JP2007173336A - Function supply method, exposure method, exposure apparatus, measuring/inspection method, measuring/inspection apparatus, function supply system, program, recording medium, and providing condition determining method - Google Patents

Function supply method, exposure method, exposure apparatus, measuring/inspection method, measuring/inspection apparatus, function supply system, program, recording medium, and providing condition determining method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve production efficiency of a device by quickly changing processing procedures in cooperation of a plurality of kinds of device manufacturing processing apparatuses and processing details of each apparatus. <P>SOLUTION: On the basis of license information of a customer loaded from a customer license management data base in step 401, in steps 403 to 412 it is judged whether or not there are existent restriction conditions, use circumstances, custom support, custom service or the like. If there is existent any, then the number of counts thereof is calculated. In the next step 419, the number of accumulated counts is calculated, in the next step 421 sales prices are calculated, and in step 423 the sales prices are noticed to customers. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、機能供給方法、露光方法、露光装置、測定・検査方法、測定・検査装置、機能供給システム、プログラム、記録媒体及び提供条件決定方法に係り、さらに詳しくは、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給方法及びシステム、所定パターンを基板に露光する露光方法及び装置、デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う測定・検査方法及び装置、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する支援システムに、前記支援機能を実行するために用いられる支援情報の供給をコンピュータシステムに実行させるプログラム、該プログラムが記録された記録媒体、及び、デバイス製造処理に関するデータ処理のため情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法に関する。   The present invention relates to a function supply method, an exposure method, an exposure apparatus, a measurement / inspection method, a measurement / inspection apparatus, a function supply system, a program, a recording medium, and a provision condition determination method, and more specifically, a plurality of device manufacturing processing apparatuses Function supply method and system for supplying a support function for supporting processing operations across the substrate, an exposure method and apparatus for exposing a predetermined pattern on a substrate, a measurement / inspection method and apparatus for performing a predetermined measurement or inspection relating to a device manufacturing process, A program for causing a computer system to supply support information used to execute the support function to a support system that supplies a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses, and the program is recorded Provided when providing information for data processing related to recorded recording media and device manufacturing processing It relates to the provision condition determining method of determining the matter.

従来より、加工対象となるデバイスを測定・検査する測定・検査器の測定・検査結果を、デバイスを加工する加工装置の加工処理に最も迅速に反映するためには、それらの装置間のデータ通信を可能とした方がよい。しかしながら、それらの装置間では、レシピファイルや計測結果ファイル等のファイル・フォーマットや、ストリーム・ファンクション等の通信メッセージのフォーマット、HSMS[TCP/IP]、SECS−I[RS232C]等の通信プロトコルのフォーマットなどが異なるため、各装置のデータ通信を可能とするためには、各装置の改造が必要となっていた。   Conventionally, in order to reflect the measurement / inspection results of the measuring / inspection device that measures and inspects the device to be processed most quickly in the processing of the processing device that processes the device, data communication between these devices Should be possible. However, between these devices, file formats such as recipe files and measurement result files, communication message formats such as stream functions, communication protocol formats such as HSMS [TCP / IP], SECS-I [RS232C], etc. Therefore, in order to enable data communication of each device, it is necessary to modify each device.

一方、各デバイス製造処理装置の故障の発生やメンテナンス、新しい装置の導入などに迅速に対応しようとすれば、複数種類のデバイス製造処理装置の連携動作における処理手順や各装置の処理内容などを速やかに変更できるようにするのが望ましいが、各デバイス製造処理装置は、システム統合の基盤となるべき統一規格の上に築かれた独自の仕様の下で設計されており、処理内容が記述されている個々のレシピファイルのファイル・フォーマットも装置間で統一されていないため、各デバイス製造処理装置は、固定された単純な処理手順の下で、個々のレシピファイルに従って独立して動作しているのが現状である。このような状況では、複数装置に跨る連携動作を柔軟に変更するのが困難であった。   On the other hand, if we try to respond quickly to the occurrence and maintenance of failures in each device manufacturing processing equipment, the introduction of new equipment, etc., the processing procedures in the cooperative operation of multiple types of device manufacturing processing equipment and the processing contents of each device will be promptly However, each device manufacturing processing equipment is designed under a unique specification built on a unified standard that should be the basis for system integration, and the processing details are described. The file format of individual recipe files is not uniform among devices, so that each device manufacturing processor operates independently according to individual recipe files under a fixed and simple processing procedure. Is the current situation. Under such circumstances, it has been difficult to flexibly change the cooperative operation across a plurality of devices.

上述したような不都合はデバイスの生産性にとって望ましいものではなく、これらの不都合に対する改善要求がなされている。   The disadvantages as described above are not desirable for device productivity, and there is a demand for improvement on these disadvantages.

本発明は、第1の観点からすると、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給方法であって、前記支援機能を実行する支援システムが前記複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、前記支援システムが読み込み可能な形態で、前記支援システムとは別に提供する工程を含み、前記支援システムとは別に提供された前記支援情報を前記支援システムに読み込ませることにより前記支援機能を実行可能とすることを特徴とする機能供給方法である。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a function supply method for supplying a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses, wherein the support system for executing the support function includes the plurality of support functions. Including a step of providing support information used to execute a support function for supporting processing operations across device manufacturing processing apparatuses in a form readable by the support system, separately from the support system, The function supply method is characterized in that the support function can be executed by causing the support system to read the support information provided separately.

これによれば、支援機能を実行する支援システムが複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、その支援システムが読み込み可能な形態で、支援システムとは別に提供するので、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作が変更されても、共通の支援機能でその変更された処理動作に対応する支援情報を用いてその処理動作を支援することが可能となる。   According to this, support information used for executing a support function for supporting a processing operation that supports a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses by a support system that executes the support function in a form that the support system can read, Since it is provided separately from the support system, even if the processing operation across multiple device manufacturing processing apparatuses is changed, the processing operation is supported by using the support information corresponding to the changed processing operation using a common support function It becomes possible.

本発明は、第2の観点からすると、所定パターンを基板に露光する露光方法において、本発明の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援情報を受けて、前記所定パターンを基板上に露光することを特徴とする露光方法である。かかる場合には、本発明の機能供給方法で提供された支援情報を受けて露光を行うので、露光工程を含むデバイス製造工程の生産性が向上する。   According to a second aspect of the present invention, in an exposure method for exposing a predetermined pattern on a substrate, the support system receives the support information executed by the support system using the support information provided by the function supply method of the present invention. An exposure method comprising exposing the predetermined pattern onto a substrate. In such a case, the exposure is performed in response to the support information provided by the function supply method of the present invention, so that the productivity of the device manufacturing process including the exposure process is improved.

本発明は、第3の観点からすると、前記支援システムと接続されて、所定パターンを基板に露光する露光装置において、本発明の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援機能を受けて、前記所定パターンを基板上に露光することを特徴とする露光装置である。かかる場合には、本発明の機能供給方法で提供された支援情報を受けて露光が行われるので、露光工程を含むデバイス製造工程の生産性が向上する。   According to a third aspect of the present invention, in an exposure apparatus that is connected to the support system and exposes a predetermined pattern on a substrate, the support system uses the support information provided by the function supply method of the present invention. An exposure apparatus that exposes the predetermined pattern on a substrate in response to a support function to be executed. In such a case, the exposure is performed in response to the support information provided by the function supply method of the present invention, so that the productivity of the device manufacturing process including the exposure process is improved.

本発明は、第4の観点からすると、デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う測定・検査方法において、本発明の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援情報を受けて、前記所定の測定又は検査を行うことを特徴とする測定・検査方法である。かかる場合には、本発明の機能供給方法で提供された支援情報を受けて測定・検査が行われるので、測定・検査工程を含むデバイス製造工程の生産性が向上する。   According to a fourth aspect of the present invention, in the measurement / inspection method for performing a predetermined measurement or inspection related to device manufacturing processing, the support system executes the support information provided by the function supply method of the present invention. The measurement / inspection method is characterized by receiving the support information and performing the predetermined measurement or inspection. In such a case, since measurement / inspection is performed in response to the support information provided by the function supply method of the present invention, the productivity of the device manufacturing process including the measurement / inspection process is improved.

本発明は、第5の観点からすると、前記支援システムと接続されて、デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う測定・検査装置において、本発明の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援機能を受けて、前記所定の測定又は検査を行うことを特徴とするの測定・検査装置である。かかる場合には、本発明の機能供給方法で提供された支援情報を受けて測定・検査が行われるので、デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う際の測定・検査工程を含むデバイス製造工程の生産性が向上する。   According to a fifth aspect of the present invention, in the measurement / inspection apparatus that is connected to the support system and performs predetermined measurement or inspection related to device manufacturing processing, the support information provided by the function supply method of the present invention is The measurement / inspection apparatus according to claim 1, wherein the predetermined measurement or inspection is performed in response to a support function executed by the support system. In such a case, since the measurement / inspection is performed in response to the support information provided by the function supply method of the present invention, the device manufacturing process includes a measurement / inspection process when performing a predetermined measurement or inspection related to the device manufacturing process. Productivity is improved.

本発明は、第6の観点からすると、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給システムであって、前記支援機能を実行する支援システムに接続されて、前記複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために前記支援システムが用いる支援情報を、前記支援システムが読み込み可能な形態で、前記支援システムへ配信する配信部を有することを特徴とする機能供給システムである。   From a sixth viewpoint, the present invention is a function supply system that supplies a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses, and is connected to the support system that executes the support function. Distribution of support information used by the support system to execute a support function for supporting processing operations across the plurality of device manufacturing processing apparatuses in a form readable by the support system It is the function supply system characterized by having a part.

これによれば、支援機能を実行する支援システムが複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、その支援システムが読み込み可能な形態で、支援システムとは別に提供するので、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作が変更されても、共通の支援機能でその変更された処理動作に対応する支援情報を用いてその処理動作を支援することが可能となる。   According to this, support information used for executing a support function for supporting a processing operation that supports a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses by a support system that executes the support function in a form that the support system can read, Since it is provided separately from the support system, even if the processing operation across multiple device manufacturing processing apparatuses is changed, the processing operation is supported by using the support information corresponding to the changed processing operation using a common support function It becomes possible.

本発明は、第7の観点からすると、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する支援システムに、前記支援機能を実行するために用いられる支援情報の供給をコンピュータシステムに実行させるプログラムであって、あらかじめ用意された複数の支援情報から選択された特定の支援情報を、前記支援システムとは別に、前記支援システムが読み込み可能な形態で前記コンピュータシステムへ配信する処理を含むことを特徴とするプログラムである。   According to a seventh aspect of the present invention, a support system for supplying a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses is supplied with support information used for executing the support function. A program to be executed by a computer system, wherein specific support information selected from a plurality of support information prepared in advance is distributed to the computer system in a form readable by the support system separately from the support system It is a program characterized by including a process.

これによれば、支援機能を実行する支援システムが複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、その支援システムが読み込み可能な形態で、支援システムとは別に提供するので、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作が変更されても、共通の支援機能でその変更された処理動作に対応する支援情報を用いてその処理動作を支援することが可能となる。   According to this, support information used for executing a support function for supporting a processing operation that supports a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses by a support system that executes the support function in a form that the support system can read, Since it is provided separately from the support system, even if the processing operation across multiple device manufacturing processing apparatuses is changed, the processing operation is supported by using the support information corresponding to the changed processing operation using a common support function It becomes possible.

本発明は、第8の観点からすると、本発明のプログラムを、コンピュータシステムで読み出して実行可能な状態で記録する記録媒体である。   According to an eighth aspect, the present invention is a recording medium that records the program of the present invention in a state that can be read and executed by a computer system.

本発明は、第9の観点からすると、デバイス製造処理に関するデータ処理のため情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法であって、前記情報を用いて処理される前記データのデータ量と、前記データ処理で処理される対象データの種類と、の少なくとも1つに基づいて所定演算を実行し、前記所定演算結果に応じて前記提供条件を決定することを特徴とする提供条件決定方法である。   According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a providing condition determining method for determining a providing condition when providing information for data processing related to a device manufacturing process, and the data of the data processed using the information A provision condition determination characterized by executing a predetermined calculation based on at least one of an amount and a type of target data processed in the data processing, and determining the provision condition according to the predetermined calculation result Is the method.

これによれば、処理されるデータ量と対象データの種類などに基づく所定演算の演算結果に応じて情報の提供条件を適切に決定することができる。   According to this, it is possible to appropriately determine the information provision condition according to the calculation result of the predetermined calculation based on the amount of data to be processed and the type of target data.

以下、本発明の一実施形態を図1〜図12に基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1には、本発明の一実施形態に係るネットワークシステム3000の一例の概略的な構成が示されている。図1に示されるように、ネットワークシステム3000は、電子デバイスを製造する複数のデバイス製造メーカの製造ラインとその製造ライン上で稼動するデバイス製造処理装置やソフトウエアを製造しデバイス製造メーカに納入するメーカ(以下、装置製造メーカとする)との間を通信ネットワークで接続することにより構築されるシステムである。ネットワークシステム3000は、デバイス製造メーカと装置製造メーカとの間で行われる取引等を、その通信ネットワークを介したデータ通信により効率化することを目的としている。   FIG. 1 shows a schematic configuration of an example of a network system 3000 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the network system 3000 manufactures manufacturing lines of a plurality of device manufacturers that manufacture electronic devices, device manufacturing processing apparatuses and software that operate on the manufacturing lines, and delivers them to the device manufacturers. This is a system constructed by connecting a manufacturer (hereinafter referred to as an apparatus manufacturer) with a communication network. The purpose of the network system 3000 is to improve the efficiency of transactions and the like performed between a device manufacturer and an apparatus manufacturer by data communication via the communication network.

本実施形態では、ネットワークシステム3000は、主として、デバイス製造メーカが稼動する異機種の装置間でのデータ通信を可能とするデータ通信支援機能を有する支援システム(後述するコミュニケーション・サーバ)と、装置の連携動作を可能とする連携動作制御機能を有する支援システム(後述する管理コントローラ)によって用いられるデータファイル又はプログラムファイルの売買やそれらのファイルの使用のライセンス契約を行う際のその契約における提供価格(料金)を決定するためのシステムである。   In this embodiment, the network system 3000 mainly includes a support system (a communication server described later) having a data communication support function that enables data communication between different types of devices operated by device manufacturers, Provision price (fee) when a license agreement is made to buy or sell data files or program files used by a support system (a management controller described later) having a cooperative operation control function that enables cooperative operations, and use of those files. ) Is a system for determining.

図1に示されるように、ネットワークシステム3000は、顧客A、顧客B、顧客Cという3つの顧客メーカのそれぞれの製造ラインやネットワーク端末を含む3つの顧客システム1000と、通信ネットワーク1500と、装置製造メーカのライセンスサーバ2000と、そのライセンスサーバ2000が参照するデータベース2500とを含んで構成されている。通信ネットワーク1500は、インターネットとすることができるが、その際には、送信する通信データを暗号化するのが望ましい。また、通信ネットワーク1500としては、装置製造メーカと、デバイス製造メーカとを結ぶ専用回線であってもよい。   As shown in FIG. 1, a network system 3000 includes three customer systems 1000 including production lines and network terminals of three customer manufacturers, customer A, customer B, and customer C, a communication network 1500, and device manufacturing. The license server 2000 includes a manufacturer's license server 2000 and a database 2500 referred to by the license server 2000. The communication network 1500 can be the Internet. In this case, it is desirable to encrypt communication data to be transmitted. Further, the communication network 1500 may be a dedicated line connecting the device manufacturer and the device manufacturer.

顧客システム1000は、デバイスを製造する複数種類のデバイス製造処理装置を備えるデバイス製造ラインと、通信ネットワーク1500に接続可能なコンピュータ端末とを備える顧客となるデバイス製造メーカのデバイス製造工場内に構築されたデバイス製造システムである。   The customer system 1000 is built in a device manufacturing factory of a device manufacturer that is a customer including a device manufacturing line including a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses for manufacturing devices and a computer terminal that can be connected to the communication network 1500. It is a device manufacturing system.

図2に示されるように、顧客システム1000は、露光装置100と、トラック200と、コミュニケーション・サーバ150と、管理コントローラ160と、デバイス製造処理装置群900と、ホストシステム600を含んで構成されている。   As shown in FIG. 2, the customer system 1000 includes an exposure apparatus 100, a track 200, a communication server 150, a management controller 160, a device manufacturing processing apparatus group 900, and a host system 600. Yes.

[露光装置]
露光装置100は、デバイスパターンを、フォトレジストが塗布されたウエハに転写する装置である。露光装置100は、露光用照明光を射出する照明系、その照明光により照明されるデバイスパターン等が形成されたレチクルを保持するステージ、照明光により照明されたデバイスパターン等を投影する投影光学系、露光対象となるウエハを保持するステージ及びこれらの制御系等を備えている。露光装置100は、露光用照明光に対し、上記各ステージを駆動して、レチクルとウエハとの相対同期走査と、ウエハのステッピングを繰り返すことにより、レチクル上のデバイスパターンをウエハ上の複数の異なる領域に転写している。すなわち、露光装置100は、走査露光(ステップ・アンド・スキャン)方式の露光装置である。
[Exposure equipment]
The exposure apparatus 100 is an apparatus that transfers a device pattern to a wafer coated with a photoresist. An exposure apparatus 100 includes an illumination system that emits exposure illumination light, a stage that holds a reticle on which a device pattern illuminated by the illumination light is formed, a projection optical system that projects a device pattern illuminated by the illumination light, etc. , A stage for holding a wafer to be exposed, a control system thereof, and the like. The exposure apparatus 100 drives each of the above stages with respect to the illumination light for exposure, and repeats the relative synchronous scanning of the reticle and the wafer and the stepping of the wafer, thereby changing the device pattern on the reticle to a plurality of different patterns on the wafer. Transcribed to the area. That is, the exposure apparatus 100 is a scanning exposure (step-and-scan) type exposure apparatus.

露光装置の制御系は、照明光の強度(露光量)を制御する露光量制御系と、両ステージの同期制御や、投影光学系の焦点深度内にウエハ面を一致させるオートフォーカス/レベリング制御(以下、単に、フォーカス制御という)などを行うステージ制御系とを備えている。   The control system of the exposure apparatus includes an exposure amount control system that controls the intensity (exposure amount) of illumination light, synchronous control of both stages, and autofocus / leveling control that matches the wafer surface within the depth of focus of the projection optical system ( A stage control system that simply performs focus control) is provided below.

