JP2007214381A - Inductance element - Google Patents

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Toshiaki Kikuchi
俊秋 菊池
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inductance element which can attain the sufficient improvement of a heat dissipation property and low impedance to a high frequency current. <P>SOLUTION: An inductance element 1 is provided with three lines of electric insulating core bodies 7 extended on an insulating board 2 along the longitudinal direction of coils 5, 5. The coils 5, 5 are formed by mutually connecting each plating layer 8 formed to cover each electrical insulating core body 7 by an electrolytic plating method. Consequently, the bottom side of the coils 5, 5 is irregular along the side surface and the top surface of the electrical insulating core body 7, and the top surface side of the coils 5, 5 is an arch-like irregular shape centered on each electrical insulating core body 7. Consequently, since a surface area of the coils 5, 5 is enlarged in the inductance element 1, it is possible to attain the improvement of the heat dissipation property of heat generated in the coils 5, 5 and low impedance to a high frequency current. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に所定長さの導体を形成してなるインダクタンス素子に関する。   The present invention relates to an inductance element in which a conductor having a predetermined length is formed on a substrate.

上記分野に関連する技術として、例えば特許文献1に記載の高周波用コイルがある。この従来の高周波用コイルでは、基板上に設けたコイルの頂面を断面凹状に形成することにより、導電部分の表面積(導電部分と絶縁部分の接触面積)を大きくしている。
特開平5−41321号公報
As a technique related to the above field, for example, there is a high frequency coil described in Patent Document 1. In this conventional high frequency coil, the surface area of the conductive portion (contact area between the conductive portion and the insulating portion) is increased by forming the top surface of the coil provided on the substrate into a concave cross section.
JP-A-5-41321

導電部分の表面積を大きくすることは、通電によって発生する熱の放熱性を向上できる点や、表皮効果によって導体の表面を流れる特性を持つ高周波電流に対する低インピーダンス化を実現できる点でメリットがある。しかしながら、上述した従来の高周波用コイルでは、コイルの基板側の形状が単純に基板に沿った平坦なものであるため、表面積の大面積化が十分に図られているとは言い難い。そのため、放熱性の向上及び高周波電流に対する低インピーダンス化を十分に図ることができる技術が望まれていた。   Increasing the surface area of the conductive portion is advantageous in that it can improve the heat dissipation of heat generated by energization, and can realize low impedance against high-frequency current having the characteristic of flowing on the surface of the conductor due to the skin effect. However, in the conventional high-frequency coil described above, since the shape of the coil on the substrate side is simply flat along the substrate, it cannot be said that the surface area is sufficiently increased. Therefore, there has been a demand for a technique that can sufficiently improve heat dissipation and reduce impedance with respect to high-frequency current.

本発明は上記課題の解決のためになされたものであり、放熱性の向上及び高周波電流に対する低インピーダンス化を十分に図ることができるインダクタンス素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an inductance element that can sufficiently improve heat dissipation and reduce impedance against high-frequency current.

上記課題の解決のため、本発明に係るインダクタンス素子は、基板に所定長さの導体を形成してなるインダクタンス素子であって、基板には、導体の長手方向に沿って延在する電気絶縁性の核体が形成され、導体は、電解めっき法によって電気絶縁性の核体を覆うように成長させためっき層によって形成されていることを特徴としている。   In order to solve the above problems, an inductance element according to the present invention is an inductance element formed by forming a conductor having a predetermined length on a substrate, and the substrate has an electrical insulating property extending along the longitudinal direction of the conductor. The core is formed, and the conductor is formed by a plating layer grown so as to cover the electrically insulating core by electrolytic plating.

このインダクタンス素子では、基板に形成された電気絶縁性の核体を覆うように導体が形成されているので、電気絶縁性の核体と導体との接触面積の分だけ導体の基板側の表面積を大面積化できる。また、電解めっき法によるめっき層の成長により導体を形成するので、導体の頂部側の形状を例えばアーチ状に形成でき、導体の頂部側の表面積も大面積化できる。これらの結果、このインダクタンス素子では、放熱性の向上及び高周波電流に対する低インピーダンス化を十分に図ることができる。   In this inductance element, since the conductor is formed so as to cover the electrically insulating core formed on the substrate, the surface area on the substrate side of the conductor is increased by the contact area between the electrically insulating core and the conductor. The area can be increased. Further, since the conductor is formed by growing the plating layer by the electrolytic plating method, the shape on the top side of the conductor can be formed, for example, in an arch shape, and the surface area on the top side of the conductor can be increased. As a result, in this inductance element, it is possible to sufficiently improve heat dissipation and reduce the impedance against high-frequency current.

