JP2007189141A - 集積回路の製造方法。 - Google Patents
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Abstract
【課題】集積回路の設計ルールの微細化が進むにつれて、歩留まりとの相関関係を考慮しなければならない欠陥数が指数関数的に多くなるので、高効率かつ高い信頼性をもつ欠陥と電気的歩留まりの相関関係を抽出するためのキラーレイシオ法(Killer-Ratio)の精度を維持する方法を提供する。
【解決手段】ウェハ120のチップ121a〜121iにおける機能PT(n)のが良品である領域(m,n)122b(領域122b内の欠陥123bが存在するものも含む)の歩留まりと機能PT(n)のが不良である領域(m,n)122a(領域122a内の欠陥123aが存在しないものも含む)との機能PT(n)の歩留まりとを用いて、キラーレイシオを算出する。
【選択図】図12
【解決手段】ウェハ120のチップ121a〜121iにおける機能PT(n)のが良品である領域(m,n)122b(領域122b内の欠陥123bが存在するものも含む)の歩留まりと機能PT(n)のが不良である領域(m,n)122a(領域122a内の欠陥123aが存在しないものも含む)との機能PT(n)の歩留まりとを用いて、キラーレイシオを算出する。
【選択図】図12
Description
集積回路の製造方法に関する。
新しい材料と新しいプロセスに対応した新しい装置の導入と、設計ルールの微細化により、集積回路の製造工程が複雑化している。そして、この複雑化する製造工程に付随して、欠陥を発生させる要因が増大している。そこで、工程内で生じる欠陥を精度よく検出し、得られた欠陥情報をいかに早く、かつ的確に製造工程へとフィードバックするかが、製造ラインの早期立ち上げや歩留まり向上のために、いっそう重要となっている。
このような製造工程の改善と高効率化とを実現するために、集積回路の各製造工程内にて欠陥検査を実行し、欠陥情報を取得することが行われている。製造工程内で行われる欠陥検査をインライン欠陥検査とよび、集積回路が完成する前に欠陥を検出することが重要視されている。このインライン欠陥検査で得られた欠陥情報を用いて、プロセス条件の調整、およびプロセス状態の不具合を感知するといった製造工程へのフィードバックが行なわれる。このような製造工程内での欠陥箇所の特定や欠陥原因の解明は、歩留まり向上へ反映できるだけでなく、製造と検査とを一体化して生産効率を向上させる効果がある。
このインライン欠陥検査で用いられる検査装置には、光学式あるいは電子線式パターン検査装置や欠陥レビュ装置などがある。これらの装置を用いて、欠陥の大きさや種類、電気的不良の有無といった欠陥の特定が行われている。また、欠陥検出精度を向上するために、複数の欠陥検査を組み合わせることも行われている。
さらに、このように欠陥特定の精度を向上させることだけでなく、欠陥と電気的歩留まりとの相関関係を調査することが、製造工程の改善と高効率化とを実現させるために、さらに有益となる。
そして、半導体集積回路の欠陥の電気的歩留まりへの影響を定量的に扱う方法として、キラーレイシオ法(例えば、非特許文献1を参照。)が知られている。このキラーレイシオ法を用いると、欠陥と電気的歩留まりとの相関関係から欠陥対策への定量的な指針を得ることができる。
図1を用いて、キラーレイシオ法の概要を説明する。図1のウェハ10−Aとウェハ10−Bは、同一のウェハである。ここで、ウェハ10−Aには、第1の欠陥11と第2の欠陥12とを用いて欠陥分布を示す。また、ウェハ10−Bには、電気的良品のチップ13と電気的不良のチップ14とを用いて、チップの電気的歩留まりを示す。キラーレイシオ法を用いると、第1の欠陥11もしくは第2の欠陥12と、ウェハ10−B上に形成されたチップの電気的歩留まりとの相関関係を定量化できる。
図2に、ウェハ20に形成されたチップ21乃至24、および欠陥と電気的不良との相関関係を数値として表すキラーレイシオ(Killer‐Ratio、以下KRとする。)の定義式を示す。ウェハ20には図記号にて、欠陥のない良品チップ21、欠陥のない不良チップ22、欠陥のある良品チップ23、欠陥のある不良チップ24が分類されている。そして、キラーレイシオ法では、このようなチップの4つの分類を用いて、欠陥のないチップの歩留まりRaと欠陥のあるチップの歩留まりRbを算出し、次いでKRを算出する。
図3を用いて、欠陥がウェハ全体へ与える影響を定量的に表すダメージ率を説明する。図3に、ウェハ30と、ウェハ上に形成されたチップ31と、ウェハ上に生成された欠陥32を示す。ここで、チップ上に欠陥が存在するかどうかに注目する。このとき、欠陥が存在するチップ数とウェハ上の有効チップ数の割合を示す、欠陥発生率gを算出できる。そして、gとKRを掛け合わせると、欠陥のあるチップからウェハ30全体への欠陥の影響を定量的に推定できるダメージ率が算出できる。このダメージ率を用いると、歩留まり低下に対して、より致命的な影響を与える工程を知ることができる。そして、この結果を製造工程にフィードバックすることで、歩留まり向上に対してより的確に対応することができる。
