anode into the organic compound layer. It is known that light is obtained by releasing energy as light when the electrons and holes recombine in the light emitting layer and the energy level returns from the conduction band to the valence band.

この様に、有機EL素子は薄膜型の素子であるため、1個又は複数個の有機EL素子を基板上に形成した有機ELパネルをバックライト等の面光源として利用した場合には、面光源を備えた装置を容易に薄型にすることが出来る。又、画素としての有機EL素子を基板上に所定個数形成した有機ELパネルをディスプレイパネルとして用いて表示装置を構成した場合には視認性が高い、視野角依存性がないなど、液晶表示装置では得られない利点がある。   As described above, since the organic EL element is a thin film type element, when an organic EL panel in which one or a plurality of organic EL elements are formed on a substrate is used as a surface light source such as a backlight, a surface light source. It is possible to easily make a device equipped with In addition, when a display device is configured using an organic EL panel in which a predetermined number of organic EL elements as pixels are formed on a substrate as a display panel, the liquid crystal display device has high visibility and no viewing angle dependency. There are benefits that cannot be obtained.

ところで、有機EL素子に用いられる有機発光材料等の有機物は水分や酸素等に弱く性能が劣化し、又電極も、酸化により大気中では特性が急激に劣化すため、これらの劣化を防止ために、一般的には金属缶や掘りガラス等で形成された封止キャップ缶を素子基板に接着剤にて貼り合せ封止する方法が提案されている。これは、密閉封止空間を有し、封止空間内に不活性ガスを充填し、更に吸湿材を配置したものである。この為、素子表面陰極上は空間を有するために素子への外部応力による劣化はない構成となっている。しかしながら、有機EL素子自体は薄いのに封止部材の厚みと吸湿材を配置するための空間の厚みを持つこととなり全体として厚みのある発光素子となっている。   By the way, organic substances such as organic light emitting materials used in organic EL elements are weak against moisture and oxygen, and their performance deteriorates. Also, the characteristics of electrodes deteriorate rapidly in the atmosphere due to oxidation. In general, a method has been proposed in which a sealing cap can formed of a metal can, digging glass, or the like is bonded and sealed to an element substrate with an adhesive. This has a hermetically sealed space, is filled with an inert gas, and is further provided with a hygroscopic material. For this reason, since there is a space on the element surface cathode, the element is not deteriorated by external stress. However, although the organic EL element itself is thin, it has a thickness of the sealing member and a space for arranging the hygroscopic material, so that the light emitting element is thick as a whole.

一方、薄いEL素子を形成させることが可能な、素子面上に空間を設けず封止材を貼り合せる密着タイプの封止形態が提案されている。   On the other hand, a close-contact type sealing form in which a thin EL element can be formed and a sealing material is bonded without providing a space on the element surface has been proposed.

密着タイプの封止方法としては、例えば特開平4−212284号公報、特開平5−182759号公報等に記載の様にGeO、SiO2等の無機化合物からなる保護膜の上に接着剤、光硬化性樹脂等を介してガラス基板を固着する方法が知られている。 As a sealing method of the adhesion type adhesive, for example, Japanese Unexamined 4-212284 discloses, GeO as described in JP-A-5-182759 Patent Publication, on the protective film made of an inorganic compound such as SiO 2, Light A method of fixing a glass substrate via a curable resin or the like is known.

しかしながら、これらの方法では接着剤、光硬化性樹脂が硬化する時、体積が収縮することから残留応力が発生し、この残留応力は、封止対象の有機EL素子と接着剤や光硬化性樹脂との間にGeOやSiO2等の膜があったとしてもその膜厚がμmオーダーと薄いと有機ELに伝わってしまう。そして、残留応力は曲率半径の小さな部分で特に強くなるので、有機EL素子に伝播した残留応力は有機EL素子の端部等に集中する。この結果、素子の電極端部等が押潰され、陽極と陰極とが接触してショートが発生することが知られており、接着剤、光硬化性樹脂を使用した密着タイプの封止方法で接着剤、光硬化性樹脂が硬化する時の残留応力の緩和対策が検討されてきた。例えば、有機EL素子と接着剤の間に応力緩和層を設け、封止材を接着剤で固着する方法が知られている。これは、接着剤が硬化する際の体積収縮による残留応力影響で電極端部が押し潰ぶされショートする不具合があり、これを緩和させることを目的としている(例えば、特許文献1を参照。)。有機EL素子上に接着剤層として、有機EL素子側の接着剤の収縮率を、封止材側の接着剤の収縮率よりも小さい接着剤を使用し2層とすることで接着剤の硬化収縮による応力の影響を発光素子が受けない様にして封止材を接着剤で固着する方法が知られている(例えば、特許文献2を参照。)。 However, in these methods, when the adhesive and the photo-curing resin are cured, the volume shrinks and thus a residual stress is generated. This residual stress is caused by the organic EL element to be sealed and the adhesive or photo-curing resin. Even if there is a film of GeO, SiO 2 or the like between them, if the film thickness is as small as μm, it is transmitted to the organic EL. Since the residual stress is particularly strong at a portion having a small radius of curvature, the residual stress propagated to the organic EL element is concentrated on the end portion of the organic EL element. As a result, it is known that the electrode end of the element is crushed, and the anode and cathode come into contact with each other, causing a short circuit. This is a close-contact type sealing method using an adhesive and a photocurable resin. Measures for mitigating residual stress when an adhesive or a photocurable resin is cured have been studied. For example, a method is known in which a stress relaxation layer is provided between an organic EL element and an adhesive, and a sealing material is fixed with the adhesive. This has a problem that the electrode end portion is crushed and short-circuited due to the effect of residual stress due to volume shrinkage when the adhesive is cured, and is intended to alleviate this (see, for example, Patent Document 1). . As an adhesive layer on the organic EL element, the adhesive shrinkage of the adhesive on the organic EL element side is set to two layers by using an adhesive smaller than the shrinkage ratio of the adhesive on the sealing material side to cure the adhesive. A method is known in which a sealing material is fixed with an adhesive so that the light emitting element is not affected by stress due to shrinkage (see, for example, Patent Document 2).

しかしながら、特許文献1、特許文献2に記載の方法は、有機EL素子上に接着剤の硬化収縮による応力緩和手段を設けるため、工程が増えてしまい、生産性が上がらない、コストが高くなる等に何らかの対策を必要とする課題が残る。   However, the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 provide stress relaxation means by curing shrinkage of the adhesive on the organic EL element, which increases the number of processes, does not increase productivity, and increases costs. However, there are still issues that require some countermeasures.

この様な状況から、ガラス基板を使用した薄型・軽量な有機EL素子を得るために密着タイプの封止方法で封止材を接着剤で固着する時、工程を増やすことなく、有機EL素子の性能劣化を生じさせない封止方法及び有機EL素子の開発が望まれている。
特開平8−124677号公報 特開2003−109750号公報
From such a situation, in order to obtain a thin and lightweight organic EL element using a glass substrate, when fixing a sealing material with an adhesive by an adhesion type sealing method, the organic EL element can be manufactured without increasing the number of steps. Development of a sealing method and an organic EL element that do not cause performance deterioration is desired.
Japanese Patent Laid-Open No. 8-124777 JP 2003-109750 A

本発明は根上記状況を鑑みなされたものであり、その目的は、薄型・軽量な有機EL素子を密着タイプの封止方法で封止材を接着剤で固着する時有機EL素子の性能劣化を生じさせない封止方法及びこの封止方法で製造された有機EL素子を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to reduce the performance of an organic EL element when a thin and lightweight organic EL element is fixed with an adhesive using an adhesion type sealing method. It is providing the sealing method which does not produce and the organic EL element manufactured with this sealing method.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.

