JP2007178553A - Rubbing apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rubbing apparatus which can eliminate foreign matters generated in a region near a re-alignment mechanism and can thereby prevent substrate surface from being scratched. <P>SOLUTION: The rubbing apparatus 10 comprises a rubbing base 14 for mounting a glass substrate 13, with which a transparent electrode 11 and an alignment layer 12 are formed; a rubbing roller 15 which is adjusted so that a push-in amount to the alignment layer 12 is 0.3 mm, and which rotates and moves, while pressurizing the alignment layer 12 with a constant pressure; a rubbing cloth 17 which is wrapped around the rubbing roll 15 and has buffing fluff 16 for rubbing the alignment layer 12; a circular cylinder 18 which is adjusted so that a push-in amount to the buffing fluff 16 is 0.3 mm so as to realign the buffing fluff 16; and a suction mechanism 19 for sucking the neighborhood region of the circular cylinder 18. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ラビング装置に関し、特に、ラビング布の再整列機構が付加されたラビング装置に関する。   The present invention relates to a rubbing apparatus, and more particularly to a rubbing apparatus to which a realignment mechanism for rubbing cloth is added.

従来より、液晶ディスプレイ(LCD)は、図5に示すように、ガラス基板を洗浄し(ステップS501)、洗浄したガラス基板に膜抵抗値が15〜30Ω、厚さが100〜150nmの透明電極をパターンニングし(ステップS502)、透明電極がパターンニングされたガラス基板に硬度が2H〜4Hの配向膜を形成し(ステップS503)、形成された配向膜をラビング処理し(ステップS504)、ガラス基板を貼り合わせてガラスパネルを形成し(ステップS505)、ガラスパネルを切断し(ステップS506)、液晶を注入する(ステップS507)ことにより作製される。   Conventionally, as shown in FIG. 5, a liquid crystal display (LCD) cleans a glass substrate (step S501), and a transparent electrode having a film resistance value of 15 to 30Ω and a thickness of 100 to 150 nm is formed on the cleaned glass substrate. Patterning is performed (step S502), an alignment film having a hardness of 2H to 4H is formed on the glass substrate on which the transparent electrode is patterned (step S503), and the formed alignment film is rubbed (step S504). Are bonded together to form a glass panel (step S505), the glass panel is cut (step S506), and liquid crystal is injected (step S507).

配向膜のラビング処理(ステップS504)は、図6に示すようなラビング装置を用いて実施される。図6において、ラビング装置60は、透明電極61及び配向膜62が形成されたガラス基板63を載置するためのラビングベース64と、ラビングベース64に載置されたガラス基板63の表面(配向膜62)を一定圧力で押圧しながら矢印方向に回転して移動するラビングローラ65と、ラビングローラ65に巻かれ、配向膜62を擦るためのバフ毛羽69を表面に有するラビング布66とを備える(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−195251号公報
The alignment film rubbing process (step S504) is performed using a rubbing apparatus as shown in FIG. 6, the rubbing apparatus 60 includes a rubbing base 64 for placing a glass substrate 63 on which a transparent electrode 61 and an alignment film 62 are formed, and a surface of the glass substrate 63 placed on the rubbing base 64 (alignment film). 62) a rubbing roller 65 that rotates and moves in the direction of the arrow while pressing with a constant pressure, and a rubbing cloth 66 wound around the rubbing roller 65 and having a buff fluff 69 for rubbing the alignment film 62 on the surface ( For example, see Patent Document 1).
JP 2003-195251 A

しかしながら、上記ラビング装置60を用いて配向膜62にラビング処理を施すと、配向膜62をラビング布66の表面(バフ毛羽69)で擦ったときに配向膜62の削りかすが発生したり、バフ毛羽69が抜け落ちたりするので、これらの配向膜62の削りかすや抜け落ちたバフ毛羽69がラビングローラ65に巻き込まれて配向膜62を傷つけてしまうことがあった。   However, when the alignment film 62 is rubbed using the rubbing device 60, the alignment film 62 may be scraped or buffed when the alignment film 62 is rubbed with the surface of the rubbing cloth 66 (buff fluff 69). 69 may fall off, so that the alignment film 62 may be scraped or buffed fluff 69 may be caught in the rubbing roller 65 to damage the alignment film 62.

