JP2007197606A - Resin material for optics, optical element, and method for producing resin material for optics - Google Patents

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秀明 若松
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical element having a thermally stable refractive index while keeping a constant water content, and excellent blue light transmissivity. <P>SOLUTION: An object lens 7 as the optical element is obtained by molding a resin material for the optics, containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles. The hydrophobic oxide particle is obtained by subjecting a homogeneous oxide particle in which silicon oxide and one or more kinds of oxides of metals except the silicon are homogeneously dispersed to hydrophobizing treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レンズ、フィルター、グレーティング、光ファイバー、平板光導波路などとして好適に用いられ、特に熱的に安定で、青色光透過性に優れた光学用樹脂材料及びそれを用いた光学素子に関する。   The present invention is suitably used as a lens, a filter, a grating, an optical fiber, a flat optical waveguide, and the like, and particularly relates to an optical resin material that is thermally stable and excellent in blue light transmittance and an optical element using the same.

MO、CD、DVDといった光情報記録媒体に対して、情報の読み取りや記録を行なうプレーヤー、レコーダー、ドライブといった情報機器には、光ピックアップ装置が備えられている。光ピックアップ装置は、光源から発した所定波長の光を光情報記録媒体に照射して反射した光を受光素子で受光する光学素子ユニットを備えており、当該光学素子ユニットはこれらの光を光情報記録媒体の反射層や受光素子で集光させるためのレンズ等の光学素子を有している。   Information devices such as a player, a recorder, and a drive for reading and recording information on an optical information recording medium such as MO, CD, and DVD are provided with an optical pickup device. The optical pickup device includes an optical element unit that receives light reflected from an optical information recording medium by irradiating light of a predetermined wavelength emitted from a light source with a light receiving element, and the optical element unit transmits the light to optical information. It has an optical element such as a lens for condensing light by a reflective layer of a recording medium or a light receiving element.

光ピックアップ装置の光学素子は、射出成型等の手段により安価に作製できる等の点で、プラスチックを材料として適用することが好ましい。光学素子に適用可能なプラスチックとしては、環状オレフィンとα−オレフィンの共重合体等が知られている(特許文献1〜5参照)。近年では、光ピックアップ装置の使用に際し、記録密度の向上のため、青色光(波長405nm近傍)を用いる検討が進められており、ピックアップのような光学素子ユニットにおいては、熱的、光学的安定性を有する物質で構成することが求められている。
特開2002−207101号公報 特開2002−241560号公報 特開2002−241569号公報 特開2002−241592号公報 特開2002−241612号公報
The optical element of the optical pickup device is preferably made of plastic as a material in that it can be manufactured at low cost by means such as injection molding. As plastics applicable to optical elements, copolymers of cyclic olefins and α-olefins are known (see Patent Documents 1 to 5). In recent years, when using an optical pickup device, studies have been made to use blue light (wavelength near 405 nm) to improve recording density. In an optical element unit such as a pickup, thermal and optical stability It is requested | required to comprise with the substance which has this.
JP 2002-207101 A JP 2002-241560 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-241692 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-241592 JP 2002-241612 A

しかし、プラスチックのように、熱による物性変動が大きい素材は、青色光を使用する光ピックアップ装置に使用すると、温度変化による屈折率変化に起因して発生する収差により、安定した光学性能を確保することが困難な場合がある。上述の環状オレフィンとα−オレフィンの共重合体等のように光ピックアップ装置の光学素子用として用いられる樹脂であっても、温度変化による収差の抑制は十分でないのが現状である。   However, materials such as plastics that have large physical property fluctuations due to heat, when used in optical pickup devices that use blue light, ensure stable optical performance due to aberrations caused by refractive index changes due to temperature changes. It can be difficult. Even in the case of a resin used for an optical element of an optical pickup device, such as the above-mentioned copolymer of cyclic olefin and α-olefin, the present situation is that the suppression of aberration due to temperature change is not sufficient.

さらに近年の光ピックアップ装置に用いられるレーザ光源の出力の上昇や光学素子の駆動装置から発生する駆動熱による起因する環境温度変化の増大により、温度変化による収差の発生という課題が顕在化しつつある。そのため、樹脂を無機物質と複合化することで、温度変化による屈折率変化を低減させる試みが行われている。樹脂の温度変化による屈折率変化を低減させることができる無機物質として、シリカ微粒子が用いられる場合がある。しかし、環状オレフィンのように吸水性が非常に低い樹脂に対して、無機材料を複合化した場合、複合材料の吸水率が増大し、安定した光学性能が得られない原因となってしまう場合があった。したがって、これまで提案されている複合材料のように、熱可塑性樹脂に単なる無機材料を複合化させただけでは、当該複合材料は吸湿性が問題となって、実用的であるとは言い難かった。   Furthermore, due to an increase in the output of a laser light source used in an optical pickup device in recent years and an increase in environmental temperature change caused by drive heat generated from a drive device for optical elements, the problem of generation of aberration due to temperature change is becoming obvious. For this reason, attempts have been made to reduce refractive index change due to temperature change by combining resin with an inorganic substance. Silica fine particles may be used as an inorganic substance that can reduce the refractive index change due to the temperature change of the resin. However, when an inorganic material is combined with a resin having a very low water absorption, such as a cyclic olefin, the water absorption rate of the composite material increases, and stable optical performance may not be obtained. there were. Therefore, as with the composite materials proposed so far, simply combining a thermoplastic resin with a simple inorganic material has made it difficult to say that the composite material is practical because of its hygroscopicity. .

本発明の目的は、レンズ、フィルター、グレーティング、光ファイバー、平板光導波路などとして好適に用いられる光学用樹脂材料であって、一定の水分含有率を保持しながら屈折率が熱的に安定で青色光透過性に優れる光学用樹脂材料及び光学素子を提供することである。本発明の他の目的は、当該光学用樹脂材料の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is an optical resin material suitably used as a lens, a filter, a grating, an optical fiber, a flat optical waveguide, etc., which has a constant refractive index and is thermally stable while maintaining a constant moisture content. It is an object to provide an optical resin material and an optical element that are excellent in transparency. Another object of the present invention is to provide a method for producing the optical resin material.

上記課題を解決するための、本発明の第1の形態としては、
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料であって、
前記疎水性酸化物粒子は、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布した均一酸化物粒子に対して、疎水化処理が施された粒子であることを特徴としている。
As a first aspect of the present invention for solving the above problems,
An optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
The hydrophobic oxide particles are particles obtained by subjecting uniform oxide particles in which silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon are uniformly distributed to a hydrophobic treatment. Yes.

本発明の第1の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水化処理は前記均一酸化物粒子の表面にシラザン類を付着させて加熱する処理であるのが好ましく、前記シラザン類がヘキサメチルジシラザンであるのが好ましい。
In the optical resin material according to the first embodiment of the present invention,
The hydrophobizing treatment is preferably a treatment in which silazanes are attached to the surface of the uniform oxide particles and heated, and the silazanes are preferably hexamethyldisilazane.

本発明の第1の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水性酸化物粒子の表面がポリシラザンで形成されているのが好ましい。
In the optical resin material according to the first embodiment of the present invention,
The surface of the hydrophobic oxide particles is preferably formed of polysilazane.

本発明の第1の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水性酸化物粒子の粒子径が1〜50nmであるのが好ましい。
In the optical resin material according to the first embodiment of the present invention,
The hydrophobic oxide particles preferably have a particle size of 1 to 50 nm.

本発明の第2の形態としては、
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料であって、
前記疎水性酸化物粒子は、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布しかつ表面にシリカ層が形成された均一酸化物粒子に対して、疎水化処理が施された粒子であることを特徴としている。
As a second aspect of the present invention,
An optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
The hydrophobic oxide particles are subjected to a hydrophobic treatment on uniform oxide particles in which silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon are uniformly distributed and a silica layer is formed on the surface. It is characterized by being particles.

本発明の第2の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記シリカ層がテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランで形成されているのが好ましい。
In the optical resin material according to the second aspect of the present invention,
The silica layer is preferably formed of tetramethoxysilane or tetraethoxysilane.

本発明の第2の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水化処理は前記シリカ層の表面にシラザン類を付着させて加熱する処理であるのが好ましく、前記シラザン類がヘキサメチルジシラザンであるのが好ましい。
In the optical resin material according to the second aspect of the present invention,
The hydrophobizing treatment is preferably a treatment in which silazanes are attached to the surface of the silica layer and heated, and the silazanes are preferably hexamethyldisilazane.

本発明の第2の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水性酸化物粒子の表面がポリシラザンで形成されているのが好ましい。
In the optical resin material according to the second aspect of the present invention,
The surface of the hydrophobic oxide particles is preferably formed of polysilazane.

本発明の第2の形態に係る光学用樹脂材料においては、
前記疎水性酸化物粒子の粒子径が1〜50nmであるのが好ましい。
In the optical resin material according to the second aspect of the present invention,
The hydrophobic oxide particles preferably have a particle size of 1 to 50 nm.

本発明の第3の形態としては、
本発明の第1,第2の形態に係る光学用樹脂材料を用いて成型されたことを特徴とする光学素子である。
As a third aspect of the present invention,
An optical element characterized by being molded using the optical resin material according to the first and second embodiments of the present invention.

本発明の第4の形態としては、
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、
ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、
前記粒子形成工程後に、前記均一酸化物粒子に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、
前記疎水化処理工程後に、前記疎水性酸化物粒子と熱可塑性樹脂とを混練する混練工程と、
を備えることを特徴としている。
As the fourth aspect of the present invention,
A method for producing an optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
A particle forming step of uniformly distributing silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon to form uniform oxide particles;
After the particle formation step, the uniform oxide particles are subjected to a hydrophobic treatment to form hydrophobic oxide particles; and
A kneading step of kneading the hydrophobic oxide particles and the thermoplastic resin after the hydrophobic treatment step;
It is characterized by having.

