JP2007196228A - 光触媒複合体及び浄水装置 - Google Patents

光触媒複合体及び浄水装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 光触媒活性が高く適応性の豊富な光触媒複合体及びこれを用いた浄水装置を提供する。
【解決手段】 光触媒複合体1は、光触媒を含有する光触媒膜5と、光触媒膜に隣接して設けられ前記光触媒が機能する波長の光に対して透過性を有する導電性膜3と、導電性膜に接続されるリード線9とを有し、導電性膜の厚さは、リード線から離れるに従って減少する。光透過性支持体7によって支持されている。このような構成によって光触媒の活性を長期間に亘って高く維持し、効率よく水の浄化処理を行うことができる。
【選択図】 図8

Description

本発明は、水の浄化処理や脱色、脱臭等に利用される光触媒を有効に作用させる光触媒複合体及び該光触媒複合体を用いた浄水装置に関するものである。
近年、無機化合物を光触媒として用いて光エネルギにより反応を進行させて水の浄化処理を行うことが試みられている。この浄化処理においては、支持体上に光触媒の膜を形成して浄化処理を施す水に投入し、光が照射される。光照射によって光触媒上に生じた正孔及び電子の対のうちの正孔によって水中の有機物の分解反応が進行する。
しかし、このような構成においては、余剰の電子が光触媒上に残存して分解反応の進行を抑制する。このため、光触媒は効率よく作用しない。
これを改善するものとして、支持体と光触媒の膜との間に金属膜を形成したものが提案されている。
ところが、浄化処理を施す水の濁度が高い場合、照射する光が水中で減衰して光触媒に到達する光の強度が不足することにより十分に反応が進行しないという問題がある。又、浄化処理を長時間行った際に光触媒膜の表面に汚染物が蓄積すると、光が遮られるために分解反応の進行が遅延し、汚染物による光触媒の被覆が加速されて光触媒が機能しなくなる。
本発明は上述のような問題点に鑑みてなされたもので、光触媒の機能を十分に活かし、長時間効率よく触媒反応を進行させることができる光触媒複合体を提供することを目的とする。
又、光触媒を用いて効率よく水の浄化処理を行うことができる浄水装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様によれば、光触媒複合体は、光触媒を含有する光触媒膜と、前記光触媒膜に隣接して設けられ前記光触媒が機能する波長の光に対して透過性を有する導電性膜と、前記導電性膜に接続されるリード線とを有し、前記導電性膜の厚さは、前記リード線から離れるに従って減少することを要旨とする。
また、本発明の他の態様によれば、光触媒複合体は、光触媒を有する光触媒複合体であって、前記光触媒が機能する波長の光に対して透過性を有する導電性層と、前記導電性層に接続されるリード線とを有し、前記光触媒は前記導電性層に接触して設けられ、前記導電性層の厚さは、前記リード線から離れるに従って減少することを要旨とする。
更に、光触媒複合体は、前記光触媒膜及び前記導電性膜を支持するための光透過性支持体を有するとよい。
また、光触媒複合体は、前記光触媒膜及び前記導電性膜間に分散して介在する金属部材を有するとよい。
前記光触媒は酸化チタンであり、前記導電性膜は酸化インジウムを含有し、前記金属部材として、球状、ウィスカー状又は棒状の、白金、金、銀、銅、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、ニッケル、マンガン及びコバルトからなる群より選択される金属の粒状物を有するとよい。
本発明の浄水装置は、水を収容する水槽と、該水槽に付設される上記の光触媒複合体と、該光触媒が機能する波長の光を該光触媒複合体の光触媒膜に供給するための光源とを有する。
本発明によれば、光触媒の活性を長時間に亘って高く維持し、水の浄化、脱色、脱臭等の処理を効率よく進行させることができる。
金属膜上に光触媒の層を設けた場合、金属膜が光を遮弊することによって、光触媒への光の供給は一方向側からのみに制限される。このことは光触媒を用いた処理装置を構成する上で極めて不利となる。又、光触媒の反応効率は光触媒に到達する光量に左右されるから、金属膜上に設けられた光触媒膜が厚いと、膜の表面の光触媒のみが機能し内部の光触媒が全く機能しないということも生じる。従って、光触媒の効率的な使用においても問題がある。