また、ラビングローラ65がガラス基板63の面取り部68を押圧すると、この面取り部68における凹凸とバフ毛羽69との摩擦によってカレットが発生し、このカレットがラビングローラ65に巻き込まれて配向膜62を傷つけてしまうことがあった。   Further, when the rubbing roller 65 presses the chamfered portion 68 of the glass substrate 63, cullet is generated due to friction between the unevenness in the chamfered portion 68 and the buff fluff 69, and the cullet is caught in the rubbing roller 65 to form the alignment film 62. I was hurt.

さらに、高速で回転するラビングローラ65に巻きつけられたラビング布66におけるバフ毛羽69が透明電極61の側面61aに衝突して抜け落ち、この抜け落ちたバフ毛羽69がラビングローラ65に巻き込まれて配向膜62を傷つけてしまうことがあった。   Further, the buff fluff 69 in the rubbing cloth 66 wound around the rubbing roller 65 rotating at high speed collides with the side surface 61a of the transparent electrode 61 and falls off, and the buff fluff 69 that has fallen off is caught in the rubbing roller 65 and is aligned. 62 could be damaged.

本発明の目的は、再整列機構の近傍領域に発生した異物を除去することができ、もって基板の表面が傷つくのを防止することができるラビング装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a rubbing apparatus that can remove foreign matters generated in the vicinity of the realignment mechanism and can prevent the surface of the substrate from being damaged.

上記目的を達成するために、請求項1記載のラビング装置は、載置台と、前記載置台に載置された基板の表面を押圧しながら回転移動するローラと、前記基板の表面と接触すべく前記ローラの外周に巻かれたラビング布と、前記基板の表面と接触したラビング布の表面を再整列する再整列機構とを備えるラビング装置において、前記再整列機構の近傍領域を吸引する吸引機構を備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the rubbing apparatus according to claim 1 is to contact the surface of the mounting table, the roller that rotates while pressing the surface of the substrate mounted on the mounting table, and the surface of the substrate. A rubbing apparatus comprising: a rubbing cloth wound around the outer periphery of the roller; and a realignment mechanism that realigns the surface of the rubbing cloth that is in contact with the surface of the substrate, and a suction mechanism that sucks a region near the realignment mechanism. It is characterized by providing.

請求項2記載のラビング装置は、請求項1記載のラビング装置において、前記吸引機構は前記再整列機構を覆うように配設された吸引部を有することを特徴とする。   A rubbing apparatus according to a second aspect is the rubbing apparatus according to the first aspect, wherein the suction mechanism includes a suction portion disposed so as to cover the realignment mechanism.

請求項3記載のラビング装置は、請求項2記載のラビング装置において、前記再整列機構は略円柱形状であることを特徴とする。   A rubbing apparatus according to a third aspect is the rubbing apparatus according to the second aspect, wherein the realignment mechanism has a substantially cylindrical shape.

請求項4記載のラビング装置は、請求項1記載のラビング装置において、前記吸引機構は前記再整列機構と一体に形成された吸引部を有することを特徴とする。   A rubbing apparatus according to a fourth aspect is the rubbing apparatus according to the first aspect, wherein the suction mechanism has a suction portion formed integrally with the realignment mechanism.

請求項5記載のラビング装置は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のラビング装置において、前記再整列機構は同一方向に形成された複数の溝を表面に有することを特徴とする。   The rubbing apparatus according to claim 5 is the rubbing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the realignment mechanism has a plurality of grooves formed in the same direction on a surface thereof.

請求項6記載のラビング装置は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のラビング装置において、前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、0.1〜0.5mmであることを特徴とする。   The rubbing apparatus according to claim 6 is the rubbing apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the realignment mechanism is pushed into the surface of the rubbing cloth by 0.1 to 0.5 mm. It is characterized by that.

