JP2007204696A - Resin composition, resin film, cover-lay film, interlayer adhesive agent, metal-clad laminate, flexible printed circuit board, and multilayered circuit board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for flexible printed circuit board free from flow out of an adhesive layer in heating/pressing, and to provide a cover-lay film obtained by coating the resin composition on a resin film and then drying, and to provide an interlayer adhesive agent obtained by coating and drying the resin composition onto a release film. <P>SOLUTION: The resin composition for flexible printed circuit board comprising an inorganic filler having 1-500 nm of average particle diameter. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂組成物、樹脂フィルム、カバーレイフィルム、層間接着剤、金属張積層板、フレキシブルプリント回路板および多層回路板に関する。   The present invention relates to a resin composition, a resin film, a coverlay film, an interlayer adhesive, a metal-clad laminate, a flexible printed circuit board, and a multilayer circuit board.

フレキシブルプリント回路板は薄く、軽く、屈曲性に優れることから、携帯電話、PDA、デジタルカメラを始めとしてモバイル機器を中心に利用されているが、近年、これら電子機器の高性能化、小型化に伴いフレキシブルプリント回路板への配線の微細化、高密度実装化、耐屈曲性などがますます要求されてきている。   Because flexible printed circuit boards are thin, light, and have excellent flexibility, they are used mainly in mobile devices such as mobile phones, PDAs, and digital cameras. In recent years, these electronic devices have been improved in performance and size. Along with this, miniaturization of wiring on flexible printed circuit boards, high density mounting, and bending resistance are increasingly required.

また、環境対応問題より鉛を含まない鉛フリーはんだを用いる実装も増えつつあり、今後は主流となってくることが予想される。鉛フリーはんだを用いての実装では、実装温度が通常のはんだに比べ15〜20℃高く、これに伴いフレキシブルプリント回路板も従来以上の高耐熱性、高寸法安定性が求められている。   Moreover, mounting using lead-free solder that does not contain lead is increasing due to environmental issues, and it is expected that it will become mainstream in the future. In mounting using lead-free solder, the mounting temperature is 15 to 20 ° C. higher than that of normal solder, and accordingly, the flexible printed circuit board is required to have higher heat resistance and higher dimensional stability than ever before.

また、難燃剤としてもハロゲンを含まないことが要求されている。従来の難燃性接着剤としては臭素化エポキシ樹脂を使用するのが一般的であったが(例えば特許文献1)、燃焼時にダイオキシンの発生が懸念され、ハロゲンフリー材料が求められている。   Moreover, it is requested | required that a halogen is not included as a flame retardant. As a conventional flame retardant adhesive, a brominated epoxy resin is generally used (for example, Patent Document 1). However, there is a concern about generation of dioxin during combustion, and a halogen-free material is required.

一方、耐熱性の面において、耐熱性を克服する材料として熱可塑性ポリイミドを使用する場合がある(例えば特許文献2)。しかし、熱可塑性ポリイミドはまだまだ高価であり、コスト面で使用できる用途が限定されてしまう。   On the other hand, in terms of heat resistance, thermoplastic polyimide may be used as a material that overcomes heat resistance (for example, Patent Document 2). However, thermoplastic polyimide is still expensive, and uses that can be used in terms of cost are limited.

また、フレキシブルプリント回路板の回路部を保護するために用いるカバーレイフィルムについても、同様に、高耐熱性、高寸法安定性が求められている(例えば特許文献3)。それに加えて、新たな要求として、配線密度が少なく導体回路となる金属箔の残存率が低く回路板の剛性が小さい片面フレキシブルプリント回路板に部品を実装する場合において、剛性が小さいため実装時の熱の応力で回路板が反り、実装部品が所定の位置からずれてしまう問題があり、実装時の熱でも反りの少ない回路板が求められている。   Similarly, a coverlay film used for protecting a circuit portion of a flexible printed circuit board is also required to have high heat resistance and high dimensional stability (for example, Patent Document 3). In addition, as a new requirement, when mounting components on a single-sided flexible printed circuit board with low wiring density and low residual ratio of metal foil that becomes a conductor circuit and low circuit board rigidity, the rigidity is low, There is a problem that the circuit board is warped due to thermal stress and the mounted component is displaced from a predetermined position, and a circuit board that is less warped even by heat during mounting is required.

一方、こういった種々要求に加えて、カバーレイフィルム、フレキシブルプリント回路基板用金属張積層板、プリント回路基板の多層化等のためには、金属箔と基材あるいは基板間の層間接着のためには、接着剤層が必要となる。これまで、これら接着剤層は、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂などが用いられてきた。しかし、これらの樹脂系では、加熱・加圧時に接着剤が層間からあるいは金属層と基材間から多量に流れだし、接着強度が十分確保できない、また、接着剤層が薄くなってしまうことから、硬化後の吸湿時耐熱性に劣るという問題があった。   On the other hand, in addition to these various requirements, coverlay films, metal-clad laminates for flexible printed circuit boards, multilayering of printed circuit boards, etc. Requires an adhesive layer. Until now, these adhesive layers have used urethane resin, polyester resin, epoxy resin, acrylic resin, and the like. However, in these resin systems, a large amount of adhesive flows from between the layers or between the metal layer and the substrate during heating and pressurization, so that sufficient adhesive strength cannot be secured, and the adhesive layer becomes thin. There was a problem that the heat resistance at the time of moisture absorption after curing was inferior.

特開平11−054934号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-054934 特開平05−003395号公報JP 05-003395 A 特開平05−218616号公報JP 05-218616 A

本発明は、フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、加熱・加圧時、接着剤層の流れ出しのない樹脂組成物を提供すること。   The present invention provides a resin composition used for a flexible printed circuit board, which does not flow out of an adhesive layer when heated and pressurized.