本発明の第5の形態としては、
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、
ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、
前記粒子形成工程後に、前記均一酸化物粒子の表面にシリカ層を形成するシリカ層形成工程と、
前記シリカ層形成工程後に、前記シリカ層に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、
前記疎水化処理工程後に、前記疎水性酸化物粒子と熱可塑性樹脂とを混練する混練工程と、
を備えることを特徴としている。
As the fifth aspect of the present invention,
A method for producing an optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
A particle forming step of uniformly distributing silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon to form uniform oxide particles;
A silica layer forming step of forming a silica layer on the surface of the uniform oxide particles after the particle forming step;
After the silica layer forming step, the silica layer is subjected to a hydrophobizing treatment to form hydrophobic oxide particles, and
A kneading step of kneading the hydrophobic oxide particles and the thermoplastic resin after the hydrophobic treatment step;
It is characterized by having.

本発明の第1〜第3の形態によれば、一定の水分含有率を保持しながら屈折率が熱的に安定で青色光透過性に優れる光学用樹脂材料,光学素子を提供することができる(下記実施例参照。)。本発明の第4,第5の形態によれば、一定の水分含有率を保持しながら屈折率が熱的に安定で青色光透過性に優れる光学用樹脂材料,光学素子を製造することができる。   According to the first to third embodiments of the present invention, it is possible to provide an optical resin material and an optical element that have a refractive index that is thermally stable and that has excellent blue light transmittance while maintaining a constant moisture content. (See examples below). According to the fourth and fifth embodiments of the present invention, it is possible to manufacture an optical resin material and an optical element having a refractive index that is thermally stable and excellent in blue light transmittance while maintaining a constant moisture content. .

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は以下の実施形態及び図示例に限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, although various technically preferable limitations for carrying out the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

本発明に係る光学用樹脂材料は熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有するものである。また本発明に係る光学素子は当該光学用樹脂材料を成型したものである。
以下では、(1)熱可塑性樹脂及び(2)疎水性酸化物粒子についてそれぞれ説明し、その後に(3)光学用樹脂材料の製造方法と(4)光学素子の製造方法や適用例等とについてそれぞれ説明する。
The optical resin material according to the present invention contains a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles. The optical element according to the present invention is obtained by molding the optical resin material.
In the following, (1) thermoplastic resin and (2) hydrophobic oxide particles will be described, respectively, and then (3) optical resin material manufacturing method and (4) optical element manufacturing method and application examples, etc. Each will be explained.

(1)熱可塑性樹脂
熱可塑性樹脂としては、光学材料として一般的に用いられる透明の熱可塑性樹脂材料であれば特に制限はないが、光学素子としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、またはポリイミド樹脂であることが好ましく、特に好ましくは環状オレフィン樹脂であり、例えば、特開2003−73559号公報等に記載の化合物を挙げることができ、その好ましい化合物を表1に示す。
(1) Thermoplastic resin The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it is a transparent thermoplastic resin material generally used as an optical material. However, in consideration of processability as an optical element, an acrylic resin or a cyclic olefin is used. A resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polyether resin, a polyamide resin, or a polyimide resin is preferable, and a cyclic olefin resin is particularly preferable, and examples thereof include compounds described in JP-A-2003-73559. Table 1 shows preferable compounds.

Figure 2007197606
Figure 2007197606

光学用樹脂材料においては、熱可塑性樹脂はその吸水率が0.2質量%以下であることが好ましい。吸水率が0.2質量%以下の樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、フッ素樹脂(例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン(登録商標)AF(デュポン社製)、サイトップ(旭硝子社製)等)、環状オレフィン樹脂(例えば、ZEONEX(日本ゼオン社製)、アートン(JSR社製)、アペル(三井化学社製)、TOPAS(ポリプラスチック社製)等)、インデン/スチレン系樹脂、ポリカーボネートなどが好適であるが、これらに限るものではない。   In the optical resin material, the thermoplastic resin preferably has a water absorption of 0.2% by mass or less. Examples of the resin having a water absorption of 0.2% by mass or less include polyolefin resin (for example, polyethylene, polypropylene, etc.), fluororesin (for example, polytetrafluoroethylene, Teflon (registered trademark) AF (manufactured by DuPont), Top (made by Asahi Glass Co., Ltd.), cyclic olefin resin (for example, ZEONEX (made by Nippon Zeon), Arton (made by JSR), Apel (made by Mitsui Chemicals), TOPAS (made by Polyplastics), etc.), inden / Styrenic resins, polycarbonates and the like are suitable, but not limited to these.

また、これらの樹脂と相溶性のある他の樹脂を併用することも好ましい。2種以上の樹脂を用いる場合、その吸水率は、個々の樹脂の吸水率の平均値にほぼ等しいと考えられ、その平均の吸水率が0.2%以下になればよい。   It is also preferable to use other resins compatible with these resins. When two or more kinds of resins are used, the water absorption rate is considered to be approximately equal to the average value of the water absorption rates of the individual resins, and the average water absorption rate only needs to be 0.2% or less.

(2)疎水性酸化物粒子
疎水性酸化物粒子は、均一酸化物粒子の表面に対し、疎水化処理を施した微粒子である。「均一酸化物粒子」とは、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布した複合酸化物粒子であり、具体的には、例えば、ケイ素酸化物であるシリカと、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛のいずれか1種類以上の酸化物とで構成された複合酸化物粒子であって、各酸化物が均一に分布したものである。
(2) Hydrophobic oxide particles Hydrophobic oxide particles are fine particles obtained by subjecting the surface of uniform oxide particles to a hydrophobic treatment. “Uniform oxide particles” are composite oxide particles in which silicon oxide and one or more types of metal oxides other than silicon are uniformly distributed. Specifically, for example, silica that is silicon oxide and , Titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, cerium oxide, indium oxide, tin oxide, oxide Composite oxide particles composed of one or more oxides of lead, each oxide being uniformly distributed.

上記の「均一酸化物粒子」とは、粒子中のケイ素酸化物(シリカ等)とその他の金属酸化物とが局在することなく平均的に分布している状態の粒子であり、当該粒子内で屈折率分布を持たない粒子のことである。   The above-mentioned “homogeneous oxide particles” are particles in a state where silicon oxide (silica or the like) in the particles and other metal oxides are averagely distributed without being localized. It is a particle having no refractive index distribution.

疎水性酸化物粒子の形状は、特に限定されるものではないが、好適には球状の微粒子が用いられる。また、粒径の分布に関しても特に制限されるものではないが、本発明の効果をより効率よく発現させるためには、広範な分布を有するものよりも、比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。   The shape of the hydrophobic oxide particles is not particularly limited, but preferably spherical fine particles are used. Further, the particle size distribution is not particularly limited, but in order to achieve the effect of the present invention more efficiently, a material having a relatively narrow distribution is preferable to a material having a wide distribution. Used.

疎水性酸化物粒子の体積平均粒径は1〜50nmであるのが好ましく、2〜30nmであるのがさらに好ましい。体積平均粒径が1nm以下の疎水性酸化物粒子を適用する場合は、当該疎水性酸化物粒子の熱可塑性樹脂への均一的な分散が困難で好ましくなく、体積平均粒径が50nm以上の疎水性酸化物粒子を適用する場合は、光学用樹脂材料(又はそれで構成された光学素子)の光線透過率の低下を招くことになり、好ましくない。   The volume average particle size of the hydrophobic oxide particles is preferably 1 to 50 nm, and more preferably 2 to 30 nm. When applying hydrophobic oxide particles having a volume average particle diameter of 1 nm or less, it is not preferable because it is difficult to uniformly disperse the hydrophobic oxide particles in the thermoplastic resin, and hydrophobic particles having a volume average particle diameter of 50 nm or more. When the conductive oxide particles are applied, the light transmittance of the optical resin material (or an optical element formed thereof) is reduced, which is not preferable.

なお、疎水性酸化物粒子には、上記均一酸化物粒子の表面にシリカ層を形成してそのシリカ層の表面に疎水化処理を施したものも含まれる。   The hydrophobic oxide particles include those in which a silica layer is formed on the surface of the uniform oxide particles and the surface of the silica layer is subjected to a hydrophobic treatment.

(3)光学用樹脂材料の製造方法
本発明に係る光学用樹脂材料の製造方法は、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、粒子形成工程の後に均一酸化物粒子の表面に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、疎水化処理工程の後に疎水性酸化物粒子と熱可塑性樹脂とを混練する混練工程と、で構成されている。
(3) Manufacturing method of optical resin material The manufacturing method of the optical resin material according to the present invention forms uniform oxide particles by uniformly distributing silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon. Particle forming step, and after the particle forming step, the surface of the uniform oxide particles is subjected to a hydrophobic treatment to form hydrophobic oxide particles, and the hydrophobic oxide particles after the hydrophobic treatment step And a kneading step of kneading the thermoplastic resin.

(3.1)粒子形成工程
均一酸化物粒子の作製方法としては、熱分解法(原料を加熱分解して微粒子を得る方法。噴霧乾燥法、火炎噴霧法、プラズマ法、気相反応法、凍結乾燥法、加熱ケロシン法、加熱石油法)、沈殿法(共沈法)、加水分解法(塩水溶液法、アルコキシド法、ゾルゲル法)、水熱法(沈殿法、結晶化法、水熱分解法、水熱酸化法)などが挙げられる。このうち、熱分解法や、沈殿法、加水分解法は、小粒径でかつ均一な酸化物粒子を作製する観点で好ましい手法である。当該均一酸化物粒子の作製にあたっては、これらの手法を複数組み合わせてもよい。
(3.1) Particle Formation Step As a method for producing uniform oxide particles, a thermal decomposition method (a method of obtaining fine particles by thermally decomposing raw materials. Spray drying method, flame spray method, plasma method, gas phase reaction method, freezing Drying method, heated kerosene method, heated petroleum method), precipitation method (coprecipitation method), hydrolysis method (salt aqueous solution method, alkoxide method, sol-gel method), hydrothermal method (precipitation method, crystallization method, hydrothermal decomposition method) Hydrothermal oxidation method). Among these, the thermal decomposition method, the precipitation method, and the hydrolysis method are preferable methods from the viewpoint of producing uniform oxide particles having a small particle size. In producing the uniform oxide particles, a plurality of these methods may be combined.

