JP2007209912A - Manufacturing method of ceramics particles for improving quality of chlorine treated water and quality improving method of chlorine treated water - Google Patents

Manufacturing method of ceramics particles for improving quality of chlorine treated water and quality improving method of chlorine treated water Download PDF

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Reiko Suzusho
礼子 鈴庄
Asami Takano
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of ceramics particles capable of improving the quality of chlorine treated water while holding the beneficialness of chlorine and suppressing chlorine injury. <P>SOLUTION: A rock powder based on silicon (Si), aluminum (Al), an oxide, hydroxide or fluoride of iron (Fe) and containing an oxide, hydroxide or fluoride of a metal more easily reducible than iron as a very small amount component is used as a raw material. This rock raw material is baked at a high temperature of 1,000°C or above and raised to temperature of 500-1,000°C in a reducing atmosphere and rebaked to yield rebaked ceramics particles. The hardness of the rebaked ceramics particles can be more enhanced and the very small amount component in the rebaked ceramics particles can be reduced. Chlorine injury is suppressed while holding residual chlorine in water and the occurrence and propagation of Legionella bacteria can be suppressed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、岩石粉末を焼成したセラミックス粒子による塩素処理水のより効果的な塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法、および塩素処理水の水質改善方法に関する。   The present invention relates to a method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water more effectively by using ceramic particles obtained by firing rock powder, and a method for improving the quality of chlorinated water.

従来、この種のセラミックス粒子としては、天然の活性石を微細化してバインダにて約3mmから5mmの球状にしてから、磁気効果と硬度を向上させる目的から1000℃以上の温度で焼成してセラミックスとしている。そして、このセラミックス間に湯を通過させてミネラル成分を溶出させ、この湯中の雑菌を滅菌し、脱臭させるミネラルセラミックスの炉材を使用した循環式温浴器が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   Conventionally, as this kind of ceramic particles, natural activated stone is refined and made into a sphere of about 3 mm to 5 mm with a binder, and then fired at a temperature of 1000 ° C. or higher for the purpose of improving the magnetic effect and hardness. It is said. Then, a circulating water bath using a furnace material of mineral ceramics is known that passes hot water between the ceramics to elute mineral components, sterilizes germs in the hot water, and deodorizes them (for example, Patent Documents). 1).

また、この種のセラミックス粒子としては、黒色ガラス質の石英安山岩の鉱石を1μmから5μmほどの微粒子に粉砕してから、この粉砕した鉱石を粘土に混入して練り合わせて型に入れて成型する。この後、この成型した鉱石を素焼きで前焼きしてから、この素焼きを微粒子が溶けている溶液に浸漬させて、この素焼きの表面に微粒子を付着させる。そして、この微粒子が付着した素焼きを乾燥させてから、陶器窯にいれて1200℃から1300℃の温度で焼成して構成された陶磁製遠赤外線放射器が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
実開平4−17893号公報 特開平7−289174号公報
Further, as this kind of ceramic particles, ore of black vitreous quartz andesite is pulverized into fine particles of about 1 μm to 5 μm, and then the pulverized ore is mixed with clay, kneaded, put into a mold and molded. Thereafter, the shaped ore is pre-baked by unglazed baking, and then the unglazed baking is immersed in a solution in which fine particles are dissolved, so that the fine particles adhere to the surface of the unglazed baking. A ceramic far-infrared radiator configured by drying the unglazed product with the fine particles attached thereto and then firing in a ceramic kiln at a temperature of 1200 ° C. to 1300 ° C. is known (for example, Patent Document 2). reference.).
Japanese Utility Model Publication No. 4-17893 Japanese Patent Laid-Open No. 7-289174

しかしながら、上述したミネラルセラミックスや陶磁製遠赤外線放射器では、このミネラルセラミックスに含まれているミネラルを湯中に溶出させたり、陶磁製遠赤外線放射器の表面から放射される遠赤外線の効果が時間とともに低下したりすることから、これらミネラルセラミックスや陶磁製遠赤外線放射器を定期的に交換する必要があるので、経済的に優れていない。さらに、これらミネラルセラミックスや陶磁製遠赤外線放射器は、湯などの水を活性化することには優れているが、この湯などの水に含まれている塩素による塩素害を軽減させることは容易ではないという問題を有している。   However, in the mineral ceramics and ceramic far infrared radiators described above, the mineral contained in the mineral ceramics is eluted in hot water, and the effect of the far infrared rays radiated from the surface of the ceramic far infrared radiator is the time. It is not economically superior because these mineral ceramics and ceramic far-infrared radiators need to be replaced periodically. In addition, these mineral ceramics and ceramic far-infrared radiators are excellent in activating water such as hot water, but it is easy to reduce the chlorine damage caused by chlorine contained in water such as hot water. It has a problem of not.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、塩素処理水による塩素害を低減できる塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法、および塩素処理水の水質改善方法を提供することを目的とする。   This invention is made in view of such a point, and provides the manufacturing method of the ceramic particle | grain for the water quality improvement of chlorinated water which can reduce the chlorine damage by chlorinated water, and the water quality improvement method of chlorinated water With the goal.

請求項1記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)および鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主元素とし、還元可能な酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを含む岩石粉末を、1000℃以上の温度で焼成して一次焼成セラミックス粒子とし、この一次焼成セラミックス粒子を、酸素が少ない雰囲気で500℃以上1000℃以下の温度まで昇温して再焼成セラミックス粒子にするものである。   The method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to claim 1 mainly comprises at least one of oxides, hydroxides and fluorides of silicon (Si), aluminum (Al) and iron (Fe). A rock powder containing at least one of a reducible oxide, hydroxide and fluoride as an element is fired at a temperature of 1000 ° C. or higher to form primary fired ceramic particles, and the primary fired ceramic particles are low in oxygen. The temperature is raised to 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an atmosphere to form refired ceramic particles.

請求項2記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法は、請求項1記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法において、一次焼成セラミックス粒子を冷却してから再焼成セラミックス粒子にするものである。   The method for producing ceramic particles for improving the water quality of chlorinated water according to claim 2 is the method for producing ceramic particles for improving the water quality of chlorinated water according to claim 1, wherein the primary fired ceramic particles are cooled and then reused. The sintered ceramic particles are used.

請求項3記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法は、請求項1または2記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法において、岩石粉末を焼成して直径0.5mm以上7mm以下の球形状の一次焼成セラミックス粒子にしたものを再焼成セラミックス粒子にするものである。   The method for producing ceramic particles for improving the water quality of chlorinated water according to claim 3 is the method for producing ceramic particles for improving the water quality of chlorinated water according to claim 1 or 2, wherein the rock powder is fired to obtain a diameter of 0. A spherical primary fired ceramic particle having a diameter of 5 mm to 7 mm is used as a refired ceramic particle.

請求項4記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法は、請求項1ないし3いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法において、酸素が少ない雰囲気として不活性ガスを注入した還元雰囲気を用いるものである。   The method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to claim 4 is the method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 3, wherein the atmosphere is low in oxygen. A reducing atmosphere in which an active gas is injected is used.

請求項5記載の塩素処理水の水質改善方法は、請求項1ないし4いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法にて製造された複数の再焼成セラミックス粒子が入れられた容器内に、塩素処理水を通過させるものである。   The method for improving the quality of chlorinated water according to claim 5 includes a plurality of refired ceramic particles produced by the method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 4. The chlorinated water is passed through the container.

請求項6記載の塩素処理水の水質改善方法は、請求項5記載の塩素処理水の水質改善方法において、複数の再焼成セラミックス粒子が入れられた容器内に、レジオネラ菌が残留する塩素処理水を通過させるものである。   The method for improving the quality of chlorinated water according to claim 6 is the method for improving the quality of chlorinated water according to claim 5, wherein chlorinated water in which Legionella bacteria remain in a container in which a plurality of refired ceramic particles are placed. Pass through.

請求項1記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法によれば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)および鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主元素とし、還元可能な酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを含む岩石粉末を、1000℃以上の温度で焼成して一次焼成セラミックス粒子とした後に、この一次焼成セラミックス粒子を、酸素が少ない雰囲気で500℃以上1000℃以下の温度まで昇温して再焼成セラミックス粒子にすることにより、この一次焼成セラミックス粒子中に含まれている元素が還元されて、この岩石粉末の結晶構造が変化する。したがって、これら再焼成セラミックス粒子間に塩素処理水を通過させることによって、この塩素処理水に含まれている塩素を除去せずに、この塩素処理水による塩素害を防止できレジオネラ菌の発生を抑制できるとともに、この塩素処理水の酸化還元電位や表面張力などを低下できるから、これら再焼成セラミックス粒子で水の水質を効率良く改善できる。   According to the method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to claim 1, at least one of oxides, hydroxides and fluorides of silicon (Si), aluminum (Al) and iron (Fe) After the rock powder containing at least one of a reducible oxide, hydroxide and fluoride is fired at a temperature of 1000 ° C. or higher to form primary fired ceramic particles, the primary fired ceramic particles are The element contained in the primary fired ceramic particles is reduced by raising the temperature to 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen-poor atmosphere to reduce the elements contained in the primary fired ceramic particles. The structure changes. Therefore, by passing chlorinated water between these refired ceramic particles, chlorine damage from this chlorinated water can be prevented without removing chlorine contained in this chlorinated water, and the generation of Legionella bacteria is suppressed. In addition, since the redox potential and surface tension of this chlorinated water can be reduced, the water quality of the water can be improved efficiently with these refired ceramic particles.

請求項2記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法によれば、請求項1記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法の効果に加え、一次焼成セラミックス粒子を冷却してから再焼成セラミックス粒子にすることにより、一次焼成セラミックス粒子の昇温を確実にできる。   According to the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to claim 2, in addition to the effect of the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to claim 1, primary sintered ceramic particles are used. By cooling to refired ceramic particles, the temperature of the primary fired ceramic particles can be reliably increased.

請求項3記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法によれば、請求項1または2記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法の効果に加え、一次焼成セラミックス粒子に再焼成セラミックス粒子の硬度をより向上できるので、この再焼成セラミックス粒子による水質改善をより長期間に亘ってできる。   According to the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to claim 3, in addition to the effect of the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to claim 1 or 2, primary fired ceramics Since the hardness of the refired ceramic particles can be further improved, the water quality can be improved by the refired ceramic particles over a longer period of time.