また、基板には、導体の長手方向に沿って延在するシード層が更に形成され、電気絶縁性の核体は、シード層上に形成されていることが好ましい。この場合、電気絶縁性の核体が基板から離間するので、導体と核体との接触面積をより大面積化できる。したがって、放熱性の向上及び高周波電流に対する低インピーダンス化を一層図ることができる   Moreover, it is preferable that the substrate is further formed with a seed layer extending along the longitudinal direction of the conductor, and the electrically insulating core is formed on the seed layer. In this case, since the electrically insulating core is separated from the substrate, the contact area between the conductor and the core can be increased. Therefore, it is possible to further improve the heat dissipation and lower the impedance against the high frequency current.

また、電気絶縁性の核体は、複数列形成され、導体は、電解めっき法によって各電気絶縁性の核体を覆うように成長させためっき層のそれぞれを互いに接続して形成されていることが好ましい。このような構成により、導体の表面積を更に大面積化でき、放熱性及び高周波電流に対する低インピーダンス化を一層図ることができる。   In addition, the electrically insulating cores are formed in a plurality of rows, and the conductor is formed by connecting each of the plated layers grown so as to cover each electrically insulating core by the electrolytic plating method. Is preferred. With such a configuration, the surface area of the conductor can be further increased, and heat dissipation and impedance reduction with respect to high-frequency current can be further achieved.

また、電気絶縁性の核体のアスペクト比は、0.1以上であることが好ましい。この場合、導体で発生する渦電流損失を抑えることができる。これにより、導体自体の発熱を抑えることが可能となり、インダクタンス特性の向上が図られる。   The aspect ratio of the electrically insulating core is preferably 0.1 or more. In this case, eddy current loss generated in the conductor can be suppressed. Thereby, it is possible to suppress the heat generation of the conductor itself, and the inductance characteristics can be improved.

以上説明したように、本発明に係るインダクタンス素子によれば、放熱性の向上及び高周波電流に対する低インピーダンス化を十分に図ることができる。   As described above, according to the inductance element according to the present invention, it is possible to sufficiently improve the heat dissipation and reduce the impedance with respect to the high-frequency current.

以下、図面を参照しながら、本発明に係るインダクタンス素子の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of an inductance element according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係るインダクタンス素子を示す平面図である。図1に示すように、インダクタンス素子1は、一辺が数mmの略正方形状の絶縁板(基板)2を有している。絶縁板2は、いわゆるフレキシブル基板であり、例えばポリイミド樹脂によって厚さ約60μmに形成され、折り曲げ可能な程度の柔軟性を有している。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a plan view showing an inductance element according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the inductance element 1 has a substantially square-shaped insulating plate (substrate) 2 having a side of several millimeters. The insulating plate 2 is a so-called flexible substrate, and is formed with a thickness of about 60 μm using, for example, a polyimide resin, and has flexibility enough to be bent.

絶縁板2の略中央には、インダクタンス素子1を収容するフェライトコアの内脚部(図示しない)を挿通させるための円形の開口3が形成されている。絶縁板2の両面の各隅部には、導出端電極4がそれぞれ形成されている。   A circular opening 3 for inserting an inner leg portion (not shown) of a ferrite core that accommodates the inductance element 1 is formed at substantially the center of the insulating plate 2. Derived end electrodes 4 are formed at the respective corners on both sides of the insulating plate 2.

また、絶縁板2の両面には、開口3を囲む渦巻状のコイル(導体)5,5が形成されている。この両面のコイル5,5の一端部同士は、開口3の周縁部に設けられたコンタクト部6を介して電気的に接続され、各コイル5,5の他端部は、絶縁板2の一方の辺側に設けられた導出端電極4と、他方の辺側に設けられた導出端電極4とにそれぞれ電気的に接続されている。   Further, spiral coils (conductors) 5 and 5 surrounding the opening 3 are formed on both surfaces of the insulating plate 2. One end portions of the coils 5 and 5 on both sides are electrically connected to each other via a contact portion 6 provided on the peripheral edge of the opening 3, and the other end portions of the coils 5 and 5 are connected to one side of the insulating plate 2. The lead-out end electrode 4 provided on the other side and the lead-out end electrode 4 provided on the other side are respectively electrically connected.