上述のような問題は、光透過性と電子伝導性とを兼備する膜を用いることによって解決される。詳細には、図1に示すように、本発明の光触媒複合体1は、光透過性を有する導電性膜3とこの上に設けられる光触媒膜5とを有し、これらは機械的強度を得るために透明の支持体7上に形成されている。導電性膜3にはリード線9が接続されており、リード線9はアースまたは外部回路(図示せず)に接続される。導電性膜3及び支持体7の光透過性によって、光触媒膜5には、図中矢印Aで示される光触媒膜5側からの方向だけでなく矢印Bで示される導電性膜3側からの方向にも光照射が可能である。光照射によって励起された光触媒から生じた正孔は、汚染物の分解反応等のような処理反応の進行に用いられる。従って、正孔を用いて処理を行う対象(例えば浄化する水等)を光触媒膜5と接触させながら光を照射して光触媒を励起させることによって処理反応が進行し、一方、励起された光触媒から生じた電子は導電性膜3へ移動し、リード線9を介して複合体1外部へ除去される。この結果、余剰電子が光触媒膜5に残存することによる反応進行阻害は起こらない。又、濁度の高い水等の浄化処理にも矢印A及びBの方向からの光照射により汚染物の分解反応を促進することができる。
図1の構成を有する光触媒複合体1を用いた浄水装置の一例を図2に示す。この浄水装置11は、処理を施す水を収容する水槽13と、水槽13内に設置される光触媒複合体15と、光触媒を励起させるための光源17とを備える。光触媒複合体15は、光源17を囲むように円筒形に形成された透過性をもつ支持体19と、支持体19の外周に積層された光透過性の導電性膜21と、導電性膜21の外周に積層された光触媒膜23とを有し、導電性膜21の上端にリード線25が接続されている。処理が施される水は、水槽13に設けられた給水管27から水槽13に供給され、処理後の水は排水管29から排出される。水槽13の底部には沈澱物などを水槽13から除去するための排出管31が接続されている。
光源17を用いて光触媒複合体15の内側から光を照射すると、光触媒の励起により、光触媒複合体15周辺において、水槽13に供給された水中に含まれる汚染物の分解及び微生物の殺菌が進行する。
図2の浄水装置は、必要に応じて様々に変形することができる。例えば、光触媒複合体15を光源17上に載設してもよく、光源の外周部分を支持体として光源上に直接光透過性の導電性膜及び光触媒膜を積層してもよい。又、水槽13を透明な材料で製作し、水槽13の外部にも光源を設けるようにしてもよい。あるいは、透明な材料で製作した水槽13の内面上に光透過性の導電性膜及び光触媒膜を積層して水槽の外部から光照射を行うようにしてもよい。
上述のような構成の光触媒複合体は以下のような材料を用いて製作することができる。まず、光触媒膜は、光触媒性を有する物質の層であればよく、例えば、酸化チタン、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化亜鉛、チタン酸ストロンチウム等の酸化物が挙げられる。特に酸化チタンは、紫外線の照射によりフォトンのエネルギを吸収して強い酸化力を発揮する優れた光触媒である。この様な材料による光触媒膜の形成は、気相法及び液相法のいずれでも行うことができ、気相法としては例えば真空蒸着法、CVD法等が挙げられ、液相法としては例えばディップ法、イオンコーティング法、液相析出法、ゾルゲル法等が挙げられる。酸化チタンにクロムイオンを打ち込んで太陽光を利用可能な光触媒としたものも利用できる。
光透過性の導電性膜は、光触媒を励起させる波長の光の透過を著しく妨げることがなく導電性を有する物質の膜であればよく、酸化チタンのような紫外線域において触媒能を有する光触媒を用いるときには紫外線透過性の導電性材料を成膜する。光透過性の導電性材料として、例えば、ITO(酸化インジウム及び酸化錫の混合物)やATO(酸化アンチモン及び酸化錫の混合物)等を挙げることができる。特にITOは透明性が高く電子伝導性も良好である。このような材料からなる膜は、真空蒸着法等の成膜方法を用いて支持体上に積層することによって得られる。あるいは、この様な材料からなる粉末をバインダを用いて支持体上に固着することもできる。バインダには、焼成によりガラスのような透明材料となるものが用いられる。硫酸バリウムのような光透過性の材料にITO又はATOを被覆したものを導電性膜として用いることもできる。