本発明の樹脂組成物は、フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、平均粒径が1nm以上、500nm以下である無機充填材を含有することを特徴とする。   The resin composition of the present invention is a resin composition used for a flexible printed circuit board, and contains an inorganic filler having an average particle diameter of 1 nm or more and 500 nm or less.

本発明によれば、ナノレベルの無機充填材を含有することにより、加熱・加圧時の溶融粘度を制御することが可能となり、樹脂の流れ出しを少なくすることができる。   According to the present invention, by containing a nano-level inorganic filler, it is possible to control the melt viscosity at the time of heating and pressurization, and the flow of resin can be reduced.

また、本発明の樹脂組成物を樹脂フィルムとすることができる。   Moreover, the resin composition of this invention can be used as a resin film.

また、本発明の樹脂フィルムを、被覆フィルムに積層してフレキシブルプリント回路板用のカバーレイフィルムとしてもよい。こうすることにより、加熱加圧時の接着剤の染みだしが少なく導体パッドを汚染することのない樹脂フィルムが積層されたカバーレイフィルムとすることができる。   The resin film of the present invention may be laminated on a covering film to form a coverlay film for a flexible printed circuit board. By carrying out like this, it can be set as the cover-lay film by which the resin film which does not bleed out the adhesive agent at the time of heat-pressing and does not pollute a conductor pad was laminated | stacked.

また、本発明の樹脂フィルムを離型フィルムに積層して層間接着剤としてもよい。こうすることにより、リジッド板とフレキシブル回路基板との層間接着に用いたとき、周辺からの接着剤の染み出しを抑えることができる。   The resin film of the present invention may be laminated on a release film to form an interlayer adhesive. By doing so, when used for interlayer adhesion between the rigid board and the flexible circuit board, it is possible to suppress the bleeding of the adhesive from the periphery.

また、本発明の樹脂フィルムを基材または金属箔に積層し、金属箔または基材と積層接着することによりフレキシブルプリント回路板用の金属張積層板としてもよい。また、カバーレイフィルムや層間接着剤を用いたフレキシブルプリント回路板や多層回路板としてもよい。
また、金属張積層板をエッチング加工してフレキシブルプリント回路板としてもよい。
Moreover, it is good also as a metal-clad laminated board for flexible printed circuit boards by laminating | stacking the resin film of this invention on a base material or metal foil, and laminating | bonding with a metal foil or a base material. Moreover, it is good also as a flexible printed circuit board and a multilayer circuit board using a cover-lay film and an interlayer adhesive agent.
The metal-clad laminate may be etched to form a flexible printed circuit board.

本発明によれば、フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、加熱・加圧時、接着剤層の流れ出しのない樹脂組成物を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is a resin composition used for a flexible printed circuit board, Comprising: The resin composition which does not flow out of an adhesive bond layer at the time of a heating and pressurization can be provided.

以下、本発明の樹脂組成物、樹脂フィルム、カバーレイフィルム、層間接着剤、金属張積層板、フレキシブルプリント回路板および多層回路板について、詳細に説明する。   Hereinafter, the resin composition, resin film, coverlay film, interlayer adhesive, metal-clad laminate, flexible printed circuit board, and multilayer circuit board of the present invention will be described in detail.

本発明の樹脂組成物は、フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、
平均粒径が、1nm以上、500nm以下である無機充填材を含有している。そのため、加熱積層時の溶融粘度の大きな接着剤となる。溶融粘度としては、150〜200℃における溶融粘度が0.1以上、10000Pa・s以下であることが好ましく、1以上、5000Pa・sであればより好ましく、2以上、1000Pa・sであればさらに好ましい。この範囲内にあると、加熱加圧時の積層接着の際、接着剤の染みだしが少なく回路板とすることができる。
また、エポキシ樹脂などと組み合わせることで、より密着力に優れた樹脂組成物となる。さらには、還元剤を含有することで、はんだバンプを溶融させて層間の電気的接合時に半田表面の酸化膜および被接続面である銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合を可能にする樹脂組成物となる。
The resin composition of the present invention is a resin composition used for a flexible printed circuit board,
An inorganic filler having an average particle diameter of 1 nm or more and 500 nm or less is contained. Therefore, an adhesive having a high melt viscosity at the time of heat lamination is obtained. The melt viscosity at 150 to 200 ° C. is preferably 0.1 or more and 10,000 Pa · s or less, more preferably 1 or more and 5000 Pa · s, and more preferably 2 or more and 1000 Pa · s. preferable. When the thickness is within this range, a circuit board can be obtained with less bleeding of the adhesive during lamination bonding during heating and pressing.
Further, by combining with an epoxy resin or the like, it becomes a resin composition having more excellent adhesion. Furthermore, by containing a reducing agent, the solder bump is melted to reduce the oxide film on the solder surface and the oxide film on the copper foil surface, which is the connected surface, at the time of electrical bonding between the layers, thereby achieving good bonding with high strength. The resin composition is made possible.

無機充填材の平均粒径は、1nm以上、500nm以下であることが好ましく、より好ましく、1nm以上、200nm以下で、さらに好ましくは、1nm以上、50nm以下である。粒径が小さくなるほど比表面積が大きくなるため、少量の添加でも溶融粘度の制御が容易となる。   The average particle size of the inorganic filler is preferably 1 nm or more and 500 nm or less, more preferably 1 nm or more and 200 nm or less, and further preferably 1 nm or more and 50 nm or less. Since the specific surface area increases as the particle size decreases, the melt viscosity can be easily controlled even when added in a small amount.