ところで、集積回路の設計ルールの微細化が急速に進むにつれて、チップ内に発生する電気的不良に影響を与える欠陥の最小サイズが小さくなっている。また、製造工程も複雑になることで、インライン欠陥検査で歩留まりとの相関関係を考慮しなければならない欠陥の数が指数関数的に多くなっている。この傾向は、多層配線構造をもつ集積回路では、さらに顕著となる。また、高集積化によりチップ面積は増大し、ひとつのウェハ上に作成されるチップ数が減少する傾向にある。また、ウェハの大口径化に伴い、欠陥発生数や欠陥モードの著しい増大と発生要因の多様化が進んでいる。
そこで、このような欠陥数の増大や欠陥の多様化に適応した欠陥検査が必要とされており、欠陥検査方法の効率と信頼性とのさらなる向上が望まれている(例えば特許文献1、2を参照。)。
渡辺健二、外4名、「半導体用暗視野異物検査技術における検出感度最適化手法の提案」、精密工学会誌、Vol.68、No.4、p.521(2002)。 特開2002−100660号公報。
特開2002−323458号公報。
渡辺健二、外4名、「半導体用暗視野異物検査技術における検出感度最適化手法の提案」、精密工学会誌、Vol.68、No.4、p.521(2002)。
以上述べた従来技術における問題点は、欠陥と電気的歩留まりとの相関を表すKRの算出工程を含む集積回路の製造において、欠陥数の増大、またはチップ数の減少があったときに、キラーレイシオ法の精度が低下する点である。
本発明は、基板上に生成された欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオ(Killer−Ratio、KR)を算出する工程を含む集積回路の製造方法であって、前記集積回路上で、第1の機能が実現される領域を抽出する第1の工程と、前記集積回路に対して、インライン欠陥検査を行う第2の工程と、前記第1の工程で抽出された領域に含まれる、前記第2の工程で検出された欠陥を抽出する第3の工程と、前記第1の工程で抽出された領域に対して、前記第1の機能の検査を行う第4の工程と、前記第3の工程による欠陥の抽出結果と、前記第4の工程による前記第1の機能の検査結果から、前記第1の機能に対応する前記キラーレイシオを算出する第5の工程とを有することを特徴とする。
すなわち、本発明ではKRを算出する際に、従来のようにチップの全機能が正常に動作しているか否かを検査対象とするのではなく、チップ内における特定の機能を実現する領域内の欠陥と、その領域の電気的歩留まりとの相関関係の調査を行う。つまり、1つのチップを仮想的に複数の領域に分割してKRを算出することを特徴とする。
本発明では、1つのチップ上に多数の欠陥が関与するような場合でも、仮想的にチップを分割してKR算出を行うので、従来方法ではKRが低く見積もられていた基板が、特定の電気的特性に対して精度の高いKRをもつことが示される。そして、歩留まりへの影響を示すダメージ率の精度も向上する。
図4を用いて、チップを仮想的に分割する様子を説明する。図4に、ウェハ40と、設計データ41と、第1の機能を実現する領域42と
第2の機能を実現する領域43と第3の機能を実現する領域44とがレイアウトされた、チップの拡大図45を示す。
第2の機能を実現する領域43と第3の機能を実現する領域44とがレイアウトされた、チップの拡大図45を示す。
本発明では、第1の機能を実現する領域42と
第2の機能を実現する領域43と
第3の機能を実現する領域44といった特定の機能を有する領域が、チップ上の特定の領域にあることに注目する。そして、この特定の機能を実現する領域を用いてチップを仮想的に分割する。つまり、欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオ(Killer−Ratio、以下KRとする)を、チップ単位で算出するのではなく、例えば、第1の機能を実現する領域42と
第2の機能を実現する領域43と
第3の機能を実現する領域44とをもとにチップを仮想的に分割して、分割した領域においてKRの算出を行う。なお、この領域の分割は設計データ41を用いて行う。
第2の機能を実現する領域43と
第3の機能を実現する領域44といった特定の機能を有する領域が、チップ上の特定の領域にあることに注目する。そして、この特定の機能を実現する領域を用いてチップを仮想的に分割する。つまり、欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオ(Killer−Ratio、以下KRとする)を、チップ単位で算出するのではなく、例えば、第1の機能を実現する領域42と
第2の機能を実現する領域43と
第3の機能を実現する領域44とをもとにチップを仮想的に分割して、分割した領域においてKRの算出を行う。なお、この領域の分割は設計データ41を用いて行う。
さらに、一般的には、特定の機能に応じて配線密度が異なることに注目する。例えば、ロジック部と比較してメモリセル部は配線密度が高い。また、配線密度に応じて致命的な欠陥の大きさや種類も異なってくる。したがって、1つのチップ単位の歩留まりを用いてKRを算出するのではなく、特定の機能毎にチップを仮想的に分割し、その特定の機能を実現する領域の電気的歩留まりを用いてKRを算出すれば、致命性に応じたより信頼性の高い欠陥検査が可能となる。