したがって、絶縁板2の一方の辺側に設けられた導出端電極4と、他方の辺側に設けられた導出端電極4との間に所定の電圧を印加すると、絶縁板2の両面に形成されているコイル5,5間に電流が生じるようになっている。   Therefore, when a predetermined voltage is applied between the leading end electrode 4 provided on one side of the insulating plate 2 and the leading end electrode 4 provided on the other side, the insulating plate 2 is formed on both surfaces. A current is generated between the coils 5 and 5.

ここで、上述したコイル5,5の内側の構成について、図2を参照しながら説明する。図2は、図1におけるII−II線断面の一部を示す図である。   Here, the internal configuration of the coils 5 and 5 described above will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram showing a part of a section taken along line II-II in FIG.

図2に示すように、コイル5,5の内側には、複数列(本実施形態では3列)の電気絶縁性の核体7が設けられている。この電気絶縁性の核体7は、例えばBTレジンなどの樹脂を含んだフェライトによって形成され、コイル5,5の長手方向に沿って、互いに離間した状態で絶縁板2上に延在している。また、各電気絶縁性の核体7のアスペクト比、すなわち電気絶縁性の核体7の高さHと幅Wとの比は、0.1以上(本実施形態では約1.0)となっている。   As shown in FIG. 2, a plurality of rows (three rows in this embodiment) of electrically insulating cores 7 are provided inside the coils 5 and 5. The electrically insulating core 7 is formed of ferrite containing a resin such as BT resin, for example, and extends on the insulating plate 2 along the longitudinal direction of the coils 5 and 5 while being separated from each other. . Further, the aspect ratio of each electrically insulating core 7, that is, the ratio between the height H and the width W of the electrically insulating core 7 is 0.1 or more (about 1.0 in the present embodiment). ing.

一方、コイル5,5は、電解めっき法によって各電気絶縁性の核体7を覆うように成長させた例えば銅からなるめっき層8のそれぞれを互いに接続することによって形成されている。コイル5,5の底面側は、各電気絶縁性の核体7の側面及び頂面に沿う凹凸形状となっており、コイル5,5の頂面側は、各電気絶縁性の核体7に対応する位置が突出するアーチ状の凹凸形状となっている。   On the other hand, the coils 5 and 5 are formed by connecting the plating layers 8 made of, for example, copper, which are grown so as to cover the respective electrically insulating nuclei 7 by electrolytic plating. The bottom surface side of the coils 5 and 5 has a concavo-convex shape along the side surface and the top surface of each electrically insulating core 7, and the top surface side of the coils 5 and 5 is connected to each electrically insulating core 7. It has an arch-shaped uneven shape in which the corresponding position protrudes.

次に、上述したインダクタンス素子1の製造方法について、図3を参照しながら説明する。   Next, a method for manufacturing the inductance element 1 described above will be described with reference to FIG.

まず、図3(a)に示すように、絶縁板2を準備する。絶縁板2は、絶縁板2は、厚さが60μmのポリイミド樹脂であり、折り曲げ可能な程度の柔軟性を有している。絶縁板2の略中央には、上述した円形の開口3(図3においては図示しない)が既に形成されている。   First, as shown in FIG. 3A, the insulating plate 2 is prepared. The insulating plate 2 is a polyimide resin having a thickness of 60 μm and has a flexibility that can be bent. The above-described circular opening 3 (not shown in FIG. 3) is already formed in the approximate center of the insulating plate 2.