露光量制御系は、露光量を検出可能な各種露光量センサの検出値に基づいて、露光量をその目標値に一致させるように制御するフィードバック制御を行っている。ステージ制御系は、ステージの位置を計測する干渉計の計測値に基づいてフィードバック制御を行って、両ステージの位置制御及び速度制御を実現している。露光装置100には、ウエハ面のフォーカス/レベリングずれを複数検出点にて検出する多点AF(オートフォーカス)センサが設けられている。ステージ制御系は、この多点AFセンサの複数検出点のうち、例えば9個の検出点(9チャンネル)でウエハ面高さを検出し、露光領域に対応するウエハ面を、投影光学系の像面に一致させるようなフィードバック制御を行うことにより、フォーカス制御を実現している。   The exposure amount control system performs feedback control for controlling the exposure amount to match the target value based on detection values of various exposure amount sensors capable of detecting the exposure amount. The stage control system performs feedback control based on the measurement value of the interferometer that measures the position of the stage, thereby realizing position control and speed control of both stages. The exposure apparatus 100 is provided with a multipoint AF (autofocus) sensor that detects a focus / leveling shift on the wafer surface at a plurality of detection points. The stage control system detects the wafer surface height from, for example, nine detection points (9 channels) among the plurality of detection points of the multipoint AF sensor, and displays the wafer surface corresponding to the exposure area on the image of the projection optical system. Focus control is realized by performing feedback control that matches the surface.

なお、露光装置100においては、両ステージの同期制御に関連する2次元座標系をXY座標系(同期走査方向をY軸としている)とし、投影光学系の光軸と平行な座標軸をZとして、XYZ座標系の下でステージ制御を行っている。以下では、ステージ制御系のうち、両ステージの同期制御を行う制御系を同期制御系とし、ステージ位置(ウエハ面)のZ位置やX軸回り、Y軸回りの回転量を制御する制御系を、フォーカス制御系として説明する。   In the exposure apparatus 100, a two-dimensional coordinate system related to synchronous control of both stages is an XY coordinate system (the synchronous scanning direction is the Y axis), and a coordinate axis parallel to the optical axis of the projection optical system is Z. Stage control is performed under the XYZ coordinate system. In the following, among the stage control systems, a control system that performs synchronous control of both stages is referred to as a synchronous control system, and a control system that controls the rotation of the stage position (wafer surface) around the Z position, the X axis, and the Y axis. The focus control system will be described.

露光装置100では、上記各制御系の動作を規定するファクタが幾つか制御パラメータ化されており、それらの値を、自由に設定することができるようになっている。   In the exposure apparatus 100, several factors defining the operation of each control system are converted into control parameters, and these values can be set freely.

ところで、ウエハW上には、デバイスパターンが転写形成された複数の領域がある。この領域は、ショット領域と呼ばれている。各ショット領域には、ウエハマークが付設されている。ウエハマークは、その形状等からその位置情報を検出することが可能なマークである。例えば、ウエハマークは、ライン・アンド・スペース・マークとして示されている。ウエハマークの形状としては、他にも、ボックスマーク、十字マークなどを採用することができる。   On the wafer W, there are a plurality of regions where the device pattern is transferred and formed. This area is called a shot area. A wafer mark is attached to each shot area. The wafer mark is a mark whose position information can be detected from its shape and the like. For example, the wafer mark is shown as a line and space mark. In addition to the shape of the wafer mark, a box mark, a cross mark, or the like may be employed.

露光装置100では、このウエハW上のショット領域に対して、レチクル上のデバイスパターンを、正確に重ね合わせ露光する必要がある。正確な重ね合わせ露光を実現するためには、各ショット領域の位置を正確に把握する必要がある。ウエハマークは、各ショット領域の位置(その中心の位置)を把握するために設けられている。ウエハマークは、それが付設されたショット領域のデバイスパターンとともに転写形成されたものであることから、ウエハW上のそれらの位置関係はほぼ固定であり、マークの位置がわかればそのショット領域の中心位置がわかるようになっている。   In the exposure apparatus 100, it is necessary to accurately overlay and expose the device pattern on the reticle on the shot area on the wafer W. In order to realize accurate overlay exposure, it is necessary to accurately grasp the position of each shot area. The wafer mark is provided in order to grasp the position of each shot area (the center position). Since the wafer mark is transferred and formed together with the device pattern of the shot area to which the wafer mark is attached, their positional relationship on the wafer W is substantially fixed. If the position of the mark is known, the center of the shot area is determined. You can see the position.

ウエハマークの位置を計測するため、露光装置100には、このウエハマークの位置を計測するためのアライメント系が設けられている。このアライメント系では、ウエハマークが含まれるウエハ面に関する波形、例えばそのウエハ面の凹凸に対応する波形を、内部に備えるアライメントセンサを用いて光電検出する。この光電検出により、このウエハマークを含むウエハ面に相当する波形データが得られるようになる。アライメント系では、検出した波形データから、マークに対応する波形(マーク波形)を抽出し、その抽出結果に基づいてマーク波形の位置を検出する。アライメント系では、検出されたマーク波形の位置と、アライメントセンサの検出視野の位置とに基づいて、XY座標系におけるウエハマークの位置を算出する。露光装置100では、その算出結果に基づいて、デバイスパターンの転写位置が決定される。   In order to measure the position of the wafer mark, the exposure apparatus 100 is provided with an alignment system for measuring the position of the wafer mark. In this alignment system, a waveform relating to a wafer surface including a wafer mark, for example, a waveform corresponding to the unevenness of the wafer surface is photoelectrically detected using an alignment sensor provided inside. By this photoelectric detection, waveform data corresponding to the wafer surface including this wafer mark can be obtained. In the alignment system, a waveform (mark waveform) corresponding to the mark is extracted from the detected waveform data, and the position of the mark waveform is detected based on the extraction result. In the alignment system, the position of the wafer mark in the XY coordinate system is calculated based on the position of the detected mark waveform and the position of the detection visual field of the alignment sensor. In exposure apparatus 100, the transfer position of the device pattern is determined based on the calculation result.

なお、デバイスパターンの正確な重ねあわせ露光を行うためには、ウエハ上のすべてのショット領域の位置情報を計測してもよいが、それでは、スループットに影響が出るおそれがある。そこで、露光装置100では、実際に計測するウエハマークを限定し、計測されたウエハマークの位置の計測結果から、ウエハ上のショット領域の配列を統計的に推定するグローバルアライメント技術を採用している。露光装置100では、このグローバルアライメントとして、設計上のショット配列に対する実際のショット配列のずれを、X、Yの多項式で表現し、統計演算を行ってその多項式における妥当な係数を求める、いわゆるEGA方式のウエハアライメントが採用されている。EGA方式のウエハアライメントでは、まず、計測対象のウエハマークを計測するショット領域を幾つか選択する。選択されたショット領域をサンプルショットという。アライメント系では、サンプルショットに付設されたウエハマーク(サンプルマーク)の位置を計測する。このような計測動作を、以下ではEGA計測と呼ぶ。   In order to perform accurate overlay exposure of device patterns, the position information of all shot areas on the wafer may be measured, but this may affect the throughput. Therefore, the exposure apparatus 100 employs a global alignment technique that limits the wafer marks to be actually measured and statistically estimates the arrangement of shot areas on the wafer from the measurement results of the measured wafer mark positions. . In the exposure apparatus 100, as this global alignment, a so-called EGA method in which a deviation of an actual shot arrangement from a designed shot arrangement is expressed by an X, Y polynomial and a statistical calculation is performed to obtain an appropriate coefficient in the polynomial. Wafer alignment is adopted. In the EGA-type wafer alignment, first, several shot areas for measuring a measurement target wafer mark are selected. The selected shot area is called a sample shot. In the alignment system, the position of a wafer mark (sample mark) attached to the sample shot is measured. Such a measurement operation is hereinafter referred to as EGA measurement.

EGA方式のウエハアライメントでは、このEGA計測の計測結果、すなわち幾つかのサンプルマークの位置情報に基づく統計演算により、各ショット領域のXY位置座標を表す補正量を推定する。このような演算を、以下ではEGA演算と呼ぶ。なお、EGA方式のウエハアライメントについては、例えば特開昭61−44429号公報等に開示されているので、詳細な説明を省略する。   In the EGA type wafer alignment, a correction amount representing the XY position coordinates of each shot region is estimated by a statistical calculation based on the measurement result of the EGA measurement, that is, the position information of several sample marks. Such an operation is hereinafter referred to as an EGA operation. The EGA wafer alignment is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-44429, and the detailed description thereof is omitted.

なお、露光装置100には、投影光学系の収差を調整可能な調整装置、照度ムラセンサも設けられている。   The exposure apparatus 100 is also provided with an adjustment device capable of adjusting the aberration of the projection optical system and an illuminance unevenness sensor.

[トラック]
トラック200は、露光装置100を囲むチャンバ(不図示)に接するように配置されている。トラック200は、主として露光装置100に対するウエハの搬入・搬出を行っている。
[truck]
The track 200 is disposed in contact with a chamber (not shown) surrounding the exposure apparatus 100. The track 200 mainly carries in / out wafers with respect to the exposure apparatus 100.

[コータ・デベロッパ]
トラック200内には、レジスト塗布及び現像を行うコータ・デベロッパ(C/D)110が設けられている。C/D110は、ウエハ上に対しフォトレジストの塗布及び現像を行う。C/D110は、露光装置100や、測定・検査器120とは、独立して動作可能である。C/D110は、トラック200の搬送ラインに沿って配置されている。したがって、この搬送ラインによって、露光装置100と、C/D110と、測定・検査器120との間でウエハの搬送が可能となる。
[Coater / Developer]
In the track 200, a coater / developer (C / D) 110 for applying and developing a resist is provided. The C / D 110 applies and develops a photoresist on the wafer. The C / D 110 can operate independently of the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120. The C / D 110 is disposed along the transport line of the track 200. Therefore, this transfer line enables wafer transfer between the exposure apparatus 100, the C / D 110, and the measuring / inspecting instrument 120.

[測定・検査器]
トラック200内には、露光装置100でのウエハの露光前後(すなわち、事前、事後)において、そのウエハに対する様々な測定・検査を行うことが可能な複合的な測定・検査器120が設けられている。測定・検査器120は、露光前に測定を行う事前測定・検査器と、露光後に測定を行う事後測定・検査器とを備えている。
[Measurement and inspection equipment]
In the track 200, a composite measurement / inspection instrument 120 capable of performing various measurements / inspections on the wafer before and after the exposure of the wafer by the exposure apparatus 100 (that is, before and after) is provided. Yes. The measurement / inspection instrument 120 includes a pre-measurement / inspection instrument that performs measurement before exposure and a post-measurement / inspection instrument that performs measurement after exposure.

事前測定・検査器は、ウエハが露光装置100に搬送される前に、露光装置100における露光条件を最適化するための測定を行う。事前測定・検査器の測定内容としては、例えば、アライメント関連のパラメータ、プリアライメント関連のパラメータ、ウエハ・フラットネス、レチクル・フラットネス、ウエハ温度、ウエハ膜厚、レチクル温度などがあり、検査内容としては、ウエハ膜検査、ウエハ欠陥・異物検査、レチクル欠陥・異物検査などがある。なお、プリアライメントとは、露光装置100で行われる、ウエハアライメント前に行われるウエハ外形基準のラフなアライメントである。測定・検査器120は、事前測定・検査の結果を、システム内の通信ネットワークを介して外部にデータ出力することができるようになっている。測定・検査器120は、露光装置100やC/D110とは、独立して動作可能である。ここで、ウエハ膜検査とは、ウエハ上に形成された膜の膜厚、膜厚ムラ、膜不良、異物、スクラッチなどの検査を含む。   The pre-measurement / inspection instrument performs measurement for optimizing the exposure conditions in the exposure apparatus 100 before the wafer is transferred to the exposure apparatus 100. The measurement contents of the pre-measurement / inspector include, for example, alignment-related parameters, pre-alignment-related parameters, wafer flatness, reticle flatness, wafer temperature, wafer film thickness, reticle temperature, etc. Includes wafer film inspection, wafer defect / foreign matter inspection, reticle defect / foreign matter inspection, and the like. Note that the pre-alignment is rough alignment based on the wafer outer shape performed by the exposure apparatus 100 before wafer alignment. The measurement / inspection device 120 can output the results of the pre-measurement / inspection to the outside via a communication network in the system. The measuring / inspecting instrument 120 can operate independently of the exposure apparatus 100 and the C / D 110. Here, the wafer film inspection includes inspection of the film thickness, film thickness unevenness, film defect, foreign matter, scratch, etc. of the film formed on the wafer.

一方、測定・検査器120の事後測定・検査器は、露光装置100で転写されC/D110で現像された露光後(事後)のウエハ上のレジストパターン等の線幅や重ね合わせ誤差、投影光学系の収差、照明ムラの測定を行い、ウエハ膜検査、ウエハ欠陥・異物検査、レチクル欠陥・異物検査などを行う。   On the other hand, the post-measurement / inspection instrument 120 of the measurement / inspection instrument 120 is such that the resist pattern on the wafer after exposure (post-exposure) transferred by the exposure apparatus 100 and developed by the C / D 110, overlay error, projection optics System aberration and illumination unevenness are measured, and wafer film inspection, wafer defect / foreign particle inspection, reticle defect / foreign particle inspection, etc. are performed.

測定・検査器120は、この測定・検査結果を解析する機能を有していても良い。例えば、測定・検査結果に基づいて、露光装置100のパラメータを最適化する機能があってもよい。このようにすれば、最適化されたパラメータに関するデータを露光装置100に設定し、測定・検査器120から露光装置100へのフィードフォワード的なパラメータ補正、フィードバック的なパラメータ補正が可能となる。なお、測定・検査器120では、上述したすべての測定が可能である必要はなく、少なくとも1つについて測定が可能であればよい。また、測定・検査器120では、その測定機能の一部がオプション化されていてもよい。それらの測定機能は、後述するカスタム対応で有効とすることができるようになっていてもよい。   The measurement / inspection instrument 120 may have a function of analyzing the measurement / inspection results. For example, there may be a function of optimizing the parameters of the exposure apparatus 100 based on the measurement / inspection results. In this way, it is possible to set data relating to optimized parameters in the exposure apparatus 100, and to perform feedforward parameter correction and feedback parameter correction from the measuring / inspection device 120 to the exposure apparatus 100. Note that the measurement / inspection instrument 120 does not have to be able to perform all the above-described measurements, and it is sufficient that at least one measurement can be performed. In the measurement / inspection instrument 120, a part of the measurement function may be made optional. Those measurement functions may be enabled by custom correspondence described later.

ところで、露光装置100と、トラック110と、測定・検査器120とは、相互にインライン接続されている。ここで、インライン接続とは、装置間及び各装置内の処理ユニット間を、ロボットアームやスライダ等のウエハを自動搬送する搬送装置を介して接続することを意味する。このインライン接続により、露光装置100とC/D110との間でのウエハの受け渡し時間を格段に短くすることができる。   Incidentally, the exposure apparatus 100, the track 110, and the measuring / inspecting instrument 120 are connected in-line to each other. Here, the in-line connection means that the apparatuses and the processing units in each apparatus are connected via a transfer device that automatically transfers a wafer such as a robot arm or a slider. With this in-line connection, the wafer transfer time between the exposure apparatus 100 and the C / D 110 can be remarkably shortened.

インライン接続された露光装置100とトラック110と測定器120とは、これを一体として、1つの基板処理装置(100、110、120)とみなすこともできる。基板処理装置(100、110、120)は、ウエハに対して、フォトレジスト等の感光剤を塗布する塗布工程と、感光剤が塗布されたウエハ上にマスク又はレチクルのパターンの像を投影露光する露光工程と、露光工程が終了したウエハを現像する現像工程等を行う。   The exposure apparatus 100, the track 110, and the measuring instrument 120 that are connected in-line can be regarded as one substrate processing apparatus (100, 110, 120) as a whole. A substrate processing apparatus (100, 110, 120) applies a photosensitive agent such as a photoresist to a wafer, and projects and exposes a mask or reticle pattern image onto the wafer coated with the photosensitive agent. An exposure process and a development process for developing the wafer after the exposure process are performed.

すなわち、顧客システム1000においては、露光装置100と、トラック110と、測定・検査器120とが複数台設けられている。各基板処理装置(100、110、120)、デバイス製造処理装置群900は、温度及び湿度が管理されたクリーンルーム内に設置されている。また、各装置の間では、所定の通信ネットワーク(例えばLAN:Local Area Network)を介して、データ通信を行うことができるようになっている。この通信ネットワークは、顧客の工場、事業所あるいは会社に対して設けられたいわゆるイントラネットと呼ばれる通信ネットワークである。   That is, in the customer system 1000, a plurality of exposure apparatuses 100, tracks 110, and measuring / inspecting instruments 120 are provided. Each substrate processing apparatus (100, 110, 120) and device manufacturing processing apparatus group 900 is installed in a clean room in which temperature and humidity are controlled. In addition, data communication can be performed between devices via a predetermined communication network (for example, LAN: Local Area Network). This communication network is a so-called intranet communication network provided for a customer's factory, business office or company.

基板処理装置(100、110、120)においては、ウエハは複数枚(例えば20枚)を1単位(ロットという)として処理される。顧客システム1000においては、ウエハは1ロットを基本単位として処理され製品化されている。   In the substrate processing apparatus (100, 110, 120), a plurality of wafers (for example, 20 wafers) are processed as one unit (referred to as a lot). In the customer system 1000, wafers are processed and commercialized using one lot as a basic unit.

なお、この顧客システム100では、測定・検査器120は、トラック200内に置かれ、露光装置100やC/D110とインライン接続されているが、測定・検査器120を、トラック200外に配置し、露光装置100やC/D110とはオフラインに構成してもよい。   In this customer system 100, the measurement / inspection instrument 120 is placed in the track 200 and connected in-line with the exposure apparatus 100 and the C / D 110. However, the measurement / inspection instrument 120 is arranged outside the track 200. The exposure apparatus 100 and the C / D 110 may be configured offline.

