JP2007176723A - Discharge cell for ozone generator - Google Patents

Discharge cell for ozone generator Download PDF

Info

Publication number
JP2007176723A
JP2007176723A JP2005375220A JP2005375220A JP2007176723A JP 2007176723 A JP2007176723 A JP 2007176723A JP 2005375220 A JP2005375220 A JP 2005375220A JP 2005375220 A JP2005375220 A JP 2005375220A JP 2007176723 A JP2007176723 A JP 2007176723A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
dielectric
plate
gap
ozone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005375220A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Matsuno
敬 松野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Precision Products Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Precision Products Co Ltd filed Critical Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority to JP2005375220A priority Critical patent/JP2007176723A/en
Priority to US11/563,393 priority patent/US20070154365A1/en
Publication of JP2007176723A publication Critical patent/JP2007176723A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the concentration of ozone without depending on the reduced amount of a discharge gap in the discharge cell for an ozone generator. <P>SOLUTION: The dielectric materials 10A and 10B are arranged between a high voltage electrode 15A and a low voltage electrode 15B, and a discharge gap 70 is formed between both dielectric materials 10A and 10B. The opposed faces of the dielectric materials 10A and 10B facing the discharge gap 70 are smoothed to ≤2 μm of surface roughness Ra. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、オゾン発生装置に使用される放電セルに関する。   The present invention relates to a discharge cell used in an ozone generator.

オゾン発生装置に使用される放電セルは板型と管型に大別され、板型はさらに円板型と角板型に細分される。板型放電セルは、1対の板状の誘電体の間に形成される放電空隙を狭くしやすいこと、その放電空隙寸法を面内で均等化しやすいことなどから、高濃度オゾンの生成に多用されている。板型放電セルの典型的な構造を以下に説明する。   The discharge cells used in the ozone generator are roughly classified into a plate type and a tube type, and the plate type is further subdivided into a disc type and a square plate type. Plate-type discharge cells are often used to generate high-concentration ozone because the discharge gap formed between a pair of plate-shaped dielectrics can be easily narrowed, and the discharge gap dimensions can be easily equalized in the plane. Has been. A typical structure of the plate discharge cell will be described below.

四角形のセラミック板などからなる板状の誘電体を所定の隙間をあけて対向配置する。1対の誘電体は、背面側の各表面に被覆形成された電極層を有しており、これにより誘電体間に放電空隙を形成する。一対の電極層は一方が高圧電極、他方が低圧電極であり、両者の間に所定の高周波高電圧を印加することにより、誘電体の間の放電空隙で放電を発生させ、ここを通過する原料ガスをオゾン化する。   A plate-like dielectric made of a square ceramic plate or the like is disposed opposite to each other with a predetermined gap. The pair of dielectrics have electrode layers coated on the respective surfaces on the back side, thereby forming discharge gaps between the dielectrics. One of the pair of electrode layers is a high voltage electrode and the other is a low voltage electrode. By applying a predetermined high frequency high voltage between them, a discharge is generated in the discharge gap between the dielectrics, and the raw material passes therethrough Ozonize the gas.

放電空隙は、オゾン発生効率を高めるために、両面側、すなわち両電極の背面側から強制的に冷却されるのが通例である。この両面冷却のために、高圧電極及び低圧電極の各背面側に絶縁板を介して冷媒流路が形成される。そして、通常はこのような両面冷却構造をもつ板型放電セルを単位セルとして、その複数を板材積層方向に積層した積層型セルとして使用される。このような放電セルの一つが特許文献1に記載されたセラミックブロック構造の放電セルである。   In general, the discharge gap is forcibly cooled from both sides, that is, the back sides of both electrodes, in order to increase the ozone generation efficiency. For this double-sided cooling, a refrigerant flow path is formed on each back side of the high voltage electrode and the low voltage electrode via an insulating plate. Usually, a plate-type discharge cell having such a double-sided cooling structure is used as a unit cell, and a plurality of the cells are stacked in the plate material stacking direction. One of such discharge cells is a discharge cell having a ceramic block structure described in Patent Document 1.

特開平11−268902号公報JP-A-11-268902

このような板型放電セルにおける設計因子としては、高圧電極と低圧電極の間に配置される1対の誘電体の厚み、1対の誘電体間に形成される放電空隙のギャップ量、高圧電極及び低圧電極の各背面側に配置される高圧絶縁板及び低圧絶縁板の各板厚等がある。   Design factors in such a plate-type discharge cell include the thickness of a pair of dielectrics disposed between the high-voltage electrode and the low-voltage electrode, the gap amount of the discharge gap formed between the pair of dielectrics, the high-voltage electrode And the thicknesses of the high-voltage insulating plate and the low-voltage insulating plate arranged on the back side of the low-voltage electrode.

誘電体は、電極間で無声放電を発生させるためにこの間の誘電率を高めることを目的としており、電極間距離を小さくして放電電圧を下げるために、誘電体の板厚は薄い方が良いとされている。但し、誘電体を薄くし過ぎると、平坦度の低下等が生じ、現状は0.1〜2mm程度に選択されている。誘電体の材質としては、クリーン化が要求される場合は機械的強度が高く、誘電率も高い高純度アルミナの粉末焼結体等が使用されている。   The purpose of the dielectric is to increase the dielectric constant between the electrodes in order to generate silent discharge between the electrodes. In order to reduce the discharge voltage by reducing the distance between the electrodes, it is better that the thickness of the dielectric is thin. It is said that. However, if the dielectric is made too thin, the flatness is lowered, and the current state is selected to be about 0.1 to 2 mm. As a material of the dielectric, a high-purity alumina powder sintered body having a high mechanical strength and a high dielectric constant is used when cleanliness is required.

誘電体は又、原料ガス及びオゾンガスが電極と接触するのを回避するために、通常は高圧電極及び低圧電極の両方に接して設けられる。すなわち両電極を誘電体で覆い、両誘電体の間に放電空隙を形成する。しかし、オゾンガスのクリーン度が要求されない場合は、片方の電極側(通常は高圧電極側)にのみ設けられることもある。   The dielectric is also typically provided in contact with both the high and low voltage electrodes to avoid contact of the source gas and ozone gas with the electrodes. That is, both electrodes are covered with a dielectric, and a discharge gap is formed between the two dielectrics. However, when the cleanliness of ozone gas is not required, it may be provided only on one electrode side (usually the high voltage electrode side).