図5に、本発明の実施例1の概要を示す。実施例1は、設計データから、特定の機能を有する領域の抽出工程50aと、インライン欠陥検査工程50bと、電気的特性の測定と判定をする工程50cとからなる、KRの算出に必要な情報の取得工程50と、欠陥と電気的不良の相関関係を表すKRの算出工程51aと、欠陥がウェハに与える影響を表すダメージ率の算出工程51bとからなる、欠陥と電気的歩留まりとの相関関係の算出工程51と、欠陥と電気的歩留りの相関関係の調査結果を製造工程へフィードバックするための、歩留まり低下工程の特定と対策工程52とからなる。
なお、インライン欠陥検査と、電気的特性の検査と、領域の抽出とは、KR算出時に所望の情報がそれぞれにおいて取得できていればよい。そして各々の情報の取得順序は任意であり、検査内容と製造工程内容により最適に選択すればよい。
次いで、4層配線構造を有する集積回路を用いて、図5に示した各工程の詳細を説明する。ただし、本発明の実施対象は4層配線構造に限定されず、配線層の数に依存しない。
図6に、4層配線構造を有する集積回路の各配線層において、第1の機能を実現する領域を斜線部分を用いて示す。図6の配線層61、62、63、64は、4層配線構造から構成されるチップの第1層乃至4層をそれぞれ示している。また、領域60は、各配線層61乃至64において、第1の機能を実現する領域を示している。これらの領域は、設計データにより抽出できる。抽出した領域の情報は、欠陥と電気的不良との相関関係を調査するときに使用される(図5の工程50aに対応)。
次いで、少なくとも1つの製造工程後や、さらには電気的不良への影響度が大きいと予想される工程後に、図6に示す各配線層、もしくは各配線層において電気的不良の発生率が高いと予想される配線層に対して、インライン欠陥検査の実施をする。なお、本発明の実施において、集積回路を含む基板に対して、インライン欠陥検査を行うことも可能である。
インライン欠陥検査での検査対象は、チップ上の異物、スクラッチ、パターンショート、欠け、などの欠陥であり、この検査ではこれらの欠陥の座標や種類を特定する。検査方法としては、光学的な検査装置を用いる手法として、試料表面にレーザを照射してその散乱光を検出するダークフィールド方式、試料表面に光を照射してその反射光を検出するブライトフィールド方式、試料表面に電子線を照射した際に放出される二次電子を検出する走査型電子顕微鏡(ScanningElectron Microscopy, SEM)を用いる方式などがある。これらの検査では、試料画像と参照画像との比較を行い、それから得られる差異を欠陥として欠陥座標等の検出を行う。この参照画像としては、隣接するチップの同じ場所の画像を用いる方法や、所定の参照パターンを用いる方法がある(図5の工程50bに対応)。
図7に、インライン欠陥検査の結果例を示す。この結果例には、第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果70と、第2の製造工程終了後の欠陥検査の結果71と、第3の製造工程終了後の欠陥検査の結果72と、第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果の拡大図73とを示す。各々の結果には、欠陥74、75などが種々の図形でウェハ上に示されている。各工程終了後にインライン欠陥検査を行い、どの工程で生成された欠陥であるかを欠陥の座標やモードともに記録しておく。
ただし、本発明を実施するために必要な情報の1つは、ウェハにおける欠陥の位置情報であり、インライン欠陥検査では欠陥の位置情報を取得することが最低限必要である。
次いで、上記のインライン欠陥検査により得られた欠陥情報に対して、所望の電気的特性PT(n)を実現する領域AREA(m、n)に含まれる欠陥を抽出する。このAREA(m、n)は、設計データを用いて抽出した領域であり、図4に示す領域42乃至44や、図6に示す領域60などに対応する。ここで、m、nは電気的特性と領域との種類を示す記号であり、図10を説明するときに併せて詳しく述べる。
次いで、領域AREA(m、n)に対して電気的特性PT(n)の良不良を判定する。この電気的不良とは、絶縁不良、断線、パッドの接続不良、帯電、サージによる破壊や経時劣化などといった集積回路の製造工程で発生する、一般的な電気的不良全てが対象である。具体的な検査方法には、試料に電子線を照射した際に、電子線の照射条件や集積回路上の電気的回路構成により生じる各種チャージアップの規則性の乱れなどを用いて電気的不良を調査する、SEMを用いたボルテージコントラスト(Voltagecontrast、VC)法や、配線パターンに対してプローブカート・コンタクトプローブを用いて検査をする方法などがある。これらの検査方法による結果と設計データとの相関を取ることで、各チップのAREA(m、n)の電気的欠陥が検出できる(図5の工程50cに対応)。
