JP2007194113A - 電子装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】水を主溶剤とするインクに三級アルコールを添加したインク組成物を用いて有機ELパネルのホール注入層等の画素部形成有機層または有機薄膜トランジスタの活性層等の電子装置を製造する。三級アルコールとしては、3−メチル−1−ブチン−3−オールを使用する。このアルコールの添加量は、インクに対して25wt%から40wt%の範囲とする。
【選択図】なし
Description
Claims (10)
- 複数の活性層の積層又は並設、あるいはそれらの積層と並設とで所定の機能構造を実現する電子装置の製造方法であって、
前記複数の活性層の少なくとも一層を、当該活性層となる材料に三級アルコールを添加した水性インクのインクジェット法による塗布で形成すること特徴とする電子装置の製造方法。 - 前記三級アルコールが3−メチル−1−ブチン−3−オールであることを特徴とする請求項1に記載の電子装置の製造方法。
- 前記三級アルコールの添加量が当該インクに対して25wt%から40wt%の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の電子装置の製造方法。
- 前記電子装置は、絶縁性基板上に多数の有機EL素子を配列してなる有機ELパネルであり、
前記絶縁性基板上に、画素毎に第1の電極を形成する第1電極形成工程と、
前記第1の電極の上に発光に寄与する有機材料からなる複数の画素部形成層を形成する有機材料形成工程と、
前記画素部形成層を覆って第2の電極を形成する第2電極形成工程と、
を含み、
前記画素部形成層の少なくとも1層の形成に三級アルコールを添加した水性インクをインクジェット法による塗布で形成することを特徴とする電子装置の製造方法。 - 前記三級アルコールが3−メチル−1−ブチン−3−オールであることを特徴とする請求項4に記載の電子装置の製造方法。
- 前記三級アルコールの添加量が当該インクに対して25wt%から40wt%の範囲であることを特徴とする請求項5に記載の電子装置の製造方法。
- 前記画素部形成層の少なくとも1層がホール注入層であることを特徴とする請求項5に記載の電子装置の製造方法。
- 前記電子装置は、絶縁性基板上にソース電極と、ドレイン電極と、半導体層と、ゲート電極とを有する有機薄膜トランジスタであり、
前記ソース電極,ドレイン電極及びゲート電極の少なくとも何れかの電極が三級アルコールを添加した水性インクのインクジェット法による塗布で形成することを特徴とする電子装置の製造方法。 - 前記三級アルコールが3−メチル−1−ブチン−3−オールであることを特徴とする請求項8に記載の電子装置の製造方法。
- 前記三級アルコールの添加量が当該インクに対して25wt%から40wt%の範囲であることを特徴とする請求項9に記載の電子装置の製造方法。
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