放電空隙のギャップ量については、冷却によるオゾン発生効率向上のために小さい方が良いとされており、この観点から現状は0.4mm以下まで小さくされており、0.1mm(100μm)以下も実現されている。しかしながら、ギャップ量を小さくし過ぎると、誘電体の表面(放電空隙に接する面)の平坦度が、ギャップ量の面内均一性に重大な影響を及ぼすようになり、逆にオゾン濃度が低下する原因になる。このような二次的な弊害のために、現在のオゾン濃度は300g/m3 (N)程度に制限されている。 Regarding the gap amount of the discharge gap, it is said that the smaller is better for improving the ozone generation efficiency by cooling. From this point of view, the current state is reduced to 0.4 mm or less, and 0.1 mm (100 μm) or less is also realized. Has been. However, if the gap amount is too small, the flatness of the surface of the dielectric (the surface in contact with the discharge gap) will have a significant effect on the in-plane uniformity of the gap amount, and the ozone concentration will decrease. Cause. Due to such secondary problems, the current ozone concentration is limited to about 300 g / m 3 (N).

本発明の目的は、放電空隙におけるギャップ量の縮小に依存しないでオゾン濃度を高めることができ、むしろギャップ量が小さい場合ほど、オゾン濃度を効果的に高めることができるオゾン発生装置用放電セルを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a discharge cell for an ozone generator that can increase the ozone concentration without depending on the reduction of the gap amount in the discharge gap, and can effectively increase the ozone concentration as the gap amount is smaller. It is to provide.

本発明者は、放電式オゾン発生装置におけるオゾン濃度の増大について多方面からアプローチを試みており、面内均一性の高い極小ギャップの形成は勿論のこと、高圧側の絶縁板を薄くして冷却能力を高める工夫など、様々な対策を立案し実現に向けて鋭意研究を続けている。そして、そのような研究開発の成果の一つとして、今回、誘電体の表面粗さがオゾン濃度、特に極小ギャップ下でのオゾン濃度に大きな影響を及ぼすことを、本発明者は知見した。   The present inventor has tried various approaches to increase the ozone concentration in the discharge type ozone generator. In addition to forming a very small gap with high in-plane uniformity, the high pressure side insulating plate is thinned and cooled. We are studying earnestly for the realization of various countermeasures such as ideas to enhance the ability. As one result of such research and development, the present inventor has found that the surface roughness of the dielectric material has a great influence on the ozone concentration, particularly the ozone concentration under a minimum gap.

一般にオゾンの発生に必要な放電空隙での無声放電は、直角方向の放電柱として放電空隙の各所で随時発生し、しかも、誘電体の表面近傍の僅かの領域における放電がオゾンの発生に寄与するとされている。そして、発生する放電柱は太くて安定なものがよいとされている。   In general, silent discharge in the discharge gap required for ozone generation occurs at any time in the discharge gap as a perpendicular discharge column, and discharge in a small area near the surface of the dielectric contributes to ozone generation. Has been. The generated discharge column is preferably thick and stable.

一方、誘電体の材質としては、クリーンガスが要求される用途が増えていることもあり、高純度アルミナ粉末焼結体等のセラミックス粉末焼結体の使用が増加している。例えば高純度アルミナ粉末焼結体の場合、焼結体の表面にはアルミナ粉末粒子が露出しているが、アルミナ粉末は非常に細かく、その焼結体の表面は肉眼では平滑に見え、Raでも数μm程度と小さい。しかし、ミクロ的にみた場合は決して平滑とは言えない。   On the other hand, the use of a ceramic powder sintered body such as a high-purity alumina powder sintered body is increasing because the use of a clean gas as a dielectric material is increasing. For example, in the case of a high-purity alumina powder sintered body, alumina powder particles are exposed on the surface of the sintered body, but the alumina powder is very fine, and the surface of the sintered body looks smooth to the naked eye. As small as several μm. However, from a microscopic perspective, it cannot be said to be smooth.

誘電体の表面が粗いと、凸部の先端等がトリガとなって細く不安定な放電柱が発生しやすくなる。それでも、放電空隙のギャップ量が大きい場合は、その大きい空隙において放電柱が整形され、オゾン発生効率にそれほどの影響は与えない。しかし、放電空隙のギャップ量が小さくなると、放電空隙での放電柱の整形等が期待できなくなり、誘電体の表面の粗さが、放電柱の形状悪化、これによるオゾン発生効率の低下に直接的に影響するようになる。   When the surface of the dielectric is rough, a thin and unstable discharge column is likely to be generated by the tip of the convex portion as a trigger. Still, when the gap amount of the discharge gap is large, the discharge column is shaped in the large gap, and the ozone generation efficiency is not so much affected. However, if the gap amount of the discharge gap is reduced, it becomes impossible to expect the shape of the discharge column in the discharge gap, and the roughness of the surface of the dielectric directly affects the deterioration of the shape of the discharge column and the resulting decrease in ozone generation efficiency. Will affect.

本発明者は、オゾン発生装置用放電セルを使用した多くの実験データから誘電体の表面が平滑になるほどオゾン濃度が高まる事実、及びその傾向は放電空隙におけるギャップ量が小さくなるほど顕著となる傾向を確認しており、その理由を上述のように推定しているのである。   The present inventor has shown that the fact that the ozone concentration increases as the surface of the dielectric becomes smoother from many experimental data using the discharge cell for the ozone generator, and the tendency thereof becomes more prominent as the gap amount in the discharge gap becomes smaller. It is confirmed and the reason is estimated as described above.

本発明のオゾン発生装置用放電セルは、かかる知見を基礎として完成されたものであり、所定の交流電圧が印加される高圧電極と低圧電極の間に放電空隙を形成するべく少なくとも一方の電極に接して電極間に誘電体が配置された放電セルにおいて、前記誘電体の放電空隙と接する表面の粗さをRaで2μm以下としたものである。   The discharge cell for an ozone generator of the present invention has been completed on the basis of such knowledge, and at least one electrode is formed to form a discharge gap between a high voltage electrode and a low voltage electrode to which a predetermined alternating voltage is applied. In the discharge cell in which a dielectric is disposed in contact with each other, the roughness of the surface of the dielectric that contacts the discharge gap is 2 μm or less in terms of Ra.

誘電体の放電空隙と接する表面をRaで2μm以下に鏡面加工することにより、これ以外のセル仕様、動作条件が同一であるにもかかわらず、生成されるオゾンガスのオゾン濃度が上昇する。このRa粗さが小さい(平滑である)ほど、オゾン濃度が高くなる傾向があるので、Ra1μm以下が好ましく、0.1μm以下が特に好ましい。その下限については特に規定しないが、誘電体の表面を平滑化する鏡面研磨の加工技術に技術的、コスト的な制約があるので、この面から制限を受けることになる。   By mirror-treating the surface in contact with the discharge gap of the dielectric to 2 μm or less with Ra, the ozone concentration of the generated ozone gas increases despite the other cell specifications and operating conditions being the same. As the Ra roughness is smaller (smooth), the ozone concentration tends to be higher. Therefore, Ra is preferably 1 μm or less, and particularly preferably 0.1 μm or less. The lower limit is not particularly defined, but the mirror polishing processing technique for smoothing the surface of the dielectric has technical and cost restrictions, and is limited by this aspect.