支持体は、光触媒を励起させる波長の光の透過を著しく妨げることのない材料であればよい。例えば、酸化珪素、酸化ホウ素、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム等を構成成分とするものが挙げられる。但し、光触媒膜を形成する工程において焼成処理を必要とし、支持体も同時に加熱される場合には、焼成処理に耐え得る耐熱性を有する材料でなければならない。光源が低圧水銀灯の場合には、支持体の材料は石英ガラスを用いることが望ましく、光源が太陽光又はブラックライトの場合には硬質ガラス等を好適に使用することができる。
図1の光触媒複合体1の光触媒膜5から導電性膜3への余剰電子の受渡しは、両膜に接するように金属材を配置することによって促進される。詳細には、図3に示す光触媒複合体33のように、導電性膜3及び光触媒膜5の間に両膜と接するように金属部材35が分散して設けられる。この金属部材35は、導電性膜3及び光触媒膜5間の導電性を向上させて電子を分離するためのものである。少なくとも金属部材35間を互いに連結して電子伝導経路を形成する必要はない。金属部材35の形状については、例えば球状やウィスカー状、棒状を用いることができる。金属部材35は、両膜との接触面積が大きく且つ光透過を妨害しないものが好ましく、このような形態として、例えば、両膜の接合界面に垂直に延びるように配置されたウィスカー状のもの等が挙げられる。金属部材として、白金、金、銀、銅、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、ニッケル、マンガン、コバルト等の粒状物が挙げられる。中でも白金は電子分離機能に優れている。
図3の光触媒複合体33を利用した浄水装置の一例を図4に示す。この浄水装置37は、光透過性の材料で形成した水槽39の底部に光触媒複合体33を設置したもので、水槽39の上方または下方から光を照射することによって、光は光触媒複合体33の支持体7及び導電性膜3を介して光触媒膜5に達し、光触媒複合体33上方の水に含まれる汚染物の分解反応が進行する。光触媒膜5中に生じた電子は金属部材35を通じて導電性膜3に移動する。導電性膜3は、リード線(図示省略)を介して浄水装置37外でアース又は回路に接続される。
図4のような浄水装置37を用いて例えば蟻酸水溶液を処理すると、蟻酸の濃度は図5の線aで示されるように照射時間と共に減少する。導電性膜3を構成しない光触媒複合体を用いた場合には、余剰電子が光触媒膜5及び金属部材35から外部へ移動できないため、分解反応の進行が鈍化し、破線bで示すような結果を生じる(詳細については後述の実施例1及び比較例1を参照)。
光触媒複合体における光触媒膜及び導電性膜の境界は厳格なものである必要はない。換言すれば、光触媒及び導電性材料間において積層方向に連続的に濃度が変化するような濃度勾配がある層であってもよい。例えば、図6の光触媒複合体41のように、光透過性の支持体43近辺において光透過性の導電性材料粒子45の量が多く、支持体43から離れるに従って光触媒粒子47の量が増加するような濃度勾配のある層49が支持体43上に形成されたものであってもよい。照射される光による反応が層49の表面において光触媒粒子47によって進行し、余剰電子は光触媒粒子47から導電性材料粒子45に受け渡され、層49下部の導電性材料粒子45を移動してリード線(図示省略)から層49外に除去される。従って、このような濃度勾配によって、層49は、実質的に前述の光触媒膜及び導電性膜と同様に作用する。
更に変形すれば、導電性材料粒子間の電子の受渡しが可能な層である限り、光触媒粒子と導電性材料粒子が任意に混合された層であってもよい。導電性材料粒子が光透過性であることによって、光触媒粒子は支持体の両側からの照射光を受光できる。
図7は、導電性材料粒子がウィスカー状である一例を示す。この光触媒複合体51は、光透過性の支持体53上にウィスカー状の透明の導電性材料粒子55及び光触媒粒子57を含んだ層59が積層されている。ウィスカー状の導電性材料粒子を用いた場合、粒子間の伝導性が得られるように層を形成したときの層の光透過性の低下が球状粒子を用いる場合よりも少なくて済む。従って、光触媒粒子57を光励起し易く、光触媒粒子57を多く積層することができる。ウィスカー状粒子に代えて、光透過性の導電性材料を網状の長繊維に形成し、これに光触媒を積層してもよい。