次に、図3(b)に示すように、BTレジンなどの樹脂を含んだフェライトからなる電気絶縁性の核体7を絶縁板2の両面に形成する。電気絶縁性の核体7のパターン形成には、例えばスクリーン印刷やインクジェットプリンティングを用いることができ、これにより、渦巻状のコイル5,5の形成ライン(図1参照)に対して3列設け、各電気絶縁性の核体7を互いに離間した状態で形成ラインに沿って延在させる。なお、フェライトに代えて、例えば感光性レジストを絶縁板2の両面に形成し、所定のマスクを用いたフォトリソグラフィーによって、上記パターンの各電気絶縁性の核体7を形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 3B, electrically insulating cores 7 made of ferrite containing a resin such as BT resin are formed on both surfaces of the insulating plate 2. For pattern formation of the electrically insulating core 7, for example, screen printing or ink jet printing can be used, thereby providing three rows with respect to the formation lines (see FIG. 1) of the spiral coils 5 and 5. Each electrically insulating core 7 is extended along the forming line in a state of being separated from each other. Instead of ferrite, for example, a photosensitive resist may be formed on both surfaces of the insulating plate 2, and each electrically insulating core 7 having the above pattern may be formed by photolithography using a predetermined mask.

電気絶縁性の核体7を形成した後、図3(c)に示すように、電解めっきにより、各電気絶縁性の核体7を起点として、銅からなるめっき層8をそれぞれ電着させる。めっき層8の電着を進行させることにより、各電気絶縁性の核体7を覆うように各めっき層8がそれぞれ成長していく。そして、隣接する電気絶縁性の核体7の周りに肉厚に成長しためっき層8,8同士が互いに接続して一体化すると、絶縁板2の両面にコイル5,5が形成され、図1及び図2に示したインダクタンス素子1が完成する。   After forming the electrically insulating core 7, as shown in FIG. 3 (c), the plating layers 8 made of copper are electrodeposited from the respective electrically insulating cores 7 by electrolytic plating. By proceeding with the electrodeposition of the plating layer 8, each plating layer 8 grows so as to cover each electrically insulating core 7. Then, when the plating layers 8 and 8 grown thickly around the adjacent electrically insulating core 7 are connected and integrated with each other, the coils 5 and 5 are formed on both surfaces of the insulating plate 2, and FIG. And the inductance element 1 shown in FIG. 2 is completed.

このインダクタンス素子1では、コイル5,5の長手方向に沿って絶縁板2上に延在する3列の電気絶縁性の核体7が設けられており、コイル5,5は、電解めっき法によって各電気絶縁性の核体7を覆うように成長させためっき層8のそれぞれを互いに接続して形成されている。これにより、コイル5,5の底面側は、各電気絶縁性の核体7の側面及び頂面に沿う凹凸形状となっており、コイル5,5の頂面側は、各電気絶縁性の核体7に対応する位置が突出するアーチ状の凹凸形状となっている。   In this inductance element 1, three rows of electrically insulating cores 7 extending on the insulating plate 2 along the longitudinal direction of the coils 5 and 5 are provided, and the coils 5 and 5 are formed by electrolytic plating. Each of the plating layers 8 grown so as to cover each electrically insulating core 7 is connected to each other. Thereby, the bottom surface side of the coils 5 and 5 has an uneven shape along the side surface and the top surface of each electrically insulating core 7, and the top surface side of each of the coils 5 and 5 is each electrically insulating core. It has an arch-shaped uneven shape in which a position corresponding to the body 7 protrudes.

この結果、このインダクタンス素子1では、コイル5,5の表面積(導電部分と絶縁部分との接触面積)が大面積化されるため、通電によってコイル5,5に発生する熱の放熱性を向上できると共に、表皮効果によって導体の表面を流れる特性を持つ高周波電流に対する低インピーダンス化を実現できる。   As a result, in this inductance element 1, since the surface area (contact area between the conductive portion and the insulating portion) of the coils 5 and 5 is increased, the heat dissipation of the heat generated in the coils 5 and 5 by energization can be improved. At the same time, it is possible to realize a low impedance for a high-frequency current having a characteristic of flowing on the surface of the conductor by the skin effect.

また、インダクタンス素子1では、各電気絶縁性の核体7のアスペクト比が0.1以上となっているので、コイル5,5で発生する渦電流損失を抑えることができる。これにより、コイル5,5自体の発熱を抑えることが可能となり、インダクタンス特性の向上が図られる。   Further, in the inductance element 1, since the aspect ratio of each electrically insulating core 7 is 0.1 or more, eddy current loss generated in the coils 5 and 5 can be suppressed. Thereby, it becomes possible to suppress the heat generation of the coils 5 and 5 themselves, and the inductance characteristics can be improved.