(3.2)疎水化処理工程
均一酸化物粒子の表面に対する疎水化処理の方法としては、カップリング剤等の表面修飾剤による表面処理、ポリマーグラフト、メカノケミカルによる表面処理などが挙げられる。
(3.2) Hydrophobic treatment step Examples of the method of hydrophobizing the surface of uniform oxide particles include surface treatment with a surface modifier such as a coupling agent, polymer graft, and surface treatment with mechanochemical.

均一酸化物粒子の表面に対する疎水化処理に用いられる表面修飾剤としては、シラン系カップリング剤を始め、シリコーンオイル系、チタネート系、アルミネート系及びジルコネート系カップリング剤等が挙げられる。これらは特に限定されず、均一酸化物粒子及び熱可塑性樹脂の種類により適宜選択することが可能である。また、各種表面処理を二つ以上同時又は異なる時に行ってもよい。   Examples of the surface modifier used for the hydrophobic treatment on the surface of the uniform oxide particles include silane coupling agents, silicone oil-based, titanate-based, aluminate-based and zirconate-based coupling agents. These are not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the types of uniform oxide particles and thermoplastic resin. Further, two or more surface treatments may be performed simultaneously or at different times.

具体的には、例えば、シラン系の表面処理剤としては、ビニルシラザン、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルアルコキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が適用可能であり、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が好適である。   Specifically, for example, silane-based surface treatment agents include vinylsilazane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, trimethylalkoxysilane, dimethyldialkoxysilane, methyltrialkoxysilane, hexamethyldisilazane, and the like. Applicable, trimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane and the like are preferable.

シリコーンオイル系の表面処理剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルといったストレートシリコーンオイルやアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、片末端反応性変性シリコーンオイル、異種官能基変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、親水性特殊変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイル、高級脂肪酸含有変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイルなどの変性シリコーンオイルを用いることができる。   Silicone oil based surface treatment agents include straight silicone oils such as dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, carboxyl-modified silicone oil, carbinol-modified silicone oil, Methacryl-modified silicone oil, mercapto-modified silicone oil, phenol-modified silicone oil, one-end reactive modified silicone oil, heterogeneous functional group-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, methylstyryl-modified silicone oil, alkyl-modified silicone oil, higher fatty acid ester Modified silicone oil, hydrophilic special modified silicone oil, higher alkoxy modified silicone oil, It can be used grade fatty acid-containing modified silicone oil, a modified silicone oil such as fluorine-modified silicone oil.

またこれらの表面処理剤はヘキサン、トルエン、メタノール、エタノール、アセトン水等で適宜希釈して用いてもよい。   These surface treatment agents may be appropriately diluted with hexane, toluene, methanol, ethanol, acetone water or the like.

上記表面修飾剤による疎水化処理の方法としては、湿式加熱法、湿式濾過法、乾式攪拌法、インテグルブレンド法、造粒法等が挙げられる。体積平均粒径が100nm以下の均一酸化物粒子の表面に対し疎水化処理を施す場合、粒子が凝集するのを抑制の観点から、乾式攪拌法を適用するのが好ましい。   Examples of the hydrophobic treatment method using the surface modifier include a wet heating method, a wet filtration method, a dry stirring method, an integral blend method, and a granulation method. In the case where the surface of uniform oxide particles having a volume average particle diameter of 100 nm or less is subjected to a hydrophobic treatment, it is preferable to apply a dry stirring method from the viewpoint of suppressing the aggregation of the particles.

これらの表面修飾剤は1種類のみを用いても、複数種類を併用してもよく、さらに、用いる表面修飾剤によって得られる疎水化処理後の均一酸化物粒子(疎水性酸化物粒子)の性状が異なることがあり、表面修飾剤の選択によって、光学用樹脂材料を得るにあたって用いる熱可塑性樹脂との親和性を高めることも可能である。表面修飾剤の割合は特に限定されるものではないが、疎水化処理後の均一酸化物粒子(疎水性酸化物粒子)に対して、表面修飾剤の割合が10〜99質量%であることが好ましく、30〜98質量%であることがより好ましい。   These surface modifiers may be used alone or in combination, and the properties of the uniform oxide particles (hydrophobic oxide particles) after the hydrophobic treatment obtained by the surface modifier used. However, the affinity with the thermoplastic resin used for obtaining the optical resin material can be increased by selecting the surface modifier. The ratio of the surface modifier is not particularly limited, but the ratio of the surface modifier may be 10 to 99 mass% with respect to the uniform oxide particles (hydrophobic oxide particles) after the hydrophobic treatment. Preferably, it is 30-98 mass%.

なお、上記粒子形成工程と上記疎水化処理工程との間で、粒子形成工程後に得られた均一酸化物粒子の表面に対しテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランにより複合酸化物表面改質処理を施して、当該均一酸化物粒子の表面にテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランによるシリカ層を形成し(シリカ層形成工程)、その後に当該シリカ層の表面に対し上記疎水化処理を行ってもよい。   In addition, between the particle forming step and the hydrophobizing treatment step, the surface of the uniform oxide particles obtained after the particle forming step is subjected to a complex oxide surface modification treatment with tetramethoxysilane or tetraethoxysilane. Alternatively, a silica layer made of tetramethoxysilane or tetraethoxysilane may be formed on the surface of the uniform oxide particles (silica layer forming step), and then the hydrophobic treatment may be performed on the surface of the silica layer.

また、本実施形態の上記疎水化処理では、乾式攪拌法を用いて、均一酸化物粒子(シリカ層を形成した場合には当該シリカ層)の表面にシラザン類を付着させてそれを加熱し、疎水性酸化物粒子の表面をポリシラザンで形成するのが好ましい。当該シラザン類としてヘキサメチルジシラザンを用いるのが好ましい。   Further, in the hydrophobization treatment of the present embodiment, using a dry stirring method, silazanes are attached to the surface of uniform oxide particles (the silica layer when a silica layer is formed) and heated, It is preferable to form the surface of the hydrophobic oxide particles with polysilazane. It is preferable to use hexamethyldisilazane as the silazanes.

(3.3)混練工程
混練工程では、溶融中の熱可塑性樹脂に対して疎水性酸化物粒子を添加・混練することで光学用樹脂材料を作製する製造方法や、溶媒に溶解した熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを混合してその後に有機溶媒を除去することで光学用樹脂材料を作成する製造方法が好ましい態様である。
(3.3) Kneading step In the kneading step, a manufacturing method for producing an optical resin material by adding and kneading hydrophobic oxide particles to a molten thermoplastic resin, or a thermoplastic resin dissolved in a solvent A production method in which an optical resin material is prepared by mixing an organic solvent with hydrophobic oxide particles and then removing the organic solvent is a preferred embodiment.

混練工程においては、特に光学用樹脂材料は溶融混練法で作製することが望ましい。熱可塑性樹脂を疎水性酸化物粒子の存在下で重合したり、熱可塑性樹脂の存在下で疎水性酸化物粒子を作製することも可能であるが、熱可塑性樹脂の重合や疎水性酸化物粒子の作製において、特殊な条件が必要になるからである。溶融混練法では、既成の手法で作製した熱可塑性樹脂や疎水性酸化物粒子を混合することで光学用樹脂材料を作製できるため、通常安価な光学用樹脂材料の作製が可能になる。   In the kneading step, the optical resin material is particularly preferably produced by a melt kneading method. Although it is possible to polymerize a thermoplastic resin in the presence of hydrophobic oxide particles or to produce hydrophobic oxide particles in the presence of a thermoplastic resin, polymerization of thermoplastic resins or hydrophobic oxide particles This is because special conditions are required in the fabrication of the above. In the melt-kneading method, an optical resin material can be produced by mixing thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles produced by an existing method, and therefore, an inexpensive optical resin material can be usually produced.

溶融混練において、有機溶剤の使用も可能である。有機溶剤の使用で、溶融混練の温度を下げることができ、熱可塑性樹脂の劣化を抑制しやすくなる。その場合、溶融混練後に脱気を行い、光学用樹脂材料中から有機溶剤を除去することが好ましい。   In the melt kneading, an organic solvent can be used. By using an organic solvent, the temperature of melt kneading can be lowered, and the deterioration of the thermoplastic resin can be easily suppressed. In that case, it is preferable to deaerate after melt-kneading to remove the organic solvent from the optical resin material.

溶融混練に用いることのできる装置としては、ラボプラストミル、ブラベンダー、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等のような密閉式混練装置またはバッチ式混練装置を挙げることができる。また、単軸押出機、二軸押出機等のように連続式の溶融混練装置を用いて製造することもできる。   As an apparatus which can be used for melt kneading, a closed kneading apparatus or a batch kneading apparatus such as a lab plast mill, a Brabender, a Banbury mixer, a kneader, a roll, and the like can be given. Moreover, it can also manufacture using a continuous melt-kneading apparatus like a single screw extruder, a twin screw extruder, etc.

混練工程の処理態様として溶融混練を用いる場合、熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子を一括で添加し混練してもよいし、段階的に分割添加して混練してもよい。この場合、押出機などの溶融混練装置では、段階的に添加する成分をシリンダーの途中から添加することも可能である。しかし、溶融混練で熱可塑性樹脂を加熱する場合、酸化防止剤のように熱可塑性樹脂の熱劣化を防止する材料をまず加えることが好ましい。その後疎水性酸化物粒子を加えると、溶融混練の温度が上昇することが多く、酸化防止剤なしでは熱可塑性樹脂の劣化が顕著になるためである。一方、耐光安定剤は、熱劣化を起こして着色する場合が多い。そのため溶融混練プロセスでは、出来るだけ後の工程で耐光安定剤を添加することが好ましい。そのため耐光安定剤の少なくとも一部は疎水性酸化物粒子の添加後に加えられる。   When melt-kneading is used as the treatment mode of the kneading step, the thermoplastic resin and the hydrophobic oxide particles may be added and kneaded all at once, or may be added in stages and kneaded. In this case, in a melt-kneading apparatus such as an extruder, it is possible to add the components to be added step by step from the middle of the cylinder. However, when the thermoplastic resin is heated by melt kneading, it is preferable to first add a material that prevents thermal degradation of the thermoplastic resin, such as an antioxidant. If hydrophobic oxide particles are added thereafter, the temperature of melt kneading often increases, and the deterioration of the thermoplastic resin becomes remarkable without an antioxidant. On the other hand, light stabilizers are often colored due to thermal degradation. For this reason, in the melt-kneading process, it is preferable to add a light-resistant stabilizer in a later step as much as possible. Therefore, at least a part of the light stabilizer is added after the addition of the hydrophobic oxide particles.