図8は、導電性材料を通る電子の抵抗を減少させる応用の一例を示す。図において(a)は層を形成する粒子を微視的に表した図であり、(b)は層を概念的に表した図である。
この実施形態において、光触媒複合体61の支持体63上の導電性材料粒子65及び光触媒粒子67を含有する層69は、導電性材料粒子65を多く含む部分65’の厚さが、接続されるリード線71から離れるに従って減少し、光触媒粒子67を多く含む部分67’が支持体63に対して傾斜している。このように導電性材料と光触媒との実質的境界(図(b)中に点線で表示)が傾斜し導電性膜の厚さが異なることによって、光触媒からリード線への電子の移動が円滑になり、抵抗が減少する。
上記に示す実施形態を必要に応じて適宜組み合わせることによって、光触媒の機能を相乗的に向上させることができる。図3に示すような金属部材を図8の層69内に埋設してもよい。
導電性膜上に設けられた光触媒膜に光を照射したときに、例えば光触媒膜が極端に厚い場合には、照射光が光触媒膜の奥深くまで到達せず光触媒膜の表面のみしか作用しないことが考えられる。このような場合、光触媒膜の表面近くで生じる電子は厚い膜を横断して導電性膜に達しなければ導電性膜の電子除去能は有効に作用しない。つまり、光触媒膜の厚さによって電子の伝達抵抗の問題が生じることが考えられる。又、光触媒膜全体に光が作用していても、光励起によって反応が進行する部分と余剰電子が導電性膜に受け渡される部分との距離が大きいことは同様に電子の伝達抵抗の問題を生じることになる。従って、光触媒膜の厚さは、光触媒複合体全体としての触媒能を左右する要素となることが予想される。以下に、光触媒膜の厚さについて説明する。
図9に示すような光触媒複合体73について考える。この光触媒複合体73は、透明の支持体75上に金属膜77及び紫外線における触媒機能を有する光触媒膜79を形成したものである。金属膜77は、下方からの紫外線を完全に遮断するに十分な厚さを有し、リード線(図示省略)によりアース接続されている。この光触媒複合体73を酒石酸水溶液に投入して、酒石酸水溶液を矢印C方向にフローさせながら紫外線を矢印Aの方向から一定時間照射した後に酒石酸水溶液の濃度を測定し、酒石酸の分解率を算出する(詳細については後述の実施例2及び比較例2を参照)。この操作を光触媒膜79の厚さの異なるものについて繰り返し行い、光触媒膜の厚さと分解率との関係を求めると、図10のグラフにおける線cのようになる。同様の操作を、金属膜77のない光触媒複合体について行った場合は、図10のグラフの線dのようになる。
金属膜がない場合(線d)、光触媒膜の厚さの増加に従って分解率は増大するが、極大値(N1)に達した約500nm以上では殆ど増加しない。これに対し、金属膜を有する場合(線c)、光触媒膜の厚さの増加に従って分解率は急激に増加するが、200nm付近を越えると穏やかに減少し、500nm付近でN1に漸近する。金属膜がない場合(線d)との差は、金属膜によって余剰電子が除去され残存電子による反応の進行阻害が防止される効果によるものである。図10のグラフから理解されるように、一方向からの光照射について、光触媒膜に接設した導電性膜での余剰電子除去による効果が得られるのは、光触媒膜の厚さが約500nm以下の時に限られることがわかる。この時、触媒膜のみによる分解率の極大値N1を越えるのは、光触媒膜の厚さが約50〜500nmの時である。
図10のような相関関係は、例えば、図11の(a)(b)に示すような複数の光触媒複合体からなる繊維集合体81を用いた場合に近似的に適用することができると考えられる。繊維集合体81は複数の光触媒複合体83からなり、各光触媒複合体83は金属製のコア繊維85とこれを被覆する光触媒膜87とを有する。周囲から照射された光によって光触媒膜87に生じた電子は、コア繊維85を通じて末端へ到る。コア繊維85の末端はリード線等によりアース又は回路に接続される。コア繊維85が光透過性の導電性材料によるものであっても、触媒膜の裏面(内側)からの透過光による効果は小さいと予想されるので、近似的に上述のような相関関係を適用できると考えられる。
