JP2007207301A - Semiconductor memory device - Google Patents

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Toshiteru Yamanaka
俊輝 山中
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device capable of increasing operational performance and operational speed and also reducing current consumption by facilitating timing control and matching the timing with optimal timing in data transfer between a large-capacity memory circuit and a plurality of arithmetic operation circuits, and data transfer in each circuit. <P>SOLUTION: In the semiconductor memory device, each memory bank is provided with a plurality of local word lines connected to lines corresponding to memory cells, and a driver for driving each local word line according to a control signal transmitted through a global word line shared by the memory banks. Each global line is arranged so that loads are equal at a space where two or more local word lines arranged. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、大量の画像データを処理する画像プロセッサ等に用いられる半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device used for an image processor or the like that processes a large amount of image data.

近年、画像データ等の大量のデータを処理するために、プロセッサとメモリを同一のチップ上に搭載し、専用の処理システムとして高速に処理を行う半導体装置が用いられている。なかでもSIMD(Single Instruction Multiple Data)方式のプロセッサは、同一チップ上に搭載したメモリ回路と複数の演算回路とを1つの命令で並列に動作させ、これを繰り返し実行することによって様々な画像処理を実現している。   In recent years, in order to process a large amount of data such as image data, a semiconductor device that uses a processor and a memory on the same chip and performs high-speed processing as a dedicated processing system has been used. In particular, a SIMD (Single Instruction Multiple Data) processor operates a memory circuit and a plurality of arithmetic circuits mounted on the same chip in parallel with one instruction, and performs various image processing by repeatedly executing this. Realized.

このように大量のデータを処理するためには、大容量のメモリ回路、およびそれらのデータを処理する複数の演算回路が必要となる。大容量のメモリ回路においては、1本のワードラインに多数のメモリセルが接続されるとワードラインの負荷が非常に大きくなってしまうことから、負荷を軽減するために、メモリセルアレイを小規模なメモリブロック((以下、「メモリバンク」という。)に分割する方法が用いられている。この方法では、メモリセルアレイを複数のメモリバンクに分割し、それらのメモリバンクを複数のグローバルワードラインによって接続する。図5は、この方法を採用した従来の半導体記憶装置の構成例を示している。図5に示されるように、各メモリバンク102は、複数のグローバルワードラインGWL0〜GWLm(mは正の整数)によって接続されている。また、各メモリバンク102には、メモリセルの各行毎にローカルワードラインWL0〜WLmがそれぞれ配置されている。図5に示された構成例では、1本のグローバルワードラインに対して、1本のローカルワードラインが対応している。このような構成において、例えばローカルワードラインWL0に接続されたメモリセル(ビットセル)を駆動する場合には、デコーダ(図示せず)から出力された所定の制御信号を対応するグローバルワードラインGWL0によって各メモリバンク102にそれぞれ伝送し、各メモリバンク102におけるローカルワードラインWL0を活性化させていた。これは、他のローカルワードラインWL1〜WLmについても同様である。   In order to process such a large amount of data, a large-capacity memory circuit and a plurality of arithmetic circuits for processing the data are required. In a large-capacity memory circuit, if a large number of memory cells are connected to one word line, the load on the word line becomes very large. A method of dividing memory blocks (hereinafter referred to as “memory banks”) is used, in which a memory cell array is divided into a plurality of memory banks and these memory banks are connected by a plurality of global word lines. 5 shows a configuration example of a conventional semiconductor memory device employing this method, as shown in FIG. 5, each memory bank 102 includes a plurality of global word lines GWL0 to GWLm (m is a positive number). In addition, each memory bank 102 has a local word line W for each row of memory cells. 5, each local word line corresponds to one global word line in the configuration example shown in FIG. When driving a memory cell (bit cell) connected to the word line WL0, a predetermined control signal output from a decoder (not shown) is transmitted to each memory bank 102 by the corresponding global word line GWL0, The local word line WL0 in each memory bank 102 is activated, and the same applies to the other local word lines WL1 to WLm.

図5に示された構成例において、メモリセルとしてSRAM(Static RAM)が用いられる場合、近年では、セルサイズの縮小を目的として、図6(a)に示されるようなスプリットワードライン(SWL)方式のレイアウト形状が用いられ始めてきた。このビットセルの形状は、図6(b)に示されている形状と比べるとビットライン(BL)方向の長さが約1/2になっている。   In the configuration example shown in FIG. 5, when an SRAM (Static RAM) is used as a memory cell, in recent years, a split word line (SWL) as shown in FIG. System layout shapes have begun to be used. The bit cell has a length of about ½ in the bit line (BL) direction as compared with the shape shown in FIG.

一方、ビットライン方向のセルピッチが元々小さいDRAM(Dynamic RAM)のメモリセルアレイでは、複数のサブワードラインに対して1本のメインワードラインを割り当て、ビットライン方向に配置されたサブワード選択線とメインワードラインとの組み合わせによって、サブワードラインを選択する方法がよく用いられてきた。図7は、そのような方法を実現する半導体記憶装置の構成例を示している。図7に示された半導体記憶装置では、x+1(xは1以上の整数)本のサブワードラインに対して1本のメインワードラインが割り当てられている。ここで、(x+1)本のメインワードラインMWL0〜MWLxのうち任意のメインワードラインMWLk(k=0〜x)について説明すると、メインワードラインMWLkに対して(x+1)本のサブワードラインSWLk0〜SWLkxが対応しており、各サブワードラインSWLk0〜SWLkxは、ビット方向の(x+1)本のサブワード選択線SL0〜SLxに一対一で対応している。このような半導体記憶装置では、メインワードラインMWL0〜MWLxとサブワード選択線SL0〜SLxとの組み合わせによって所望のサブワードラインを選択し、そのサブワードラインに接続されているビットセルを駆動していた。   On the other hand, in a DRAM (Dynamic RAM) memory cell array in which the cell pitch in the bit line direction is originally small, one main word line is assigned to a plurality of sub word lines, and sub word selection lines and main word lines arranged in the bit line direction. A method of selecting a sub-word line by combining with is often used. FIG. 7 shows a configuration example of a semiconductor memory device that realizes such a method. In the semiconductor memory device shown in FIG. 7, one main word line is assigned to x + 1 (x is an integer of 1 or more) sub word lines. Here, an arbitrary main word line MWLk (k = 0 to x) among (x + 1) main word lines MWL0 to MWLx will be described. (X + 1) sub word lines SWLk0 to SWLkx with respect to the main word line MWLk. Each of the sub word lines SWLk0 to SWLkx has a one-to-one correspondence with (x + 1) sub word selection lines SL0 to SLx in the bit direction. In such a semiconductor memory device, a desired sub word line is selected by a combination of main word lines MWL0 to MWLx and sub word selection lines SL0 to SLx, and a bit cell connected to the sub word line is driven.