本発明に用いられる無機充填材としては、アルミナ、マイカ、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、酸化チタンなどが挙げられるが、特にシリカが好ましい。これにより得られる樹脂組成物の誘電率を低くすることができる。前記シリカとしては、ゾル−ゲル法により合成されたシリカフィラー、気相法により合成されたシリカフィラー、溶融シリカフィラー、結晶シリカフィラーなどがある。特に、気相法により合成されたシリカフィラー、ゾル−ゲル法により合成されたシリカフィラーが好ましい。
これらの無機充填材を含有することで加熱・加圧時の染み出しを抑え、吸湿耐熱性を向上させることができる。
Examples of the inorganic filler used in the present invention include alumina, mica, silica, talc, calcium carbonate, clay, and titanium oxide. Silica is particularly preferable. The dielectric constant of the resin composition obtained by this can be made low. Examples of the silica include a silica filler synthesized by a sol-gel method, a silica filler synthesized by a gas phase method, a fused silica filler, and a crystalline silica filler. In particular, a silica filler synthesized by a gas phase method and a silica filler synthesized by a sol-gel method are preferable.
By containing these inorganic fillers, exudation during heating and pressurization can be suppressed, and moisture absorption heat resistance can be improved.

また、樹脂への無機充填材の分散性を向上させるために、疎水処理を行うことが適当であり、アルキルエトキシシランなどのシランカップリング剤、ジメチルジクロロシランなどのクロロシラン、シリコーンオイルなどが処理剤として用いられる。
無機充填材は、樹脂組成物100重量部に対して、1重量部以上、200重量部以下含有されるのが好ましい。無機充填材がこの範囲内にあれば、剛性に優れた硬化物とすることが可能となる。
In addition, in order to improve the dispersibility of the inorganic filler in the resin, it is appropriate to perform a hydrophobic treatment. A silane coupling agent such as alkylethoxysilane, a chlorosilane such as dimethyldichlorosilane, or a silicone oil is a treatment agent. Used as
The inorganic filler is preferably contained in an amount of 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition. If the inorganic filler is within this range, a cured product having excellent rigidity can be obtained.

本発明に用いられるエポキシ樹脂は、特に限定されるものではないが、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、フェノールノボラック系、クレゾールノボラック系、ビフェニル骨格やナフタレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格を持つアルキルフェノール系、などのエポキシ樹脂が1種または2種以上で用いられる。   The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited. For example, bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac, cresol novolac, alkylphenol having a biphenyl skeleton, naphthalene skeleton, and dicyclopentadiene skeleton. , Etc. are used by 1 type (s) or 2 or more types.

本発明に用いられる硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられているものを使用することができる。例えば、酸無水物、アミン、エステル樹脂、フェノール性水酸基を1分子中に2個以上含有する化合物などが挙げられる。また、本発明に用いられる硬化促進剤は、イミダゾールなどを使用することができる。   As the curing agent used in the present invention, those usually used as curing agents for epoxy resins can be used. For example, an acid anhydride, an amine, an ester resin, a compound containing two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and the like can be given. Moreover, imidazole etc. can be used for the hardening accelerator used for this invention.

本発明に用いられるエラストマーは、ゴム状弾性を有するものであればよい。例えば、高分子エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムなどの合成ゴム、変性ポリイミド、変性ポリアミドイミドなどが挙げられる。これらは、単独または2種以上を混合して用いることができる。   The elastomer used for this invention should just have rubber-like elasticity. Examples thereof include synthetic rubbers such as polymer epoxy resins, phenoxy resins, acrylic rubbers, acrylonitrile butadiene rubbers, and carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubbers, modified polyimides, and modified polyamideimides. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本発明に用いられるカルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物は分子中にカルボキシル基とフェノール性ヒドロキシル基が少なくともそれぞれが1つ以上存在するもので液状、固体は問わない。限定されるものではないが、本発明で用いることが出来る化合物として以下のものが挙げられる。例えば、サリチル酸、シキミ酸、バニリン酸、フェノールフタリン、センダ−クロムAL、1,2−ジカルボキシ−cis−4,5−ジヒドロキシシクロヘキサ−2,6−ジエン等の1種または2種以上の組合せで使用可能である。中でもシキミ酸、フェノールフタリン、1,2−ジカルボキシ−cis−4,5−ジヒドロキシシクロヘキサ−2,6−ジエン等、フェノール性ヒドロキシル基が2個以上あるものがベース樹脂であるエポキシ樹脂との反応に三次元的に取り込まれるため好ましい。また、その含有量は含有成分の内、樹脂固形分の5〜25重量%が好ましい。この範囲内にあれば、バンプを溶融させて層間の電気的接合時に半田表面の酸化膜および被接続面である銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合を可能にする樹脂組成物となるので好ましい。   The compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group used in the present invention has at least one carboxyl group and at least one phenolic hydroxyl group in the molecule and may be liquid or solid. Although it does not limit, the following are mentioned as a compound which can be used by this invention. For example, one or more of salicylic acid, shikimic acid, vanillic acid, phenolphthalin, sender-chromium AL, 1,2-dicarboxy-cis-4,5-dihydroxycyclohexa-2,6-diene, etc. Can be used in combination. Among them, an epoxy resin whose base resin is one having two or more phenolic hydroxyl groups, such as shikimic acid, phenolphthalene, 1,2-dicarboxy-cis-4,5-dihydroxycyclohexa-2,6-diene, and the like This is preferable because it is incorporated three-dimensionally into the reaction. Further, the content is preferably 5 to 25% by weight of the resin solid content among the contained components. If it is within this range, the resin composition that melts the bumps and reduces the oxide film on the solder surface and the oxide film on the copper foil surface, which is the connected surface, at the time of electrical bonding between the layers and enables good bonding with high strength Since it becomes a thing, it is preferable.

次に、カバーレイフィルムについて説明する。   Next, the coverlay film will be described.