[デバイス製造処理装置群]
デバイス製造処理装置群900としては、CVD(Chemical Vapor Depositon:化学気相成長法)装置910と、エッチング装置920と、化学的機械的研磨を行いウエハを平坦化する処理を行うCMP(Chemical Mechanical Polishing:化学機械研磨)装置930と、酸化・イオン注入装置940とが設けられている。CVD装置910は、ウエハ上に薄膜を生成する装置であり、CMP装置920は、化学機械研磨によってウエハの表面を平坦化する研磨装置である。また、エッチング装置920は、現像されたウエハに対しエッチングを行う装置であり、酸化・イオン注入装置940は、ウエハの表面に酸化膜を形成し、又はウエハ上の所定位置に不純物を注入するための装置である。また、CVD装置910、エッチング装置920、CMP装置930及び酸化・イオン注入装置940も、露光装置100などと同様に複数台設けられており、相互間でウエハを搬送可能とするための搬送経路が設けられている。デバイス形成装置群900には、この他にも、プロービング処理、リペア処理、ダイシング処理、パッケージング処理、ボンディング処理などを行う装置も含まれている。
[Device manufacturing processing equipment group]
The device manufacturing processing apparatus group 900 includes a CVD (Chemical Vapor Depositon) apparatus 910, an etching apparatus 920, and CMP (Chemical Mechanical Polishing) which performs a chemical mechanical polishing and planarizes the wafer. : Chemical mechanical polishing) apparatus 930 and oxidation / ion implantation apparatus 940 are provided. The CVD apparatus 910 is an apparatus that generates a thin film on a wafer, and the CMP apparatus 920 is a polishing apparatus that planarizes the surface of the wafer by chemical mechanical polishing. The etching apparatus 920 is an apparatus that etches the developed wafer. The oxidation / ion implantation apparatus 940 forms an oxide film on the surface of the wafer or implants impurities into a predetermined position on the wafer. It is a device. Also, a plurality of CVD apparatuses 910, etching apparatuses 920, CMP apparatuses 930, and oxidation / ion implantation apparatuses 940 are provided in the same manner as the exposure apparatus 100 and the like, and a transfer path for enabling transfer of wafers between them is provided. Is provided. In addition, the device forming apparatus group 900 includes apparatuses that perform probing processing, repair processing, dicing processing, packaging processing, bonding processing, and the like.

[コミュニケーション・サーバ]
コミュニケーション・サーバ150は、通信仕様などが異なる露光装置100、測定・検査器120などの要求に応じて、それらの間でのデータ通信を支援する通信支援機能を有するサーバである。顧客システム1000においては、このコミュニケーション・サーバ150のデータ通信機能により、各装置のデータ通信機能を改造することなく、異なる種類の装置間のデータ通信が可能となる。
[Communication server]
The communication server 150 is a server having a communication support function that supports data communication between the exposure apparatus 100, the measurement / inspection instrument 120, and the like with different communication specifications. In the customer system 1000, the data communication function of the communication server 150 enables data communication between different types of devices without modifying the data communication function of each device.

図3には、コミュニケーション・サーバ150の概略的な構成が示されている。図3では、コミュニケーション・サーバ150を介して、1台の露光装置100と、1台の測定・検査器120とが論理的に接続されている。図3に示されるように、コミュニケーション・サーバ150は、制御部53と、送受信部51、52と、変換定義ファイル登録部54と、変換レシピファイル登録部55とを備えている。   FIG. 3 shows a schematic configuration of the communication server 150. In FIG. 3, one exposure apparatus 100 and one measurement / inspection instrument 120 are logically connected via the communication server 150. As shown in FIG. 3, the communication server 150 includes a control unit 53, transmission / reception units 51 and 52, a conversion definition file registration unit 54, and a conversion recipe file registration unit 55.

各装置でのデータ通信の際にそのデータの変換が必要となるのは、ファイル段階、すなわち個々の装置のレシピファイルや測定・検査器120における計測結果が記述されたファイルといったファイルの書式(ファイル・フォーマット)と、メッセージ段階、すなわち、ストリーム・ファンクション等の通信メッセージと、プロトコル段階、すなわちHSMS、SECS−I等の通信プロトコル(いずれもSEMI規格で定められる通信プロトコル)との3段階である。そこで、図3に示されるように、制御部53には、ファイル・フォーマット変換部53aと、通信メッセージ変換部53bと、通信プロトコル変換部53cの3つの変換部が設けられている。   When data communication is performed in each device, the conversion of the data is required at the file stage, that is, a file format such as a recipe file of each device or a file in which measurement results in the measurement / inspection device 120 are described (file Format) and message stage, that is, a communication message such as a stream function, and a protocol stage, that is, a communication protocol such as HSMS and SECS-I (both are communication protocols defined by the SEMI standard). Therefore, as shown in FIG. 3, the control unit 53 is provided with three conversion units: a file format conversion unit 53a, a communication message conversion unit 53b, and a communication protocol conversion unit 53c.

各変換部53a〜53cにおけるデータ変換は、変換定義ファイルを参照して行われる。変換定義ファイルとは、データ通信を行うデバイス製造処理装置間のデータ変換規則を定義するファイルであり、変換定義ファイル登録部54に登録されている。このファイルを参照すれば、一方のデバイス製造処理装置(例えば測定・検査器120)から送られてきたデータを、他方のデバイス製造処理装置(例えば露光装置100)において認識可能なデータに変換することができる。変換定義ファイルについても、ファイル・フォーマット変換定義ファイル541、通信メッセージ変換定義ファイル542、通信プロトコル変換定義ファイル543の3種類の定義ファイルが必要である。 Data conversion in each of the conversion units 53a to 53c is performed with reference to the conversion definition file. The conversion definition file is a file that defines data conversion rules between device manufacturing processing apparatuses that perform data communication, and is registered in the conversion definition file registration unit 54. Referring to this file, the data sent from one device manufacturing processing apparatus (for example, measuring / inspecting instrument 120) is converted into data that can be recognized by the other device manufacturing processing apparatus (for example, exposure apparatus 100). Can do. For even conversion definition file, file format conversion definition file 541, the communication message conversion definition file 542, it is necessary three definitions of a communication protocol conversion definition file 54 3.

ある装置から他の装置への1回のデータ通信について利用される3種類の変換定義ファイルの情報は、変換レシピファイルにまとめられている。この変換レシピファイル551、552、553、…は、変換レシピファイル登録部55に、実際にデータ通信を行うデバイス製造処理装置の組み合わせ毎に登録されている。変換レシピファイル551、552、553、…には、対象となる接続装置名、変換定義ファイル名が指定されている。データ変換を行う際には、コミュニケーション・サーバ150における制御部53の各変換部53a、53b、53cは、データ通信を行う2つのデバイス製造処理装置の組合せに対応する変換レシピファイルをファイルオープンし、データの送信元と送信先の装置名を確認し、変換に必要な変換定義ファイル541、542、543のファイル名を特定し、そのファイル名をキーとしてそれぞれの変換定義ファイルをファイルオープンして、その変換定義ファイルに記述されたデータ変換規則に従って、データを変換する。 Information on the three types of conversion definition files used for one data communication from one device to another is collected in a conversion recipe file. These conversion recipe files 55 1 , 55 2 , 55 3 ,... Are registered in the conversion recipe file registration unit 55 for each combination of device manufacturing processing apparatuses that actually perform data communication. In the conversion recipe files 55 1 , 55 2 , 55 3 ,..., A target connected device name and a conversion definition file name are specified. When performing data conversion, each conversion unit 53a, 53b, 53c of the control unit 53 in the communication server 150 opens a file of a conversion recipe file corresponding to a combination of two device manufacturing processing apparatuses that perform data communication. check the device name of the source and destination of the data, conversion definition file 54 1 required for the conversion, 54 2, 54 3 identify the file name, file open the respective conversion definition file the file name as a key Then, the data is converted according to the data conversion rules described in the conversion definition file.

コミュニケーション・サーバ150では、送信元から送信されたデータを、送受信部51、52で受信し、上述したようにして制御部53により受信したデータを、送信元のデバイス製造処理装置のフォーマットが記述された変換定義ファイルに従って解読する。そして、その解読結果により得られたデータを、変換定義ファイルに従って、送信先のデバイス製造処理装置に適合するように変換し、送受信部51、52から変換されたデータを送信先に送信するようにする。これにより、デバイス製造処理装置間のデータ通信が可能となる。以下では、顧客システム1000内の装置間のデータ通信は、このコミュニケーション・サーバ150を介して行われるものとする。このコミュニケーション・サーバ150のデータ通信機能によれば、データの送信元、送信先に応じて変換定義ファイルを変更するだけで、顧客システム1000内の任意の装置間でのデータ通信が可能となる。   In the communication server 150, data transmitted from the transmission source is received by the transmission / reception units 51 and 52, and the format of the device manufacturing processing apparatus of the transmission source is described as the data received by the control unit 53 as described above. Decode according to the conversion definition file. Then, the data obtained as a result of the decoding is converted according to the conversion definition file so as to be compatible with the device manufacturing processing apparatus of the transmission destination, and the converted data from the transmission / reception units 51 and 52 is transmitted to the transmission destination. To do. Thereby, data communication between the device manufacturing processing apparatuses becomes possible. In the following, it is assumed that data communication between devices in the customer system 1000 is performed via the communication server 150. According to the data communication function of the communication server 150, data communication between any devices in the customer system 1000 is possible only by changing the conversion definition file according to the data transmission source and transmission destination.

なお、コミュニケーション・サーバ150におけるデータ通信機能を実現するソフトウエアは、予め、装置製造メーカから供給され、インストールされたものである。また、本実施形態に係るコミュニケーション・サーバ150では、変換定義ファイルを参照して、データ変換を行ったが、変換定義ファイルの代わりに、実際に変換処理を行うダイナミック・リンク・ライブラリのような変換プログラムを登録し、その変換プログラムを、データ通信機能のソフトウエアから呼び出して実行することにより、送信元から送信先へのデータ変換を実現するようにしてもよい。   Note that the software for realizing the data communication function in the communication server 150 is supplied and installed in advance from the apparatus manufacturer. In the communication server 150 according to the present embodiment, data conversion is performed by referring to the conversion definition file. However, instead of the conversion definition file, a conversion such as a dynamic link library that actually performs conversion processing is performed. Data conversion from the transmission source to the transmission destination may be realized by registering the program and calling and executing the conversion program from the data communication function software.

[管理コントローラ]
図2に戻り、管理コントローラ160は、露光装置100により実施される露光工程を集中的に管理するとともに、トラック200内のC/D110及び測定・検査器120の管理及びそれらの連携動作の制御を行う。このようなコントローラとしては、例えば、パーソナルコンピュータを採用することができる。管理コントローラ160は、顧客システム1000内の通信ネットワークを通じて(コミュニケーション・サーバ150を介して)、処理、動作の進捗状況を示す情報や、処理結果、測定・検査結果を示す情報を各装置から受信し、顧客システム1000の製造ライン全体の状況を把握し、露光工程等が適切に行われるように、各装置の管理及び制御を行う。露光装置100と測定・検査器120との連携動作の制御は、そのコンピュータ上で動作する制御アプリケーションプログラムが実行されることにより実現されている。図4には、その制御アプリケーションプログラムを中心とする管理コントローラ160のソフトウエアの概略構成が示されている。図4に示されるように、管理コントローラ160は、送受信部61、62と、制御部63と、記憶装置64とを備えている。
[Management controller]
Returning to FIG. 2, the management controller 160 centrally manages the exposure process performed by the exposure apparatus 100, and manages the C / D 110 and the measurement / inspection instrument 120 in the track 200 and controls their cooperative operation. Do. As such a controller, for example, a personal computer can be adopted. The management controller 160 receives information indicating the progress of processing and operations, and information indicating processing results and measurement / inspection results from each device through a communication network in the customer system 1000 (via the communication server 150). Then, the status of the entire production line of the customer system 1000 is grasped, and management and control of each apparatus are performed so that the exposure process and the like are appropriately performed. Control of the cooperative operation between the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120 is realized by executing a control application program that operates on the computer. FIG. 4 shows a schematic configuration of software of the management controller 160 centering on the control application program. As illustrated in FIG. 4, the management controller 160 includes transmission / reception units 61 and 62, a control unit 63, and a storage device 64.

管理コントローラ160の記憶装置64には、複数の連携レシピファイル651、652、653、654、…が格納されている。連携レシピファイル65nは、複数種類のデバイス製造処理装置、すなわち露光装置100、測定・検査器120に跨る処理手順が所定のスクリプト言語で記述されたスクリプトファイルである。 A plurality of cooperative recipe files 65 1 , 65 2 , 65 3 , 65 4 ,... Are stored in the storage device 64 of the management controller 160. The linked recipe file 65 n is a script file in which processing procedures over a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses, that is, the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120 are described in a predetermined script language.

ファイル読込部631は、ホスト600から送受信部61を介して指定された連携レシピファイルをメモリに読み込む。ファイル解析部632は、メモリに読み込まれた連携レシピファイルを1行1行ずつ解析する。制御指令作成部633は、この解析内容に従って、各装置に対する制御指令を作成する。管理コントローラ160は、この制御命令に基づいて、送受信部62を介して各種の制御信号を出力し、顧客システム1000内の各種装置を協調動作させる。 The file reading unit 63 1 reads the cooperative recipe file designated from the host 600 via the transmission / reception unit 61 into the memory. File analysis unit 63 2 analyzes the linkage recipe file loaded in memory one line per line. Control command generating section 63 3, according to the analytical content, to create a control command to each device. Based on this control command, the management controller 160 outputs various control signals via the transmission / reception unit 62 to cause the various devices in the customer system 1000 to operate in cooperation.

すなわち、管理コントローラ160は、この連携レシピファイル651に記述された処理手順に従って、複数種類のデバイス製造処理装置(100、110、120)を連携動作させる。この連携レシピファイル651等に記述された装置の連携動作により、一連のデバイス製造処理の効率的な運用が可能となる。例えば、露光装置100によりウエハの前後において、測定・検査器120によりそのウエハに対する測定を行い、その測定結果に基づいて、必要な場合には、露光装置100における露光工程を調整するように、連携レシピファイル651等における処理手順を記述すれば、露光装置100の露光工程の最適化を迅速に実現することができるようになる。 That is, the management controller 160, according to the processing routine this is described in conjunction recipe file 65 1, the plurality of types of device manufacturing processing apparatus (100, 110, 120) cooperative work. The cooperative operation of the apparatus described in this linkage recipe file 65 1 or the like, it is possible to efficiently operate a series of device fabrication processes. For example, before and after the wafer by the exposure apparatus 100, the measurement / inspection device 120 performs measurement on the wafer and, based on the measurement result, adjusts the exposure process in the exposure apparatus 100 if necessary. if describing the processing procedure in the recipe file 651 or the like, so that the optimization of the exposure process of the exposure apparatus 100 can be realized quickly.

管理コントローラ160では、複数装置に跨る種々の連携動作が可能であるため、その連携動作ごとに連携レシピファイルが準備されている。すなわち、管理コントローラ160において、制御部63によって実行する連携レシピファイルを変更するだけで、様々な連携動作を同じ顧客システム1000で実現することが可能となる。なお、管理コントローラ160で連携レシピファイルに基づく制御を行う制御部63のソフトウエアは、予め供給され、インストールされたものである。   Since the management controller 160 can perform various cooperative operations across a plurality of devices, a cooperative recipe file is prepared for each cooperative operation. That is, in the management controller 160, various cooperative operations can be realized in the same customer system 1000 only by changing the cooperative recipe file executed by the control unit 63. The software of the control unit 63 that performs control based on the cooperation recipe file by the management controller 160 is supplied and installed in advance.

[ホストシステム]
ホストシステム(以下、「ホスト」と呼ぶ)600は、顧客システム1000全体を統括管理し、露光装置100、トラック110、測定・検査器120、デバイス製造処理装置群900を統括制御するメインホストコンピュータである。このホスト600についても、例えばパーソナルコンピュータなどを採用することができる。ホスト600と、他の装置との間は、有線又は無線の通信ネットワーク又は専用の通信回線を通じて接続されており、コミュニケーション・サーバ150を介して、相互にデータ通信を行うことができるようになっている。このデータ通信により、ホスト600は、このシステムの統括制御を実現している。
[Host system]
A host system (hereinafter referred to as “host”) 600 is a main host computer that manages and controls the entire customer system 1000 and controls the exposure apparatus 100, the track 110, the measurement / inspection instrument 120, and the device manufacturing processing apparatus group 900. is there. For the host 600, for example, a personal computer can be employed. The host 600 and other devices are connected via a wired or wireless communication network or a dedicated communication line, and can perform data communication with each other via the communication server 150. Yes. By this data communication, the host 600 realizes overall control of this system.

[デバイス製造工程]
ホスト600の制御により行うデバイス製造工程の一例について説明する。図5に示されるように、まず、CVD装置910においてウエハ上に膜を生成し、そのウエハをC/D110に搬送し、C/D110においてそのウエハ上にレジストを塗布する(ステップS11)。
[Device manufacturing process]
An example of a device manufacturing process performed under the control of the host 600 will be described. As shown in FIG. 5, first, a film is formed on a wafer in the CVD apparatus 910, the wafer is transferred to the C / D 110, and a resist is applied on the wafer in the C / D 110 (step S11).

次に、ウエハを、測定・検査器120に搬送し、測定・検査器120において上述したような各種事前計測を行う(ステップS12)。ここで、露光装置100のパラメータの最適化を行う場合には、露光装置100は、測定・検査器120に対し、パラメータの最適化に必要なデータを転送する([1])。測定・検査器120は、露光装置100に、測定・検査結果に基づいて、パラメータを最適化し、最適化されたパラメータに関するデータを、露光装置100に送信する([2])。露光装置100は、そのデータに基づいて、パラメータの最適値を設定する。   Next, the wafer is transferred to the measurement / inspection instrument 120, and various pre-measurements as described above are performed in the measurement / inspection instrument 120 (step S12). Here, when the parameters of the exposure apparatus 100 are optimized, the exposure apparatus 100 transfers data necessary for parameter optimization to the measurement / inspection instrument 120 ([1]). The measurement / inspection device 120 optimizes parameters based on the measurement / inspection results to the exposure apparatus 100, and transmits data relating to the optimized parameters to the exposure apparatus 100 ([2]). The exposure apparatus 100 sets an optimum parameter value based on the data.

続いて、ウエハを露光装置100に搬送し、露光装置100にてレチクル上の回路パターンをウエハ上に転写する(ステップS13)。このとき、露光装置100では、計測ショット露光中の上記露光量、同期精度、フォーカストレースデータをモニタリングし、内部のメモリに記憶しておく。次に、ウエハをC/D110に搬送して、C/D110にて現像を行う(ステップS14)。   Subsequently, the wafer is transferred to the exposure apparatus 100, and the circuit pattern on the reticle is transferred onto the wafer by the exposure apparatus 100 (step S13). At this time, the exposure apparatus 100 monitors the exposure amount, synchronization accuracy, and focus trace data during measurement shot exposure and stores them in an internal memory. Next, the wafer is transferred to the C / D 110 and developed by the C / D 110 (step S14).