請求項4記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法によれば、請求項1ないし3いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法の効果に加え、酸素が少ない雰囲気として不活性ガスを注入することにより、この雰囲気が還元雰囲気となるので、再焼成セラミックス粒子に含まれている酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかをより確実に還元できるから、これら再焼成セラミックス粒子による塩素処理水の水質をより効率良く改善できる。   According to the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to claim 4, in addition to the effect of the method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 3, oxygen By injecting an inert gas as a low atmosphere, the atmosphere becomes a reducing atmosphere, so that at least one of oxide, hydroxide and fluoride contained in the refired ceramic particles can be reduced more reliably. Therefore, the quality of chlorinated water by these refired ceramic particles can be improved more efficiently.

請求項5記載の塩素処理水の水質改善装置によれば、請求項1ないし4いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法にて製造された複数の再焼成セラミックス粒子が充填された容器内に、塩素処理水を通過させることによって、この塩素処理水に含まれる塩素の殺菌効果を維持しつつ塩素害を抑制できる。   According to the water quality improvement device of chlorinated water according to claim 5, a plurality of refired ceramic particles produced by the method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 4 are provided. By allowing the chlorinated water to pass through the filled container, chlorine damage can be suppressed while maintaining the sterilizing effect of chlorine contained in the chlorinated water.

請求項6記載の塩素処理水の水質改善方法によれば、請求項5記載の塩素処理水の水質改善方法の効果に加え、複数の再焼成セラミックス粒子が入れられた容器内に、レジオネラ菌が残留する塩素処理水を通過させることによって、この塩素処理水に含まれているレジオネラ菌の増殖を抑制できる。   According to the method for improving the quality of chlorinated water according to claim 6, in addition to the effect of the method for improving the quality of chlorinated water according to claim 5, Legionella bacteria are contained in a container containing a plurality of refired ceramic particles. By allowing the remaining chlorinated water to pass, the growth of Legionella contained in the chlorinated water can be suppressed.

以下、本発明のセラミックス粒子を用いた水質改善装置の一実施の形態の構成を図2および図3を参照して説明する。   Hereinafter, the configuration of an embodiment of a water quality improvement apparatus using ceramic particles of the present invention will be described with reference to FIG. 2 and FIG.

図2および図3において、1は水質改善装置で、この水質改善装置1は、理論的に明確ではないが、例えば水質安全確保のために塩素が投入された水道水や、井戸水、浴槽水あるいは地下水などの被処理水であって塩素処理された塩素処理水である水Wの水質を結果的に改善させる。すなわち、この水質改善装置1は、水Wの酸化還元電位(レドックス電位:redoxpotential oxidation-reduction potential:ORP)および表面張力(surfacetension)を低下させて、この水Wの性質を変化させる。さらに、この水質改善装置1は、水質安全確保のために投入された塩素を含む塩素処理された水W中に含まれている残留塩素を保持させたまま、この水Wに含まれている60℃以下の温度で繁殖しやすいレジオネラ菌の発生を抑制させるとともに、このレジオネラ菌の増殖を抑制させる。   2 and 3, reference numeral 1 denotes a water quality improvement device. This water quality improvement device 1 is not theoretically clear, but, for example, tap water, well water, bathtub water, As a result, the quality of water W, which is chlorinated water that is treated water, such as ground water, is improved. That is, the water quality improvement device 1 changes the properties of the water W by reducing the redox potential (ORP) and surface tension of the water W. Further, the water quality improvement device 1 is contained in the water W while retaining the residual chlorine contained in the chlorinated water W containing chlorine introduced for ensuring water quality safety. While suppressing the generation | occurrence | production of Legionella bacteria which are easy to reproduce at the temperature below degrees C, the proliferation of this Legionella bacteria is suppressed.

具体的に、この水質改善装置1は、鉛直方向に沿った軸方向を有する有底略円筒状の処理容器としての処理タンク2を備えている。この処理タンク2の底部には、中心域から側方域に向けて上方に湾曲した円弧面状の下側円弧面部3が設けられている。また、この処理タンク2の上端には、側方域から中心域に向けて相対する方向へと湾曲した円弧面状の上側円弧面部4が設けられている。   Specifically, this water quality improvement apparatus 1 includes a processing tank 2 as a bottomed substantially cylindrical processing container having an axial direction along the vertical direction. At the bottom of the processing tank 2 is provided a lower arcuate surface portion 3 having an arcuate surface curved upward from the center region toward the side region. Further, at the upper end of the processing tank 2, there is provided an upper arcuate surface portion 4 having an arcuate surface shape curved in a direction facing from the side region toward the center region.

そして、この処理タンク2の上側円弧面部4の上端中心部には、この処理タンク2内に流入された水Wを活性化させた後に外部へと流出させる円筒状の流出口5が突設されている。この流出口5は、鉛直方向に沿った軸方向を有し、処理タンク2に対して同心状に設けられている。また、この処理タンク2の下側円弧面部3の下端中心部には、この処理タンク2内に水Wを流入させる円筒状の流入口6が突設されている。この流入口6もまた、鉛直方向に沿った軸方向を有し、処理タンク2に対して同心状に設けられている。   At the center of the upper end of the upper circular arc surface portion 4 of the processing tank 2, a cylindrical outlet 5 is provided to project the water W that has flowed into the processing tank 2 and then flow out to the outside. ing. The outlet 5 has an axial direction along the vertical direction, and is provided concentrically with respect to the processing tank 2. A cylindrical inflow port 6 through which water W flows into the processing tank 2 is projected from the center of the lower end of the lower arc surface 3 of the processing tank 2. This inflow port 6 also has an axial direction along the vertical direction and is provided concentrically with respect to the processing tank 2.

また、処理タンク2は、流入管6を備えたタンク下部11と、流出口5を備えたタンク上部12と、これらタンク下部11およびタンク上部12を同心状に連通させて接続させるタンク中間部13とによって形成されている。さらに、これらタンク下部11およびタンク中間部13の間と、このタンク中間部13およびタンク上部12の間には、平面視円盤状のメッシュ体14がそれぞれ取り付けられている。これらメッシュ体14は、処理タンク2内に充填されている再焼成セラミックス粒子15が通過しない程度の大きさの孔が形成されている。   Further, the processing tank 2 includes a tank lower part 11 having an inflow pipe 6, a tank upper part 12 having an outflow port 5, and a tank intermediate part 13 that connects these tank lower part 11 and tank upper part 12 in a concentric manner. And is formed by. Further, between the tank lower part 11 and the tank intermediate part 13, and between the tank intermediate part 13 and the tank upper part 12, a disc-like mesh body 14 in plan view is attached. These mesh bodies 14 are formed with holes of such a size that the refired ceramic particles 15 filled in the processing tank 2 do not pass through.

すなわち、タンク中間部13とタンク上部12との間に取り付けられているメッシュ体14は、処理タンク2の流入口6から水Wを流入させた際に、この処理タンク2内に充填されている再焼成セラミックス粒子15の流出口5からの流出を防止する。また、タンク下部11とタンク中間部13との間に取り付けられているメッシュ体14は、処理タンク2の流入口6からの水Wの流入を停止させた際に、この処理タンク2内に充填されて収容されている再焼成セラミックス粒子15の自重による流入口6からの流出を防止する。さらに、このメッシュ体14は、タンク中間部13の上方から再焼成セラミックス粒子15を収容させた際の受け皿となるとともに、このタンク中間部13内に収容された再焼成セラミックス粒子15が、流入口6から外部へと逆流して流出することを防止する。   That is, the mesh body 14 attached between the tank intermediate portion 13 and the tank upper portion 12 is filled in the processing tank 2 when water W is introduced from the inlet 6 of the processing tank 2. The outflow of the refired ceramic particles 15 from the outlet 5 is prevented. The mesh body 14 attached between the tank lower part 11 and the tank intermediate part 13 is filled in the processing tank 2 when the inflow of water W from the inlet 6 of the processing tank 2 is stopped. Thus, the outflow from the inlet 6 due to the dead weight of the refired ceramic particles 15 accommodated is prevented. Further, the mesh body 14 serves as a tray when the refired ceramic particles 15 are accommodated from above the tank intermediate portion 13, and the refired ceramic particles 15 accommodated in the tank intermediate portion 13 are connected to the inlet. Prevents backflow from 6 to the outside.

そして、これらタンク下部11、タンク上部12およびタンク中間部13のそれぞれを接続して形成された処理タンク2内のメッシュ体14間には、この処理タンク2の流入口6から流入される水Wの水質を改善させる多数の再焼成セラミックス粒子15が充填されて収容されている。この再焼成セラミックス粒子15は、処理タンクのタンク中間部に、この処理タンク内の容積に対して5%以上50%以下、好ましくは15%ほど充填されている。さらに、この再焼成セラミックス粒子15は、水Wの水質を改善する際に、この水Wの酸化還元電位を低下させ、この水Wの表面張力を低下させる水質改善材である。   And between the mesh bodies 14 in the processing tank 2 formed by connecting each of the tank lower portion 11, the tank upper portion 12 and the tank intermediate portion 13, water W flowing in from the inlet 6 of the processing tank 2. A large number of refired ceramic particles 15 that improve the water quality of the water are filled and contained. The re-fired ceramic particles 15 are filled in the middle part of the processing tank by 5% or more and 50% or less, preferably 15% with respect to the volume in the processing tank. Further, the refired ceramic particles 15 are water quality improving materials that lower the oxidation-reduction potential of the water W and reduce the surface tension of the water W when improving the water quality of the water W.

ここで、この再焼成セラミックス粒子15は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主成分とし、これらケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかよりも容易に還元され得る金属の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを微量成分として含む岩石粉末を原料として造粒したものであるので、この再焼成セラミックス粒子15の製造方法について説明する。   Here, the refired ceramic particles 15 are mainly composed of at least one of silicon (Si), aluminum (Al), iron (Fe) oxide, hydroxide and fluoride, and these silicon (Si), Contains at least one of metal oxide, hydroxide and fluoride, which can be reduced more easily than at least one of aluminum (Al), iron (Fe) oxide, hydroxide and fluoride, as a minor component Since the rock powder is granulated from the raw material, a method for producing the refired ceramic particles 15 will be described.

まず、原料となる岩石粉末をスキャンクオリティX線(SQX)分析したところ、表1に示す元素を含有していた。   First, the rock powder as a raw material was subjected to scan quality X-ray (SQX) analysis and found to contain the elements shown in Table 1.