本発明のカバーレイフィルムは、上記の樹脂組成物を所定の溶剤に、所定の濃度で溶解したワニスを樹脂フィルムに塗工後80℃以上、150℃以下の乾燥を行って作製することが好ましい。乾燥後の樹脂組成物の厚みについては、用途によって10μm以上、100μm以下の範囲になるように塗工する。カバーレイフィルムの場合は乾燥後にその樹脂組成物面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン、ポリプロピレンなどのフィルムを異物混入防止などの理由で離型フィルムとして使用してもよい。   The cover lay film of the present invention is preferably produced by applying a varnish obtained by dissolving the above resin composition in a predetermined solvent and a predetermined concentration on the resin film, and then drying at 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. . About the thickness of the resin composition after drying, it coats so that it may become the range of 10 micrometers or more and 100 micrometers or less by a use. In the case of a coverlay film, a film such as polyethylene terephthalate, polyethylene, or polypropylene may be used as a release film on the surface of the resin composition after drying for the purpose of preventing foreign matter from entering.

ワニスに用いられる溶剤としては、樹脂組成物に対し良好な溶解性を持つものを選択しなければならない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのうち一種または二種以上の混合系を使用することが可能である。   As a solvent used for the varnish, a solvent having good solubility in the resin composition must be selected. For example, one or two of acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methoxypropanol, cyclohexanone, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc. It is possible to use the above mixed system.

樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。このうち、弾性率と耐熱性を向上させる観点から、特にポリイミド系樹脂フィルムが好ましく用いられる。   Examples of the resin film include polyimide resin films such as polyimide resin films, polyetherimide resin films and polyamideimide resin films, polyamide resin films such as polyamide resin films, and polyester resin films such as polyester resin films. Among these, a polyimide resin film is particularly preferably used from the viewpoint of improving the elastic modulus and heat resistance.

樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、1μm以上、100μm以下が好ましく、特に5μm以上、50μm以下が好ましい。厚さがこの範囲内であると、特に屈曲性に優れる。   The thickness of the resin film is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, and particularly preferably 5 μm or more and 50 μm or less. When the thickness is within this range, the flexibility is particularly excellent.

次に、層間接着剤について説明する。   Next, the interlayer adhesive will be described.

本発明の層間接着剤は、上記樹脂組成物を離型可能な基材に塗工して層間接着剤としてもよい。前記離型可能な基材としては、例えば銅または銅系合金、アルミまたはアルミ系合金等で構成される金属箔、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂等で構成される樹脂フィルム等が挙げられる。   The interlayer adhesive of the present invention may be used as an interlayer adhesive by applying the resin composition to a releasable substrate. Examples of the releasable base material include metal foil made of copper or copper alloy, aluminum or aluminum alloy, fluorine resin, polyimide resin, polyester resin such as polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, etc. Resin film and the like.

前述の樹脂組成物を前記離型可能な基材に塗工する際には、通常ワニスの形態で行われる。これにより、塗工性を向上することができる。
ワニスを調製するのに用いられる溶媒は、樹脂組成物に対して良好な溶解性を示すことが望ましいが、悪影響を及ばさない範囲で貧溶媒を使用しても構わない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを一種または二種以上の混合系を使用することが可能である。
また、ワニスを調製する場合、樹脂組成物の固形分は、特に限定されないが10重量%以上、90重量%以下が好ましく、特に30重量%以上、70重量%以下が好ましい。
When the above resin composition is applied to the releasable substrate, it is usually performed in the form of a varnish. Thereby, coating property can be improved.
The solvent used for preparing the varnish desirably exhibits good solubility in the resin composition, but a poor solvent may be used as long as it does not adversely affect the varnish. For example, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methoxypropanol, cyclohexanone, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc. It is possible to use a mixed system of
Moreover, when preparing a varnish, although solid content of a resin composition is not specifically limited, 10 to 90 weight% is preferable, and 30 to 70 weight% is especially preferable.

ワニスを、前記離型可能な基材に塗工し80℃以上、200℃以下で乾燥することにより層間接着剤を得ることが出来る。
塗工、乾燥後の樹脂厚さは、はんだバンプの高さの±20%以内にあわせるのが好ましい。この範囲にないにあれば、良好な接合を可能にするので好ましい。
An interlayer adhesive can be obtained by applying the varnish to the releasable substrate and drying at 80 ° C. or more and 200 ° C. or less.
The resin thickness after coating and drying is preferably adjusted to within ± 20% of the height of the solder bump. If it is not in this range, good bonding is possible, which is preferable.

次に、金属張積層板について説明する。   Next, the metal-clad laminate will be described.

本発明の金属張積層板は、基材の片面または両面にワニスを塗工し乾燥後、熱圧着ロールなどによって金属箔を樹脂組成物面に積層して作製されることが好ましい。
前記金属箔を構成する金属としては、例えば銅および銅系合金、アルミおよびアルミ系合金、鉄および鉄系合金等が挙げられ、銅がより好ましい。
また、基材としては、樹脂フィルムがあげられ、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。このうち、弾性率と耐熱性を向上させる観点から、特にポリイミド系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
The metal-clad laminate of the present invention is preferably produced by coating a varnish on one or both sides of a substrate, drying it, and then laminating a metal foil on the resin composition surface with a thermocompression roll or the like.
Examples of the metal constituting the metal foil include copper and a copper-based alloy, aluminum and an aluminum-based alloy, iron and an iron-based alloy, and copper is more preferable.
Examples of the base material include resin films, such as polyimide resin films, polyetherimide resin films, polyamide resin films such as polyamide imide resin films, polyamide resin films such as polyamide resin films, and polyester resin films. A polyester resin film is mentioned. Among these, a polyimide resin film is particularly preferably used from the viewpoint of improving the elastic modulus and heat resistance.

前記ワニスに用いられる溶剤としては、樹脂組成物に対し良好な溶解性を持つものを選択しなければならない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを一種または二種以上の混合系を使用することが可能である。   As a solvent used for the varnish, a solvent having good solubility in the resin composition must be selected. For example, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methoxypropanol, cyclohexanone, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc. It is possible to use a mixed system of

次にフレキシブルプリント回路板について説明する。   Next, the flexible printed circuit board will be described.