この後、ウエハは測定・検査器120に搬送される。そして、測定・検査器120でウエハに対する事後測定・検査が行われる(ステップS15)。ここでは、例えば、ウエハ上に形成されたレジスト像から、その線幅や重ね合わせ誤差、露光装置100の投影光学系の収差、照明ムラが測定されたり、パターン上の異物や欠陥が検査される。   Thereafter, the wafer is transferred to the measurement / inspection instrument 120. Then, the measurement / inspection device 120 performs post-measurement / inspection on the wafer (step S15). Here, for example, from the resist image formed on the wafer, its line width and overlay error, aberration of the projection optical system of the exposure apparatus 100, illumination unevenness, and foreign matter and defects on the pattern are inspected. .

測定・検査器120は、露光装置100からの情報に基づいて測定・検査結果に関する解析を行う。図5に示されるように、測定・検査器120は、解析の経過、必要に応じて、露光装置100に対し、各種データ(制御トレースデータ、パラメータ、処理結果、現在の装置の状態に関するデータ)の転送要求[1]’を発したり(露光装置100は、その要求に応じて、各種データを測定・検査器120に送る([2]’))、露光装置100に解析結果を発する([3]’)。なお、測定・検査装置120が各種データを取得した後、露光装置100は、内部に記憶するトレースデータ等を速やかに削除するようにしてもよい。   The measurement / inspection instrument 120 performs analysis on the measurement / inspection results based on information from the exposure apparatus 100. As shown in FIG. 5, the measurement / inspection instrument 120 sends various data (control trace data, parameters, processing results, and data relating to the current apparatus state) to the exposure apparatus 100 as necessary in the course of analysis. Transfer request [1] ′ (exposure apparatus 100 sends various data to measurement / inspection instrument 120 in response to the request ([2] ′)), and issues an analysis result to exposure apparatus 100 ([ 3] '). In addition, after the measurement / inspection apparatus 120 acquires various data, the exposure apparatus 100 may promptly delete the trace data stored therein.

一方、ウエハは、測定・検査器120からエッチング装置920に搬送され、エッチング装置920においてエッチングが行われ、不純物拡散、アルミ蒸着配線処理、CVD装置910にて成膜などが行われ、CMP装置930にて平坦化、酸化・イオン注入装置940でのイオン注入などが必要に応じて行われる(ステップS16)。このように、成膜・レジスト塗布(ステップS11)〜エッチング等(ステップS16)という一連のプロセスが工程数分繰り返し実行されることにより、ウエハ上に回路パターンが積層されていき、半導体デバイスが形成される(ステップS1)。   On the other hand, the wafer is transferred from the measurement / inspection instrument 120 to the etching apparatus 920, where etching is performed in the etching apparatus 920, impurity diffusion, aluminum deposition wiring processing, film formation is performed in the CVD apparatus 910, and the CMP apparatus 930 is performed. Then, planarization, ion implantation by the oxidation / ion implantation apparatus 940, and the like are performed as necessary (step S16). In this manner, a series of processes such as film formation / resist application (step S11) to etching and the like (step S16) are repeatedly executed for the number of processes, whereby circuit patterns are stacked on the wafer to form a semiconductor device. (Step S1).

繰り返し工程完了後、プロービング処理(ステップS17)、リペア処理(ステップS18)が、デバイス製造処理装置群900において実行される。このステップS17において、メモリ不良検出時は、例えば、ステップS18において、冗長回路へ置換する処理が行われる。測定・検査器120は、検出した線幅の異常が発生した箇所などの情報を、プロービング処理、リペア処理を行う装置に送るようにすることもできる。測定・検査器120では、ウエハ上の線幅異常が発生した箇所については、チップ単位で、プロービング処理、リペア処理の処理対象から除外することができる。その後、ダイシング処理(ステップS19)、パッケージング処理、ボンディング処理(ステップS20)が実行され、最終的に製品チップが完成する。なお、ステップS15の事後測定処理は、必要に応じて、ステップS16のエッチング後に行うようにしてもよい。この場合には、ウエハのエッチング像に対し線幅や重ね合わせの測定が行われることになる。   After the repetition process is completed, the probing process (step S17) and the repair process (step S18) are performed in the device manufacturing processing apparatus group 900. In step S17, when a memory failure is detected, for example, in step S18, replacement with a redundant circuit is performed. The measurement / inspection instrument 120 can also send information such as the detected location of the line width abnormality to a device that performs probing processing and repair processing. In the measuring / inspecting instrument 120, the portion where the line width abnormality has occurred on the wafer can be excluded from the processing target of the probing process and the repair process in units of chips. Thereafter, a dicing process (step S19), a packaging process, and a bonding process (step S20) are executed, and a product chip is finally completed. In addition, you may make it perform the post-measurement process of step S15 after the etching of step S16 as needed. In this case, line width and overlay measurement are performed on the etching image of the wafer.

図5に示されるウエハプロセスのフローはあくまで一例であり、その流れについて適宜変更することが可能である。例えば、事前測定・検査を必ずしも行う必要はないし、事後測定・検査処理も必ずしも行う必要はない。本実施形態では、この測定・検査器120で行われる事前測定・検査処理と、露光装置100で行われる露光処理と、測定・検査器120で行われる事後測定・検査処理との連続した処理手順を、管理コントローラ160の記憶装置64に登録しておき、管理コントローラ160が、いずれかの連携レシピファイルを選択し、その連携レシピファイルの記述内容に従って、露光装置100と、測定・検査器120とを連携動作させる。なお、このような連携動作には、以下に示すようなシーケンスが例示される。   The wafer process flow shown in FIG. 5 is merely an example, and the flow can be changed as appropriate. For example, pre-measurement / inspection is not necessarily performed, and post-measurement / inspection processing is not necessarily performed. In the present embodiment, a continuous processing procedure including a pre-measurement / inspection process performed by the measurement / inspection instrument 120, an exposure process performed by the exposure apparatus 100, and a post-measurement / inspection process performed by the measurement / inspection instrument 120. Are registered in the storage device 64 of the management controller 160, and the management controller 160 selects one of the linked recipe files, and in accordance with the description contents of the linked recipe file, the exposure apparatus 100, the measuring / inspecting instrument 120, To work together. Such a cooperative operation is exemplified by the following sequence.

(1)EGA計測の最適化シーケンス
事前測定・検査により、EGA計測を行ってウエハ上のサンプルマークを選別し、その選別結果に従って露光装置100におけるEGA計測を行うシーケンス
(2)フォーカス段差補正シーケンス
事前測定・検査により、フォーカス段差計測を行って、そのフォーカス段差を、露光装置100におけるフォーカス制御に反映するシーケンス
(3)アライメント最適化シーケンス
事後測定・検査により、重ね合わせ誤差を計測し、その計測結果に基づくアライメント関連パラメータの最適化を行い、露光装置100を調整するシーケンス
(4)露光線幅最適化シーケンス
事後測定・検査により、露光線幅を計測し、その計測結果と、制御トレースデータと、制御パラメータとに基づいて、制御パラメータの最適化を行い、露光装置100を調整するシーケンス
この他にも、測定・検査器120における測定・検査内容によって、様々なシーケンスを組むことが可能である。
(1) EGA measurement optimization sequence A sequence in which EGA measurement is performed by prior measurement / inspection to select sample marks on the wafer, and EGA measurement is performed in the exposure apparatus 100 according to the selection result. (2) Focus step correction sequence Sequence that measures focus step by measurement / inspection and reflects the focus step on focus control in exposure apparatus 100 (3) Alignment optimization sequence Measurement of overlay error by post-measurement / inspection (4) Exposure line width optimization sequence Measure exposure line width by post-measurement / inspection, the measurement result, control trace data, Control parameters and based on control parameters In addition to this, a sequence for adjusting the exposure apparatus 100 can be combined with various sequences depending on the contents of measurement / inspection in the measurement / inspection instrument 120.

上述したように、顧客システム1000において、例えば、露光装置100と測定・検査器120との間のデータ通信は、コミュニケーション・サーバ150における変換定義ファイルに定義された情報に基づくデータ変換によって実現されている。また、露光装置100と測定・検査器120との連携動作は、管理コントローラ150における連携レシピファイルに記述された処理手順によって実現されている。これらのファイルは、データ通信を行う装置の組合せごと、連携動作ごとに必要となるため、新規な露光装置や測定・検査器が顧客システム1000に導入された場合には、それに応じて新しいファイルが必要となる。   As described above, in the customer system 1000, for example, data communication between the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120 is realized by data conversion based on information defined in the conversion definition file in the communication server 150. Yes. In addition, the cooperative operation between the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120 is realized by a processing procedure described in a cooperative recipe file in the management controller 150. Since these files are required for each combination of data communication apparatuses and for each linked operation, when a new exposure apparatus or measurement / inspection instrument is introduced into the customer system 1000, a new file is created accordingly. Necessary.

ところで、ホスト600は、図1の顧客システム1000のコンピュータ端末に相当する。すなわち、ホスト600は、通信ネットワーク1500に接続されており、図1に示されるように、通信ネットワーク1500を介してライセンスサーバ2000と通信可能となっている。ホスト600は、ライセンスサーバ2000と通信を行い、露光装置100や測定・検査器120とのデータ通信や連携動作に適用する新たなデータ変換定義ファイル及び連携レシピファイルあるいは改良されたそれらファイルが含まれたファイルパッケージの情報(例えば、対応する装置などのファイルの仕様についての情報)を受信する。この情報に基づいて、顧客システム1000における装置構成が変更され(例えば、新しい露光装置や測定・検査器などが組み込まれ)、新たなファイルパッケージを購入する必要性があるとその製造ラインの責任者等が判断した場合には、顧客システム1000(ホスト600)から通信ネットワーク1500を介してライセンスサーバ2000に対して、提供価格の問い合わせを行う。この問い合わせがあると、ライセンスサーバ2000においては、問い合わせを行ったユーザを販売対象としたときの新規なファイルパッケージの提供価格の決定処理を行い、その結果を、問い合わせを行ったユーザの顧客システム1000に通知する。これをホスト600において受信し、提供価格を見た顧客(例えば、製造責任者等)は、ファイルパッケージの提供価格を評価し、それを購入すべきか否かを検討する。最終的に、ライセンスサーバ2000から新たなファイルパッケージを購入することとなった場合には、その購入の意思表示(決済)をライセンスサーバに対して行い、通信ネットワーク1500を介してライセンスサーバ2000にその転送要求を行い、ライセンスサーバ2000からファイルパッケージの配信を受ける。なお、購入したファイルパッケージについては、オンライン配信に限定されるものではなく、その配信については、光ディスクなどの記録メディアに記録し、その記録メディアを送付する方法を用いても良い。   Incidentally, the host 600 corresponds to the computer terminal of the customer system 1000 of FIG. That is, the host 600 is connected to the communication network 1500 and can communicate with the license server 2000 via the communication network 1500 as shown in FIG. The host 600 communicates with the license server 2000, and includes a new data conversion definition file and a linked recipe file that are applied to data communication and linked operations with the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120, or improved files. Received file package information (for example, information about the specification of the file of the corresponding device, etc.). Based on this information, the configuration of the apparatus in the customer system 1000 is changed (for example, a new exposure apparatus or measurement / inspection instrument is incorporated), and the person in charge of the production line needs to purchase a new file package. The customer system 1000 (host 600) inquires the license server 2000 via the communication network 1500 about the offer price. When this inquiry is made, the license server 2000 performs a process of determining a provision price of a new file package when the inquiring user is targeted for sale, and the result is determined by the customer system 1000 of the inquiring user. Notify A customer (for example, a production manager or the like) who receives this at the host 600 and looks at the provided price evaluates the provided price of the file package and considers whether or not to purchase it. Finally, when a new file package is to be purchased from the license server 2000, an intention to purchase (settlement) is sent to the license server, and the license server 2000 is notified to the license server 2000 via the communication network 1500. A transfer request is made and a file package is received from the license server 2000. Note that the purchased file package is not limited to online distribution. For the distribution, a method of recording on a recording medium such as an optical disk and sending the recording medium may be used.

ホスト600は、配信されたファイルパッケージを解凍し、解凍された変換定義ファイルをコミュニケーション・サーバ150に送付し、解凍された連携レシピファイルを、管理コントローラ160に送付する。コミュニケーション・サーバ150は、新規な変換定義ファイル、変換レシピファイルを受信すると、その変換定義ファイルを、変換定義ファイル登録部54に登録するとともに、それに応じた変換レシピファイルを作成し、変換レシピファイル55に登録する。管理コントローラ160は、連携レシピファイルを受信すると、その連携レシピファイルを、記憶装置64に登録する。   The host 600 decompresses the distributed file package, sends the decompressed conversion definition file to the communication server 150, and sends the decompressed cooperative recipe file to the management controller 160. When the communication server 150 receives the new conversion definition file and conversion recipe file, the communication server 150 registers the conversion definition file in the conversion definition file registration unit 54, creates a conversion recipe file corresponding to the conversion definition file, and converts the conversion recipe file 55. Register with. Upon receiving the cooperative recipe file, the management controller 160 registers the cooperative recipe file in the storage device 64.

[ライセンスサーバ]
ライセンスサーバ2000は、例えば、上記データ変換機能や連携動作制御機能を提供する装置製造メーカの工場内に設置されたサーバであって、半導体メーカ等の顧客側システムに設置される露光装置100に搭載する変換定義ファイル又は連携レシピファイルの管理、バージョンアップ及び新たな変換定義ファイル又は連携レシピファイルの販売、供給等を行うサーバである。より具体的には、ライセンスサーバ2000は、各顧客システム1000から製品価格の問い合わせ要求がきた場合、購入対象製品のライセンス情報、及びライセンスサーバに登録された該当顧客のライセンス情報から求められたカウント数に基づき割引率(特典)を決定し、顧客に販売価格を通知したり、その製品を、顧客システム1000に供給したりする。
[License server]
The license server 2000 is, for example, a server installed in a factory of an apparatus manufacturer that provides the data conversion function and the cooperative operation control function, and is installed in the exposure apparatus 100 installed in a customer-side system such as a semiconductor manufacturer. This is a server that manages conversion definition files or linked recipe files to be upgraded, upgrades, and sells and supplies new conversion definition files or linked recipe files. More specifically, when the license server 2000 receives a product price inquiry request from each customer system 1000, the count number obtained from the license information of the product to be purchased and the license information of the customer registered in the license server. The discount rate (privilege) is determined based on the information, the customer is notified of the sales price, and the product is supplied to the customer system 1000.

ライセンスサーバ2000は、顧客ライセンス管理処理部310と、使用状況管理処理部320と、販売条件設定処理部330と、データベースシステム340と、制限設定部350と、送受信部360と、配信部370と、ファイルパッケージ380とを含んで構成されている。   The license server 2000 includes a customer license management processing unit 310, a usage status management processing unit 320, a sales condition setting processing unit 330, a database system 340, a restriction setting unit 350, a transmission / reception unit 360, a distribution unit 370, A file package 380 is included.

[データベースシステム]
まず、データベースシステム340の構成について説明する。データベースシステム340は、相互に関連するデータを整理・統合し、検索しやすくした複数のデータベースから構成されるシステムである。データベースシステム340は、顧客ライセンス管理データベース341と、販売条件:カウント数設定データベース342と、使用状況監視データベース343と、販売条件:割引率設定データベース344を有している。
[Database system]
First, the configuration of the database system 340 will be described. The database system 340 is a system composed of a plurality of databases that organize and integrate mutually related data to facilitate searching. The database system 340 includes a customer license management database 341, a sales condition: count number setting database 342, a usage status monitoring database 343, and a sales condition: discount rate setting database 344.

[顧客ライセンス管理データベース]
顧客ライセンス管理データベース341は、顧客ライセンスを管理するデータベースである。顧客ライセンス管理データベース341は、顧客が過去に購入したソフトウエア(ライセンス)について、使用条件等を含む情報を購入履歴情報として蓄積したデータベースである。顧客ライセンスは、顧客ごと(例えば図1の顧客A、B、C)、製品ごとに付与される。また、顧客によっては、同じ製品を、複数購入する場合もあるため、その場合には、顧客ライセンスは、同じ顧客、同じ製品に対して、複数のライセンス番号が付与される。結果的に、顧客ライセンス管理データベース341では、顧客ごと、製品名、ライセンス番号ごとに、顧客ライセンスが管理されている。
[Customer License Management Database]
The customer license management database 341 is a database for managing customer licenses. The customer license management database 341 is a database in which information including usage conditions and the like is stored as purchase history information for software (licenses) purchased by the customer in the past. The customer license is granted for each customer (for example, customers A, B, and C in FIG. 1) and for each product. Also, depending on the customer, a plurality of the same products may be purchased. In that case, a plurality of license numbers are given to the customer license for the same customer and the same product. As a result, the customer license management database 341 manages customer licenses for each customer, product name, and license number.

顧客ライセンスの管理内容は、そのライセンスにおける販売時に交された契約内容(契約条件)や、変換定義ファイル、連携レシピファイルの使用条件(制約条件)や、付帯条件(カスタム対応、カスタマーサービス)や、使用実績(使用量)監視条件の4つの条件に大別される。顧客ライセンス管理データベース341は、これらの4つの条件の設定が、ON(設定有)であるかOFF(設定無)であるかという形態で登録されている。   The management contents of the customer license include the contract contents (contract conditions) exchanged at the time of sale with the license, the use conditions (constraint conditions) of the conversion definition file and linkage recipe file, the incidental conditions (custom support, customer service), It is roughly divided into four conditions of usage record (use amount) monitoring condition. The customer license management database 341 is registered in the form of whether the setting of these four conditions is ON (with setting) or OFF (without setting).

図7には、顧客ライセンス管理データベース341の管理内容が表形式で示されている。図7に示されるように、顧客ライセンス管理データベース341では、キーとして、(顧客ID、製品名、ライセンス番号)が登録されている。そして、そのキーごと、すなわち顧客ID(A、B)、製品名(CnvDLL01、CnvDLL02)、ライセンス番号(A0001、A0002、B0001)ごとに、制約条件、契約条件、監視する使用量の各項目が設けられ、ON、OFFの設定がなされている。   FIG. 7 shows the management contents of the customer license management database 341 in a table format. As shown in FIG. 7, in the customer license management database 341, (customer ID, product name, license number) is registered as a key. For each key, that is, for each customer ID (A, B), product name (CnvDLL01, CnvDLL02), and license number (A0001, A0002, B0001), there are provided items of constraint conditions, contract conditions, and usage to be monitored. ON and OFF are set.