溶融混練により熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子との複合化を行う場合、疎水性酸化物粒子は粉体ないし凝集状態のまま添加することが可能である。あるいは、疎水性酸化物粒子は液中に分散した状態で添加することも可能である。疎水性酸化物粒子を液中に分散した状態で添加する場合は、混練後に脱気を行うことが好ましい。   When the thermoplastic resin and the hydrophobic oxide particles are combined by melt kneading, the hydrophobic oxide particles can be added in a powder or aggregated state. Alternatively, the hydrophobic oxide particles can be added in a dispersed state in the liquid. When the hydrophobic oxide particles are added in a state dispersed in a liquid, it is preferable to perform deaeration after kneading.

疎水性酸化物粒子を液中に分散した状態で添加する場合、あらかじめ凝集粒子を一次粒子に分散して添加することが好ましい。分散には各種分散機が使用可能であるが、特にビーズミルが好ましい。ビーズは各種の素材があるがその大きさは小さいものが好ましく、特に直径0.001〜0.1mmのものが好ましい。   When the hydrophobic oxide particles are added in a state of being dispersed in the liquid, it is preferable to add the agglomerated particles dispersed in the primary particles in advance. Various dispersing machines can be used for dispersion, but a bead mill is particularly preferable. There are various kinds of beads, but those having a small size are preferable, and those having a diameter of 0.001 to 0.1 mm are particularly preferable.

均一酸化物粒子は疎水化処理された状態(疎水性酸化物粒子とされた状態)で加えられることが好ましいが、上記表面処理剤と均一酸化物粒子を同時に添加し、熱可塑性樹脂と均一酸化物粒子との複合化を行うインテグラルブレンドのような手法を用いてもよく、その他どのような手法を用いることも可能である。   The uniform oxide particles are preferably added in a state of being hydrophobized (in the state of being made into hydrophobic oxide particles). However, the surface treatment agent and the uniform oxide particles are added at the same time, so that the thermoplastic resin and the uniform oxidation are added. A method such as an integral blend for compounding with physical particles may be used, and any other method may be used.

(4)光学素子の製造方法や適用例等
(4.1)光学素子の製造方法
本発明に係る光学素子(例えば光学用樹脂レンズ)の作製方法について説明する。
当該光学素子の作製では、上記粒子形成工程から混練工程の各処理を経て得られた光学用樹脂材料を成型する(成型工程)。成型方法としては、特に限定されるものではないが、成型物における低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性の観点から、溶融成型法が好ましい。溶融成型法としては、例えば、プレス成型、押し出し成型、射出成型等が挙げられるが、生産性の観点から、射出成型が好ましい。また、光硬化性樹脂の場合、注型重合などを用いることが可能である。
(4) Optical Element Manufacturing Method and Application Examples, etc. (4.1) Optical Element Manufacturing Method A method for manufacturing an optical element (for example, an optical resin lens) according to the present invention will be described.
In the production of the optical element, an optical resin material obtained through each process of the kneading process from the particle forming process is molded (molding process). Although it does not specifically limit as a shaping | molding method, From a viewpoint of characteristics, such as the low birefringence in a molding, mechanical strength, and a dimensional accuracy, a melt molding method is preferable. Examples of the melt molding method include press molding, extrusion molding, and injection molding. From the viewpoint of productivity, injection molding is preferable. In the case of a photocurable resin, cast polymerization or the like can be used.

また、成型条件は、使用目的又は成型方法に応じて適宜選択されるが、例えば、射出成型における光学用樹脂材料の温度としては、成型時に適度な流動性を光学用樹脂材料に付与して成型品のヒケや、歪みの防止、光学用樹脂材料の熱分解によるシルバーストリークの発生の防止及び成型物の黄変の効果的な防止の観点から、150〜400℃の範囲内であることが好ましく、200〜350℃の範囲内であることがより好ましく、200〜330℃の範囲内であることが特に好ましい。   The molding conditions are appropriately selected according to the purpose of use or the molding method. For example, as the temperature of the optical resin material in injection molding, an appropriate fluidity is imparted to the optical resin material during molding. From the viewpoint of prevention of sink marks of products, distortion, prevention of silver streak due to thermal decomposition of optical resin materials, and effective prevention of yellowing of molded products, it is preferably within a range of 150 to 400 ° C. More preferably, it is in the range of 200 to 350 ° C, and particularly preferably in the range of 200 to 330 ° C.

射出成型においては、流動性向上のため炭酸ガスを可塑剤として使用する成型法を用いることが可能である。また、金型表面を誘導加熱することで転写性を高める手法も適用可能である。   In injection molding, a molding method using carbon dioxide as a plasticizer can be used to improve fluidity. In addition, a technique for improving transferability by induction heating of the mold surface is also applicable.

当該成型物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状など種々の形態で使用することができ、また、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優れるため、本発明の光学素子の一つである光学用樹脂レンズとして好適に用いられるが、その他の光学部品として用いてもよい。   The molded product can be used in various forms such as a spherical shape, a rod shape, a plate shape, a cylindrical shape, a tubular shape, a tubular shape, a fibrous shape, a film or a sheet shape, and has a low birefringence, transparency, mechanical Since it is excellent in strength, heat resistance and low water absorption, it is suitably used as an optical resin lens that is one of the optical elements of the present invention, but may be used as other optical components.

本発明に係る光学用樹脂材料から作製された成型品の表面には、無機化合物、シランカップリング剤などの有機シリコン化合物、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂などからなるハードコート層を形成してもよい。ハードコート層の形成手段としては、熱硬化法、紫外線硬化法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の方法を挙げることができる。これによって、成型品の耐熱性、光学特性、耐薬品性、耐摩耗性および耐水性などを向上させることができる。   On the surface of the molded product made from the optical resin material according to the present invention, an inorganic compound, an organic silicon compound such as a silane coupling agent, an acrylic resin, a vinyl resin, a melamine resin, an epoxy resin, a fluorine resin, A hard coat layer made of a silicone resin or the like may be formed. Examples of the means for forming the hard coat layer include known methods such as a thermal curing method, an ultraviolet curing method, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Thereby, the heat resistance, optical characteristics, chemical resistance, abrasion resistance, water resistance, etc. of the molded product can be improved.

(4.2)添加剤
なお、本発明に係る光学用樹脂材料の作製時(上記粒子成型工程から混練工程までの工程を含む。)や光学素子の作製時(上記成型工程を含む。)においては、必要に応じて各種添加剤を添加してもよい。当該添加剤としては、酸化防止剤、耐光安定剤、熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤及び近赤外線吸収剤等の安定剤、滑剤や、可塑剤等の樹脂改良剤、軟質重合体や、アルコール性化合物等の白濁防止剤、染料や、顔料等の着色剤、その他帯電防止剤や、難燃剤等が挙げられる。単独で又は組み合わせて用いられてもよい。
(4.2) Additive In addition, at the time of production of the optical resin material according to the present invention (including the steps from the particle molding step to the kneading step) and at the time of production of the optical element (including the molding step). May add various additives as needed. Examples of such additives include antioxidants, light stabilizers, heat stabilizers, weather stabilizers, stabilizers such as ultraviolet absorbers and near infrared absorbers, lubricants, resin modifiers such as plasticizers, soft polymers, , Anti-clouding agents such as alcoholic compounds, colorants such as dyes and pigments, other antistatic agents, flame retardants and the like. They may be used alone or in combination.

(4.2.1)酸化防止剤
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、光学用樹脂材料の成型時の酸化劣化等によるレンズの着色や強度低下を防止できる。
(4.2.1) Antioxidants Examples of antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and the like. By blending these antioxidants, it is possible to prevent lens coloring and strength reduction due to oxidative degradation during molding of the optical resin material without lowering transparency, heat resistance and the like.

フェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが適用可能であり、例えば、特開昭63−179953号公報に記載の2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレート等や、特開平1−168643号公報に記載のオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のアクリレート系化合物や、2,2′−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニルプロピオネート))メタン、すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート))、トリエチレングリコールビス(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)等のアルキル置換フェノール系化合物や、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物等が挙げられる。   As the phenolic antioxidant, conventionally known ones can be applied. For example, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy- described in JP-A No. 63-179953). 5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2,4-di-t-amyl-6- (1- (3,5-di-t-amyl-2-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl acrylate, etc. Acrylate compounds such as octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate described in JP-A-1-168463, and 2,2′-methylene-bis (4-methyl) -6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-to (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis (methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenylpropionate)) methane, , Pentaerythrmethyl-tetrakis (3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylpropionate)), triethylene glycol bis (3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5- Alkyl-substituted phenolic compounds such as methylphenyl) propionate), 6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -2,4-bisoctylthio-1,3,5-triazine, 4- Bisoctylthio-1,3,5-triazine, 2-octylthio-4,6-bis- (3,5-di-t-butyl-4-oxyanilino) -1,3 - triazine group-containing phenol compounds such as triazine.

リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工業において通常使用される物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のモノホスファイト系化合物や、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等が特に好ましい。   The phosphorus-based antioxidant is not particularly limited as long as it is a substance that is usually used in the general resin industry. For example, triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris ( Nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)- Monophosphite compounds such as 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, and 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di- Tridecyl phosphite), 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12-C 5) phosphite) diphosphite compounds such as and the like. Among these, monophosphite compounds are preferable, and tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like are particularly preferable.

イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3-thiodiprote. Pionate, pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, etc. Can be mentioned.

さらに、上述したフェノール系、リン酸系及びイオウ系酸化防止剤の他に、ジフェニルアミン誘導体等のアミン系酸化防止剤や、ニッケル又は亜鉛のチオカルバメート等も酸化防止剤として適用可能である。   Furthermore, in addition to the above-mentioned phenol-based, phosphoric acid-based and sulfur-based antioxidants, amine-based antioxidants such as diphenylamine derivatives, nickel or zinc thiocarbamates, and the like are also applicable as antioxidants.