フレキシブルプリント回路板とは、基材の少なくとも片面に第1の樹脂組成物を介して導電層を有し、前記導電層に第2の樹脂組成物付き基材を積層したものである。
本発明のフレキシブルプリント回路板は、上記のようにして得られた金属張積層板の金属箔を化学的にエッチングすることで回路加工する。その回路上の必要な部分にあらかじめ必要としない部分を打ち抜いておいたカバーレイフィルムを真空熱プレスや熱ロールなどの一般的な方法で積層される。
The flexible printed circuit board has a conductive layer on at least one surface of a base material via a first resin composition, and a base material with a second resin composition is laminated on the conductive layer.
The flexible printed circuit board of the present invention is processed by chemically etching the metal foil of the metal-clad laminate obtained as described above. A coverlay film in which unnecessary portions are punched in advance on necessary portions on the circuit is laminated by a general method such as a vacuum heat press or a heat roll.

次に、多層プリント回路板について説明する。   Next, a multilayer printed circuit board will be described.

本発明の多層プリント回路板は、上記接着剤層をはんだバンプ付き内層回路基板の片面又は両面に重ね合わせ、はんだバンプを溶融させて層間の電気的接合時にはんだ表面の酸化膜および被接続面である銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合からなる多層プリント回路板である。更に、本発明の樹脂組成物は、はんだ接合後に洗浄などにより除去する必要がなく、そのまま加熱することにより、三次元架橋した樹脂となり密着力に優れた、多層プリント回路板である。
加熱する温度は、特に限定されないが、接着剤が軟化する第1の温度として100〜160℃が好ましく、その後はんだを溶融させる第2の温度として200〜280℃が好ましい。前記接着剤の三次元架橋は、はんだを溶融させるとき同時に行う、また必要によりアフターベーキングによってより密着力を向上させることもできる。その際の温度は特に限定されないが、150〜200℃が好ましい。
加圧する圧力は、特に限定されないが、前記第一の温度では、0.01〜5MPaが好ましく、0.1〜3MPaがより好ましい。前記第2の温度では、0.01〜10MPaが好ましい。
In the multilayer printed circuit board of the present invention, the adhesive layer is superposed on one or both surfaces of the inner circuit board with solder bumps, and the solder bumps are melted to form an oxide film on the solder surface and a connected surface at the time of electrical bonding between the layers. This is a multilayer printed circuit board comprising a good bond with a reduced strength by reducing an oxide film on the surface of a certain copper foil. Furthermore, the resin composition of the present invention is a multilayer printed circuit board that does not need to be removed by washing or the like after soldering, and is heated as it is to become a three-dimensionally crosslinked resin and has excellent adhesion.
Although the temperature to heat is not specifically limited, 100-160 degreeC is preferable as 1st temperature at which an adhesive agent softens, and 200-280 degreeC is preferable as 2nd temperature after which a solder is fuse | melted after that. The three-dimensional crosslinking of the adhesive is performed at the same time as melting the solder, and if necessary, the adhesion can be further improved by after-baking. Although the temperature in that case is not specifically limited, 150-200 degreeC is preferable.
Although the pressure to pressurize is not particularly limited, 0.01 to 5 MPa is preferable and 0.1 to 3 MPa is more preferable at the first temperature. The second temperature is preferably 0.01 to 10 MPa.

以下、実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

本発明の樹脂組成物、層間接着剤および多層プリント回路板の有効性を確認する為に以下に示す多層回路板を作成し次の評価を行った。結果は表1に示す。
・溶融粘度は、粘弾性測定装置(ジャスコインターナショナル(株)製)で測定した。条件は昇温速度30℃/min、周波数1.0Hzとした。
・接合後の染み出し量を測定し、1mm以下を合格とした。
・基材への塗膜後の外観を評価し、凝集物のないものを合格とした。
・吸湿半田リフロー試験:30℃/60%/168時間処理後、最高温度260℃のはんだリフローを3回通し剥離やデラミがないものを合格とした。
・温度サイクル試験:−65℃/30分⇔125℃/30分、1000サイクル処理前後の導通抵抗を確認し、変化率が10%以下の場合を合格とした。
・吸湿後の絶縁抵抗:30℃/85%/DC50V/240時間処理後の吸湿後の絶縁抵抗が108Ω以上の場合を合格とした。
In order to confirm the effectiveness of the resin composition, interlayer adhesive, and multilayer printed circuit board of the present invention, the following multilayer circuit board was prepared and evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
-Melt viscosity was measured with a viscoelasticity measuring device (manufactured by Jusco International Co., Ltd.). The conditions were a heating rate of 30 ° C./min and a frequency of 1.0 Hz.
-The amount of seepage after bonding was measured, and 1 mm or less was accepted.
-The appearance after coating on the base material was evaluated, and the product without aggregate was regarded as acceptable.
Moisture-absorbing solder reflow test: After treatment at 30 ° C./60%/168 hours, a solder reflow with a maximum temperature of 260 ° C. was passed three times, and a test without peeling or delamination was regarded as acceptable.
-Temperature cycle test: -65 ° C / 30 minutes to 125 ° C / 30 minutes, conduction resistance before and after 1000 cycle treatment was confirmed, and the change rate was 10% or less.
Insulation resistance after moisture absorption: 30 ° C./85%/DC50V/240 hours, the case where the insulation resistance after moisture absorption after treatment was 10 8 Ω or more was regarded as acceptable.