請求項7記載のラビング装置は、請求項6記載のラビング装置において、前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、0.2〜0.4mmであることを特徴とする。   A rubbing apparatus according to a seventh aspect is the rubbing apparatus according to the sixth aspect, wherein an amount of pressing of the realignment mechanism against a surface of the rubbing cloth is 0.2 to 0.4 mm.

請求項8記載のラビング装置は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のラビング装置において、前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、前記ローラの前記基板の表面に対する押し込み量と同じであることを特徴とする。   The rubbing device according to claim 8 is the rubbing device according to any one of claims 1 to 7, wherein an amount of pressing of the realignment mechanism with respect to the surface of the rubbing cloth is determined by pressing the roller with respect to the surface of the substrate. It is characterized by the same amount.

請求項1記載のラビング装置によれば、吸引機構が再整列機構の近傍領域を吸引するので、再整列機構の近傍領域に発生した異物を除去することができ、もって基板の表面が傷つくのを防止することができる。   According to the rubbing apparatus of the first aspect, since the suction mechanism sucks the area in the vicinity of the realignment mechanism, the foreign matter generated in the area in the vicinity of the realignment mechanism can be removed, and the surface of the substrate can be damaged. Can be prevented.

請求項2記載のラビング装置によれば、吸引部が再整列機構を覆うように配設されているので、再整列機構の近傍領域に発生した異物を効率的に除去することができ、もって基板の表面が傷つくのをさらに防止することができる。   According to the rubbing apparatus of the second aspect, since the suction part is arranged so as to cover the realignment mechanism, the foreign matter generated in the vicinity region of the realignment mechanism can be efficiently removed, and thus the substrate It is possible to further prevent the surface of the ink from being damaged.

請求項3記載のラビング装置によれば、再整列機構は略円柱形状であるので、吸引機構の吸引効率を向上することができ、もって再整列機構の近傍領域に発生した異物をさらに効率的に除去することができる。   According to the rubbing apparatus of the third aspect, since the realignment mechanism has a substantially cylindrical shape, the suction efficiency of the suction mechanism can be improved, so that the foreign matter generated in the vicinity of the realignment mechanism can be more efficiently removed. Can be removed.

請求項4記載のラビング装置によれば、吸引部は再整列機構と一体に形成されているので、小型化することができる。   According to the rubbing apparatus of the fourth aspect, since the suction part is formed integrally with the realignment mechanism, the size can be reduced.

請求項5記載のラビング装置によれば、再整列機構は同一方向に形成された複数の溝を表面に有するので、ラビング布の表面に混入した異物を効率的に掻き出すことができ、もって再整列機構の近傍領域に発生した異物をさらに効率的に除去することができる。   According to the rubbing apparatus of claim 5, since the realignment mechanism has a plurality of grooves formed in the same direction on the surface, the foreign matter mixed on the surface of the rubbing cloth can be scraped out efficiently, and thus realignment is performed. Foreign matter generated in the vicinity of the mechanism can be more efficiently removed.

請求項6記載のラビング装置によれば、再整列機構のラビング布の表面に対する押し込み量は0.1〜0.5mmであるので、ラビング布の表面を効率的に再整列することができる。   According to the rubbing apparatus of the sixth aspect, since the pushing amount of the realignment mechanism with respect to the surface of the rubbing cloth is 0.1 to 0.5 mm, the surface of the rubbing cloth can be efficiently realigned.

請求項7記載のラビング装置によれば、再整列機構のラビング布の表面に対する押し込み量は0.2〜0.4mmであるので、ラビング布の表面を効率的に再整列することができる。   According to the rubbing apparatus of the seventh aspect, since the pushing amount of the realignment mechanism with respect to the surface of the rubbing cloth is 0.2 to 0.4 mm, the surface of the rubbing cloth can be efficiently realigned.

請求項8記載のラビング装置によれば、再整列機構のラビング布の表面に対する押し込み量は、ローラの基板の表面に対する押し込み量と同じであるので、ラビング布の表面が傷つくのを防止することができる。   According to the rubbing apparatus of the eighth aspect, since the pushing amount of the realignment mechanism with respect to the surface of the rubbing cloth is the same as the pushing amount of the roller with respect to the surface of the substrate, the surface of the rubbing cloth can be prevented from being damaged. it can.