誘電体の表面粗さとオゾン濃度との関係、より詳しくは、表面の平滑化に伴ってオゾン濃度が上昇する傾向は、放電空隙におけるギャップ量が小さくなるほど顕著となる。つまり、誘電体表面の平滑化は小ギャップの放電空隙ほど有効である。この観点から、放電空隙におけるギャップ量は小さいほどよく、具体的には50μm以下が好ましく、35μm以下が特に好ましい。ギャップ量の縮小は冷却等の点からも高濃度化に有効である。但し、ギャップ量を縮小すると面内均一性の低下等が問題になり、この面から限界があることは前述したとおりである。   The relationship between the surface roughness of the dielectric and the ozone concentration, more specifically, the tendency of the ozone concentration to increase with the smoothing of the surface becomes more prominent as the gap amount in the discharge gap becomes smaller. That is, the smoothing of the dielectric surface is more effective for discharge gaps with smaller gaps. From this viewpoint, the gap amount in the discharge gap is preferably as small as possible, specifically 50 μm or less, and particularly preferably 35 μm or less. Reduction of the gap amount is effective for increasing the concentration from the viewpoint of cooling or the like. However, if the gap amount is reduced, a decrease in in-plane uniformity becomes a problem, and as described above, there is a limit from this aspect.

誘電体がセラミックス焼結体の場合、そのセラミックスは純度80%以上のアルミナが好ましく、純度90%以上、なかでも95%以上のアルミナが特に好ましい。アルミナが適する理由はセラミックスのなかでは安価であり、かつ耐薬品性及び耐スパッタ性をもつ材料だからである。また高純度が好ましいのはオゾンガスのクリーン度を高めるためである。アルミナ以外のセラミックスとしてはサファイア、SiC、AlN等の使用も可能であり、セラミックス以外の材質としては石英等の使用も可能である。   When the dielectric is a ceramic sintered body, the ceramic is preferably alumina having a purity of 80% or more, particularly preferably alumina having a purity of 90% or more, particularly 95% or more. Alumina is suitable because it is inexpensive among ceramics and has chemical resistance and sputtering resistance. Moreover, high purity is preferable in order to increase the cleanliness of ozone gas. As ceramics other than alumina, sapphire, SiC, AlN or the like can be used, and as materials other than ceramics, quartz or the like can be used.

誘電体の表面粗さは、その材質及び構造によって変化する。前述したセラミックス焼結体や石英溶融体は、オゾン発生用誘電体として性能が高く、多用されているが、元々の表面粗さが比較的粗く、その表面の平滑化が特に効果的である。一方、アモルファスガラスもオゾン発生用誘電体として使用されるが、これは元々、表面が平滑であり、その表面の平滑化加工による効果は薄い。この観点から、本発明はアモルファスガラスを除く誘電体に有効であり、セラミックス焼結体及び石英溶融体の誘電体に特に有効である。   The surface roughness of the dielectric varies depending on its material and structure. The ceramic sintered body and quartz melt described above have high performance as a dielectric for generating ozone and are widely used. However, the original surface roughness is relatively rough, and smoothing the surface is particularly effective. On the other hand, amorphous glass is also used as a dielectric for generating ozone, but this originally has a smooth surface, and the effect of smoothing the surface is small. From this viewpoint, the present invention is effective for dielectrics other than amorphous glass, and is particularly effective for dielectrics of ceramic sintered bodies and quartz melts.

誘電板中の不純物を低減すると、オゾン濃度の低下が問題になる。この問題を解決するために、誘電板の少なくとも放電空隙と接する表層部分に酸化チタンを含有させるのがよく、アルミナ基板中に酸化チタンをTi元素量比率で0.006〜6重量%含有させた焼結体が、オゾン発生特性及びクリーン度の両面から特に好ましい。   When impurities in the dielectric plate are reduced, a decrease in ozone concentration becomes a problem. In order to solve this problem, titanium oxide is preferably contained in at least a surface layer portion of the dielectric plate in contact with the discharge gap, and titanium oxide is contained in the alumina substrate in an amount of 0.006 to 6% by weight in terms of the amount of Ti element. A sintered body is particularly preferable from the viewpoints of ozone generation characteristics and cleanliness.

誘電体の配置形態については、高圧電極と低圧電極の間に一方の電極に接して1枚の誘電体を配置してもよいし、両方の電極に接して一対の誘電体を配置してもよい。いずれの場合も、誘電体の少なくとも放電空隙と接する面の粗さは管理する必要がある。反対側の面、すなわち電極と接する側の面の粗さについても、誘電率の均一化等の点から、その粗さを平滑に管理することが望まれる。   As for the arrangement form of the dielectric, one dielectric may be arranged in contact with one electrode between the high voltage electrode and the low voltage electrode, or a pair of dielectrics may be arranged in contact with both electrodes. Good. In either case, it is necessary to manage the roughness of at least the surface of the dielectric that contacts the discharge gap. Regarding the roughness of the opposite surface, that is, the surface in contact with the electrode, it is desired to manage the roughness smoothly from the viewpoint of uniform dielectric constant.

高圧電極と低圧電極の両方に接して一対の誘電体を配置する場合は、一方の電極に接して誘電体を配置する場合に比べて、誘電体の表面粗さの管理を緩めることができる。すなわち、両誘電体の表面粗さをRaで3μm以下にしても、片側配置の場合の2μm以下の場合と同等効果が得られる。この観点から、両側配置の場合の表面粗さはRaで3μm以下が好ましいが、2μm以下、1μm以下、0.1μm以下と、表面が平滑なほど好ましいことは言うまでもない。   When a pair of dielectrics are arranged in contact with both the high-voltage electrode and the low-voltage electrode, management of the surface roughness of the dielectric can be relaxed compared to the case where the dielectric is arranged in contact with one electrode. That is, even if the surface roughness of both dielectrics is 3 μm or less in Ra, the same effect can be obtained as in the case of 2 μm or less in the case of one-sided arrangement. From this point of view, the surface roughness in the case of the two-sided arrangement is preferably 3 μm or less in terms of Ra, but needless to say, the smoother the surface, the 2 μm or less, 1 μm or less, and 0.1 μm or less.

誘電体の表面を平滑化するための鏡面加工法については、例えば各種スラリーを用いたラッピング加工等がある。   Examples of the mirror surface processing method for smoothing the surface of the dielectric include lapping processing using various slurries.