(多層フレキシブル回路板の作製)
1.外層片面回路基板の作製
図2に示すように、金属張積層板として、厚み25μmのポリイミドフィルムからなる支持基材102上に厚み12μmの銅箔101が付いたフレキシブル銅張積層板110(宇部興産製 ユピセルN)を、支持基材102側の面から、UVレーザーにより100μm径の支持基材開口部103を形成し、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミアを施す。この支持基材開口部103内に電解銅メッキを施し銅箔のある反対面側の絶縁基材表面より高さ15μmとした銅ポスト104を形成後、銅ポスト104を覆う金属被覆層105としてはんだメッキを厚み15μmになるように施し、導体ポスト1045を形成する。
次に、片面積層板110の銅箔101をエッチングし、配線パターン106を形成し、厚み12.5μmのポリイミド(鐘淵化学工業製 アピカルNPI)に厚み25μmの熱硬化性接着剤(自社開発材料)を塗布したカバーレイを真空プレスによりラミネートすることで、表面被覆107を施した後、表面被覆開口部108を形成し、金属層被覆109を施す。
次いで、本発明の厚み25μmのシート状還元機能付き層間接着剤(自社開発品 DBF)111を真空ラミネーターにてラミネートすることにより形成した。最後に、積層部のサイズに外形加工し、外層片面回路基板120を得た。
(Production of multilayer flexible circuit board)
1. 2. Production of Outer Single-Sided Circuit Board As shown in FIG. 2, a flexible copper-clad laminate 110 (Ube Industries, Ltd.) having a 12-μm thick copper foil 101 on a support substrate 102 made of a polyimide film having a thickness of 25 μm as a metal-clad laminate. From the surface on the side of the support base 102, the support base opening 103 having a diameter of 100 μm is formed from the surface of the Iupcel N), and desmearing with an aqueous potassium permanganate solution is performed. After this electrolytic copper plating is performed in the supporting base opening 103 to form a copper post 104 having a height of 15 μm from the surface of the insulating base on the opposite side where the copper foil is present, solder is applied as a metal coating layer 105 covering the copper post 104. Plating is performed to a thickness of 15 μm to form a conductor post 1045.
Next, the copper foil 101 of the one-area layer plate 110 is etched to form a wiring pattern 106, and a thermosetting adhesive (in-house developed material) having a thickness of 25 μm is applied to polyimide having a thickness of 12.5 μm (Apical NPI manufactured by Kaneka Chemical Industry). After the surface coating 107 is applied by laminating the cover lay coated with () by a vacuum press, the surface coating opening 108 is formed and the metal layer coating 109 is applied.
Subsequently, it formed by laminating | stacking the interlayer adhesive (DBF) 111 with a sheet-like reduction | restoration function of the thickness 25micrometer of this invention with a vacuum laminator. Finally, the outer shape was processed to the size of the laminated portion to obtain an outer layer single-sided circuit board 120.

2.内層フレキシブル回路基板の作製
図3に示すように、銅箔201が12μm、支持基材202がポリイミドフィルム厚み25μmの2層両面板210(三井化学製 NEX23FE(25T))を、ドリルによる穴明け後、ダイレクトメッキし、電解銅メッキによりスルーホール203を形成し表裏の電気的導通を形成した後、エッチングにより、配線パターン及び導体ポスト1045を受けることができるパッド204を形成する。その後、フレキシブル部330に相当する部分の配線パターン205に、厚み12.5μmのポリイミド(鐘淵化学工業製 アピカルNPI)に厚み25μmの熱硬化性接着剤(自社開発材料)により表面被覆206を形成した。最後に、外形サイズに裁断し、内層フレキシブル回路基板220を得た。
2. Production of Inner-layer Flexible Circuit Board As shown in FIG. 3, after drilling a two-layer double-sided plate 210 (Mitsui Chemicals NEX23FE (25T)) having a copper foil 201 of 12 μm and a supporting base material 202 of a polyimide film thickness of 25 μm. Then, direct plating is performed, and through holes 203 are formed by electrolytic copper plating to form front and back electrical continuity, and then a pad 204 that can receive the wiring pattern and the conductor posts 1045 is formed by etching. After that, a surface coating 206 is formed on the wiring pattern 205 corresponding to the flexible portion 330 by using a thermosetting adhesive (in-house developed material) having a thickness of 25 μm on a polyimide having a thickness of 12.5 μm (Apical NPI manufactured by Kaneka Chemical Industry). did. Finally, it cut | judged to the external size and obtained the inner-layer flexible circuit board 220. FIG.

3.多層フレキシブル回路板の作製
図4に示すように、外層片面回路基板120を内層フレキシブル回路基板220に、位置合わせ用のピンガイド付き治具を用いてレイアップした。その後、250℃のスポットヒーターにて部分的に位置決めのため仮接着した。次いで、真空式プレスにて150℃、0.8MPa、90秒で積層し、導体ポスト1045を導体パッド204に接触するまで成形することと、導体パッド204がある内層フレキシブル回路基板220の回路を成形埋め込みした。次いで、油圧式プレスで260℃、0.5MPaで60秒間プレスし、本発明の厚み25μmのシート状還元機能付き層間接着剤(自社開発品 DBF)111を介して、導体ポスト1045が、内層フレキシブル回路基板220のパッド204と半田熔融接合しはんだ接合及びはんだフィレットを形成し、層間を接合した。引き続き、接着剤を硬化させるために温度を180℃、60分間加熱し、層間を積層した多層部320とフレキシブル部330とを有する多層フレキシブル回路基板310を得た。
層間接合部の模式図を図1に示す。
3. Production of Multilayer Flexible Circuit Board As shown in FIG. 4, the outer-layer single-sided circuit board 120 was laid up on the inner-layer flexible circuit board 220 using a jig with a pin guide for alignment. Thereafter, it was temporarily bonded for positioning with a spot heater at 250 ° C. Next, lamination is performed at 150 ° C. and 0.8 MPa for 90 seconds in a vacuum press, and the conductor post 1045 is molded until it contacts the conductor pad 204, and the circuit of the inner layer flexible circuit board 220 with the conductor pad 204 is molded. Embedded. Next, the post was pressed at 260 ° C. and 0.5 MPa for 60 seconds with a hydraulic press, and the conductor post 1045 was flexible on the inner layer via the 25 μm-thick interlayer adhesive with a reducing function (in-house developed product DBF) 111 of the present invention. The pads 204 of the circuit board 220 were solder-fused to form solder joints and solder fillets, and the layers were joined. Subsequently, in order to cure the adhesive, the temperature was heated at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a multilayer flexible circuit board 310 having a multilayer part 320 and a flexible part 330 in which the layers were laminated.
A schematic diagram of the interlayer junction is shown in FIG.