以下、本発明の実施の形態に係るラビング装置を図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, a rubbing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態に係るラビング装置の構成を概略的に示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a rubbing apparatus according to an embodiment of the present invention.

図1において、ラビング装置10は、厚さが150nmの透明電極11及び厚さが50nmの配向膜12が形成されたガラス基板13を載置するためのラビングベース14と、ガラス基板13の表面(配向膜12)に対する押し込み量が0.3mmとなるようにマイクロメータ(不図示)で調整され、配向膜12を一定圧力で押圧しながら矢印方向に回転して移動するラビングローラ15と、ラビングローラ15に巻かれ、配向膜12を擦るためのバフ毛羽16を表面に有するラビング布17と、ラビング布17の表面(バフ毛羽16)を再整列すべく、バフ毛羽16に対する押し込み量が0.3mmとなるように調整された円柱管18と、円柱管18の近傍領域を吸引する吸引機構19とを備える。なお、円柱管18は、SUS(鉄−ニッケル−クロム合金、又は、鉄−クロム合金)から成り、表面にはラビングローラ15の回転方向と同一方向の溝(図2における20)がレーザー刻印により複数形成されている。この溝20によりバフ毛羽16が整列される。なお、図2は溝20の方向を明確するために示すものであり、溝20の形状、幅、深さ、ピッチ等を正確に示すものではない。溝20の形状、幅、深さ、ピッチ等については、以下に詳述する。   In FIG. 1, a rubbing apparatus 10 includes a rubbing base 14 for placing a glass substrate 13 on which a transparent electrode 11 having a thickness of 150 nm and an alignment film 12 having a thickness of 50 nm are formed, and the surface of the glass substrate 13 ( A rubbing roller 15 that is adjusted by a micrometer (not shown) so that the amount of pressing into the alignment film 12) is 0.3 mm, and that rotates and moves in the direction of the arrow while pressing the alignment film 12 with a constant pressure; 15 and a rubbing cloth 17 having a buff fluff 16 on the surface for rubbing the alignment film 12 and a surface of the rubbing cloth 17 (buff fluff 16) are re-aligned so that the pushing amount to the buff fluff 16 is 0.3 mm. And a suction mechanism 19 that sucks a region near the cylindrical tube 18. The cylindrical tube 18 is made of SUS (iron-nickel-chromium alloy or iron-chromium alloy), and a groove (20 in FIG. 2) in the same direction as the rotation direction of the rubbing roller 15 is formed on the surface by laser marking. A plurality are formed. The buff fluff 16 is aligned by the groove 20. Note that FIG. 2 is shown for clarifying the direction of the groove 20 and does not accurately show the shape, width, depth, pitch, and the like of the groove 20. The shape, width, depth, pitch and the like of the groove 20 will be described in detail below.

溝20は凹形状、半円形状、又はV字形状であり、幅が10〜20μmである。また、溝20は深さが5〜10μmである。この深さの範囲は、バフ毛羽16の糸(太さが約20μm)が完全に溝20に入る必要はなく、バフ毛羽16の糸が溝20に入りすぎると磨耗されてしまうことに基づいて決定される。また、溝20はピッチが50〜100μmである。このピッチの範囲は、ピッチを小さくしすぎると糸が磨耗されてしまうことに基づいて決定される。   The groove 20 is concave, semicircular, or V-shaped, and has a width of 10 to 20 μm. The groove 20 has a depth of 5 to 10 μm. This range of depth is based on the fact that the yarn of buff fluff 16 (thickness of about 20 μm) does not have to enter groove 20 completely and will be worn if the yarn of buff fluff 16 enters groove 20 too much. It is determined. Further, the groove 20 has a pitch of 50 to 100 μm. The pitch range is determined based on the fact that the yarn is worn if the pitch is too small.

