JP2007182557A - Impact resisting adhesive layer, method for producing the same and impact resisting adhesive laminated structure - Google Patents

Impact resisting adhesive layer, method for producing the same and impact resisting adhesive laminated structure Download PDF

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Nobuyuki Toyoda
暢之 豊田
Kazuhiro Iso
和宏 磯
Kouta Taniguchi
孝太 谷口
Masanori Suzuki
昌則 鈴木
Akihiko Morikawa
明彦 森川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an impact resisting adhesive layer excellent in adhesion, transparency, radiation-curability, and shock absorbing property, to provide a method for producing the layer, and to provide an impact resisting adhesive laminated structure having the impact resisting adhesive layer. <P>SOLUTION: The method for producing the impact resisting adhesive layer serially comprises a deaerating step deaerating an acrylic radiation-curable liquid adhesive composition, a coating step coating on a substrate surface the acrylic radiation-curable liquid adhesive composition deaerated in the step, and a curing step curing the radiation curable liquid composition coated in the step. Wherein the impact resisting adhesive laminated structure A comprises an impact resisting adhesive layer 1 having a thickness of 50-2,000 μm, a 180° peel adhesion of 0.1-10 N/25mm, a tanδ peak value of ≥1 and a haze of ≤1 at 25°C, and another layer 2 such as a protective film set on the surface of the impact resisting adhesive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐衝撃粘着層及びその製造方法、並びに耐衝撃粘着積層構造体に関する。更に詳しくは、本発明は、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層及びその製造方法、並びに該耐衝撃粘着層を備える耐衝撃粘着積層構造体に関する。   The present invention relates to an impact-resistant adhesive layer, a method for producing the same, and an impact-resistant adhesive laminated structure. More specifically, the present invention relates to an impact resistant adhesive layer excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability and impact resistance, a method for producing the impact resistant adhesive layer, and an impact resistant adhesive laminated structure including the impact resistant adhesive layer.

近年、ディスプレイパネルとして、液晶ディスプレイパネル(LCD)及びプラズマディスプレイパネル(PDP)等の平面状ディスプレイパネルが使用されている。平面状ディスプレイパネルは、通常、複数のフィルムが積層された積層構造体である。例えば、LCDは通常、液晶パネルの表面に、偏光板、位相差板、視野角拡大フィルム及び輝度改善フィルム等の光学フィルムが積層されている。そして、平面状ディスプレイパネルを構成する各層は、通常、各種粘着剤により形成される粘着層により貼り合わされている。   In recent years, flat display panels such as a liquid crystal display panel (LCD) and a plasma display panel (PDP) have been used as display panels. A flat display panel is usually a laminated structure in which a plurality of films are laminated. For example, in an LCD, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a viewing angle widening film, and a brightness improving film is usually laminated on the surface of a liquid crystal panel. And each layer which comprises a planar display panel is bonded together by the adhesive layer normally formed with various adhesives.

下記特許文献1には、20℃での動的貯蔵弾性率が特定範囲であるガラス割れ防止粘着剤層に光学フィルムが積層されている粘着剤付光学フィルムが記載されている。下記特許文献1には、上記ガラス割れ防止粘着剤層を形成する粘着剤として、アクリル系、ゴム系、ポリエステル系、及びシリコーン系の粘着剤を使用できることが記載されている。また、下記特許文献1には、上記粘着剤は、熱架橋型の粘着剤及び紫外線又は電子線等の光架橋型の粘着剤を使用できることが記載されている。   Patent Document 1 below describes an optical film with a pressure-sensitive adhesive in which an optical film is laminated on a glass cracking-proof pressure-sensitive adhesive layer whose dynamic storage modulus at 20 ° C. is in a specific range. Patent Document 1 described below describes that acrylic, rubber-based, polyester-based, and silicone-based pressure-sensitive adhesives can be used as the pressure-sensitive adhesive that forms the glass cracking-preventing pressure-sensitive adhesive layer. Patent Document 1 below describes that the pressure-sensitive adhesive can be a heat-crosslinking pressure-sensitive adhesive and a photocrosslinking pressure-sensitive adhesive such as ultraviolet rays or electron beams.

下記特許文献2には、特定のアクリレートモノマーと他のビニルモノマーとの共重合物からなる初期重合物(A)と、(メタ)アクリル系モノマー(B)を含有し、且つガラス転移点が特定範囲であるアクリルシロップ樹脂組成物が記載されている。そして、下記特許文献2には、当該組成物が、紫外線又は電子線照射により硬化すること、及び各種粘着シートとして使用できることが記載されている。   Patent Document 2 below contains an initial polymer (A) composed of a copolymer of a specific acrylate monomer and another vinyl monomer, and a (meth) acrylic monomer (B), and has a specific glass transition point. A range of acrylic syrup resin compositions are described. Patent Document 2 below describes that the composition is cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, and can be used as various pressure-sensitive adhesive sheets.

特開2004−271935号公報JP 2004-271935 A 特開2005−240044号公報JP 2005-240044 A

平面状ディスプレイパネルを構成するガラス板等は、あまり粘弾性がなく、押さえつけたり、あるいはぶつけたりすることで容易に破損することが知られている。単にガラス板等と偏光板等の他の層とを直接粘着層で貼りあわせた積層体では、強度が十分であるとは言えない。積層体の強度を高め、積層体の破損を防止する方法として、更に衝撃吸収層を設ける方法も考えられる。しかし、別途衝撃吸収層を設ける方法では、別途衝撃吸収層を設ける工程が必要となる。そこで従来より、粘着性に優れると共に耐衝撃性にも優れる粘着層の開発が望まれていた。また、平面状ディスプレイパネルは、透明性に優れていることも重要である。よって、平面状ディスプレイパネルを構成する各層だけでなく、各層を貼り合わせる粘着層も、透明性に優れていることが求められている。更に、上記粘着層を放射線照射により得る際、未反応の成分由来のガスが凝集して気泡や浮きが発生すると、平面状ディスプレイパネルの視認性に影響を及ぼす。よって、上記粘着層は、放射線硬化性に優れていることが求められている。   It is known that a glass plate or the like constituting a flat display panel is not very viscoelastic and is easily damaged when pressed or hit. A laminate in which a glass plate or the like and another layer such as a polarizing plate are directly bonded together with an adhesive layer cannot be said to have sufficient strength. As a method for increasing the strength of the laminated body and preventing the laminated body from being damaged, a method of further providing a shock absorbing layer can be considered. However, the method of separately providing a shock absorbing layer requires a step of separately providing a shock absorbing layer. Therefore, it has been desired to develop a pressure-sensitive adhesive layer that is excellent in adhesiveness and impact resistance. It is also important that the flat display panel is excellent in transparency. Therefore, not only each layer which comprises a planar display panel but the adhesion layer which bonds each layer is calculated | required that it is excellent in transparency. Furthermore, when the adhesive layer is obtained by irradiation, if the gas derived from unreacted components aggregates to generate bubbles and floats, the visibility of the flat display panel is affected. Therefore, the adhesive layer is required to be excellent in radiation curability.

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層及びその製造方法、並びに該耐衝撃粘着層を備える耐衝撃粘着積層構造体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and is an impact-resistant adhesive layer excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability and impact resistance, a method for producing the same, and an impact-resistant adhesive laminate provided with the impact-resistant adhesive layer. An object is to provide a structure.

本発明は以下の通りである。
(1)放射線硬化型液状粘着組成物を脱気する脱気工程と、上記脱気工程により脱気された上記放射線硬化型液状粘着組成物を基層表面に塗布する塗布工程と、放射線を照射することにより、上記塗布工程により塗布された上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させる硬化工程と、を順次備えることを特徴とする耐衝撃粘着層の製造方法。
(2)上記放射線硬化型液状粘着組成物は、(A)アクリルシロップ、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(E)光重合開始剤を含有する放射線硬化型液状粘着組成物である上記(1)記載の耐衝撃粘着層の製造方法。
(3)上記脱気工程後の上記放射線硬化型液状粘着組成物に含まれる溶存酸素量が飽和酸素量の90%以下である上記(1)又は(2)記載の耐衝撃粘着層の製造方法。
(4)上記放射線は紫外線であり、ピーク照度が50〜1000mW/cm、且つ積算光量が100〜2000mJ/cmの条件で上記紫外線を照射する上記(1)乃至(3)のいずれかに記載の耐衝撃粘着層の製造方法。
(5)得られる耐衝撃粘着層の厚さが50〜2000μmである上記(1)乃至(4)のいずれかに記載の耐衝撃粘着層の製造方法。
(6)厚さが50〜2000μm、180°剥離粘着力が1〜10N/25mm、tanδのピーク値が1以上、且つ25℃でのヘイズが1以下であることを特徴とする耐衝撃粘着層。
(7)上記(1)乃至(5)のいずれかに記載の方法により得られることを特徴とする耐衝撃粘着層。
(8)上記(6)又は(7)記載の耐衝撃粘着層と、該耐衝撃粘着層の少なくとも一方の表面に設けられた他の層とを備えることを特徴とする耐衝撃粘着積層構造体。
The present invention is as follows.
(1) A deaeration process for degassing the radiation curable liquid adhesive composition, an application process for applying the radiation curable liquid adhesive composition degassed by the deaeration process to the surface of the base layer, and irradiation with radiation. And a curing step of curing the radiation-curable liquid adhesive composition applied in the application step, in order.
(2) The radiation curable liquid adhesive composition comprises (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane (meth) acrylate, and (E) photopolymerization initiator. The method for producing an impact-resistant adhesive layer according to the above (1), which is a radiation curable liquid adhesive composition comprising
(3) The method for producing an impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer according to (1) or (2), wherein the dissolved oxygen content in the radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition after the deaeration step is 90% or less of the saturated oxygen content. .
(4) the radiation is ultraviolet light, in any one of (1) to (3) peak irradiance 50~1000mW / cm 2, and integrated light quantity irradiating the UV under the condition of 100 to 2000 mJ / cm 2 The manufacturing method of the impact-resistant adhesion layer of description.
(5) The method for producing an impact-resistant adhesive layer according to any one of (1) to (4), wherein the resulting impact-resistant adhesive layer has a thickness of 50 to 2000 μm.
(6) Impact-resistant adhesive layer having a thickness of 50 to 2000 μm, a 180 ° peel adhesive strength of 1 to 10 N / 25 mm, a peak value of tan δ of 1 or more, and a haze at 25 ° C. of 1 or less. .
(7) An impact-resistant adhesive layer obtained by the method according to any one of (1) to (5) above.
(8) The impact-resistant adhesive laminate structure comprising the impact-resistant adhesive layer described in (6) or (7) above and another layer provided on at least one surface of the impact-resistant adhesive layer. .

本発明の耐衝撃粘着層の製造方法によれば、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性(衝撃吸収性も含む。)に優れる耐衝撃粘着層を得ることができる。
本発明の耐衝撃粘着層の製造方法において、上記放射線硬化型液状粘着組成物が、(A)アクリルシロップ、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタンアクリレート、及び(E)光重合開始剤を含有する放射線硬化型液状粘着組成物であると、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層を得ることができる。
本発明の耐衝撃粘着層の製造方法において、上記脱気工程後の上記放射線硬化型液状粘着組成物に含まれる溶存酸素量が飽和酸素量の90%以下であると、更に粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層を得ることができる。
本発明の耐衝撃粘着層の製造方法において、上記放射線が紫外線であり、ピーク照度が50〜1000mW/cm、且つ積算光量が100〜2000mJ/cmの条件で上記紫外線を照射すると、更に粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層を得ることができる。
本発明の耐衝撃粘着層の製造方法において、得られる耐衝撃粘着層の厚さが50〜2000μmであると、更に粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる耐衝撃粘着層を得ることができる。
本発明の耐衝撃粘着層は、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れている。また、本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、粘着性、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れている耐衝撃粘着層を備える。本発明の耐衝撃粘着層及び本発明の耐衝撃粘着積層構造体を用いると、透明性に優れると共に、耐衝撃性に優れる積層構造体を得ることができる。
According to the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, an impact-resistant adhesive layer excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability and impact resistance (including impact absorption) can be obtained.
In the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, the radiation curable liquid adhesive composition comprises (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane acrylate, and ( E) When it is a radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition containing a photopolymerization initiator, an impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer having excellent adhesion, transparency, radiation curable property, and impact resistance can be obtained.
In the method for producing an impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer of the present invention, when the amount of dissolved oxygen contained in the radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition after the degassing step is 90% or less of the amount of saturated oxygen, the adhesiveness and transparency are further increased. In addition, an impact-resistant adhesive layer having excellent radiation curability and impact resistance can be obtained.
In the method of impact adhesive layer of the present invention, the radiation is ultraviolet light, the peak irradiance is 50~1000mW / cm 2, and integrated light quantity irradiating the UV under the condition of 100 to 2000 mJ / cm 2, further adhesive It is possible to obtain an impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer having excellent properties, transparency, radiation curability and impact resistance.
In the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, when the resulting impact-resistant adhesive layer has a thickness of 50 to 2000 μm, an impact-resistant adhesive layer further excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability and impact resistance is obtained. Obtainable.
The impact-resistant adhesive layer of the present invention is excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability and impact resistance. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention includes an impact-resistant adhesive layer that is excellent in adhesiveness, transparency, radiation curability, and impact resistance. When the impact-resistant adhesive layer of the present invention and the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention are used, a laminate structure having excellent transparency and impact resistance can be obtained.

以下、本発明を詳しく説明する。
(1)耐衝撃粘着層の製造方法
本発明の耐衝撃粘着層の製造方法は、放射線硬化型液状粘着組成物を脱気する脱気工程と、上記脱気工程により脱気された上記放射線硬化型液状粘着組成物を基層表面に塗布する塗布工程と、放射線を照射することにより、上記塗布工程により塗布された上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させる硬化工程と、を順次備えることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(1) Method for Producing Impact-resistant Adhesive Layer The method for producing the impact-resistant adhesive layer of the present invention includes a degassing step for degassing the radiation-curable liquid adhesive composition, and the radiation curing degassed by the degassing step. Characterized in that it comprises a coating step of coating the surface of the mold liquid adhesive composition on the surface of the base layer and a curing step of curing the radiation-curable liquid adhesive composition applied by the coating step by irradiating with radiation. And

(A)放射線硬化型液状粘着組成物
上記放射線硬化型液状粘着組成物は、放射線を照射することにより硬化し、硬化物が粘着性を有する性質を備えていれば、その組成に特に限定はない。上記放射線硬化型液状粘着組成物としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ポリエステル系、及びシリコーン系の粘着組成物が挙げられる。透明性及び耐久性等の観点から、上記放射線硬化型液状粘着組成物として、アクリル系の放射線硬化型液状粘着組成物が好ましい。尚、上記「液状」には、溶液等の液状だけでなく、ゲル等の半固形状も含む。
(A) Radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition The radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited as long as the radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition is cured by irradiation with radiation and the cured product has a property of having adhesiveness. . Examples of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition include acrylic, rubber-based, polyester-based, and silicone-based pressure-sensitive adhesive compositions. From the viewpoints of transparency and durability, an acrylic radiation-curable liquid adhesive composition is preferable as the radiation-curable liquid adhesive composition. The “liquid” includes not only liquid such as solution but also semi-solid such as gel.