なお、上述したインダクタンス素子1は、以下のような製造方法によっても得ることが可能である。すなわち、まず、図4(a)に示すように、絶縁板2を準備し、次に、図4(b)に示すように、パラジウムを触媒として含む樹脂からなる電気絶縁性の核体7を絶縁板2の両面に形成する。電気絶縁性の核体7のパターンは、例えばスクリーン印刷やインクジェットプリンティング、フォトリソグラフィー等によって、図3(b)に示した実施形態と同様に形成する。   The inductance element 1 described above can also be obtained by the following manufacturing method. That is, first, as shown in FIG. 4A, an insulating plate 2 is prepared, and then, as shown in FIG. 4B, an electrically insulating core 7 made of a resin containing palladium as a catalyst is prepared. It is formed on both surfaces of the insulating plate 2. The pattern of the electrically insulating core 7 is formed in the same manner as the embodiment shown in FIG. 3B by, for example, screen printing, ink jet printing, photolithography, or the like.

電気絶縁性の核体7を形成した後、各電気絶縁性の核体7の表面にプラズマ処理またはUV処理を施し、触媒であるパラジウムを表面に析出させる。そして、所定のめっきマスク(図示しない)を用いた無電解めっきにより、図4(c)に示すように、電気絶縁性の核体7の表面を覆うように例えば銅(または銀)からなる下地層9を選択的に形成する。   After forming the electrically insulating nuclei 7, plasma treatment or UV treatment is performed on the surface of each electrically insulating nuclei 7, and palladium as a catalyst is deposited on the surface. Then, by electroless plating using a predetermined plating mask (not shown), as shown in FIG. 4C, the bottom made of, for example, copper (or silver) so as to cover the surface of the electrically insulating core 7 The formation 9 is selectively formed.

その後、電解めっきにより、下地層9を起点としてめっき層8をそれぞれ電着させ、隣接する電気絶縁性の核体7の周りに肉厚に成長しためっき層8,8同士が互いに接続して一体化すると、絶縁板2の両面にコイル5,5が形成され、図1及び図2に示したインダクタンス素子1が完成する。   Thereafter, the plating layer 8 is electrodeposited by starting with the base layer 9 by electrolytic plating, and the plating layers 8 and 8 grown thickly around the adjacent electrically insulating core 7 are connected together and integrated. As a result, the coils 5 and 5 are formed on both surfaces of the insulating plate 2, and the inductance element 1 shown in FIGS. 1 and 2 is completed.

[第2実施形態]
続いて、本発明に係るインダクタンス素子の第2実施形態について説明する。この実施形態は、コイル5,5の内側に設けられた各電気絶縁性の核体7が絶縁板2から離間している点で、電気絶縁性の核7が絶縁板2上に直接形成されている第1実施形態と相違している。
[Second Embodiment]
Subsequently, a second embodiment of the inductance element according to the present invention will be described. In this embodiment, the electrically insulating cores 7 provided inside the coils 5 and 5 are separated from the insulating plate 2, so that the electrically insulating cores 7 are directly formed on the insulating plate 2. This is different from the first embodiment.

すなわち、第2実施形態に係るインダクタンス素子10においては、図5に示すように、コイル5,5の長手方向に沿って延在するシード層11が絶縁板2の両面に設けられ、3列の電気絶縁性の核体7は、コイル5,5の長手方向に沿って互いに離間した状態でシード層11上に延在している。各電気絶縁性の核のアスペクト比は、第1実施形態と同様に約1.0となっている。   That is, in the inductance element 10 according to the second embodiment, as shown in FIG. 5, the seed layers 11 extending along the longitudinal direction of the coils 5 and 5 are provided on both surfaces of the insulating plate 2, and three rows are formed. The electrically insulating core 7 extends on the seed layer 11 while being separated from each other along the longitudinal direction of the coils 5 and 5. The aspect ratio of each electrically insulating nucleus is about 1.0, as in the first embodiment.