図9に示す光触媒複合体73に、図12のように矢印Bの方向つまり支持体75側から紫外線を照射した場合について考える。但し、この場合、金属膜77は紫外線がある程度透過可能な厚さであるものとする。図2のような条件で光触媒複合体73を用いて前述と同様の酒石酸水溶液の処理を行い、酒石酸の分解率を算出すると、図13のグラフにおける線eのようになる。同様の操作を金属膜77のない光触媒複合体について行った場合は、図13のグラフの線fのようになる(詳細については後述の実施例3−1及び比較例3を参照)。
図12及び13のような条件において、金属膜77がない場合(線f)、酒石酸の分解率は光触媒膜の厚さの増加と共に増大するが、約250nm付近において極大値(N2)に達した後減少し、光触媒膜の厚さが500nmになると分解能力は殆どなくなる。この理由としては、光触媒膜79が厚いために、分解反応が進行する光触媒膜の表面(支持体75と反対の側)まで紫外線が到達しないこと、分解反応が進行する光触媒の表面と紫外線が到達する部分との距離が長いために、光励起によって生じる正孔及び電子の移動の際の抵抗が大きいために金属膜に電子を放出し難いこと等が挙げられる。金属膜7がある場合(線e)についても、分解率は光触媒膜の厚さが約200nm付近で最大となり、約500nm付近では分解能力は殆どなくなる。光触媒膜が約500nm以下の薄いときには残存電子の除去による分解率の向上が見られるが、光触媒膜が厚くなると残存電子の除去による効果が発揮されなくなる。この結果、金属膜を有する場合において分解率がN2を越えるのは、図13においては約75〜400nmまでの範囲内の時となる。
図12の光触媒複合体の金属膜の厚さを変化させて上記と同様の操作を繰り返し、分解率がN2となる時の光触媒膜の厚さ(x(nm))及び金属膜の厚さ(y(nm))を求める(詳細については後述の実施例3−2を参照)と、図14のプロットのようになり、分解率がN2以上になるのはこのプロットで囲まれた範囲になる。この範囲を近似的に表すと、以下の式(1)及至(3)を満たすx及びy(図中、斜線で示す)とすることができる。
(数1)
75 ≦ x ≦ 400 (1)
y ≦ x/6 + 27.5 (2)
y ≦ −7x/50 + 96.5 (3)
金属膜の厚さyが約40nm以下で、且つ光触媒膜の厚さxが約75〜400nmまでの範囲では、明らかに分解率がN2以上であることが理解される。金属膜の厚さが40nmを越えると光の透過率が低下し、電子の移動による効果も向上しないため、N2以上の分解率を示す範囲は限られてくる。
光触媒複合体73について、図15に示すように矢印A及びBの両方向から紫外線を照射した場合について考える。この場合についても、金属膜77は紫外線が透過可能な厚さを有するものとする。前述と同様に酒石酸水溶液の処理を行い、酒石酸の分解率を算出すると、図16のグラフにおける線gのようになる。同様の操作を金属膜77のない光触媒複合体について行った場合は、図16のグラフの線hのようになる(詳細については後述の実施例4−1及び比較例4を参照)。
図15及び16のような条件において、金属膜77がない場合(線h)、酒石酸の分解率は、触媒膜の厚さの増加に従って増大し、増加の勾配は図10の場合より大きいが、分解率が極大値(N3)に達した後は増加しない。金属膜77がある場合(線g)、分解率は、光触媒膜の厚さの増加に従って著しく増加し、約200nm付近を越えると緩やかに減少して500nm近辺でN3に漸近する。分解率がN3を越えるのは、図16においては約50〜500nmまでの範囲内となる。これらの結果は、一方向からの光照射による図10及び図13の各々の結果を考え合わせて予想されるものと概ね合致する。
前述と同様に図15の光触媒複合体の金属膜の厚さを変化させて上記と同様の操作を繰り返し、分解率がN3となる時の光触媒膜の厚さ(x(nm))及び金属膜の厚さ(y(nm))を求める(詳細については後述の実施例4−2を参照)と、図17のプロットのようになり、分解率がN3以上になるのはこのプロットで囲まれた範囲になる。この範囲を近似的に表すと、以下の式(4)及至(6)を満たすx及びy(図中、斜線で示す)とすることができる。
(数2)
50 ≦ x ≦ 500 (4)
y ≦ 0.2x + 30 (5)
y ≦ −0.1x + 90 (6)