また、レーザー刻印後、レーザー刻印された溝20にクロムメッキ処理やセラミック処理がなされている。   Further, after the laser marking, the laser-marked groove 20 is subjected to a chrome plating process or a ceramic process.

なお、円柱管18のバフ毛羽16に対する押し込み量は、ラビングローラ15の配向膜12に対する押し込み量と同じであるのが好ましい。   Note that the amount by which the cylindrical tube 18 is pushed into the buff fluff 16 is preferably the same as the amount by which the rubbing roller 15 is pushed into the alignment film 12.

吸引機構19は、円柱管18を覆う透明カバーから成る吸引部19aと、吸引部19aに接続された集塵ダクト19bと、集塵ダクト19bに接続されたフィルタ付きファンユニット19cを有する。なお、吸引部19aは透明カバーから成るので、この吸引部19aを介して円柱管18の状況(例えば、バフ毛羽16の付着状況)を確認することができる。また、吸引部19aは脱着可能に集塵ダクト19bに取り付けてあるので、必要に応じて吸引部19aを集塵ダクト19bから外して円柱管18や吸引機構19をメンテナンスすることができる。   The suction mechanism 19 includes a suction part 19a made of a transparent cover covering the cylindrical tube 18, a dust collection duct 19b connected to the suction part 19a, and a fan unit 19c with a filter connected to the dust collection duct 19b. Since the suction portion 19a is made of a transparent cover, the state of the cylindrical tube 18 (for example, the attachment state of the buff fluff 16) can be confirmed through the suction portion 19a. Since the suction part 19a is detachably attached to the dust collection duct 19b, the suction pipe 19a and the suction mechanism 19 can be maintained by removing the suction part 19a from the dust collection duct 19b as necessary.

また、配向膜12をラビングすべくラビングローラ15が回転移動して、その後初期位置に戻るときに、円柱管18は制御装置(不図示)に格納されたプログラムによってエアーシリンダ(不図示)を駆動源として駆動制御され、バフ毛羽16と接触する。このように、円柱管18はプログラムによって駆動制御されるので、バフ毛羽16との接触を自由に制御することができる。   Further, when the rubbing roller 15 rotates to rub the alignment film 12 and then returns to the initial position, the cylindrical tube 18 drives an air cylinder (not shown) by a program stored in a control device (not shown). It is driven and controlled as a source and contacts the buff fluff 16. Thus, since the cylindrical tube 18 is driven and controlled by the program, the contact with the buff fluff 16 can be freely controlled.

次に、本発明に係る実施例を具体的に説明する。   Next, specific examples according to the present invention will be described.

従来のラビング装置60(吸引機構なし)及び本発明に係るラビング装置10(吸引機構19あり)を夫々用いて配向膜のラビング処理を実施した超ねじれ状ネマティック(STN)方式の液晶ディスプレイ(LCD)であって、パネルサイズが41.0mm×58.0mm、ドット構成が縦128×横64ドット、表示モードが位相差フィルム付き白黒モードの半透過型液晶ディスプレイ(LCD)を準備した。準備した液晶ディスプレイ(LCD)に1.68V、64Hzの電圧を印加してスタティック駆動し、全表示状態で目視した結果を表1に示す。ここで、配向膜に傷が目視できた場合を不良とした。   A super twisted nematic (STN) type liquid crystal display (LCD) in which a rubbing process of an alignment film is performed using a conventional rubbing apparatus 60 (without a suction mechanism) and a rubbing apparatus 10 according to the present invention (with a suction mechanism 19), respectively. In addition, a transflective liquid crystal display (LCD) having a panel size of 41.0 mm × 58.0 mm, a dot configuration of 128 × 64, and a display mode of monochrome mode with a retardation film was prepared. Table 1 shows the results of static driving by applying a voltage of 1.68 V and 64 Hz to the prepared liquid crystal display (LCD), and viewing the entire liquid crystal display. Here, the case where the alignment film was visually scratched was regarded as defective.