Figure 2007209912
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具体的に、この岩石粉末は、表1に示すように、ケイ素(Si)を約56.20質量%、鉄(Fe)を約12.13質量%、アルミニウム(Al)を約9.73質量%、カルシウム(Ca)を約8.60質量%、カリウム(K)を約8.54質量%ほど含有している。また、この岩石粉末は、ナトリウム(Na)を約1.24質量%、チタン(Ti)を約1.14質量%、マグネシウム(Mg)を約0.95質量%、バリウム(Ba)を約0.36質量%、マンガン(Mn)を約0.36質量%ほど含有している。さらに、この岩石粉末は、ストロンチウム(Sr)を約0.28質量%、リン(P)を約0.12質量%、ジルコニウム(Zr)を約0.08質量%、塩素(Cl)を約0.07質量%、ルビジウム(Rb)を約0.06質量%ほど含有している。また、この岩石粉末は、クロム(Cr)を約0.04質量%、亜鉛(Zn)を約0.04質量%、硫黄(S)を約0.04質量%、ニッケル(Ni)を約0.02質量%ほど含有している。   Specifically, as shown in Table 1, the rock powder is about 56.20% by mass of silicon (Si), about 12.13% by mass of iron (Fe), and about 9.73% by mass of aluminum (Al). %, Calcium (Ca) about 8.60% by mass, potassium (K) about 8.54% by mass. The rock powder is about 1.24% by mass of sodium (Na), about 1.14% by mass of titanium (Ti), about 0.95% by mass of magnesium (Mg), and about 0 of barium (Ba). 36% by mass and about 0.36% by mass of manganese (Mn). Further, the rock powder is about 0.28% by mass of strontium (Sr), about 0.12% by mass of phosphorus (P), about 0.08% by mass of zirconium (Zr), and about 0 of chlorine (Cl). 0.07% by mass and about 0.06% by mass of rubidium (Rb). The rock powder is about 0.04 mass% chromium (Cr), about 0.04 mass% zinc (Zn), about 0.04 mass% sulfur (S), and about 0 nickel (Ni). About 0.22% by mass is contained.

またこの結果を酸化物に換算した結果を表2に示す。   Table 2 shows the result of converting this result into an oxide.

Figure 2007209912
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具体的に、この岩石粉末は、表2に示すように、二酸化ケイ素(SiO)を約68.3質量%、アルミナ(Al)を約11.9質量%、第3酸化鉄(Fe)を約6.42質量%、酸化カルシウム(CaO)を約5.00質量%、酸化カリウム(KO)を約4.55質量%ほど含有している。また、この岩石粉末は、一酸化ナトリウム(NaO)を約1.24質量%、酸化マグネシウム(MgO)を約1.08質量%、二酸化チタン(TiO)を約0.75質量%、酸化マンガン(MnO)を約0.17質量%、酸化バリウム(BaO)を約0.16質量%ほど含有している。さらに、この岩石粉末は、五酸化二リン(P)を約0.13質量%、酸化ストロンチウム(SrO)を約0.11質量%、三酸化硫黄(SO)を約0.04質量%、酸化ジルコニウム(ZrO)を約0.03質量%、塩素(Cl)を約0.03質量%ほど含有している。また、この岩石粉末は、第3酸化クロム(Cr)を約0.02質量%、酸化ルビジウム(RbO)を約0.02質量%、酸化亜鉛(ZnO)を約0.02質量%、酸化ニッケル(NiO)を約0.01質量%ほど含有している。 Specifically, as shown in Table 2, the rock powder is about 68.3 mass% silicon dioxide (SiO 2 ), about 11.9 mass% alumina (Al 2 O 3 ), third iron oxide ( Fe 2 O 3) of about 6.42 wt%, about 5.00 wt% of calcium oxide (CaO), containing the potassium oxide (K 2 O) by about 4.55 wt%. Further, this rock powder has about 1.24% by mass of sodium monoxide (Na 2 O), about 1.08% by mass of magnesium oxide (MgO), about 0.75% by mass of titanium dioxide (TiO 2 ), About 0.17% by mass of manganese oxide (MnO) and about 0.16% by mass of barium oxide (BaO) are contained. Further, this rock powder has about 0.13 mass% diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ), about 0.11 mass% strontium oxide (SrO), and about 0.04 sulfur trioxide (SO 3 ). It contains about 0.03% by mass of zirconium oxide (ZrO 2 ) and about 0.03% by mass of chlorine (Cl). Further, this rock powder has about 0.02 mass% of third chromium oxide (Cr 2 O 3 ), about 0.02 mass% of rubidium oxide (Rb 2 O), and about 0.02 mass of zinc oxide (ZnO). About 0.01% by mass of nickel oxide (NiO) is contained.

そして、この岩石粉末を、粉砕工程として、例えば平均粒径0.5μm以上10μm以下の微粉末に粉砕する(ステップ1)。   Then, this rock powder is pulverized into a fine powder having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less as a pulverization step (step 1).

この後、造粒工程として、この粉砕した岩石に水またはエタノールなどの有機溶媒を加えて混練して、例えば0.5mm以上7mm以下の平均粒径の球状の微細粒子に造粒する (ステップ2)。   Thereafter, as a granulation step, water or an organic solvent such as ethanol is added to the crushed rock and kneaded to granulate spherical fine particles having an average particle diameter of, for example, 0.5 mm to 7 mm (Step 2). ).

この状態で、一次焼成工程である第1焼成工程として、この造粒された岩石粉末を1000℃以上の高温で焼成してセラミックス化させて一次焼成セラミックス粒子とする(ステップ3)。   In this state, as the first firing step which is the primary firing step, the granulated rock powder is fired at a high temperature of 1000 ° C. or more to be converted into ceramics, thereby obtaining primary fired ceramic particles (step 3).

ここで、この一次焼成セラミックス粒子をスキャンクオリティX線(SQX)分析したところ、表3に示す元素を含有していた。   Here, when the primary sintered ceramic particles were analyzed by scan quality X-ray (SQX) analysis, they contained the elements shown in Table 3.

Figure 2007209912
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具体的に、この一次焼成セラミックス粒子は、表3に示すように、ケイ素(Si)を約53.89質量%、アルミニウム(Al)を約21.50質量%、鉄(Fe)を約9.14質量%、カリウム(K)を約7.12質量%、カルシウム(Ca)を約4.99質量%ほど含有している。また、この一次焼成セラミックス粒子は、チタン(Ti)を約1.51質量%、ナトリウム(Na)を約0.65質量%、マグネシウム(Mg)を約0.41質量%、ストロンチウム(Sr)を約0.23質量%、ジルコニウム(Zr)を約0.16質量%ほど含有している。さらに、この一次焼成セラミックス粒子は、リン(P)を約0.13質量%、亜鉛(Zn)を約0.11質量%、ルビジウム(Rb)を約0.08質量%、硫黄(S)を約0.07質量%ほど含有している。   Specifically, as shown in Table 3, the primary fired ceramic particles are about 53.89% by mass of silicon (Si), about 21.50% by mass of aluminum (Al), and about 9.50% of iron (Fe). 14% by mass, about 7.12% by mass of potassium (K) and about 4.99% by mass of calcium (Ca) are contained. Further, the primary fired ceramic particles are composed of about 1.51% by mass of titanium (Ti), about 0.65% by mass of sodium (Na), about 0.41% by mass of magnesium (Mg), and strontium (Sr). About 0.23 mass% and about 0.16 mass% of zirconium (Zr) are contained. Further, the primary fired ceramic particles comprise about 0.13 mass% phosphorus (P), about 0.11 mass% zinc (Zn), about 0.08 mass% rubidium (Rb), and sulfur (S). About 0.07% by mass is contained.

またこの結果を酸化物に換算した結果を表4に示す。   Table 4 shows the result of converting this result into an oxide.

Figure 2007209912
Figure 2007209912

具体的に、この一次焼成セラミックス粒子は、表4に示すように、二酸化ケイ素(SiO)を約60.56質量%、アルミナ(Al)を約26.05質量%、第3酸化鉄(Fe)を約4.56質量%、酸化カリウム(KO)を約3.50質量%、酸化カルシウム(CaO)を約2.69質量%ほど含有している。また、この一次焼成セラミックス粒子は、二酸化チタン(TiO)を約0.93質量%、一酸化ナトリウム(NaO)を約0.77質量%、酸化マグネシウム(MgO)を約0.48質量%、五酸化二リン(P)を約0.13質量%、酸化ジルコニウム(ZrO)を約0.09質量%ほど含有している。さらに、この一次焼成セラミックス粒子は、酸化ストロンチウム(SrO)を約0.09質量%、三酸化硫黄(SO)を約0.08質量%、酸化亜鉛(ZnO)を約0.04質量%、酸化ルビジウム(RbO)を約0.03質量%ほど含有している。 Specifically, as shown in Table 4, this primary fired ceramic particle is about 60.56% by mass of silicon dioxide (SiO 2 ), about 26.05% by mass of alumina (Al 2 O 3 ), and third oxidized. It contains about 4.56% by mass of iron (Fe 2 O 3 ), about 3.50% by mass of potassium oxide (K 2 O), and about 2.69% by mass of calcium oxide (CaO). Further, the primary fired ceramic particles have about 0.93% by mass of titanium dioxide (TiO 2 ), about 0.77% by mass of sodium monoxide (Na 2 O), and about 0.48 mass of magnesium oxide (MgO). %, Diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) about 0.13 mass% and zirconium oxide (ZrO 2 ) about 0.09 mass%. Further, the primary fired ceramic particles comprise about 0.09 mass% of strontium oxide (SrO), about 0.08 mass% of sulfur trioxide (SO 3 ), about 0.04 mass% of zinc oxide (ZnO), About 0.03% by mass of rubidium oxide (Rb 2 O) is contained.

次いで、冷却工程として、この一次焼成セラミックス粒子を冷却させてから(ステップ4)、再焼成工程である第2焼成工程として、この一次焼成セラミックス粒子を、図示しない窯内に、例えば窒素ガス(N)などの不活性ガスが注入されて酸素が少ない雰囲気である還元雰囲気中で、例えば500℃以上1000℃以下の温度で15分以上保持して再焼成させて、これら一次焼成セラミックス粒子に含まれている金属酸化物を還元させ、再焼成セラミックスとしての再焼成セラミックス粒子15を製造させる(ステップ5)。 Next, after cooling the primary fired ceramic particles as a cooling process (step 4), the primary fired ceramic particles are placed in a kiln (not shown) as, for example, nitrogen gas (N 2 ) In a reducing atmosphere where an inert gas such as 2 ) is injected and the atmosphere is low in oxygen, for example, held at a temperature of 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower for 15 minutes or more and refired, and included in these primary fired ceramic particles The metal oxide that has been reduced is reduced to produce refired ceramic particles 15 as refired ceramics (step 5).