金属膜の厚さyが約40nm以下で、且つ光触媒膜の厚さxが約50〜500nmの範囲では、明らかに分解率がN3以上であることが理解される。金属膜の厚さが50nmを越えると透過光が不足し、電子の移動による効果も向上しないため、N3以上の分解率を示す範囲は限られてくる。
上述の光触媒膜及び金属膜の厚さに関する数値は、使用する材料を変えても同様の傾向を示し、若干の補正を加えることによって好適に適用することができる。又、前述の金属膜以外の光透過性を有する導電性膜(例えばITO膜)を用いた光触媒複合体については、光透過性が高いため、導電性膜の厚みの影響を受けにくいので、図12〜17から容易に考えられるように、光触媒膜の厚さを適切な範囲に設定するのが好ましい。約50〜500nmまでの範囲内、より好ましくは約75〜400nmまでの範囲内に設定する。
上記で説明した光触媒複合体は、前述したような浄水処理だけでなく、光触媒を用いて行う各種反応処理に利用することができ、図2のような構成を適宜変形して光反応による合成・分解、及びこれらに基づいた脱臭、脱色、殺菌、精製処理等を実施することができる。
以下、実施例を参照して本発明を更に詳細に説明する。
(実施例1)
寸法が100mm×100mm×2mmの石英板の片面に、真空蒸着法によって厚さ100nmのITO(酸化錫含有量5モル%)膜を形成し、ITO膜の末端にリード線を接続した。
次いで、ITO膜上をメッシュでマスキングし白金を蒸着させ、メッシュをはずすことによって、粒径10〜100μmまでの白金粒体約10万個をITO膜上に形成した。
この上に、二酸化チタンゾル(石原産業社製、ST−K01)を100倍に希釈したものを10ml塗布して室温で乾燥させ、更に200℃の空気中で1時間焼成して図3に示すような光触媒複合体を得た。光触媒複合体の二酸化チタン層の厚さは100nmであった。
上記光触媒複合体を硬質ガラス製の水槽に取り付けて図4のような浄水装置を作製した。この水槽に濃度が100ppm の蟻酸水溶液1000mlを投入し、水槽の下方からブラックライトを用いて光を照射しながら蟻酸水溶液の蟻酸濃度を測定した。測定結果から、光照射時間と蟻酸水溶液の蟻酸濃度との関係を調べた。これを図5のグラフに線aで示す。
他方、白金粒体を形成しなかったこと以外は上記と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を形成して図1のような浄水装置を作製し、同様に光照射による蟻酸水溶液の蟻酸濃度の変化を測定した。この結果を図5のグラフに一点鎖線a’で示す。
図5から理解されるように、図1のような光触媒膜5においては光励起により光触媒反応の進行の妨げとなる余剰電子が生成し、この余剰電子を光触媒複合体の外部へ除去することを目的として導電性膜3が設けられている。ここで、余剰電子は光触媒膜5から導電性膜3へ両膜の界面を介して受け渡される。この受渡し、換言すれば光触媒膜5からの電子分離を促進させれば、余剰電子はより速やかに導電性膜3へ移動できるようになるため、結果として光触媒複合体の触媒性能が向上する。
(比較例1)
ITO膜及び白金粒体を形成しなかったこと以外は実施例1と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を形成して浄水装置を作製し、同様に光照射による蟻酸水溶液の蟻酸濃度の変化を測定した。この結果を図5のグラフに破線bで示す。
(実施例2)
寸法が100mm×100mm×2mmの硬質ガラス製の透明の支持体上に真空蒸着法によって金属膜として厚さ40nmの金膜及び触媒膜として厚さ25nmの酸化チタン膜を形成して図9のような光触媒複合体を得た。この光触媒複合体を濃度が25ppm の酒石酸水溶液1000mlに投入して、酒石酸水溶液が矢印C方向に流れるように攪拌しながらUVランプ(消費電力6W)を用いて紫外線を矢印A方向から3時間照射した後に酒石酸水溶液の濃度を測定し、酒石酸の分解率(%)[=100×(25ppm −照射後酒石酸濃度)/25ppm ]を算出した。
光触媒膜の厚さを20〜550nmまでの範囲で変更した点以外は上記と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を作製し、酒石酸水溶液を用いて酒石酸の分解率を調べた。