なお、従来の半導体記憶装置には、サブワード線を駆動するサブワードドライバの面積を縮小するために、非選択サブワード線をLレベルに抑えておくためのトランジスタを2つのサブワードドライバで共有するものがあった(例えば、特許文献1参照。)。   In some conventional semiconductor memory devices, two subword drivers share a transistor for keeping an unselected subword line at an L level in order to reduce the area of the subword driver that drives the subword line. (For example, refer to Patent Document 1).

また、従来の別の半導体記憶装置には、チップの長辺と短辺の比を小さくすることにより、信号遅延を減少させて動作の高速化を図るものがあった(例えば、特許文献2参照。)。   In another conventional semiconductor memory device, there is a device that speeds up an operation by reducing a signal delay by reducing a ratio of a long side to a short side of a chip (see, for example, Patent Document 2). .)

さらに、従来の別の半導体記憶装置には、サブワード選択信号を2つの信号に分け、各信号に応じて通電される回路部分を区分することにより、各信号に加わる負荷を分散させて、サブワード選択線の負荷を軽減するものがあった(例えば、特許文献3参照。)。   Furthermore, in another conventional semiconductor memory device, a subword selection signal is divided into two signals, and a circuit portion to be energized according to each signal is divided to distribute the load applied to each signal, thereby selecting a subword. Some have reduced the load on the wire (for example, see Patent Document 3).

さらに、従来の別の半導体記憶装置には、ノイズ耐性を向上させるために、ノイズに対して動作不良を起こしやすいデータ読み出し用のデータ線である出力用データ線を、リード状態やデータ保持状態には動作を行わないように設定したデータ書き込み用のデータ線である入力用データ線でシールドするものがあった(例えば、特許文献4参照。)。
特開2000−187978号公報 特開2001−060671号公報 特開2004−071023号公報 特開2004−247566号公報
Furthermore, in another conventional semiconductor memory device, in order to improve noise resistance, an output data line, which is a data read data line that is likely to cause a malfunction due to noise, is placed in a read state or a data holding state. In some cases, there is a shield with an input data line which is a data write data line set so as not to perform the operation (see, for example, Patent Document 4).
JP 2000-187978 A JP 2001-060671 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-071023 JP 2004-247666 A

しかし、近年では、画像データを処理する画像プロセッサ等において同時処理を行うプロセッサエレメント(PE)の数はどんどん増加しており、グローバルワードラインの配線抵抗が、動作性能に影響を及ぼす重要な問題となってきた。すなわち、配線抵抗が大きくなると配線遅延が増大し、直接的な配線遅延によって動作速度に影響がでるだけでなく、製造プロセスのばらつきからくる制御信号間のタイミング変動の影響もより顕著にでるという問題が生じていた。例えば、図5に示されるような構成では、メモリバンク毎に制御信号を増幅するバッファ等を備えたドライバを配置する必要があるためにグローバルワードラインの配線長が長くなり、配線抵抗の増大を招いていた。さらに、近年採用され始めた図6(a)のビットセルの形状は、図6(b)に示されている形状と比べるとビットライン(BL)方向の長さが約1/2になる一方、ワードライン(WL)方向の長さがその分長くなってしまうことから、ワードライン方向の配線抵抗が大きくなってしまうという問題があった。特に、高速動作を目的とするプロセッサで用いられるSRAMのメモリ回路では、DRAMのメモリ回路に比べてセルサイズが大きいため、ワードライン方向の配線抵抗はより大きな問題であった。   However, in recent years, the number of processor elements (PE) that perform simultaneous processing in image processors that process image data has been increasing, and the wiring resistance of global word lines is an important issue that affects operating performance. It has become. In other words, as the wiring resistance increases, the wiring delay increases, and not only the operation speed is affected by the direct wiring delay, but also the influence of the timing variation between the control signals due to the variation in the manufacturing process becomes more prominent. Has occurred. For example, in the configuration as shown in FIG. 5, it is necessary to arrange a driver having a buffer for amplifying a control signal for each memory bank, so that the global word line length becomes long and wiring resistance increases. I was invited. Further, the shape of the bit cell of FIG. 6A, which has recently been adopted, has a length in the bit line (BL) direction of about 1/2 compared to the shape shown in FIG. Since the length in the word line (WL) direction is increased accordingly, there is a problem that the wiring resistance in the word line direction is increased. In particular, an SRAM memory circuit used in a processor intended for high-speed operation has a larger cell size than a DRAM memory circuit, so that the wiring resistance in the word line direction is a greater problem.

グローバルワードラインの配線抵抗を軽減するには、配線幅を広くすることが考えられるが、図6(a)に示されている形状は、BL方向が縮小されるために、ワードラインの幅を広くすることに限界があり、さらに、BL方向が狭ピッチになることによって、配線容量までもが増大してしまうという問題があった。図6(b)に示されるようなメモリセル構造においてワードラインの配線抵抗を軽減するには、配線幅を広くすることで問題を回避できていたが、図6(a)に示されたメモリセル構造ではワードラインの幅を太くすることさえも困難であるという問題があった。   In order to reduce the wiring resistance of the global word line, it is conceivable to widen the wiring width. However, the shape shown in FIG. 6A is reduced in the BL direction. There is a limit to widening, and further, there is a problem that the wiring capacity is increased due to the narrow pitch in the BL direction. In order to reduce the wiring resistance of the word line in the memory cell structure as shown in FIG. 6B, the problem can be avoided by widening the wiring width. However, the memory shown in FIG. In the cell structure, there is a problem that it is difficult to even increase the width of the word line.