上述した酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることが可能であって、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、光学用樹脂材料100質量部に対して0.001〜20質量部の範囲内であることが好ましく、0.01〜10質量部の範囲内であることがより好ましい。   The above-mentioned antioxidants can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention. It is preferably in the range of 0.001 to 20 parts by mass, more preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass.

(4.2.2)白濁防止剤
白濁防止剤としては、最も低いガラス転移温度が30℃以下である化合物を配合することができる。これにより、透過率、耐熱性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿環境下で低下ことなく、長時間の高温高湿環境下での薄膜の白濁を防止できる。
(4.2.2) Anti-turbidity agent As the anti-turbidity agent, a compound having the lowest glass transition temperature of 30 ° C. or less can be blended. This prevents the cloudiness of the thin film in the long-time high-temperature and high-humidity environment without degrading various properties such as transmittance, heat resistance, and mechanical strength, and in the long-time high-temperature and high-humidity environment. it can.

(4.2.3)耐光安定剤
耐光安定剤(光安定剤)は、クエンチャーと、ラジカル捕捉剤に大きく分けられる。ベンゾフェノン系耐光安定剤、ベンゾトリアゾール系耐光安定剤、トリアジン系の光安定剤はクエンチャーとして分類され、ヒンダードアミン系耐光安定剤はラジカル捕捉剤に分類される。本発明においては、レンズの透明性、耐着色性等の観点から、ヒンダードアミン系耐光安定剤(HALS)を用いるのが好ましい。このようなHALSは具体例には、低分子量のものから中分子量、高分子量の中から選ぶことができる。
(4.2.3) Light-resistant stabilizer Light-resistant stabilizers (light stabilizers) are roughly classified into quenchers and radical scavengers. Benzophenone light stabilizers, benzotriazole light stabilizers, and triazine light stabilizers are classified as quenchers, and hindered amine light stabilizers are classified as radical scavengers. In the present invention, it is preferable to use a hindered amine light stabilizer (HALS) from the viewpoint of the transparency of the lens, the color resistance, and the like. Specific examples of such HALS can be selected from low molecular weight to medium molecular weight and high molecular weight.

例えば、比較的分子量の小さいものとして、LA−77(旭電化製)、Tinuvin765(CSC製)、Tinuvin123(CSC製)、Tinuvin440(CSC製)、Tinuvin144(CSC製)、HostavinN20(ヘキスト社製)中程度の分子量として、LA−57(旭電化製)、LA−52(旭電化製)、LA−67(旭電化製)、LA−62(旭電化製)、さらに分子量の大きいものとして、LA−68(旭電化製)、LA−63(旭電化製)、HostavinN30(ヘキスト社製)、Chimassorb944(CSC製)、Chimassorb2020(CSC製)、Chimassorb119(CSC製)、Tinuvin622(CSC製)、CyasorbUV−3346(Cytec製)、CyasorbUV−3529(Cytec製)、Uvasil299(GLC製)などが挙げられる。特に、光学用樹脂材料の成型体(光学素子)には、低、中分子量のHALSを、膜状の光学用樹脂材料には高分子量のHALSを用いることが好ましい。   For example, among LA-77 (Asahi Denka), Tinuvin 765 (CSC), Tinuvin 123 (CSC), Tinuvin 440 (CSC), Tinuvin 144 (CSC), Hostavin N20 (Hoechst) As molecular weights of the order, LA-57 (Asahi Denka), LA-52 (Asahi Denka), LA-67 (Asahi Denka), LA-62 (Asahi Denka), 68 (manufactured by Asahi Denka), LA-63 (manufactured by Asahi Denka), Hostavin N30 (manufactured by Hoechst), Chimassorb 944 (manufactured by CSC), Chimassorb 2020 (manufactured by CSC), Chimassorb119 (manufactured by CSC), Tinuvin 622 (manufactured by CSC), Cubor 626 (as manufactured by CSC), Cb (Cy Ltd. ec), manufactured CyasorbUV-3529 (Cytec), and the like Uvasil299 (manufactured by GLC). In particular, it is preferable to use low and medium molecular weight HALS for the molded article (optical element) of the optical resin material, and high molecular weight HALS for the film-like optical resin material.

HALSは、ベンゾトリアゾール系の耐光安定剤などと組み合わせて用いられることも好ましい。たとえば、アデカスタブLA−32、LA−36、LA−31(旭電化工業製)、Tinuvin326、Tinuvin571、Tinuvin234、Tinuvin1130(CSC製)などが挙げられる。
またHALSは、先述の各種酸化防止剤と併用されることが好ましい。HALSと酸化防止剤の組み合わせに特に制約は無く、フェノール系、リン系、硫黄系などとの組み合わせが可能であるが、特にリン系とフェノール系との組み合わせが好ましい。
HALS is also preferably used in combination with a benzotriazole-based light-resistant stabilizer. For example, ADK STAB LA-32, LA-36, LA-31 (manufactured by Asahi Denka Kogyo), Tinuvin 326, Tinuvin 571, Tinuvin 234, Tinuvin 1130 (manufactured by CSC) and the like can be mentioned.
HALS is preferably used in combination with the various antioxidants described above. There are no particular restrictions on the combination of HALS and antioxidant, and combinations of phenols, phosphorus, sulfur and the like are possible, but combinations of phosphorus and phenols are particularly preferred.

(4.2.4)その他の添加剤
先述した酸化防止剤、耐光安定剤以外に、熱安定剤、耐候安定剤、近赤外線吸収剤などの安定剤;滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤;軟質重合体、アルコール性化合物等の白濁防止剤;染料や顔料などの着色剤;帯電防止剤、難燃剤、などが挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは2種以上を組み合せて用いることができ、その配合量は本発明に記載の効果を損なわない範囲で適宜選択される。
(4.2.4) Other additives In addition to the antioxidants and light stabilizers described above, stabilizers such as heat stabilizers, weather stabilizers and near infrared absorbers; resin modifiers such as lubricants and plasticizers An anti-clouding agent such as a soft polymer or an alcohol compound; a colorant such as a dye or a pigment; an antistatic agent or a flame retardant; These compounding agents can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the effects described in the present invention.

また、本発明に係る光学用樹脂材料に、更に最も低いガラス転移温度が30℃以下である化合物を配合することにより、透明性、耐熱性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿度環境下での白濁を防止できる。   In addition, by blending a compound having the lowest glass transition temperature of 30 ° C. or less into the optical resin material according to the present invention, without reducing various properties such as transparency, heat resistance, and mechanical strength, It can prevent cloudiness in long-term high temperature and high humidity environment.

(4.3)光学素子の適用例
本発明に係る光学素子は、上記の作製方法により得られるが、光学部品への具体的な適用例としては、以下のようである。
例えば、光学レンズや光学プリズムとしては、カメラの撮像系レンズ;顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ;眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ;CD、CD−ROM、WORM(追記型光ディスク)、MO(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオディスク)などの光ディスクのピックアップレンズ;レーザビームプリンターのfθレンズ、センサー用レンズなどのレーザ走査系レンズ;カメラのファインダー系のプリズムレンズなどが挙げられる。
(4.3) Application Example of Optical Element The optical element according to the present invention can be obtained by the above-described manufacturing method, and a specific application example to an optical component is as follows.
For example, as an optical lens or an optical prism, an imaging lens of a camera; a lens such as a microscope, an endoscope or a telescope lens; an all-light transmission lens such as a spectacle lens; a CD, a CD-ROM, or a WORM (recordable optical disk) , MO (rewritable optical disc; magneto-optical disc), MD (mini disc), optical disc pick-up lens such as DVD (digital video disc); laser scanning system lens such as laser beam printer fθ lens, sensor lens; Examples include prism lenses for camera viewfinder systems.

光ディスク用途としては、CD、CD−ROM、WORM(追記型光ディスク)、MO(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオディスク)などが挙げられる。その他の光学用途としては、液晶ディスプレイなどの導光板;偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム;光拡散板;光カード;液晶表示素子基板などが挙げられる。   Examples of optical disc applications include CD, CD-ROM, WORM (recordable optical disc), MO (rewritable optical disc; magneto-optical disc), MD (mini disc), DVD (digital video disc), and the like. Other optical applications include light guide plates such as liquid crystal displays; optical films such as polarizing films, retardation films and light diffusion films; light diffusion plates; optical cards; liquid crystal display element substrates.

本発明に係る光学素子は、これらの中でも、低複屈折性が要求されるピックアップレンズやレーザ走査系レンズとして好適に用いられ、ピックアップレンズに最も好適に用いられる。   Among these, the optical element according to the present invention is suitably used as a pickup lens or a laser scanning lens that requires low birefringence, and is most preferably used as a pickup lens.

以下、図1を参照しながら、光学用樹脂材料によって成形された光学素子が用いられた光ピックアップ装置1について説明する。
図1は、光ピックアップ装置1の内部構造を示す模式図である。
Hereinafter, an optical pickup device 1 using an optical element molded from an optical resin material will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a schematic diagram showing the internal structure of the optical pickup device 1.

なお、本実施形態では、使用波長が405nmのいわゆる青紫色レーザ光源を用いた「高密度な光ディスク」をターゲットとしており、この光ディスクの有する保護基板厚は、0.1mmであり、記憶容量は約30GBである。   In this embodiment, the target is a “high-density optical disk” using a so-called blue-violet laser light source having a used wavelength of 405 nm, the protective substrate thickness of this optical disk is 0.1 mm, and the storage capacity is about 30 GB.

本実施形態における光ピックアップ装置1には、図1に示すように、光源である半導体レーザ発振器2が具備されている。この半導体レーザ発振器2から出射される青色光の光軸上には、半導体レーザ発振器2から離間する方向に向かって、コリメータ3、ビームスプリッタ4、1/4波長板5、絞り6、対物レンズ7が順次配設されている。
また、ビームスプリッタ4と近接した位置であって、上述した青色光の光軸と直交する方向には、2組のレンズからなるセンサーレンズ群8、センサー9が順次配設されている。
As shown in FIG. 1, the optical pickup device 1 in this embodiment includes a semiconductor laser oscillator 2 that is a light source. On the optical axis of the blue light emitted from the semiconductor laser oscillator 2, a collimator 3, a beam splitter 4, a quarter wavelength plate 5, a diaphragm 6, and an objective lens 7 are arranged in a direction away from the semiconductor laser oscillator 2. Are sequentially arranged.
In addition, a sensor lens group 8 and a sensor 9 including two sets of lenses are sequentially disposed in a direction close to the beam splitter 4 and in a direction perpendicular to the optical axis of the blue light described above.