ただし、本発明を実施するために最低限必要な情報の1つは、AREA(m、n)の電気的不良の有無である。それゆえ、上記に示した電気的不良を検査する方法のいずれをも選択することができ、かつ多数の検査工程を組み合わせてもよい。そして、調査したい機能や工程によって検査方法を最適に選択すれば、検査効率と検査精度の向上によりKR算出の信頼性が高まる。
図8に、3回の製造工程からなる集積回路に対して、本発明を実施した場合の各工程の流れ図を示す。ここでは、工程毎にインライン欠陥検査を行い、そして製造工程終了後に電気的特性の検査を行う。一方で、工程毎にインライン欠陥検査と電気的特性の検査を行うことも可能である。また、インライン欠陥検査と電気的特性の検査を行う順序は、どちらを先とすることも可能である。前者の最後に電気的特性の検査を行う場合は、電気的特性の検査回数が減ることで検査時間の短縮が可能となる。後者のインライン欠陥検査と電気的特性の検査を交互に行う場合は、高精度で多面的な電気的歩留まりの評価が可能となる。
また、工程内での欠陥検査には、製造と検査を一体化して生産効率を向上させる効果がある。図8に関連した上記実施方法においても、製造工程の規模や目的に応じて生産効率の高くなるように順番や検査数を選択する。
さらに、KRとダメージ率の算出を含む集積回路の製造工程において、最初に全製造工程を大きな工程レイヤに分け、それらの工程レイヤ毎のKRとダメージ率を取得することは、問題となる製造工程特定の効率を上げる効果がある。これは、多数の工程によって製造される集積回路において、全ての製造工程のKRとダメージ率を参照すると手間を要するからである。まず、大きな工程レイヤのKRとダメージ率を参照し、その結果からダメージ率が相対的に高い工程レイヤに含まれる製造プロセスのKRと、ダメージ率とを取得するといった、段階的にKRとダメージ率とを使用することで、問題工程の抽出が容易になる。また、本発明の実施において、このように段階的にKRとダメージ率とを使用する際の工程レイヤの抽出方法は、任意に決めてよい。
図9に、3つの工程レイヤに分割した場合の各工程レイヤのダメージ率を、模式的に示す。ここでは、工程レイヤ3が最もダメージ率が大きいとした。このとき、工程レイヤ3に含まれる製造工程が、歩留まり低下に最も大きく影響している。したがって、工程レイヤ3に注目し、工程レイヤ3に含まれる製造工程のKRの算出と、ダメージ率との取得および評価を行う。そして、工程レイヤ3を構成する工程内から、さらにダメージ率の大きな工程を抽出し、さらに詳細に対策する。
この対策としては、光学的な検査装置やSEMによる欠陥レビュや元素分析等などがある。これは、インライン欠陥検査などの検査結果を用いることができる。すなわち、ダメージ率の大きい製造工程が特定できたら、あらかじめ取得しておいたインライン欠陥検査の結果を詳細に分析し、問題となる工程内の欠陥の種類を特定する。このように欠陥の種類の情報とダメージ率の結果とを組み合わせることで、製造方法や装置の特定を行うことが可能となる。
ところで、半導体集積回路の製造において、最初に分類する大きな工程レイヤとは、例えば、シリコン基板表面の酸化といった半導体集積回路の製造開始から、トランジスタのゲートのエッチング以前の製造工程からなる工程レイヤL1と、L1の終了からコンタクトホールの平坦化法(例えば化学的機械的研磨法、CMP)までの製造工程からなる工程レイヤL2と、L2以降の製造工程からなる工程レイヤL3などである。このように大きくレイヤ化したL1、L2、L3に含まれる製造工程に対して実行したインライン欠陥検査の結果を用いて、L1、L2、L3のKRとダメージ率との算出を行う。ここで、L1、L2、L3を工程レイヤの例として示したのは、半導体集積回路のフロントエンドの製造工程が、L2までにおいてほぼ終了している点が考慮されている。そして、工程レイヤL1のダメージ率が大きければ、工程レイヤL1に含まれる製造工程から構成できるあたらしい工程レイヤや、もしくはさらに細分化した単独の製造工程などにおいてKRとダメージ率とを取得し、そして、それらの結果を用いて欠陥への対策と管理を行う。
次いで、上記のインライン欠陥検査と電気的特性の検査の結果とを用いて、欠陥と機能の電気的歩留まりとの相関関係の調査を行う。つまり、KRの算出を行う(図5の工程51に対応)。
図10に、本発明におけるKR算出手順の一例を示す。
はじめに、電気的特性PT(n)と、PT(n)を実現する集積回路上の領域AREA(m、n)の組み合わせリストとを作成する。これを工程100とする。ここで、n、mは自然数である。nは調査対象とした電気的特性の数を表す。一方、mは集積回路上でPT(n)を実現する領域の数を表す。
次いで、ある電気的特性PT(i)と、ある領域AREA(m、i)とに注目する。iは1からnまでの自然数である。これを工程101とする。
次いで、領域AREA(m、i)の領域内にある、インライン欠陥検査で得られた欠陥を抽出する。これを工程112とする。
次いで、KRとダメージ率を算出する。これを工程103とする。