1.基板の上に第1電極と、発光層を含む少なくとも1層の有機化合物層と、第2電極とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子を接着剤を介してバリア性を有する可撓性封止部材により封止する有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法において、前記接着剤を前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光部及び外部取り出し電極の先端部が露出する状態に前記発光部の外周面を含め全面に配置し、前記接着剤上に前記可撓性封止部材を重ね合わせ、前記可撓性封止部材の前記外周面の接着部のみを圧着した後、硬化処理することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。   1. An organic electroluminescence element having a first electrode, at least one organic compound layer including a light emitting layer, and a second electrode on a substrate is sealed with a flexible sealing member having a barrier property through an adhesive. In the sealing method of the organic electroluminescent element to be stopped, the adhesive is disposed on the entire surface including the outer peripheral surface of the light emitting part in a state where the light emitting part of the organic electroluminescent element and the tip of the external extraction electrode are exposed, An organic electroluminescence element sealing comprising: stacking the flexible sealing member on an adhesive; pressing only the adhesive portion of the outer peripheral surface of the flexible sealing member; Method.

2.前記接着剤が光硬化型もしくは熱硬化型であることを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。   2. 2. The method for sealing an organic electroluminescence element according to 1 above, wherein the adhesive is a photo-curing type or a thermo-curing type.

3.前記外周面の接着部を圧着する時の押圧力は、0.5×104Pa〜20×104Paであることを特徴とする前記1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。 3. Pressing force when crimping the bonding portion of the outer peripheral surface, 0.5 × 10 4 Pa~20 sealing method of an organic electroluminescent device according to the 1 or 2, wherein the × a 10 4 Pa .

4.前記可撓性封止部材が樹脂基材からなり、防湿層を有し、厚さが30〜300μmであることを特徴とする前記1〜3の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。   4). 4. The organic electroluminescent element according to any one of 1 to 3, wherein the flexible sealing member is made of a resin base material, has a moisture-proof layer, and has a thickness of 30 to 300 μm. Sealing method.

5.前記1〜4の何れか1項に記載の封止方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。   5. An organic electroluminescence element manufactured by the sealing method according to any one of 1 to 4 above.

薄型・軽量な有機EL素子を密着タイプの封止方法で封止材を接着剤で固着する時有機EL素子の性能劣化を生じさせない封止方法及びこの封止方法で製造された有機EL素子を提供することが出来、工程を増やすことなく、生産効率を下げずに、高品質の有機EL素子の生産が可能となった。   A sealing method that does not cause deterioration in performance of an organic EL element when a thin and lightweight organic EL element is fixed with an adhesive by an adhesion type sealing method, and an organic EL element manufactured by this sealing method It was possible to provide high-quality organic EL elements without increasing the number of processes and without reducing the production efficiency.

本発明の実施の形態を図1〜図6を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6, but the present invention is not limited thereto.

図1は有機EL素子の層構成の一例を示す概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a layer structure of an organic EL element.

図中、1は有機EL素子を示す。有機EL素子1は、ガラス基材101上に、第1電極102と、正孔輸送層(正孔注入層)103と、有機化合物層(発光層)104と、電子注入層105と、第2電極106と、接着剤107と、封止部材108とをこの順番に有している。102aは第1電極102の外部取り出し電極を示し、106aは第2電極106の外部取り出し電極を示す。本図に示される有機EL素子1は、第1電極102の外部取り出し電極102aと、第2電極106の外部取り出し電極106aの先端部分を除いて接着剤層107を介して封止部材108で密着封止した構造となっている。   In the figure, 1 indicates an organic EL element. The organic EL element 1 includes a first electrode 102, a hole transport layer (hole injection layer) 103, an organic compound layer (light emitting layer) 104, an electron injection layer 105, and a second electrode on a glass substrate 101. The electrode 106, the adhesive 107, and the sealing member 108 are provided in this order. Reference numeral 102 a denotes an external extraction electrode of the first electrode 102, and reference numeral 106 a denotes an external extraction electrode of the second electrode 106. The organic EL element 1 shown in this figure is in close contact with the sealing member 108 via the adhesive layer 107 except for the external extraction electrode 102a of the first electrode 102 and the tip of the external extraction electrode 106a of the second electrode 106. It has a sealed structure.

本図に示される有機EL素子において、第1電極102と正孔輸送層103の間に正孔注入層(不図示)を設けてもよい。又、第2電極106と有機化合物層(発光層)104と電子注入層105との間に電子輸送層(不図示)を設けてもよい。   In the organic EL element shown in this figure, a hole injection layer (not shown) may be provided between the first electrode 102 and the hole transport layer 103. Further, an electron transport layer (not shown) may be provided between the second electrode 106, the organic compound layer (light emitting layer) 104, and the electron injection layer 105.

本図に示す有機EL素子の層構成は一例を示したものであるが、他の代表的な有機EL素子の層構成としては次の構成が挙げられる。   The layer configuration of the organic EL element shown in this figure shows an example, but the following configuration can be given as a layer configuration of another typical organic EL element.

(1)ガラス基板/第1電極(陽極)/発光層/電子輸送層/第2電極(陰極)/封止部材
(2)ガラス基板/第1電極(陽極)/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/第2電極(陰極)/封止部材
(3)ガラス基板/第1電極(陽極)/正孔輸送層(正孔注入層)/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層(電子注入層)/第2電極(陰極)/封止部材
(4)ガラス基板/第1電極(陽極)/陽極バッファー層(正孔注入層)/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層(電子注入層)/第2電極(陰極)/封止部材
有機EL素子の場合、通常、第1電極(陽極)102側が観察側になり、第1電極(陽極)102には、ITO(酸化スズと酸化インジウム混合物)、IZO(酸化亜鉛と酸化インジウム混合物)、ZnO、SnO2、In23等が知られている。中でも、ITO電極は、90%以上の高い光透過率と、10Ω/□以下の低いシート抵抗値が可能で、液晶ディスプレイや太陽電池などの透明電極としても用いられている。又、IZO電極は、形成時に基板を加熱せずに所定の低い抵抗値が得られ、ITO電極よりも膜表面が平滑であるという利点がある。
(1) Glass substrate / first electrode (anode) / light emitting layer / electron transport layer / second electrode (cathode) / sealing member (2) glass substrate / first electrode (anode) / hole transport layer / light emitting layer / Hole blocking layer / electron transport layer / second electrode (cathode) / sealing member (3) glass substrate / first electrode (anode) / hole transport layer (hole injection layer) / light emitting layer / hole blocking Layer / electron transport layer / cathode buffer layer (electron injection layer) / second electrode (cathode) / sealing member (4) glass substrate / first electrode (anode) / anode buffer layer (hole injection layer) / hole Transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer (electron injection layer) / second electrode (cathode) / sealing member In the case of an organic EL device, the first electrode (anode) 102 side is usually On the observation side, the first electrode (anode) 102 includes ITO (mixture of tin oxide and indium oxide), IZO (zinc oxide and Indium oxide mixture), ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 and the like are known. Among them, the ITO electrode has a high light transmittance of 90% or more and a low sheet resistance value of 10Ω / □ or less, and is also used as a transparent electrode for liquid crystal displays and solar cells. Further, the IZO electrode has an advantage that a predetermined low resistance value can be obtained without heating the substrate at the time of formation, and the film surface is smoother than the ITO electrode.