Figure 2007178553
Figure 2007178553

表1から、本発明に係るラビング装置10(吸引機構19あり)を用いてラビング処理を実施する(実施例)と、従来のラビング装置60(吸引機構なし)用いてラビング処理を実施した場合(比較例)よりも、不良発生率を大幅に低減することができることが分かる。   From Table 1, when the rubbing process is performed using the rubbing apparatus 10 (with the suction mechanism 19) according to the present invention (Example), the rubbing process is performed using the conventional rubbing apparatus 60 (without the suction mechanism) ( It can be seen that the defect occurrence rate can be greatly reduced as compared with the comparative example.

本実施の形態によれば、吸引部19aが円柱管18を覆うように配設されているので、円柱管18の近傍領域に発生した異物(例えば、ラビング処理において抜け落ちたバフ毛羽16や、ラビング処理において発生した配向膜12の削りかすや、ガラス基板13の面取り部13aとバフ毛羽16との摩擦によって発生したカレットや、透明電極11の側面11aとの衝突により抜け落ちたバフ毛羽16等)を効率的に除去することができ、もって配向膜12が傷つくのを防止することができる。   According to the present embodiment, since the suction part 19a is disposed so as to cover the cylindrical tube 18, foreign matter generated in the vicinity of the cylindrical tube 18 (for example, the buff fluff 16 dropped out in the rubbing process, the rubbing The shavings of the alignment film 12 generated in the processing, the cullet generated by the friction between the chamfered portion 13a of the glass substrate 13 and the buff fluff 16, the buff fluff 16 dropped off by the collision with the side surface 11a of the transparent electrode 11, and the like). Therefore, the alignment film 12 can be prevented from being damaged.

本実施の形態によれば、円柱管18はラビングローラ15の回転方向と同一方向に形成された複数の溝20を表面に有するので、バフ毛羽16に混入した異物(例えば、抜け落ちたバフ毛羽16、配向膜12の削りかす、及びカレット等)を効率的に掻き出すことができ、もって円柱管18の近傍領域に発生した異物をさらに効率的に除去することができる。   According to the present embodiment, since the cylindrical tube 18 has a plurality of grooves 20 formed on the surface in the same direction as the rotation direction of the rubbing roller 15, the foreign matter mixed in the buff fluff 16 (for example, the buff fluff 16 that has fallen off). , Scraping of the alignment film 12 and cullet, etc.) can be scraped out efficiently, and foreign substances generated in the vicinity of the cylindrical tube 18 can be further efficiently removed.

本実施の形態によれば、円柱管18のバフ毛羽16に対する押し込み量が0.3mmとなるように調整されているので、バフ毛羽16を効率的に再整列することができる。   According to the present embodiment, since the pressing amount of the cylindrical tube 18 with respect to the buff fluff 16 is adjusted to be 0.3 mm, the buff fluff 16 can be efficiently realigned.

本実施の形態によれば、円柱管18のバフ毛羽16に対する押し込み量は、ラビングローラ15の配向膜12に対する押し込み量と同じであるので、バフ毛羽16が傷つくのを防止することができる。   According to the present embodiment, the pushing amount of the cylindrical tube 18 with respect to the buff fluff 16 is the same as the pushing amount of the rubbing roller 15 with respect to the alignment film 12, so that the buff fluff 16 can be prevented from being damaged.

本実施の形態では、吸引部19aが円柱管18を覆っているが、これに限定されるものではなく、吸引部19aは円柱管18と一体に形成されていてもよく、例えば、円柱管18が、図3に示すように、その外周面の上下に配設された通貫孔18aと、左右両端に配置され、集塵ダクト19bに接続された吸引孔18bとを有し、この通貫孔18a及び吸引孔18bを介して吸引してもよい。また、円柱管18を低速で回転させたり、円柱管18とバフ毛羽16との接触部を振動させたり、円柱管18とバフ毛羽16との接触部付近に冷却機構(不図示)を設けたりしてもよい。   In the present embodiment, the suction part 19a covers the cylindrical tube 18, but the present invention is not limited to this, and the suction part 19a may be formed integrally with the cylindrical tube 18, for example, the cylindrical pipe 18 As shown in FIG. 3, it has through-holes 18a disposed above and below the outer peripheral surface, and suction holes 18b disposed at both left and right ends and connected to the dust collecting duct 19b. Suction may be performed through the hole 18a and the suction hole 18b. Further, the cylindrical tube 18 is rotated at a low speed, the contact portion between the cylindrical tube 18 and the buff fluff 16 is vibrated, or a cooling mechanism (not shown) is provided in the vicinity of the contact portion between the cylindrical tube 18 and the buff fluff 16. May be.