本発明のオゾン発生装置用放電セルは、高圧電極と低圧電極の間に放電空隙を形成するべく少なくとも一方の電極に接して電極間に配置された誘電体の放電空隙と接する表面の粗さをRaで2μm以下に平滑化することにより、放電空隙におけるギャップ量の縮小に依存しないでオゾン濃度を高めることができる。ギャップ量の縮小と組み合わせるならば、更に効果的にオゾン濃度を高めることができる。   The discharge cell for an ozone generator of the present invention has a surface roughness in contact with at least one electrode and a dielectric discharge gap disposed between the electrodes in order to form a discharge gap between the high voltage electrode and the low voltage electrode. By smoothing to 2 μm or less with Ra, the ozone concentration can be increased without depending on the reduction of the gap amount in the discharge gap. If combined with the reduction of the gap amount, the ozone concentration can be increased more effectively.

以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明の一実施形態を示すオゾン発生装置用放電セルの分解斜視図、図2は同放電セルの模式断面図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view of a discharge cell for an ozone generator showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view of the discharge cell.

本実施形態のオゾン発生装置用板型放電セルは、図1及び図2に示すように、正方形をした複数枚の板材を板厚方向に積層した構成になっている。複数枚の板材は、いずれも高純度アルミナの焼成板であり、ガラス系の接合層50を介して接合されている。各板材の四隅部には位置決め用の貫通孔が設けられており、その角部は丸みを付与されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the plate-type discharge cell for an ozone generator according to this embodiment has a configuration in which a plurality of square plate members are stacked in the plate thickness direction. The plurality of plate materials are all fired plates of high-purity alumina, and are joined via a glass-based joining layer 50. Positioning through holes are provided at the four corners of each plate member, and the corners are rounded.

中間の2枚の板材は誘電体10A,10Bである。その厚みは例えば0.3mmである。誘電体10A,10Bの表面、特に対向面はラッピング加工等の鏡面加工法によりRaで2μm以下に鏡面加工されている。   The two middle plates are dielectrics 10A and 10B. The thickness is, for example, 0.3 mm. The surfaces of the dielectrics 10A and 10B, particularly the opposing surfaces, are mirror-finished to a Ra of 2 μm or less by a mirror-finishing method such as lapping.

各誘電体10の平行な両側縁部には、各側縁に沿った長孔形状の貫通孔11,11が設けられている。貫通孔11,11はガス流通用であり、両側縁部の両端部を除くほぼ全域に連続的、直線的に設けられている。各誘電体10の他の平行な両側縁部、すなわち前記貫通孔11,11に直角な両側縁部には、各側縁に沿った長孔形状の貫通孔12,12が設けられている。貫通孔12,12は冷媒流通用であり、両側縁部の両端部を除くほぼ全域に連続的、直線的に設けられている。   On both side edge portions of each dielectric 10 in parallel, long-hole shaped through holes 11 along the side edges are provided. The through-holes 11 and 11 are for gas distribution, and are provided continuously and linearly in almost the whole area except for both ends of both side edges. On the other parallel side edges of each dielectric 10, that is, the side edges perpendicular to the through holes 11, 11, elongated through holes 12, 12 are provided along the side edges. The through-holes 12 and 12 are for refrigerant circulation, and are provided continuously and linearly in almost the whole area except for both ends of both side edges.

誘電体10A,10Bの対向面には、貫通孔11,11の一方から他方に至る多数の並列したガス流路13,13を形成するために、ガス流路13,13の部分を除いてセラミックス層14,14が積層されておる。ガス流路13,13は合体して誘電体10,10の間に放電空隙70を形成する。   In order to form a large number of parallel gas flow paths 13, 13 extending from one of the through holes 11, 11 to the other surface of the dielectrics 10 </ b> A, 10 </ b> B, the ceramics except for the gas flow paths 13, 13 are formed. Layers 14 and 14 are laminated. The gas flow paths 13 and 13 are combined to form a discharge gap 70 between the dielectrics 10 and 10.

セラミックス層14は、アルミナ粉末とガラス粉末とで製造したペーストを対向面のガス流路以外の部分に印刷し、これを所定厚まで繰り返した後、ガラス粉末の融点以上の温度で焼成することにより形成されている。セラミックス層14,14の各厚み、すなわちガス流路13を形成するためのリブ高は例えば35μmである。   The ceramic layer 14 is obtained by printing a paste made of alumina powder and glass powder on a portion other than the gas flow path on the opposite surface, repeating this to a predetermined thickness, and firing at a temperature equal to or higher than the melting point of the glass powder. Is formed. Each thickness of the ceramic layers 14, 14, that is, a rib height for forming the gas flow path 13 is, for example, 35 μm.

誘電体10A,10Bの背面側の表面には電極層15A,15Bが被覆形成されている。電極層15Aは高圧電極、15Bは低圧電極であり、いずれもが例えば銀ペーストの印刷塗布・焼成により形成される厚みが5μmの金属薄膜であり、貫通孔11,11,12,12に囲まれた正方形の領域に設けられている。電極層15の隣り合う2つのコーナー部は、誘電板10のコーナー部に張り出して、円形の端子部16,16を形成している。そして、一方の電極層15Aにおける端子部16,16は、誘電板10Aの隣り合う2つのコーナー部に設けられており、他方の電極層15Bにおける端子部16,16は、電極層15Aにおける端子部16,16と重ならないように、誘電体10Bの別の隣り合う2つのコーナー部に設けられている。   Electrode layers 15A and 15B are coated on the back surface of the dielectrics 10A and 10B. The electrode layer 15A is a high-voltage electrode, and 15B is a low-voltage electrode, both of which are, for example, a metal thin film having a thickness of 5 μm formed by printing and baking silver paste, and surrounded by the through holes 11, 11, 12, and 12. It is provided in a square area. Two adjacent corner portions of the electrode layer 15 protrude from the corner portion of the dielectric plate 10 to form circular terminal portions 16 and 16. The terminal portions 16 and 16 in one electrode layer 15A are provided at two adjacent corner portions of the dielectric plate 10A, and the terminal portions 16 and 16 in the other electrode layer 15B are terminal portions in the electrode layer 15A. 16 and 16 are provided at two adjacent corner portions of the dielectric 10B so as not to overlap with each other.

誘電体10A,10Bの外側に配置される板材は、絶縁板20A,20Bである。一方の絶縁板20Aは高圧絶縁板、他方の絶縁板20Bは低圧絶縁板であり、高圧絶縁板20Aは内側の高圧電極15Aを外側の冷媒と絶縁することを目的としており、その厚みは従来より薄い例えば0.9mmとされている。低圧絶縁板20Bは専ら機械的強度の確保を目的としており、その厚みは例えば0.3mmとされている。すなわち、高圧絶縁板20Aの厚みは、電極層15A,15Bの間に配置された誘電体10A,10Bの合計厚み(0.6mm)の1.5倍とされている。   The plate materials disposed outside the dielectrics 10A and 10B are the insulating plates 20A and 20B. One insulating plate 20A is a high-voltage insulating plate, and the other insulating plate 20B is a low-voltage insulating plate. The high-voltage insulating plate 20A is intended to insulate the inner high-voltage electrode 15A from the outer refrigerant, and the thickness thereof is conventional. It is thin, for example, 0.9 mm. The low-voltage insulating plate 20B is exclusively for the purpose of ensuring the mechanical strength, and the thickness thereof is, for example, 0.3 mm. That is, the thickness of the high voltage insulating plate 20A is 1.5 times the total thickness (0.6 mm) of the dielectrics 10A and 10B arranged between the electrode layers 15A and 15B.