光学素子である対物レンズ7は、光ディスクDに対向した位置に配置されるものであって、半導体レーザ発振器2から出射された青色光を、光ディスクDの一面上に集光するようになっている。このような対物レンズ7には、2次元アクチュエータ10が具備されており、この2次元アクチュエータ10の動作により、対物レンズ7は、光軸上を移動自在となっている。   The objective lens 7 that is an optical element is disposed at a position facing the optical disc D, and condenses the blue light emitted from the semiconductor laser oscillator 2 on one surface of the optical disc D. . Such an objective lens 7 is provided with a two-dimensional actuator 10, and the objective lens 7 is movable on the optical axis by the operation of the two-dimensional actuator 10.

次に、光ピックアップ装置1の作用について説明する。
本実施形態における光ピックアップ装置1は、光ディスクDへの情報の記録動作時や、光ディスクDに記録された情報の再生動作時に、半導体レーザ発振器2から青色光を出射する。出射された青色光は、図1に示すように、光線Lとなって、コリメータ3を透過して無限平行光にコリメートされた後、ビームスプリッタ4を透過して、1/4波長板5を透過する。さらに、絞り6及び対物レンズ7を順次透過した後、光ディスクDの保護基板Dを介して情報記録面Dに集光スポットを形成する。
Next, the operation of the optical pickup device 1 will be described.
The optical pickup device 1 in the present embodiment emits blue light from the semiconductor laser oscillator 2 at the time of recording information on the optical disc D or at the time of reproducing information recorded on the optical disc D. As shown in FIG. 1, the emitted blue light becomes a light beam L 1 , is collimated to infinite parallel light through the collimator 3, and then is transmitted through the beam splitter 4 to be a quarter wavelength plate 5. Transparent. Furthermore, after sequentially passing through the aperture 6 and the objective lens 7 to form a converged spot on the information recording surface D 2 through the protective substrate D 1 of the optical disc D.

集光スポットを形成した光は、光ディスクDの情報記録面Dで情報ピットによって変調され、情報記録面Dによって反射される。そして、この反射光は、光線Lとなって、対物レンズ7及び絞り6を順次透過した後、1/4波長板5によって偏光方向が変更され、ビームスプリッタ4で反射する。その後、センサーレンズ群8を透過して非点収差が与えられ、センサー9で受光されて、最終的には、センサー9によって光電変換されることによって電気的な信号となる。
以後、このような動作が繰り返し行われ、光ディスクDに対する情報の記録動作や、光ディスクDに記録された情報の再生動作が完了する。
Light that formed the concentrated light spot is modulated by the information recording surface D 2 of the optical disk D by the information pit is reflected by the information recording surface D 2. Then, the reflected light becomes a light beam L 2 , is sequentially transmitted through the objective lens 7 and the diaphragm 6, is changed in polarization direction by the quarter wavelength plate 5, and is reflected by the beam splitter 4. After that, astigmatism is given through the sensor lens group 8, received by the sensor 9, and finally converted into an electric signal by being photoelectrically converted by the sensor 9.
Thereafter, such an operation is repeatedly performed, and the operation of recording information on the optical disc D and the operation of reproducing information recorded on the optical disc D are completed.

なお、光ディスクDにおける保護基板Dの厚さ寸法及び情報ピットの大きさにより、対物レンズ7に要求される開口数NAも異なる。本実施形態においては、高密度な光ディスクDであり、その開口数は0.85に設定されている。 Incidentally, the magnitude of the thickness and the information pits of the protective substrate D 1 of the optical disc D, also the numerical aperture NA required for the objective lens 7 different. In the present embodiment, the optical disc D is a high density, and its numerical aperture is set to 0.85.

(4.4)光学素子の特性
本発明に係る光学素子は、波長405nmの光透過率が3mm厚で70%以上であることが好ましい。当該光透過率が70%未満であると、データの読み取り精度が下がるからである。疎水性酸化物粒子は、405nmの光を吸収しないものが多いが、熱可塑性樹脂は若干吸収する場合がある。このような時、疎水性酸化物粒子の分率を増大させることで光学用樹脂材料として405nmにおける光透過率を上げることが期待できる。
(4.4) Characteristics of Optical Element The optical element according to the present invention preferably has a light transmittance of 405 nm at a thickness of 3 mm and 70% or more. This is because when the light transmittance is less than 70%, the data reading accuracy is lowered. Many of the hydrophobic oxide particles do not absorb 405 nm light, but the thermoplastic resin may absorb a little. In such a case, it is expected that the light transmittance at 405 nm is increased as an optical resin material by increasing the fraction of the hydrophobic oxide particles.

(1)試料の作製
(1.1)光学用樹脂材料1(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
純水463.1g、26%アンモニア水104.8g、メタノール4255.0gの混合液に対して、液温を25℃に保ちながら、テトラメトキシシラン(TMOS)3648g、メタノール229.4gの混合液と純水643.2g、26%アンモニア水104.8gの混合液とを150分間かけて滴下した。その後、その混合液に対して、ジルコニウムテトライソプロポキシド2139g、イソプロパノール150gの混合液を100分かけて添加し、シリカ/ジルコニア混合ゾルを得た。
(1) Preparation of sample (1.1) Preparation of optical resin material 1 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 molar fraction 80%)-based material) 463.1 g of pure water, 104.8 g of 26% ammonia water, While maintaining a liquid temperature of 25 ° C. with respect to a mixed liquid of 4255.0 g of methanol, a mixed liquid of 3648 g of tetramethoxysilane (TMOS) and 229.4 g of methanol, 643.2 g of pure water, and 104.8 g of 26% ammonia water. The mixture was added dropwise over 150 minutes. Thereafter, 2139 g of zirconium tetraisopropoxide and 150 g of isopropanol were added to the mixture over 100 minutes to obtain a silica / zirconia mixed sol.

その後、このゾルを常圧下で加熱蒸留しながら、当該ゾルに対して容量を一定に保った状態で純水を滴下し、塔頂温が100℃に達しかつpHの値が8以下になったのを確認した時点で、純水の滴下を終了して微粒子分散液を得た(粒子形成工程)。   Thereafter, while the sol was heated and distilled under normal pressure, pure water was dropped with the volume kept constant with respect to the sol, the tower top temperature reached 100 ° C., and the pH value became 8 or less. When this was confirmed, dropping of pure water was terminated to obtain a fine particle dispersion (particle formation step).

その後、その微粒子分散液に対し噴霧乾燥を行い、得られた微粒子をさらに大気下の200℃で1時間加熱した。加熱後に得られた粉体30gをアルゴン下で攪拌しながら、その粉体に対しヘキサメチルジシラザンを4g加えた。その後、ヘキサメチルジシラザンを加えた粉体を200℃で30分間加熱し、これに引き続き室温まで冷却した(疎水化処理工程)。その結果、シリカとジルコニアとが均一に複合された「疎水性酸化物粒子1」を得た。   Thereafter, the fine particle dispersion was spray-dried, and the obtained fine particles were further heated at 200 ° C. in the atmosphere for 1 hour. While stirring 30 g of the powder obtained after heating under argon, 4 g of hexamethyldisilazane was added to the powder. Thereafter, the powder added with hexamethyldisilazane was heated at 200 ° C. for 30 minutes and subsequently cooled to room temperature (hydrophobization treatment step). As a result, “hydrophobic oxide particles 1” in which silica and zirconia were uniformly combined were obtained.

TEM観察の結果、疎水性酸化物粒子1の体積換算平均粒子径は10nmであった。その後、この疎水性酸化物粒子1と熱可塑性樹脂(シクロオレフィン樹脂,三井化学製APEL5014)とを脱気しながら溶融混練して「光学用樹脂材料1」を作製した(混練工程)。   As a result of TEM observation, the volume-converted average particle diameter of the hydrophobic oxide particles 1 was 10 nm. Thereafter, the hydrophobic oxide particles 1 and a thermoplastic resin (cycloolefin resin, APEL5014 manufactured by Mitsui Chemicals) were melted and kneaded while degassing to produce “Optical Resin Material 1” (kneading step).

光学用樹脂材料1中の疎水性酸化物粒子1の含有量(充填率)は、熱可塑性樹脂に対して20体積%になるようにした。溶融混練の混練処理では、ラボプラストミルKF-6Vを用い、窒素下において100rpmで10分間混練し、その終了前の2分間は20Torrで減圧脱気を行った。溶融混練中は、疎水性酸化物微粒子1と熱可塑性樹脂との混合物に対し、シクロヘキシルメチルジメトキシシランを疎水性酸化物微粒子100重量部当たり10部添加して、疎水性酸化物粒子1の表面処理を行った。   The content (filling rate) of the hydrophobic oxide particles 1 in the optical resin material 1 was set to 20% by volume with respect to the thermoplastic resin. In the kneading process of melt kneading, lab plast mill KF-6V was used and kneaded at 100 rpm for 10 minutes under nitrogen, and degassed under reduced pressure at 20 Torr for 2 minutes before the completion. During melt kneading, 10 parts by weight of cyclohexylmethyldimethoxysilane per 100 parts by weight of the hydrophobic oxide fine particles are added to the mixture of the hydrophobic oxide fine particles 1 and the thermoplastic resin to treat the surface of the hydrophobic oxide particles 1. Went.

(1.2)光学用樹脂材料2(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
上記光学用樹脂材料1の作製において、疎水性酸化物粒子1の充填率を30体積%に変更した。それ以外は光学用樹脂材料1の作製と同様にして「光学用樹脂材料2」を作製した。
(1.2) Production of optical resin material 2 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 molar fraction 80%)-based material) In the production of optical resin material 1, the filling rate of hydrophobic oxide particles 1 is determined. The volume was changed to 30% by volume. Otherwise, the “optical resin material 2” was prepared in the same manner as the optical resin material 1.