本実施の形態では、円柱管18は、SUS(鉄−ニッケル−クロム合金、又は鉄−クロム合金)から成るが、材質は特に限定されるものではない。   In the present embodiment, the cylindrical tube 18 is made of SUS (iron-nickel-chromium alloy or iron-chromium alloy), but the material is not particularly limited.

本実施の形態では、円柱管18は、表面にラビングローラ15の回転方向と同一方向の溝20を複数有するが、溝20の方向はラビングローラ15の回転方向に限定されるものではなく、同一方向であればよい。さらに、溝20が形成されておらず、円柱管18の表面が滑らかに研磨されていてもよい。   In the present embodiment, the cylindrical tube 18 has a plurality of grooves 20 in the same direction as the direction of rotation of the rubbing roller 15 on the surface, but the direction of the grooves 20 is not limited to the direction of rotation of the rubbing roller 15 and is the same. Any direction is acceptable. Further, the groove 20 may not be formed, and the surface of the cylindrical tube 18 may be polished smoothly.

本実施の形態では、円柱管18は、ラビングローラ15の側方に設けられているが、これに限定されるものではなく、図4に示すように、ラビングローラ15の上方に設けられていてもよい。但し、異物が散乱するのを防止する観点から、配向膜12とラビングローラ15との接触地点(ラビング処理地点)からの距離Aが短い位置に円柱管18が設けられていることが好ましい。   In the present embodiment, the cylindrical tube 18 is provided on the side of the rubbing roller 15, but is not limited to this, and is provided above the rubbing roller 15 as shown in FIG. 4. Also good. However, from the viewpoint of preventing foreign matter from being scattered, the cylindrical tube 18 is preferably provided at a position where the distance A from the contact point (rubbing treatment point) between the alignment film 12 and the rubbing roller 15 is short.

本実施の形態では、再整列機構として円柱管18を用いているが、形状が円柱形状に限定されるものではなく、例えば、バフ毛羽16と接触する部分が板形状又は角形状になっていてもよい。   In the present embodiment, the cylindrical tube 18 is used as the realignment mechanism, but the shape is not limited to the cylindrical shape. For example, the portion that contacts the buff fluff 16 has a plate shape or a square shape. Also good.

本実施の形態では、ラビングローラ15が配向膜12のラビング処理を実施して、その後初期位置に戻るときに、円柱管18はバフ毛羽16と接触するが、これに限定されるものではなく、常にバフ毛羽16と接触していてもよい。   In the present embodiment, when the rubbing roller 15 performs the rubbing process of the alignment film 12 and then returns to the initial position, the cylindrical tube 18 contacts the buff fluff 16, but this is not a limitation. The buff fluff 16 may always be in contact.

本実施の形態では、円柱管18はバフ毛羽16に対する押し込み量が0.3mmとなるように調整されているが、これに限定されるものではなく、押し込み量が0.1〜0.5mmの範囲にあればよい。押し込み量が上限値である0.5mm以上となると、配向膜12に無用な傷を付けてしまい、押し込み量が下限値である0.1mm以下となると、バフ毛羽16の長さのバラツキに起因してラビング処理が不均一になってしまう。但し、押し込み量が0.2〜0.4mmであるのが好ましい。   In the present embodiment, the cylindrical tube 18 is adjusted so that the pushing amount with respect to the buff fluff 16 is 0.3 mm, but is not limited thereto, and the pushing amount is 0.1 to 0.5 mm. If it is in range. When the push amount is 0.5 mm or more, which is the upper limit value, the alignment film 12 is damaged unnecessarily, and when the push amount is 0.1 mm or less, which is the lower limit value, the length of the buff fluff 16 is caused to vary. As a result, the rubbing process becomes uneven. However, the pushing amount is preferably 0.2 to 0.4 mm.