(実施例1)
平均粒径16nmシリカ(日本アエロジル(株)製)を5重量部、シランカップリング剤オクチルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製)を0.5重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製 エピクロン840−S)を40重量部、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト(株)製 PR−53647)を40重量部、フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製 YL−6954 数平均分子量:14500)を20重量部、サリチル酸(関東化学(株)製 試薬)を20重量部、アセトンを100重量部測り取り混合攪拌して溶解しワニスを得た。
Example 1
5 parts by weight of silica having an average particle diameter of 16 nm (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), 0.5 parts by weight of silane coupling agent octyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), bisphenol A type epoxy resin (Dainippon) 40 parts by weight of Epiklon 840-S manufactured by Ink Chemical Industry Co., Ltd., 40 parts by weight of Novolak type phenol resin (PR-53647 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), YL-6554 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 20 parts by weight of number average molecular weight: 14500), 20 parts by weight of salicylic acid (a reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and 100 parts by weight of acetone were mixed, stirred and dissolved to obtain a varnish.

前記離型可能な基材として静電防止処理をした厚み25μmのPETフィルムにコンマナイフ方式のコーターにて乾燥後の厚みが25μmとなるように塗工、乾燥してシート状還元機能付き層間接着剤(DBF)を作成した。これを先述したの通りに接着剤層として使用し多層フレキシブル回路板を作成した。次いで上述した評価を行った。   Applying and drying to a 25 μm thick PET film treated with antistatic as the moldable base material with a comma knife coater to a thickness of 25 μm after drying, interlayer adhesion with a sheet-like reducing function An agent (DBF) was prepared. This was used as an adhesive layer as described above to produce a multilayer flexible circuit board. Subsequently, the above-described evaluation was performed.

(実施例2)
実施例1のシリカ(日本アエロジル(株)製)を平均粒径13nmのアルミナ(日本アエロジル(株)製)とした以外は同様にして層間接着剤を作成した。その後、多層フレキシブル回路板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(Example 2)
An interlayer adhesive was prepared in the same manner except that the silica of Example 1 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was replaced with alumina having an average particle diameter of 13 nm (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). Thereafter, a multilayer flexible circuit board was prepared. Next, the evaluation described above was performed.

(実施例3)
実施例1のシリカ(日本アエロジル(株)製)を平均粒径500nmのシリカ(アドマテックス(株)製)を30重量部とした以外は同様にして層間接着剤を作成した。その後、多層フレキシブル回路板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(Example 3)
An interlayer adhesive was prepared in the same manner except that the silica of Example 1 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was changed to 30 parts by weight of silica having an average particle diameter of 500 nm (manufactured by Admatex Co., Ltd.). Thereafter, a multilayer flexible circuit board was prepared. Next, the evaluation described above was performed.

(比較例1)
実施例1のシリカ(日本アエロジル(株)製)を含有しなかった以外は実施例1と同様にして層間接着剤を作成した。その後、多層フレキシブル回路板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(比較例2)
実施例1のシリカ(日本アエロジル(株)製)を平均粒径2000nmのシリカ(アドマテックス(株)製)とした以外は実施例1と同様にして層間接着剤を作成した。その後、多層フレキシブル回路板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(Comparative Example 1)
An interlayer adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that it did not contain the silica of Example 1 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). Thereafter, a multilayer flexible circuit board was prepared. Next, the evaluation described above was performed.
(Comparative Example 2)
An interlayer adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica of Example 1 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was changed to silica having an average particle diameter of 2000 nm (manufactured by Admatex Co., Ltd.). Thereafter, a multilayer flexible circuit board was prepared. Next, the evaluation described above was performed.

Figure 2007204696
・溶融粘度は、粘弾性測定装置(ジャスコインターナショナル(株)製)で測定した。条件は昇温速度30℃/min、周波数1.0Hzとした。
・接合後の染み出し量を測定し、1mm以下を合格とした。
・基材への塗膜後の外観を評価し、凝集物のないものを合格とした。
・吸湿半田リフロー試験:30℃/60%/168時間処理後、最高温度260℃のはんだリフローを3回通し剥離やデラミがないものを合格とした。
・温度サイクル試験:−65℃/30分⇔125℃/30分、1000サイクル処理前後の導通抵抗を確認し、変化率が10%以下の場合を合格とした。
・吸湿後の絶縁抵抗:30℃/85%/DC50V/240時間処理後の吸湿後の絶縁抵抗が108Ω以上の場合を合格とした。
Figure 2007204696
-Melt viscosity was measured with a viscoelasticity measuring device (manufactured by Jusco International Co., Ltd.). The conditions were a heating rate of 30 ° C./min and a frequency of 1.0 Hz.
-The amount of seepage after bonding was measured, and 1 mm or less was accepted.
-The appearance after coating on the base material was evaluated, and the product without aggregate was regarded as acceptable.
Moisture-absorbing solder reflow test: After treatment at 30 ° C./60%/168 hours, a solder reflow with a maximum temperature of 260 ° C. was passed three times, and a test without peeling or delamination was regarded as acceptable.
-Temperature cycle test: -65 ° C / 30 minutes to 125 ° C / 30 minutes, conduction resistance before and after 1000 cycle treatment was confirmed, and the change rate was 10% or less.
Insulation resistance after moisture absorption: 30 ° C./85%/DC50V/240 hours, the case where the insulation resistance after moisture absorption after treatment was 10 8 Ω or more was regarded as acceptable.