図7に示されたメモリセルアレイは、サブワード選択線SL0〜SLxを用いるために、ワードライン方向の配線負荷は低減されるが、サブワード選択線SL0〜SLxの配線負荷が大きい場合等にサブワード選択線SL0〜SLx側に配線遅延による選択時間のばらつきが生じる場合があった。そのような場合には、メインワードラインMWL0〜MWLxが全てのサブワード選択線SL0〜SLxの活性及び非活性の確定を待って選択されなければならなかった。この確定時間は半導体記憶装置の動作周波数に影響を及ぼし、確定時間が長い場合にはワードライン方向とビットライン方向の各信号線に対するタイミング調整を行う必要が生じる。よって、図7に示された構成例を高速動作が要求される画像プロセッサ等に応用することは困難であった。   Since the memory cell array shown in FIG. 7 uses the sub word selection lines SL0 to SLx, the wiring load in the word line direction is reduced. However, when the wiring load of the sub word selection lines SL0 to SLx is large, the sub word selection line In some cases, variations in selection time due to wiring delay occur on the SL0 to SLx side. In such a case, the main word lines MWL0 to MWLx must be selected after the activation and deactivation of all the sub word selection lines SL0 to SLx are determined. This fixed time affects the operating frequency of the semiconductor memory device. When the fixed time is long, it is necessary to adjust the timing for each signal line in the word line direction and the bit line direction. Therefore, it has been difficult to apply the configuration example shown in FIG. 7 to an image processor or the like that requires high-speed operation.

半導体記憶装置をSIMD方式のプロセッサに応用する場合には、決められた数のデータを一度に処理する必要があることから、ワードライン方向の負荷を軽減させると同時に、メモリ回路を制御する各制御線の動作タイミングを一致させることが要求される。各制御線の動作タイミングが一致していないと、メモリ回路において読み出しや書き込みに遅れが生じ、動作周波数が遅くなるだけでなく、メモリ回路に不要な消費電流を流す原因となる。また、データを処理する演算回路についても同様のことがいえる。すなわち、大量のデータを同時処理するために、複数の演算回路を制御する信号を、メモリ回路を制御する信号、例えば各グローバルワードラインによって伝送される信号と同期させなければならない。演算回路及びメモリ回路の各制御線の動作タイミングが一致しない場合には、演算回路についても高速動作を妨げるだけでなく、不要な消費電流を流す原因となる。従来の半導体記憶装置は、このように動作タイミングを一致させることが困難であるという課題があった。   When a semiconductor memory device is applied to a SIMD processor, it is necessary to process a predetermined number of data at a time. Therefore, each control for controlling the memory circuit is simultaneously performed while reducing the load in the word line direction. It is required to match the operation timing of the lines. If the operation timings of the respective control lines do not coincide with each other, a delay occurs in reading and writing in the memory circuit, which not only slows the operating frequency but also causes unnecessary current consumption to flow in the memory circuit. The same applies to arithmetic circuits that process data. That is, in order to process a large amount of data simultaneously, a signal for controlling a plurality of arithmetic circuits must be synchronized with a signal for controlling a memory circuit, for example, a signal transmitted by each global word line. If the operation timings of the control lines of the arithmetic circuit and the memory circuit do not match, not only the high-speed operation of the arithmetic circuit is disturbed but also an unnecessary current consumption is caused to flow. The conventional semiconductor memory device has a problem that it is difficult to match the operation timing in this way.

ちなみに、メモリ回路と演算回路の同期設計を行う方法としては、小容量のメモリ回路を複数搭載することも考えられるが、各メモリ回路に制御回路が必要となり、チップサイズは大きなものになるという問題が生じる。また、そのような場合において、同期クロックが入力された後、アドレスがデコードされ、データの入出力が行われるとなると、データのアクセスタイム自体が長くなるという問題が生じる。このように同期クロックの周期に対してデータの遅延時間が長い場合には制御が困難になり、メモリアクセスをパイプライン化するなどの対策をとる必要がある。さらに、ビットライン方向にも制御信号が伝播するとなると、ビットライン方向の信号間によるスキューも問題となる。   By the way, as a method of performing synchronous design of the memory circuit and the arithmetic circuit, it may be possible to mount a plurality of small-capacity memory circuits, but each memory circuit requires a control circuit, which increases the chip size. Occurs. In such a case, when the address is decoded and data is input / output after the synchronous clock is input, there arises a problem that the data access time itself becomes long. Thus, when the data delay time is long with respect to the period of the synchronous clock, control becomes difficult, and it is necessary to take measures such as pipelining memory access. Further, when the control signal propagates in the bit line direction, skew caused by signals in the bit line direction becomes a problem.

本発明は、上記課題を解決するものであり、大容量のメモリ回路と複数の演算回路との間のデータのやり取り、及び各回路内でのデータ転送において、タイミング制御を容易にすると共に、そのタイミングを最適なタイミングで一致させることにより、動作性能および動作速度を向上させるだけでなく、消費電流の低減をも実現することが可能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described problem, and facilitates timing control in the exchange of data between a large-capacity memory circuit and a plurality of arithmetic circuits, and the data transfer in each circuit. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can realize not only improvement in operation performance and operation speed but also reduction in current consumption by matching the timing at an optimum timing.

本発明に係る半導体記憶装置は、行列状に配置された複数のメモリセルからなるメモリセルアレイを分割してなる複数のメモリバンクと、該各メモリバンクによって共有され、該各メモリバンクに所定の制御信号をそれぞれ伝送する複数のグローバルワードラインとを備えている。前記の各メモリバンクは、前記のメモリセルの対応する各行にそれぞれ接続された複数のローカルワードラインと、前記の制御信号に応じて該各ローカルワードラインをそれぞれ駆動するドライバとをそれぞれ備えている。前記の各グローバルワードラインは、2以上の前記のローカルワードラインが配置可能な間隔で、負荷が等しくなるようにそれぞれ配置される。以下、この半導体記憶装置を、「第1の半導体記憶装置」という。   A semiconductor memory device according to the present invention includes a plurality of memory banks formed by dividing a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix, and is shared by each memory bank, and each memory bank has a predetermined control. And a plurality of global word lines for transmitting signals. Each memory bank includes a plurality of local word lines connected to each corresponding row of the memory cells, and a driver that drives each local word line in response to the control signal. . Each of the global word lines is arranged at an interval where two or more of the local word lines can be arranged so that loads are equal. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “first semiconductor memory device”.