上記アクリル系の放射線硬化型液状粘着組成物は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、紫外線等の放射線を照射することにより重合して粘着性を示す組成物であれば、その成分に特に限定はない。上記アクリル系の放射線硬化型液状粘着組成物としては、例えば、(A)アクリルシロップ、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(E)光重合開始剤のうちの少なくとも1種を含有する放射線硬化型液状粘着組成物、特に、(A)アクリルシロップと、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(E)光重合開始剤のうちの少なくとも1種とを含有する放射線硬化型液状粘着組成物等が挙げられる。上記アクリル系の放射線硬化型液状粘着組成物として具体的には、例えば、(A)アクリルシロップ、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(E)光重合開始剤を含有する放射線硬化型液状粘着組成物等が挙げられる。   The acrylic radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition is composed of (meth) acrylic acid alkyl ester as a main component, and is a composition that is polymerized by irradiation with radiation such as ultraviolet rays and exhibits adhesiveness. There is no particular limitation. Examples of the acrylic radiation curable liquid adhesive composition include (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane (meth) acrylate, and (E) light. Radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition containing at least one polymerization initiator, in particular, (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane (meth) Examples include radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive compositions containing acrylate and at least one of (E) a photopolymerization initiator. Specific examples of the acrylic radiation curable liquid adhesive composition include (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane (meth) acrylate, and ( E) Radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition containing a photopolymerization initiator.

上記(A)アクリルシロップは、アクリル系モノマー及び必要に応じて他のモノマーを重合することにより得られるアクリル系重合体を含むシロップ状の組成物である。上記アクリル系モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸アニールエステル、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル、多価アクリル酸エステル、及び脂環式アルコールのメタクリル酸エステル等が挙げられる。上記アクリル系モノマーは1種単独でもよく、2種以上併用してもよい。上記アクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸アルキルエステル又は(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主成分とするアクリル系モノマーが好ましい。   The (A) acrylic syrup is a syrup-like composition containing an acrylic polymer obtained by polymerizing an acrylic monomer and, if necessary, another monomer. Examples of the acrylic monomer include (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid annealed ester, (meth) acrylic acid alkoxyalkyl, polyvalent acrylic acid ester, and alicyclic alcohol methacrylic acid ester. Can be mentioned. The acrylic monomers may be used alone or in combination of two or more. As said acrylic monomer, the acrylic monomer which has (meth) acrylic-acid alkylester or (meth) acrylic-acid alkylester as a main component is preferable.

上記アクリル系モノマーとしては、例えば、単官能アクリレート及び多官能アクリレートの1種又は2種以上を用いることができる。上記単官能アクリレートとして具体的には、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、及び7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記単官能アクリレートは1種単独でもよく、2種以上を併用してもよい。   As the acrylic monomer, for example, one or more of monofunctional acrylate and polyfunctional acrylate can be used. Specific examples of the monofunctional acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, Ryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (Meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meta ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol Examples include (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, and 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate. The monofunctional acrylate may be used alone or in combination of two or more.

また、上記多官能アクリレートとして具体的には、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルの両末端(メタ)アクリル酸付加、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルに(メタ)アクリレートを付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、及びシクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記多官能アクリレートは1種単独でもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the polyfunctional acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, Triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tricyclodecanediyldimethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate Bisphenol A diglycidyl ether end (meth) acrylic acid addition, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri Di (meth) of diol which is an adduct of (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide Di (meth) acrylate of diol which is an adduct of acrylate, hydrogenated bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide, diglycidyl ether of bisphenol A (meth) Epoxy obtained by adding acrylate (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meth) acrylate, and cyclohexane dimethanol di (meth) acrylate. The said polyfunctional acrylate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記他のモノマーとしては、例えば、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、及びt−オクチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。上記他のモノマーは1種単独でもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the other monomers include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinylimidazole, vinylpyridine, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, and hydroxybutyl vinyl ether. Lauryl vinyl ether, cetyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, and t-octyl (meth) acrylamide. One of these other monomers may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

上記(A)アクリルシロップの粘度は、通常1000〜100000cps、好ましくは2000〜95000cps、更に好ましくは3000〜90000cps、より好ましくは10000〜90000cpsである。尚、この粘度は、25℃の条件でB型粘度計により測定した粘度である。また、上記(A)アクリルシロップに含まれるアクリル系重合体の重量平均分子量は、通常50万〜300万、好ましくは50万〜250万、更に好ましくは60万〜200万、より好ましくは70万〜180万である。上記粘度及び上記重量平均分子量が上記範囲であると、塗布が容易であり、また、得られる耐衝撃粘着層の粘着性及び耐衝撃性を向上させることができるので好ましい。   The viscosity of the (A) acrylic syrup is usually 1000 to 100000 cps, preferably 2000 to 95000 cps, more preferably 3000 to 90000 cps, and more preferably 10,000 to 90000 cps. This viscosity is a viscosity measured with a B-type viscometer at 25 ° C. The weight average molecular weight of the acrylic polymer contained in the acrylic syrup (A) is usually 500,000 to 3,000,000, preferably 500,000 to 2,500,000, more preferably 600,000 to 2,000,000, more preferably 700,000. ~ 1.8 million. It is preferable for the viscosity and the weight average molecular weight to be in the above ranges since application is easy and the tackiness and impact resistance of the resulting impact resistant adhesive layer can be improved.

上記(A)アクリルシロップは、上記アクリル系重合体だけでなく、モノマーである上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含んでいてもよい。上記(A)アクリルシロップが上記モノマーを含んでいると、上記(A)アクリルシロップの粘度を適切な範囲とすることができる。その結果、上記(A)アクリルシロップの塗布及び取り扱いを容易にすることができるので好ましい。上記モノマーを含有させる方法に特に限定はない。上記モノマーを含む上記(A)アクリルシロップは、通常、上記アクリル系重合体を得る重合反応において、反応率が100%になる前に反応を停止させることにより、上記アクリル系重合体と未反応の上記モノマーの混合物として得ることができる。   The (A) acrylic syrup may contain not only the acrylic polymer but also the (meth) acrylic acid alkyl ester as a monomer. When the (A) acrylic syrup contains the monomer, the viscosity of the (A) acrylic syrup can be adjusted to an appropriate range. As a result, the application and handling of the (A) acrylic syrup can be facilitated, which is preferable. There is no limitation in particular in the method of containing the said monomer. The (A) acrylic syrup containing the monomer is usually unreacted with the acrylic polymer by stopping the reaction before the reaction rate reaches 100% in the polymerization reaction for obtaining the acrylic polymer. It can be obtained as a mixture of the above monomers.

上記(B)アクリレートモノマーとしては、例えば、上記アクリル系モノマーが挙げられる。上記(B)アクリレートモノマーは、1種単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。上記(B)アクリレートモノマーは、上記(A)アクリルシロップに含まれるアクリル系重合体を構成するアクリル系モノマーと同じモノマーでもよく、異なるモノマーでもよい。   As said (B) acrylate monomer, the said acrylic monomer is mentioned, for example. The (B) acrylate monomer may be used alone or in combination of two or more. The (B) acrylate monomer may be the same monomer as the acrylic monomer constituting the acrylic polymer contained in the (A) acrylic syrup, or may be a different monomer.

上記(B)アクリレートモノマーの含有量は、上記各成分の種類及び含有量等に応じて選択することができる。上記(B)アクリレートモノマーの含有量は、上記(A)アクリルシロップ及び上記(B)アクリレートモノマーの含有量の合計を100質量%とした場合、通常1〜80質量%、好ましくは3〜75質量%、更に好ましくは5〜70質量%、より好ましくは10〜65質量%である。   Content of the said (B) acrylate monomer can be selected according to the kind of each said component, content, etc. The content of the (B) acrylate monomer is usually 1 to 80% by mass, preferably 3 to 75% by mass, when the total content of the (A) acrylic syrup and the (B) acrylate monomer is 100% by mass. %, More preferably 5 to 70% by mass, and more preferably 10 to 65% by mass.

また、上記(B)アクリレートモノマーが2種以上のアクリレートモノマーを含有する場合、各アクリレートモノマーの含有量は、必要に応じて種々の範囲とすることができる。上記(B)アクリレートモノマーが2種以上のアクリレートモノマーを含有する場合、上記各成分の種類及び含有量等に応じて選択することができる。例えば、上記(B)アクリレートモノマーの全量を100質量%とした場合、主成分(最も含有量の多い成分)であるアクリレートモノマーの含有量は、通常30〜90質量%、好ましくは35〜85質量%、更に好ましくは40〜80質量%である。より具体的には、例えば、上記(B)アクリレートモノマーが、テトラヒドロフルフリルアクリレート等の脂環エーテル含有アクリレートと、2−エチルヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレート及び4−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートを含有する場合、主成分であるアクリレートモノマーの含有量を上記範囲とすることができる。   Moreover, when the said (B) acrylate monomer contains 2 or more types of acrylate monomers, content of each acrylate monomer can be made into various ranges as needed. When the (B) acrylate monomer contains two or more acrylate monomers, the acrylate monomer can be selected according to the type and content of each component. For example, when the total amount of the (B) acrylate monomer is 100% by mass, the content of the acrylate monomer as the main component (the component having the highest content) is usually 30 to 90% by mass, preferably 35 to 85% by mass. %, More preferably 40 to 80% by mass. More specifically, for example, the (B) acrylate monomer contains an alicyclic ether-containing acrylate such as tetrahydrofurfuryl acrylate, an alkyl acrylate such as 2-ethylhexyl acrylate, and a hydroxyl group-containing acrylate such as 4-hydroxybutyl acrylate. When it does, content of the acrylate monomer which is a main component can be made into the said range.

上記(C)シランカップリング剤としては、例えば、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2007182557
[式(1)において、Xはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基であり、Rは2価の有機基であり、Rは炭化水素基である。] As said (C) silane coupling agent, the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.
Figure 2007182557
[In Formula (1), X is an acryloyl group, a glycidyl group, a mercapto group, or a halogen group, R 1 is a divalent organic group, and R 2 is a hydrocarbon group. ]

上記Xはアクリロイル基、グリシジル基、メルカプト基又はハロゲン基からなる群から選ばれる官能基である。この中で、特にアクリロイル基及びメルカプト基が、高い接着性を発現する上で好ましい。   X is a functional group selected from the group consisting of an acryloyl group, a glycidyl group, a mercapto group, or a halogen group. Among these, an acryloyl group and a mercapto group are particularly preferable in terms of expressing high adhesiveness.

上記Rは2価の有機基であれば、その構造に限定はない。例えば、上記Rの炭素数は、通常1〜20、好ましくは1〜18、更に好ましくは2〜15、より好ましくは3〜12である。また、上記Rは直鎖構造でもよく、分岐構造を有していてもよい。更に、上記Rは飽和有機基(飽和アルキル基等)でもよく、不飽和有機基(不飽和アルキル基等)でもよく、脂環式又は芳香族式の有機基でもよい。上記Rとして具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、n−ブチレン基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられる。 If R 1 is a divalent organic group, the structure is not limited. For example, the carbon number of R 1 is usually 1 to 20, preferably 1 to 18, more preferably 2 to 15, and more preferably 3 to 12. R 1 may have a linear structure or a branched structure. Further, R 1 may be a saturated organic group (saturated alkyl group or the like), an unsaturated organic group (unsaturated alkyl group or the like), or an alicyclic or aromatic organic group. Specific examples of R 1 include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, a cyclohexyl group, and a benzyl group.

上記Rは炭化水素基であれば、その種類及び構造には特に限定はない。通常、上記Rの炭素数は1〜10、好ましくは1〜8、更に好ましくは1〜6、より好ましくは1〜4である。また、上記Rは直鎖構造でもよく、分岐構造を有していてもよい。更に、上記Rは飽和炭化水素基でもよく、不飽和炭化水素基でもよく、脂環式又は芳香族式の炭化水素基でもよい。尚、上記式(1)において、各R同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。 If R 2 is a hydrocarbon group, the type and structure are not particularly limited. Usually, the carbon number of R 2 is 1 to 10, preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 4. R 2 may have a linear structure or a branched structure. Further, R 1 may be a saturated hydrocarbon group, an unsaturated hydrocarbon group, or an alicyclic or aromatic hydrocarbon group. In the above formula (1), R 2 may be the same group or different groups.

上記炭化水素基としてより具体的には、例えば、(1)メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基、i−プロピル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、及びt−ドデシル基等の直鎖又は分岐アルキル基、(2)シクロペンチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等の脂環族基、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基、及びブチルアダマンチル基等の有橋脂環族基、(3)ビニル基及びプロペニル基等のアルケニル基、(4)フェニル基、トルイル基、ベンジル基、メチルベンジル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、及びアントリル基等のアリール基、並びに(5)ピリジル基、イミダゾリル基、モルホリニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基等のヘテロアリール基等が挙げられる。この中で、炭素数1〜3のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基)が好ましい。   More specifically, examples of the hydrocarbon group include (1) methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group. Group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group A linear or branched alkyl group such as a group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, i-propyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, and t-dodecyl group, (2) cyclopentyl Group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, and cyclohexyl group, norbornyl group, norbornyl group, tricyclodecanyl group, tetracyclododecyl group, adamantyl group, methyl group Bridged alicyclic groups such as mantyl group, ethyladamantyl group, and butyladamantyl group, (3) alkenyl groups such as vinyl group and propenyl group, (4) phenyl group, toluyl group, benzyl group, methylbenzyl group, xylyl group Aryl groups such as a group, mesityl group, naphthyl group, and anthryl group, and (5) heteroaryl groups such as a pyridyl group, an imidazolyl group, a morpholinyl group, a piperidinyl group, and a pyrrolidinyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group) is preferable.

また、上記式(1)中、上記R及びRは、構造中に更に他の官能基又は原子を有していてもよい。他の官能基としては、例えば、チオール基、ヒドロキシル基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基、スルホニル基、カルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、ニトリル基、及びアミド基等が挙げられる。また、上記原子としては、例えば、各種へテロ原子(酸素原子、窒素原子、硫黄原子等)及びハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等)が挙げられる。上記他の官能基又は原子は1種のみでもよく、2種以上含んでいてもよい。また、上記他の官能基又は原子の数も特に限定はなく、1個でもよく、2個以上含んでいてもよい。 In the formula (1), R 1 and R 2 may further have other functional groups or atoms in the structure. Examples of other functional groups include thiol groups, hydroxyl groups, ether groups, thioether groups, sulfinyl groups, sulfonyl groups, carbonyl groups, carboxyl groups, carboxylic anhydride groups, nitrile groups, and amide groups. Examples of the atoms include various heteroatoms (oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, etc.) and halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, iodine atoms, etc.). The above-mentioned other functional groups or atoms may be only one kind or may contain two or more kinds. The number of the other functional groups or atoms is not particularly limited, and may be one or may include two or more.

上記式(1)で表される化合物として具体的には、例えば、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、3−クロロプロピルトリアルコキシシラン等が上げられる。これらの中で、炭素数1〜2のアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤が好ましい。特に3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン及び3−メルカプトプロピルトリアルコキシシランが、高い接着性を発現する上で好ましい。   Specific examples of the compound represented by the above formula (1) include 3- (meth) acryloxypropyltrialkoxysilane, 3-glycidoxypropyltrialkoxysilane, vinyltrialkoxysilane, tetraalkoxysilane, 3 -Mercaptopropyltrialkoxysilane, 3-chloropropyltrialkoxysilane and the like. In these, the silane coupling agent which has a C1-C2 alkoxysilyl group is preferable. In particular, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrialkoxysilane are preferable in terms of developing high adhesiveness.