次いで、 PT(i)とは異なる電気的特性PT(j)があるかどうかを判断する。これを工程104とする。さらに調査したいPT(j)がある場合には、PT(i)と同様に工程101、102、103の算出をjに対して行う。一方で、調査したいPT(j)がない場合には、図10の算出手順を終了する。
本発明により、算出されたKRと、電気的特性PT(n)を実現する領域AREA(m、n)に発生した欠陥の発生率を掛け合わせることで、欠陥のウェハ全体に対する影響を推定できるダメージ率を算出する(図5の工程51bに対応)。
図11に、本発明によって算出されたKRとダメージ率とを用いた、歩留まり低下工程への対策例の一例を示す。この例は、
KRとダメージ率とを大きい順に並べてリスト化する工程110と、ダメージ率の大きい製造工程を抽出して、その製造工程の欠陥数低減の対策工程111と、KRの大きい製造工程を抽出して、その製造工程の欠陥数の推移に注目した管理工程112からなる。
KRとダメージ率とを大きい順に並べてリスト化する工程110と、ダメージ率の大きい製造工程を抽出して、その製造工程の欠陥数低減の対策工程111と、KRの大きい製造工程を抽出して、その製造工程の欠陥数の推移に注目した管理工程112からなる。
KRとダメージ率とを大きい順に並べるなどしてリスト化すると、
各製造工程の電気的歩留まりへの影響を、より的確に知ることができる。もし特定の層のダメージ率が他の層よりも大きければ、その層の製造工程の電気的歩留まりへの影響が、他の層に比べて大きいということなので、歩留まり向上にはまずその製造工程に注目すればよい。より一般的には、ダメージ率の大きい製造工程の抽出とその製造工程の欠陥数低減の対策と、KRの大きい製造工程の抽出とその製造工程の欠陥数の推移に注目した製造管理を行うことで、ラインの早期立ち上げや歩留まり向上が可能となる。
各製造工程の電気的歩留まりへの影響を、より的確に知ることができる。もし特定の層のダメージ率が他の層よりも大きければ、その層の製造工程の電気的歩留まりへの影響が、他の層に比べて大きいということなので、歩留まり向上にはまずその製造工程に注目すればよい。より一般的には、ダメージ率の大きい製造工程の抽出とその製造工程の欠陥数低減の対策と、KRの大きい製造工程の抽出とその製造工程の欠陥数の推移に注目した製造管理を行うことで、ラインの早期立ち上げや歩留まり向上が可能となる。
図12を用いて、本発明によるKRの算出を説明する。ただし、本発明において、図12に示すチップ数や欠陥の状態などは、実施の限定条件とならない。
ウェハ120には、正方形で示す9つのチップ121a乃至iが形成されている。また、機能PT(n)を実現する領域Area(m、n)122aおよび122bが、各チップ121a乃至iから抽出されている。また、この領域Area(m、n)に対する電気的な欠陥検査において、不良品であった領域122aと良品であった領域122bとが、斜線の有無によって区別されている。ここでは、不良であった領域122aを斜線部分にて示した。また、図12に、領域123a内の欠陥123aと、領域122b内の欠陥123bと、チップ内であって領域Area(m、n)外の欠陥123cと、チップ外の欠陥123dとを示す。
ウェハ120には、正方形で示す9つのチップ121a乃至iが形成されている。また、機能PT(n)を実現する領域Area(m、n)122aおよび122bが、各チップ121a乃至iから抽出されている。また、この領域Area(m、n)に対する電気的な欠陥検査において、不良品であった領域122aと良品であった領域122bとが、斜線の有無によって区別されている。ここでは、不良であった領域122aを斜線部分にて示した。また、図12に、領域123a内の欠陥123aと、領域122b内の欠陥123bと、チップ内であって領域Area(m、n)外の欠陥123cと、チップ外の欠陥123dとを示す。
本発明では、領域Area(m,n)に欠陥のない場合の機能PT(n)の歩留まりと、領域Area(m、n)に欠陥のある場合の機能PT(n)の歩留まりとを用いてKRを算出する。
図13に、図12においてチップ単位でKRを算出する従来方法の算出結果と、図12において本発明のKRの算出結果とを示す。ただし、本発明と比較するために、従来方法の算出において、電気的不良のチップをチップ121a、121e、121iとした。これは、従来方法では、チップから抽出した機能PT(n)を実現する領域の電気的不良を、チップの不良としてみなしてKRを算出するからである。
このとき、ウェハに対する欠陥の条件は同じであっても、本発明のKRとダメージ率のほうが高く見積もられており、実際に電気的歩留まりに影響を与えている欠陥と製造工程をより精度よく評価していることが分かる。この図13に示した効果の差は、設計ルールの微細化に伴う欠陥数の増大や、集積回路の大型化によるチップ数の減少や、ウェハの大口径化に伴う欠陥発生要因の多様化が進むほど、顕著に現れる。
さらに、本発明では特定パターン領域のKRの算出を行うので、歩留まり低下に影響を及ぼす配線パターンの傾向を知ることができる。したがって、歩留まりに実際に影響を与えている配線パターンを定量的に知ることができる。