ここで、この再焼成セラミックス粒子15のスキャンクオリティX線(SQX)分析したところ、表5に示す元素を含有していた。   Here, a scan quality X-ray (SQX) analysis of the refired ceramic particles 15 revealed that the elements shown in Table 5 were contained.

Figure 2007209912
Figure 2007209912

具体的に、この再焼成セラミックス粒子15は、表5に示すように、ケイ素(Si)を約51.50質量%、アルミニウム(Al)を約21.38質量%、鉄(Fe)を約11.06質量%、カリウム(K)を約6.53質量%、カルシウム(Ca)を約5.34質量%ほど含有している。また、この再焼成セラミックス粒子15は、チタン(Ti)を約1.46質量%、ナトリウム(Na)を約0.65質量%、マグネシウム(Mg)を約0.58質量%、銀(Ag)を約0.40質量%、ジルコニウム(Zr)を約0.35質量%ほど含有している。さらに、この再焼成セラミックス粒子15は、ストロンチウム(Sr)を約0.24質量%、マンガン(Mn)を約0.20質量%、リン(P)を約0.14質量%、亜鉛(Zn)を約0.10質量%、ルビジウム(Rb)を約0.09質量%ほど含有している。   Specifically, as shown in Table 5, the refired ceramic particles 15 are about 51.50 mass% silicon (Si), about 21.38 mass% aluminum (Al), and about 11 iron (Fe). 0.06% by mass, about 6.53% by mass of potassium (K), and about 5.34% by mass of calcium (Ca). The refired ceramic particles 15 are composed of about 1.46% by mass of titanium (Ti), about 0.65% by mass of sodium (Na), about 0.58% by mass of magnesium (Mg), and silver (Ag). About 0.40% by mass and about 0.35% by mass of zirconium (Zr). Further, the refired ceramic particles 15 are composed of about 0.24% by mass of strontium (Sr), about 0.20% by mass of manganese (Mn), about 0.14% by mass of phosphorus (P), zinc (Zn). About 0.10% by mass and about 0.09% by mass of rubidium (Rb).

またこの結果を酸化物に換算した結果を表6に示す。   Table 6 shows the result of converting this result into an oxide.

Figure 2007209912
Figure 2007209912

具体的に、この再焼成セラミックス粒子15は、表6に示すように、二酸化ケイ素(SiO)を約59.01質量%、アルミナ(Al)を約25.96質量%、第3酸化鉄(Fe)を約5.65質量%、酸化カリウム(KO)を約3.33質量%、酸化カルシウム(CaO)を約3.00質量%ほど含有している。また、この再焼成セラミックス粒子15は、二酸化チタン(TiO)を約0.93質量%、一酸化ナトリウム(NaO)を約0.76質量%、酸化マグネシウム(MgO)を約0.67質量%、酸化ジルコニウム(ZrO)を約0.15質量%、五酸化二リン(P)を約0.14質量%ほど含有している。さらに、この再焼成セラミックス粒子15は、第1酸化銀(AgO)を約0.14質量%、酸化マンガン(MnO)を約0.09質量%、酸化ストロンチウム(SrO)を約0.09質量%、酸化亜鉛(ZnO)を約0.04質量%、酸化ルビジウム(RbO)を約0.03質量%ほど含有している。 Specifically, as shown in Table 6, this refired ceramic particle 15 is about 59.01% by mass of silicon dioxide (SiO 2 ), about 25.96% by mass of alumina (Al 2 O 3 ), third It contains about 5.65% by mass of iron oxide (Fe 2 O 3 ), about 3.33% by mass of potassium oxide (K 2 O), and about 3.00% by mass of calcium oxide (CaO). The re-fired ceramic particles 15 are about 0.93% by mass of titanium dioxide (TiO 2 ), about 0.76% by mass of sodium monoxide (Na 2 O), and about 0.67 of magnesium oxide (MgO). It contains about 0.15% by mass, about 0.15% by mass of zirconium oxide (ZrO 2 ), and about 0.14% by mass of diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ). Further, the refired ceramic particles 15 are composed of about 0.14% by mass of first silver oxide (Ag 2 O), about 0.09% by mass of manganese oxide (MnO), and about 0.09 of strontium oxide (SrO). It contains about 0.04% by mass of zinc oxide (ZnO) and about 0.03% by mass of rubidium oxide (Rb 2 O).

次に、一次焼成セラミックス粒子および再焼成セラミックス粒子15のビッカース硬さを測定して比較した。   Next, the Vickers hardness of the primary fired ceramic particles and the refired ceramic particles 15 was measured and compared.

まず、この一次焼成セラミックス粒子として計5つの異なる一次焼成セラミックス粒子のビッカース硬さを測定したところ、表7に示すように、これら計5つの一次焼成セラミックス粒子のビッカース硬さは、平均して918となった。   First, when Vickers hardness of a total of five different primary fired ceramic particles was measured as the primary fired ceramic particles, as shown in Table 7, the Vickers hardness of these five primary fired ceramic particles averaged 918. It became.

Figure 2007209912
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次いで、再焼成セラミックス粒子15として計5つの異なる再焼成セラミックス粒子15のビッカース硬さを測定したところ、表8に示すように、これら計5つの再焼成セラミックス粒子15のビッカース硬さは、平均して965となり、一次焼成セラミックス粒子の平均ビッカース硬さより大きくなった。   Next, the Vickers hardness of a total of five different refired ceramic particles 15 as refired ceramic particles 15 was measured. As shown in Table 8, the Vickers hardness of these five refired ceramic particles 15 was averaged. 965, which was larger than the average Vickers hardness of the primary fired ceramic particles.

Figure 2007209912
Figure 2007209912

次に、上記一実施の形態の水質改善装置1を用いた水質改善方法を説明する。   Next, a water quality improvement method using the water quality improvement apparatus 1 according to the embodiment will be described.

まず、処理タンク2の流入口6から水Wを流入させる。すると、この水Wが流入口6から処理タンク2のタンク下部11内に流入される。   First, water W is introduced from the inlet 6 of the processing tank 2. Then, this water W flows into the tank lower part 11 of the processing tank 2 from the inlet 6.

この後、この流入口6からタンク下部11内に流入された水Wは、このタンク下部11の内側面に衝突などされて、このタンク下部11内のいずれの位置においても上方に向けて跳ね返される。   Thereafter, the water W that has flowed into the tank lower part 11 from the inlet 6 collides with the inner surface of the tank lower part 11 and is rebounded upward at any position in the tank lower part 11. .

この結果、この水Wは、処理タンク2内に貯溜された後、この処理タンク2内において水Wの流動による流れの方向性がほとんど消去された状態で、この処理タンク2内の略全域において下方から上方に向かう一定の方向に略均等に湧き上がるように流動される。   As a result, after the water W is stored in the processing tank 2, the direction of the flow due to the flow of the water W is almost eliminated in the processing tank 2, and in almost the entire area of the processing tank 2. It flows so as to spring up almost uniformly in a certain direction from below to above.

そして、この水Wが再焼成セラミックス粒子15間を通過する際の、これら再焼成セラミックス粒子15への水Wの接触によって、この水Wの酸化還元電位および表面張力が低下されて、この水Wが水質変化して水質改善される。   When the water W passes between the refired ceramic particles 15, the contact of the water W with the refired ceramic particles 15 reduces the oxidation-reduction potential and the surface tension of the water W. The water quality changes and the water quality is improved.

同時に、この水Wは、複数の再焼成セラミックス粒子15間を通過することによって、この水Wに予め加えられている残留塩素が保持されるとともに、この水Wに対するレジオネラ菌の発生抑制力を向上させるとともに、このレジオネラ菌の増殖抑制力を向上させる。   At the same time, the water W passes between a plurality of refired ceramic particles 15 so that residual chlorine added in advance to the water W is retained, and the ability to suppress the generation of Legionella against the water W is improved. In addition, the growth inhibitory power of Legionella is improved.

このとき、この水Wは、pHが微小ながらアルカリ側に変化する。また、このときの水Wへの再焼成セラミックス粒子15による接水面積および時間を増加させるほど、この水Wの水質改善効果を向上できる。   At this time, the water W changes to the alkali side while the pH is minute. Moreover, the water quality improvement effect of this water W can be improved, so that the water contact area and time by the rebaked ceramic particle 15 to the water W at this time are increased.

この後、この水質改善された水Wは、改善水として処理タンク2のメッシュ体14を通過してから流出口5から外部へと流出される。   Thereafter, the water W whose water quality has been improved passes through the mesh body 14 of the treatment tank 2 as improved water and then flows out from the outlet 5 to the outside.

次に、上記水質改善装置1の設置例について説明する。   Next, an installation example of the water quality improvement apparatus 1 will be described.

まず、この水質改善装置1を公衆浴場などの浴槽水Hを循環させるシステムに設置する場合には、図3に示すように、この水質改善装置1の流出口5を熱交換機21の上流側に接続させる。この熱交換機21は、この熱交換機21を通過する浴槽水Hを加熱して、この浴槽水Hを加温する装置である。さらに、この熱交換機21の下流側は、浴槽水Hが貯留される浴槽22の上流側に設けられている流入口23に接続されている。   First, when the water quality improvement device 1 is installed in a system for circulating bath water H such as a public bath, the outlet 5 of the water quality improvement device 1 is placed upstream of the heat exchanger 21 as shown in FIG. Connect. The heat exchanger 21 is a device that heats the bathtub water H by heating the bathtub water H passing through the heat exchanger 21. Furthermore, the downstream side of the heat exchanger 21 is connected to an inlet 23 provided on the upstream side of the bathtub 22 in which the bathtub water H is stored.