また、コイル5,5は、電解めっき法によってシード層11及び各電気絶縁性の核体7を覆うように成長させためっき層8のそれぞれを互いに接続することによって形成されている。これにより、各電気絶縁性の核体7は、コイル5,5の底面側に内包され、コイル5,5の頂面側は、各電気絶縁性の核体7に対応する位置が窪んだアーチ状の凹凸形状となっている。   The coils 5 and 5 are formed by connecting the seed layer 11 and the plating layer 8 grown so as to cover each electrically insulating core 7 by electrolytic plating. Thereby, each electrically insulating core 7 is included in the bottom surface side of the coils 5, 5, and the top surface side of the coils 5, 5 is an arch where the position corresponding to each electrically insulating core 7 is recessed. The shape is uneven.

このようなインダクタンス素子10を製造する場合、まず、図6(a)に示すように、絶縁板2を準備する。次に、図6(b)に示すように、例えば銅からなるシード層11を絶縁板2の両面に形成する。シード層11は、形成するコイル5,5よりわずかに狭幅となるようにして、コイル5,5の形成ライン(図1参照)に沿って延在させる。このシード層11の形成には、例えばスクリーン印刷やインクジェットプリンティング、所定のマスク(図示しない)を介したスパッタリングを用いることができる。   When manufacturing such an inductance element 10, first, an insulating plate 2 is prepared as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6B, seed layers 11 made of, for example, copper are formed on both surfaces of the insulating plate 2. The seed layer 11 extends along the formation line (see FIG. 1) of the coils 5 and 5 so as to be slightly narrower than the coils 5 and 5 to be formed. For the formation of the seed layer 11, for example, screen printing, ink jet printing, or sputtering through a predetermined mask (not shown) can be used.

シード層11を形成した後、図6(c)に示すように、シード層11の表面に電気絶縁性の核体7を形成する。電気絶縁性の核体7のパターン形成には、第1実施形態と同様に、例えばスクリーン印刷やインクジェットプリンティング、フォトリソグラフィー等を用いることができ、これにより、渦巻状のコイル5,5の形成ライン(図1参照)に対して電気絶縁性の核体7を3列設け、各電気絶縁性の核体7を互いに離間した状態で形成ラインに沿って延在させる。   After the seed layer 11 is formed, an electrically insulating nucleus 7 is formed on the surface of the seed layer 11 as shown in FIG. As in the first embodiment, for example, screen printing, ink jet printing, photolithography, or the like can be used for pattern formation of the electrically insulating core 7, thereby forming the spiral coils 5 and 5. (See FIG. 1) Three rows of electrically insulating cores 7 are provided, and each of the electrically insulating cores 7 extends along the forming line in a state of being separated from each other.

電気絶縁性の核体7を形成した後、図6(d)に示すように、電解めっきにより、シード層11を起点としてめっき層8をそれぞれ電着させる。めっき層8の電着を進行させることにより、隣接する電気絶縁性の核体7の周りに肉厚に成長しためっき層8,8同士が互いに接続して一体化すると、絶縁板2の両面にコイル5,5が形成され、図5に示したインダクタンス素子10が完成する。   After forming the electrically insulating core 7, as shown in FIG. 6 (d), the plating layers 8 are electrodeposited starting from the seed layer 11 by electrolytic plating. By proceeding electrodeposition of the plating layer 8, when the plating layers 8, 8 grown thickly around the adjacent electrically insulating core 7 are connected and integrated with each other, both sides of the insulating plate 2 are integrated. The coils 5 and 5 are formed, and the inductance element 10 shown in FIG. 5 is completed.

このインダクタンス素子10では、シード層11を絶縁板2と各電気絶縁性の核体7との間に介在させることにより、電気絶縁性の核体7が絶縁板2から離間した状態でコイル5,5の底面側に内包されている。そのため、各電気絶縁性の核体7の側面及び頂面に接触する部分に加えて、各電気絶縁性の核体7の底面にも接触する分、コイル5,5の表面積をより大面積化することが可能となる。これにより、コイル5,5に発生する熱の放熱性の向上、及び高周波電流に対する低インピーダンス化を一層効果的に実現できる。   In this inductance element 10, the seed layer 11 is interposed between the insulating plate 2 and each of the electrically insulating cores 7, so that the electrically insulating core 7 is separated from the insulating plate 2 and the coils 5 and 5. 5 is included on the bottom side. Therefore, in addition to the portions that contact the side surfaces and top surface of each electrically insulating core 7, the surface area of the coils 5, 5 is increased by the amount of contact with the bottom surface of each electrically insulating core 7. It becomes possible to do. Thereby, the improvement of the heat dissipation of the heat | fever which generate | occur | produces in the coils 5 and 5 and the impedance reduction with respect to a high frequency current can be implement | achieved more effectively.