図14に、本発明の実施例2の説明図として、検査対象となるウェハ140と、第1の機能を実現する第1の領域141と第2の機能を実現する第2の領域142、およびウェハ140に存在する欠陥143とを示す。
実施例2では、同一チップに対して複数の機能の電気的歩留まりを調査している場合に、各機能を実現する各領域でのKRを用いて、領域の面積比により加重平均を取る。この加重平均値により、KRの精度をさらに上げることができる。
図15に、本発明の実施例3の説明図として、検査対象となるウェハ150と、第1の機能を実現する第1の領域151と、ウェハ150に存在する第1の欠陥152と第2の欠陥153とを示す。
実施例3では、インライン欠陥検査において欠陥のサイズの分類やSEMレビュによる欠陥の形の区別を行い、欠陥モード毎にKRを算出する。この場合には、問題となる工程だけでなく、どのタイプの欠陥が電気的歩留まりに影響を与えているかを知ることができる。
また、本発明の実施例4として、実施例2(図14)と実施例3(図15)の特徴を組み合わせて、複数の欠陥と複数の領域を組み合わせて欠陥と電気的歩留まりとの相関関係の調査を行うことも可能である。
なお、本発明の実施範囲は、実施例で示した半導体集積回路の製造工程に限定されず、プリント基板やプラズマディスプレイパネルや液晶パネルといった電気的な配線を有する集積回路全般の製造方法に適用することができる。
本発明は、KRの算出を含む集積回路の製造工程に対して利用可能である。
以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
(付記1)
基板上に生成された欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオを算出する工程を含む集積回路の製造方法であって、
前記集積回路上で、第1の機能が実現される領域を抽出する第1の工程と、
前記集積回路に対して、インライン欠陥検査を行う第2の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に含まれる、前記第2の工程で検出された欠陥を抽出する第3の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に対して、前記第1の機能の検査を行う第4の工程と、
前記第3の工程による欠陥の抽出結果と、前記第4の工程による前記第1の機能の検査結果から、前記第1の機能に対応する前記キラーレイシオを算出する第5の工程と
を有する集積回路の製造方法。(1)
(付記2)
付記1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記キラーレイシオを用いて欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を算出する第6工程を有する集積回路の製造方法。(2)
(付記3)
付記1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記第1と前記第3と前記第4の工程が少なくとも2つ以上の機能に対して行われ前記少なくとも2つ以上の機能毎に算出されたキラーレイシオ群の加重平均を算出する第7の工程を有する集積回路の製造方法。(3)
(付記4)
付記3に記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を、前記第7の工程で算出されたキラーレイシオ群の加重平均を用いて算出する第8の工程を有する集積回路の製造方法。(4)
(付記5)
付記1乃至4のいずれか1つに記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥のモード別に前記キラーレイシオを算出する第9の工程を有する集積回路の製造方法。(5)
(付記6)
付記5に記載の集積回路の製造方法であって、
前記第9の工程で算出されたキラーレイシオを用いてダメージ率を算出する工程を有する集積回路製造工程の製造方法。
基板上に生成された欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオを算出する工程を含む集積回路の製造方法であって、
前記集積回路上で、第1の機能が実現される領域を抽出する第1の工程と、
前記集積回路に対して、インライン欠陥検査を行う第2の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に含まれる、前記第2の工程で検出された欠陥を抽出する第3の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に対して、前記第1の機能の検査を行う第4の工程と、
前記第3の工程による欠陥の抽出結果と、前記第4の工程による前記第1の機能の検査結果から、前記第1の機能に対応する前記キラーレイシオを算出する第5の工程と
を有する集積回路の製造方法。(1)
(付記2)
付記1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記キラーレイシオを用いて欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を算出する第6工程を有する集積回路の製造方法。(2)