より具体的には、図7では、販売時の契約内容の項目として、アップグレードサービスを受けることができるアップグレードライセンスが示されている。また、制約条件の項目として、使用期間、使用期限、データを変換する変換時間の上限、データを変換する変換回数の上限、ファイル入出力回数の上限、CPU処理時間の上限、使用不可とする機能の有無が示されている。また、付帯条件としては、カスタム対応、カスタマーサービスなどが示されている。カスタム対応の例としては、特定なユーザに対する測定・検査器120における特別な測定・検査シーケンスや、データ処理などを実現することができる機能の付加、カスタマーサービスとしては、各種装置に関する情報の随時提供、トラブルサポート、運用コンサルティングなどの特定のユーザに対する付加的なサービスがある。また、監視する使用量として、変換時間、変換回数、ファイル入出力回数、CPU処理時間、各機能の使用回数が示されている。ここで、データの変換時間、変換回数、変換量には、それぞれファイルフォーマット/通信メッセージ/通信プロトコルで別個に制約条件を設定することが可能である。   More specifically, FIG. 7 shows an upgrade license that can receive an upgrade service as an item of contract contents at the time of sale. In addition, as a restriction condition item, use period, expiration date, upper limit of conversion time for data conversion, upper limit of conversion number of data conversion, upper limit of file input / output times, upper limit of CPU processing time, function to disable use The presence or absence of is shown. Further, as ancillary conditions, custom correspondence, customer service, and the like are shown. Examples of custom support include special measurement / inspection sequences in the measurement / inspection instrument 120 for specific users, the addition of functions that can implement data processing, etc., and customer service as needed to provide information on various devices There are additional services for specific users, such as trouble support and operational consulting. In addition, conversion time, conversion count, file input / output count, CPU processing time, and usage count of each function are shown as usage amounts to be monitored. Here, it is possible to set constraint conditions for the data conversion time, the number of conversions, and the conversion amount separately for each file format / communication message / communication protocol.

さらに、図7では、データ通信や連携動作を行う装置の種別(露光装置100、測定・検査器120、プローバ、リペア装置など)、データ通信や連携動作を行う装置の数、データ通信や連携動作を行う装置の組合せなども制約条件として設定されている。また、測定・検査器120で行う測定・検査内容の限定(上述した、事前計測検査、事後測定・検査内容として例示したものの一部の実行を制限する)なども制約条件として設定されている。   Further, in FIG. 7, types of apparatuses that perform data communication and cooperative operations (exposure apparatus 100, measurement / inspection instrument 120, prober, repair apparatus, etc.), the number of apparatuses that perform data communication and cooperative operations, data communication and cooperative operations. Combinations of devices that perform the above are also set as constraint conditions. Further, the limitation of measurement / inspection content performed by the measurement / inspection instrument 120 (restricting the execution of the above-described examples of the pre-measurement inspection and the post-measurement / inspection content) is set as a constraint condition.

また、使用量としては、装置の通信時間、通信回数、通信データ量、測定・検査器120での測定・検査結果のデータ量や、データ種別(計測したサンプルマーク数、ショット数、ウエハ数、ロット数など)毎のデータ量も項目として例示される。また、事前測定・検査結果に基づく測定・検査器120から露光装置100へのフィードフォワード補正回数、フィードバック補正回数、フィードフォワード補正データ量、フィードバック補正データ量などを使用量の項目とすることができる。   In addition, as the usage amount, the communication time of the apparatus, the number of communication times, the communication data amount, the data amount of the measurement / inspection result in the measurement / inspection instrument 120, the data type (measured sample mark number, shot number, wafer number, The amount of data for each lot) is also exemplified as an item. In addition, the number of feed-forward corrections, the number of feedback corrections, the amount of feed-forward correction data, the amount of feedback correction data, etc. from the measurement / inspection device 120 to the exposure apparatus 100 based on the pre-measurement / inspection results can be used. .

顧客ライセンス管理データベース341の設定内容は、販売条件設定処理部310により、ファイルパッケージの販売価格を決定する処理を行う際に参照される。また、顧客ライセンス管理データベース341の内容は、ファイルパッケージのライセンスが販売される毎に、顧客ライセンス管理処理部310により更新される。   The setting contents of the customer license management database 341 are referred to when the sales condition setting processing unit 310 performs processing for determining the sales price of the file package. The contents of the customer license management database 341 are updated by the customer license management processing unit 310 every time a file package license is sold.

[販売条件:カウント数設定データベース]
販売条件:カウント数設定データベース342は、販売条件と、その販売条件としての販売価格を算出するための値引きのカウント数とを対応づけて登録するデータベースである。より具体的には、販売条件:カウント数設定データベース342は、製品ごとの使用条件等の条件内容、及び、その条件内容に対する値引きのカウント数が記録されたデータベースである。
[Sales conditions: Count setting database]
Sales condition: count number setting database 342 is a database for registering sales conditions and discount counts for calculating sales prices as sales conditions in association with each other. More specifically, the sales condition: count number setting database 342 is a database in which condition contents such as use conditions for each product and the discount count number for the condition contents are recorded.

図8には、販売条件:カウント数設定データベース342の登録内容の一例がされている。図8に示されるように、販売条件:カウント数設定データベース342には、製品ごとに、1ライセンスあたりのカウント数、アップグレードライセンスカウント数、各制約条件のカウント数、カスタム対応とカスタマーサービスのカウント数、各使用量の単位時間及び単位回数あたりのカウント数が設定されている。   FIG. 8 shows an example of registered contents of the sales condition: count number setting database 342. As shown in FIG. 8, the sales condition: count number setting database 342 includes, for each product, a count number per license, an upgrade license count number, a count number for each constraint, a custom correspondence and a customer service count number. In addition, a unit time for each usage amount and a count number per unit number of times are set.

製品ごとの設定内容は、顧客ライセンス管理データベース341の項目と対応しており、そのカウント数は、その特典又は制約条件などの販売条件に対するその製品での値引き度合を示している。例えば、「アップグレードライセンスとして2年間無償で最新バージョンアップ」、「使用期間として3年間」、「使用期限として2006年12月まで」、「データ変換時間上限として10000時間」、「データ変換時間回数上限として3000回」、「ファイル入出力回数上限として10000回」、「CPU処理時間上限として5000時間」、「使用禁止とする機能として“レポートファイル出力機能”」、「カスタム対応として顧客ごとの計測結果ファイル形式読み込み対応」、あるいは、「カスタマーサービスとして1年間の無償オンラインサポート」というような、製品ごとの販売条件に対して付与されるカウント数が設定される。   The setting contents for each product correspond to the items in the customer license management database 341, and the count number indicates the discount rate of the product with respect to the sales conditions such as the privilege or the constraint condition. For example, “Upgrade version is free for 2 years as an upgrade license”, “3 years as a usage period”, “Up to December 2006 as a usage period”, “10000 hours as a data conversion time limit”, “Maximum number of data conversion times” As 3,000 times ”,“ file input / output upper limit as 10,000 times ”,“ CPU processing time as upper limit as 5000 hours ”,“ prohibited function “report file output function” ”,“ custom measurement results for each customer ” A count number assigned to the sales conditions for each product such as “reading file format” or “one year free online support as customer service” is set.

また、販売条件:カウント数設定データベース342には、モニタリング(監視)対象の使用量の項目については、カウント数に換算する際の単位が製品ごとに設定される。例えば、「データ変換の単位時間として1000時間」、「データ変換の単位回数として1000回」、「ファイル入出力単位回数として3000回」、「CPU処理単位時間として1000時間」、あるいは、「各機能の使用単位回数として5000回」というような使用量の1単位を表すカウント数が、製品ごとに設定されるようになる。   In addition, in the sales condition: count number setting database 342, the unit used for conversion to the count number is set for each product for the amount of monitoring target usage. For example, “1000 hours as the unit time of data conversion”, “1000 times as the unit number of data conversion”, “3000 times as the number of file input / output units”, “1000 hours as the CPU processing unit time”, or “each function A count number representing one unit of the usage amount is set for each product, such as “5000 times as the number of usage units”.

さらに、図8に示されるように、販売条件:カウント数設定データベース342には、この他にも、使用量として、装置の通信時間、通信回数、通信データ量、測定・検査器120での測定・検査結果のデータ量や、データ種別(計測したサンプルマーク数、ショット数、ウエハ数、ロット数など)毎のデータ量も項目として例示されている。また、事前測定・検査結果に基づく測定・検査器120から露光装置100へのフィードフォワード補正回数、フィードバック補正回数、フィードフォワード補正データ量、フィードバック補正データ量などを使用量の項目とすることができる。   Further, as shown in FIG. 8, the sales condition: count number setting database 342 also includes, as the usage amount, the communication time of the device, the number of communication times, the communication data amount, and the measurement by the measurement / inspection instrument 120. The data amount of the inspection result and the data amount for each data type (measured sample mark number, shot number, wafer number, lot number, etc.) are also exemplified as items. In addition, the number of feed-forward corrections, the number of feedback corrections, the amount of feed-forward correction data, the amount of feedback correction data, etc. from the measurement / inspection device 120 to the exposure apparatus 100 based on the pre-measurement / inspection results can be used. .

販売条件:カウント数設定データベース342の内容は、購入実績、使用条件に対するカウント数を求めるために参照される。すなわち、顧客ライセンス管理データベース341を参照して検出した各顧客が購入した変換定義ファイル及び連携レシピファイル(ライセンス)に設定されている各制約条件の項目の内容に対するカウント数が、販売条件:カウント数設定データベース342を参照して検出される。なお、販売条件:カウント数設定データベース342に記憶されている製品ごとの販売条件の条件内容と、その条件内容に対するカウント数とは、ライセンスサーバ2000に接続された不図示のコンピュータ端末等を介して、装置製造メーカ側のオペレータ等により予め入力されている。   The contents of the sales condition: count number setting database 342 are referred to in order to obtain the purchase record and the count number for the use condition. That is, the count number for the content of each constraint condition item set in the conversion definition file and the linked recipe file (license) purchased by each customer detected with reference to the customer license management database 341 is the sales condition: count number It is detected with reference to the setting database 342. Note that the sales condition: the condition content of the sales condition for each product stored in the count number setting database 342 and the count number for the condition content are transmitted via a computer terminal (not shown) connected to the license server 2000. It is input in advance by an operator of the apparatus manufacturer.

[使用状況監視データベース]
使用状況監視データベース343は、各ライセンスのモニタリング(監視)対象の使用量項目ごとに、モニタ結果の使用量に基づくカウント数を記録するデータベースである。ライセンスごとの使用量は、後述する使用状況管理処理部320により適宜モニタされる。使用状況管理処理部320は、販売条件:カウント数設定データベース342に設定されている各使用量の単位時間あるいは単位回数あたりのカウント数を参照して、モニタ値をカウント数に換算し、使用状況管理データベース343に記憶する。図9には、使用状況管理データベース343に蓄積されている情報の一例が示されている。図9に示されるように、使用状況監視データベース343には、顧客のID、製品名及びライセンス番号ごと(すなわちライセンスごと)に、データ変換時間、データ変換回数、ファイル入出力回数、CPU処理時間及び各機能の使用回数の使用量が、カウント数に換算されて記憶される。
Usage monitoring database
The usage status monitoring database 343 is a database that records the count number based on the usage amount of the monitoring result for each usage amount item to be monitored (monitored) of each license. The usage amount for each license is appropriately monitored by a usage status management processing unit 320 described later. The usage status management processing unit 320 refers to the count per unit time or unit count of each usage amount set in the sales condition: count number setting database 342, converts the monitor value into the count number, and uses the usage status. Store in the management database 343. FIG. 9 shows an example of information stored in the usage status management database 343. As shown in FIG. 9, the usage monitoring database 343 includes data conversion time, data conversion count, file input / output count, CPU processing time, and the like for each customer ID, product name, and license number (that is, for each license). The usage amount of each function is converted into a count number and stored.

また、図9に示されるように、使用量としては、装置の通信時間、通信回数、通信データ量、測定・検査器120での測定・検査結果のデータ量や、データ種別(計測したサンプルマーク数、ショット数、ウエハ数、ロット数など)毎のデータ量の換算カウント数の項目として例示される。また、事前測定・検査結果に基づく測定・検査器120から露光装置100へのフィードフォワード補正回数、フィードバック補正回数、フィードフォワード補正データ量、フィードバック補正データ量などを使用量の換算カウント数の項目とすることができる。   Further, as shown in FIG. 9, the usage amount includes the communication time of the apparatus, the number of communication times, the communication data amount, the data amount of the measurement / inspection result in the measurement / inspection instrument 120, and the data type (measured sample mark). (Number of shots, number of wafers, number of wafers, number of lots, etc.). Further, the number of feed forward corrections, the number of feedback corrections, the amount of feed forward correction data, the amount of feedback correction data, etc. from the measurement / inspection device 120 to the exposure apparatus 100 based on the prior measurement / inspection results are used as the conversion count number of the usage amount. can do.

販売条件:割引率設定データベース344は、算出されたカウント数の累積値と、その顧客がファイルパッケージのライセンスを購入する(バージョンアップする)時の得点とが登録されているデータベースである。販売条件:割引率設定データベース344は、2つのテーブルから構成される。1つは、累積カウント数ごとの割引のレベルが登録された割引レベルテーブルであり、もう1つは、各製品の割引レベルごとの割引率(特典)が登録された割引率テーブルである。図10(A)、図10(B)には、割引レベルテーブルと、割引率テーブルの登録例が示されている。   Sales condition: Discount rate setting database 344 is a database in which the cumulative value of the calculated count number and the score when the customer purchases (upgrades) the license of the file package are registered. Sales conditions: Discount rate setting database 344 is composed of two tables. One is a discount level table in which the discount level for each cumulative count is registered, and the other is a discount rate table in which the discount rate (privilege) for each product discount level is registered. 10A and 10B show registration examples of a discount level table and a discount rate table.

図10(A)に示される例では、割引レベルが4段階に設定されている。2つのテーブルの登録内容は、ライセンスサーバ2000の不図示の端末装置等を介して、オペレータ等により予め入力されている。なお、この割り引きレベルの段階は幾つであってもよいし、割引レベルや割引率は、例えば、演算結果が累積カウント数に比例するような演算式を用いて求められるようにしてもよい。   In the example shown in FIG. 10A, the discount level is set in four stages. The registered contents of the two tables are input in advance by an operator or the like via a terminal device (not shown) of the license server 2000 or the like. Note that there may be any number of discount level stages, and the discount level and the discount rate may be obtained, for example, using an arithmetic expression in which the calculation result is proportional to the cumulative count.

[顧客ライセンス管理処理部]
顧客ライセンス管理処理部310は、顧客、製品、ライセンス番号ごと(すなわちライセンスごと)に、販売されたファイルパッケージのライセンスの販売時契約条件、制約条件、付帯条件、使用状況監視の設定の有無の情報を、顧客ライセンス管理データベース341に登録する。
[Customer license management processing section]
The customer license management processing unit 310 provides information on the presence / absence of setting of the contract condition at the time of sale of the license of the file package sold, the constraint condition, the incidental condition, and the usage monitoring for each customer, product, and license number. Are registered in the customer license management database 341.

[使用状況管理処理部]
使用状況管理処理部320は、ライセンスごとに使用量をモニタ(監視)し、これをカウント数に換算して使用状況監視データベース343に登録する。使用状況管理処理部320における使用量の監視は、データ変換時間、データ変換回数、ファイル入出力回数、CPU処理時間及び各機能の使用回数等について行う。カウント数への換算は、販売条件:カウント数設定データベース342に記憶されている使用量項目ごとの単位時間、単位回数あたりのカウント数等を参照して行われる。
[Usage status management processing section]
The usage status management processing unit 320 monitors (monitors) the usage amount for each license, converts this into a count number, and registers it in the usage status monitoring database 343. The usage amount management processing unit 320 monitors the usage amount with respect to data conversion time, data conversion count, file input / output count, CPU processing time, usage count of each function, and the like. Conversion to the count number is performed with reference to the sales condition: unit time for each usage item stored in the count number setting database 342, the count number per unit number, and the like.

[販売条件設定処理部]
販売条件設定処理部330は、顧客にファイルパッケージのライセンスを販売する際に、使用条件等の種々の要因を勘案して割引率等の特典を決定し、販売価格等の販売条件を決定する。販売条件設定処理部330は、顧客ライセンス管理データベース341及び販売条件:カウント数設定データベース342を参照して、購入実績、使用条件(使用制約条件)及び販売時契約条件の種々の項目に対するカウント数を検出する。また、販売条件設定処理部330は、使用状況監視データベース343及び販売条件:カウント数設定データベース342を参照して、使用実績に対するカウント数を検出する。販売条件設定処理部330は、これらの検出したカウント数を合計し、さらに、販売条件:カウント数設定データベース342を参照して、販売対象のファイルパッケージのライセンスの種類や数に対応するカウント数を加えて累積カウント数を算出する。販売条件設定処理部330は、累積カウント数に基づいて、販売条件:割引率設定データベース344を参照し、最終的なファイルの提供価格(特典)を決定する。
[Sales condition setting processing section]
When selling the license for the file package to the customer, the sales condition setting processing unit 330 determines a privilege such as a discount rate in consideration of various factors such as use conditions and determines a sales condition such as a sales price. The sales condition setting processing unit 330 refers to the customer license management database 341 and the sales condition: count number setting database 342, and calculates the count numbers for various items of purchase results, use conditions (use constraint conditions), and sales contract conditions. To detect. In addition, the sales condition setting processing unit 330 refers to the usage status monitoring database 343 and the sales condition: count number setting database 342 to detect the count number for the usage record. The sales condition setting processing unit 330 totals these detected count numbers, and further refers to the sales condition: count number setting database 342 to determine the count number corresponding to the type and number of licenses of the file package to be sold. In addition, the cumulative count is calculated. The sales condition setting processing unit 330 refers to the sales condition: discount rate setting database 344 based on the accumulated count number, and determines the final offer price (privilege) of the file.