図2は図1のTで示される部分の拡大概略断面図である。   FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view of a portion indicated by T in FIG.

封止部材108は樹脂基材108aと、防湿層108bとを有する可撓性封止部材で構成されている。尚、防湿層108bの上(本図では防湿層108bと接着剤層の間となる)に保護層(不図示)を設けてもよい。樹脂基材108aは単体でもよいし、積層体であってもよく必要に応じて適宜選択することが可能である。防湿層108bは単体でもよいし、積層体であってもよく必要に応じて適宜選択することが可能である。可撓性封止部材108は接着剤を介して第2電極上へ貼合されている。   The sealing member 108 is composed of a flexible sealing member having a resin base material 108a and a moisture-proof layer 108b. Note that a protective layer (not shown) may be provided on the moisture-proof layer 108b (in this figure, between the moisture-proof layer 108b and the adhesive layer). The resin base material 108a may be a single body or a laminate, and can be appropriately selected as necessary. The moisture-proof layer 108b may be a single body or a laminated body, and can be appropriately selected as necessary. The flexible sealing member 108 is bonded onto the second electrode via an adhesive.

本発明に使用する可撓性封止部材を構成している樹脂基材108aとしては特に限定はなく、例えばエチレンテトラフルオロエチル共重合体(ETFE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、延伸ポリプロピレン(OPP)、ポリスチレン(PS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、延伸ナイロン(ONy)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルスチレン(PES)等、熱可塑性樹脂フィルム材料を使用することが出来る。又、これら熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じて異種フィルムと共押出しで作った多層フィルム、延伸角度を変えて貼り合せて作った多層フィルム等も当然使用出来る。更に必要とする物性を得るために使用するフィルムの密度、分子量分布を組合せて作ることも当然可能である。   The resin base material 108a constituting the flexible sealing member used in the present invention is not particularly limited. For example, ethylene tetrafluoroethyl copolymer (ETFE), high density polyethylene (HDPE), oriented polypropylene (OPP) ), Polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA), stretched nylon (ONy), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyimide (PI), polyether styrene (PES), etc. A thermoplastic resin film material can be used. As these thermoplastic resin films, a multilayer film produced by coextrusion with a different film, a multilayer film produced by bonding with different stretching angles, etc. can be used as required. Further, it is naturally possible to combine the density and molecular weight distribution of the film used to obtain the required physical properties.

防湿層としては、無機蒸着膜、金属箔が挙げられる。無機蒸着膜としては薄膜ハンドブックp879〜p901(日本学術振興会)、真空技術ハンドブックp502〜p509、p612、p810(日刊工業新聞社)、真空ハンドブック増訂版p132〜p134(ULVAC 日本真空技術K.K)に記載されている如き無機膜が挙げられる。例えば、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al23、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe23、Y23、TiO2、Cr23、Sixy(x=1、y=1.5〜2.0)、Ta23、ZrN、SiC、TiC、PSG、Si34、SiN、単結晶Si、アモルファスSi、W、等が用いられる。 Examples of the moisture-proof layer include inorganic vapor-deposited films and metal foils. As inorganic vapor deposition films, thin film handbooks p879-p901 (Japan Society for the Promotion of Science), vacuum technology handbooks p502-p509, p612, p810 (Nikkan Kogyo Shimbun), vacuum handbook revised editions p132-p134 (ULVAC Japan Vacuum Technology KK) Inorganic films as described in (1). For example, In, Sn, Pb, Au , Cu, Ag, Al, Ti, a metal such as Ni, MgO, SiO, SiO 2, Al 2 O 3, GeO, NiO, CaO, BaO, Fe 2 O 3, Y 2 O 3 , TiO 2 , Cr 2 O 3 , Si x O y (x = 1, y = 1.5 to 2.0), Ta 2 O 3 , ZrN, SiC, TiC, PSG, Si 3 N 4 , SiN Single crystal Si, amorphous Si, W, or the like is used.

又、金属箔の材料としては、例えばアルミニウム、銅、ニッケルなどの金属材料や、ステンレス、アルミニウム合金などの合金材料を用いることが出来るが、加工性やコストの面でアルミニウムが好ましい。膜厚は、1〜100μm程度、好ましくは10μm〜50μm程度が望ましい。   Moreover, as a material of the metal foil, for example, a metal material such as aluminum, copper, or nickel, or an alloy material such as stainless steel or an aluminum alloy can be used, but aluminum is preferable in terms of workability and cost. The film thickness is about 1 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm.

本発明は図1に示す構成を有する有機EL素子を、図2に示す可撓性封止部材を使用し密着封止する時に、有機EL素子の性能劣化を生じさせない封止方法及びこの方法で製造した有機EL素子に関するものである。   In the present invention, when the organic EL element having the configuration shown in FIG. 1 is tightly sealed using the flexible sealing member shown in FIG. The present invention relates to the manufactured organic EL element.

図3は可撓性封止部材により封止する前の図1に示す有機EL素子の概略平面図である。   FIG. 3 is a schematic plan view of the organic EL element shown in FIG. 1 before sealing with a flexible sealing member.

図中、109は第1電極102と第2電極106とが重なっている部分の発光部を示し、110は外部取り出し電極102aと外部取り出し電極106aの先端部が露出する状態の外部取り出し電極102aと外部取り出し電極106aの一部を含めた発光部の外周面(図中、斜線で示す部分)を示す。される部分となる。他の符号は図1と同義である。   In the figure, reference numeral 109 denotes a light emitting portion where the first electrode 102 and the second electrode 106 overlap, and reference numeral 110 denotes the external extraction electrode 102a and the external extraction electrode 102a in a state where the tip of the external extraction electrode 106a is exposed. An outer peripheral surface of the light emitting portion including a part of the external extraction electrode 106a (a portion indicated by hatching in the drawing) is shown. It becomes a part to be done. Other reference numerals are the same as those in FIG.

本図はパッシブ型の面発光方式の有機EL素子を示しているが、本発明に係わる有機EL素子としては特に限定はなく、例えばパッシブ型のフルカラー方式、アクティブ型のフルカラー方式等が挙げられる。   This figure shows a passive surface emitting organic EL element, but the organic EL element according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a passive full color system and an active full color system.

図4は図3に示される有機EL素子の上に可撓性封止部材を重ね合わせた状態の有機EL素子の概略図である。図4の(a)は図3に示される有機EL素子の上に可撓性封止部材を重ね合わせた状態の有機EL素子の概略平面図である。図4の(b)は図4の(a)のA−A′に沿った概略断面図である。   FIG. 4 is a schematic view of the organic EL element in a state where a flexible sealing member is superimposed on the organic EL element shown in FIG. FIG. 4A is a schematic plan view of the organic EL element in a state where a flexible sealing member is superimposed on the organic EL element shown in FIG. FIG. 4B is a schematic cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.