好ましくは、第1の半導体記憶装置において、前記の各グローバルワードラインは、前記のメモリセルアレイの列方向に等しい間隔で配置される。以下、この半導体記憶装置を、「第2の半導体記憶装置」という。   Preferably, in the first semiconductor memory device, the global word lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “second semiconductor memory device”.

好ましくは、第2の半導体記憶装置は、前記の各メモリバンクに対してデータの入出力をそれぞれ行う複数の入出力回路と、前記の各入出力回路によって共通に接続され、該各入出力回路に入出力制御信号をそれぞれ伝送するグローバル制御ラインとを備える。前記のグローバル制御ラインは、前記の各グローバルワードラインと負荷が等しくなるように配置される。以下、この半導体記憶装置を、「第3の半導体記憶装置」という。   Preferably, the second semiconductor memory device is connected in common by a plurality of input / output circuits that respectively input / output data to / from each memory bank, and the input / output circuits. And a global control line for transmitting input / output control signals. The global control line is arranged so that the load is equal to each global word line. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “third semiconductor memory device”.

好ましくは、第3の半導体記憶装置において、前記の各グローバルワードライン及びグローバル制御ラインは、前記のメモリセルアレイの列方向において、等しい間隔で配置される。以下、この半導体記憶装置を、「第4の半導体記憶装置」という。   Preferably, in the third semiconductor memory device, the global word lines and the global control lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “fourth semiconductor memory device”.

好ましくは、第3又は第4の半導体記憶装置において、前記のメモリセルアレイは、複数のダミーセルを備える。前記のグローバル制御ラインは、前記のグローバルワードラインの前記のメモリセルに対する配置関係と同一の関係を有するように、該各ダミーセルに対して配置される。以下、この半導体記憶装置を、「第5の半導体記憶装置」という。   Preferably, in the third or fourth semiconductor memory device, the memory cell array includes a plurality of dummy cells. The global control line is arranged for each dummy cell so as to have the same relation as the arrangement relation of the global word line to the memory cell. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “fifth semiconductor memory device”.

好ましくは、第1から第5のいずれかの半導体記憶装置において、前記の各グローバルワードラインの間に少なくとも1つのシールドラインを配置する。以下、この半導体記憶装置を、「第6の半導体記憶装置」という。   Preferably, in any of the first to fifth semiconductor memory devices, at least one shield line is disposed between each of the global word lines. Hereinafter, this semiconductor memory device is referred to as a “sixth semiconductor memory device”.

好ましくは、第6の半導体記憶装置において、前記の各グローバルワードライン及びシールドラインは、前記のメモリセルアレイの列方向に等しい間隔で配置される。   Preferably, in the sixth semiconductor memory device, the global word lines and the shield lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array.

本発明による半導体記憶装置によれば、各メモリバンクが、メモリセルの対応する各行にそれぞれ接続された複数のローカルワードラインと、各メモリバンクによって共有されているグローバルワードラインによって伝送された制御信号に応じて該各ローカルワードラインをそれぞれ駆動するドライバとをそれぞれ備えており、各グローバルワードラインは、2以上のローカルワードラインが配置可能な間隔で、負荷が等しくなるようにそれぞれ配置されているので、高速動作に影響を及ぼすワードライン方向の配線負荷を軽減すると同時に、同一方向のグローバルワードラインのみで各回路を同期させて動作させることができることから、動作タイミングの制御が容易にできるだけでなく、不要な動作マージンを確保する必要がないために高速化が可能になる。また、半導体装記憶置を最適な動作タイミングで動作させることができるので不要な消費電流を省くことも可能となる。   According to the semiconductor memory device of the present invention, each memory bank has a plurality of local word lines connected to each corresponding row of memory cells and a control signal transmitted by a global word line shared by each memory bank. And a driver for driving the local word lines, respectively, and the global word lines are arranged at equal intervals so that two or more local word lines can be arranged. Therefore, it is possible not only to reduce the wiring load in the word line direction, which affects high-speed operation, but also to operate each circuit in synchronization with only the global word line in the same direction. Because there is no need to secure an unnecessary operating margin Speed up becomes possible. In addition, since the semiconductor device memory device can be operated at an optimum operation timing, unnecessary current consumption can be omitted.

以下に、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の構成例を示している。図1に示されるように、本実施の形態1による半導体記憶装置は、複数のメモリバンク2と、複数の入出力回路(以下、「I/O回路」という。)3と、複数の演算回路4と、デコーダ5とを備えている。各メモリバンク2は、グローバルラインGL0〜GLn(nは正の整数)によって接続されている。また、各I/O回路3及び各演算回路4は、対応する各グローバルラインGL(n+1)及びGL(n+2)によってそれぞれ接続されている。各グローバルラインGL0〜GL(n+2)は、デコーダ5にそれぞれ接続されている。各演算回路4は、対応する各メモリバンク2に記憶されているデータをそれぞれ処理し、I/O回路3は、対応する各メモリバンク2にデータをそれぞれ入出力する。デコーダ5は、グローバルラインGL0〜GL(n+2)を介して、各メモリバンク2、各I/O回路3、及び各演算回路4に制御信号を供給する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows a configuration example of a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device according to the first embodiment includes a plurality of memory banks 2, a plurality of input / output circuits (hereinafter referred to as “I / O circuits”) 3, and a plurality of arithmetic circuits. 4 and a decoder 5. Each memory bank 2 is connected by global lines GL0 to GLn (n is a positive integer). Each I / O circuit 3 and each arithmetic circuit 4 are connected by corresponding global lines GL (n + 1) and GL (n + 2), respectively. The global lines GL0 to GL (n + 2) are connected to the decoder 5, respectively. Each arithmetic circuit 4 processes data stored in each corresponding memory bank 2, and the I / O circuit 3 inputs and outputs data to each corresponding memory bank 2. The decoder 5 supplies a control signal to each memory bank 2, each I / O circuit 3, and each arithmetic circuit 4 via the global lines GL0 to GL (n + 2).