[販売フロー]
次に、本実施形態に係るネットワークシステム3000を用いた変換定義ファイル及び連携レシピファイルのライセンス販売処理の流れについて説明する。ここでは、この販売価格の決定処理を中心に、変換定義ファイル、連携レシピファイルの販売(バージョンアップ)の流れを説明する。図11に示されるように、まず、ソフトウエア提供者(装置製造メーカ)は、新しいファイルパッケージを販売しようとする場合、そのファイルパッケージに関する情報を、例えば、通信ネットワーク1500を介して顧客システム1000に配信する(ステップ501)。顧客システム1000の各顧客は、自らの顧客システム1000に配信されたその情報に基づいて、ファイルパッケージの購入あるいはバージョンアップを検討し、必要に応じてより詳細な情報及び価格の情報等の提供を求めて、通信ネットワーク1500を介してライセンスサーバ2000に対して問い合わせを行う(ステップ503)。以下、そのような問い合わせに販売価格の問い合わせが含まれていた場合に、図12のフローチャートで示されるライセンスサーバ2000の販売決定設定処理部330において価格決定処理(ステップ505)が開始される。
[Sales flow]
Next, the flow of the license sales process for the conversion definition file and the linked recipe file using the network system 3000 according to the present embodiment will be described. Here, the flow of the sales (version upgrade) of the conversion definition file and the linked recipe file will be described focusing on the process of determining the sales price. As shown in FIG. 11, first, when a software provider (device manufacturer) intends to sell a new file package, information about the file package is sent to the customer system 1000 via the communication network 1500, for example. Distribute (step 501). Each customer of the customer system 1000 considers purchase or version upgrade of the file package based on the information distributed to the customer system 1000 and provides more detailed information and price information as necessary. In response, an inquiry is made to the license server 2000 via the communication network 1500 (step 503). Hereinafter, when the inquiry includes a sales price inquiry, the price determination process (step 505) is started in the sales determination setting processing unit 330 of the license server 2000 shown in the flowchart of FIG.

図12に示されるように、まず、ライセンス・サーバ2000は、顧客システム1000からの価格問い合わせを受け取ると、ステップ401において、顧客ライセンス管理データベース341(図7参照)から、顧客が過去に購入した分のファイルパッケージのライセンスの情報である購入履歴情報をロードする。顧客ライセンス管理データベース341には、前述のとおり、顧客ID、製品名、ライセンス番号ごとに、アップグレードライセンス、前記各制約条件、付帯条件(カスタム対応、カスタマーサービス)、各使用量監視の設定が登録されている。   As shown in FIG. 12, first, when the license server 2000 receives a price inquiry from the customer system 1000, in step 401, the license server 2000 stores the past purchase amount from the customer license management database 341 (see FIG. 7). The purchase history information that is the license information of the file package is loaded. In the customer license management database 341, as described above, for each customer ID, product name, and license number, the upgrade license, each restriction condition, incidental condition (custom support, customer service), and each usage monitoring setting are registered. ing.

次のステップ403では、購入履歴情報の制約条件の情報を参照し、顧客の所有する各ライセンスに何らかの制約条件があるか否かを判断する。制約条件がある場合には、この判断が肯定されると、ステップ405において、販売条件:カウント数設定データベース342(図8参照)から、該当顧客の各製品の制約条件設定情報をロードし、その顧客が所有する(ONに設定されている)各製品の制約条件ごとのカウント数を読み出し、全制約条件についてのカウント数の合計を算出する。   In the next step 403, it is determined whether or not there is any restriction condition for each license owned by the customer by referring to the restriction condition information of the purchase history information. If there is a constraint condition, if this determination is affirmed, in step 405, the constraint condition setting information of each product of the customer is loaded from the sales condition: count number setting database 342 (see FIG. 8), The count number for each constraint condition of each product owned by the customer (set to ON) is read, and the total count number for all constraint conditions is calculated.

次のステップ407では、販売決定設定処理部330は、ロードされた購入履歴情報を再度参照し、顧客の所有する各ライセンスに何らかの使用量を監視する設定がなされているか否かを判断する。使用量監視の設定がされている場合は、ステップ409において、図9に例示した使用状況監視データベース343から、その顧客の各ライセンスの監視対象の使用量に対するカウント数換算値をロードし、その顧客の各ライセンスの全使用量に対するカウント数の合計を算出する。   In the next step 407, the sales decision setting processing unit 330 refers again to the loaded purchase history information, and determines whether or not each license owned by the customer is set to monitor some usage amount. When the usage amount monitoring is set, in step 409, the count number conversion value for the usage amount of the monitoring target of each license of the customer is loaded from the usage state monitoring database 343 illustrated in FIG. The total number of counts for the total usage of each license is calculated.

次のステップ411では、カスタム対応が有るか否かを、ロードされた購入履歴情報を再度参照して判断する。この判断が肯定された場合にのみステップ413において、販売決定設定処理部330は、販売条件:カウント数設定データベース342より、該当顧客の各製品のカスタム対応情報をロードし、カウント数の合計を算出する。   In the next step 411, it is determined whether or not there is a custom correspondence by referring again to the loaded purchase history information. Only when this determination is affirmed, in step 413, the sales decision setting processing unit 330 loads the custom correspondence information of each product of the customer from the sales condition: count number setting database 342, and calculates the total number of counts. To do.

次のステップ415では、カスタマーサービスが有るか否かを、ロードされた購入履歴情報を再度参照して判断する。この判断が肯定された場合にのみステップ417において、販売条件:カウント数設定データベースより、該当顧客の各製品のカスタマーサービス情報をロードし、カウント数の合計を算出する。   In the next step 415, it is determined whether or not there is customer service by referring again to the loaded purchase history information. Only when this determination is affirmed, in step 417, the customer service information of each product of the corresponding customer is loaded from the sales condition: count number setting database, and the total number of counts is calculated.

次のステップ419では、該当顧客の各製品について、ライセンスのカウント数、制約条件のカウント数、使用量のカウント数、及び、カスタム対応とカスタマーサービスのカウント数の合計を算出し、累積カウント数とする。   In the next step 419, for each product of the customer, the license count, the constraint count, the usage count, and the total of the custom response and customer service count are calculated, and the cumulative count To do.

次のステップ421では、ライセンスサーバ2000は、新規購入ライセンスの合計カウント数に、上記累積カウント数を加算した値に基づいて、販売条件:割引率設定データベース344より割引率を導出し、新規購入ライセンスの販売価格を算出する。   In the next step 421, the license server 2000 derives a discount rate from the sales condition: discount rate setting database 344 based on a value obtained by adding the cumulative count number to the total count number of the newly purchased license. Calculate the selling price of.

販売価格を算出したら、次のステップ423(図11のステップ507)において、送受信部360を介して、算出した新規購入するファイルパッケージのライセンスの販売価格を、通信ネットワーク1500を介して顧客システム1000に通知し、処理を終了する。   When the sales price is calculated, in the next step 423 (step 507 in FIG. 11), the calculated sales price of the newly purchased file package license is sent to the customer system 1000 via the communication network 1500 via the transmission / reception unit 360. Notify and finish the process.

図11に戻り、顧客は、通知された価格について、新規なファイルパッケージを購入するか否かを検討し、購入する場合には、その旨の通知を、ライセンスサーバ2000に通知する(ステップ509)。ライセンス・サーバ2000の制限設定部350は、ファイルパッケージの各変換定義ファイルのヘッダ部に、制約条件に関する情報を書き込む(ステップ511)。ライセンスサーバ2000は、通信ネットワーク1500を介して、ファイルパッケージを、顧客システム1000に配信する(ステップ513)。   Returning to FIG. 11, the customer considers whether or not to purchase a new file package for the notified price, and if so, notifies the license server 2000 of a notification to that effect (step 509). . The restriction setting unit 350 of the license server 2000 writes information on the constraint condition in the header part of each conversion definition file of the file package (step 511). The license server 2000 distributes the file package to the customer system 1000 via the communication network 1500 (step 513).

顧客システム1000のホスト600は、配信されたファイルパッケージを解凍し、そのうち、連携レシピファイルを、管理コントローラ160に送り、変換定義ファイルを、コミュニケーション・サーバ150に送る。管理コントローラ160は、連携レシピファイルを、それを記憶装置64に登録し、コミュニケーション・サーバ150は、変換定義ファイルを、変換定義ファイル登録部54に登録するとともに、その変換定義ファイルを呼び出すための変換レシピファイルを作成し、それを変換レシピファイル登録部55に登録する。   The host 600 of the customer system 1000 decompresses the distributed file package, of which the cooperative recipe file is sent to the management controller 160 and the conversion definition file is sent to the communication server 150. The management controller 160 registers the cooperative recipe file in the storage device 64, and the communication server 150 registers the conversion definition file in the conversion definition file registration unit 54 and converts the call for the conversion definition file. A recipe file is created and registered in the conversion recipe file registration unit 55.

この後、コミュニケーション・サーバ150は、必要に応じて、新規な変換定義ファイルを参照して、データ変換を行う。また、管理コントローラ160は、必要に応じて、新規な連携レシピファイルを参照して、各種デバイス製造処理装置を連携動作させる。   Thereafter, the communication server 150 performs data conversion with reference to a new conversion definition file as necessary. Further, the management controller 160 refers to a new cooperative recipe file as needed, and causes various device manufacturing processing apparatuses to perform a cooperative operation.

前述のように、この変換定義ファイル又は連携レシピファイルには、制約条件に関する情報がヘッダ部に記述されている。コミュニケーション・サーバ150及び管理コントローラ160は、この変換定義ファイル又は連携レシピファイルを適用参照する際には、まず、このヘッダ部に記述されている制約条件を解析し、それらのファイルが制約条件に抵触するか、すなわち使用不可であるか否かを判断し、使用不可である場合には、オペレータに注意を促すような警告を発する。   As described above, in the conversion definition file or the linked recipe file, information on the constraint condition is described in the header portion. When the communication server 150 and the management controller 160 apply and refer to the conversion definition file or the linkage recipe file, the communication server 150 and the management controller 160 first analyze the constraint conditions described in the header part, and those files conflict with the constraint conditions. That is, it is determined whether or not it is unusable, and if it is unusable, a warning is issued to call the operator's attention.

なお、制約条件については、変換定義ファイルや連携レシピファイル自体のヘッダ部にその情報を含ませておく他、それらのファイルパッケージに、連携レシピファイルや、変換定義ファイルの他に、ライセンス情報が記述されたライセンスファイルを含ませておき、コミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160が、そのライセンスファイルを参照することによって制約を実現するようにしてもよい。また、ファイルパッケージの供給と同時にUSBプロテクトキーを顧客に配布し、USBプロテクトキー内に制約条件に関する情報を含ませておき、サーバ通信機能や連携動作制御機能は、制約条件となった制約を実現するようにしてもよい。   Regarding the constraint conditions, the information is included in the header part of the conversion definition file and the linked recipe file itself, and the license information is described in the file package in addition to the linked recipe file and the conversion definition file. The license file may be included, and the restriction may be realized by the communication server 150 or the management controller 160 referring to the license file. In addition, the USB protect key is distributed to customers at the same time as the file package is supplied, and information on the constraint conditions is included in the USB protect key, and the server communication function and cooperative operation control function realize the constraints that have become the constraint conditions. You may make it do.

また、コミュニケーション・サーバ150又は管理コントローラ160は、変換定義ファイル及び連携レシピファイルの使用状況を監視して、ホスト600を介してライセンスサーバ2000に通知している。   Further, the communication server 150 or the management controller 160 monitors the usage status of the conversion definition file and the linked recipe file, and notifies the license server 2000 via the host 600.

以上詳細に述べたように、本実施形態によれば、コミュニケーション・サーバ150は、2以上のデバイス製造処理装置の間を接続し、いずれかの装置から送信されるデータを、そのデータの送信元のデバイス製造処理装置に適合させて受信し、受信した情報を送信先のデバイス製造処理装置に適合させて通信するサーバであり、本実施形態では、このデータ変換機能の支援情報として、送信元のデバイス製造処理装置から受信した情報を、送信元のデバイス製造処理装置に適合した情報に変換するために用いられる変換定義ファイルを、ライセンスサーバ2000からコミュニケーション・サーバ150に提供する。   As described above in detail, according to the present embodiment, the communication server 150 connects two or more device manufacturing processing apparatuses, and transmits data transmitted from any of the apparatuses to the data transmission source. In this embodiment, as the support information of the data conversion function, the information of the transmission source is received. The license server 2000 provides the communication server 150 with a conversion definition file used to convert information received from the device manufacturing processing apparatus into information suitable for the device manufacturing processing apparatus of the transmission source.

すなわち、本実施形態によれば、データ変換機能を実行するコミュニケーション・サーバ150が複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するためのデータ変換機能を実行するために用いる変換定義ファイルを、そのコミュニケーション・サーバ150が読み込み可能な形態で、コミュニケーション・サーバ150とは別に提供するので、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作が変更されても、コミュニケーション・サーバ150の共通のデータ変換機能で、変換定義ファイルを変更するだけで、その処理動作を支援することが可能となるとともに、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作の変更サイクルが短くなったとしても、その変更に合わせた変換定義ファイルを安価に供給することができる。   That is, according to the present embodiment, the communication server 150 that executes the data conversion function uses the conversion definition file used to execute the data conversion function for supporting the processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses. Since the communication server 150 is provided in a readable form and separately from the communication server 150, even if the processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses is changed, the common data conversion function of the communication server 150 By simply changing the conversion definition file, it is possible to support the processing operation, and even if the change cycle of processing operation across multiple device manufacturing processing devices is shortened, the conversion definition file that matches the change Can be supplied at low cost.

また、本実施形態によれば、連携レシピサーバとしての管理コントローラ160は、複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させるサーバであり、本実施形態では、この連携動作制御機能を実行するために用いられる支援情報として、ライセンスサーバ2000から管理コントローラ160に連携レシピファイルが提供される。   Further, according to the present embodiment, the management controller 160 as a cooperative recipe server includes a plurality of cooperative recipe files based on cooperative recipe files in which information for controlling cooperative device manufacturing processing across multiple types of device manufacturing processing apparatuses is described. In this embodiment, a cooperation recipe file is provided from the license server 2000 to the management controller 160 as support information used for executing this cooperation operation control function. .

すなわち、連携動作制御機能を実行する連携レシピサーバとしての管理コントローラ160が複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための連携動作制御機能を実行するために用いる連携レシピファイルを、その管理コントローラ160が読み込み可能な形態で、管理コントローラ160とは別に提供するので、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作が変更されても、管理コントローラ160の機能で、連携レシピファイルを変更するだけで、その処理動作を支援することが可能となるとともに、複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作の変更サイクルが短くなったとしても、その変更に合わせた連携レシピファイルを安価に供給することができる。   That is, the management controller 160 as a cooperative recipe server that executes the cooperative operation control function manages the cooperative recipe file used to execute the cooperative operation control function for supporting the processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses. Since the controller 160 is readable and provided separately from the management controller 160, even if the processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses is changed, the function of the management controller 160 only changes the cooperative recipe file. It is possible to support the processing operation, and even if the change cycle of the processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses is shortened, it is possible to supply a coordinated recipe file corresponding to the change at a low cost. .

すなわち、本実施形態によれば、装置間のデータ変換処理や装置の連携動作が新規装置の導入やつなぎ変えなどにより、変更されても、安価なファイルを提供するだけで、効率的なデバイス製造を実現することが可能となり、多品種少量生産にも好適に対応することができる。また、少品種生産、大量生産であっても、デバイス製造の歩留まりの状況や、装置の運用状況(故障や稼動の状態、メンテナンスの状況など)に応じて、複数装置の連携動作などを変更する必要が生じた場合に、本発明を好適に適用することが可能である。   In other words, according to the present embodiment, even if data conversion processing between devices and the cooperative operation of the devices are changed due to introduction of new devices, reconnection, etc., it is possible to efficiently manufacture devices only by providing an inexpensive file. Therefore, it is possible to suitably cope with a variety of small-quantity production. In addition, even in small-quantity production and mass production, the cooperative operation of multiple devices is changed according to the device manufacturing yield status and device operation status (failure, operation status, maintenance status, etc.) The present invention can be suitably applied when a need arises.

また、本実施形態によれば、変換定義ファイルや連携レシピファイルのような支援情報の利用態様に関する情報として、支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160が処理した情報の情報量、それらの支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160が処理した対象データの種類、及び、その種類の対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関する情報を収集し、収集された利用態様に関する情報に応じて支援情報を提供する。このようにすれば、支援情報を、その利用態様に関する情報、すなわち使用状況に応じた最適な状態での支援情報の提供が可能となる。   Further, according to the present embodiment, the information amount of information processed by the communication server 150 or the management controller 160 using the support information as the information related to the use mode of the support information such as the conversion definition file or the cooperation recipe file, Information on at least one of the types of target data processed by the communication server 150 and the management controller 160 and the type of device manufacturing processing apparatus that generates the target data of that type is collected and collected. Support information is provided according to the information regarding the use mode. If it does in this way, it will become possible to provide the support information in the optimum state according to the usage status, that is, the information relating to the use state.

例えば、収集された利用態様に関する情報に応じて、支援情報を提供する際の提供価格を決定することができる。このようにすれば、デバイス製造メーカは、そのデータファイルを適切な価格で購入して、装置間のデータ通信や連携動作を行って、デバイスの生産性を向上させることができるようになる。   For example, the provision price when providing support information can be determined according to the collected information on the use mode. In this way, the device manufacturer can purchase the data file at an appropriate price, perform data communication between devices, and link operation, thereby improving device productivity.

このような利用態様に応じた提供価格の決定を実現するため、装置製造メーカのライセンスサーバ2000は、コミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160を使用する特定ユーザによって発信される利用態様に関する情報を受信し、利用態様に関する情報を発信した特定のユーザに対して支援情報を提供する際の提供価格を、受信した利用態様に関する情報に基づいて決定する。   In order to realize the determination of the offer price according to such a usage mode, the license server 2000 of the device manufacturer receives information on the usage mode transmitted by a specific user using the communication server 150 or the management controller 160. The provision price when providing support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode is determined based on the received information on the usage mode.

また、本実施形態によれば、ライセンスサーバ2000において、支援システムを使用する特定ユーザによる過去の購入実績に関する情報を、顧客ライセンス管理データベース341から取得し、取得した購入実績に関する情報に基づいて、特定ユーザに対して支援情報を提供する際の提供価格を決定する。このようにすれば、特定ユーザにより支援情報の購入意欲が促進され、デバイスの生産性向上に直結する機能をフルに活用することができるようになる。   Further, according to the present embodiment, the license server 2000 acquires information related to past purchase records by a specific user using the support system from the customer license management database 341, and specifies the information based on the acquired information related to purchase records. A provision price when providing support information to a user is determined. In this way, the willingness to purchase support information is promoted by the specific user, and the functions directly linked to the improvement in device productivity can be fully utilized.

ライセンスサーバ2000では、支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160が処理できる情報の情報量、支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150や管理コントローラ160が処理できる対象データの種類、及び対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関して、収集された利用態様に関する情報に応じた制限を設定された支援情報を提供する。このように制限を設定しておけば、ユーザにより支援情報の利用態様を制御することが可能となる。   In the license server 2000, the amount of information that can be processed by the communication server 150 and the management controller 160 using the support information, the type of target data that can be processed by the communication server 150 and the management controller 160 using the support information, and the target data For at least one of the types of device manufacturing processing apparatuses that generate the device, the support information in which restrictions are set according to the collected information on the usage mode is provided. If the restriction is set in this way, the use mode of the support information can be controlled by the user.