上述の操作の結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図10のグラフに線cで示す。
(比較例2)
金属膜を形成しなかったこと以外は実施例2と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を形成し、酒石酸の分解率を調べた。得られた結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図10のグラフに線dで示す。
(実施例3−1)
寸法が100mm×100mm×2mmの硬質ガラス製の透明の支持体上に真空蒸着法によって金属膜として厚さ5nmの金膜及び触媒膜として厚さ25nmの酸化チタン膜を形成して図12のような光触媒複合体を得た。この光触媒複合体を濃度が25ppm の酒石酸水溶液1000mlに投入して、酒石酸水溶液が矢印C方向に流れるように攪拌しながらUVランプ(消費電力6W)を用いて紫外線を矢印B方向から3時間照射した後に酒石酸水溶液の濃度を測定し、酒石酸の分解率(%)[=(25ppm −照射後酒石酸濃度)/25ppm ]を算出した。
光触媒膜の厚さを20〜550nmまでの範囲で変更した点以外は上記と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を作製し、酒石酸水溶液を用いて酒石酸の分解率を調べた。
上述の操作の結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図13のグラフに線eで示す。
(比較例3)
金属膜を形成しなかったこと以外は実施例3−1と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を形成し、酒石酸の分解率を調べた。得られた結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図13のグラフに線fで示す。
(実施例3−2)
金属膜の厚さを10〜70nmまでの範囲で変更した点以外は実施例3−1と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を作製し、各厚さの金属膜を有する光触媒複合体について、酒石酸水溶液を用いて酒石酸の分解率を調べた。結果を用いて、図13と同様の光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係のグラフを作成した。
比較例3の結果から分解率の最大値N2を求め、上記で得られたグラフ及び図13のグラフにおいて分解率がN2となる時の光触媒膜の厚さを求めた。これらの結果から、光触媒膜の厚さと金属膜の厚さとの関係を図14に示す。
(実施例4−1)
寸法が100mm×100mm×2mmの硬質ガラス製の透明の支持体上に真空蒸着法によって金属膜として厚さ5nmの金膜及び触媒膜として厚さ25nmの酸化チタン膜を形成して図15のような光触媒複合体を得た。この光触媒複合体を濃度が25ppm の酒石酸水溶液1000mlに投入して、酒石酸水溶液が矢印C方向に流れるように攪拌しながらUVランプ(消費電力6W)を用いて紫外線を矢印A及びBの両方向から3時間照射した後に酒石酸水溶液の濃度を測定し、酒石酸の分解率(%)[=(25ppm −照射後酒石酸濃度)/25ppm ]を算出した。
光触媒膜の厚さを20〜550nmまでの範囲で変更した点以外は上記と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を作製し、酒石酸水溶液を用いて酒石酸の分解率を調べた。
上述の操作の結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図16のグラフに線gで示す。
(比較例4)
金属膜を形成しなかったこと以外は実施例4−1と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を形成し、酒石酸の分解率を調べた。得られた結果から、光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係を図16のグラフに線hで示す。
(実施例4−2)