本図は接着剤107が配置された可撓性封止部材108を用いて、有機EL素子の上に重ね合わせた状態を示している。可撓性封止部材108に配置された接着剤107は、有機EL素子の外部取り出し電極102a及び外部取り出し電極106aの先端部が露出する状態で発光部109と外周面110とを含め可撓性封止部材108が貼合される様に配置されている。107aは発光部109の外周面110に対応する位置にあたる可撓性封止部材に配置された接着剤を示す。外周面110上の接着剤107aが封止部材108を介し圧着される。接着剤107aの耳幅は端部シール性やパネルサイズの低減等を考慮して0.5mm〜3mmが好ましい。   This figure shows a state where the flexible sealing member 108 on which the adhesive 107 is disposed is overlaid on the organic EL element. The adhesive 107 disposed on the flexible sealing member 108 is flexible including the light emitting portion 109 and the outer peripheral surface 110 with the external extraction electrode 102a and the external extraction electrode 106a of the organic EL element exposed. It arrange | positions so that the sealing member 108 may be bonded. Reference numeral 107 a denotes an adhesive disposed on the flexible sealing member corresponding to the outer peripheral surface 110 of the light emitting unit 109. The adhesive 107 a on the outer peripheral surface 110 is pressure-bonded via the sealing member 108. The ear width of the adhesive 107a is preferably 0.5 mm to 3 mm in consideration of end sealability and panel size reduction.

接着剤としては、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、エポキシ系などの熱及び化学硬化型(二液混合)等の接着剤、カチオン硬化タイプ等の接着剤の紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤等を挙げることが出来る。又、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることが出来る。   Adhesives include photo-curing and thermosetting adhesives with reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and epoxy and other heat and chemical curing (two-component mixed) adhesives, cations An ultraviolet curable epoxy resin adhesive of a curing type or the like can be exemplified. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned.

配置する接着剤の厚さは、液状タイプ、シート状タイプ共に硬化反応時間、有機層への影響、端部からの水分浸透等を考慮し、5〜100μmが好ましい。接着剤を配置する方法としては、使用する接着剤が液状タイプと、シート状タイプの場合があるため接着剤の種類に応じて対応することが可能である。例えば接着剤が液状タイプの場合、外部取り出し電極102aと外部取り出し電極106aの先端部が露出する状態にするため、生産効率、膜厚安定性を考慮し、スクリーン印刷で可撓性封止部材108塗設することが好ましい。シート状タイプの場合は、予め必要とする大きさにしたシート状接着剤を外部取り出し電極102aと外部取り出し電極106aの先端部が露出する状態の位置に可撓性封止部材108に配置することが可能である。尚、封止部材に接着剤を配置する前に接着剤を配置する箇所は異物付着を避けるため、例えば、粘着式ロールクリーナ、UVオゾン洗浄等で清掃することが好ましい。   The thickness of the adhesive to be arranged is preferably 5 to 100 μm in consideration of the curing reaction time, the influence on the organic layer, the moisture penetration from the edge, etc. for both the liquid type and the sheet type. As a method of arranging the adhesive, since the adhesive to be used may be a liquid type or a sheet type, it is possible to cope with the type of the adhesive. For example, when the adhesive is a liquid type, the flexible extraction member 108 is screen-printed in consideration of production efficiency and film thickness stability in order to expose the leading ends of the external extraction electrode 102a and the external extraction electrode 106a. It is preferable to coat. In the case of a sheet type, a sheet-like adhesive having a required size is disposed on the flexible sealing member 108 at a position where the leading ends of the external extraction electrode 102a and the external extraction electrode 106a are exposed. Is possible. In addition, in order to avoid adhesion of foreign substances, it is preferable to clean the place where the adhesive is disposed before placing the adhesive on the sealing member, for example, with an adhesive roll cleaner or UV ozone cleaning.

尚、本図は接着剤を可撓性封止部材108に配置した場合を示しているが、接着剤の配置する場所は特に限定はなく、外部取り出し電極102aと外部取り出し電極106aの先端部を除いて有機EL素子に配置することも可能である。   Although this figure shows the case where the adhesive is disposed on the flexible sealing member 108, the location where the adhesive is disposed is not particularly limited, and the distal ends of the external extraction electrode 102a and the external extraction electrode 106a are arranged. It is also possible to arrange them in organic EL elements.

図5は図4に示す可撓性封止部材を重ね合わせた状態の有機EL素子の発光部の外周面に相当する位置の可撓性封止部材を押圧し、可撓性封止部材を貼合する状態を示す概略フロー図である。   5 presses the flexible sealing member at a position corresponding to the outer peripheral surface of the light emitting portion of the organic EL element in a state where the flexible sealing members shown in FIG. It is a schematic flowchart which shows the state to paste.

図中、2は押圧部材を示す。押圧部材2の押圧面は、可撓性封止部材108の上を押圧部材2で押圧し圧着したとき、押圧力が発光部に伝わらないように発光部に相当する部分が凹形状に掘り込みが成された掘り込み部201と、発光部109(図4を参照)の外周面110(図4を参照)に相当する可撓性封止部材108の位置を圧着する押圧部202を掘り込み部201の周囲に有する形状となっている。   In the figure, 2 indicates a pressing member. The pressing surface of the pressing member 2 is dug in a concave shape so that the pressing force is not transmitted to the light emitting portion when the pressing member 2 presses and presses on the flexible sealing member 108. And a pressing portion 202 for pressing the position of the flexible sealing member 108 corresponding to the outer peripheral surface 110 (see FIG. 4) of the light emitting portion 109 (see FIG. 4). The shape is around the portion 201.

有機EL素子の発光部109(図4を参照)の上に重ね合わされた可撓性封止部材108の、発光部109(図4を参照)の外周面110(図4を参照)に相当する位置の可撓性封止部材108の接着面のみを圧着部材2で押圧(図中の矢印方向)し圧着することで、可撓性封止部材108の発光部109及び外周面110への貼合が終了する。圧着は発光部109の周面を均等な押圧力で同時に行うことが好ましく、押圧力は荷重不足による端部の密着性不良や過荷重による接着剤のはみ出し、外部電極の損傷等を考慮し0.5×104Pa〜20×104Paが好ましい。尚、押圧力は例えば空気圧シリンダに加える圧縮空気圧力をレギュレータで制御する方式が一般的である。レギュレータ圧力に対応するシリンダ推力を押し圧面積から換算して所望押し圧を設定する。貼合時には、使用した接着剤の種類に応じて熱処理、紫外線照射等の硬化処理を併用して行う。 The flexible sealing member 108 superimposed on the light emitting portion 109 (see FIG. 4) of the organic EL element corresponds to the outer peripheral surface 110 (see FIG. 4) of the light emitting portion 109 (see FIG. 4). Only the adhesive surface of the flexible sealing member 108 at the position is pressed by the pressure-bonding member 2 (in the direction of the arrow in the figure) and pressure-bonded, whereby the flexible sealing member 108 is attached to the light emitting portion 109 and the outer peripheral surface 110. The match ends. The pressure bonding is preferably performed simultaneously with a uniform pressing force on the peripheral surface of the light emitting portion 109. The pressing force is 0 in consideration of poor adhesion at the end due to insufficient load, protrusion of adhesive due to overload, damage to external electrodes, and the like. 5 × 10 4 Pa to 20 × 10 4 Pa are preferable. In general, the pressing force is, for example, a method in which a compressed air pressure applied to a pneumatic cylinder is controlled by a regulator. The desired thrust is set by converting the cylinder thrust corresponding to the regulator pressure from the thrust area. At the time of pasting, according to the kind of used adhesive agent, it carries out together with hardening processes, such as heat processing and ultraviolet irradiation.