(1.3)光学用樹脂材料3(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
光学用樹脂材料1の作製において、上記疎水性酸化物粒子1に代えて下記の通りにシリカ層を有する「疎水性酸化物粒子3」を作製した。それ以外は光学用樹脂材料1の作製と同様にして「光学用樹脂材料3」を作製した。
(1.3) Production of Optical Resin Material 3 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 Molar Fraction 80%) Type Material) In production of optical resin material 1, instead of hydrophobic oxide particles 1, the following Thus, “hydrophobic oxide particles 3” having a silica layer were prepared. Otherwise, the “optical resin material 3” was prepared in the same manner as in the production of the optical resin material 1.

光学用樹脂材料1の作製で噴霧乾燥後に得られた粒子40gに対して純水4000gを入れ、アンモニア水を用いて当該分散液のpHの値を11.3に調整した。その後、この粒子の分散液を攪拌しながら、当該分散液を7℃まで冷却した。その後、テトラエトキシシラン20gを分散液中にゆっくりと滴下してその分散液を1時間攪拌し、その後、分散液の液温を75℃まで昇温してさらにその分散液を1時間攪拌した。その後、攪拌済みの分散液を15000rpmで10分間遠心分離し、当該分散液の上澄みを除去した。その後、遠心分離後に得られた粒子をメタノール中に分散させてその分散液に対し再度噴霧乾燥を行うことにより、シリカ系カップリング剤による表面処理済みの粉体を得た(シリカ層形成工程)。   4000 g of pure water was added to 40 g of the particles obtained after spray-drying in the production of the optical resin material 1, and the pH value of the dispersion was adjusted to 11.3 using ammonia water. Thereafter, the dispersion was cooled to 7 ° C. while stirring the dispersion of the particles. Thereafter, 20 g of tetraethoxysilane was slowly dropped into the dispersion, and the dispersion was stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature of the dispersion was raised to 75 ° C., and the dispersion was further stirred for 1 hour. Thereafter, the stirred dispersion was centrifuged at 15000 rpm for 10 minutes, and the supernatant of the dispersion was removed. Thereafter, particles obtained after centrifugation were dispersed in methanol, and the dispersion was spray-dried again to obtain a surface-treated powder with a silica-based coupling agent (silica layer forming step) .

この粉体30gをアルゴン下で攪拌しながら、その粉体に対しヘキサメチルジシラザンを4g加えた。その後、ヘキサメチルジシラザンを加えた粉体を200℃で30分間加熱してこれに引き続き室温まで冷却した(疎水化処理工程)。その結果、シリカとジルコニアとが均一に複合された「疎水性酸化物粒子3」を得た。   While stirring 30 g of this powder under argon, 4 g of hexamethyldisilazane was added to the powder. Thereafter, the powder to which hexamethyldisilazane was added was heated at 200 ° C. for 30 minutes and subsequently cooled to room temperature (hydrophobization treatment step). As a result, “hydrophobic oxide particles 3” in which silica and zirconia were uniformly combined were obtained.

(1.4)光学用樹脂材料4(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
光学用樹脂材料3の作製において、シリカ層形成工程で用いたテトラエトキシシラン20gをテトラメトキシシラン15gに変更した。それ以外は光学用樹脂材料3の作製と同様にして「光学用樹脂材料4」を作製した。
(1.4) Production of optical resin material 4 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 molar fraction 80%)-based material) 20 g of tetraethoxysilane used in the silica layer formation step in the production of optical resin material 3 Was changed to 15 g of tetramethoxysilane. Otherwise, the “optical resin material 4” was prepared in the same manner as the optical resin material 3.

(1.5)光学用樹脂材料5(SiO/TiO(SiOモル分率60%)系材料)の作製
光学用樹脂材料3の作製において、シリカ/ジルコニア混合ゾルを得る際に用いたジルコニウムテトライソプロポキシド2139gをチタンテトライソプロポキシド2274gに変更した。それ以外は光学用樹脂材料3の作製と同様にして「光学用樹脂材料5」を作製した。
(1.5) Production of optical resin material 5 (SiO 2 / TiO 2 (SiO 2 molar fraction 60%)-based material) In production of optical resin material 3, it was used to obtain a silica / zirconia mixed sol. Zirconium tetraisopropoxide 2139 g was changed to titanium tetraisopropoxide 2274 g. Otherwise, the “optical resin material 5” was prepared in the same manner as the optical resin material 3.

(1.6)光学用樹脂材料6(SiO/Al(SiOモル分率60%)系材料)の作製
光学用樹脂材料3の作製において、シリカ/ジルコニア混合ゾルを得る際に用いたジルコニウムテトライソプロポキシド2139gをアルミニウムイソプロポキシド2492gに変更した。それ以外は光学用樹脂材料3の作製と同様にして「光学用樹脂材料6」を作製した。
(1.6) Production of optical resin material 6 (SiO 2 / Al 2 O 3 (SiO 2 molar fraction 60%)-based material) In producing optical resin material 3, when obtaining a silica / zirconia mixed sol The zirconium tetraisopropoxide used 2139 g was changed to aluminum isopropoxide 2492 g. Otherwise, the “optical resin material 6” was prepared in the same manner as the optical resin material 3.

(1.7)光学用樹脂材料7(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
光学用樹脂材料1の作製において上記疎水化処理を行わなかった。それ以外は光学用樹脂材料1の作製と同様にして「光学用樹脂材料7」を作製した。
(1.7) Production of optical resin material 7 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 molar fraction 80%)-based material) In the production of optical resin material 1, the hydrophobic treatment was not performed. Otherwise, the “optical resin material 7” was prepared in the same manner as in the production of the optical resin material 1.

(1.8)光学用樹脂材料8(SiO/ZrO(SiOモル分率80%)系材料)の作製
光学用樹脂材料1の作製において、シリカ/ジルコニア混合ゾルを得る際にジルコニウムテトライソプロポキシド5969g、イソプロパノール150gの混合液を100分かけて添加したところを24時間かけて添加し、更に上記疎水化処理を行わなかった。それ以外は光学用樹脂材料1の作製と同様にして「光学用樹脂材料8」を作製した。
(1.8) Production of optical resin material 8 (SiO 2 / ZrO 2 (SiO 2 molar fraction 80%)-based material) In production of optical resin material 1, zirconium tetrazirconium was used to obtain a silica / zirconia mixed sol. A place where a mixture of 5969 g of isopropoxide and 150 g of isopropanol was added over 100 minutes was added over 24 hours, and the above hydrophobization treatment was not performed. Otherwise, “Optical Resin Material 8” was produced in the same manner as in the production of Optical Resin Material 1.

(1.9)試料1〜8の作製
上記で得られた各光学用樹脂材料1〜8を、160℃、10Torr、真空下でプレスして、Φ11mm、3mm厚の成型体を作製し、それら成型体を「試料1〜8」とした。なお、各試料1〜8には表面研磨を施した。
(1.9) Production of Samples 1 to 8 Each of the optical resin materials 1 to 8 obtained above was pressed under vacuum at 160 ° C. and 10 Torr to produce a molded body having a diameter of 11 mm and a thickness of 3 mm. The molded body was designated as “Samples 1-8”. Each sample 1 to 8 was subjected to surface polishing.

(2)各試料1〜8(光学用樹脂材料1〜8)の物性測定
(2.1)各試料1〜8における疎水性酸化物粒子の粒度分布測定
ミクロトームを用いて各試料1〜8から100nm程度の切片を作製し、試料1〜8の各切片を透過型電子顕微鏡(日立製H-800)で観察(100000倍)し、得られた像を試料1〜8ごとに体積換算平均粒子径に換算した。その換算結果を下記表2に示す。
(2) Physical property measurement of each sample 1-8 (optical resin materials 1-8) (2.1) Particle size distribution measurement of hydrophobic oxide particles in each sample 1-8 From each sample 1-8 using a microtome Sections of about 100 nm were prepared, and each section of samples 1 to 8 was observed with a transmission electron microscope (Hitachi H-800) (100,000 times), and the obtained images were averaged in terms of volume for each of samples 1 to 8. Converted to diameter. The conversion results are shown in Table 2 below.

(2.2)各試料1〜8の屈折率の測定
自動屈折計(カルニュー光学工業製:KPR-200)を用いて、温度25℃、波長588nmにおける各試料1〜8の屈折率を測定した。その測定結果を下記表2に示す。
(2.2) Measurement of Refractive Index of Samples 1-8 The refractive index of each sample 1-8 at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 588 nm was measured using an automatic refractometer (manufactured by Kalnew Optical Industry: KPR-200). . The measurement results are shown in Table 2 below.

(2.3)各試料1〜8の透過率の測定
ASTM D 1003に準拠した透過率の測定方法により、各試料1〜8に対し、波長405nmにおける光透過率の測定を行った。その測定結果を下記表2に示す。
(2.3) Measurement of transmittance of each sample 1-8
The transmittance of each sample 1 to 8 was measured at a wavelength of 405 nm by a transmittance measuring method based on ASTM D 1003. The measurement results are shown in Table 2 below.

(2.4)各試料1〜8の吸水率の測定
高温高湿機(エスペック株式会社製PR-2PK)を使用して、各試料1〜8を事前に100℃、10%RHで100時間乾燥させ、その後60℃、90%RHで500時間保存して吸湿させた。乾燥後の試料1〜8の重量に対する吸湿後の試料1〜8の重量増加分から、各試料1〜8の吸水率を算出した。その算出結果を下記表2に示す。なお、乾燥後の試料1〜8の重量は乾燥有機溶媒を用いたカールフィッシャー法で測定した。
(2.4) Measurement of water absorption rate of samples 1 to 8 Using a high-temperature and high-humidity machine (PR-2PK, manufactured by ESPEC Corporation), each sample 1 to 8 was previously 100 ° C. and 10% RH for 100 hours. It was dried, and then stored at 60 ° C. and 90% RH for 500 hours to absorb moisture. The water absorption rate of each sample 1-8 was computed from the weight increase of the sample 1-8 after moisture absorption with respect to the weight of the sample 1-8 after drying. The calculation results are shown in Table 2 below. The weights of the samples 1 to 8 after drying were measured by the Karl Fischer method using a dry organic solvent.