(付記3)
付記1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記第1と前記第3と前記第4の工程が少なくとも2つ以上の機能に対して行われ前記少なくとも2つ以上の機能毎に算出されたキラーレイシオ群の加重平均を算出する第7の工程を有する集積回路の製造方法。(3)
(付記4)
付記3に記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を、前記第7の工程で算出されたキラーレイシオ群の加重平均を用いて算出する第8の工程を有する集積回路の製造方法。(4)
(付記5)
付記1乃至4のいずれか1つに記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥のモード別に前記キラーレイシオを算出する第9の工程を有する集積回路の製造方法。(5)
(付記6)
付記5に記載の集積回路の製造方法であって、
前記第9の工程で算出されたキラーレイシオを用いてダメージ率を算出する工程を有する集積回路製造工程の製造方法。
10‐A、10−B、20、30:ウェハ
11:第1の欠陥
12:第2の欠陥
13:電気的不良がないチップ
14:電気的不良があるチップ
21:欠陥がない良品チップ
22:欠陥がない欠品チップ
23:欠陥がある良品チップ
24:欠陥がある欠品チップ
31:チップ
32:欠陥
40:ウェハ
41:設計データ
42:第1の機能(例えば、メモリセル部)を実現する領域
43:第2の機能(例えば、ロジック部)を実現する領域
44:第3の機能を実現する領域
45:チップの拡大図
50:KRの算出に必要な情報の取得工程
50a:設計情報により特定の機能を有する領域の抽出工程
50b:インライン欠陥検査工程
50c:電気的特性の測定と判定をする工程
51:欠陥と電気的歩留まりの相関関係の算出工程
51a:KR(キラーレイシオ)の算出工程
51b:ダメージ率の算出工程
52:歩留まり低下工程の特定および対策工程
60:4層配線構造からなる第1のチップにおいて第1の機能を実現する領域
61:4層配線構造からなる第1のチップの第1の層
62:4層配線構造からなる第1のチップの第2の層
63:4層配線構造からなる第1のチップの第3の層
64:4層配線構造からなる第1のチップの第4の層
70:第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果
71:第2の製造工程終了後の欠陥検査の結果
72:第3の製造工程終了後の欠陥検査の結果
73:第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果の拡大図
74:第1の欠陥
75:第2の欠陥
120、140、160:ウェハ
121a乃至i:チップ
122a:機能PT(n)が不良である領域Area(m、n)
122b:機能PT(n)が良品である領域Area(m、n)
123a:領域123a内の欠陥
123b:領域122b内の欠陥
123c:チップ内であって領域Area(m、n)外の欠陥
123d:チップ外の欠陥
141:第1の電気的特性を実現する第1の領域
142:第2の電気的特性を実現する第2の領域
143:ウェハ140上の欠陥
151:第1の電気的特性を実現する第1の領域
152:第1の欠陥
153:第2の欠陥
11:第1の欠陥
12:第2の欠陥
13:電気的不良がないチップ
14:電気的不良があるチップ
21:欠陥がない良品チップ
22:欠陥がない欠品チップ
23:欠陥がある良品チップ
24:欠陥がある欠品チップ
31:チップ
32:欠陥
40:ウェハ
41:設計データ
42:第1の機能(例えば、メモリセル部)を実現する領域
43:第2の機能(例えば、ロジック部)を実現する領域
44:第3の機能を実現する領域
45:チップの拡大図
50:KRの算出に必要な情報の取得工程
50a:設計情報により特定の機能を有する領域の抽出工程
50b:インライン欠陥検査工程
50c:電気的特性の測定と判定をする工程
51:欠陥と電気的歩留まりの相関関係の算出工程
51a:KR(キラーレイシオ)の算出工程
51b:ダメージ率の算出工程
52:歩留まり低下工程の特定および対策工程
60:4層配線構造からなる第1のチップにおいて第1の機能を実現する領域
61:4層配線構造からなる第1のチップの第1の層
62:4層配線構造からなる第1のチップの第2の層
63:4層配線構造からなる第1のチップの第3の層
64:4層配線構造からなる第1のチップの第4の層
70:第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果
71:第2の製造工程終了後の欠陥検査の結果
72:第3の製造工程終了後の欠陥検査の結果
73:第1の製造工程終了後の欠陥検査の結果の拡大図
74:第1の欠陥
75:第2の欠陥
120、140、160:ウェハ
121a乃至i:チップ
122a:機能PT(n)が不良である領域Area(m、n)