可撓性封止部材108の厚さは、接着材の硬化収縮での変形緩和性、取り扱い性、分離手段形成性、切断性等を考慮し、30〜300μmが好ましい。   The thickness of the flexible sealing member 108 is preferably 30 to 300 μm in consideration of deformation relaxation property, handling property, separation means forming property, cutting property and the like due to curing shrinkage of the adhesive.

可撓性封止部材の水分透過度は、有機層の結晶化に伴うダークスポットの発生、及び有機EL素子の長寿命化等を考慮し、0.01g/m2・day以下であることが好ましい。水分透過度はJIS K7129B法(1992年)に準拠した方法で主としてMOCON法により測定した値を示す。 The moisture permeability of the flexible sealing member is 0.01 g / m 2 · day or less in consideration of the generation of dark spots accompanying the crystallization of the organic layer and the long life of the organic EL element. preferable. The moisture permeability is a value measured mainly by the MOCON method by a method based on JIS K7129B method (1992).

酸素透過度は、有機層の結晶化に伴うダークスポットの発生、及び有機ELス素子の長寿命化等を考慮し、0.01ml/m2・day・atm以下であることが好ましい。酸素透過度はJIS K7126B法(1987年)に準拠した方法で主としてMOCON法により測定した値である。 The oxygen permeability is preferably 0.01 ml / m 2 · day · atm or less in consideration of the generation of dark spots accompanying crystallization of the organic layer and the extension of the lifetime of the organic EL device. The oxygen permeability is a value measured mainly by the MOCON method by a method based on JIS K7126B method (1987).

図4に示す接着剤の配置から接着剤の硬化処理までは、有機EL素子の劣化による寿命低減の観点より、水分濃度、酸素濃度が低いことが重要であり、好ましくは水分濃度10ppm以下、酸素濃度10ppm以下の環境下で行うことが好ましい。貼合は、気泡の混入を考慮し、1Pa〜30kPaの減圧環境下で行うことが好ましい。   From the arrangement of the adhesive shown in FIG. 4 to the curing treatment of the adhesive, it is important that the water concentration and the oxygen concentration are low from the viewpoint of reducing the lifetime due to the deterioration of the organic EL element, preferably the water concentration is 10 ppm or less, oxygen It is preferable to carry out in an environment with a concentration of 10 ppm or less. Bonding is preferably performed in a reduced pressure environment of 1 Pa to 30 kPa in consideration of air bubbles.

図1〜図5に示す接着剤を介して可撓性封止部材による有機EL素子の封止方法により次の効果が得られた。
1.可撓性封止部材を貼合する時、発光部の周面のみを圧着するため、貼合時の外圧による損傷を防止することが出来、安定した品質のガラス基板を使用した薄型・軽量な有機EL素子を得ることが可能となった。
2.発光部の硬化処理により発生する接着剤の収縮によるストレスを可撓性封止部材が変形することで緩和するため発光部の性能劣化を防止することが可能となり安定した品質のガラス基板を使用した薄型・軽量な有機EL素子を得る得ることが可能となった。
3.可撓性封止部材を貼合する時、発光部の周面のみを圧着するため、有機EL素子と封止部材との接着高さの均一化が周面で図れるので可撓性封止部材の厚みの均一化を図ることが可能となった。
4.硬化処理により発生する接着剤の収縮によるストレスを緩和するために別の機能層を設ける必要がないため、工程を増やすことなく、生産性を下げることなく、コストを上げることなく安定した品質のガラス基板を使用した薄型・軽量な有機EL素子を得ることが可能となった。
The following effect was acquired by the sealing method of the organic EL element by a flexible sealing member through the adhesive agent shown in FIGS.
1. When bonding flexible sealing members, only the peripheral surface of the light emitting part is crimped, so damage due to external pressure during bonding can be prevented, and it is thin and lightweight using a stable quality glass substrate. An organic EL element can be obtained.
2. Since the flexible sealing member relieves the stress caused by the shrinkage of the adhesive generated by the curing process of the light emitting part, the performance of the light emitting part can be prevented from being deteriorated, and a stable quality glass substrate is used. It became possible to obtain a thin and lightweight organic EL element.
3. When the flexible sealing member is bonded, only the peripheral surface of the light emitting part is pressure-bonded, so that the uniform height of the adhesion between the organic EL element and the sealing member can be achieved on the peripheral surface. It was possible to make the thickness of the film uniform.
4). Since it is not necessary to provide a separate functional layer to relieve the stress caused by the shrinkage of the adhesive generated by the curing process, glass with stable quality without increasing the number of processes, reducing productivity, or increasing costs It has become possible to obtain a thin and lightweight organic EL element using a substrate.

以下、本発明に係る有機EL素子を構成している主要な層に付き説明する。
《発光層》
本発明に係る有機EL素子の発光層は、電極又は電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することが出来る。発光層の構成としてホスト化合物、発光ドーパント(発光ドーパント化合物とも言う)を含有し、ドーパントより発光させることが好ましい。
Hereinafter, the main layers constituting the organic EL element according to the present invention will be described.
<Light emitting layer>
The light emitting layer of the organic EL device according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is a layer of the light emitting layer. It may be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer. For the production of the light-emitting layer, a light-emitting dopant or a host compound, which will be described later, is formed and formed by a known thinning method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, or an ink-jet method. I can do it. It is preferable that the light-emitting layer contains a host compound and a light-emitting dopant (also referred to as a light-emitting dopant compound) and emits light from the dopant.

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することが出来る。又、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることが出来る。   As the host compound, known host compounds may be used alone or in combination of two or more. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. Moreover, it becomes possible to mix different light emission by using multiple types of light emission dopants mentioned later, and, thereby, arbitrary light emission colors can be obtained.

発光ホストとしては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位を持つ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもいい。公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等が挙げられる。   The light emitting host may be a conventionally known low molecular compound, a high molecular compound having a repeating unit, or a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host). Specific examples of known host compounds include compounds described in the following documents. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860 Gazette, 2002-334787 gazette, 2002-15871 gazette, 2002-334788 gazette, 2002-43056 gazette, 2002-334789 gazette, 2002-75645 gazette, 2002-338579 gazette. No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 2002-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453. No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060. 2002-302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.

次に、有機EL素子に用いられる発光ドーパントについて説明する。発光ドーパントとしては、蛍光性化合物、燐光発光体(燐光性化合物、燐光発光性化合物等とも言う)を用いることが出来る。燐光発光体としては、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   Next, the light emission dopant used for an organic EL element is demonstrated. As the light-emitting dopant, a fluorescent compound or a phosphorescent material (also referred to as a phosphorescent compound or a phosphorescent compound) can be used. The phosphorescent emitter is preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound, an osmium compound, a platinum compound (platinum complex compound), or a rare earth complex. Among them, the most preferable is an iridium compound.

以下に、燐光発光体として用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻,1704〜1711に記載の方法等により合成出来る。   Specific examples of the compound used as the phosphorescent emitter are shown below, but the present invention is not limited to these. These compounds are described, for example, in Inorg. Chem. 40, 1704 to 1711, and the like.