また、インダクタンス素子10においても、各電気絶縁性の核体7のアスペクト比が0.1以上となっているので、コイル5,5で発生する渦電流損失を抑えることができる。これにより、コイル5,5自体の発熱を抑えることが可能となり、インダクタンス特性の向上が図られる。   Also in the inductance element 10, since the aspect ratio of each electrically insulating core 7 is 0.1 or more, eddy current loss generated in the coils 5 and 5 can be suppressed. Thereby, it becomes possible to suppress the heat generation of the coils 5 and 5 themselves, and the inductance characteristics can be improved.

本発明は、上記実施形態に限られるものではない。例えば、上記各実施形態では、電気絶縁性の核体7を複数列設けているが、電気絶縁性の核体7は1列であってもよい。また、基板の材質は、上述したポリイミド樹脂製のフレキシブル基板に限られず、例えばフェライトであってもよい。また、絶縁性の基板に限られず、金属板であってもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in each of the embodiments described above, a plurality of rows of electrically insulating cores 7 are provided, but one row of electrically insulating cores 7 may be provided. The material of the substrate is not limited to the above-described flexible substrate made of polyimide resin, and may be ferrite, for example. Moreover, it is not restricted to an insulating board | substrate, A metal plate may be sufficient.

本発明の第1実施形態に係るインダクタンス素子を示す平面図である。It is a top view which shows the inductance element which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1におけるII−II線断面の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of II-II line cross section in FIG. 図1に示したインダクタンス素子の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the inductance element shown in FIG. 図1に示したインダクタンス素子の別の製造方法を示す図である。It is a figure which shows another manufacturing method of the inductance element shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係るインダクタンス素子の断面の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of cross section of the inductance element which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図5に示したインダクタンス素子の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the inductance element shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1,10…インダクタンス素子、2…絶縁板(基板)、5…コイル(導体)、7…電気絶縁性の核体、8…めっき層、11…シード層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,10 ... Inductance element, 2 ... Insulating board (board | substrate), 5 ... Coil (conductor), 7 ... Electrically insulating core, 8 ... Plating layer, 11 ... Seed layer.

Claims (4)

基板に所定長さの導体を形成してなるインダクタンス素子であって、
前記基板には、前記導体の長手方向に沿って延在する電気絶縁性の核体が設けられ、
前記導体は、電解めっき法によって前記電気絶縁性の核体を覆うように成長させためっき層によって形成されていることを特徴とするインダクタンス素子。
An inductance element formed by forming a conductor of a predetermined length on a substrate,
The substrate is provided with an electrically insulating core extending along the longitudinal direction of the conductor,
The inductance element, wherein the conductor is formed by a plating layer grown so as to cover the electrically insulating core by an electrolytic plating method.
前記基板には、前記導体の長手方向に沿って延在するシード層が更に設けられ、
前記電気絶縁性の核体は、前記シード層上に形成されていることを特徴とするインダクタンス素子。
The substrate is further provided with a seed layer extending along the longitudinal direction of the conductor,
The inductance element, wherein the electrically insulating core is formed on the seed layer.
前記電気絶縁性の核体は、複数列設けられ、
前記導体は、電解めっき法によって前記各電気絶縁性の核体を覆うように成長させためっき層のそれぞれを互いに接続して形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のインダクタンス素子。
The electrical insulating core is provided in a plurality of rows,
3. The inductance element according to claim 1, wherein the conductor is formed by connecting each of plating layers grown so as to cover the respective electrically insulating nuclei by an electrolytic plating method. .
前記電気絶縁性の核体のアスペクト比は、0.1以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のインダクタンス素子。
The inductance element according to claim 1, wherein an aspect ratio of the electrically insulating core is 0.1 or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011029313A (en) * 2009-07-23 2011-02-10 Furukawa Electric Co Ltd:The Thick conductor substrate and manufacturing method thereof
JP2013008859A (en) * 2011-06-24 2013-01-10 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Coil for wireless power feeding/receiving and unit using the same
CN107331491A (en) * 2013-08-02 2017-11-07 乾坤科技股份有限公司 Magnetic device

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