絶縁板20A,20Bの平行な両側縁部には、貫通孔11,11に対応する長孔形状のガス流通用の貫通孔21,21が設けられている。絶縁板20A,20Bの他の平行な両側縁部には、貫通孔12,12に対応する長孔形状の冷媒流通用の貫通孔22,22が設けられている。   On both side edges of the insulating plates 20A and 20B, there are provided through holes 21 and 21 for gas circulation having long holes corresponding to the through holes 11 and 11, respectively. The other parallel side edges of the insulating plates 20A and 20B are provided with through-holes 22 and 22 for circulation of a long hole corresponding to the through-holes 12 and 12, respectively.

絶縁板20A,20Bの外側に配置される板材は冷媒流路を形成するためのスリット板30A,30Bである。その厚みは例えば0.5mmである。各スリット板30の平行な両側縁部には、貫通孔11,11,21,21に対応する長孔形状のガス流通用の貫通孔31,31が設けられている。貫通孔31,31の間には、冷媒流路を形成するために多数のスリット33,33・・が平行に設けられている。スリット33,33・・の両端部は、冷媒流通用の貫通孔22,22とオーバーラップするように、各スリット板30の他の平行な両側縁部に到達している。   The plate materials arranged outside the insulating plates 20A and 20B are the slit plates 30A and 30B for forming the refrigerant flow path. The thickness is 0.5 mm, for example. On the both side edges of each slit plate 30 are provided through holes 31 and 31 for gas circulation having a long hole shape corresponding to the through holes 11, 11, 21 and 21. A large number of slits 33, 33,... Are provided in parallel between the through holes 31, 31 in order to form a refrigerant flow path. Both ends of the slits 33, 33... Reach the other parallel side edges of each slit plate 30 so as to overlap with the through holes 22, 22 for circulating the refrigerant.

スリット板30A,30Bの更に外側に配置される板材は蓋板40A,40Bである。一方の蓋板40Aの厚みは例えば4〜5mm、他方の蓋板40Bの厚みは例えば2mmである。一方の蓋板40Aには、内側のスリット板30Aの貫通孔31,31にそれぞれ連通するガス供給孔41a及びガス排出孔41bが設けられている。蓋板40Aの裏面には、スリット33,33・・の両端部、すなわち貫通孔12,12,22,22に対応するように1対の凹部が設けられている。そして蓋板40Aには、裏面側の1対の凹部に各連通する冷媒供給孔42a及び冷媒排出孔42bが設けられている。   The plate members disposed further outside the slit plates 30A and 30B are the cover plates 40A and 40B. The thickness of one cover plate 40A is, for example, 4 to 5 mm, and the thickness of the other cover plate 40B is, for example, 2 mm. One cover plate 40A is provided with a gas supply hole 41a and a gas discharge hole 41b communicating with the through holes 31, 31 of the inner slit plate 30A, respectively. A pair of recesses is provided on the back surface of the cover plate 40A so as to correspond to both end portions of the slits 33, 33,..., That is, the through holes 12, 12, 22, and 22. The lid plate 40A is provided with a refrigerant supply hole 42a and a refrigerant discharge hole 42b that communicate with a pair of recesses on the back surface side.

これらの板材(高純度アルミナの焼結板)は次のようにして接合されている。   These plate materials (sintered plates of high-purity alumina) are joined as follows.

各板材の接合面にガラス系の接合用ペーストを例えば30μm程度の厚みに塗布する。接合用ペーストは、ガラス粉末をバインダーと混練して所定粘度に調整したものである。接合用ペーストの塗布が終わると、板材を加熱炉に装入し、接合用ペーストをガラス粉末の融点である例えば850℃以上の温度で焼成する。接合用ペーストの焼成が終わると、各板材を重ね合せ、四隅部の貫通孔に位置決めピン60を刺し通す。4本の位置決めピン60は棒状リードを兼ねており、そのうちの2本は、高圧電極層15Aの端子部16,16と導通し、残りの2本は、低圧電極層15Bの2つの端子部16,16と導通する。最後に、重ね合わせた板材を加熱炉に装入し、接合用ペーストをガラス粉末の融点である例えば850℃以上の温度で焼成する。   A glass-based bonding paste is applied to the bonding surface of each plate material to a thickness of about 30 μm, for example. The bonding paste is prepared by kneading glass powder with a binder to have a predetermined viscosity. When the application of the bonding paste is finished, the plate material is charged into a heating furnace, and the bonding paste is baked at a temperature of, for example, 850 ° C. or higher, which is the melting point of the glass powder. When the bonding paste is baked, the respective plate materials are overlapped, and the positioning pins 60 are pierced through the through holes at the four corners. The four positioning pins 60 also serve as rod-shaped leads, two of which are electrically connected to the terminal portions 16 and 16 of the high-voltage electrode layer 15A, and the remaining two are the two terminal portions 16 of the low-voltage electrode layer 15B. , 16 are conducted. Finally, the stacked plate materials are charged into a heating furnace, and the joining paste is fired at a temperature of, for example, 850 ° C. or higher, which is the melting point of the glass powder.

この焼成により、誘電体10A,10B、その外側の絶縁板20A,20B、その外側のスリット板30A,30B、更にその外側の蓋板40A,40Bが、ガラス系の接合層50を介して接合されることになり、本実施形態の放電セルが完成する。完成した放電セルの特徴は以下のとおりである。   By this firing, the dielectrics 10A and 10B, the outer insulating plates 20A and 20B, the outer slit plates 30A and 30B, and the outer lid plates 40A and 40B are bonded via the glass-based bonding layer 50. As a result, the discharge cell of this embodiment is completed. The characteristics of the completed discharge cell are as follows.

誘電体10A,10Bの間でガス流路13,13が合体することにより、誘電体10A,10Bの間に放電用の閉空間、すなわち放電空隙70が形成される。ガス流路13,13を形成するセラミック層14,14の各厚みは例えば35μmであり、この場合の放電空隙70のギャップ量は70μmとなる。セラミック層14,14の一方を省略することが可能であり、この場合の放電空隙70のギャップ量は半分の35μmとなる。誘電板10A,10Bの背面側の表面に被覆形成された電極層15A,15Bは、端子部16,16と共に、誘電板10とその外側に接合された絶縁板20との間にガラス系の接合層50により封入され絶縁される。   By combining the gas flow paths 13 and 13 between the dielectrics 10A and 10B, a closed space for discharge, that is, a discharge gap 70 is formed between the dielectrics 10A and 10B. The thicknesses of the ceramic layers 14 and 14 forming the gas flow paths 13 and 13 are, for example, 35 μm, and the gap amount of the discharge gap 70 in this case is 70 μm. One of the ceramic layers 14 can be omitted, and the gap amount of the discharge gap 70 in this case is halved to 35 μm. The electrode layers 15A and 15B coated on the rear surface of the dielectric plates 10A and 10B are joined together with the terminal portions 16 and 16 between the dielectric plate 10 and the insulating plate 20 joined to the outside thereof. Encapsulated and insulated by layer 50.