より具体的には、支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150及び管理コントローラ160が処理できる情報の情報量、その支援情報を用いてコミュニケーション・サーバ150及び管理コントローラ160が処理できる対象データの種類の少なくとも1つに関して、収集された利用態様に関する情報に応じた制限を設定された支援情報を提供するとともに、提供される支援情報の制限に応じて、支援情報を提供する際の提供価格を決定する。このようにすれば、ユーザの支援情報の利用の制限を加え、その制限に応じた適切な価格で支援情報を提供することが可能となる。   More specifically, at least the amount of information that can be processed by the communication server 150 and the management controller 160 using the support information, and at least the type of target data that can be processed by the communication server 150 and the management controller 160 using the support information. For one, the support information set with the restriction according to the collected information on the usage mode is provided, and the offer price when the support information is provided is determined according to the restriction of the provided support information. If it does in this way, it will become possible to provide a support information for a suitable price according to the restriction | limiting according to the restriction | limiting of a user's use of support information.

また、ライセンスサーバ2000は、支援情報の利用態様に関する情報として、支援情報を用いて支援システムが処理できる情報の情報量、支援情報を用いて支援システムが処理できる対象データの種類、及び対象データを生成するデバイス製造装置の種類の少なくとも1つに関して支援情報にその利用制限を設定することが可能であり、支援情報に設定された制限に基づいて、支援情報を提供する際の価格を決定する。このようにしてライセンス・サーバ2000は、適切な提供価格の決定を実現している。   In addition, the license server 2000 uses the amount of information that can be processed by the support system using the support information, the type of target data that can be processed by the support system using the support information, and the target data as information about the usage mode of the support information. The use restriction can be set in the support information for at least one type of device manufacturing apparatus to be generated, and the price for providing the support information is determined based on the restriction set in the support information. In this way, the license server 2000 realizes determination of an appropriate provision price.

また、本実施形態によれば、コミュニケーション・サーバ150及び管理コントローラ160を使用する特定ユーザにより過去の購入実績に関する情報を取得し、上記制限に加えて、取得した購入実績に関する情報に基づいて、特定ユーザに対して支援情報を提供する際の提供価格を決定する。このようにすれば、利用態様に加え、特定ユーザの利用度にも応じた価格が設定されるので、特定ユーザによる支援情報の購入意欲が促進され、デバイスの生産性向上に直結する機能をフルに活用することができるようになる。   In addition, according to the present embodiment, information related to past purchase results is acquired by a specific user using the communication server 150 and the management controller 160, and specified based on the acquired information related to purchase results in addition to the above restrictions. A provision price when providing support information to a user is determined. In this way, in addition to the usage mode, a price corresponding to the usage rate of the specific user is set, so that the willingness to purchase support information by the specific user is promoted, and the function directly linked to the improvement of device productivity is fully provided. To be able to use it.

また、本実施形態によれば、ライセンスサーバ2000は、支援システムを使用する特定ユーザによって発信される利用態様に関する情報を受信し、利用態様に関する情報を発信した特定のユーザに対して支援情報を提供する際の提供価格を、受信した利用態様に関する情報に基づいて決定する。このように、支援情報の提供価格を決定する上で、必要なその利用態様を自動的に認識し、提供価格を決定することができる。   Further, according to the present embodiment, the license server 2000 receives information related to the usage mode transmitted by the specific user who uses the support system, and provides support information to the specific user who transmitted the information related to the usage mode. The offer price at the time of doing is determined based on the received information regarding the use mode. As described above, when determining the provision price of the support information, it is possible to automatically recognize the necessary usage mode and determine the provision price.

また、本実施形態によれば、インターネット(通信ネットワーク1500)を介してファイルパッケージを提供するので、その提供の手間を省くことができる。   Further, according to the present embodiment, since the file package is provided via the Internet (communication network 1500), it is possible to save the trouble of providing the file package.

また、本実施形態によれば、ライセンスサーバ2000から提供されたファイルを用いてコミュニケーションサーバ150又は管理コントローラ160が露光工程を含む一連のデバイス製造工程を支援するので、デバイス製造工程の生産性を向上させることができる。   In addition, according to the present embodiment, the communication server 150 or the management controller 160 supports a series of device manufacturing processes including the exposure process using the file provided from the license server 2000, so that the productivity of the device manufacturing process is improved. Can be made.

なお、コミュニケーション・サーバ150や、管理コントローラ160が有する支援機能は、露光装置100や測定・検査器120とは独立した装置が有している必要はなく、それらが有していても良い。   Note that the support functions of the communication server 150 and the management controller 160 do not have to be provided by an apparatus independent of the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120, and may be provided by them.

また、本実施形態は、別な観点からすると、デバイス製造処理に関するデータ処理のため情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法を例示している。この方法では、その情報を用いて処理されるそのデータのデータ量と、そのデータ処理で処理される対象データの種類と、の少なくとも1つに基づいて提供価格の演算を実行し、その演算の結果に応じて支援情報の提供価格を決定している。このようにすれば、処理されるデータ量と対象データの種類などに応じて情報の提供価格を適切に決定することができる。   Further, from another viewpoint, this embodiment exemplifies a provision condition determination method for determining provision conditions when information is provided for data processing related to device manufacturing processing. In this method, the provided price is calculated based on at least one of the data amount of the data processed using the information and the type of target data processed in the data processing. The price for providing support information is determined according to the results. In this way, the provision price of information can be appropriately determined according to the amount of data to be processed and the type of target data.

また、本実施形態は、別な観点からすると、複数種類のデバイス製造処理装置を用いるデバイス製造処理に関して、複数種類のデバイス製造処理装置の少なくとも1つの装置から出力されるデータを処理するために用いられる情報を提供する際の、支援情報の提供条件を決定する提供条件決定方法であるとすることができる。この方法によれば、その情報を用いて処理されるデータを出力するデバイス製造処理装置の種類に基づいて支援情報の提供価格を算出する演算を実行して提供価格を決定する。   Further, from another point of view, this embodiment is used to process data output from at least one device of a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses, regarding a device manufacturing process using a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses. It is possible to provide a provision condition determination method for determining a provision condition of support information when providing information to be provided. According to this method, the provision price is determined by executing the calculation for calculating the provision price of the support information based on the type of the device manufacturing processing apparatus that outputs the data processed using the information.

また、本実施形態は、別な観点からすると、特定ユーザに対してデバイス製造処理に関するデータ処理のための情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法である。この方法では、特定ユーザによる過去の購入実績に基づいて支援情報の提供価格を算出する演算を実行し、その結果に応じて提供価格を決定する。   From another point of view, the present embodiment is a provision condition determination method for determining provision conditions when providing information for data processing related to device manufacturing processing to a specific user. In this method, an operation for calculating a provision price of support information based on a past purchase record by a specific user is executed, and the provision price is determined according to the result.

また、本実施形態によれば、決定された提供価格を、通信ネットワーク1500を介して、特定ユーザの顧客システム1000(ホスト600)に送信する送信工程(図11のステップ507)と、特定のユーザのホスト600から送信された新規な支援情報の提供条件の注文に関する情報を受信する注文受信工程(図11のステップ509)と、をさらに含んでいる。このようにすれば、発注を自動的に行うことができるので、売買契約を効率化することができる。   In addition, according to the present embodiment, a transmission process (step 507 in FIG. 11) for transmitting the determined provided price to the customer system 1000 (host 600) of the specific user via the communication network 1500, and the specific user An order receiving step (step 509 in FIG. 11) for receiving information related to the order for the provision condition of new support information transmitted from the host 600 of FIG. In this way, it is possible to automatically place an order, so that the sales contract can be made more efficient.

また、本実施形態によれば、注文受信工程が行われた後に、新規な支援情報を、通信ネットワーク1500を介して、特定ユーザの情報処理装置に提供する提供工程(図11のステップ513)をさらに含んでいる。これによれば、新規なファイルパッケージを、自動的に、顧客に提供することができるので、処理が効率化される。   Further, according to the present embodiment, after the order receiving process is performed, the providing process (step 513 in FIG. 11) of providing new support information to the information processing apparatus of the specific user via the communication network 1500 is performed. In addition. According to this, since a new file package can be automatically provided to the customer, the processing becomes efficient.

また、本実施形態によれば、新規な支援情報に関する情報を、通信ネットワーク1500を介して、特定のユーザの情報処理装置に配信する配信工程(図11のステップ501)と、特定のユーザの情報処理装置から送信された新規な支援情報の提供条件の見積依頼に関する情報を受信する見積依頼受信工程(図11のステップ503)と、をさらに含んでおり、受信工程が行われた後に決定工程(図11のステップ505)が行われる。このようにすれば、顧客が、新しい装置に対応した新規なファイルパッケージに関する情報を労せずして入手することができるようになるとともに、新規ファイルに興味がある顧客に対してだけライセンスサーバ2000において、見積もりを行うので、ライセンスサーバ2000の負荷も軽減される。   In addition, according to the present embodiment, a distribution step (step 501 in FIG. 11) for distributing information on new support information to an information processing apparatus of a specific user via the communication network 1500, and information on the specific user An estimate request receiving step (step 503 in FIG. 11) for receiving information related to an estimate request for a provision condition for new support information transmitted from the processing apparatus, and a decision step ( Step 505) of FIG. 11 is performed. In this way, the customer can obtain information about the new file package corresponding to the new device without any effort, and the license server 2000 can provide only the customer who is interested in the new file. Since the estimation is performed, the load on the license server 2000 is also reduced.

なお、上記実施形態では、データ通信を行う装置を露光装置100と測定・検査器120としたが、本発明はこれには限られない。例えばC/D110、デバイス製造処理装置群900の各装置などのデータ通信を支援する変換定義ファイルの提供にも本発明を適用することができる。同様に、連携動作についても、露光装置と測定・検査器とだけには限らず、C/D110、デバイス製造処理装置群900の各装置を含む連携動作を行うための連携レシピファイルの提供にも本発明を適用することができるのは勿論である。   In the above embodiment, the apparatus that performs data communication is the exposure apparatus 100 and the measurement / inspection instrument 120, but the present invention is not limited to this. For example, the present invention can also be applied to provision of a conversion definition file that supports data communication such as each device of the C / D 110 and the device manufacturing processing apparatus group 900. Similarly, the cooperative operation is not limited to the exposure apparatus and the measurement / inspection device, but also provides a cooperative recipe file for performing the cooperative operation including the C / D 110 and the device manufacturing processing apparatus group 900. Of course, the present invention can be applied.

また、上記実施形態では、変換定義ファイルと連携レシピファイルとの両方を含むファイルパッケージとしたが、どちらか一方を含んでいればよい。また、複数の装置に跨る処理動作を支援するための支援機能に用いられるファイルであれば、本発明を適用することができる。   Moreover, in the said embodiment, although it was set as the file package containing both a conversion definition file and a cooperation recipe file, it should just contain either one. Further, the present invention can be applied to any file that is used for a support function for supporting a processing operation across a plurality of devices.

なお、本実施形態では、データ変換ファイルと、連携レシピファイルを配信し、コミュニケーション・サーバ150において、受信したデータ変換ファイルに基づいて変換レシピファイルを作成したが、変換レシピファイルを配信する支援情報に含めるようにしてもよいことは勿論である。   In this embodiment, the data conversion file and the linked recipe file are distributed, and the communication server 150 creates the conversion recipe file based on the received data conversion file. However, the support information for distributing the conversion recipe file is used as support information. Of course, it may be included.

また、売買契約だけでなく、レンタル契約や、リース契約における価格決定にも本発明を適用することができる。   Further, the present invention can be applied not only to sales contracts but also to price determination in rental contracts and lease contracts.

また、上記実施形態に係る方法により決定される販売条件は、ソフトウエアの購入価格の割引に限られるものではない。例えば、「カスタマーサービスの無償提供」、「使用制約条件の解除や緩和」等の他の特典を設定するようにしてもよい。このように、本発明は、販売条件への反映方法には限定されない。   Further, the sales conditions determined by the method according to the above embodiment are not limited to discounts on the purchase price of software. For example, other benefits such as “provided free customer service” and “cancellation or relaxation of usage constraint conditions” may be set. Thus, the present invention is not limited to the method of reflecting the sales conditions.

また、本発明は、その他、デバイス製造に関するデータのデータ変換を行うソフトウエアに関連する商品の販売であれば、適用可能である。   In addition, the present invention is applicable to sales of products related to software that performs data conversion of data relating to device manufacturing.

本実施形態では、露光装置100を、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置としたが、これに限らず、ステップ・アンド・リピート方式や他の方式の露光装置であってもよい。これに代表されるように、各種装置についても、その種類には限定されない。また、本発明は、半導体製造工程に限らず、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造工程にも適用可能である。また、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する工程、薄膜磁気ヘッドの製造工程、及び撮像素子(CCDなど)、マイクロマシン、有機EL、DNAチップなどの製造工程の他、すべてのデバイス製造工程における線幅管理に本発明を適用することができるのは勿論である。   In the present embodiment, the exposure apparatus 100 is a step-and-scan type exposure apparatus, but is not limited thereto, and may be a step-and-repeat type or other type of exposure apparatus. As represented by this, the various apparatuses are not limited to those types. The present invention is not limited to a semiconductor manufacturing process, and can be applied to a manufacturing process of a display including a liquid crystal display element. Line width in all device manufacturing processes, including the process of transferring the device pattern onto the glass plate, the manufacturing process of the thin film magnetic head, the manufacturing process of the imaging device (CCD, etc.), micromachine, organic EL, DNA chip, etc. Of course, the present invention can be applied to management.

本発明は、あるデバイスを製造する複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給方法である。この機能供給方法では、支援機能を実行する支援システムが複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、支援システムが読み込み可能な形態で、支援システムとは別に提供する。このようにすれば、支援機能を別に供給するだけで、複数のデバイス製造処理装置に跨る種々の処理動作が可能となり、工程に柔軟性が生まれ、効率的な多品種少量生産が可能となる。   The present invention is a function supply method for supplying a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses for manufacturing a certain device. In this function supply method, support information used to execute a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses by a support system that executes the support function in a form that can be read by the support system. Provided separately from the support system. In this way, it is possible to perform various processing operations across a plurality of device manufacturing processing apparatuses only by supplying the support function separately, and the process is flexible, and efficient high-mix low-volume production is possible.

以上説明したように、本発明の機能供給方法、露光方法、露光装置、測定・検査方法、測定・検査装置、機能供給システム、プログラム、記録媒体、提供条件決定方法は、デバイスの製造に適している。   As described above, the function supply method, exposure method, exposure apparatus, measurement / inspection method, measurement / inspection apparatus, function supply system, program, recording medium, and provision condition determination method of the present invention are suitable for device manufacturing. Yes.

本発明の一実施形態に係るネットワークシステムの概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a network system according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る顧客システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the customer system which concerns on one Embodiment of this invention. コミュニケーション・サーバの論理的構成図である。It is a logical block diagram of a communication server. 管理コントローラの論理的構成図である。It is a logical block diagram of a management controller. ウエハプロセスの流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of a wafer process. ライセンスサーバの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a license server. ライセンス管理データベースの登録内容の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the registration content of a license management database. カウント数設定データベースの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a count number setting database. 使用状況監視データベースの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a usage condition monitoring database. 図10(A)は、割引率設定データベース内の割引レベルを示す図であり、図10(B)は、割引率設定データベース内の割引率を示す図である。FIG. 10A is a diagram showing discount levels in the discount rate setting database, and FIG. 10B is a diagram showing discount rates in the discount rate setting database. ライセンスサーバとホストとのデータ送受信の流れを示す送受信チャートである。It is a transmission / reception chart showing the flow of data transmission / reception between the license server and the host. ライセンス販売の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of license sales.

符号の説明Explanation of symbols

51、52…送受信部、53…制御部、53a…ファイル・フォーマット変換部、53b…通信メッセージ変換部、53c…通信プロトコル変換部、54…変換定義ファイル登録部、541、542、543…変換定義ファイル、55…変換レシピファイル登録部、551、552、553…変換レシピファイル、61、62…送受信部、63…制御部、64…記憶装置、651、652、653、654…連携レシピファイル、100…露光装置、110…コータ・デベロッパ、120…測定・検査器、140…解析装置、150…コミュニケーション・サーバ、160…管理コントローラ、200…トラック、310…販売条件設定処理部、320…顧客ライセンス管理処理部、330…使用状況管理処理部、340…データベースシステム、341…顧客ライセンス管理データベース、342…販売条件:カウント数設定データベース、343…使用状況監視データベース、344…販売条件:割引率設定データベース、350…制限設定部、360…送受信部、370…配信部、380…ファイルパッケージ、600…ホストシステム、900…デバイス製造処理装置群、910…CVD装置、920…エッチング装置、930…CMP装置、940…酸化・イオン注入装置、1000…顧客システム、1500…通信ネットワーク、2000…ライセンスサーバ、2500…データベース、3000…ネットワークシステム。 51, 52 ... transceiver unit, 53 ... control unit, 53a ... file format conversion section, 53b ... communication message conversion unit, 53c ... communication protocol conversion unit, 54 ... conversion definition file registration section, 54 1, 54 2, 54 3 ... Conversion definition file, 55 ... Conversion recipe file registration part, 55 1 , 55 2 , 55 3 ... Conversion recipe file, 61, 62 ... Transmission / reception part, 63 ... Control part, 64 ... Storage device, 65 1 , 65 2 , 65 3 , 65 4 ... Cooperative recipe file, 100 ... Exposure apparatus, 110 ... Coater / developer, 120 ... Measuring / inspection instrument, 140 ... Analysis apparatus, 150 ... Communication server, 160 ... Management controller, 200 ... Truck, 310 ... Sales Condition setting processing unit 320 ... Customer license management processing unit 330 ... Usage status management processing unit 340 ... Database system 341 ... customer license management database, 342 ... sales condition: count number setting database, 343 ... usage status monitoring database, 344 ... sales condition: discount rate setting database, 350 ... restriction setting unit, 360 ... transmission / reception unit, 370 ... distribution , 380... File package, 600... Host system, 900... Device manufacturing processing apparatus group, 910... CVD apparatus, 920... Etching apparatus, 930 ... CMP apparatus, 940. Communication network, 2000 ... license server, 2500 ... database, 3000 ... network system.