本実施の形態では、厚さが150nmの透明電極11及び厚さが50nmの配向膜12が形成されたガラス基板13を用いているが、これに限定されるものではなく、概ね透明電極11の厚さは30〜300nmの範囲にあり、配向膜12の厚さは30〜100nmの範囲である。   In the present embodiment, the glass substrate 13 on which the transparent electrode 11 having a thickness of 150 nm and the alignment film 12 having a thickness of 50 nm are formed is used. The thickness is in the range of 30 to 300 nm, and the thickness of the alignment film 12 is in the range of 30 to 100 nm.

本発明の実施の形態に係るラビング装置の構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the structure of the rubbing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図1における円柱管の構成を概略的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically showing a configuration of a cylindrical tube in FIG. 1. 図1における円柱管の変形例の構成を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly the structure of the modification of the cylindrical tube in FIG. 図1のラビング装置の変形例の構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematically the structure of the modification of the rubbing apparatus of FIG. 従来の液晶ディスプレイの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the conventional liquid crystal display. 従来のラビング装置の構成を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematically the structure of the conventional rubbing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10 ラビング装置
11 透明電極
12 配向膜
13 ガラス基板
14 ラビングベース
15 ラビングローラ
16 バフ毛羽
17 ラビング布
18 円柱管
19 吸引機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Rubbing apparatus 11 Transparent electrode 12 Alignment film 13 Glass substrate 14 Rubbing base 15 Rubbing roller 16 Buff fluff 17 Rubbing cloth 18 Cylindrical tube 19 Suction mechanism

Claims (8)

載置台と、前記載置台に載置された基板の表面を押圧しながら回転移動するローラと、前記基板の表面と接触すべく前記ローラの外周に巻かれたラビング布と、前記基板の表面と接触したラビング布の表面を再整列する再整列機構とを備えるラビング装置において、前記再整列機構の近傍領域を吸引する吸引機構を備えることを特徴とするラビング装置。   A mounting table, a roller that rotates while pressing the surface of the substrate mounted on the mounting table, a rubbing cloth wound around an outer periphery of the roller to contact the surface of the substrate, and a surface of the substrate A rubbing apparatus comprising a realignment mechanism that realigns the surface of the rubbing cloth that has come into contact with the rubbing apparatus, wherein the rubbing apparatus includes a suction mechanism that sucks a region near the realignment mechanism. 前記吸引機構は前記再整列機構を覆うように配設された吸引部を有することを特徴とする請求項1記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 1, wherein the suction mechanism includes a suction portion disposed so as to cover the realignment mechanism. 前記再整列機構は略円柱形状であることを特徴とする請求項2記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 2, wherein the realignment mechanism has a substantially cylindrical shape. 前記吸引機構は前記再整列機構と一体に形成された吸引部を有することを特徴とする請求項1記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 1, wherein the suction mechanism has a suction portion formed integrally with the realignment mechanism. 前記再整列機構は同一方向に形成された複数の溝を表面に有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the realignment mechanism has a plurality of grooves formed in the same direction on a surface thereof. 前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、0.1〜0.5mmであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein an amount of pressing of the realignment mechanism with respect to a surface of the rubbing cloth is 0.1 to 0.5 mm. 前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、0.2〜0.4mmであることを特徴とする請求項6記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 6, wherein an amount of pressing of the realignment mechanism with respect to a surface of the rubbing cloth is 0.2 to 0.4 mm. 前記再整列機構の前記ラビング布の表面に対する押し込み量は、前記ローラの前記基板の表面に対する押し込み量と同じであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のラビング装置。   8. The rubbing apparatus according to claim 1, wherein an amount of pressing of the realignment mechanism with respect to the surface of the rubbing cloth is the same as an amount of pressing of the roller with respect to the surface of the substrate.
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