上記(C)シランカップリング剤の含有量は、上記各成分の種類及び含有量等に応じて選択することができる。上記(C)シランカップリング剤の含有量は、通常、上記(A)アクリルシロップ及び上記(B)アクリレートモノマーの含有量の合計100質量部に対して0.05〜5質量部、好ましくは0.1〜3質量部、更に好ましくは0.2〜2質量部、より好ましくは0.3〜1.5質量部である。   Content of the said (C) silane coupling agent can be selected according to the kind of each said component, content, etc. The content of the (C) silane coupling agent is usually 0.05 to 5 parts by mass, preferably 0 with respect to 100 parts by mass in total of the contents of the (A) acrylic syrup and the (B) acrylate monomer. 0.1 to 3 parts by mass, more preferably 0.2 to 2 parts by mass, and more preferably 0.3 to 1.5 parts by mass.

上記(D)ウレタン(メタ)アクリレートは、ジイソシアネート、水酸基含有(メタ)アクリレート、及びジオールを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートを使用することが好ましい。この反応としては、例えば、(1)ジオール、ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法、(2)ジオール及びジイソシアネートを反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法、(3)ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させる方法、並びに(4)ジイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでジオールを反応させ、最後にまた水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法等が挙げられる。   The (D) urethane (meth) acrylate is preferably urethane (meth) acrylate obtained by reacting diisocyanate, hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and diol. As this reaction, for example, (1) a method in which diol, diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged together and reacted, (2) a method in which diol and diisocyanate are reacted, and then a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is reacted. , (3) a method of reacting diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and then reacting with diol, and (4) reacting diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate, then reacting with diol, and finally hydroxyl group-containing Examples include a method of reacting (meth) acrylate.

上記(D)ウレタン(メタ)アクリレートは、ジオールが1分子中に好ましくは2分子以上の繰り返し単位、より好ましくは1分子中に3分子以上の繰り返し単位として含まれるように、上記ジオールと上記ジイソシアネートとの反応割合等を調整して反応させる。具体的には、例えば、上記ジイソシアネートのモル比は、上記ジオール1モルに対して1.5モル以下になるように調整する。上記水酸基含有(メタ)アクリレートの割合は、上記ジオールと上記ジイソシアネートのモル比から計算される過剰のイソシアネート当量に対して1.0〜1.5当量となるように調整することが好ましい。   The (D) urethane (meth) acrylate is a diol and a diisocyanate such that the diol is preferably contained in one molecule as a repeating unit of 2 or more molecules, more preferably 3 or more in one molecule. The reaction rate is adjusted to react. Specifically, for example, the molar ratio of the diisocyanate is adjusted to be 1.5 mol or less with respect to 1 mol of the diol. The ratio of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferably adjusted to 1.0 to 1.5 equivalents with respect to the excess isocyanate equivalent calculated from the molar ratio of the diol and the diisocyanate.

上記ジイソシアネートとしては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、2,5(又は6)−ビス(イソシアネートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン等が挙げられる。これらのうち、特に、脂肪族系化合物である2,4−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)が好ましい。ジイソシアネート成分に脂肪族系化合物を用いることで、加熱時の黄変が抑制することができる。より良好な加熱時の低黄変性を求める場合は、イソホロンジイソシアネート又はメチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)を用いることが好ましい。これらのジイソシアネートは、単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the diisocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, and m-phenylene diisocyanate. P-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6- Hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanate ethyl) ) Fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 2,5 (or 6) -bis ( Isocyanatomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane and the like. Of these, 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, and methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), which are aliphatic compounds, are particularly preferable. By using an aliphatic compound for the diisocyanate component, yellowing during heating can be suppressed. When seeking better yellowing at the time of heating, it is preferable to use isophorone diisocyanate or methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate). These diisocyanates can be used alone or in combination of two or more.

上記水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルフォスフェート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートの如きグリシジル基含有化合物と、(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物等を挙げることができる。これら水酸基含有(メタ)アクリレートのうち、特に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が好ましい。これらの、水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独であるいは、2種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) ) Acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol Mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Examples thereof include compounds obtained by addition reaction of (meth) acrylic acid with glycidyl group-containing compounds such as acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate. it can. Of these hydroxyl group-containing (meth) acrylates, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like are particularly preferable. These hydroxyl group-containing (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more.

上記ジオールの例としては、脂肪族ポリエーテルジオール、環状ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、及びポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。   Examples of the diol include aliphatic polyether diol, cyclic polyether diol, polyester diol, polycarbonate diol, and polycaprolactone diol.

上記脂肪族ポリエーテルジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール又は2種以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られるポリエーテルジオール等が挙げられる。上記イオン重合性環状化合物としては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2−ブチレンオキシド、ブテン−1−オキシド、イソブテンオキシド、3,3−ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステル等の環状エーテル類が挙げられる。また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、あるいはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルジオールを使用することもできる。上記2種以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合わせとしては、例えばテトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラヒドロフランと2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、プロピレンオキシドとエチレンオキシド、ブテン−1−オキシドとエチレンオキシド、テトラヒドロフラン、ブテン−1−オキシド、エチレンオキシドの3元重合体等を挙げることができる。これらのイオン重合性環状化合物の開環共重合体はランダムに結合していてもよいし、ブロック状の結合をしていてもよい。 これらの中で、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、1,2−ブチレンオキシドとエチレンオキシドとの共重合体及びプロピレンオキシドとエチレンオキシドとの共重合体からなる群から選ばれる少なくとも1種のジオールを使用することが好ましい。   Examples of the aliphatic polyether diol include, for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyheptamethylene glycol, polydecamethylene glycol, or two or more ion-polymerizable cyclic compounds. Examples thereof include polyether diol obtained by polymerization. Examples of the ion polymerizable cyclic compound include ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-butylene oxide, butene-1-oxide, isobutene oxide, 3,3-bischloromethyloxetane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 3- Methyltetrahydrofuran, dioxane, trioxane, tetraoxane, cyclohexene oxide, styrene oxide, epichlorohydrin, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, allyl glycidyl carbonate, butadiene monooxide, isoprene monooxide, vinyl oxetane, vinyl tetrahydrofuran, vinyl cyclohexene oxide, phenyl glycidyl ether, Cyclic agents such as butyl glycidyl ether and benzoic acid glycidyl ester Le acids and the like. Polyether diol obtained by ring-opening copolymerization of the above ion polymerizable cyclic compound with cyclic imines such as ethyleneimine, cyclic lactone acids such as β-propiolactone and glycolic acid lactide, or dimethylcyclopolysiloxanes. Can also be used. Specific combinations of the two or more ion-polymerizable cyclic compounds include, for example, tetrahydrofuran and propylene oxide, tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, tetrahydrofuran and ethylene oxide, propylene oxide and ethylene oxide, butene-1 And terpolymers of -oxide and ethylene oxide, tetrahydrofuran, butene-1-oxide, ethylene oxide, and the like. The ring-opening copolymer of these ion-polymerizable cyclic compounds may be bonded at random or may be bonded in a block form. Among these, at least one diol selected from the group consisting of polypropylene glycol, polybutylene glycol, a copolymer of 1,2-butylene oxide and ethylene oxide and a copolymer of propylene oxide and ethylene oxide is used. Is preferred.

上記脂肪族ポリエーテルジオールの市販品としては、例えば、PPG−400、PPG1000、PPG2000、PPG3000、EXCENOL720、1020、2020、PREMINOL PML S−X4001、PML S−4003、PML S−X4004、PML S−X4008、PML S−X4011、PML S−X4016、NPML−4002A(以上、旭硝子ウレタン社製)、EO/BO500、EO/BO1000、EOBO/2000、EO/BO3000、EO/BO4000(以上、第一工業製薬社製)、PTMG650、PTMG1000、PTMG2000(以上、三菱化学社製)、PEG1000、ユニセーフDC1100、DC1800(以上、日本油脂社製)、PPTG2000、PPTG1000、PTG400、PTGL2000(以上、保土谷化学社製)、Z−3001−4、Z−3001−5、PBG2000A、PBG2000B(以上、第一工業製薬社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available products of the aliphatic polyether diol include PPG-400, PPG1000, PPG2000, PPG3000, EXCENOL720, 1020, 2020, PREMINOL PML S-X4001, PML S-4003, PML S-X4004, and PML S-X4008. , PML S-X4011, PML S-X4016, NPML-4002A (above, manufactured by Asahi Glass Urethane Co., Ltd.), EO / BO500, EO / BO1000, EOBO / 2000, EO / BO3000, EO / BO4000 (above, Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.) Manufactured), PTMG650, PTMG1000, PTMG2000 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), PEG1000, Unisafe DC1100, DC1800 (above, manufactured by NOF Corporation), PPTG2000, PPT 1000, PTG400, PTGL2000 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Z-3001-4, Z-3001-5, PBG2000A, PBG2000B (or, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and the like.

上記環状ポリエーテルジオールしては、例えば、ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、水添ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールおよびそのアルキレンオキサイド付加ジオール、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジオール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール等が挙げられる。これらの中で、ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加ジオール、トリシクロデカンジメタノールが好ましい。上記環状ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えばユニオールDA400、DA700、DA1000、DB400(以上、日本油脂社製)、N1162(第一工業製薬(株)製)、トリシクロデカンジメタノール(三菱化学社製)等を挙げることができる。   Examples of the cyclic polyether diol include bisphenol A alkylene oxide addition diol, bisphenol F alkylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol A alkylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol. Alkylene oxide addition diol of F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthohydroquinone, alkylene oxide addition diol of anthrahydroquinone, 1,4-cyclohexanediol and its alkylene oxide addition diol, tricyclodecane diol, tricyclo Decanedimethanol, pentacyclopentadecanediol, pentacyclopentadecane dimethano Etc. The. Among these, alkylene oxide addition diol of bisphenol A, alkylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol A, and tricyclodecane dimethanol are preferable. Examples of commercially available cyclic polyether polyols include Uniol DA400, DA700, DA1000, DB400 (manufactured by NOF Corporation), N1162 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), tricyclodecane dimethanol (Mitsubishi Chemical Corporation). Manufactured).

上記ポリエステルジオールとしては、ジオールと二酸塩基とを反応して得られるポリエステルジオール等が挙げられる。上記ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等が挙げられる。また二塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。上記ポリエステルジオールの市販品としては、クラポールP−2010、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、クラレ社製)等が挙げられる。   Examples of the polyester diol include a polyester diol obtained by reacting a diol with a diacid base. Examples of the diol include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 3-methyl. -1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol and the like. Examples of the dibasic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, and sebacic acid. Examples of commercially available polyester diols include Kurapol P-2010, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like.

上記ポリカーボネートジオールとしては、例えば、ポリテトラヒドロフランのポリカーボネート、1,6−ヘキサンジオールのポリカーボネート等が挙げられる。上記ポリカーボネートジオールの市販品としては、DN−980、981、982、983(以上、日本ポリウレタン社製)、PC−8000(米国PPG社製)、及びPC−THF−CD(BASF社製)等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate diol include polytetrahydrofuran polycarbonate and 1,6-hexanediol polycarbonate. Commercially available products of the above polycarbonate diol include DN-980, 981, 982, 983 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), PC-8000 (manufactured by PPG, USA), and PC-THF-CD (manufactured by BASF). Can be mentioned.

上記ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。これらのジオールとして、プラクセル205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル社製)等が市販品として入手することができる。   Examples of the polycaprolactone diol include ε-caprolactone, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, Examples thereof include polycaprolactone diols obtained by reacting diols such as neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol. As these diols, Plaxel 205, 205AL, 212, 212AL, 220, 220AL (manufactured by Daicel) can be obtained as a commercial product.

上記ジオールの数平均分子量は、好ましくは300〜15,000であり、更に好ましくは1000〜12000、特に好ましくは2000〜12000である。   The number average molecular weight of the diol is preferably 300 to 15,000, more preferably 1000 to 12000, and particularly preferably 2000 to 12000.

上記以外の他のジオールも数多く使用することができる。このような他のジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール、β−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ヒマシ油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。   Many other diols other than those described above can also be used. Examples of such other diols include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and dicyclopentadiene. Dimethylol compound, tricyclodecane dimethanol, β-methyl-δ-valerolactone, hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, castor oil-modified polyol, polydimethylsiloxane-terminated diol compound, polydimethylsiloxane carbitol-modified diol, etc. Is mentioned.

これら他のジオール成分の数平均分子量は、300〜5000、好ましくは300〜2000、更に好ましくは300〜1000である。   The number average molecular weight of these other diol components is 300 to 5000, preferably 300 to 2000, and more preferably 300 to 1000.

また、上記ジオール成分と共にジアミンを併用することも可能である。このようなジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン等のジアミンやヘテロ原子を含むジアミン、及びポリエーテルジアミン等が挙げられる。   It is also possible to use a diamine together with the diol component. Examples of such diamines include ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, paraphenylenediamine, diamines such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, diamines containing heteroatoms, and polyether diamines.

上記(D)ウレタン(メタ)アクリレートには、更にジイソシアネート1モルに対して水酸基含有(メタ)アクリレート化合物2モルを反応させたウレタン(メタ)アクリレートを配合することもできる。かかるウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと2,4−トリレンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと2,5(または6)−ビス(イソシアネートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンの反応物、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとイソホロンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートと2,4−トリレンジイソシアネートの反応物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートとイソホロンジイソシアネートの反応物が挙げられる。   In the (D) urethane (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate obtained by reacting 2 mol of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound with respect to 1 mol of diisocyanate can also be blended. As such urethane (meth) acrylate, for example, a reaction product of hydroxyethyl (meth) acrylate and 2,4-tolylene diisocyanate, hydroxyethyl (meth) acrylate and 2,5 (or 6) -bis (isocyanate methyl)- Bicyclo [2.2.1] heptane reactant, hydroxyethyl (meth) acrylate and isophorone diisocyanate reactant, hydroxypropyl (meth) acrylate and 2,4-tolylene diisocyanate reactant, hydroxypropyl (meth) acrylate And a reaction product of isophorone diisocyanate.

上記(D)ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、上記各成分の種類及び含有量等に応じて選択することができる。上記(D)ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、通常、上記(A)アクリルシロップ及び上記(B)アクリレートモノマーの含有量の合計100質量部に対して0.1〜20質量部、好ましくは0.2〜18質量部、更に好ましくは0.3〜15質量部である。   Content of the said (D) urethane (meth) acrylate can be selected according to the kind of each said component, content, etc. The content of the (D) urethane (meth) acrylate is usually 0.1 to 20 parts by mass, preferably 100 parts by mass of the total content of the (A) acrylic syrup and the (B) acrylate monomer, preferably It is 0.2-18 mass parts, More preferably, it is 0.3-15 mass parts.

上記(E)光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。上記(E)光重合開始剤の市販品としては、例えば、イルガキュアー184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61(以上、チバスペシャリティーケミカルズ社製)、ルシリンLR8728(BASF社製)、Darocure1116、1173(以上、メルク社製);ユベクリルP36(UCB社製)等が挙げられる。上記(E)光重合開始剤は、1種単独で用いてもよいが、2種以上の光重合開始剤を併用してもよい。   Examples of the (E) photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, and 3-methyl. Acetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy- 2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone Chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino - propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, and the like. Commercially available products of the above (E) photopolymerization initiator include, for example, Irgacure 184, 369, 651, 500, 907, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG 24-61 (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Lucirin LR8728 (BASF), Darocur 1116, 1173 (Merck), Ubekrill P36 (UCB), and the like. The (E) photopolymerization initiator may be used alone, or two or more photopolymerization initiators may be used in combination.

上記(E)光重合開始剤の含有量は、上記各成分の種類及び含有量等に応じて選択することができる。上記(E)光重合開始剤の含有量は、通常、上記(A)アクリルシロップ及び上記(B)アクリレートモノマーの含有量の合計100質量部に対して0.1〜15質量部、好ましくは0.1〜10質量部、更に好ましくは0.5〜8質量部、より好ましくは0.5〜5質量部である。   The content of the (E) photopolymerization initiator can be selected according to the type and content of each component. The content of the (E) photopolymerization initiator is usually 0.1 to 15 parts by mass, preferably 0 with respect to 100 parts by mass in total of the contents of the (A) acrylic syrup and the (B) acrylate monomer. 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 8 parts by mass, and more preferably 0.5 to 5 parts by mass.