パッドオンビア構造を取る事が出来る為、より高密度実装に対応し、小さく薄い多層回路板を得る事が出来る。これにより、高機能、小型化が求められるモバイル機器、例えば携帯電話、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ、小型ノートパソコンなどに利用される。   Since a pad-on-via structure can be adopted, it is possible to obtain a small and thin multilayer circuit board corresponding to higher density mounting. As a result, it is used in mobile devices that require high functionality and downsizing, such as mobile phones, digital video cameras, digital cameras, and small notebook personal computers.

本発明の接着剤層を使用してはんだバンプによる接合部。本接着剤の還元作用により被接着部にはんだが濡れ広がっている。A joint by solder bumps using the adhesive layer of the present invention. Due to the reducing action of this adhesive, the solder spreads over the adherend.

本発明の接着剤層の有効性を確認する為の多層回路基板作製用の外層片面回路基板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the outer-layer single-sided circuit board for multilayer circuit board preparation for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method.

本発明の接着剤層の有効性を確認する為の多層回路基板作製用の内層フレキシブル回路基板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the inner-layer flexible circuit board for multilayer circuit board preparation for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method.

本発明の接着剤層の有効性を確認する為の4層構成の多層フレキシブル回路基板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the multilayer flexible circuit board of the 4 layer structure for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method.

符号の説明Explanation of symbols

101、201:銅箔
102、202:支持基材
103:支持基材開口部
104:銅ポスト
1045:導体ポスト
105:金属被覆層
106、205:配線パターン
107、206:表面被覆
108:表面被覆開口部
109:金属層被覆
110:フレキシブル銅張積層板
111:層間接着剤
120:外層片面回路基板
203:スルーホール
204:パッド
210:2層両面板
220:内層フレキシブル回路基板
310:多層フレキシブル回路基板(4層)
320:多層部
330:フレキシブル部


101, 201: Copper foil 102, 202: Support base material 103: Support base material opening 104: Copper post 1045: Conductor post 105: Metal coating layer 106, 205: Wiring pattern 107, 206: Surface coating 108: Surface coating opening Part 109: Metal layer coating 110: Flexible copper clad laminate 111: Interlayer adhesive 120: Outer layer single-sided circuit board 203: Through hole 204: Pad 210: Two-layer double-sided board 220: Inner-layer flexible circuit board 310: Multilayer flexible circuit board ( 4 layers)
320: Multilayer part 330: Flexible part


Claims (15)

フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、
平均粒径が、1nm以上、500nm以下である無機充填材を含有することを特徴とする樹脂組成物。
A resin composition used for a flexible printed circuit board,
A resin composition comprising an inorganic filler having an average particle diameter of 1 nm or more and 500 nm or less.
前記樹脂組成物の、150℃〜200℃における溶融粘度が0.1Pa・s以上、10000Pa・s以下である請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition has a melt viscosity at 150 ° C. to 200 ° C. of 0.1 Pa · s or more and 10,000 Pa · s or less. 前記樹脂組成物には、カップリング剤をさらに含む請求項1または2に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1 or 2, further comprising a coupling agent in the resin composition. 前記カップリング剤は、アミノシランである請求項3に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 3, wherein the coupling agent is aminosilane. 前記無機充填材は、アルミナまたはシリカを含むものである請求項1ないし4のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler contains alumina or silica. 前記無機充填材の含有量は、樹脂組成物100重量部に対して1重量部以上、200重量部以下である請求項1ないし5に記載の樹脂組成物。   6. The resin composition according to claim 1, wherein the content of the inorganic filler is 1 part by weight or more and 200 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin composition. 前記樹脂組成物が、(A)エポキシ樹脂と、(B)エポキシ樹脂用硬化剤と、(C)硬化促進剤と、(D)エラストマーを含む請求項1ないし6のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the resin composition comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent for epoxy resin, (C) a curing accelerator, and (D) an elastomer. object. カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物をさらに含む請求項1ないし7のいずれかに記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising a compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group. 請求項1ないし8のいずれかに記載の樹脂組成物から得られる樹脂フィルム。   A resin film obtained from the resin composition according to claim 1. 請求項9に記載の樹脂フィルムを、被覆フィルムに積層したカバーレイフィルム。   The coverlay film which laminated | stacked the resin film of Claim 9 on the coating film. 請求項9に記載の樹脂フィルムを、離型フィルムに積層した層間接着剤。   The interlayer adhesive which laminated | stacked the resin film of Claim 9 on the release film. 請求項9に記載の樹脂フィルムを、基材または金属箔に積層したのち、金属箔または基材と積層接着したフレキシブルプリント回路板用の金属張積層板。   A metal-clad laminate for a flexible printed circuit board, wherein the resin film according to claim 9 is laminated on a substrate or a metal foil, and then laminated and adhered to the metal foil or the substrate. 請求項10に記載のカバーレイフィルムを少なくとも片面に積層して得られるフレキシブルプリント回路板。   A flexible printed circuit board obtained by laminating the coverlay film according to claim 10 on at least one side. 請求項11に記載の層間接着剤を層間に積層接着して得られる多層回路板。   A multilayer circuit board obtained by laminating and bonding the interlayer adhesive according to claim 11 between the layers. 請求項12に記載の金属張積層板をエッチング加工して得られるフレキシブルプリント回路板。



A flexible printed circuit board obtained by etching the metal-clad laminate according to claim 12.



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