金属膜の厚さを10〜70nmまでの範囲で変更した点以外は実施例4−1と同様の操作を繰り返して光触媒複合体を作製し、各厚さの金属膜を有する光触媒複合体について、酒石酸水溶液を用いて酒石酸の分解率を調べた。結果を用いて、図16と同様の光触媒膜の厚さと酒石酸の分解率との関係のグラフを作成した。
比較例4の結果から分解率の最大値N3を求め、上記で得られたグラフ及び図13のグラフにおいて分解率がN3となる時の光触媒膜の厚さを求めた。これらの結果から、光触媒膜の厚さと金属膜の厚さとの関係を図17に示す。
本発明に係る光触媒複合体の第1の実施形態を示す概略構成図。 本発明に係る浄水装置の第1の実施形態の構成を示す斜視図。 本発明に係る光触媒複合体の第2の実施形態を示す概略構成図。 本発明に係る浄水装置の第2の実施形態を示す概略構成図。 浄水装置を用いた蟻酸の分解処理結果を示すグラフで、線aは図4の浄水装置を用いた場合であり、線a’は図4の浄水装置から金属部材を省いたものを用いた場合、線bは図4の浄水装置から導電性膜及び金属部材を省いたものを用いた場合を示す。 本発明に係る光触媒複合体の第3の実施形態を示す概略構成図。 本発明に係る光触媒複合体の第4の実施形態を示す概略構成図。 本発明に係る光触媒複合体の第5の実施形態を示す概略構成図で、(a)は層を形成する粒子を微視的に表した図であり、(b)は層を概念的に表した図。 本発明に係る光触媒複合体の第6の実施形態を示す概略構成図。 分解反応に図9の光触媒複合体を用いた場合の光触媒膜の厚さと分解率との関係を示すグラフ。 本発明に係る光触媒複合体の第7の実施形態を用いた繊維集合体の概略構成図(a)及び光触媒複合体のX−X線断面図(b)。 図9の光触媒複合体において光照射方向の変更を示す説明図。 図12の光触媒複合体における光触媒膜の厚さと分解率との関係を示すグラフ。 図12の光触媒複合体において分解率がN2値以上となる場合の光触媒膜の厚さと金属膜の厚さとの関係を示すグラフ。 図9の光触媒複合体において光照射方向の変更を示す説明図。 図15の光触媒複合体における光触媒膜の厚さと分解率との関係を示すグラフ。 図15の光触媒複合体において分解率がN3値以上となる場合の光触媒膜の厚さと金属膜の厚さとの関係を示すグラフ。
符号の説明
1、15、33、41、51、61、73 光触媒複合体
3、21 導電性膜
5、23、79 光触媒膜
7、19、43、53、63、75 支持体
9、25、71 リード線
11、37 浄水装置
13、39 水槽
17 光源
27 給水管
29 排水管
31 排出管
35 金属部材
45、55、65 電子伝導性材料粒子
47、57、67 光触媒粒子
49、59、69 層

Claims (6)

  1. 光触媒を含有する光触媒膜と、前記光触媒膜に隣接して設けられ前記光触媒が機能する波長の光に対して透過性を有する導電性膜と、前記導電性膜に接続されるリード線とを有し、前記導電性膜の厚さは、前記リード線から離れるに従って減少することを特徴とする光触媒複合体。
  2. 光触媒を有する光触媒複合体であって、前記光触媒が機能する波長の光に対して透過性を有する導電性層と、前記導電性層に接続されるリード線とを有し、前記光触媒は前記導電性層に接触して設けられ、前記導電性層の厚さは、前記リード線から離れるに従って減少することを特徴とする光触媒複合体。
  3. 更に、前記光触媒膜及び前記導電性膜を支持するための光透過性支持体を有する請求項1又は2に記載の光触媒複合体。
  4. 更に、前記光触媒膜及び前記導電性膜間に分散して介在する金属部材を有する請求項1〜3の何れかにに記載の光触媒複合体。
  5. 前記光触媒は酸化チタンであり、前記導電性膜は酸化インジウムを含有し、前記金属部材として、球状、ウィスカー状又は棒状の、白金、金、銀、銅、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、ニッケル、マンガン及びコバルトからなる群より選択される金属の粒状物を有する請求項4記載の光触媒複合体。
  6. 水を収容する水槽と、該水槽に付設される請求項1〜5の何れかに記載の光触媒複合体と、該光触媒が機能する波長の光を該光触媒複合体の光触媒膜に供給するための光源とを有することを特徴とする浄水装置。
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