上記(E)光重合開始剤は必要に応じて、光増感剤を添加することが好ましい。該光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、及び4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。上記光増感剤の市販品としては、例えばユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。   It is preferable to add a photosensitizer to the (E) photopolymerization initiator as necessary. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylamino. And isoamyl benzoate. As a commercial item of the said photosensitizer, Ubekrill P102, 103, 104, 105 (above, the product made from UCB) etc. are mentioned, for example.

上記放射線硬化型液状粘着組成物は、その性能を損なわない限り、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。上記他の成分として、例えば、顔料、染料、滑剤、軟化剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤等の安定剤、耐候剤、金属不活性剤、紫外線吸収剤、光安定剤、銅害防止剤等の安定剤、防菌・防かび剤、分散剤、可塑剤、結晶核剤、難燃剤、粘着付与剤、発泡助剤、架橋剤、共架橋剤、加硫剤、加硫助剤、発泡剤、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤、フェライト等の金属粉末、ガラス繊維、金属繊維等の無機繊維、炭素繊維、アラミド繊維等の有機繊維、複合繊維、チタン酸カリウムウィスカー等の無機ウィスカー、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラスフレーク、アスベスト、マイカ、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、ケイ酸カルシウム、ハイドロタルサイト、カオリン、けい藻土、グラファイト、軽石、エボ粉、コットンフロック、コルク粉、硫酸バリウム、フッ素樹脂、ポリマービーズ等の充填剤又はこれらの混合物、ポリオレフィンワックス、セルロースパウダー、ゴム粉、木粉等の充填剤、低分子量ポリマー、シランカップリング剤、並びにチタンカップリング剤等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition may contain other components as necessary as long as the performance is not impaired. Examples of other components include pigments, dyes, lubricants, softeners, photosensitizers, antioxidants, antioxidants, stabilizers such as heat stabilizers, weathering agents, metal deactivators, UV absorbers, Stabilizers such as light stabilizers, copper damage inhibitors, antibacterial and antifungal agents, dispersants, plasticizers, crystal nucleating agents, flame retardants, tackifiers, foaming aids, crosslinking agents, co-crosslinking agents, vulcanization Agent, vulcanization aid, foaming agent, colorant such as titanium oxide and carbon black, metal powder such as ferrite, inorganic fiber such as glass fiber and metal fiber, organic fiber such as carbon fiber and aramid fiber, composite fiber, titanium Inorganic whiskers such as potassium oxide whiskers, glass beads, glass balloons, glass flakes, asbestos, mica, calcium carbonate, talc, silica, calcium silicate, hydrotalcite, kaolin, diatomaceous earth, graphite, pumice, evo powder, Fillers such as Tutton flock, cork powder, barium sulfate, fluororesin, polymer beads or mixtures thereof, fillers such as polyolefin wax, cellulose powder, rubber powder, wood powder, low molecular weight polymer, silane coupling agent, and titanium cup A ring agent etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

また、上記放射線硬化型液状粘着組成物は、紫外線や加熱による黄変を抑制するために、下記式(5)で表される亜リン酸エステルとフェノール基を有する化合物を添加することができる。
(RO)P(OR103−n (5)
(式(5)中、nは1〜3の整数を示し、Rはフェノール性水酸基を有する有機基を示し、R10はリン原子を含んでいてもよい有機基を示す。)
Moreover, in order to suppress the yellowing by an ultraviolet-ray or a heating, the said radiation curable liquid adhesive composition can add the compound which has a phosphite ester represented by following formula (5), and a phenol group.
(R 9 O) n P (OR 10 ) 3-n (5)
(In formula (5), n represents an integer of 1 to 3, R 9 represents an organic group having a phenolic hydroxyl group, and R 10 represents an organic group that may contain a phosphorus atom.)

上記R及びR10は、炭素以外の元素を有してもよい。該炭素以外の元素としては、例えば、窒素、硫黄、酸素、ハロゲン及びリンが挙げられる。また、上記R及びR10は、2以上の上記R及びR10が連結した環状の有機基でもよい。 R 9 and R 10 may have an element other than carbon. Examples of elements other than carbon include nitrogen, sulfur, oxygen, halogen and phosphorus. The R 9 and R 10 may be a cyclic organic group in which two or more of the R 9 and R 10 are connected.

上記Rとしては、例えば、ベンゼン又はナフタレン環上に1〜3個のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子が置換していてもよいヒドロキシフェニル、ヒドロキシナフチル又はヒドロキシフェニルアルキル基が挙げられる。また上記R10としては、例えば、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基等が挙げられる。ここでアリール基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が置換していてもよいフェニル又はナフチル基が挙げられる。アリールアルキル基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が置換していてもよいフェニルアルキル基が挙げられる。また、上記のように、上記R及び上記R10は連結していてもよい。上記R10がリン原子を含む場合としては、2〜4価のアルカン残基又は2〜4価の芳香族炭化水素残基等にフェノール性水酸基を有する亜リン酸エステルが2〜4個結合している場合が挙げられる。尚、上記式(5)中、上記Rが2以上ある場合、各R同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。同様に、上記R10が2以上ある場合、各R10同士は同じ基でもよく、異なる基でもよい。 Examples of R 9 include hydroxyphenyl, hydroxynaphthyl, and hydroxyphenylalkyl groups, which may be substituted with 1 to 3 alkyl groups, alkoxy groups, or halogen atoms on a benzene or naphthalene ring. As the above-mentioned R 10, for example, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group and the like. Here, examples of the aryl group include a phenyl or naphthyl group which may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or the like. Examples of the arylalkyl group include a phenylalkyl group that may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or the like. Moreover, as described above, the R 9 and the R 10 may be linked. In the case where R 10 contains a phosphorus atom, 2 to 4 phosphites having a phenolic hydroxyl group are bonded to a divalent to tetravalent alkane residue or a divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon residue. There are cases. In the above formula (5), when R 9 is 2 or more, each R 9 may be the same group or different groups. Similarly, if a said R 10 is 2 or more, each R 10 together may be the same group or a different group.

上記式(5)で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、2−メチル−4−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、2−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルジエチルホスファイト、ビス(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)エチルホスファイト、トリス(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−2,5−ジ−t−ブチル−ヒドロキシキノンジイル−ホスファイトが挙げられる。   Specific examples of the compound having a phosphite group and a phenolic hydroxyl group represented by the above formula (5) include 2-methyl-4-hydroxyphenyl diethyl phosphite, 2-t-butyl-4-hydroxyphenyl diethyl. Phosphite, 2,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl diethyl phosphite, bis (2,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ethyl phosphite, tris (2,5-di- t-butyl-4-hydroxyphenyl) phosphite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -2,5-di-t-butyl-hydroxyquinonediyl-phosphite.

上記式(5)で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物として、特に好ましくは、下記式(6)又は(7)で表される化合物が挙げられる。これら亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の市販品としては、例えば、「スミライザーGP」(住友化学社製)が挙げられる。

Figure 2007182557
Figure 2007182557
As the compound having a phosphite group represented by the above formula (5) and a phenolic hydroxyl group, a compound represented by the following formula (6) or (7) is particularly preferable. As a commercial item of the compound which has these phosphite group and phenolic hydroxyl group, "Sumilyzer GP" (made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is mentioned, for example.
Figure 2007182557
Figure 2007182557

上記式(5)で表される亜リン酸エステル基とフェノール性水酸基を有する化合物の含有量は、上記放射線硬化型液状粘着組成物の全量に対して好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.1〜3質量%である。   The content of the compound having a phosphite group and a phenolic hydroxyl group represented by the above formula (5) is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total amount of the radiation curable liquid adhesive composition, and further Preferably it is 0.1-5 mass%, Most preferably, it is 0.1-3 mass%.

上記放射線硬化型液状粘着組成物は、硬化後のタックを減少させるために、ジアルキルアミノ安息香酸エステルを含有させることができる。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの具体例としては、例えばジアルキルアミノ安息香酸のメチル、エチル、プロピル、ブチル又はイソアミルエステル等のジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル等を挙げることができる。ここで、ジアルキルアミノ基のアルキル基としては炭素数1〜6のものが好ましい。エステル残基としては炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。またジアルキルアミノ安息香酸のジアルキルアミノ基とカルボキシル基とはベンゼン環上のパラ位に結合しているのが好ましい。これらの中でもp−ジメチルアミノ安息香酸エチルが特に好ましい。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの市販品としては、カヤキュアEPA、カヤキュアDMBI(以上、日本化薬社製)等が挙げられる。上記ジアルキルアミノ安息香酸エステルの含有量は、端面の硬化性の点から、上記放射線硬化型液状粘着組成物の全量に対して0.05〜5質量%であるのが好ましく、より好ましくは0.1〜3質量%、特に好ましくは0.2〜1質量%である。   The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition can contain a dialkylaminobenzoic acid ester in order to reduce the tack after curing. Specific examples of the dialkylaminobenzoic acid ester include dialkylaminobenzoic acid alkyl esters such as methyl, ethyl, propyl, butyl or isoamyl esters of dialkylaminobenzoic acid. Here, as an alkyl group of a dialkylamino group, a C1-C6 thing is preferable. The ester residue is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. The dialkylamino group and the carboxyl group of the dialkylaminobenzoic acid are preferably bonded to the para position on the benzene ring. Of these, ethyl p-dimethylaminobenzoate is particularly preferred. Examples of commercially available dialkylaminobenzoic acid esters include Kayacure EPA and Kayacure DMBI (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). The content of the dialkylaminobenzoic acid ester is preferably 0.05 to 5% by mass with respect to the total amount of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition, more preferably from the viewpoint of curability of the end face. It is 1-3 mass%, Most preferably, it is 0.2-1 mass%.

上記放射線硬化型液状粘着組成物は、耐湿熱性を向上させるために、芳香族チオール化合物を含有させることができる。上記芳香族チオール化合物としては、メルカプト基を有する芳香族複素環化合物が好ましく、具体例としては、例えばメルカプトベンズオキサゾール、メルカプトベンゾチアゾール、1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール等が挙げられる。上記芳香族チオール化合物の市販品としては、ノクセラー M、ノクセラー M−P、ノクラック MB、ノクラックMMB(以上、大内新興化学社製)、アクセル M、アンテージ MB(以上、川口化学社製)、サンセラー M、サンセラー M−G(以上、三新化学社製)、ソクシノール M、スミライザー MB(以上、住友化学工業社製)等が挙げられる。上記芳香族チオール化合物の含有量は、耐湿熱性の点から、上記放射線硬化型液状粘着組成物の全量に対して0.01〜5質量%であるのが好ましく、より好ましくは0.05〜4質量%である。   The radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition can contain an aromatic thiol compound in order to improve the heat and moisture resistance. The aromatic thiol compound is preferably an aromatic heterocyclic compound having a mercapto group, and specific examples thereof include mercaptobenzoxazole, mercaptobenzothiazole, 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole and the like. Commercial products of the above aromatic thiol compounds include Noxeller M, Noxeller MP, Nocrack MB, Nocrack MMB (above, Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.), Accel M, Antage MB (above, Kawaguchi Chemical Co., Ltd.), Sunseller M, Sunseller MG (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.), Soxinol M, Sumilizer MB (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like. It is preferable that content of the said aromatic thiol compound is 0.01-5 mass% with respect to the whole quantity of the said radiation-curable liquid adhesive composition from a heat-and-moisture resistant point, More preferably, it is 0.05-4. % By mass.

上記放射線硬化型液状粘着組成物は、熱安定性及び色安定性を向上させるために、酸化防止剤を含有させることができる。上記酸化防止剤の種類に特に制限は無いが、フェノールのヒドロキシル基が結合した炭素原子の両側の炭素原子に、メチル基及び炭素数が1〜8の炭化水素基が結合した構造を有するヒンダードフェノール型酸化防止剤を好ましく使用することができる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤としては、例えば、ベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、3,9−ビス[2−{3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニロキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、トリエチレングリコール−ビス{3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、2,2−チオ−ジエチレンビス{3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート}等が挙げられる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤の市販品としては、例えば、イルガノックス245、1035(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、スミライザーGA−80(住友化学工業社製)等が挙げられる。上記ヒンダードフェノール型酸化防止剤の含有量は、熱安定性及び色安定性の点から、上記放射線硬化型液状粘着組成物の全量に対して好ましくは0.01〜3質量%、より好ましくは0.03〜1質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。   The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition may contain an antioxidant in order to improve thermal stability and color stability. Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of said antioxidant, The hindered which has the structure where the methyl group and the C1-C8 hydrocarbon group couple | bonded with the carbon atom of the both sides of the carbon atom which the phenolic hydroxyl group couple | bonded. Phenol type antioxidants can be preferably used. Examples of the hindered phenol type antioxidant include benzenepropanoic acid-3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert- Butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethyl Ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, triethylene glycol-bis {3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate}, 2, 2-thio-diethylenebis {3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate} and the like. As a commercial item of the said hindered phenol type antioxidant, Irganox 245,1035 (above, Ciba Specialty Chemicals company make), Sumilizer GA-80 (Sumitomo Chemical Co., Ltd. make), etc. are mentioned, for example. The content of the hindered phenol-type antioxidant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably based on the total amount of the radiation-curable liquid adhesive composition, from the viewpoint of thermal stability and color stability. It is 0.03-1 mass%, More preferably, it is 0.05-0.5 mass%.

(B)製造工程
上記脱気工程は、上記放射線硬化型液状粘着組成物から溶存酸素量を減少させる工程である。本発明の耐衝撃粘着層の製造方法は、上記脱気工程を備えることにより、上記放射線硬化型液状粘着組成物を放射線により硬化する際、上記放射線硬化型液状粘着組成物の放射線照射側及びその反対側をバランスよく硬化させることができる。上記放射線硬化型液状粘着組成物の脱気方法は、上記放射線硬化型液状粘着組成物から溶存酸素量を減少させることができる限り、特に限定はない。上記脱気方法としては、例えば、上記放射線硬化型液状粘着組成物を含む反応容器を減圧することによる真空脱気、 窒素やヘリウム等の不活性ガスを上記放射線硬化型液状粘着組成物に溶解させて溶存酸素量を減らすことによる不活性ガスのバブリング、超音波を与えることによる超音波脱気、上記放射線硬化型液状粘着組成物を中空糸などの薄膜と接触させ、膜を隔てた一方の空間を真空状態として薄膜の内外間のガス濃度差をドライビング・フォースとして脱気する薄膜脱気等が挙げられる。真空脱気の場合、例えば、上記放射線硬化型液状粘着組成物を攪拌しながら、室温(20〜30℃)、−0.09MPaGで1時間の条件で減圧することにより、脱気することができる。
(B) Manufacturing process The said deaeration process is a process of reducing the amount of dissolved oxygen from the said radiation-curable liquid adhesive composition. The method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention comprises the degassing step, whereby when the radiation curable liquid adhesive composition is cured by radiation, the radiation irradiation side of the radiation curable liquid adhesive composition and its The opposite side can be cured with a good balance. The degassing method of the radiation curable liquid adhesive composition is not particularly limited as long as the amount of dissolved oxygen can be reduced from the radiation curable liquid adhesive composition. Examples of the degassing method include vacuum degassing by reducing the pressure of the reaction vessel containing the radiation curable liquid adhesive composition, and dissolving an inert gas such as nitrogen or helium in the radiation curable liquid adhesive composition. Inert gas bubbling by reducing the amount of dissolved oxygen, ultrasonic degassing by applying ultrasonic waves, the radiation curable liquid adhesive composition is brought into contact with a thin film such as a hollow fiber, and one space separated from the film And a thin film deaeration in which the gas concentration difference between the inside and outside of the thin film is degassed as a driving force. In the case of vacuum degassing, for example, degassing can be performed by reducing the pressure at room temperature (20 to 30 ° C.) and −0.09 MPaG for 1 hour while stirring the radiation curable liquid adhesive composition. .