さらに、この浴槽22の下流側に設けられている流出口24には、この浴槽22から流出される浴槽水Hに含まれている毛髪などを浴槽水Hから分離する集毛器25が取り付けられている。また、この集毛器25の下流側には、この集毛器25を通過した浴槽水Hに塩素を注入する塩素注入器26が取り付けられている。この塩素注入器26の下流側には、この塩素注入器26にて塩素注入された浴槽水Hを図示しないフィルターにてろ過するろ過器27の上流側が接続されている。   Further, a hair collector 25 for separating hair contained in the bathtub water H flowing out from the bathtub 22 from the bathtub water H is attached to the outlet 24 provided on the downstream side of the bathtub 22. ing. A chlorine injector 26 for injecting chlorine into the bathtub water H that has passed through the hair collector 25 is attached to the downstream side of the hair collector 25. Connected to the downstream side of the chlorine injector 26 is an upstream side of a filter 27 that filters the bathtub water H injected with chlorine by the chlorine injector 26 with a filter (not shown).

そして、このろ過器27の下流側が、水質改善装置1の流入口6に接続されている。さらに、この水質改善装置1は、ろ過器27の下流側と熱交換機21の上流側とが接続された本流管路28に接続されたバイパス管路29に取り付けられている。そして、この本流管路28には、この本流管路28を通過する浴槽水Hの流量を調整する流量調整バルブ31が取り付けられており、この流量調整バルブ31の調整によってバイパス管路29へ流れる浴槽水Hの流量、すなわち水質改善装置1を通過する浴槽水Hの流量を調整させる。また、バイパス管路29の水質改善装置1の上流側および下流側のそれぞれには、このバイパス管路29を開閉可能な止水弁32,33がそれぞれ取り付けられている。さらに、水質改善装置1の上流側と止水弁32との間には、この水質改善装置1へと流れ込む浴槽水Hの流量を自動的に一定量に調整させる定流量弁34が取り付けられている。   The downstream side of the filter 27 is connected to the inlet 6 of the water quality improvement apparatus 1. Further, the water quality improvement apparatus 1 is attached to a bypass line 29 connected to a main flow line 28 where the downstream side of the filter 27 and the upstream side of the heat exchanger 21 are connected. The main flow line 28 is provided with a flow rate adjusting valve 31 for adjusting the flow rate of the bathtub water H passing through the main flow line 28, and flows to the bypass line 29 by adjusting the flow rate adjusting valve 31. The flow rate of the bathtub water H, that is, the flow rate of the bathtub water H passing through the water quality improvement device 1 is adjusted. In addition, on the upstream side and the downstream side of the water quality improvement device 1 of the bypass line 29, water stop valves 32 and 33 that can open and close the bypass line 29 are respectively attached. Furthermore, between the upstream side of the water quality improvement apparatus 1 and the water stop valve 32, a constant flow valve 34 for automatically adjusting the flow rate of the bathtub water H flowing into the water quality improvement apparatus 1 to a constant amount is attached. Yes.

この結果、浴槽22から流出した浴槽水Hは、集毛器25にて毛髪などが分離されてから塩素注入器26にて塩素注入された後にろ過器27にてろ過される。さらに、このろ過器27にてろ過された浴槽水Hの少なくとも一部は、水質改善装置1内を通過して、この水質改善装置1の処理タンク2内に充填されている複数の再焼成セラミックス粒子15間を通過するときに水質が改善されることにより、この浴槽水Hに予め加えられている残留塩素が保持されるとともに、この浴槽水Hに対するレジオネラ菌の発生が抑制され、このレジオネラ菌の増殖が抑制される。そして、この水質改善装置1を通過した浴槽水Hは、熱交換機21を通過する際に所定温度まで加熱されてから、浴槽22の流入口23へと送られて、この浴槽22内へと供給される。   As a result, the bath water H flowing out of the bathtub 22 is filtered by the filter 27 after the hair or the like is separated by the hair collector 25 and then injected by the chlorine injector 26. Further, at least part of the bathtub water H filtered by the filter 27 passes through the water quality improvement apparatus 1 and a plurality of refired ceramics filled in the treatment tank 2 of the water quality improvement apparatus 1. By improving the water quality when passing between the particles 15, the residual chlorine previously added to the bath water H is retained, and the generation of Legionella in the bath water H is suppressed. Growth is suppressed. And the bathtub water H which passed this water quality improvement apparatus 1 is heated to predetermined temperature, when passing the heat exchanger 21, is sent to the inflow port 23 of the bathtub 22, and is supplied in this bathtub 22 Is done.

上述したように、上記一実施の形態によれば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主成分とし、これらケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかよりも容易に還元され得る金属の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを微量成分として含む岩石粉末を、1000℃以上の高温で焼成してから完全に冷却させた後に、還元雰囲気中で500℃以上1000℃以下の温度まで昇温して再焼成して製造した再焼成セラミックス粒子15を用いる構成とした。   As described above, according to the one embodiment, the main component is at least one of silicon (Si), aluminum (Al), iron (Fe) oxide, hydroxide, and fluoride. Si), aluminum (Al), iron (Fe) oxide, hydroxide and fluoride can be reduced more easily than at least one of metal oxide, hydroxide and fluoride Refired ceramics produced by firing rock powder as a component at a high temperature of 1000 ° C. or higher and then completely cooling it, then raising the temperature to 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in a reducing atmosphere. A configuration using particles 15 was adopted.

このとき、1000℃以上の高温で焼成した一次焼成セラミックス粒子を還元雰囲気で1000℃以上の温度で再焼成した場合には、この一次焼成セラミックス粒子中の元素の還元が進行しすぎて、この一次焼成セラミックス粒子の再焼成にて製造される再焼成セラミックス粒子15の硬度および靭性が損なわれてしまう。   At this time, when primary fired ceramic particles fired at a high temperature of 1000 ° C. or higher are refired at a temperature of 1000 ° C. or higher in a reducing atmosphere, the reduction of the elements in the primary fired ceramic particles proceeds excessively, The hardness and toughness of the refired ceramic particles 15 produced by refired fired ceramic particles are impaired.

また、この一次焼成セラミックス粒子を還元雰囲気で500℃以下の温度で再焼成した場合には、この一次焼成セラミックス粒子に含まれている微量成分を効率良く還元できないので、この一次焼成セラミックス粒子の再焼成にて製造される再焼成セラミックス粒子15の水質改善効果が期待できない。そこで、この一次焼成セラミックス粒子の還元雰囲気中での再焼成としては、500℃以上1000℃以下の温度が好ましい。ただし、この温度は、この一次焼成セラミックス粒子を再焼成する図示しない炉内に流入する不活性ガスの還元度によって変化し得る。   In addition, when the primary fired ceramic particles are refired at a temperature of 500 ° C. or less in a reducing atmosphere, the trace components contained in the primary fired ceramic particles cannot be efficiently reduced. The water quality improvement effect of the refired ceramic particles 15 produced by firing cannot be expected. Therefore, the re-baking of the primary sintered ceramic particles in a reducing atmosphere is preferably a temperature of 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower. However, this temperature can vary depending on the degree of reduction of an inert gas flowing into a furnace (not shown) that refires the primary fired ceramic particles.

この結果、これら複数の再焼成セラミックス粒子15の還元雰囲気下での再焼成によって、これら再焼成セラミックス粒子15の硬度がより向上されるとともに、これら再焼成セラミックス粒子15の表面が引き締まって平滑化される。したがって、これら再焼成セラミックス粒子15の表面の平滑化によって、これら再焼成セラミックス粒子15の表面に対する応力集中を回避できるので、これら再焼成セラミックス粒子15の欠損や破損を防止できる。このため、これら再焼成セラミックス粒子15のより長期間の使用が可能となる。   As a result, by refiring the plurality of refired ceramic particles 15 in a reducing atmosphere, the hardness of the refired ceramic particles 15 is further improved, and the surface of the refired ceramic particles 15 is tightened and smoothed. The Therefore, since the stress concentration on the surface of the refired ceramic particles 15 can be avoided by smoothing the surface of the refired ceramic particles 15, it is possible to prevent the refired ceramic particles 15 from being damaged or broken. For this reason, these refired ceramic particles 15 can be used for a longer period of time.

さらに、これら再焼成セラミックス粒子15同士を衝突などさせる構成ではないので、一定期間ごとに再焼成セラミックス粒子15を取り替える必要はない。また、これら再焼成セラミックス粒子15は、析出作用や帯電作用によって水質を改善するものではないので、これら再焼成セラミックス粒子15を洗浄したり交換したりする必要はない。さらに、これら再焼成セラミックス粒子15の接水作用によって、水Wの水質を改善させる構成であることから、この水Wが再焼成セラミックス粒子15間を低速で通過しても水質改善効果を得ることができる。   Further, since the refired ceramic particles 15 are not configured to collide with each other, it is not necessary to replace the refired ceramic particles 15 every predetermined period. Further, since these refired ceramic particles 15 do not improve the water quality by the precipitation action or the charging action, it is not necessary to wash or replace these refired ceramic particles 15. Further, since the water quality of the water W is improved by the wet action of the refired ceramic particles 15, the water quality improvement effect can be obtained even when the water W passes between the refired ceramic particles 15 at a low speed. Can do.

ここで、これら再焼成セラミックス粒子15との接水時間が長ければ長いほど水Wの水質を向上できるが、これら再焼成セラミックス粒子15自体の反応性が向上していることから、これら再焼成セラミックス粒子15との接水時間をある程度短くしても効果を得ることができる。   Here, the longer the water contact time with these refired ceramic particles 15, the better the water quality of the water W. However, since the reactivity of these refired ceramic particles 15 themselves is improved, these refired ceramic particles 15 The effect can be obtained even if the water contact time with the particles 15 is shortened to some extent.

同時に、これら再焼成セラミックス粒子15の還元雰囲気下での再焼成によって、これら再焼成セラミックス粒子15に含まれている元素である微量成分が還元される。言い換えると、再焼成セラミックス粒子15の還元再焼成によって、還元再焼成前の一次焼成セラミックス粒子中の微量成分を還元でき、還元性の高い再焼成セラミックス粒子15にできる。このため、これら再焼成セラミックス粒子15にて塩素処理水中の残留塩素を保持しながら、還元力および制菌力により優れた水質に改善できる。   At the same time, by refiring these refired ceramic particles 15 in a reducing atmosphere, trace components that are elements contained in these refired ceramic particles 15 are reduced. In other words, by reducing and re-firing the refired ceramic particles 15, it is possible to reduce the trace components in the primary fired ceramic particles before the refired ceramic particles, and to make the refired ceramic particles 15 having high reducibility. For this reason, while maintaining the residual chlorine in the chlorinated water with these refired ceramic particles 15, it is possible to improve the water quality by the reducing power and the antibacterial power.