以下に、メモリバンク2の構成について詳細に説明する。図2は、1ブロックのメモリバンク2の構成例を示した回路図である。このメモリバンク2の構成例は、SIMD方式の画像プロセッサのような大容量のデータを同時に並列処理する場合に用いられる。図2に示されるように、メモリバンク2は、行列状に配置された複数の1ビットメモリセル(図2では「bit cell」と記載されている。)を有する。また、メモリバンク2は、対応する各行のメモリセルにそれぞれ接続された複数のローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33と、各ローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33をそれぞれ駆動するローカルワードラインドライバ(以下、単に「ローカルドライバ」という。)とを備えている。このローカルドライバは、複数のNAND回路Ndとインバータ回路Ivとから構成されている。さらに、メモリバンク2には、8本のグローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3と1本のグローバル制御ラインGRENとからなる9本のグローバルラインが接続されている。このグローバル制御ラインGRENは、I/O回路3に接続された読み出し制御用のグローバルラインである。ここで、半導体記憶装置1は、階層化構造であり、グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3,GRENとローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33が異なる配線層に配置されてもよい。なお、図2に示されたメモリバンク2の構成例は、図1においてn=8とした場合の構成例である。図2に示されたグローバル制御ラインGRENの配置は図1とは一致しないが、I/O回路3の配置に応じて図2に示された構成例も可能であり、また、そのように構成した場合に新たな効果が生じることから、以下では図2に示された構成例に基づいて説明する。   Hereinafter, the configuration of the memory bank 2 will be described in detail. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration example of the memory bank 2 of one block. This configuration example of the memory bank 2 is used when a large amount of data such as a SIMD image processor is simultaneously processed in parallel. As shown in FIG. 2, the memory bank 2 has a plurality of 1-bit memory cells (described as “bit cells” in FIG. 2) arranged in a matrix. The memory bank 2 includes a plurality of local word lines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, LWL20 to LWL23, LWL30 to LWL33, and local word lines LWL00 to LWL03, LWL10, respectively connected to the corresponding memory cells in each row. And local word line drivers (hereinafter simply referred to as “local drivers”) for driving LWL13, LWL20 to LWL23, and LWL30 to LWL33, respectively. This local driver includes a plurality of NAND circuits Nd and an inverter circuit Iv. Further, nine global lines including eight global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3 and one global control line GREN are connected to the memory bank 2. The global control line GREN is a global line for read control connected to the I / O circuit 3. Here, the semiconductor memory device 1 has a hierarchical structure, and the global word lines GWLA0 to GWLA3, GWLB0 to GWLB3, and GREN and local word lines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, LWL20 to LWL23, and LWL30 to LWL33 are different wiring layers. May be arranged. The configuration example of the memory bank 2 shown in FIG. 2 is a configuration example when n = 8 in FIG. Although the arrangement of the global control lines GREN shown in FIG. 2 does not match that of FIG. 1, the configuration example shown in FIG. 2 is possible depending on the arrangement of the I / O circuit 3, and such a configuration is also possible. In this case, since a new effect is produced, the following description is based on the configuration example shown in FIG.

図2に示されるように、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3は、グローバルワードラインGWLB3,GWLB2,GWLA3,GWLA2,GWLB1,GWLB0,GWLA1,GWLA0の順に等間隔に配置されている。そして、グローバルワードラインGWLB3に関して、グローバルワードラインGWLB2と反対側にローカルワードラインLWL33が配置され、各グローバルワードラインGWLB3,GWLB2の間に2本のローカルワードラインLWL32,LWL23がそれぞれ配置されている。また、各グローバルワードラインGWLB2,GWLA3の間に2本のローカルワードラインLWL22,LWL13がそれぞれ配置され、各グローバルワードラインGWLA3,GWLA2の間に2本のローカルワードラインLWL12,LWL03がそれぞれ配置され、各グローバルワードラインGWLA2,GWLB1の間に2本のローカルワードラインLWL02,LWL31がそれぞれ配置されている。さらに、各グローバルワードラインGWLB1,GWLB0の間に2本のローカルワードラインLWL30,LWL21がそれぞれ配置され、各グローバルワードラインGWLB0,GWLA1の間に2本のローカルワードラインLWL20,LWL11がそれぞれ配置され、各グローバルワードラインGWLA1,GWLA0の間に2本のローカルワードラインLWL10,LWL01がそれぞれ配置され、グローバルワードラインGWLA0に関してグローバルワードラインGWLA1と反対側にローカルワードラインLWL00が配置されている。   As shown in FIG. 2, the global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3 are arranged at equal intervals in the order of the global word lines GWLB3, GWLB2, GWLA3, GWLA2, GWLB1, GWLB0, GWLA1, and GWLA0. With respect to the global word line GWLB3, a local word line LWL33 is arranged on the opposite side of the global word line GWLB2, and two local word lines LWL32 and LWL23 are arranged between the global word lines GWLB3 and GWLB2, respectively. In addition, two local word lines LWL22 and LWL13 are arranged between the global word lines GWLB2 and GWLA3, respectively, and two local word lines LWL12 and LWL03 are arranged between the global word lines GWLA3 and GWLA2, respectively. Two local word lines LWL02 and LWL31 are arranged between the global word lines GWLA2 and GWLB1, respectively. Further, two local word lines LWL30 and LWL21 are respectively arranged between the global word lines GWLB1 and GWLB0, and two local word lines LWL20 and LWL11 are respectively arranged between the global word lines GWLB0 and GWLA1, Two local word lines LWL10 and LWL01 are arranged between each global word line GWLA1 and GWLA0, and a local word line LWL00 is arranged on the opposite side of the global word line GWLA0 from the global word line GWLA1.