誘電板10Aの背面側に設けられた高圧電極層15Aの端子部16,16は2本の棒状リード60,60により蓋板40Aの外側に引き出されて電源と接続される。一方、誘電板10Bの背面側に設けられた低圧電極層15Bの端子部16,16は別の2本の棒状リード60,60により蓋板40Aの外側に引き出されて接地される。   The terminal portions 16 and 16 of the high-voltage electrode layer 15A provided on the back side of the dielectric plate 10A are drawn out of the lid plate 40A by the two rod-shaped leads 60 and 60 and connected to the power source. On the other hand, the terminal portions 16 and 16 of the low-voltage electrode layer 15B provided on the back side of the dielectric plate 10B are drawn out to the outside of the lid plate 40A by another two rod-shaped leads 60 and 60 and grounded.

誘電体10の貫通孔11,11、絶縁板20の貫通孔21,21、スリット板30の貫通孔31,31が板材積層方向に連続することにより、放電空隙70に連通する縦向きで横長のガス流路80,80が積層体内に形成される。また、誘電体10の貫通孔12,12、絶縁板20の貫通孔22,22が板材積層方向に連続することにより、スリット板30におけるスリット33,33・・の両端部に連通する縦向きで横長の冷媒流路が積層体内に形成される。   The through holes 11, 11 of the dielectric 10, the through holes 21, 21 of the insulating plate 20, and the through holes 31, 31 of the slit plate 30 are continuous in the plate material stacking direction, so that they are vertically long and communicate with the discharge gap 70. Gas flow paths 80, 80 are formed in the laminate. Further, the through holes 12 and 12 of the dielectric 10 and the through holes 22 and 22 of the insulating plate 20 are continuous in the plate material laminating direction, so that the longitudinal direction communicates with both ends of the slits 33, 33. A horizontally long refrigerant flow path is formed in the laminate.

放電セルの運転では、2本の棒状リード60,60を介して、高圧電極層15Aに所定の高周波高電圧を印加する。これと共に、積層方向に形成された2つの縦向きガス流路80,80の一方に、蓋板40Aのガス供給孔41aから原料ガスを導入し、積層方向に形成された2つの縦向き冷媒流路の一方に、蓋板40Aの冷媒供給孔42aから冷却水を導入する。   In the operation of the discharge cell, a predetermined high-frequency high voltage is applied to the high-voltage electrode layer 15A via the two rod-shaped leads 60, 60. At the same time, a raw material gas is introduced into one of the two vertical gas flow paths 80, 80 formed in the stacking direction from the gas supply hole 41a of the cover plate 40A, and two vertical refrigerant flows formed in the stacking direction. Cooling water is introduced into one of the paths from the refrigerant supply hole 42a of the lid plate 40A.

ガス流路80,80の一方に導入された原料ガスは、誘電体10A,10Bの間に形成された放電空隙70を一端部から他端部へ向かい、この間にオゾン化されてガス流路80,80の他方に至り、蓋板40Aのガス排出孔41bから外部へ排出される。2つの冷媒流路の一方に導入された冷却水は、スリット板30A,30Bの各スリット33,33・・を長手方向に流通し、2つの冷媒流路の他方を通って蓋板40Aの冷媒排出孔42bから排出される。これにより、電極層15A,15Bの間の誘電体10A,10B間に形成された放電空隙70が、両面側から絶縁板20A,20Bを介して冷却される。   The source gas introduced into one of the gas flow paths 80, 80 travels from one end portion to the other end of the discharge gap 70 formed between the dielectrics 10 </ b> A, 10 </ b> B, and is ozonized during this time. , 80, and is discharged to the outside through the gas discharge holes 41b of the cover plate 40A. The cooling water introduced into one of the two refrigerant channels flows through the slits 33, 33,... Of the slit plates 30A, 30B in the longitudinal direction, passes through the other of the two refrigerant channels, and passes through the other of the two refrigerant channels. It is discharged from the discharge hole 42b. As a result, the discharge gap 70 formed between the dielectrics 10A and 10B between the electrode layers 15A and 15B is cooled via the insulating plates 20A and 20B from both sides.

本実施形態の放電セルでは、誘電体10A,10Bの対向面がRaで2μm以下に平滑化されている。これにより誘電体10A,10Bの間の放電空隙70に発生する放電柱は太く安定なものとなり、発生するオゾンガスのオゾン濃度が上昇する。この効果は後の実施例で具体的数値をもって明らかにする。   In the discharge cell of the present embodiment, the opposing surfaces of the dielectrics 10A and 10B are smoothed to 2 μm or less with Ra. As a result, the discharge column generated in the discharge gap 70 between the dielectrics 10A and 10B becomes thick and stable, and the ozone concentration of the generated ozone gas increases. This effect will be clarified with specific numerical values in a later example.

加えて、本実施形態の放電セルでは、原料ガス及びオゾンガスは縦向きガス流路80,80の一方から誘電体10A,10B間の放電空隙70を通り縦向きガス流路80,80の一方に至る。ここで、縦向きガス流路80,80は高純度アルミナの板材をガラス接合層50で接合した積層体内に形成されており、高純度アルミナの板材もガラス接合層50も汚染源を含まないクリーンな無機系の非金属材料である。また、放電空隙70は、高純度アルミナ板からなる誘電体10A,10Bの間にリブ構造のセラミック層14及びガラス接合層50により形成されており、セラミック層14もガラス接合層50と同じくクリーンな無機系の非金属材料である。更に、電極層15は誘電板20とその背面側の絶縁板20との間にガラス接合層50により封入されている。   In addition, in the discharge cell of the present embodiment, the raw material gas and the ozone gas pass from one of the vertical gas flow paths 80, 80 to one of the vertical gas flow paths 80, 80 through the discharge gap 70 between the dielectrics 10A, 10B. It reaches. Here, the vertical gas flow paths 80, 80 are formed in a laminate in which high-purity alumina plate materials are bonded together by the glass bonding layer 50, and neither the high-purity alumina plate material nor the glass bonding layer 50 contains a contamination source. It is an inorganic non-metallic material. Further, the discharge gap 70 is formed by the rib-structure ceramic layer 14 and the glass bonding layer 50 between the dielectrics 10 </ b> A and 10 </ b> B made of a high-purity alumina plate, and the ceramic layer 14 is as clean as the glass bonding layer 50. It is an inorganic non-metallic material. Further, the electrode layer 15 is sealed by a glass bonding layer 50 between the dielectric plate 20 and the insulating plate 20 on the back side thereof.