よって、これら複数の再焼成セラミックス粒子15を水質改善装置1の処理タンク2に充填させて、この処理タンク2内で複数の再焼成セラミックス粒子15間に水Wを通過させることによって、この水Wの酸化還元電位および表面張力を低下できる。したがって、この水Wの還元作用をより向上できることから、この水Wに予め含まれている残留塩素を保持したまま、金属が酸化および劣化するなどの塩素害を防止でき、かつ、この水W内のレジオネラ菌の発生を抑制できるとともに、この水W中に存在するレジオネラ菌の増殖を抑制できる。   Therefore, by filling the processing tank 2 of the water quality improvement apparatus 1 with the plurality of refired ceramic particles 15 and passing the water W between the plurality of refired ceramic particles 15 in the processing tank 2, the water W The oxidation-reduction potential and surface tension of can be reduced. Therefore, since the reducing action of the water W can be further improved, chlorine damage such as metal oxidation and deterioration can be prevented while retaining the residual chlorine previously contained in the water W, and the inside of the water W can be prevented. Generation of Legionella bacterium can be suppressed, and the growth of Legionella bacterium present in the water W can be suppressed.

このため、水Wの酸化還元電位を低下させたことにより、この水Wに還元力を与えることができる。この結果、還元作用、酸化防止作用および腐敗防止作用を有する水Wの生成が容易にできる。   For this reason, by reducing the oxidation-reduction potential of the water W, the water W can be given a reducing power. As a result, it is possible to easily generate water W having a reducing action, an antioxidant action, and an anti-corrosion action.

さらに、この水Wの水質を改善させる際に、この水Wの表面張力を低下させたことにより、この水Wの浸透力を高めることができるから、この水Wの界面活性力を高めることができる。そして、この水Wを図示しない管体に流通させることにより、この管体の内壁に付着したカルシウムやシリカなどの石質、すなわちスケールや赤錆び、尿石などを徐々に溶かして除去できる。   Further, when the water W is improved in quality, the surface tension of the water W can be increased by reducing the surface tension of the water W, so that the surface activity of the water W can be increased. it can. Then, by circulating this water W through a tube (not shown), stone such as calcium and silica adhering to the inner wall of the tube, that is, scale, red rust, urine stone, etc. can be gradually dissolved and removed.

また、この水Wを用いることにより、プール設備や温泉設備などでの各種機器の劣化などの塩素害を低減できる。   Moreover, by using this water W, chlorine damage such as deterioration of various devices in a pool facility, a hot spring facility, or the like can be reduced.

以上の結果、再焼成セラミックス粒子15間に塩素処理された水Wを通過させることによって、塩素量を増加させることなく残留塩素を保持しながら酸化を抑制でき、還元力、制菌力に優れた水に水質改善できることから、飲料水や生活用水の多分野にわたって水質の劣化を長期間抑制でき、現在の塩素殺菌による浄化法をより効果的にできる。さらに、塩素投入量増加に伴う人体および生体に対する塩素害や、各種機器に対する塩素害を抑制して、これら機器の延命効果などにてコストを削減させ、薬剤投入による排水劣化などを防止できるので、環境改善を促進できる。よって、取り扱い性、メンテナンス性およびコスト的に優れた水質改善装置1を提供できる。   As a result, by passing the chlorinated water W between the refired ceramic particles 15, it is possible to suppress oxidation while maintaining residual chlorine without increasing the amount of chlorine, and is excellent in reducing power and antibacterial power. Since water quality can be improved, deterioration of water quality can be suppressed for a long period of time in many fields of drinking water and domestic water, and the current purification method by chlorine sterilization can be made more effective. In addition, the chlorine damage to the human body and living body due to the increase in the amount of chlorine input and the chlorine damage to various devices can be suppressed, the cost can be reduced due to the life extension effect of these devices, etc. Can promote environmental improvement. Therefore, the water quality improvement apparatus 1 excellent in handling property, maintenance property, and cost can be provided.

ここで、現在、水道水においては塩素を除去することが水質の向上につながると考えられ、ほとんどの家庭においては水道水中から塩素を除去するために浄水器を使用している。その一方で、一般的な冷蔵庫の製氷機で、塩素を除去した水道水を用いて製氷すると、この水道水中に一般細菌が増殖するおそれがあるとともに、塩素を除去した水道水をすぐに飲用すればよいが、長時間放置された水道水には一般細菌が増殖してしまう。   Here, it is considered that removing chlorine in tap water currently leads to improvement of water quality, and most households use water purifiers to remove chlorine from tap water. On the other hand, if ice is made with tap water from which chlorine has been removed with a general refrigerator ice maker, general bacteria may grow in the tap water, and tap water from which chlorine has been removed can be drunk immediately. However, general bacteria will grow in tap water left for a long time.

また、ビルディングやマンションなどの屋上などに設置されている受水槽では、水道水を滞留させていることから、一般細菌の増殖や、水道水の酸化などの水質の劣化が生じるなどの問題があることから、受水槽を用いない傾向になっているが、防災用の水を確保する観点から好ましくない。   In addition, water tanks installed on the rooftops of buildings and condominiums have problems such as the growth of general bacteria and the deterioration of water quality such as oxidation of tap water because tap water is retained. For this reason, although there is a tendency not to use a water receiving tank, it is not preferable from the viewpoint of securing water for disaster prevention.

これに対し、上述した水質改善装置1を用いることによって、受水槽に貯留されている水道水を、水質改善装置1を含む流路に循環させることによって、この水道水の酸化還元電位を低下できるとともに、表面張力を低下でき、有害物質の低下などの水質を向上できることが確認できた。また、水道水などの上水のみならず、公衆の浴槽水Hにおいても水質の改善が課題となっている。   On the other hand, by using the water quality improvement device 1 described above, the tap water stored in the water receiving tank is circulated through the flow path including the water quality improvement device 1, thereby reducing the redox potential of this tap water. At the same time, it was confirmed that the surface tension can be reduced and the water quality such as the reduction of harmful substances can be improved. In addition to tap water and other public water, improvement of water quality is a problem not only in public bath water H.

特に、浴槽水Hでは一般細菌中のレジオネラ菌の対応が容易ではない。厚生労働省から公衆浴場や旅館に対して衛生などの管理要領が発表され、この管理要領には、貯湯槽に貯留されている浴槽水Hの温度を60℃以上に保ち、循環ろ過装置を使用している浴槽についてはエアロゾル発生装置を設置しないことなどが記載されている。ところが、この循環ろ過装置では、この循環ろ過装置に使用されているろ材に汚れが付着して蓄積してしまうとともに、このろ材にレジオネラ属菌などの微生物が増殖しやすくなるので、このレジオネラ属菌がいったん付着して増殖した場合には、化学的な洗浄が必要となる。   In particular, in bath water H, it is not easy to cope with Legionella in general bacteria. The Ministry of Health, Labor and Welfare has announced the management guidelines such as hygiene for public baths and inns. In this management guideline, the temperature of the bath water H stored in the hot water tank is kept at 60 ° C or higher, and a circulation filtration device is used. It is described that an aerosol generation device is not installed for the bathtubs. However, in this circulation filtration device, dirt adheres to and accumulates on the filter medium used in this circulation filtration device, and microorganisms such as Legionella spp. Once attached and propagated, chemical cleaning is required.

これに対し、この循環ろ過装置の後段に上述した水質改善装置1を設置した状態で、浴槽水Hを循環させることによって、この水質改善装置1が設置されていない浴槽水Hに比べ、レジオネラ菌の発生を抑制できる。このとき、従来では菌が繁殖しやすいろ過装置内のろ材のほとんどが変化しない。   On the other hand, by circulating the bathtub water H in a state where the above-described water quality improvement apparatus 1 is installed in the subsequent stage of the circulation filtration apparatus, Legionella bacteria are compared with the bathtub water H in which the water quality improvement apparatus 1 is not installed. Can be suppressed. At this time, most of the filter media in the filtration apparatus in which bacteria are likely to propagate conventionally do not change.

ここで、このレジオネラ菌の殺菌方法としては、次亜塩素酸を含んだ塩素殺菌や、オゾン殺菌、紫外線殺菌、加熱殺菌などの方法がある。これらのうち、オゾン殺菌は、病原性生物の消毒、殺菌、難分解性有機物の生分解性向上などの観点から有効であって、使用後にオゾンが酸素に分解されることから環境にやさしい殺菌方法として利用されているが、非常に微量でも人がオゾンを吸い込むと気管支や肺に危害を及ぼす可能性があるため、高濃度のオゾンガスが発生しない構造にする必要がある。   Here, as a method for sterilizing Legionella, there are methods such as chlorine sterilization containing hypochlorous acid, ozone sterilization, ultraviolet sterilization, and heat sterilization. Among these, ozone sterilization is effective from the viewpoint of disinfection and sterilization of pathogenic organisms, biodegradability improvement of difficult-to-decompose organic matter, etc., and since ozone is decomposed into oxygen after use, it is an environmentally friendly sterilization method However, if a person inhales ozone even in a very small amount, there is a possibility that it may cause damage to the bronchi and lungs.

また、紫外線殺菌は、浴槽水に紫外線を照射することによってレジオネラ菌やバクテリアなどを不活性化できるが、この紫外線殺菌を含んだ循環システムを停止させると、浴槽水中にバクテリアが増殖しやすい状況になることから、この循環システムの連続運転が必要となる。また、この紫外線殺菌による効果を維持させるためには、定期的な清掃が重要でメンテナンスが容易ではない。   In addition, UV sterilization can inactivate Legionella bacteria and bacteria by irradiating the bath water with UV light, but if the circulation system including this UV sterilization is stopped, the bacteria can easily grow in the bath water. Therefore, continuous operation of this circulation system is required. Further, in order to maintain the effect of this ultraviolet sterilization, periodic cleaning is important and maintenance is not easy.

さらに、塩素殺菌は、塩素を浴槽水に加えるだけであるので手軽であり、塩素の投入量を多くすることによって効果を向上できるが、この塩素が多量に投入された浴槽水に触れた人体の皮膚だけではなく、設備機器に対しても塩素害を生じさせてしまうとともに、排水劣化による環境悪化を招いてしまう。これに対し、上述した水質改善装置1を種々の配管システムに組み込むことによって、塩素殺菌による問題を解消しながら、塩素の有益性の効果を向上できる。   Furthermore, chlorine sterilization is easy because it only adds chlorine to the bath water, and the effect can be improved by increasing the amount of chlorine input. Not only the skin but also the equipment is caused by chlorine damage, and the environment deteriorates due to drainage deterioration. On the other hand, by incorporating the above-described water quality improvement apparatus 1 into various piping systems, the beneficial effect of chlorine can be improved while solving the problems caused by chlorine sterilization.