Figure 2007220402
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蛍光発光体(蛍光性ドーパント)の代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。   Representative examples of fluorescent emitters (fluorescent dopants) include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes. Examples thereof include dyes, perylene dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.

又、従来公知のドーパントも本発明に用いることが出来、例えば、国際公開第00/70655号パンフレット、特開2002−280178号公報、同2001−181616号公報、同2002−280179号公報、同2001−181617号公報、同2002−280180号公報、同2001−247859号公報、同2002−299060号公報、同2001−313178号公報、同2002−302671号公報、同2001−345183号公報、同2002−324679号公報、国際公開第02/15645号パンフレット、特開2002−332291号公報、同2002−50484号公報、同2002−332292号公報、同2002−83684号公報、特表2002−540572号公報、特開2002−117978号公報、同2002−338588号公報、同2002−170684号公報、同2002−352960号公報、国際公開第01/93642号パンフレット、特開2002−50483号公報、同2002−100476号公報、同2002−173674号公報、同2002−359082号公報、同2002−175884号公報、同2002−363552号公報、同2002−184582号公報、同2003−7469号公報、特表2002−525808号公報、特開2003−7471号公報、特表2002−525833号公報、特開2003−31366号公報、同2002−226495号公報、同2002−234894号公報、同2002−235076号公報、同2002−241751号公報、同2001−319779号公報、同2001−319780号公報、同2002−62824号公報、同2002−100474号公報、同2002−203679号公報、同2002−343572号公報、同2002−203678号公報等が挙げられる。   Conventionally known dopants can also be used in the present invention. For example, WO 00/70655 pamphlet, JP 2002-280178 A, 2001-181616, 2002-280179, 2001 181617, 2002-280180, 2001-247859, 2002-299060, 2001-313178, 2002-302671, 2001-345183, 2002. No. 324679, International Publication No. 02/15645, JP 2002-332291 A, 2002-50484, 2002-332292, 2002-83684, JP 2002-540572, JP 20 2-117978, 2002-338588, 2002-170684, 2002-352960, WO01 / 93642, JP2002-50483, 2002-1000047 No. 2002-173684, No. 2002-359082, No. 2002-17584, No. 2002-363552, No. 2002-184582, No. 2003-7469, No. 2002-525808. JP, 2003-7471, JP, 2002-525833, JP, 2003-31366, JP, 2002-226495, JP, 2002-234894, JP, 2002-235076, JP, 2002-241751. Gazettes, 2001-319779, 2001-319780, 2002-62824, 2002-1000047, 2002-203679, 2002-343572, 2002-203678 Etc.

《注入層:電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、陽極と発光層又は正孔輸送層の間、及び陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させてもよい。
<< Injection layer: electron injection layer, hole injection layer >>
The injection layer is provided as necessary, and there are an electron injection layer and a hole injection layer, and may exist between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer, and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer. .

注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。   An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to reduce drive voltage and improve light emission luminance. “Organic EL element and its forefront of industrialization (issued by NTT Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166) in detail, and includes a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer).

陽極バッファー層(正孔注入層)は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。   The details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. As a specific example, copper phthalocyanine is used. Examples thereof include a phthalocyanine buffer layer represented by an oxide, an oxide buffer layer represented by vanadium oxide, an amorphous carbon buffer layer, and a polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.

陰極バッファー層(電子注入層)は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1nm〜5μmの範囲が好ましい。   The details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by lithium, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, oxide buffer layer typified by aluminum oxide, etc. . The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 5 μm although it depends on the material.

《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
As described above, the blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.

正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることが出来る。一般に有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。   The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. By blocking this, the recombination probability of electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer as needed. In general, the hole blocking layer of the organic EL device is preferably provided adjacent to the light emitting layer.

一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることが出来る。一般に正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては好ましくは3〜100nmであり、更に好ましくは5〜30nmである。   On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material having a function of transporting holes while having a very small ability to transport electrons, and transporting electrons while transporting holes. By blocking, the probability of recombination of electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed. In general, the thickness of the hole blocking layer and the electron transporting layer is preferably 3 to 100 nm, and more preferably 5 to 30 nm.

《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることが出来る。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性の何れかを有するものであり、有機物、無機物の何れであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、又導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.

正孔輸送材料としては上記のものを使用することが出来るが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。   The above-mentioned materials can be used as the hole transport material, but it is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.

芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、更には、米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。   Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and two more described in US Pat. No. 5,061,569 Having a condensed aromatic ring of, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-308 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 88 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.

更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。又、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することが出来る。   Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.

又、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)に記載されているような所謂、p型正孔輸送材料を用いることも出来る。   JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. A so-called p-type hole transport material described in a book (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139) can also be used.

正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することが出来る。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の1種又は2種以上からなる一層構造であってもよい。   The hole transport layer can be formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. I can do it. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5-200 nm. This hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

又、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   A hole transport layer having a high p property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層又は複数層設けることが出来る。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが出来、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来る。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。   Conventionally, in the case of a single electron transport layer and a plurality of layers, an electron transport material (also serving as a hole blocking material) used for an electron transport layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side is injected from the cathode. As long as it has a function of transferring electrons to the light-emitting layer, any material can be selected and used from the conventionally known compounds, such as nitro-substituted fluorene derivatives and diphenylquinone derivatives. Thiopyrandioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives and the like. Furthermore, in the above oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and quinoxaline derivatives having a quinoxaline ring known as an electron-withdrawing group can also be used as the electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

又、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることが出来る。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることが出来る。又、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来るし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、n型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることが出来る。   Also, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum. Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as the electron transport material. In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transporting material. Further, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and, like the hole injection layer and the hole transport layer, inorganic such as n-type-Si and n-type-SiC. A semiconductor can also be used as an electron transport material.

電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することが出来る。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmである。電子輸送層は上記材料の1種又は2種以上からなる一層構造であってもよい。   The electron transport layer can be formed by thinning the electron transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5-200 nm. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

又、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   An electron transport layer having a high n property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

《第1電極:陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。この様な電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。又、IDIXO(In23−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式製膜法を用いることも出来る。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、又陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
<< First electrode: Anode >>
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such an electrode substance include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO. Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) that can form a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when the pattern accuracy is not required (about 100 μm or more) ), A pattern may be formed through a mask having a desired shape when the electrode material is deposited or sputtered. Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used. When light emission is extracted from the anode, the transmittance is desirably greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 to 1000 nm, preferably 10 to 200 nm.

《第2電極:陰極》
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。この様な電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することが出来る。又、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極又は陰極の何れか一方が、透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
<< Second electrode: Cathode >>
On the other hand, as the cathode, a material having a low work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like. Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Suitable are a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, a lithium / aluminum mixture, aluminum and the like. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as the cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 to 200 nm. In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the light emission luminance is improved, which is convenient.

又、陰極に上記金属を1〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の陰極を作製することが出来、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することが出来る。   Moreover, after producing the above metal with a film thickness of 1 to 20 nm on the cathode, a transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the conductive transparent material mentioned in the description of the anode thereon. By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.