各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3は、デコーダ5から出力された所定の制御信号を各メモリバンク2にそれぞれ伝送する。ローカルドライバは、伝送された制御信号に基づいて特定のローカルワードラインを活性化する。このとき、活性化されているローカルワードラインに接続されたメモリセルに対してデータの入出力等の動作が行われる。   Each of the global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3 transmits a predetermined control signal output from the decoder 5 to each memory bank 2. The local driver activates a specific local word line based on the transmitted control signal. At this time, operations such as data input / output are performed on the memory cells connected to the activated local word line.

以下に、メモリバンク2の動作を詳細に説明する。ここで、全てのローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33の構成及び動作は同一であるので、任意のローカルワードラインをLWLpq(p=0〜3,q=0〜3)として説明すると、ローカルワードラインLWLpqには、ローカルドライバにおける1つのNAND回路Ndと1つのインバータ回路Ivとが対応している。ここで、ローカルワードラインLWLpqに接続されたNAND回路及びインバータ回路をそれぞれNdpq及びIvpqとして説明すると、NAND回路Ndpqの2つの入力端は、2つのグローバルワードラインGWLAp,GWLBqに接続されている。この場合に、2つのグローバルワードラインGWLAp,GWLBqが選択されると、すなわち、デコーダ5から2つのグローバルワードラインGWLAp,GWLBqに所定の制御信号が出力されると、NAND回路Ndpqは、インバータ回路Ivpqに所定の信号を出力する。インバータ回路Ivpqは、NAND回路Ndpqから上記信号が出力されると、その信号を反転してローカルワードラインLWLpqに出力し、これによって、ローカルワードラインLWLpqは活性化される。   Hereinafter, the operation of the memory bank 2 will be described in detail. Here, since all the local word lines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, LWL20 to LWL23, and LWL30 to LWL33 have the same configuration and operation, any local word line can be connected to LWLpq (p = 0 to 3, q = 0). -3), the local word line LWLpq corresponds to one NAND circuit Nd and one inverter circuit Iv in the local driver. Here, when the NAND circuit and the inverter circuit connected to the local word line LWLpq are described as Ndpq and Ivpq, respectively, two input ends of the NAND circuit Ndpq are connected to two global word lines GWLAp and GWLBq. In this case, when the two global word lines GWLAp and GWLBq are selected, that is, when a predetermined control signal is output from the decoder 5 to the two global word lines GWLAp and GWLBq, the NAND circuit Ndpq outputs the inverter circuit Ivpq. To output a predetermined signal. When the above signal is output from the NAND circuit Ndpq, the inverter circuit Ivpq inverts the signal and outputs it to the local word line LWLpq, whereby the local word line LWLpq is activated.

上述したように、図2に示された構成例では、グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3の中から1つ、グローバルワードラインGWLB0〜GWLB3の中から1つをそれぞれ選択することにより、1本のローカルワードラインを選択することができる。例えばローカルワードラインLWL00を選択するには、2つのグローバルワードラインGWLA0,GWLB0を、ローカルワードラインLWL33を選択するには、2つのグローバルワードラインGWLA3,GWLB3をそれぞれ選択すればよい。このように、2つのグローバルワードラインの組み合わせを選択することにより、16本のローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33のうちの1本を選択することができる。   As described above, in the configuration example shown in FIG. 2, one local word is selected by selecting one of the global word lines GWLA0 to GWLA3 and one of the global word lines GWLB0 to GWLB3. A line can be selected. For example, two global word lines GWLA0 and GWLB0 may be selected to select the local word line LWL00, and two global word lines GWLA3 and GWLB3 may be selected to select the local word line LWL33. Thus, by selecting a combination of two global word lines, one of the 16 local word lines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, LWL20 to LWL23, and LWL30 to LWL33 can be selected.

一般に、図2に示されたような構成で各NAND回路がそれぞれ2入力であれば、2×j(jは正の整数)本のグローバルワードラインで、j本のローカルワードラインを駆動することができる。図2に示された構成例は、j=4の場合であり、8本のグローバルワードラインを用いて16本のローカルワードラインを駆動することができる。図2に示された構成例によれば、1本のグローバルワードラインに対して2本のローカルワードラインが対応している。これにより、グローバルワードラインの配線ピッチは従来の2倍になるため、各グローバルワードラインの配線抵抗を大幅に削減することができる。また、図2に示された構成例によれば、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3が等負荷になるように配置されているので、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3によって伝送される信号間のタイミング制御が容易になる。 In general, if each NAND circuit has two inputs in the configuration as shown in FIG. 2, 2 × j (j is a positive integer) global word lines drive j 2 local word lines. be able to. In the configuration example shown in FIG. 2, j = 4, and 16 local word lines can be driven using 8 global word lines. According to the configuration example shown in FIG. 2, two local word lines correspond to one global word line. As a result, the wiring pitch of the global word lines is twice that of the prior art, and the wiring resistance of each global word line can be greatly reduced. Further, according to the configuration example shown in FIG. 2, the global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3 are arranged so as to have an equal load. Timing control between transmitted signals is facilitated.

また、図2に示された構成例によれば、ビット方向の選択線を用いることなく、ワード方向のグローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3のみでローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33を選択することがきる。よって、ビット方向の選択線に対するタイミングの規定が不要になり、メモリ回路の高速動作が可能になると共に、演算回路等の周辺回路との同期タイミングの最適化も容易となる。   2, the local word lines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, only the global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3 in the word direction without using the selection line in the bit direction. LWL20 to LWL23 and LWL30 to LWL33 can be selected. Therefore, it is not necessary to define the timing for the selection line in the bit direction, the memory circuit can be operated at high speed, and the synchronization timing with peripheral circuits such as arithmetic circuits can be easily optimized.