なお、上記一実施の形態では、塩素処理された水Wを水質改善装置1に通過させることによって、この水Wの酸化還元電位および表面張力がそれぞれ低下され、レジオネラ菌の発生および増殖が抑制されるが、これら酸化還元電位、表面張力およびレジオネラ菌などの一般細菌の発生抑制の少なくともいずれかに対して効果があれば良い。   In the above embodiment, by passing the chlorinated water W through the water quality improvement device 1, the oxidation-reduction potential and the surface tension of the water W are reduced, and generation and growth of Legionella are suppressed. However, it only needs to have an effect on at least one of these redox potential, surface tension, and generation inhibition of general bacteria such as Legionella.

また、一次焼成セラミックス粒子を冷却してから、還元雰囲気中で再焼成して再焼成セラミックス粒子15としたが、この一次焼成セラミックス粒子を冷却せずに再焼成しても再焼成セラミックス粒子15を製造できる。   The primary fired ceramic particles were cooled and then refired in a reducing atmosphere to obtain refired ceramic particles 15. However, even if the primary fired ceramic particles were refired without cooling, Can be manufactured.

<実施例1>
次に、上記水質改善装置1を用いた実施例1について説明する。
<Example 1>
Next, Example 1 using the water quality improvement apparatus 1 will be described.

この実施例1では、原水として京都市内の水道水を用い、この水道水中に、一次焼成のみされた一次焼成セラミックス粒子であるオリジナルセラミックスと、水質改善装置1内に充填されている再焼成セラミックス粒子15である再焼成セラミックスを浸水させて、浸水直後と浸水開始から1時間後とのそれぞれでの酸化還元電位(ORP)および水温とを測定した。   In the first embodiment, tap water in Kyoto city is used as raw water, and the original ceramics which are primary fired ceramic particles subjected only to primary firing in the tap water, and the refired ceramic filled in the water quality improvement device 1 are used. The re-fired ceramic as the particles 15 was immersed, and the redox potential (ORP) and the water temperature were measured immediately after the immersion and 1 hour after the start of the immersion.

Figure 2007209912
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この結果、表9に示すように、再焼成セラミックス粒子15を浸水させた水道水では、浸水直後の酸化還元電位が364mVで水温が27.0℃となり、浸水開始1時間後の酸化還元電位が329mVで水温が27.6℃となった。これに対して、一次焼成セラミックス粒子を浸水させた水道水では、浸水直後の酸化還元電位が452mVで水温が27.7℃となり、浸水開始1時間後の酸化還元電位が428mVで水温が28.0℃となった。さらに、何も浸水させていない水道水では、他の水道水にセラミックス粒子15や一次焼成セラミックス粒子を浸水させた直後の酸化還元電位が586mVで水温が28.1℃となり、浸水開始1時間後の酸化還元電位が428mVで水温が28.2℃となった。   As a result, as shown in Table 9, in the tap water in which the refired ceramic particles 15 are submerged, the oxidation-reduction potential immediately after the immersion is 364 mV, the water temperature is 27.0 ° C., and the oxidation-reduction potential one hour after the start of the immersion is The water temperature became 27.6 ° C. at 329 mV. On the other hand, in tap water in which primary fired ceramic particles are immersed, the oxidation-reduction potential immediately after immersion is 452 mV, the water temperature is 27.7 ° C., the oxidation-reduction potential 1 hour after the start of immersion is 428 mV, and the water temperature is 28. It reached 0 ° C. Furthermore, in tap water in which nothing is submerged, the redox potential immediately after submerging the ceramic particles 15 and the primary fired ceramic particles in other tap water is 586 mV, the water temperature is 28.1 ° C., and one hour after the start of submergence The oxidation-reduction potential was 428 mV and the water temperature was 28.2 ° C.

したがって、再焼成セラミックス粒子15を水道水中に浸水させることによって、何ら浸水させない場合や一次焼成セラミックス粒子を浸水させた場合のそれぞれよりも、水道水の酸化還元電位を低下できることが分かった。   Therefore, it was found that the redox potential of tap water can be lowered by immersing the refired ceramic particles 15 in tap water as compared with the case where no re-immersion is performed and the case where the primary fired ceramic particles are immersed.

さらに、この水道水を、一次焼成セラミックス粒子が充填されている処理タンク2と、再焼成セラミックス粒子15が収容されている処理タンク2と、何ら収容されていない処理タンク2のそれぞれに通過させて、この水道水が1循環したときの酸化還元電位(ORP)と水温とをそれぞれ測定した。   Furthermore, this tap water is passed through each of the processing tank 2 filled with the primary fired ceramic particles, the processing tank 2 containing the refired ceramic particles 15 and the processing tank 2 not housed at all. The redox potential (ORP) and the water temperature when this tap water was circulated once were measured.

Figure 2007209912
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この結果、表10に示すように、再焼成セラミックス粒子15を充填した処理タンク2を1循環した水道水では、酸化還元電位が498mVで水温が25.8℃となった。これに対して、一次焼成セラミックス粒子を充填した処理タンク2を1循環した水道水では、酸化還元電位が528mVで水温が25.5℃となった。さらに、何も充填されていない処理タンクを1循環した水道水では、酸化還元電位が603mVで水温が26.1℃となった。   As a result, as shown in Table 10, in the tap water that circulated once through the treatment tank 2 filled with the refired ceramic particles 15, the oxidation-reduction potential was 498 mV and the water temperature was 25.8 ° C. On the other hand, in tap water that circulated once through the treatment tank 2 filled with the primary fired ceramic particles, the oxidation-reduction potential was 528 mV and the water temperature was 25.5 ° C. Furthermore, in the tap water which circulated through the treatment tank which is not filled with anything, the redox potential was 603 mV and the water temperature was 26.1 ° C.

この結果から、再焼成セラミックス粒子15が充填されている処理タンク2内に水道水を循環させることによって、何ら充填されていない処理タンク2や、一次焼成セラミックス粒子が充填された処理タンク2内を循環させた場合のそれぞれより、水道水の酸化還元電位を低下できることが分かった。   From this result, by circulating tap water in the processing tank 2 filled with the re-fired ceramic particles 15, the inside of the processing tank 2 not filled at all or the processing tank 2 filled with the primary fired ceramic particles is obtained. It was found that the redox potential of tap water can be lowered from each of the cases where the water is circulated.

<実施例2>
次に、上記再焼成セラミックス粒子15を用いた実施例2について説明する。
<Example 2>
Next, Example 2 using the refired ceramic particles 15 will be described.

この実施例2では、原水として京都市内の水道水を用い、この原水中に、一次焼成のみされた一次焼成セラミックス粒子と、水質改善装置1内に充填されている再焼成セラミックス粒子15とのそれぞれを別個に浸水させて、浸水直前と、浸水開始15分後と、浸水開始30分後と、浸水開始1時間後と、浸水開始2時間後とのそれぞれでの、表面張力(dyn/cm)と水温とpHとのそれぞれを測定した。   In this Example 2, tap water in Kyoto city is used as raw water, and the primary fired ceramic particles subjected to primary firing only in the raw water and the refired ceramic particles 15 filled in the water quality improvement device 1 are used. The surface tension (dyn / cm) immediately before the immersion, 15 minutes after the start of the immersion, 30 minutes after the start of the immersion, 1 hour after the start of the immersion, and 2 hours after the start of the immersion is obtained. ), Water temperature, and pH.

Figure 2007209912
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この結果、表11に示すように、再焼成セラミックス粒子15を浸水させた原水では、浸水直前の表面張力が73.5dyn/cmで水温24℃、pH7.0となり、浸水開始15分後の表面張力が70.2dyn/cmで水温25℃、pH7.0となり、浸水開始30分後の表面張力が67.4dyn/cmで水温26.5℃、pH7.0となり、浸水開始1時間後の表面張力が63.3dyn/cmで水温27℃、pH7.1となり、浸水開始2時間後の表面張力が61.2dyn/cmで水温26.7℃、pH7.2となった。   As a result, as shown in Table 11, in the raw water in which the refired ceramic particles 15 are immersed, the surface tension immediately before the immersion is 73.5 dyn / cm, the water temperature is 24 ° C., the pH is 7.0, and the surface 15 minutes after the start of the immersion. When the tension is 70.2 dyn / cm, the water temperature is 25 ° C. and the pH is 7.0. After 30 minutes from the start of water immersion, the surface tension is 67.4 dyn / cm and the water temperature is 26.5 ° C. and the pH is 7.0. When the tension was 63.3 dyn / cm, the water temperature became 27 ° C. and pH 7.1, and after 2 hours from the start of water immersion, the surface tension became 61.2 dyn / cm and the water temperature became 26.7 ° C. and pH 7.2.

これに対して、一次焼成セラミックス粒子を浸水させた原水では、浸水直前の表面張力が73.5dyn/cmで水温24℃、pH7.0となり、浸水開始15分後の表面張力が70.4dyn/cmで水温25℃、pH7.0となり、浸水開始30分後の表面張力が68.3dyn/cmで水温26.5℃、pH7.0となり、浸水開始1時間後の表面張力が64.6dyn/cmで水温27℃、pH7.1となり、浸水開始2時間後の表面張力が62.8dyn/cmで水温26.7℃、pH7.2となった。   In contrast, in the raw water in which the primary fired ceramic particles are immersed, the surface tension immediately before the immersion is 73.5 dyn / cm, the water temperature is 24 ° C., the pH is 7.0, and the surface tension 15 minutes after the start of the immersion is 70.4 dyn / cm. The water temperature was 25 ° C. and pH 7.0 at 30 cm, the surface tension 30 minutes after the start of water immersion was 68.3 dyn / cm, the water temperature was 26.5 ° C. and pH 7.0, and the surface tension 1 hour after the start of water immersion was 64.6 dyn / The water temperature was 27 ° C. and the pH was 7.1 at cm, and the surface tension after 2 hours from the start of water immersion was 62.8 dyn / cm and the water temperature was 26.7 ° C. and the pH was 7.2.

したがって、再焼成された再焼成セラミックス粒子15を原水中に浸水させることによって、一次焼成セラミックス粒子を浸水させた場合よりも、原水の表面張力を低下できることが分かった。   Therefore, it was found that the surface tension of the raw water can be lowered by immersing the re-fired re-fired ceramic particles 15 in the raw water as compared with the case where the primary fired ceramic particles are immersed.