上記脱気工程後の上記放射線硬化型液状粘着組成物に含まれる溶存酸素量には特に限定はない。上記脱気工程後の上記放射線硬化型液状粘着組成物に含まれる溶存酸素量として好ましくは飽和酸素量の90%以下、更に好ましくは85%以下、より好ましくは80%以下、特に好ましくは10〜75%である。上記溶存酸素量を上記範囲とすることにより、上記放射線硬化型液状粘着組成物を放射線により硬化する際、上記放射線硬化型液状粘着組成物の放射線照射側及びその反対側をバランスよく硬化することができる。その結果、粘着性と耐衝撃性のバランスに優れた耐衝撃粘着層を得ることができるので好ましい。       There is no particular limitation on the amount of dissolved oxygen contained in the radiation curable liquid adhesive composition after the degassing step. The amount of dissolved oxygen contained in the radiation curable liquid adhesive composition after the deaeration step is preferably 90% or less, more preferably 85% or less, more preferably 80% or less, particularly preferably 10 to 10% of the saturated oxygen amount. 75%. By setting the amount of dissolved oxygen in the above range, when the radiation curable liquid adhesive composition is cured by radiation, the radiation irradiation side of the radiation curable liquid adhesive composition and the opposite side can be cured in a balanced manner. it can. As a result, an impact resistant adhesive layer having an excellent balance between adhesiveness and impact resistance can be obtained, which is preferable.

上記塗布工程は、上記脱気工程により脱気した上記放射線硬化型液状粘着組成物を、基層に塗布する工程である。上記基層の材質、種類及び構成には特に限定はない。上記基層を構成する部材としては、例えば、任意の材質のガラス板、各種樹脂(特には透明樹脂)及び機能性部材等が挙げられる。これらの内容については後述する。   The application step is a step of applying the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition deaerated in the deaeration step to a base layer. There is no limitation in particular in the material of the said base layer, a kind, and a structure. As a member which comprises the said base layer, the glass plate of arbitrary materials, various resin (especially transparent resin), a functional member, etc. are mentioned, for example. These contents will be described later.

上記放射線硬化型液状粘着組成物を上記基層に塗布する方法は特に限定はない。上記塗布の方法としては、例えば、ロールコーターにより塗布する他、溶媒キャスト法、スピンコート法等が挙げられる。尚、上記塗布は、人為的に上記放射線硬化型液状粘着組成物を上記基層に塗布する方法だけでなく、上記基層の表面に上記放射線硬化型液状粘着組成物を滴下し、次いで他の部材を上記基層の表面に配設することにより、上記放射線硬化型液状粘着組成物を上記基層の表面全体に広げる方法も含む。   The method for applying the radiation curable liquid adhesive composition to the base layer is not particularly limited. Examples of the application method include application by a roll coater, solvent casting method, spin coating method and the like. In addition, the application is not only a method of artificially applying the radiation curable liquid adhesive composition to the base layer, but the radiation curable liquid adhesive composition is dropped on the surface of the base layer, and then another member is attached. A method of spreading the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition over the entire surface of the base layer by disposing it on the surface of the base layer is also included.

上記硬化工程は、放射線を照射することにより、上記工程により塗布された上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させる工程である。上記放射線の種類は、上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させることができる限り特に限定はない。上記放射線としては、例えば、可視光、紫外線、電子線、X線等活性エネルギー線等が挙げられる。上記放射線としては好ましくは、光(可視光又は紫外線)である。上記紫外線の線源としては、例えば、水銀アーク、炭素アーク、低圧水銀ランプ、中・高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブックライトランプ等の公知の照射装置を用いることができる。   The said hardening process is a process of hardening the said radiation-curable liquid adhesive composition apply | coated by the said process by irradiating a radiation. The type of the radiation is not particularly limited as long as the radiation curable liquid adhesive composition can be cured. Examples of the radiation include active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, electron beams, and X-rays. The radiation is preferably light (visible light or ultraviolet light). As the ultraviolet ray source, for example, a known irradiation device such as a mercury arc, a carbon arc, a low pressure mercury lamp, a medium / high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp, or a book light lamp can be used.

上記放射線の照射条件についても特に限定はない。上記放射線として紫外線を用いる場合、該紫外線の波長範囲は、通常150〜500nm、好ましくは180〜460nm、更に好ましくは200〜400nmである。また、上記紫外線のピーク照度は、50〜1000mW/cm、好ましくは50〜800mW/cm、更に好ましくは50〜700mW/cm、より好ましくは50〜600mW/cmとすることができる。更に、上記紫外線の積算光量は100〜2000mJ/cm、好ましくは150〜1500mJ/cm、更に好ましくは200〜1300mJ/cm、より好ましくは250〜1000mJ/cmとすることができる。 There is no particular limitation on the irradiation condition of the radiation. When ultraviolet rays are used as the radiation, the wavelength range of the ultraviolet rays is usually 150 to 500 nm, preferably 180 to 460 nm, and more preferably 200 to 400 nm. The peak irradiance of the ultraviolet, 50~1000mW / cm 2, preferably 50 to 800 mW / cm 2, more preferably 50~700mW / cm 2, more preferably, to 50~600mW / cm 2. Furthermore, the integrated light quantity of the ultraviolet light 100 to 2000 mJ / cm 2, preferably 150~1500mJ / cm 2, more preferably 200~1300mJ / cm 2, more preferably, to 250~1000mJ / cm 2.

本発明の耐衝撃粘着層の製造方法では、上記紫外線照射の条件として、低照度で且つ積算光量大の条件とすることが好ましい。即ち、本発明の耐衝撃粘着層の製造方法では、低照度の紫外線を長時間照射することが好ましい。具体的には、例えば、上記紫外線照射の条件は、上記紫外線のピーク照度が50〜1000mW/cmであり、且つ上記紫外線の積算光量が100〜2000mJ/cmの条件とすることができる。上記紫外線照射の好ましい条件は、上記紫外線のピーク照度が50〜800mW/cmであり、且つ上記紫外線の積算光量が150〜1500mJ/cm、の条件とすることができる。上記紫外線照射の更に好ましい条件は、上記紫外線のピーク照度が50〜700mW/cmであり、且つ上記紫外線の積算光量が200〜1300mJ/cmの条件とすることができる。上記紫外線照射の好ましい条件は、上記紫外線のピーク照度が50〜600mW/cmであり、且つ上記紫外線の積算光量が250〜1000mJ/cmの条件とすることができる。上記紫外線のピーク照度及び積算光量を上記範囲とすることにより、上記耐衝撃粘着層の透明性、粘着性及び耐衝撃性のバランスが良好となり、また、上記耐衝撃粘着層の耐衝撃性及び放射線硬化性を高めることができるので好ましい。 In the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, it is preferable that the ultraviolet irradiation condition is a low illuminance and a large integrated light quantity. That is, in the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, it is preferable to irradiate ultraviolet rays with low illuminance for a long time. Specifically, for example, the conditions of the ultraviolet irradiation, the peak irradiance of the ultraviolet is 50~1000mW / cm 2, and the accumulated light quantity of the ultraviolet light may be a condition of 100 to 2000 mJ / cm 2. The preferable conditions for the ultraviolet irradiation can be the conditions in which the peak illuminance of the ultraviolet light is 50 to 800 mW / cm 2 and the cumulative amount of the ultraviolet light is 150 to 1500 mJ / cm 2 . More preferable conditions for the ultraviolet irradiation may be a condition in which the peak illuminance of the ultraviolet light is 50 to 700 mW / cm 2 and the accumulated light amount of the ultraviolet light is 200 to 1300 mJ / cm 2 . The preferable conditions for the ultraviolet irradiation may be a condition in which the peak illuminance of the ultraviolet light is 50 to 600 mW / cm 2 and the accumulated light amount of the ultraviolet light is 250 to 1000 mJ / cm 2 . By setting the peak illuminance and integrated light amount of the ultraviolet rays within the above ranges, the impact resistant adhesive layer has a good balance of transparency, adhesiveness and impact resistance, and the impact resistant radiation and radiation of the impact resistant adhesive layer are improved. Since curability can be improved, it is preferable.

上記放射線の照射は、窒素ガス等の不活性ガスで置換した酸素のない雰囲気中で行うことができる。また、上記放射線の照射は、空気雰囲気中で行うこともできる。上記放射線の照射を空気雰囲気中で行うと、上記耐衝撃粘着層の放射線照射面側の粘着性を高めることができる。   The irradiation with the radiation can be performed in an oxygen-free atmosphere substituted with an inert gas such as nitrogen gas. The irradiation with the radiation can also be performed in an air atmosphere. When irradiation with the radiation is performed in an air atmosphere, the adhesiveness of the impact-resistant adhesive layer on the radiation irradiation surface side can be increased.

本発明の製造方法により得られる耐衝撃粘着層の厚さについては特に限定はなく、用途等に応じて種々の範囲の厚さとすることができる。本発明の製造方法により得られる耐衝撃粘着層の厚さは、通常2000μm以下、好ましくは100〜1500μm、更に好ましくは150〜1000μm、より好ましく200〜800μmである。上記厚さが上記範囲内であると、十分な耐衝撃性を維持することができるので好ましい。   The thickness of the impact-resistant adhesive layer obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, and can be set to various thicknesses depending on the application. The thickness of the impact-resistant adhesive layer obtained by the production method of the present invention is usually 2000 μm or less, preferably 100 to 1500 μm, more preferably 150 to 1000 μm, and more preferably 200 to 800 μm. It is preferable for the thickness to be within the above range since sufficient impact resistance can be maintained.

本発明の製造方法により得られる耐衝撃粘着層は、透明性、粘着性及び耐衝撃性に優れる。具体的には、本発明の製造方法により得られる耐衝撃粘着層のヘイズ、180°剥離粘着力、及びtanδのピーク値は、後述の範囲とすることができる。   The impact-resistant adhesive layer obtained by the production method of the present invention is excellent in transparency, adhesiveness and impact resistance. Specifically, the haze of the impact-resistant adhesive layer obtained by the production method of the present invention, the 180 ° peel adhesive strength, and the peak value of tan δ can be in the ranges described below.

(2)耐衝撃粘着層
本発明の耐衝撃粘着層は、厚さが50〜2000μmであり、粘着力が0.1〜10N/25mm、tanδのピーク値が1以上であり、ヘイズが1以下である。本発明の耐衝撃粘着層は、粘着力に優れると共に透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性にも優れる。本発明の耐衝撃粘着層を用いると、粘着層と耐衝撃層とを別々に設ける必要がなく、透明性、放射線硬化性及び耐衝撃性に優れる積層構造体を容易に得ることができる。
(2) Impact resistant adhesive layer The impact resistant adhesive layer of the present invention has a thickness of 50 to 2000 μm, an adhesive strength of 0.1 to 10 N / 25 mm, a peak value of tan δ of 1 or more, and a haze of 1 or less. It is. The impact-resistant adhesive layer of the present invention is excellent in adhesive force and also in transparency, radiation curability and impact resistance. When the impact-resistant adhesive layer of the present invention is used, it is not necessary to separately provide an adhesive layer and an impact-resistant layer, and a laminated structure excellent in transparency, radiation curability and impact resistance can be easily obtained.

本発明の耐衝撃粘着層は、上記厚さ及び物性を備える限り、その材質・形状・構造に特に限定はない。また、上記衝撃吸収層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する2層以上の層で構成される多層構造でもよい。多層構造の上記耐衝撃粘着層としては、例えば、tanδのピーク値の異なる2以上の層を積層してなる耐衝撃粘着層が挙げられる。   As long as the impact-resistant adhesive layer of the present invention has the above thickness and physical properties, the material, shape, and structure are not particularly limited. The shock absorbing layer may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers having the same or different materials and physical properties. Examples of the impact resistant adhesive layer having a multilayer structure include an impact resistant adhesive layer formed by laminating two or more layers having different tan δ peak values.

本発明の耐衝撃粘着層の厚さは50〜2000μm、好ましくは100〜1500μm、更に好ましくは150〜1000μm、より好ましく200〜800μmである。上記厚さが上記範囲内であると、十分な耐衝撃性を維持することができるので好ましい。   The thickness of the impact-resistant adhesive layer of the present invention is 50 to 2000 μm, preferably 100 to 1500 μm, more preferably 150 to 1000 μm, and more preferably 200 to 800 μm. It is preferable for the thickness to be within the above range since sufficient impact resistance can be maintained.

本発明の耐衝撃粘着層の180°剥離粘着力は0.1N/25mm以上、好ましくは0.3N/25mm以上、更に好ましくは0.5N/25mm以上、より好ましくは0.8N/25mm以上、特に好ましくは1N/25mm以上10N/25mm以下である。本発明の耐衝撃粘着層は、180°剥離粘着力が上記範囲であることから、粘着性に優れている。また、本発明の耐衝撃粘着層は、180°剥離粘着力を上記範囲とすることで同時にリワーク性にも優れている。   The 180 ° peel adhesive strength of the impact-resistant adhesive layer of the present invention is 0.1 N / 25 mm or more, preferably 0.3 N / 25 mm or more, more preferably 0.5 N / 25 mm or more, more preferably 0.8 N / 25 mm or more, Particularly preferably, it is 1 N / 25 mm or more and 10 N / 25 mm or less. The impact-resistant adhesive layer of the present invention has excellent adhesiveness because the 180 ° peel adhesive strength is in the above range. Moreover, the impact-resistant adhesive layer of this invention is excellent also in rework property by making 180 degree peeling adhesive force into the said range.

本発明の耐衝撃粘着層の25℃(特に25℃、0.5mm厚の条件)でのヘイズが1以下、好ましくは0.5以下、更に好ましくは0.3以下である。尚、ヘイズの測定方法は、実施例に記載の方法である。本発明の耐衝撃粘着層は、ヘイズが上記範囲であることから、透明性に優れている。   The haze at 25 ° C. (especially 25 ° C., 0.5 mm thickness) of the impact-resistant adhesive layer of the present invention is 1 or less, preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less. In addition, the measuring method of haze is a method as described in an Example. The impact-resistant adhesive layer of the present invention is excellent in transparency because the haze is in the above range.

本発明の耐衝撃粘着層のtanδのピーク値は1.0以上、好ましくは1.1以上、更に好ましくは1.2以上、より好ましくは1.3以上である。尚、tanδのピーク値の測定方法は、実施例に記載の方法である。本発明の耐衝撃粘着層は、tanδのピーク値が上記範囲であることから、耐衝撃性に優れている。   The peak value of tan δ of the impact-resistant adhesive layer of the present invention is 1.0 or more, preferably 1.1 or more, more preferably 1.2 or more, more preferably 1.3 or more. The method for measuring the peak value of tan δ is the method described in the examples. The impact-resistant adhesive layer of the present invention is excellent in impact resistance because the peak value of tan δ is in the above range.

本発明の耐衝撃粘着層を得る方法には特に限定はない。本発明の耐衝撃粘着層は、通常、上述の本発明の耐衝撃粘着層の製造方法により得ることができる。   There is no limitation in particular in the method of obtaining the impact-resistant adhesion layer of this invention. The impact-resistant adhesive layer of the present invention can be usually obtained by the above-described method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention.