さらに、図2に示された構成例では、グローバル制御ラインGRENが、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3と等しい間隔で配置されている。また、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3及び各ローカルワードラインLWL00〜LWL03,LWL10〜LWL13,LWL20〜LWL23,LWL30〜LWL33に対してメモリセルがそれぞれ配置されているレイアウトと同じレイアウトで、グローバル制御ラインGREN及びローカル制御ラインLRENに対してダミーセル(図2では、「dummy cell」と記載されている。)が配置されている。これにより、グローバル制御ラインGRENは、各グローバルワードラインと負荷が等しくなる。従って、グローバルワードラインとグローバル制御ラインの動作タイミングを一致させることが容易になり、メモリ回路と演算回路等の周辺回路との同期タイミングの最適化が容易となる。   Further, in the configuration example shown in FIG. 2, the global control lines GREN are arranged at equal intervals to the global word lines GWLA0 to GWLA3 and GWLB0 to GWLB3. Further, the layout is the same as the layout in which the memory cells are arranged for each of the global word lines GWLA0 to GWLA3, GWLB0 to GWLB3 and the local wordlines LWL00 to LWL03, LWL10 to LWL13, LWL20 to LWL23, LWL30 to LWL33, Dummy cells (indicated as “dummy cell” in FIG. 2) are arranged for the global control line GREN and the local control line LREN. As a result, the global control line GREN has the same load as each global word line. Accordingly, it becomes easy to match the operation timings of the global word line and the global control line, and the synchronization timing between the memory circuit and the peripheral circuit such as the arithmetic circuit can be easily optimized.

また、本実施の形態1による半導体記憶装置では、各メモリバンク2において、2入力のNAND回路Ndを用いてローカルドライバを構成したが、3以上の入力端を有するNAND回路を用いてローカルドライバを構成してもよい。例えば、ローカルドライバを構成するNAND回路が3入力であれば、3×j本のグローバルワードラインで、j本のローカルワードラインを駆動することができ、4入力であれば、4×j本のグローバルワードラインで、j本のローカルワードラインを駆動することができる。これらの場合、1本のローカルワードラインを選択するために、NAND回路が3入力であれば3本のグローバルワードラインが選択され、4入力であれば4本のグローバルワードラインが選択されるのは言うまでもない。 Further, in the semiconductor memory device according to the first embodiment, the local driver is configured using the NAND circuit Nd having two inputs in each memory bank 2, but the local driver is configured using a NAND circuit having three or more input terminals. It may be configured. For example, if the NAND circuit constituting the local driver has 3 inputs, j 3 local word lines can be driven by 3 × j global word lines, and 4 × j if 4 inputs. in the global word line, it is possible to drive the local word lines j 4 present. In these cases, in order to select one local word line, if the NAND circuit has 3 inputs, 3 global word lines are selected, and if 4 inputs, 4 global word lines are selected. Needless to say.

また、図2に示された構成例では、グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3とグローバルワードラインGWLB0〜GWLB3とが混在して配置されているが、デコーダ5側の回路配置により、各グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3,GWLB0〜GWLB3の配置場所は自由に設定できる。例えば、回路設計および回路解析の容易化のために、グローバルワードラインGWLA0〜GWLA3とグローバルワードラインGWLB0〜GWLB3とをそれぞれまとめて配置してもよい。但し、図2に示されているように配置すれば、グローバルワードラインからローカルドライバまでの配線長をより短く、かつ均等な長さで配置することができる。   In the configuration example shown in FIG. 2, the global word lines GWLA0 to GWLA3 and the global word lines GWLB0 to GWLB3 are mixedly arranged, but the global word lines GWLA0 to GWLA0 are arranged by the circuit arrangement on the decoder 5 side. The location of GWLA3, GWLB0 to GWLB3 can be set freely. For example, the global word lines GWLA0 to GWLA3 and the global word lines GWLB0 to GWLB3 may be arranged together to facilitate circuit design and circuit analysis. However, if arranged as shown in FIG. 2, the wiring length from the global word line to the local driver can be made shorter and with an equal length.

なお、図2に示された構成例は、回路全体が正論理で動作している場合の構成例であるが、負論理で動作する場合には、ローカルドライバのゲート数を減らすことが可能となる。図3は、そのような場合のメモリバンク2の構成例を示している。図3に示されるように、図2の構成例における一組のNAND回路Ndとインバータ回路Ivは、1つのNOR回路Nrで置き換えられている。ただし、ローカルドライバのセル面積を縮小する目的でよく用いられるパスゲートを使った構成は、グローバルラインの配線負荷の均一化の意味から、その使用は妥当ではない。   The configuration example shown in FIG. 2 is a configuration example when the entire circuit operates with positive logic, but when operating with negative logic, the number of gates of the local driver can be reduced. Become. FIG. 3 shows a configuration example of the memory bank 2 in such a case. As shown in FIG. 3, the set of NAND circuit Nd and inverter circuit Iv in the configuration example of FIG. 2 is replaced with one NOR circuit Nr. However, the configuration using a pass gate often used for the purpose of reducing the cell area of the local driver is not appropriate for the purpose of making the wiring load of the global line uniform.

図4は、図2,3で示されたグローバルラインの配置を概略的に表した図である。図4に示されるように、グローバルワードラインGWL以外のグローバルライン、すなわち、リード用のグローバル制御ラインGRENやライト用のグローバル制御ラインGWENも、グローバルワードラインGWLと同ピッチで配置することにより、ワードラインと制御ラインとの間の同期タイミングを最適にすることができる。この場合のグローバル制御ラインGREN,GWENの負荷は、図2に示されているようにグローバルワードラインGWLの負荷と均等にすることが望ましい。   FIG. 4 is a diagram schematically showing the arrangement of the global lines shown in FIGS. As shown in FIG. 4, the global lines other than the global word line GWL, that is, the global control line GREN for reading and the global control line GWEN for writing are also arranged at the same pitch as the global word line GWL. The synchronization timing between the line and the control line can be optimized. In this case, it is desirable that the load on the global control lines GREN and GWEN is equal to the load on the global word line GWL as shown in FIG.