これらのため、原料ガス及びオゾンガスは、金属に直接接触しないことはもとより、汚染源を含まないクリーンな無機系の非金属材料により形成されたクリーンな流通経路のみを通過する。換言すれば、接ガス部は全てクリーン材料により構成されている。したがって、放電セルによる原料ガス及びオゾンガスの汚染の危険がなく、クリーン度の高いオゾンガスが生成される。   For these reasons, the raw material gas and the ozone gas do not come into direct contact with the metal, but pass only through a clean distribution path formed of a clean inorganic non-metallic material that does not contain a contamination source. In other words, all gas contact parts are made of a clean material. Therefore, there is no danger of contamination of the raw material gas and ozone gas by the discharge cell, and ozone gas having a high cleanliness is generated.

次に、本発明の放電セルにおける誘電体の表面粗さがオゾン濃度に及ぼす影響を定量的に示し、本発明の効果を明らかにする。   Next, the effect of the surface roughness of the dielectric material on the ozone concentration in the discharge cell of the present invention is quantitatively shown to clarify the effect of the present invention.

図1及び図2に示す放電セルにおいて、誘電体10A,10Bの対向面の粗さを種々変更した。対向面を平滑化するための鏡面加工法にはラッピングを用い、加工時間の変更により粗さを調整した。無加工の場合、その表面粗さはRaで6.3μmである。   In the discharge cell shown in FIGS. 1 and 2, the roughness of the opposing surfaces of the dielectrics 10A and 10B was variously changed. Lapping was used as a mirror surface processing method for smoothing the facing surface, and the roughness was adjusted by changing the processing time. When not processed, the surface roughness Ra is 6.3 μm.

誘電体10A,10BはTiO2 添加アルミナであり、各厚みは0.3mmとした。放電空隙70におけるギャップ量は70μm、低圧絶縁板20Bの厚みは0.3mm、高圧絶縁板20Aの厚みは0.8mm、スリット板30A,30Bの各厚みは0.5mmとした。 The dielectrics 10A and 10B were TiO 2 -added alumina, and each thickness was 0.3 mm. The gap amount in the discharge gap 70 was 70 μm, the thickness of the low voltage insulating plate 20B was 0.3 mm, the thickness of the high voltage insulating plate 20A was 0.8 mm, and the thicknesses of the slit plates 30A and 30B were 0.5 mm.

原料ガスは高純度酸素ガス(6N)、その流量は0.5L/min(N)、入口圧力は0.25MPaとした。冷却水は水量3L/min、温度20℃とした。放電電圧とオゾン濃度の関係は、放電電圧を大きくするに従ってオゾン濃度が上昇し、ある放電電圧をピークとしてその後はオゾン濃度が低下する傾向を示す。オゾン濃度はこの最大オゾン濃度とし、最大オゾン濃度が得られる放電電圧は、誘電体10A,10Bの対向面が無加工の場合に最大オゾン濃度が得られる放電電圧を100として表した。   The source gas was high purity oxygen gas (6N), the flow rate was 0.5 L / min (N), and the inlet pressure was 0.25 MPa. The amount of cooling water was 3 L / min, and the temperature was 20 ° C. The relationship between the discharge voltage and the ozone concentration shows that the ozone concentration increases as the discharge voltage is increased, and the ozone concentration tends to decrease after a certain discharge voltage reaches its peak. The ozone concentration is the maximum ozone concentration, and the discharge voltage at which the maximum ozone concentration is obtained is expressed as 100, where 100 is the discharge voltage at which the maximum ozone concentration is obtained when the opposing surfaces of the dielectrics 10A and 10B are not processed.

誘電体の対向面が無加工でRaで6.3μmの粗さの場合、オゾン濃度は285g/m3 (N)であった。誘電体の対向面をRaで2μmに鏡面加工した場合は、オゾン濃度は297g/m3 (N)に上昇し、そのときの放電電圧は95に低下した。また、誘電体の対向面を更に平滑なRaで1μmまで鏡面加工した場合は、オゾン濃度は更に高い304g/m3 (N)に上昇し、そのときの放電電圧は更に低い90に低下した。 When the opposing surface of the dielectric was not processed and the roughness Ra was 6.3 μm, the ozone concentration was 285 g / m 3 (N). When the opposite surface of the dielectric was mirror-finished to 2 μm with Ra, the ozone concentration increased to 297 g / m 3 (N), and the discharge voltage at that time decreased to 95. When the opposite surface of the dielectric was mirror-finished to 1 μm with smoother Ra, the ozone concentration rose to a higher 304 g / m 3 (N), and the discharge voltage at that time dropped to a lower 90.

放電空隙70におけるギャップ量を35μmにした。これ以外のセル仕様、及びオゾン発生条件は同一である。結果は以下のとおりある。   The gap amount in the discharge gap 70 was set to 35 μm. Other cell specifications and ozone generation conditions are the same. The results are as follows.

誘電体の対向面が無加工でRaで6.3μmの粗さの場合、オゾン濃度は335g/m3 (N)であった。誘電体の対向面をRaで2μmに鏡面加工した場合は、オゾン濃度は351g/m3 (N)に上昇し、そのときの放電電圧は90に低下した。また、誘電体の対向面を更に平滑なRaで1μmまで鏡面加工した場合は、オゾン濃度は更に高い372g/m3 (N)に上昇し、そのときの放電電圧は更に低い80に低下した。 When the opposing surface of the dielectric was not processed and the roughness Ra was 6.3 μm, the ozone concentration was 335 g / m 3 (N). When the opposite surface of the dielectric was mirror-finished with Ra to 2 μm, the ozone concentration increased to 351 g / m 3 (N), and the discharge voltage at that time decreased to 90. When the opposite surface of the dielectric was mirror-finished to 1 μm with smoother Ra, the ozone concentration rose to a higher 372 g / m 3 (N), and the discharge voltage at that time dropped to a lower 80.

ギャップ量の縮小によりオゾン濃度は上昇するが、誘電体表面の平滑化がオゾン濃度の上昇に及ぼす影響は、ギャップ量が70μmの場合よりも顕著である。   Although the ozone concentration increases due to the reduction of the gap amount, the influence of the smoothing of the dielectric surface on the increase of the ozone concentration is more remarkable than when the gap amount is 70 μm.