上記放射線硬化型液状粘着組成物は、その性能を損なわない限り、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。上記他の成分の例は上述の通りである。   The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition may contain other components as necessary as long as the performance is not impaired. Examples of the other components are as described above.

(3)耐衝撃粘着積層構造体
本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、本発明の耐衝撃粘着層と、該耐衝撃粘着層の少なくとも一方の表面に設けられた他の層とを備える。
(3) Impact-resistant adhesive laminate structure The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention includes the impact-resistant adhesive layer of the present invention and another layer provided on at least one surface of the impact-resistant adhesive layer.

上記他の層の材質・形状・構造について特に限定はない。上記他の層としては、例えば、任意の材質のガラス板及び各種樹脂(特には透明樹脂)、並びに機能性部材等が挙げられる。上記他の層として具体的には、例えば、本発明の耐衝撃粘着層を保護する保護フィルム層及び各種機能性材料で構成され、各種ディスプレイ装置に配設される機能層等が挙げられる。   There are no particular limitations on the material, shape, and structure of the other layers. Examples of the other layers include a glass plate of any material, various resins (particularly transparent resin), and a functional member. Specific examples of the other layers include a protective film layer for protecting the impact-resistant adhesive layer of the present invention and various functional materials, and functional layers disposed in various display devices.

上記ガラス板を構成するガラスとしては、例えば、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、及びアルミノホウケイ酸ガラス、並びにこれらのガラスのアルカリ金属含有量を減少させた低アルカリガラス及び無アルカリガラス等が挙げられる。その他、シリカガラスやソーダ石灰ガラス等を用いることもできる。   Examples of the glass constituting the glass plate include borosilicate glass, aluminosilicate glass, and aluminoborosilicate glass, and low alkali glass and alkali-free glass in which the alkali metal content of these glasses is reduced. . In addition, silica glass, soda lime glass, or the like can be used.

また、上記樹脂として具体的には、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、1,2−ポリブタジエン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、環状オレフィン共重合体、変性ノルボルネン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、脂環式アクリル樹脂、ポリシクロヘキシルエチレン等の非晶性ポリオレフィン、非晶性フッ素樹脂、ポリスチレン系樹脂、透明ABS樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、非晶性コポリエステル、ポリアリレート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、セルロースアセテート、アリルジグリコールカーボネート樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA、通常、3質量%以上の酢酸ビニル単位を含有する。)、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ビニルエステル系樹脂(EVAを除く。)、非晶性ポリアミド系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂並びにケイ素系樹脂等が挙げられる。これらのうち、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等の樹脂が好ましい。特に、これらの樹脂は透明であることが好ましい。   Specific examples of the resin include polycarbonate resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, 1,2-polybutadiene resins, polyvinyl chloride resins, cyclic olefin copolymers, modified norbornene resins, norbornene. Resin, alicyclic acrylic resin, amorphous polyolefin such as polycyclohexylethylene, amorphous fluororesin, polystyrene resin, transparent ABS resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, amorphous copolyester, polyarylate, poly Methylpentene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherimide, cellulose acetate, allyl diglycol carbonate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA, usually containing 3% by mass or more vinyl acetate units), poly Styrene and polyolefin resins such as polypropylene, vinyl ester resins (excluding EVA.), Amorphous polyamide resins, urethane resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, and silicon resins. Of these, resins such as polycarbonate resins, acrylic resins, and polyester resins are preferable. In particular, these resins are preferably transparent.

上記保護フィルム層は、本発明の耐衝撃粘着層の表出面の少なくとも一方の表面に設けることができる。例えば、本発明の耐衝撃粘着層の両方の表出面に設けることができる。また、本発明の耐衝撃粘着層の表出面の片方の表面に設けることができる。上記保護フィルム層は、本発明の耐衝撃粘着層から剥離することができる。本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、上記保護フィルム層を有することにより、使用前の本発明の耐衝撃粘着層の破損を防ぐことができる。また、上記保護フィルム層を有する本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、使用時には上記保護フィルム層を剥がし、他の被着物表面に貼着することにより、容易に積層体を得ることができる。   The protective film layer can be provided on at least one surface of the exposed surface of the impact-resistant adhesive layer of the present invention. For example, it can be provided on both exposed surfaces of the impact-resistant adhesive layer of the present invention. Further, it can be provided on one surface of the exposed surface of the impact-resistant adhesive layer of the present invention. The said protective film layer can be peeled from the impact-resistant adhesion layer of this invention. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can prevent the impact-resistant adhesive layer of the present invention from being damaged before use by having the protective film layer. Moreover, the impact-resistant adhesion laminated structure of this invention which has the said protective film layer can peel easily the said protective film layer at the time of use, and can obtain a laminated body easily by sticking on the other adherend surface.

上記保護フィルム層の材質・形状・構造について特に限定はない。上記保護フィルム層の材質として具体的には、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、及びフッ素樹脂等の樹脂、又は樹脂を紙に含浸させることにより得られる樹脂含浸紙等が挙げられる。尚、上記保護フィルム層は透明でもよく、透明でなくてもよい。また、上記保護フィルム層の形状は、シート状でもよく、フィルム状でもよい。更に、上記保護フィルム層は単層構造でもよく、2層以上の積層体でもよい。また、本発明の耐衝撃粘着積層構造体において、上記保護フィルム層が2以上ある場合、各保護フィルム層は同じ材質・形状・構造の保護フィルム層でもよく、材質、形状又は構造が異なる保護フィルム層を併用してもよい。   There are no particular limitations on the material, shape, and structure of the protective film layer. Specifically, as the material of the protective film layer, for example, polyester such as PET (polyethylene terephthalate), polyamide, polyimide, polyolefin, polycarbonate, acrylic resin, resin such as fluororesin, or resin is impregnated into paper. Resin-impregnated paper obtained by the above. In addition, the said protective film layer may be transparent and does not need to be transparent. The shape of the protective film layer may be a sheet or a film. Furthermore, the protective film layer may have a single layer structure or a laminate of two or more layers. In the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention, when there are two or more protective film layers, each protective film layer may be a protective film layer having the same material, shape, or structure, and the protective film having a different material, shape, or structure. You may use a layer together.

また、上記保護フィルム層と上記耐衝撃粘着層との間には、剥離層を設けることができる。本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、上記剥離層を有することにより、上記保護フィルム層を容易に剥離することができる。上記剥離層を設ける方法は特に限定はない。例えば、上記剥離層は、上記保護フィルム層表面に剥離コート剤を塗布することにより設けることができる。該剥離コート剤の種類については特に限定はない。上記剥離コート剤として具体的には、例えば、シリコン系コート剤、無機系コート剤、フッ素コート剤、有機無機ハイブリッド系コート剤等が挙げられる。上記剥離層を備える本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、通常は上記保護フィルム層表面に上記剥離層を設けた後、該剥離層表面に本発明の耐衝撃粘着層を形成することにより得ることができる。   Moreover, a peeling layer can be provided between the protective film layer and the impact-resistant adhesive layer. The impact-resistant pressure-sensitive adhesive laminated structure of the present invention can easily peel the protective film layer by having the release layer. The method for providing the release layer is not particularly limited. For example, the release layer can be provided by applying a release coating agent on the surface of the protective film layer. There is no particular limitation on the type of the release coating agent. Specific examples of the release coating agent include silicon coating agents, inorganic coating agents, fluorine coating agents, and organic-inorganic hybrid coating agents. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention comprising the release layer is usually obtained by forming the impact-resistant adhesive layer of the present invention on the surface of the release layer after providing the release layer on the surface of the protective film layer. be able to.

上記機能層としては、例えば、紫外線カット板、偏光板(偏光板を構成する各種フィルム等も含む)、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレクションフィルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜、位相差フィルム、電磁波吸収フィルム、赤外線吸収フィルム及びタッチパネル用フィルム等の1種又は2種以上が挙げられる。上記偏光板を構成する各種フィルム等としては、偏光フィルム、基板フィルム、及び保護フィルム等が挙げられる。上記他の層が偏光板であれば、上記耐衝撃粘着層を介して本発明の耐衝撃粘着積層構造体と液晶ディスプレイパネルとを貼り合わせることにより、LCDを製造することができる。   Examples of the functional layer include an ultraviolet cut plate, a polarizing plate (including various films constituting the polarizing plate), an array substrate, a color filter, a viewing angle widening film, an anti-reflection film, an anti-glare film, a transparent conductive film, and a layer. 1 type (s) or 2 or more types, such as a phase difference film, an electromagnetic wave absorption film, an infrared rays absorption film, and a film for touchscreens, are mentioned. Examples of various films constituting the polarizing plate include a polarizing film, a substrate film, and a protective film. If the other layer is a polarizing plate, an LCD can be produced by bonding the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention and the liquid crystal display panel via the impact-resistant adhesive layer.

本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、本発明の耐衝撃粘着層と、該耐衝撃粘着層の少なくとも一方の表面に設けられた他の層とを備えていればよく、必要に応じて様々な構造とすることができる。本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、本発明の耐衝撃粘着層の片方の表出面に他の層を有する構成とすることができる(図1参照)。また、本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、本発明の耐衝撃粘着層の両方の表出面に他の層を有する構成とすることができる(図2参照)。更に、上記耐衝撃粘着層及び上記他の層は、それぞれ1層でもよく、2層以上の多層構造でもよい。上記耐衝撃粘着層が2層以上の多層構造の場合、各耐衝撃粘着層の構成、厚さ及び物性は同じでもよく、異なっていてもよい。また、上記他の層が2層以上の多層構造の場合、各他の層の種類、構成、厚さ及び物性は同じでもよく、異なっていてもよい。   The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention only needs to include the impact-resistant adhesive layer of the present invention and another layer provided on at least one surface of the impact-resistant adhesive layer. Structure. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be configured to have another layer on one exposed surface of the impact-resistant adhesive layer of the present invention (see FIG. 1). Moreover, the impact-resistant adhesive laminated structure of this invention can be set as the structure which has another layer in both the exposed surfaces of the impact-resistant adhesive layer of this invention (refer FIG. 2). Furthermore, the impact-resistant adhesive layer and the other layers may each be a single layer or a multilayer structure of two or more layers. When the impact-resistant adhesive layer has a multilayer structure of two or more layers, the configuration, thickness and physical properties of each impact-resistant adhesive layer may be the same or different. When the other layer has a multilayer structure of two or more layers, the type, configuration, thickness, and physical properties of each other layer may be the same or different.

本発明の耐衝撃粘着積層構造体を図1〜図3に例示する。図1は、本発明の耐衝撃粘着層の片方の表出面に他の層を備える耐衝撃粘着積層構造体である。図1の耐衝撃粘着積層構造体A1は、本発明の耐衝撃粘着層1及び剥離層21を備える保護フィルム層2が積層されている。また、図2及び図3は、本発明の耐衝撃粘着層の両方の表出面に他の層を備える耐衝撃粘着積層構造体である。図2の耐衝撃粘着積層構造体2は、本発明の耐衝撃粘着層1の両表面に、剥離層21を備える保護フィルム層2を有する構造体である。図3の耐衝撃粘着積層構造体A3は、本発明の耐衝撃粘着層1の一方の表面に、剥離層21を備える保護フィルム層2を有し、他方の表面には、偏光板等の機能層3を有する構造体である。   The impact-resistant adhesive laminated structure of this invention is illustrated in FIGS. FIG. 1 shows an impact-resistant adhesive laminate structure having another layer on one exposed surface of the impact-resistant adhesive layer of the present invention. The impact-resistant adhesive laminate structure A1 in FIG. 1 has a protective film layer 2 including the impact-resistant adhesive layer 1 and the release layer 21 of the present invention laminated. Moreover, FIG.2 and FIG.3 is an impact-resistant adhesion laminated structure provided with another layer on both the exposed surfaces of the impact-resistant adhesion layer of this invention. The impact-resistant adhesive laminate structure 2 in FIG. 2 is a structure having a protective film layer 2 having a release layer 21 on both surfaces of the impact-resistant adhesive layer 1 of the present invention. 3 has a protective film layer 2 having a release layer 21 on one surface of the impact-resistant adhesive layer 1 of the present invention, and a function such as a polarizing plate on the other surface. A structure having the layer 3.

本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、上記他の層の少なくとも一方の表面に、本発明の耐衝撃粘着層を形成することにより製造することができる。本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、通常、基層として上記他の層を用い、本発明の耐衝撃粘着層の製造方法により製造することができる。   The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be produced by forming the impact-resistant adhesive layer of the present invention on at least one surface of the other layer. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be usually produced by the method for producing an impact-resistant adhesive layer of the present invention, using the other layer as a base layer.

基層として上記他の層を用い、本発明の耐衝撃粘着層の製造方法により、本発明の耐衝撃粘着積層構造体を製造する方法として具体的には、以下の方法が例示される。例えば、図1の耐衝撃粘着積層構造体A1は、上記他の層(保護フィルム層2)の表面に、上記放射線硬化型液状粘着組成物を塗布し、次いで、放射線照射により上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させて、本発明の耐衝撃粘着層1を形成することにより得ることができる。また、図2の耐衝撃粘着積層構造体A2は、第1の上記他の層(保護フィルム層2)の表面に、上記放射線硬化型液状粘着組成物を塗布し、次いで放射線照射により上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させ、その後、形成された耐衝撃粘着層1の表面に、第2の上記他の層(保護フィルム層2’)を貼り合わせて得ることができる。   Specific examples of the method for producing the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention using the above-mentioned other layers as the base layer and the impact-resistant adhesive layer production method of the present invention include the following methods. For example, in the impact-resistant adhesive laminate structure A1 of FIG. 1, the radiation-curable liquid adhesive composition is applied to the surface of the other layer (protective film layer 2), and then the radiation-curable liquid composition is irradiated by radiation. It can be obtained by curing the pressure-sensitive adhesive composition to form the impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer 1 of the present invention. 2 is applied to the surface of the first other layer (protective film layer 2), and then the radiation-cured liquid adhesive composition is applied to the radiation-cured composition by radiation irradiation. The mold liquid pressure-sensitive adhesive composition can be cured, and then the second other layer (protective film layer 2 ′) can be bonded to the surface of the formed impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer 1.

その他、図2の耐衝撃粘着積層構造体A2は、第1の上記他の層(保護フィルム層2)の表面に上記放射線硬化型液状粘着組成物を塗布し、次いで塗布した上記放射線硬化型液状粘着組成物に接するように 第2の上記他の層(保護フィルム層2’)を配設し、その後、放射線照射により上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させて、本発明の耐衝撃粘着層1を形成することにより得ることができる。更に、図2の耐衝撃粘着積層構造体は、第1の上記他の層(保護フィルム層2)の表面に上記放射線硬化型液状粘着組成物を滴下し、次いで第1の上記他の層(保護フィルム層2)の表面に第2の上記他の層(保護フィルム層2’)を配設することにより、上記放射線硬化型液状粘着組成物を第1の上記他の層(保護フィルム層2)の表面全体に広げ、その後、放射線照射により上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させて、本発明の耐衝撃粘着層1を形成することにより得ることができる。   2 is applied to the surface of the first other layer (protective film layer 2), and then the radiation-curable liquid composition applied. The second other layer (protective film layer 2 ′) is disposed so as to be in contact with the pressure-sensitive adhesive composition, and then the radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition is cured by irradiation with radiation. It can be obtained by forming the layer 1. Further, in the impact-resistant adhesive laminate structure of FIG. 2, the radiation-curable liquid adhesive composition is dropped on the surface of the first other layer (protective film layer 2), and then the first other layer ( By disposing the second other layer (protective film layer 2 ′) on the surface of the protective film layer 2), the radiation curable liquid adhesive composition is changed to the first other layer (protective film layer 2). ) And then curing the radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive composition by irradiation to form the impact-resistant pressure-sensitive adhesive layer 1 of the present invention.