以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない
実施例1
《有機EL素子の作製》
陽極としてガラス板の上にITOを150nm成膜した基板(NHテクノグラス社製:NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をiso−プロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and the specific effect of this invention is shown, the aspect of this invention is not limited to this Example 1
<< Production of organic EL element >>
After patterning a substrate having a 150 nm ITO film formed on a glass plate as an anode (NH Techno Glass, NA-45), the transparent support substrate provided with the ITO transparent electrode was ultrasonicated with iso-propyl alcohol. Washed, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone washed for 5 minutes.

この透明支持基板を、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方、5つのタンタル製抵抗加熱ボートに、α−NPD、CBP、Ir(ppy)3、BCP、Alq3をそれぞれ入れ、真空蒸着装置(第1真空槽)に取り付けた。更にタンタル製抵抗加熱ボートにフッ化リチウムを、タングステン製抵抗加熱ボートにアルミニウムをそれぞれ入れ、真空蒸着装置の第2真空槽に取り付けた。 This transparent support substrate is fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus, while α-NPD, CBP, Ir (ppy) 3 , BCP, and Alq 3 are placed in five tantalum resistance heating boats, respectively, and vacuum It attached to the vapor deposition apparatus (1st vacuum tank). Further, lithium fluoride was put into a resistance heating boat made of tantalum, and aluminum was put into a resistance heating boat made of tungsten, respectively, and attached to the second vacuum tank of the vacuum evaporation apparatus.

まず、第1の真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、α−NPDの入ったタンタル製抵抗加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm〜0.2nm/秒で透明支持基板に膜厚25nmの厚さになるように蒸着し、正孔注入/輸送層を設けた。 First, after reducing the pressure of the first vacuum tank to 4 × 10 −4 Pa, the tantalum resistance heating boat containing α-NPD is energized and heated, and transparent at a deposition rate of 0.1 nm to 0.2 nm / sec. It vapor-deposited so that it might become a film thickness of 25 nm on the support substrate, and provided the positive hole injection / transport layer.

更に、CBPの入ったタンタル製抵抗加熱ボートとIr(ppy)3の入ったタンタル製抵抗ボートをそれぞれ独立に通電して発光ホストであるCBPと発光ドーパントであるIr(ppy)3の蒸着速度が100:7になるように調節し膜厚30nmの厚さになるように蒸着し、発光層を設けた。 Further, the tantalum resistance heating boat containing CBP and the tantalum resistance boat containing Ir (ppy) 3 are energized independently, and the deposition rate of CBP as a light emitting host and Ir (ppy) 3 as a light emitting dopant is increased. The light emitting layer was provided by adjusting the film thickness to 100: 7 and depositing the film to a thickness of 30 nm.

次いで、BCPの入ったタンタル製抵抗加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で厚さ10nmの正孔阻止層電子輸送層を設けた。更に、Alq3の入ったタンタル製抵抗加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1nm〜0.2nm/秒で膜厚40nmの電子輸送層電子注入層を設けた。 Subsequently, the resistance heating boat made of tantalum containing BCP was energized and heated to provide a hole blocking layer electron transport layer having a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / second. Further, a resistance heating boat made of tantalum containing Alq 3 was energized and heated to provide an electron transport layer electron injection layer having a film thickness of 40 nm at a deposition rate of 0.1 nm to 0.2 nm / second.

次に、前記の如く電子輸送層電子注入層まで製膜した素子を真空のまま第2真空槽に移し第2真空槽を2×10-4Paまで減圧した後、フッ化リチウム入りのタンタル製抵抗加熱ボートに通電して蒸着速度0.01nm/秒〜0.02nm/秒で膜厚0.5nmの陰極バッファー層を設け、次いでアルミニウムの入ったタンタル製抵抗加熱ボートに通電して蒸着速度1nm/秒〜2nm/秒で膜厚150nmの陰極を付け、図5に記載の層構成を有する有機EL素子を得た。更にこの有機EL素子を大気に接触させることなく窒素雰囲気下(純度99.999%以上の高純度窒素ガス下)へ移した。 Next, the element formed up to the electron transport layer and the electron injection layer as described above was transferred to the second vacuum chamber while maintaining a vacuum, and the second vacuum chamber was depressurized to 2 × 10 −4 Pa, and then made of tantalum containing lithium fluoride. A resistance heating boat is energized to provide a cathode buffer layer with a film thickness of 0.5 nm at a deposition rate of 0.01 nm / sec to 0.02 nm / sec, and then a tantalum resistance heating boat containing aluminum is energized to a deposition rate of 1 nm. An organic EL device having a layer structure shown in FIG. 5 was obtained by attaching a cathode having a film thickness of 150 nm at a rate of 2 / second to 2 nm / second. Further, the organic EL element was transferred to a nitrogen atmosphere (under a high purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more) without being brought into contact with the air.

《封止作業》
<ガスバリア性可撓性フィルム(封止用フィルム)の作製>
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人・デュポン社製フィルム、以下、PETと略記する)上に、大気圧プラズマ放電処理装置によりSiOxからなる無機物のガスバリア膜を形成し、酸素透過度0.01ml/m2/day以下、水蒸気透過度0.01g/m2/day以下の高ガスバリア性フィルムを作製した。
《Sealing work》
<Preparation of gas barrier flexible film (sealing film)>
As a base material, an inorganic gas barrier film made of SiOx was formed on a polyethylene terephthalate film (a film made by Teijin DuPont, hereinafter abbreviated as PET) by an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus, and an oxygen permeability of 0.01 ml / A high gas barrier film having a m 2 / day or less and a water vapor permeability of 0.01 g / m 2 / day or less was produced.

〈可撓性封止部材による有機EL素子の封止〉
準備した有機EL素子を使用し、図3に示す有機EL素子の外部取り出し電極を除き、発光部と外周面に対応する封止部材面に以下に示す接着剤をスクリーン印刷法にて厚さ0.1mmで配置した。接着剤は、ナガセケムテック(株)製 UVレジン XNR5516を使用した。
この後、接着剤付き可撓性封止部材を図5に示す様に有機EL素子の上に重ね合わせた後、表1に示す様に外周面の接着部の押圧力を変えて以下に示す可撓性封止部材を圧着貼合し、オーク製作所製ハンディ高圧水銀ランプ(OHD−110M−ST)にて6000mJ/cm2以上の照射エネルギーを与え硬化処理し封止した有機EL素子を作製し、試料No.101〜110した。尚、可撓性封止部材を貼合する際、前記接着剤の塗布された封止部材に対向する様にガラス上に形成された有機EL素子面をバリアフィルム側に向け、位置合わせを行い、周囲を100Paまで減圧を行ったのち、封止部材の上を押圧部材を介し圧着を行う。押圧部材は平板ガラスを使用し、平板ガラスの押圧面は図5に示す様に発光部に相当する部分に深さ1mmの掘り込み部を設け、掘り込み部の周囲に圧着部を配置した。この押圧部材により封止部材上から押圧し、圧着部のみ所望荷重にて圧着された状態にて、ガラスの上から高圧水銀ランプを照射し押圧面及び、有機EL素子の素子面の硬化処理を行った。又、0.7mmの掘り込み部を設けていない平板ガラスで発光部と外周面とを押圧力2×104Paで圧着(全面圧着)し封止した有機EL素子を作製し、比較試料No.111とした。尚、接着剤は熱硬化型を用いてもよい。
<Sealing of organic EL element by flexible sealing member>
Using the prepared organic EL element, except for the external extraction electrode of the organic EL element shown in FIG. 3, the adhesive shown below was applied to the sealing member surface corresponding to the light emitting portion and the outer peripheral surface by a screen printing method to achieve a thickness of 0. Placed at 1 mm. As the adhesive, UV resin XNR5516 manufactured by Nagase Chemtech Co., Ltd. was used.
Thereafter, the flexible sealing member with an adhesive is overlaid on the organic EL element as shown in FIG. 5, and the pressing force of the adhesive portion on the outer peripheral surface is changed as shown in Table 1 below. A flexible sealing member is bonded by pressure bonding, and an organic EL element is produced by applying an irradiation energy of 6000 mJ / cm 2 or more with a handy high-pressure mercury lamp (OHD-110M-ST) manufactured by Oak Manufacturing Co. Sample No. 101-110. In addition, when bonding a flexible sealing member, the organic EL element surface formed on the glass is faced to the barrier film side so as to face the sealing member to which the adhesive is applied, and alignment is performed. Then, after reducing the pressure to 100 Pa around the periphery, pressure is applied on the sealing member via the pressing member. As the pressing member, flat glass was used. As shown in FIG. 5, the pressing surface of the flat glass was provided with a 1 mm deep digging portion at a portion corresponding to the light emitting portion, and a crimping portion was disposed around the digging portion. The pressing member is pressed from above the sealing member, and in a state where only the crimping portion is crimped with a desired load, a high-pressure mercury lamp is irradiated from above the glass to cure the pressing surface and the element surface of the organic EL element. went. In addition, an organic EL element was produced by sealing the light emitting portion and the outer peripheral surface with a pressing force of 2 × 10 4 Pa with a flat glass not provided with a 0.7 mm digging portion (full surface pressure bonding). . 111. The adhesive may be a thermosetting type.