これらのグローバルラインは同時に複数のものが選択される可能性がある。その場合にはクロストークによる配線遅延差が生じてしまうことが考えられる。よって、その対策として、各グローバルラインの間に、グローバルラインと同層で新たな配線層を設け、グローバルライン間のシールドを行うことができる。またグローバルラインの配置により、クロストークの危険性が限定できるものに関しては、必要な部分だけにシールドを行うこともできる。   A plurality of these global lines may be selected at the same time. In that case, a wiring delay difference due to crosstalk may occur. Therefore, as a countermeasure, it is possible to provide a new wiring layer in the same layer as the global line between the global lines and shield the global lines. In addition, if the risk of crosstalk can be limited by the arrangement of global lines, it is possible to shield only the necessary parts.

上述したように、本実施の形態1の半導体記憶装置によれば、高速動作に影響を及ぼすワードライン方向の配線負荷を軽減すると同時に、同一方向のグローバルラインのみで各回路を同期させて動作させることができる。よって、各回路の動作タイミングの制御が容易になると共に、不要な動作マージンを確保する必要がないので、半導体記憶装置の動作の高速化が可能になる。また、本実施の形態1による半導体装置によれば、各回路の動作タイミングを最適なタイミングで一致させることができるため、不要な消費電流を削減ことも可能である。以上から、本実施の形態1による半導体記憶装置は、大量のデータを同時に並列処理することが必要な画像プロセッサ等の半導体集積回路に適用することができる。   As described above, according to the semiconductor memory device of the first embodiment, the wiring load in the word line direction that affects high-speed operation is reduced, and at the same time, the circuits are operated in synchronization with only the global line in the same direction. be able to. Therefore, it becomes easy to control the operation timing of each circuit and it is not necessary to secure an unnecessary operation margin, so that the operation of the semiconductor memory device can be speeded up. Further, according to the semiconductor device according to the first embodiment, the operation timings of the respective circuits can be matched at the optimum timing, so that unnecessary current consumption can be reduced. From the above, the semiconductor memory device according to the first embodiment can be applied to a semiconductor integrated circuit such as an image processor that needs to process a large amount of data simultaneously in parallel.

なお、本実施の形態1では、1ポートのSRAMについて説明してきたが、DRAM等の他のメモリ回路にも同様の説明が当てはまる。   Although the 1-port SRAM has been described in the first embodiment, the same description applies to other memory circuits such as a DRAM.

本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の構成例を示した図である。1 is a diagram showing a configuration example of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 図1に示されたメモリバンクの構成例を示した図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of a memory bank illustrated in FIG. 1. 図2に示されたメモリバンクの変形例を示した図である。FIG. 5 is a diagram showing a modification of the memory bank shown in FIG. 2. グローバルラインの配置を概略的に示した図である。It is the figure which showed arrangement | positioning of the global line schematically. 従来の半導体記憶装置の構成例を示した図である。It is the figure which showed the structural example of the conventional semiconductor memory device. 従来のメモリセルのレイアウト形状を示した図である。It is the figure which showed the layout shape of the conventional memory cell. 従来の半導体記憶装置の別の構成例を示した図である。It is the figure which showed another structural example of the conventional semiconductor memory device.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体記憶装置
2 メモリバンク
3 I/O回路
4 演算回路
5 デコーダ
GL グローバルライン
GWL グローバルワードライン
LWL ローカルワードライン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor memory device 2 Memory bank 3 I / O circuit 4 Arithmetic circuit 5 Decoder GL Global line GWL Global word line LWL Local word line

Claims (7)

行列状に配置された複数のメモリセルからなるメモリセルアレイを分割してなる複数のメモリバンクと、該各メモリバンクによって共有され、該各メモリバンクに所定の制御信号をそれぞれ伝送する複数のグローバルワードラインとを備えた半導体記憶装置において、
前記各メモリバンクは、
前記メモリセルの対応する各行にそれぞれ接続された複数のローカルワードラインと、
前記制御信号に応じて該各ローカルワードラインをそれぞれ駆動するドライバと
をそれぞれ備え、
前記各グローバルワードラインは、2以上の前記ローカルワードラインが配置可能な間隔で、負荷が等しくなるようにそれぞれ配置されることを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of memory banks formed by dividing a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix, and a plurality of global words that are shared by the memory banks and respectively transmit predetermined control signals to the memory banks. In a semiconductor memory device comprising a line,
Each memory bank is
A plurality of local word lines connected to each corresponding row of the memory cells;
A driver for driving each local word line in response to the control signal,
Each of the global word lines is arranged at an interval where two or more of the local word lines can be arranged so that the loads are equal to each other.
前記各グローバルワードラインは、前記メモリセルアレイの列方向に等しい間隔で配置されることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。   2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the global word lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array. 前記各メモリバンクに対してデータの入出力をそれぞれ行う複数の入出力回路と、
前記各入出力回路によって共通に接続され、該各入出力回路に入出力制御信号をそれぞれ伝送するグローバル制御ラインと
を備え、
前記グローバル制御ラインは、前記各グローバルワードラインと負荷が等しくなるように配置されることを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。
A plurality of input / output circuits for inputting / outputting data to / from each memory bank;
A global control line connected in common by each of the input / output circuits and transmitting an input / output control signal to each of the input / output circuits;
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the global control line is arranged so that a load is equal to each global word line.
前記各グローバルワードライン及びグローバル制御ラインは、前記メモリセルアレイの列方向において、等しい間隔で配置されることを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。   4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the global word lines and global control lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array. 前記メモリセルアレイは、複数のダミーセルを備え、
前記グローバル制御ラインは、前記グローバルワードラインの前記メモリセルに対する配置関係と同一の関係を有するように、該各ダミーセルに対して配置されることを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体記憶装置。
The memory cell array includes a plurality of dummy cells,
5. The semiconductor memory according to claim 3, wherein the global control line is arranged for each dummy cell so as to have the same relation as the arrangement relation of the global word line to the memory cell. apparatus.
前記各グローバルワードラインの間に少なくとも1つのシールドラインを配置することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の半導体記憶装置。   6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein at least one shield line is disposed between each global word line. 前記各グローバルワードライン及びシールドラインは、前記メモリセルアレイの列方向に等しい間隔で配置されることを特徴とする請求項6に記載の半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the global word lines and shield lines are arranged at equal intervals in the column direction of the memory cell array.
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