本発明の耐衝撃粘着積層構造体の用途には特に限定はない。本発明の耐衝撃粘着積層構造体を構成する耐衝撃粘着層は、透明性、耐衝撃性及び粘着性に優れている。よって、本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、電子・電気機器等のディスプレイパネルに用いることができる。本発明の耐衝撃粘着積層構造体は、例えば、LCDパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)、有機ELディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイパネル、電子ペーパーディスプレイパネル等に好適に使用することができる。   There is no limitation in particular in the use of the impact-resistant adhesion laminated structure of this invention. The impact-resistant adhesive layer constituting the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention is excellent in transparency, impact resistance and adhesiveness. Therefore, the impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be used for display panels such as electronic and electric devices. The impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be suitably used for, for example, an LCD panel, a plasma display panel (PDP), an organic EL display panel, a field emission display panel, an electronic paper display panel, and the like.

以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明する。尚、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。また、実施例中の「%」及び「部」は、特に断らない限り質量基準である。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. In addition, this invention is not restrict | limited at all by these Examples. Further, “%” and “part” in the examples are based on mass unless otherwise specified.

(1)放射線硬化型液状粘着組成物の調製
原料として、以下の物質を使用した。そして、以下に記載の方法により、放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)を調製した。放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)の組成及び割合を表1に示す。
(A)アクリルシロップ
新綜工業社製、商品名「BA−6」(粘度;80000cps、組成;アクリル酸/アクリル酸ブチル=6/94、シロップ中のポリマーのポリスチレン換算分子量;170万、分子量分散Mw/Mn;3.1、固形分濃度;16%)
新綜工業社製、商品名「2EHA−10」(粘度;60000cps、組成;アクリル酸/アクリル酸2−エチルヘキシル=10/90、シロップ中のポリマーのポリスチレン換算分子量;120万、分子量分散Mw/Mn;2.8、固形分濃度;22%)
(B)アクリレートモノマー
テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、及びイソボニルアクリレート
(C)シランカップリング剤
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン及び3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
(D)ウレタンアクリレート
ダイセルユーシービー社製、商品名「Ebecryl270」
(E)光重合開始剤
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド
(1) Preparation of radiation curable liquid adhesive composition The following materials were used as raw materials. And the radiation curable liquid adhesive composition (A1)-(A11) was prepared with the method as described below. Table 1 shows the compositions and ratios of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive compositions (A1) to (A11).
(A) Acrylic syrup, trade name “BA-6” manufactured by Shinsetsu Kogyo Co., Ltd. (viscosity: 80000 cps, composition; acrylic acid / butyl acrylate = 6/94, polystyrene equivalent molecular weight of polymer in syrup; 1.7 million, molecular weight dispersion) (Mw / Mn: 3.1, solid content concentration: 16%)
Product name “2EHA-10” (viscosity: 60000 cps, composition: acrylic acid / 2-ethylhexyl acrylate = 10/90, polystyrene equivalent molecular weight of polymer in syrup; 1,200,000, molecular weight dispersion Mw / Mn 2.8, solid content concentration; 22%)
(B) Acrylate monomer Tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, trimethylolpropane triacrylate, and isobornyl acrylate (C) silane coupling agent 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-mercapto Propyltrimethoxysilane (D) urethane acrylate, manufactured by Daicel UC Corporation, trade name “Ebecryl 270”
(E) Photopolymerization initiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

<放射線硬化型液状粘着組成物(A1)>
窒素置換された内容積1リットルの反応容器に、アクリルシロップ(新綜工業社製、商品名「BA−6」)350g、テトラヒドロフルフリルアクリレート350g(大阪有機工業社製)、ウレタンアクリレート70g(ダイセルユーシービー社製、商品名「Ebecryl270」)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン7g(信越化学工業社製、商品名「KBM−503」)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン10.5g(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「IRGACURE184」)、及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド7g(旭電化工業社製、商品名「オプトマーSP246」)を投入した。次いで、室温で3時間撹拌して放射線硬化型液状粘着組成物(A1)を得た。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A1)>
In a reaction vessel with an internal volume of 1 liter substituted with nitrogen, 350 g of acrylic syrup (manufactured by Shinsetsu Kogyo Co., Ltd., trade name “BA-6”), 350 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Osaka Organic Industries), 70 g of urethane acrylate (Daicel Product name “Ebecryl 270” manufactured by UCB Co., Ltd.), 7 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 10.5 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty) Chemicals, trade name “IRGACURE184”) and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide 7 g (Asahi Denka Kogyo trade name “Optomer SP246”) were added. Next, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A1).

その後、上記反応容器を減圧して、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)を撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)の溶存酸素量は、飽和酸素量の71%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)の重量減少は1%であった。   Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring the radiation curable liquid adhesive composition (A1). The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A1) after 1 hour of vacuum degassing was 71% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A1) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A2)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、2−エチルヘキシルアクリレート350gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A2)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A2)の溶存酸素量は、飽和酸素量の72%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A2)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A2)>
Instead of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 350 g of 2-ethylhexyl acrylate was used to obtain the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A2) by the same method as the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A1). Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A2) after 1 hour of vacuum degassing was 72% of the saturated oxygen content. Moreover, the weight reduction of the said radiation-curable liquid adhesive composition (A2) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A3)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、上記テトラヒドロフルフリルアクリレート175g及び2−エチルヘキシルアクリレート175gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A3)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A3)の溶存酸素量は、飽和酸素量の72%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A3)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A3)>
In place of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 175 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate and 175 g of 2-ethylhexyl acrylate are used, and the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition is prepared in the same manner as the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A1). (A3) was obtained. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid adhesive composition (A3) after 1 hour of vacuum degassing was 72% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A3) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A4)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、上記テトラヒドロフルフリルアクリレート262.5g及び2−エチルヘキシルアクリレート87.5gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A4)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A4)の溶存酸素量は、飽和酸素量の71%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A4)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A4)>
In place of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 262.5 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate and 87.5 g of 2-ethylhexyl acrylate are used, and the radiation curable type is obtained in the same manner as the radiation curable liquid adhesive composition (A1). A liquid adhesive composition (A4) was obtained. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A4) after 1 hour of vacuum degassing was 71% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A4) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A5)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、上記4−ヒドロキシブチルアクリレート350gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A5)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A5)の溶存酸素量は、飽和酸素量の73%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A5)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A5)>
In place of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 350 g of the 4-hydroxybutyl acrylate is used, and the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A5) is obtained by the same method as the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A1). It was. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A5) after 1 hour of vacuum degassing was 73% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A5) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A6)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、上記テトラヒドロフルフリルアクリレート175g及び4−ヒドロキシブチルアクリレート175gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A6)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A6)の溶存酸素量は、飽和酸素量の73%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A6)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A6)>
Instead of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 175 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate and 175 g of 4-hydroxybutyl acrylate are used, and the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition is the same as the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A1). A product (A6) was obtained. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A6) after 1 hour of vacuum degassing was 73% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A6) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A7)>
上記テトラヒドロフルフリルアクリレート350gの代わりに、上記テトラヒドロフルフリルアクリレート175g及びトリメチロールプロパントリアクリレート175gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A7)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A7)の溶存酸素量は、飽和酸素量の70%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A7)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A7)>
Instead of 350 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate, 175 g of the tetrahydrofurfuryl acrylate and 175 g of trimethylolpropane triacrylate are used, and the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition is the same as the radiation curable liquid pressure sensitive adhesive composition (A1). A product (A7) was obtained. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A7) after 1 hour of vacuum degassing was 70% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A7) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A8)>
上記1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの量を21gとし、上記2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド7gの代わりに、上記ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド1.4g(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「IRGACURE819」)を用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A3)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A8)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A8)の溶存酸素量は、飽和酸素量の70%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A8)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A8)>
The amount of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was 21 g, and instead of 7 g of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1.4 g of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide ( The radiation curable liquid adhesive composition (A8) was obtained in the same manner as the radiation curable liquid adhesive composition (A3) using a product name “IRGACURE819” manufactured by Ciba Specialty Chemicals. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid adhesive composition (A8) after 1 hour of vacuum degassing was 70% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A8) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A9)>
アクリルシロップとして、上記「BA−6」の代わりに、上記「2EHA−10」を用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A8)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A9)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A9)の溶存酸素量は、飽和酸素量の71%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A9)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A9)>
As the acrylic syrup, instead of the “BA-6”, the “2EHA-10” is used, and the radiation curable liquid adhesive composition (A9) is prepared in the same manner as the radiation curable liquid adhesive composition (A8). ) Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A9) after 1 hour of vacuum degassing was 71% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A9) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A10)>
窒素置換された内容積1リットルの反応容器に、アクリルシロップ(新綜工業社製、商品名「2EHA−10」)350g、2−エチルヘキシルアクリレート175g、イソボニルアクリレート175g、ウレタンアクリレート70g(ダイセルユーシービー社製、商品名「Ebecryl270」)、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン7g(信越化学工業社製、商品名「KBM−503」)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン21g(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「IRGACURE184」)、及びビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド1.4gを投入した。次いで、室温で3時間撹拌して放射線硬化型液状粘着組成物(A10)を得た。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A10)>
Into a reaction vessel with an internal volume of 1 liter substituted with nitrogen, 350 g of acrylic syrup (trade name “2EHA-10”, manufactured by Shinseng Industries Co., Ltd.), 175 g of 2-ethylhexyl acrylate, 175 g of isobornyl acrylate, 70 g of urethane acrylate (Daicel UCB) Product name “Ebecryl 270”), 3-mercaptopropyltrimethoxysilane 7 g (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name “KBM-503”), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 21 g (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Trade name “IRGACURE184”) and 1.4 g of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide were added. Subsequently, it stirred at room temperature for 3 hours and obtained the radiation-curable liquid adhesive composition (A10).

その後、上記反応容器を減圧して、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A10)を撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A10)の溶存酸素量は、飽和酸素量の72%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A10)の重量減少は1%であった。   Thereafter, the reaction vessel was depressurized, and vacuum deaeration was performed while stirring the radiation curable liquid adhesive composition (A10). The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A10) after 1 hour of vacuum degassing was 72% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A10) was 1%.

<放射線硬化型液状粘着組成物(A11)>
上記「2EHA−10」525g、2−エチルヘキシルアクリレート35g、及びイソボニルアクリレート140gを用い、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A10)と同様の方法により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A11)を得た。その後、上記反応容器を減圧して、撹拌しながら真空脱気を行った。真空脱気1時間後の上記放射線硬化型液状粘着組成物(A11)の溶存酸素量は、飽和酸素量の70%であった。また、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A11)の重量減少は1%であった。
<Radiation curable liquid adhesive composition (A11)>
The above-mentioned radiation curable liquid adhesive composition (A11) using 525 g of “2EHA-10”, 35 g of 2-ethylhexyl acrylate, and 140 g of isobornyl acrylate, in the same manner as the above radiation curable liquid adhesive composition (A10). Got. Thereafter, the reaction vessel was depressurized and vacuum deaeration was performed while stirring. The dissolved oxygen content of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A11) after 1 hour of vacuum degassing was 70% of the saturated oxygen content. The weight reduction of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition (A11) was 1%.

尚、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)の溶存酸素量は、以下の方法により測定した。
乾燥空気で置換した内容積1リットルの反応容器に、上記放射線硬化型液状粘着組成物500gを投入して、次いで乾燥空気を供給し、室温で1時間攪拌して上記放射線硬化型液状粘着組成物の飽和酸素溶液を作成した。尚、上記乾燥空気の供給は、反応容器内の圧力が1気圧を保つように圧力計で確認しながら行った。そして、有機溶媒用DOメーター(セントラル科学株式会社製、商品名「UC−12−SOL」)を用いて、上記放射線硬化型液状粘着組成物の飽和酸素溶液の飽和酸素量(DOメーターの表示値)を測定した。次に、上記DOメーターを用いて、真空脱気した上記放射線硬化型液状粘着組成物の飽和酸素量(DOメーターの表示値)を測定した。これらの表示値に基づいて、以下の計算式から溶存酸素量(%)を計算した。
溶存酸素量(%)=A/B
A;真空脱気後のDOメーターの表示値
B;飽和酸素溶液のDOメーターの表示値
In addition, the dissolved oxygen amount of the said radiation-curable liquid adhesive composition (A1)-(A11) was measured with the following method.
Into a reaction vessel having an internal volume of 1 liter substituted with dry air, 500 g of the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition is charged, then supplied with dry air, and stirred at room temperature for 1 hour, the radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition. A saturated oxygen solution was prepared. The dry air was supplied while confirming with a pressure gauge so that the pressure in the reaction vessel was maintained at 1 atm. Then, using a DO meter for organic solvent (trade name “UC-12-SOL”, manufactured by Central Science Co., Ltd.), the saturated oxygen amount of the saturated oxygen solution of the radiation curable liquid adhesive composition (display value of the DO meter) ) Was measured. Next, using the DO meter, the amount of saturated oxygen (indicated value on the DO meter) of the radiation curable liquid adhesive composition that had been degassed in vacuum was measured. Based on these displayed values, the dissolved oxygen amount (%) was calculated from the following calculation formula.
Dissolved oxygen amount (%) = A / B
A: Display value of DO meter after vacuum deaeration B: Display value of DO meter of saturated oxygen solution

Figure 2007182557
Figure 2007182557

(2)耐衝撃粘着層の製造
基層として、厚さ100μmの剥離コート付ポリエステルフィルム(帝人デュポン社製、商品名「ピューレックスA71」)を用いた。そして、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)を、上記基層の上記剥離コート表面に塗布した。上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)は、バーコーターにより塗布した。紫外線の線源として、メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いた。そして、ピーク照度170mW/cm、積算光量500mJ/cmの条件で、塗布した上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)に紫外線を照射した。この紫外線照射により、上記放射線硬化型液状粘着組成物(A1)〜(A11)を硬化させて、実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層を製造した。尚、実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層の厚さを表2及び表3に示す。
(2) Production of impact-resistant adhesive layer As a base layer, a polyester film with a release coat having a thickness of 100 μm (trade name “Purex A71” manufactured by Teijin DuPont) was used. And the said radiation-curable liquid adhesive composition (A1)-(A11) was apply | coated to the said peeling coat surface of the said base layer. The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive compositions (A1) to (A11) were applied by a bar coater. A metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics) was used as an ultraviolet ray source. Then, the applied radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive compositions (A1) to (A11) were irradiated with ultraviolet rays under conditions of a peak illuminance of 170 mW / cm 2 and an integrated light amount of 500 mJ / cm 2 . The radiation-curable liquid pressure-sensitive adhesive compositions (A1) to (A11) were cured by this ultraviolet irradiation to produce impact-resistant pressure-sensitive adhesive layers of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 2 to 7. In addition, the thickness of the impact-resistant adhesive layer of Examples 1-9 and Comparative Examples 2-7 is shown in Table 2 and Table 3.

尚、比較例6の耐衝撃粘着層は、真空脱気を行わなかったこと以外は実施例1と同様の方法で製造した耐衝撃粘着層である。比較例6で用いた放射線硬化型液状粘着組成物の溶存酸素は、飽和酸素量の98%であった。   The impact-resistant adhesive layer of Comparative Example 6 is an impact-resistant adhesive layer produced by the same method as in Example 1 except that vacuum degassing was not performed. The dissolved oxygen of the radiation-curable liquid adhesive composition used in Comparative Example 6 was 98% of the saturated oxygen amount.