(評価)
作製した各試料No.101〜111に付き、リーク電流値及び未発光故障(ダークスポット)を以下に示す試験方法により試験し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表1に示す。
(Evaluation)
Each prepared sample No. Table 1 shows the results obtained by testing leak current values and non-luminous failures (dark spots) by the following test methods according to the evaluation ranks shown below.

リーク電流値の試験方法
定電圧駆動時の正極性、逆極性での電流値を求め以下に示す式から計算で求めた。
Test Method for Leakage Current Value The current value in positive polarity and reverse polarity at constant voltage driving was obtained and calculated from the following formula.

リーク電流値=電流値(正)/電流値(逆)
リーク電流値の評価ランク
○:1000以上
△:1000〜500
×:500以下
未発光故障(ダークスポット)の試験方法
未発光素子を発光させ未発光黒点故障(ダークスポット)の数を拡大鏡による目視にて3箇所計測し、面積2mm2の領域あたりの未発光故障の個数を3箇所の平均として算出した。
Leakage current value = current value (positive) / current value (reverse)
Evaluation rank of leakage current value ○: 1000 or more Δ: 1000 to 500
×: 500 measures three numbers visually by magnifier follows non emission fault (dark spot) Test method Not emitting black spot failure to emit non-light-emitting element (dark spots), non per area 2 mm 2 area The number of light emission failures was calculated as the average of three locations.

未発光故障(ダークスポット)の評価ランク
○:0個
△:1〜3個
×:4個以上
Evaluation rank of non-luminous failure (dark spot) ○: 0 △: 1 to 3 ×: 4 or more

Figure 2007220402
Figure 2007220402

本発明の有効性が確認された。   The effectiveness of the present invention was confirmed.

有機EL素子の層構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the laminated constitution of an organic EL element. 図1のTで示される部分の拡大概略断面図である。It is an expansion schematic sectional drawing of the part shown by T of FIG. 可撓性封止部材により封止する前の図1に示す有機EL素子の概略平面図である。It is a schematic plan view of the organic EL element shown in FIG. 1 before sealing with a flexible sealing member. 図3に示される有機EL素子の上に可撓性封止部材を重ね合わせた状態の有機EL素子の概略図である。It is the schematic of the organic EL element of the state which accumulated the flexible sealing member on the organic EL element shown by FIG. 図4に示す可撓性封止部材を重ね合わせた状態の有機EL素子の発光部の外周面に相当する位置の可撓性封止部材を押圧し、可撓性封止部材を貼合する状態を示す概略フロー図である。The flexible sealing member in a position corresponding to the outer peripheral surface of the light emitting portion of the organic EL element in a state where the flexible sealing members shown in FIG. 4 are overlapped is pressed, and the flexible sealing member is bonded. It is a schematic flowchart which shows a state.

符号の説明Explanation of symbols

1 有機EL素子
101 ガラス基材
102 第1電極
102a、106a 外部取り出し電極
103 正孔輸送層(正孔注入層)
104 有機化合物層(発光層)
105 電子注入層
106 第2電極
107、107a 接着剤
108 封止部材
108a 樹脂基材
108b 防湿層
109 発光部
110 外周面
2 押圧部材
201 掘り込み部
202 押圧部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL element 101 Glass base material 102 1st electrode 102a, 106a External extraction electrode 103 Hole transport layer (hole injection layer)
104 Organic compound layer (light emitting layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 105 Electron injection layer 106 2nd electrode 107, 107a Adhesive 108 Sealing member 108a Resin base material 108b Moisture-proof layer 109 Light emission part 110 Outer peripheral surface 2 Pressing member 201 Digging part 202 Pressing part

Claims (5)

基板の上に第1電極と、発光層を含む少なくとも1層の有機化合物層と、第2電極とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子を接着剤を介してバリア性を有する可撓性封止部材により封止する有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法において、
前記接着剤を前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光部及び外部取り出し電極の先端部が露出する状態に前記発光部の外周面を含め全面に配置し、
前記接着剤上に前記可撓性封止部材を重ね合わせ、
前記可撓性封止部材の前記外周面の接着部のみを圧着した後、硬化処理することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。
An organic electroluminescence element having a first electrode, at least one organic compound layer including a light emitting layer, and a second electrode on a substrate is sealed with a flexible sealing member having a barrier property through an adhesive. In the sealing method of the organic electroluminescence element to be stopped,
The adhesive is disposed on the entire surface including the outer peripheral surface of the light emitting part in a state where the light emitting part of the organic electroluminescence element and the tip of the external extraction electrode are exposed,
Overlaying the flexible sealing member on the adhesive,
A method for sealing an organic electroluminescent element, wherein only a bonding portion of the outer peripheral surface of the flexible sealing member is pressure-bonded and then cured.
前記接着剤が光硬化型もしくは熱硬化型であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。 The method for sealing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the adhesive is a photo-curing type or a thermosetting type. 前記外周面の接着部を圧着する時の押圧力は、0.5×104Pa〜20×104Paであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。 Sealing of the pressing force to an organic electroluminescent device according to claim 1 or 2, characterized in that it is 0.5 × 10 4 Pa~20 × 10 4 Pa at the time of crimping the bonding portion of the outer peripheral surface Method. 前記可撓性封止部材が樹脂基材からなり、防湿層を有し、厚さが30〜300μmであることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の封止方法。 The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the flexible sealing member is made of a resin base material, has a moisture-proof layer, and has a thickness of 30 to 300 μm. Sealing method. 請求項1〜4の何れか1項に記載の封止方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence element manufactured by the sealing method according to claim 1.
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