122b:機能PT(n)が良品である領域Area(m、n)
123a:領域123a内の欠陥
123b:領域122b内の欠陥
123c:チップ内であって領域Area(m、n)外の欠陥
123d:チップ外の欠陥
141:第1の電気的特性を実現する第1の領域
142:第2の電気的特性を実現する第2の領域
143:ウェハ140上の欠陥
151:第1の電気的特性を実現する第1の領域
152:第1の欠陥
153:第2の欠陥
Claims (5)
- 基板上に生成された欠陥と集積回路の電気的歩留まりとの相関であるキラーレイシオを算出する工程を含む集積回路の製造方法であって、
前記集積回路上で、第1の機能が実現される領域を抽出する第1の工程と、
前記集積回路に対して、インライン欠陥検査を行う第2の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に含まれる、前記第2の工程で検出された欠陥を抽出する第3の工程と、
前記第1の工程で抽出された領域に対して、前記第1の機能の検査を行う第4の工程と、
前記第3の工程による欠陥の抽出結果と、前記第4の工程による前記第1の機能の検査結果から、前記第1の機能に対応する前記キラーレイシオを算出する第5の工程と
を有する集積回路の製造方法。 - 請求項1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記キラーレイシオを用いて、欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を算出する第6の工程を有する集積回路の製造方法。 - 請求項1に記載の集積回路の製造方法であって、
前記第1と前記第3と前記第4の工程が少なくとも2つ以上の機能に対して行われ、前記少なくとも2つ以上の機能毎に算出されたキラーレイシオ群の加重平均を算出する第7の工程を有する集積回路の製造方法。 - 請求項3に記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥を含む集積回路から基板全体への欠陥の影響を表すダメージ率を、前記第7の工程で算出されたキラーレイシオ群の加重平均を用いて算出する第8の工程を有する集積回路の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか1つに記載の集積回路の製造方法であって、
欠陥のモード別に前記キラーレイシオを算出する第9の工程を有する集積回路の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006007328A JP2007189141A (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 集積回路の製造方法。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006007328A JP2007189141A (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 集積回路の製造方法。 |
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---|---|
JP2007189141A true JP2007189141A (ja) | 2007-07-26 |
Family
ID=38344078
Family Applications (1)
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JP2006007328A Pending JP2007189141A (ja) | 2006-01-16 | 2006-01-16 | 集積回路の製造方法。 |
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JP (1) | JP2007189141A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014507808A (ja) * | 2011-02-22 | 2014-03-27 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 設計ベースデバイスリスク評価 |
-
2006
- 2006-01-16 JP JP2006007328A patent/JP2007189141A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014507808A (ja) * | 2011-02-22 | 2014-03-27 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 設計ベースデバイスリスク評価 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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