(3)評価
実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層と、機能層となる偏光板(住友化学工業社製、商品名「スミカランSQ−1832A」)とを貼り合わせて、耐衝撃粘着積層構造体を得た。上記耐衝撃粘着層は、その紫外線照射面が上記偏光板と接するように貼り合わせた。次いで、上記耐衝撃粘着積層構造体から、上記剥離コート付ポリエステルフィルムを剥離した。そして、実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層を厚さ0.7mmで4インチ四方の無アルカリガラス板(コーニング社製、商品名「#1737」)に貼り合わせて、実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層を備える評価用サンプルを作製した。また、上記偏光板の代わりに公知の粘着剤付きの偏光板(住友化学工業社製、商品名「スミカランSQ−1832AP」)を用い、これと上記基層とを貼り合わせて、積層構造体である比較例1の評価用サンプルを作製した。そして、これらの評価用サンプルを用い、下記に記載の方法により、透明性、粘着性、放射線硬化性及び耐衝撃性を評価した。その結果を表2及び表3に示す。
(3) Evaluation The impact-resistant adhesive layers of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 2 to 7 and a polarizing plate (trade name “Sumikaran SQ-1832A” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) to be a functional layer were bonded together. An impact-resistant adhesive laminate structure was obtained. The impact-resistant adhesive layer was bonded so that the ultraviolet irradiation surface was in contact with the polarizing plate. Subsequently, the polyester film with a release coat was peeled from the impact-resistant adhesive laminate structure. Then, the impact-resistant adhesive layers of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 2 to 7 were bonded to a 4-inch square non-alkali glass plate (manufactured by Corning, trade name “# 1737”) with a thickness of 0.7 mm, Samples for evaluation comprising the impact-resistant adhesive layers of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 2 to 7 were produced. In addition, a polarizing plate with a known pressure-sensitive adhesive (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name “Sumikaran SQ-1832AP”) is used instead of the polarizing plate, and this and the base layer are bonded to form a laminated structure. A sample for evaluation of Comparative Example 1 was produced. Then, using these evaluation samples, transparency, tackiness, radiation curability and impact resistance were evaluated by the methods described below. The results are shown in Tables 2 and 3.

(A)透明性
上記各評価用サンプルについて、BYK−ガードナーGmbh社製モデル(haze−gard plus)を使用して、25℃におけるヘイズ(%)を求めた。このヘイズに基づいて、透明性を評価した。ヘイズが1未満のときは透明性が良好であり、ヘイズ値が1以上のときは透明性が不十分である。
(B)耐衝撃性
〔試験1〕
測定装置として、動的粘弾性測定装置(レオメトリック・サイエンティフィック・エフイー社製、RSAII)を用いた。該装置を用い、上記実施例1〜9及び比較例2〜7の耐衝撃粘着層について、−70℃から150℃までの温度分散測定を行い、tanδのピーク値を測定した。測定条件は、周波数1Hz、引張モードである。tanδのピーク値が1以上では耐衝撃性が良好であり、tanδのピーク値が1未満では耐衝撃性が不十分である。
〔試験2〕
図4に示すように、大理石等からなる基台62の上に厚さ1mmのアクリル板61(日東樹脂工業社製、「クラレックス」)を載せた。上記無アルカリガラス板4がアクリル板61に接するように、上記実施例1〜9及び比較例1〜7の各評価用サンプルAを載置した。次いで、鉄球7(直径5cm、質量550g)を、所定高さから上記各評価用サンプルA上に自由落下させ、衝突させた。その後、上記無アルカリガラス板4のガラス割れの有無を目視で確認した。そして、上記無アルカリガラス板4のガラス割れが生じた時の高さの中で一番低い値を落球高度(cm)として求めた。この落球高度の値が大きいほど耐衝撃性に優れていることを意味する。
(C)粘着性
上記各耐衝撃粘着積層構造体を25mm幅でカットした。次いで、上記耐衝撃粘着積層構造体から、上記剥離コート付ポリエステルフィルムを剥離して、脱脂処理をした無アルカリガラスに貼り合わせた。上記ガラスに貼合した積層体を用いて、180°剥離試験を行い、剥離強度(N/25mm)を測定した。この剥離強度を粘着性の指標とした。尚、上記180°剥離試験は、引張試験機(島津製作所製、商品名「AG2000」)を用いて、25℃、引張速度300mm/minの条件で行った。
(D)放射線硬化性
上記耐衝撃粘着積層構造体を作製後、室温で1週間静置した。次いで、耐衝撃粘着層の内部や耐衝撃粘着層と偏光板又は剥離コート付ポリエステルフィルムの界面における気泡や浮きの発生を目視で確認した。この結果に基づいて、以下の指標で放射線硬化性を判断した。尚、放射線硬化性が十分でない場合は、未反応の成分由来のガスが凝集して気泡や浮きが発生する。
○:耐衝撃粘着層の内部や界面に気泡や浮きの発生が見られず、放射線硬化性が良好。
×:耐衝撃粘着層の内部や界面に気泡や浮きの発生が見られ、放射線硬化性に劣る。
(A) Transparency About each said sample for evaluation, haze (%) in 25 degreeC was calculated | required using the model (BYSE-gardner Gmbh) make (haze-gard plus). Based on this haze, transparency was evaluated. When the haze is less than 1, the transparency is good, and when the haze value is 1 or more, the transparency is insufficient.
(B) Impact resistance [Test 1]
As a measuring device, a dynamic viscoelasticity measuring device (Rheometric Scientific FT, RSAII) was used. Using this apparatus, the temperature dispersion measurement from −70 ° C. to 150 ° C. was performed on the impact-resistant adhesive layers of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 2 to 7, and the peak value of tan δ was measured. The measurement conditions are a frequency of 1 Hz and a tensile mode. When the peak value of tan δ is 1 or more, the impact resistance is good, and when the peak value of tan δ is less than 1, the impact resistance is insufficient.
[Test 2]
As shown in FIG. 4, a 1 mm thick acrylic plate 61 (manufactured by Nitto Resin Co., Ltd., “Clarex”) was placed on a base 62 made of marble or the like. The evaluation samples A of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 7 were placed so that the alkali-free glass plate 4 was in contact with the acrylic plate 61. Subsequently, the iron ball 7 (diameter 5 cm, mass 550 g) was freely dropped from the predetermined height onto each of the evaluation samples A and collided. Then, the presence or absence of the glass crack of the said alkali free glass plate 4 was confirmed visually. And the lowest value was calculated | required as falling ball height (cm) in the height when the glass crack of the said alkali free glass plate 4 produced. The larger the falling ball height value, the better the impact resistance.
(C) Adhesiveness Each of the above impact-resistant adhesive laminate structures was cut with a width of 25 mm. Next, the polyester film with a release coat was peeled off from the impact-resistant adhesive laminate structure and bonded to a non-alkali glass subjected to a degreasing treatment. A 180 ° peel test was performed using the laminate bonded to the glass, and the peel strength (N / 25 mm) was measured. This peel strength was used as an index for tackiness. The 180 ° peel test was conducted using a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name “AG2000”) under the conditions of 25 ° C. and a tensile speed of 300 mm / min.
(D) Radiation curable After producing the said impact-resistant adhesion laminated structure, it left still at room temperature for 1 week. Next, the occurrence of bubbles and floats was visually confirmed inside the impact-resistant adhesive layer and at the interface between the impact-resistant adhesive layer and the polarizing plate or the polyester film with release coat. Based on this result, radiation curability was judged by the following index. In addition, when radiation curability is not enough, the gas derived from an unreacted component aggregates and a bubble and a float generate | occur | produce.
○: No bubbles or floats are observed inside the shock-resistant adhesive layer or at the interface, and radiation curability is good.
X: Generation | occurrence | production of a bubble and a float are seen in the inside and interface of an impact-resistant adhesion layer, and it is inferior to radiation curability.

Figure 2007182557
Figure 2007182557

Figure 2007182557
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(実施例の効果)
本発明の耐衝撃性粘着層を有する実施例1〜9は、ガラス割れ高さが30cm〜110cmと、耐衝撃粘着層を有しない比較例1と比べて6倍以上の値を示す。また、本発明の耐衝撃性粘着層を有する実施例1〜9は、tanδのピーク値が1.1〜1.6である。よって、本発明の耐衝撃性粘着層は、耐衝撃性に優れていることが分かる。また、本発明の耐衝撃性粘着層を有する実施例1〜9は、ヘイズが0.1であり、透明性に優れることが分かる。
(Effect of Example)
Examples 1 to 9 having an impact-resistant adhesive layer of the present invention have a glass crack height of 30 to 110 cm, which is 6 times or more that of Comparative Example 1 having no impact-resistant adhesive layer. In Examples 1 to 9 having the impact-resistant adhesive layer of the present invention, the peak value of tan δ is 1.1 to 1.6. Therefore, it turns out that the impact-resistant adhesive layer of this invention is excellent in impact resistance. Moreover, Examples 1-9 which have an impact-resistant adhesion layer of this invention have a haze of 0.1, and it turns out that it is excellent in transparency.

一方、比較例2は耐衝撃粘着層の厚みが本発明の範囲外である。そして、比較例2はガラス割れ高さが10cmであり、実施例1〜9と比べて耐衝撃性に劣ることが分かる。比較例3、4及び7は本発明の透明性の範囲である耐衝撃粘着層を有しないため、ヘイズが2.7〜5.0であり透明性に劣る。比較例5はtanδのピーク値が0.6と小さいためガラス割れ高さも20cmと耐衝撃性に劣ることが分かる。また、比較例6は、脱気工程のない製造方法で得られた耐衝撃粘着層を有する。そして、比較例6では、耐衝撃粘着層と剥離コート付ポリエステルフィルムとの界面に気泡が見られ、放射線硬化性に劣ることが分かる。   On the other hand, in Comparative Example 2, the thickness of the impact-resistant adhesive layer is outside the scope of the present invention. And it turns out that the comparative example 2 is inferior in impact resistance compared with Examples 1-9 whose glass crack height is 10 cm. Since Comparative Examples 3, 4 and 7 do not have the impact-resistant adhesive layer which is the transparency range of the present invention, the haze is 2.7 to 5.0 and is inferior in transparency. In Comparative Example 5, since the peak value of tan δ is as small as 0.6, the glass crack height is 20 cm, which is inferior in impact resistance. Moreover, the comparative example 6 has the impact-resistant adhesion layer obtained with the manufacturing method without a deaeration process. And in the comparative example 6, a bubble is seen in the interface of an impact-resistant adhesion layer and a polyester film with a peeling coat, and it turns out that it is inferior to radiation curability.

尚、本発明は、上記実施例に限らず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention depending on the purpose and application.

本発明の耐衝撃粘着層及び耐衝撃粘着積層構造体は、透明性、粘着性及び耐衝撃性が要求される各種用途に適用することができる。例えば、本発明の耐衝撃粘着層及び耐衝撃粘着積層構造体は、上述した電子・電気機器等のディスプレイ装置の他、自動車用ガラス、建材用ガラス、防弾ガラス等に適用することができる。   The impact-resistant adhesive layer and impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be applied to various uses that require transparency, adhesiveness, and impact resistance. For example, the impact-resistant adhesive layer and impact-resistant adhesive laminate structure of the present invention can be applied to glass for automobiles, glass for building materials, bulletproof glass, etc., in addition to the above-described display devices such as electronic and electrical devices.

本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating an example of the shock absorption laminated structure of this invention. 本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating an example of the shock absorption laminated structure of this invention. 本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for demonstrating an example of the shock absorption laminated structure of this invention. 本実施例の耐衝撃性試験を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the impact resistance test of a present Example.

符号の説明Explanation of symbols

A;評価用サンプル、A1,A2,A3;耐衝撃粘着積層構造体、1;耐衝撃粘着層、2,2’;保護フィルム層、21;剥離層、3;機能層、4;無アクリルガラス板、61;アクリル板、62;基台、7;鉄球。   A: Sample for evaluation, A1, A2, A3; Impact-resistant adhesive laminated structure, 1; Impact-resistant adhesive layer, 2, 2 '; Protective film layer, 21; Release layer, 3; Functional layer, 4; Board 61; acrylic board 62; base 7; iron ball.

Claims (8)

放射線硬化型液状粘着組成物を脱気する脱気工程と、
上記脱気工程により脱気された上記放射線硬化型液状粘着組成物を基層表面に塗布する塗布工程と、
放射線を照射することにより、上記塗布工程により塗布された上記放射線硬化型液状粘着組成物を硬化させる硬化工程と、
を順次備えることを特徴とする耐衝撃粘着層の製造方法。
A degassing step of degassing the radiation curable liquid adhesive composition;
An application step of applying the radiation curable liquid adhesive composition degassed by the deaeration step to the surface of the base layer;
A curing step of curing the radiation-curable liquid adhesive composition applied by the application step by irradiating with radiation; and
The manufacturing method of the impact-resistant adhesion layer characterized by comprising sequentially.
上記放射線硬化型液状粘着組成物は、(A)アクリルシロップ、(B)アクリレートモノマー、(C)シランカップリング剤、(D)ウレタン(メタ)アクリレート、及び(E)光重合開始剤を含有する放射線硬化型液状粘着組成物である請求項1記載の耐衝撃粘着層の製造方法。   The radiation curable liquid pressure-sensitive adhesive composition contains (A) acrylic syrup, (B) acrylate monomer, (C) silane coupling agent, (D) urethane (meth) acrylate, and (E) photopolymerization initiator. The method for producing an impact-resistant adhesive layer according to claim 1, which is a radiation curable liquid adhesive composition. 上記脱気工程後の上記放射線硬化型液状粘着組成物に含まれる溶存酸素量が飽和酸素量の90%以下である請求項1又は2記載の耐衝撃粘着層の製造方法。   The method for producing an impact-resistant adhesive layer according to claim 1 or 2, wherein the amount of dissolved oxygen contained in the radiation-curable liquid adhesive composition after the degassing step is 90% or less of the saturated oxygen amount. 上記放射線は紫外線であり、ピーク照度が50〜1000mW/cm、且つ積算光量が100〜2000mJ/cmの条件で上記紫外線を照射する請求項1乃至3のいずれかに記載の耐衝撃粘着層の製造方法。 The radiation is ultraviolet light, impact-adhesive layer according to any one of claims 1 to 3 peak irradiance 50~1000mW / cm 2, and the accumulated amount of light irradiating the ultraviolet rays under the condition of 100 to 2000 mJ / cm 2 Manufacturing method. 得られる耐衝撃粘着層の厚さが50〜2000μmである請求項1乃至4のいずれかに記載の耐衝撃粘着層の製造方法。   The method for producing an impact-resistant adhesive layer according to any one of claims 1 to 4, wherein the resulting impact-resistant adhesive layer has a thickness of 50 to 2000 µm. 厚さが50〜2000μm、180°剥離粘着力が1〜10N/25mm、tanδのピーク値が1以上、且つ25℃でのヘイズが1以下であることを特徴とする耐衝撃粘着層。   An impact-resistant adhesive layer having a thickness of 50 to 2000 μm, a 180 ° peel adhesive strength of 1 to 10 N / 25 mm, a tan δ peak value of 1 or more, and a haze at 25 ° C. of 1 or less. 請求項1乃至5のいずれかに記載の方法により得られることを特徴とする耐衝撃粘着層。   An impact-resistant adhesive layer obtained by the method according to any one of claims 1 to 5. 請求項6又は7記載の耐衝撃粘着層と、該耐衝撃粘着層の少なくとも一方の表面に設けられた他の層とを備えることを特徴とする耐衝撃粘着積層構造体。   An impact-resistant adhesive laminate structure comprising: the impact-resistant adhesive layer according to claim 6 or 7; and another layer provided on at least one surface of the impact-resistant adhesive layer.
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