図1及び図2に示した実施形態は角板型放電セルであるが、円板型放電セルでもよい。その実施形態では、高圧電極層15Aと低圧電極層15Bとの間に誘電体10A,10Bを電極層15A,15Bに接して設けたが、片方を省略してもよい。また設計上、十分なセル強度が得られるならば、低圧絶縁板20Bを省略することも可能である。   The embodiment shown in FIGS. 1 and 2 is a square plate type discharge cell, but it may be a disc type discharge cell. In the embodiment, the dielectrics 10A and 10B are provided in contact with the electrode layers 15A and 15B between the high voltage electrode layer 15A and the low voltage electrode layer 15B, but one of them may be omitted. Further, if a sufficient cell strength can be obtained by design, the low-pressure insulating plate 20B can be omitted.

本発明の一実施形態を示す放電セルの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the discharge cell which shows one Embodiment of this invention. 同放電セルの模式断面図である。It is a schematic cross section of the same discharge cell.

符号の説明Explanation of symbols

10 誘電板
11,12 貫通孔
13 ガス流路
14 セラミック層
15 電極層
16 端子部
20 絶縁板
21,22 貫通孔
30 スリット板
31 貫通孔
33 スリット
40 蓋板
41 ガス孔
42 冷媒孔
50 ガラス接合層
60 棒状リード
70 放電空隙
80 縦向きガス流路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Dielectric plate 11,12 Through-hole 13 Gas flow path 14 Ceramic layer 15 Electrode layer 16 Terminal part 20 Insulating plate 21,22 Through-hole 30 Slit plate 31 Through-hole 33 Slit 40 Lid plate 41 Gas hole 42 Refrigerant hole 50 Glass bonding layer 60 Rod-shaped lead 70 Discharge gap 80 Vertical gas flow path

Claims (4)

所定の交流電圧が印加される高圧電極と低圧電極の間に放電空隙を形成するべく少なくとも一方の電極に接して電極間に誘電体が配置されており、該誘電体の放電空隙と接する表面の粗さがRaで2μm以下であるオゾン発生装置用放電セル。   A dielectric is disposed between the electrodes in contact with at least one of the electrodes so as to form a discharge gap between the high-voltage electrode and the low-voltage electrode to which a predetermined alternating voltage is applied, and the surface of the dielectric is in contact with the discharge gap. A discharge cell for an ozone generator having a roughness Ra of 2 μm or less. 前記誘電体はセラミックス焼結体又は石英結晶体である請求項1に記載のオゾン発生装置用放電セル。   The discharge cell for an ozone generator according to claim 1, wherein the dielectric is a ceramic sintered body or a quartz crystal. 高圧電極と低圧電極の間に両電極に接して一対の誘電体が配置されており、両誘電体の放電空隙と接する表面の粗さが何れもRaで3μm以下である請求項1に記載のオゾン発生用セル。   The pair of dielectrics are disposed between the high-voltage electrode and the low-voltage electrode so as to be in contact with both electrodes, and the roughness of the surface in contact with the discharge gap of both dielectrics is 3 μm or less in Ra. Ozone generating cell. 前記放電空隙におけるギャップ量が50μm以下である請求項1に記載のオゾン発生装置用放電セル。   The discharge cell for an ozone generator according to claim 1, wherein a gap amount in the discharge gap is 50 μm or less.
JP2005375220A 2005-11-29 2005-12-27 Discharge cell for ozone generator Pending JP2007176723A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005375220A JP2007176723A (en) 2005-12-27 2005-12-27 Discharge cell for ozone generator
US11/563,393 US20070154365A1 (en) 2005-11-29 2006-11-27 Discharge cell for ozonizer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005375220A JP2007176723A (en) 2005-12-27 2005-12-27 Discharge cell for ozone generator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007176723A true JP2007176723A (en) 2007-07-12

Family

ID=38302267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005375220A Pending JP2007176723A (en) 2005-11-29 2005-12-27 Discharge cell for ozone generator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007176723A (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63291803A (en) * 1987-05-26 1988-11-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ozone generator
JPH0840706A (en) * 1994-08-01 1996-02-13 Toshiba Corp Ozonizer
JPH08157202A (en) * 1994-11-30 1996-06-18 Ngk Spark Plug Co Ltd Ozonizer
JPH11246205A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Mitsubishi Electric Corp Ozone generator
JP2001294406A (en) * 2000-04-10 2001-10-23 Mitsubishi Electric Corp Ozone generating device and manufacturing method thereof
JP2005068003A (en) * 2003-08-07 2005-03-17 Sumitomo Precision Prod Co Ltd Method of manufacturing electric discharge cell and method of forming rib

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63291803A (en) * 1987-05-26 1988-11-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ozone generator
JPH0840706A (en) * 1994-08-01 1996-02-13 Toshiba Corp Ozonizer
JPH08157202A (en) * 1994-11-30 1996-06-18 Ngk Spark Plug Co Ltd Ozonizer
JPH11246205A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Mitsubishi Electric Corp Ozone generator
JP2001294406A (en) * 2000-04-10 2001-10-23 Mitsubishi Electric Corp Ozone generating device and manufacturing method thereof
JP2005068003A (en) * 2003-08-07 2005-03-17 Sumitomo Precision Prod Co Ltd Method of manufacturing electric discharge cell and method of forming rib

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2772717B1 (en) Channel member, heat exchanger, and semiconductor unit including the same
KR100623563B1 (en) Plasma processing apparatus, method for producing reaction vessel for plasma generation, and plasma processing method
US20070154365A1 (en) Discharge cell for ozonizer
JP5218865B2 (en) Electrostatic chuck
JP5969488B2 (en) Sample holder
JPWO2012173229A1 (en) Plasma generator and plasma generator
JP5545776B2 (en) Discharge cell for ozone generator
EP0952108B1 (en) Ozonizer discharge cell and its manufacturing method
JPH0222998B2 (en)
JP2009245646A (en) Microplasma jet reactor and generator
JP2007176723A (en) Discharge cell for ozone generator
JP5008170B2 (en) Discharge cell for ozone generator
JP2001294406A (en) Ozone generating device and manufacturing method thereof
JP4017825B2 (en) Ozone generator
JP2000247607A (en) Discharge cell for ozone generator
JP5046264B2 (en) Plate type discharge cell
JP4925087B2 (en) Ozone generator
JP2007045671A (en) Panel-shaped discharge cell for ozone generation unit
WO2011039971A1 (en) Ozone gas generation device and method for manufacturing same
JP3334651B2 (en) Piezoelectric transformer and method of manufacturing the same
JP5603581B2 (en) Ozone gas generator and manufacturing method thereof
JP6437844B2 (en) Channel member, heat exchanger using the same, and semiconductor manufacturing apparatus
JP7507812B2 (en) Retaining device
US20220250907A1 (en) Apparatus For Highly Efficient Cold-Plasma Ozone Production
KR20170100592A (en) Ozone gas generator and method for manufacturing ozone gas generator

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20081203

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20101209

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20101221

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110426