<実施例3>
次に、上記水質改善装置1を用いた実施例3について説明する。
<Example 3>
Next, Example 3 using the water quality improvement apparatus 1 will be described.

この実施例3では、任意の建物内に設置されている受水槽に水質改善装置1を取り付けて、この受水槽に貯留されている飲料水となる水道水を水質改善装置1に循環させる前の状態の非処理水と、この水道水を水質改善装置1に循環させた後の状態の処理水とのそれぞれの一般細菌、大腸菌、鉛および鉛化合物のそれぞれについて測定した。   In this Example 3, the water quality improvement apparatus 1 is attached to a water receiving tank installed in an arbitrary building, and the tap water serving as drinking water stored in the water receiving tank is circulated to the water quality improvement apparatus 1. Each of the general bacteria, Escherichia coli, lead, and lead compound was measured for the untreated water in the state and the treated water in a state after the tap water was circulated through the water quality improvement apparatus 1.

Figure 2007209912
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Figure 2007209912
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この結果、表12に示すように、非処理水では、鉛および鉛化合物が、基準値(0.01mg/L以下)より高い0.019mg/Lほど検出された。これに対し、表13に示すように、処理水では、鉛および鉛化合物が、基準値より低い0.002mg/Lほど検出されたに過ぎなかった。   As a result, as shown in Table 12, in untreated water, lead and a lead compound were detected in an amount of 0.019 mg / L higher than the reference value (0.01 mg / L or less). In contrast, as shown in Table 13, in the treated water, only 0.002 mg / L of lead and a lead compound that were lower than the reference value was detected.

したがって、水道水を水質改善装置1に循環させることによって、この水道水中に含まれている有害な鉛および鉛化合物の含有量を低くでき、表12および表13に示すように、水道法に基づく水質基準(厚生労働省令第101号)に適合する飲料水にできることが分かった。   Therefore, the content of harmful lead and lead compounds contained in the tap water can be lowered by circulating the tap water to the water quality improvement device 1, and as shown in Table 12 and Table 13, it is based on the Water Supply Law. It was found that drinking water that complies with water quality standards (Ministry of Health, Labor and Welfare Ordinance No. 101) can be obtained.

<実施例4>
次に、上記水質改善装置1を用いた実施例4について説明する。
<Example 4>
Next, Example 4 using the water quality improvement apparatus 1 will be described.

この実施例4では、原水として京都市内の水道水を用い、この水道水を水質改善装置1に通過させる前の状態の非処理水と、この水道水を水質改善装置1に通過させた後の状態の処理水のそれぞれについて測定した。   In this Example 4, tap water in Kyoto city is used as raw water, and after this tap water is passed through the water quality improvement device 1, untreated water and after this tap water is passed through the water quality improvement device 1 It measured about each of the treated water of the state.

Figure 2007209912
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Figure 2007209912
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この結果、表14に示すように、非処理水では、鉛および鉛化合物が0.005mg/Lほど検出され、硝酸態窒素および亜硝酸態窒素が3.4mg/Lほど検出され、亜鉛および亜鉛化合物が0.039mg/Lほど検出され、銅および銅化合物が0.04mg/Lほど検出され、蒸発残留物が110mg/Lほど検出された。   As a result, as shown in Table 14, in untreated water, lead and lead compounds were detected in an amount of 0.005 mg / L, nitrate nitrogen and nitrite nitrogen were detected in an amount of 3.4 mg / L, and zinc and zinc About 0.039 mg / L of compound was detected, about 0.04 mg / L of copper and copper compounds were detected, and about 110 mg / L of evaporation residue was detected.

これに対し、表15に示すように、処理水では、鉛および鉛化合物が0.001mg/L未満検出され、硝酸態窒素および亜硝酸態窒素が0.03mg/Lほど検出され、亜鉛および亜鉛化合物が0.010mg/Lほど検出され、銅および銅化合物が0.01mg/L未満検出され、蒸発残留物が85mg/Lほど検出されたに過ぎなかった。   On the other hand, as shown in Table 15, in treated water, lead and lead compounds were detected in less than 0.001 mg / L, nitrate nitrogen and nitrite nitrogen were detected in an amount of 0.03 mg / L, zinc and zinc The compound was detected as 0.010 mg / L, copper and copper compounds were detected as less than 0.01 mg / L, and the evaporation residue was detected as 85 mg / L.

したがって、水道水を水質改善装置1に通過させることによって、この水道水に含まれている有害な鉛、鉛化合物、硝酸態窒素、亜硝酸態窒素、亜鉛、亜鉛化合物、銅、銅化合物および蒸発残留物のそれぞれが減少されることが分かった。   Therefore, by passing the tap water through the water quality improvement device 1, harmful lead, lead compound, nitrate nitrogen, nitrite nitrogen, zinc, zinc compound, copper, copper compound and evaporation contained in this tap water It was found that each of the residues was reduced.

<実施例5>
次に、上記水質改善装置1を用いた実施例5について説明する。
<Example 5>
Next, Example 5 using the water quality improvement apparatus 1 will be described.

この実施例5では、任意の旅館に設置されている浴槽22内の温泉水(原水)である浴槽水Hを循環させる循環ろ過装置などのシステム中に水質改善装置1を取り付ける前後での浴槽水Hの状態ついてそれぞれ測定した。   In the fifth embodiment, the bath water before and after mounting the water quality improvement device 1 in a system such as a circulation filtration device that circulates the bath water H that is hot spring water (raw water) in the bathtub 22 installed in an arbitrary inn. Each of the H states was measured.

Figure 2007209912
Figure 2007209912

Figure 2007209912
Figure 2007209912

この結果、表16に示すように、浴槽水Hを水質改善装置1に循環させる前の状態では、この浴槽水Hから、レジオネラ属菌(菌数)が基準値(10CFU/100mL未満)より高い120CFU/100mLほど検出された。これに対して、表17に示すように、この浴槽水Hを水質改善装置1に循環させた後の状態では、この浴槽水Hから、レジオネラ属菌(菌数)が検出されなかった(検出限界:10CFU/100mL)。   As a result, as shown in Table 16, in the state before the bath water H is circulated to the water quality improvement apparatus 1, the Legionella spp. About 120 CFU / 100 mL was detected. On the other hand, as shown in Table 17, in the state after circulating this bathtub water H to the water quality improvement apparatus 1, no Legionella spp. (The number of bacteria) was detected from this bathtub water H (detection) (Limit: 10 CFU / 100 mL).

したがって、浴槽水Hを水質改善装置1に循環させることによって、この浴槽水Hに含まれているレジオネラ属菌の菌数が低下していることから、この浴槽水H中のレジオネラ属菌の発生を抑制できるとともに、この浴槽水H中のレジオネラ属菌の増殖を抑制できることが分かった。   Therefore, since the number of Legionella bacteria contained in the bathtub water H is reduced by circulating the bathtub water H to the water quality improvement device 1, the generation of Legionella bacteria in the bathtub water H is generated. It was found that the growth of Legionella in the bath water H can be suppressed.

本発明のセラミックス粒子の製造方法の一実施の形態を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows one Embodiment of the manufacturing method of the ceramic particle | grains of this invention. 同上セラミックス粒子を備えた水質改善装置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the water quality improvement apparatus provided with ceramic particle same as the above. 同上水質改善装置の設置状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the installation state of a water quality improvement apparatus same as the above.

符号の説明Explanation of symbols

2 容器としての処理タンク
15 再焼成セラミックス粒子
W 塩素処理水としての水
2 Processing tank as a container
15 Refired ceramic particles W Water as chlorinated water

Claims (6)

ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)および鉄(Fe)の酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを主元素とし、還元可能な酸化物、水酸化物およびフッ化物の少なくともいずれかを含む岩石粉末を、1000℃以上の温度で焼成して一次焼成セラミックス粒子とし、
この一次焼成セラミックス粒子を、酸素が少ない雰囲気で500℃以上1000℃以下の温度まで昇温して再焼成セラミックス粒子にする
ことを特徴とした塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法。
Silicon (Si), aluminum (Al) and iron (Fe) oxides, hydroxides and fluorides as main elements, at least any of reducible oxides, hydroxides and fluorides The rock powder containing is fired at a temperature of 1000 ° C. or higher to form primary fired ceramic particles,
A method for producing ceramic particles for improving water quality of chlorinated water, characterized in that the primary fired ceramic particles are heated to a temperature of 500 ° C. or higher and 1000 ° C. or lower in an oxygen-poor atmosphere to obtain refired ceramic particles.
一次焼成セラミックス粒子を冷却してから再焼成セラミックス粒子にする
ことを特徴とした請求項1記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法。
The method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to claim 1, wherein the primary fired ceramic particles are cooled and then re-fired ceramic particles.
岩石粉末を焼成して直径0.5mm以上7mm以下の球形状の一次焼成セラミックス粒子にしたものを再焼成セラミックス粒子にする
ことを特徴とした請求項1または2記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法。
3. The quality of chlorinated water according to claim 1 or 2, wherein the rock powder is fired into spherical primary fired ceramic particles having a diameter of 0.5 mm or more and 7 mm or less to refire ceramic particles. Of producing ceramic particles.
酸素が少ない雰囲気として不活性ガスを注入した還元雰囲気を用いる
ことを特徴とした請求項1ないし3いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法。
The method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 3, wherein a reducing atmosphere in which an inert gas is injected is used as an atmosphere containing little oxygen.
請求項1ないし4いずれか記載の塩素処理水の水質改善用のセラミックス粒子の製造方法にて製造された複数の再焼成セラミックス粒子が入れられた容器内に、塩素処理水を通過させる
ことを特徴とした塩素処理水の水質改善方法。
The chlorinated water is allowed to pass through a container containing a plurality of refired ceramic particles produced by the method for producing ceramic particles for improving the quality of chlorinated water according to any one of claims 1 to 4. Water quality improvement method for chlorinated water.
複数の再焼成セラミックス粒子が入れられた容器内に、レジオネラ菌が残留する塩素処理水を通過させる
ことを特徴とした請求項5記載の塩素処理水の水質改善方法。
The method for improving the quality of chlorinated water according to claim 5, wherein chlorinated water in which Legionella bacteria remain is passed through a container in which a plurality of refired ceramic particles are placed.
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