(2.5)各試料1〜8における屈折率の湿度依存性の測定
高温高湿機(エスペック株式会社製PR-2PK)を使用して、各試料1〜8を事前に100℃、10%RHで100時間乾燥させ、その後60℃、90%RHで500時間保存して吸湿させた。その後、自動屈折計(カルニュー光学工業製:KPR-200)を用いて、乾燥後の試料1〜8と吸湿後の試料1〜8との温度25℃、波長588nmにおける各屈折率を測定し、試料1〜8ごとに屈折率の湿度依存性(=(吸湿後の試料1〜8の屈折率)/(乾燥後の試料1〜8の屈折率)×100[%])を算出した。その算出結果を下記表2に示す。
(2.5) Measurement of Humidity Dependence of Refractive Index in Samples 1 to 8 Using a high-temperature and high-humidity machine (PR-2PK manufactured by Espec Corporation), each sample 1 to 8 was previously set at 100 ° C. and 10%. It was dried with RH for 100 hours, and then stored at 60 ° C. and 90% RH for 500 hours to absorb moisture. Then, using an automatic refractometer (manufactured by Kalnew Optical Industry: KPR-200), each refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 588 nm of samples 1 to 8 after drying and samples 1 to 8 after moisture absorption is measured, The humidity dependence of the refractive index (= (refractive index of samples 1 to 8 after moisture absorption) / (refractive index of samples 1 to 8 after drying) × 100 [%]) was calculated for each of samples 1 to 8. The calculation results are shown in Table 2 below.

(2.6)各試料1〜8における屈折率の温度依存性の測定
自動屈折計(カルニュー光学工業製:KPR-200)を用いて、各試料1〜8の温度を25℃から75℃まで変化させ、波長588nmにおける屈折率を測定し、各試料1〜8におけるdn/dT(温度変化に対する屈折率の変化率)を算出した。併せて、疎水性酸化物粒子が添加されていない熱可塑性樹脂(シクロオレフィン樹脂,三井化学製APEL5014)についても、同様の方法により、当該熱可塑性樹脂におけるdn/dTを算出した。これら算出結果に基づいて、下記式により、各試料1〜8のdn/dTの変化率を算出し、これを屈折率温度依存性として表した。その算出結果を下記表2に示した。
(2.6) Measurement of temperature dependence of refractive index in each sample 1 to 8 Using an automatic refractometer (KPR-200, manufactured by Kalnew Optical Industry), the temperature of each sample 1 to 8 is from 25 ° C to 75 ° C. The refractive index at a wavelength of 588 nm was measured, and dn / dT (rate of change of refractive index with respect to temperature change) in each sample 1 to 8 was calculated. In addition, dn / dT in the thermoplastic resin was calculated by the same method for the thermoplastic resin to which the hydrophobic oxide particles were not added (cycloolefin resin, APEL5014 manufactured by Mitsui Chemicals). Based on these calculation results, the change rate of dn / dT of each sample 1 to 8 was calculated by the following formula, and this was expressed as the refractive index temperature dependency. The calculation results are shown in Table 2 below.

dn/dT変化率(%)=(熱可塑性樹脂Aにおけるdn/dT−各試料1〜8におけるdn/dT)/(熱可塑性樹脂Aにおけるdn/dT)×100   dn / dT change rate (%) = (dn / dT in thermoplastic resin A−dn / dT in samples 1 to 8) / (dn / dT in thermoplastic resin A) × 100

Figure 2007197606
Figure 2007197606

表2に示す通り、試料1,2と試料7,8との各結果を比較すると、試料1,2は、試料7,8に比べて一定の水分含有率を保持しながら屈折率が熱的に安定で青色光透過性に優れており、熱可塑性樹脂に混入させる無機物質として疎水化処理を施した粒子を適用するのが有用であるのがわかる。これと同様に、試料3〜6と試料7,8との各結果を比較すると、試料3〜6も試料7,8に比べて一定の水分含有率を保持しながら屈折率が熱的に安定で青色光透過性に優れており、疎水化処理を施した粒子であればシリカ層を有していても有用であるのがわかる。   As shown in Table 2, when the results of Samples 1 and 2 and Samples 7 and 8 are compared, Samples 1 and 2 have a higher refractive index than that of Samples 7 and 8, while maintaining a constant water content. It is found that it is useful to apply particles that have been subjected to a hydrophobic treatment as an inorganic substance to be mixed into the thermoplastic resin. Similarly, when the results of Samples 3 to 6 and Samples 7 and 8 are compared, Samples 3 to 6 also have a constant water content compared to Samples 7 and 8, and the refractive index is thermally stable. It can be seen that the particles are excellent in blue light transmittance and are useful even if they have a silica layer as long as they are hydrophobized.

光ピックアップ装置の内部構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of an optical pick-up apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 光ピックアップ装置
2 半導体レーザ発振器
3 コリメータ
4 ビームスプリッタ
5 1/4波長板
6 絞り
7 対物レンズ(光学素子)
8 センサーレンズ群
9 センサー
10 2次元アクチュエータ
D 光ディスク
保護基板
情報記録面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical pick-up apparatus 2 Semiconductor laser oscillator 3 Collimator 4 Beam splitter 5 1/4 wavelength plate 6 Aperture 7 Objective lens (optical element)
8 Sensor lens group 9 Sensor 10 Two-dimensional actuator D Optical disk D 1 Protection substrate D 2 Information recording surface

Claims (14)

熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料であって、
前記疎水性酸化物粒子は、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布した均一酸化物粒子に対して、疎水化処理が施された粒子であることを特徴とする光学用樹脂材料。
An optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
The hydrophobic oxide particles are particles obtained by subjecting uniform oxide particles in which silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon are uniformly distributed to a hydrophobic treatment. Optical resin material.
請求項1に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水化処理は、前記均一酸化物粒子の表面にシラザン類を付着させて加熱する処理であることを特徴とする光学用樹脂材料。
The optical resin material according to claim 1,
The optical resin material, wherein the hydrophobic treatment is a treatment in which silazanes are attached to the surface of the uniform oxide particles and heated.
請求項2に記載の光学用樹脂材料において、
前記シラザン類がヘキサメチルジシラザンであることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to claim 2,
An optical resin material, wherein the silazanes are hexamethyldisilazane.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水性酸化物粒子の表面がポリシラザンで形成されていることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material as described in any one of Claims 1-3,
An optical resin material, wherein the surface of the hydrophobic oxide particles is formed of polysilazane.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水性酸化物粒子の粒子径が1〜50nmであることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to any one of claims 1 to 4,
An optical resin material, wherein the hydrophobic oxide particles have a particle size of 1 to 50 nm.
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料であって、
前記疎水性酸化物粒子は、ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布しかつ表面にシリカ層が形成された均一酸化物粒子に対して、疎水化処理が施された粒子であることを特徴とする光学用樹脂材料。
An optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
The hydrophobic oxide particles are subjected to a hydrophobic treatment on uniform oxide particles in which silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon are uniformly distributed and a silica layer is formed on the surface. An optical resin material, characterized in that the optical resin material is a fine particle.
請求項6に記載の光学用樹脂材料において、
前記シリカ層がテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランで形成されていることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to claim 6,
An optical resin material, wherein the silica layer is formed of tetramethoxysilane or tetraethoxysilane.
請求項6又は7に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水化処理は、前記シリカ層の表面にシラザン類を付着させて加熱する処理であることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to claim 6 or 7,
The hydrophobizing treatment is a treatment in which silazanes are attached to the surface of the silica layer and heating is performed.
請求項8に記載の光学用樹脂材料において、
前記シラザン類がヘキサメチルジシラザンであることを特徴とする光学用樹脂材料。
The optical resin material according to claim 8,
An optical resin material, wherein the silazanes are hexamethyldisilazane.
請求項6〜9のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水性酸化物粒子の表面がポリシラザンで形成されていることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to any one of claims 6 to 9,
An optical resin material, wherein the surface of the hydrophobic oxide particles is formed of polysilazane.
請求項6〜10のいずれか一項に記載の光学用樹脂材料において、
前記疎水性酸化物粒子の粒子径が1〜50nmであることを特徴とする光学用樹脂材料。
In the optical resin material according to any one of claims 6 to 10,
An optical resin material, wherein the hydrophobic oxide particles have a particle size of 1 to 50 nm.
請求項1〜11に記載の光学用樹脂材料を用いて成型されたことを特徴とする光学素子。   An optical element molded using the optical resin material according to claim 1. 熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、
ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、
前記粒子形成工程後に、前記均一酸化物粒子に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、
前記疎水化処理工程後に、前記疎水性酸化物粒子と熱可塑性樹脂とを混練する混練工程と、
を備えることを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
A method for producing an optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
A particle forming step of uniformly distributing silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon to form uniform oxide particles;
After the particle formation step, the uniform oxide particles are subjected to a hydrophobic treatment to form hydrophobic oxide particles; and
A kneading step of kneading the hydrophobic oxide particles and the thermoplastic resin after the hydrophobic treatment step;
A method for producing an optical resin material, comprising:
熱可塑性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、
ケイ素酸化物と1種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、
前記粒子形成工程後に、前記均一酸化物粒子の表面にシリカ層を形成するシリカ層形成工程と、
前記シリカ層形成工程後に、前記シリカ層に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、
前記疎水化処理工程後に、前記疎水性酸化物粒子と熱可塑性樹脂とを混練する混練工程と、
を備えることを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。
A method for producing an optical resin material containing a thermoplastic resin and hydrophobic oxide particles,
A particle forming step of uniformly distributing silicon oxide and one or more kinds of metal oxides other than silicon to form uniform oxide particles;
A silica layer forming step of forming a silica layer on the surface of the uniform oxide particles after the particle forming step;
After the silica layer forming step, the silica layer is subjected to a hydrophobizing treatment to form hydrophobic oxide particles, and
A kneading step of kneading the hydrophobic oxide particles and the thermoplastic resin after the hydrophobic treatment step;
A method for producing an optical resin material, comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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