Claims (42)

複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給方法であって、
前記支援機能を実行する支援システムが前記複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために用いる支援情報を、前記支援システムが読み込み可能な形態で、前記支援システムとは別に提供する工程を含み、
前記支援システムとは別に提供された前記支援情報を前記支援システムに読み込ませることにより前記支援機能を実行可能とすることを特徴とする機能供給方法。
A function supply method for supplying a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses,
The support system that can be used by the support system to read support information used to execute a support function for supporting a processing operation across the plurality of device manufacturing processing apparatuses. Including a process to be provided separately from,
A function supply method characterized in that the support function can be executed by causing the support system to read the support information provided separately from the support system.
前記支援システムは、
2以上のデバイス製造処理装置の間を接続し、前記2以上のデバイス製造処理装置のいずれかから送信される情報を、当該情報の送信元のデバイス製造処理装置に適合させて受信し、受信した情報を送信先のデバイス製造処理装置に適合させて送信するコミュニケーション・サーバであって、
前記支援機能を実行するために用いられる前記支援情報として、前記送信元のデバイス製造処理装置から受信した情報を、前記送信元のデバイス製造処理装置に適合した情報に変換するために前記コミュニケーション・サーバが使用する変換情報を提供することを特徴とする請求項1に記載の機能供給方法。
The support system includes:
Two or more device manufacturing processing apparatuses are connected, and information transmitted from one of the two or more device manufacturing processing apparatuses is received in conformity with the device manufacturing processing apparatus that is the transmission source of the information. A communication server that transmits information adapted to the device manufacturing processing apparatus of the transmission destination,
As the support information used for executing the support function, the communication server converts the information received from the transmission source device manufacturing processing apparatus into information suitable for the transmission source device manufacturing processing apparatus. The function supply method according to claim 1, wherein conversion information to be used is provided.
前記支援システムは、
複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させる連携レシピサーバであって、
前記支援機能を実行するために用いられる前記支援情報として、前記連携レシピファイルを提供することを特徴とする請求項1に記載の機能供給方法。
The support system includes:
Based on a cooperative recipe file that describes information for controlling cooperative device manufacturing processing across multiple types of device manufacturing processing devices, a cooperative recipe server that operates multiple types of device manufacturing processing devices in a coordinated manner,
The function supply method according to claim 1, wherein the cooperation recipe file is provided as the support information used for executing the support function.
前記支援情報の利用態様に関する情報として、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理した情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理した対象データの種類、及び、前記種類の対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関する情報を収集し、
収集された前記利用態様に関する情報に応じて前記支援情報を提供することを特徴とする請求項2又は3に記載の機能供給方法。
As information regarding the usage mode of the support information, the amount of information processed by the support system using the support information, the type of target data processed by the support system using the support information, and the target of the type Collecting information on at least one of the types of device manufacturing processing equipment that generates the data;
The function supply method according to claim 2, wherein the support information is provided according to the collected information on the usage mode.
収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項4に記載の機能供給方法。   The function supply method according to claim 4, wherein a provision price at the time of providing the support information is determined according to the collected information on the use mode. 前記支援システムを使用する特定ユーザによる過去の購入実績に関する情報を取得し、取得した前記購入実績に関する情報に基づいて、前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項5に記載の機能供給方法。   Obtaining information related to past purchase results by a specific user who uses the support system, and determining a provision price when providing the support information to the specific user based on the acquired information related to the purchase result The function supply method according to claim 5. 前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信し、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定のユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定することを特徴とする請求項5に記載の機能供給方法。
Receiving information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
6. The provision price for providing the support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode is determined based on the received information on the usage mode. Function supply method.
前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる対象データの種類、および前記対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関して、収集された前記利用態様に関する情報に応じた制限を設定された支援情報を提供することを特徴とする請求項4に記載の機能供給方法。   At least one of the amount of information that can be processed by the support system using the support information, the type of target data that can be processed by the support system using the support information, and the type of device manufacturing processing apparatus that generates the target data The function supply method according to claim 4, further comprising: providing support information in which restrictions are set according to the collected information on the usage mode. 前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる対象データの種類の少なくとも1つに関して、収集された前記利用態様に関する情報に応じた制限を設定された支援情報を提供するとともに、
提供される支援情報の前記制限に応じて、前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項4に記載の機能供給方法。
The amount of information that can be processed by the support system using the support information, and at least one of the types of target data that can be processed by the support system using the support information, according to the collected information on the use mode Provide support information with restrictions, and
5. The function supply method according to claim 4, wherein a provision price at the time of providing the support information is determined according to the restriction of the support information to be provided.
前記支援情報の利用態様に関する情報として、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる対象データの種類、及び前記対象データを生成するデバイス製造装置の種類の少なくとも1つに関して前記支援情報に制限を設定し、
前記支援情報に設定された制限に基づいて、前記支援情報を提供する際の価格を決定することを特徴とする請求項2又は3に記載の機能供給方法。
As information related to the usage mode of the support information, the amount of information that can be processed by the support system using the support information, the type of target data that can be processed by the support system using the support information, and the target data are generated. A limit is set on the support information regarding at least one type of device manufacturing apparatus to be
The function supply method according to claim 2, wherein a price for providing the support information is determined based on a restriction set in the support information.
前記支援システムを使用する特定ユーザによる過去の購入実績に関する情報を取得し、
取得した前記購入実績に関する情報をさらに考慮して、前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項10に記載の機能供給方法。
Obtaining information on past purchases by a specific user using the support system;
The function supply method according to claim 10, further comprising considering the acquired information related to the purchase result and determining a provision price when the support information is provided to the specific user.
前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信し、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定のユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定することを特徴とする請求項2又は3に記載の機能供給方法。
Receiving information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
The provision price at the time of providing the support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode is determined based on the received information on the usage mode. The function supply method described.
インターネットを介して前記支援情報を提供することを特徴とする請求項2又は3に記載の機能供給方法。   4. The function supply method according to claim 2, wherein the support information is provided via the Internet. 所定パターンを基板に露光する露光方法において、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援情報を受けて、前記所定パターンを基板上に露光することを特徴とする露光方法。
In an exposure method for exposing a predetermined pattern to a substrate,
The support information executed by the support system is received using the support information provided by the function supply method according to any one of claims 1 to 13, and the predetermined pattern is exposed on a substrate. Exposure method.
前記支援システムと接続されて、所定パターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援機能を受けて、前記所定パターンを基板上に露光することを特徴とする露光装置。
An exposure apparatus connected to the support system for exposing a predetermined pattern on a substrate,
A support function executed by the support system is received using the support information provided by the function supply method according to claim 1, and the predetermined pattern is exposed on a substrate. An exposure apparatus.
デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う測定・検査方法において、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援情報を受けて、前記所定の測定又は検査を行うことを特徴とする測定・検査方法。
In a measurement / inspection method for performing a predetermined measurement or inspection related to device manufacturing processing,
It receives the support information which the support system performs using the support information provided by the function supply method according to any one of claims 1 to 13, and performs the predetermined measurement or inspection, Measurement / inspection method.
前記支援システムと接続されて、デバイス製造処理に関する所定の測定又は検査を行う測定・検査装置において、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の機能供給方法で提供された前記支援情報を用いて前記支援システムが実行する支援機能を受けて、前記所定の測定又は検査を行うことを特徴とする測定・検査装置。
In the measurement / inspection apparatus connected to the support system and performing a predetermined measurement or inspection related to the device manufacturing process,
It receives the support function which the support system performs using the support information provided by the function supply method according to any one of claims 1 to 13, and performs the predetermined measurement or inspection, Measuring and inspection equipment.
複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する機能供給システムにおいて、
前記支援機能を実行する支援システムに接続されて、前記複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を実行するために前記支援システムが用いる支援情報を、前記支援システムが読み込み可能な形態で、前記支援システムへ配信する配信部を有することを特徴とする機能供給システム。
In a function supply system that supplies a support function for supporting a processing operation across a plurality of device manufacturing processing apparatuses,
Connected to a support system that executes the support function, the support system reads support information used by the support system to execute a support function for supporting a processing operation across the plurality of device manufacturing processing apparatuses. A function supply system comprising a distribution unit for distributing to the support system in a possible form.
前記支援システムは、
2以上のデバイス製造処理装置の間を接続し、前記2以上のデバイス製造処理装置のいずれかから送信される情報を、当該情報の送信元のデバイス製造処理装置に適合させて受信し、受信した情報を送信先のデバイス製造処理装置に送信するコミュニケーション・サーバであって、
前記配信部は、前記支援情報を実行するために用いられる前記支援情報として、前記送信元のデバイス製造処理装置から受信した情報を、前記送信元のデバイス製造処理装置に適合した情報に変換するために前記コミュニケーション・サーバが使用する変換情報を配信することを特徴とする請求項18に記載の機能供給システム。
The support system includes:
Two or more device manufacturing processing apparatuses are connected, and information transmitted from one of the two or more device manufacturing processing apparatuses is received in conformity with the device manufacturing processing apparatus that is the transmission source of the information. A communication server for transmitting information to a device manufacturing processing apparatus as a transmission destination,
The distribution unit converts information received from the transmission source device manufacturing processing apparatus into information suitable for the transmission source device manufacturing processing apparatus as the support information used for executing the support information. 19. The function supply system according to claim 18, wherein the conversion information used by the communication server is distributed to the network.
前記支援システムは、
複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させる連携レシピサーバであって、
前記配信部は、前記支援情報を実行するために用いられる前記支援情報として、前記連レシピファイルを配信することを特徴とする請求項18に記載の機能供給システム。
The support system includes:
Based on a cooperative recipe file that describes information for controlling cooperative device manufacturing processing across multiple types of device manufacturing processing devices, a cooperative recipe server that operates multiple types of device manufacturing processing devices in a coordinated manner,
The function supply system according to claim 18, wherein the distribution unit distributes the continuous recipe file as the support information used to execute the support information.
前記支援情報の利用態様に関する情報として、前記支援システムを用いて処理された情報の情報量、前記支援システムによって処理される対象データの種類、および前記対象データを生成するデバイス製造装置の種類の少なくとも1つに関する情報を収集する利用態様の情報収集部をさらに備え、
前記配信部は、前記利用態様の情報収集部で収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報を前記支援システムへ配信することを特徴とする請求項19又は20に記載の機能供給システム。
As information regarding the usage mode of the support information, at least the amount of information processed using the support system, the type of target data processed by the support system, and the type of device manufacturing apparatus that generates the target data An information collecting unit that collects information related to one,
21. The function supply according to claim 19 or 20, wherein the distribution unit distributes the support information to the support system according to information on the usage mode collected by the information collection unit of the usage mode. system.
前記利用態様の情報収集部で収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項21に記載の機能供給システム。   The function supply system according to claim 21, wherein a provision price for providing the support information is determined in accordance with information on the use mode collected by the information collecting unit of the use mode. 前記支援システムを使用する特定ユーザによる過去の購入実績に関する情報を記録する記録装置をさらに備え、
前記記録装置に記録された前記特定ユーザによる過去の購入実績に関する情報に基づいて、前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を決定することを特徴とする請求項22に記載の機能供給システム。
A recording device for recording information related to past purchases by a specific user using the support system;
23. The provision price for providing the support information to the specific user is determined based on information on a past purchase record by the specific user recorded in the recording device. Function supply system.
前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信する受信部をさらに備え、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、前記受信部で受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定することを特徴とする請求項22に記載の機能供給システム。
A receiving unit for receiving information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
23. The provision price for providing the support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode is determined based on the information on the usage mode received by the receiving unit. Function supply system described in.
前記利用態様の情報収集部で収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報の、前記支援システムを用いて処理できる情報の情報量、前記支援システムによって処理できる対象データの種類、及び、前記対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関して前記配信される支援情報に制限を加える制限設定部をさらに備え、
前記配信部は、前記制限設定部で制限が加えられた支援情報を前記支援システムへ配信することを特徴とする請求項21に記載の機能供給システム。
According to the information on the usage mode collected by the usage mode information collection unit, the amount of information of the support information that can be processed using the support system, the type of target data that can be processed by the support system, and A restriction setting unit for restricting the distributed support information with respect to at least one type of device manufacturing processing apparatus that generates the target data;
The function distribution system according to claim 21, wherein the distribution unit distributes the support information restricted by the restriction setting unit to the support system.
前記利用態様の情報収集部で収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報を用いて前記支援システムで処理できる情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムで処理できる対象データの種類、及び前記対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関して前記配信される支援情報に制限を加える制限設定部と、
前記制限に基づいて、前記支援情報を提供する際の価格を決定する価格決定部とを備えることを特徴とする請求項21に記載の機能供給システム。
The amount of information that can be processed by the support system using the support information according to the information about the use mode collected by the information collector of the use mode, and the object that can be processed by the support system using the support information A restriction setting unit that restricts the distributed support information with respect to at least one of the type of data and the type of device manufacturing processing apparatus that generates the target data;
The function supply system according to claim 21, further comprising a price determination unit that determines a price when the support information is provided based on the restriction.
前記支援情報の利用態様に関する情報として、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理できる対象データの種類及び前記対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関して前記支援情報に制限を設定する制限設定部と、
前記制限に基づいて、前記制限を設定された支援情報を提供する際の価格を決定する価格決定部とをさらに備えることを特徴とする請求項19又は20に記載の機能供給システム。
As information regarding the usage mode of the support information, the amount of information that can be processed by the support system using the support information, the type of target data that can be processed by the support system using the support information, and the target data are generated. A restriction setting unit for setting a restriction on the support information regarding at least one type of device manufacturing processing apparatus;
21. The function supply system according to claim 19 or 20, further comprising a price determination unit that determines a price when providing support information with the restriction set based on the restriction.
前記支援システムを使用する特定ユーザにより過去の購入実績に関する情報を記録する記録部をさらに備え、
前記記録部に記録された前記特定ユーザにより過去の購入実績に関する情報に基づいて、前記支援情報を提供する際の価格を決定する価格決定部とを有することを特徴とする請求項27に記載の機能供給システム。
A recording unit for recording information on past purchase results by a specific user using the support system;
28. The price determination unit according to claim 27, further comprising: a price determination unit that determines a price when the support information is provided based on information on a past purchase record by the specific user recorded in the recording unit. Function supply system.
前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信する受信部と、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定する価格決定部とを有することを特徴とする請求項19又は20に記載の機能供給システム。
A receiving unit that receives information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
And a price determination unit that determines a provided price when the support information is provided to the specific user who has transmitted the information on the usage mode based on the received information on the usage mode. Item 19. The function supply system according to Item 19 or 20.
複数のデバイス製造処理装置に跨る処理動作を支援するための支援機能を供給する支援システムに、前記支援機能を実行するために用いられる支援情報の供給をコンピュータシステムに実行させるプログラムであって、
あらかじめ用意された複数の支援情報から選択された特定の支援情報を、前記支援システムとは別に、前記支援システムが読み込み可能な形態で前記コンピュータシステムへ配信する処理を含むことを特徴とするプログラム。
A support system that supplies a support function for supporting processing operations across a plurality of device manufacturing processing apparatuses, a program that causes a computer system to supply support information used to execute the support function,
A program comprising: processing for distributing specific support information selected from a plurality of support information prepared in advance to the computer system in a form that can be read by the support system separately from the support system.
前記支援システムは、
2以上のデバイス製造処理装置の間を接続し、前記2以上のデバイス製造処理装置のいずれかから送信される情報を、当該情報の送信元のデバイス製造処理装置に適合させて受信し、受信した情報を送信先のデバイス製造処理装置に適合させて送信するコミュニケーション・サーバであって、
前記配信処理は、前記支援機能を実行するために用いられる前記支援情報として、前記送信元のデバイス製造処理装置から受信した情報を、前記送信先のデバイス製造処理装置に適合した情報に変換するために前記コミュニケーション・サーバが使用する変換情報を配信することを特徴とする請求項30に記載のプログラム。
The support system includes:
Two or more device manufacturing processing apparatuses are connected, and information transmitted from one of the two or more device manufacturing processing apparatuses is received in conformity with the device manufacturing processing apparatus that is the transmission source of the information. A communication server that transmits information adapted to the device manufacturing processing apparatus of the transmission destination,
The distribution process converts the information received from the transmission source device manufacturing processing apparatus into information suitable for the transmission destination device manufacturing processing apparatus as the support information used to execute the support function. 31. The program according to claim 30, wherein the conversion information used by the communication server is distributed.
前記支援システムは、
複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させる連携レシピサーバであって、
前記支援機能を実行するために用いられる前記支援情報として、前記連携レシピファイルを配信することを特徴とする請求項30に記載のプログラム。
The support system includes:
Based on a cooperative recipe file that describes information for controlling cooperative device manufacturing processing across multiple types of device manufacturing processing devices, a cooperative recipe server that operates multiple types of device manufacturing processing devices in a coordinated manner,
The program according to claim 30, wherein the cooperation recipe file is distributed as the support information used to execute the support function.
前記支援情報の利用態様に関する情報として、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理した情報の情報量、前記支援情報を用いて前記支援システムが処理した対象データの種類、及び、前記種類の対象データを生成するデバイス製造処理装置の種類の少なくとも1つに関する情報を収集する処理と、
収集された前記利用態様に関する情報に応じて前記支援情報を提供する処理とを含むことを特徴とする請求項31又は32に記載のプログラム。
As information regarding the usage mode of the support information, the amount of information processed by the support system using the support information, the type of target data processed by the support system using the support information, and the target of the type A process of collecting information about at least one of the types of device manufacturing processing equipment that generates the data;
The program according to claim 31 or 32, further comprising: a process of providing the support information according to the collected information on the usage mode.
前記利用態様の情報収集部で収集された前記利用態様に関する情報に応じて、前記支援情報を提供する際の提供価格を決定する処理を含むことを特徴とする請求項33に記載のプログラム。   34. The program according to claim 33, further comprising a process of determining a provision price when the support information is provided in accordance with information on the utilization aspect collected by the utilization aspect information collection unit. 前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信する処理と、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定のユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、前記受信部で受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定する処理とを含むことを特徴とする請求項34に記載のプログラム。
A process of receiving information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
And a process of determining a provision price when providing the support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode based on the information on the usage mode received by the receiving unit. The program according to claim 34.
前記支援システムを使用する特定ユーザによって発信される前記利用態様に関する情報を受信する処理と、
前記利用態様に関する情報を発信した前記特定ユーザに対して前記支援情報を提供する際の提供価格を、前記受信部で受信した前記利用態様に関する情報に基づいて決定することを特徴とする請求項34に記載のプログラム。
A process of receiving information on the usage mode transmitted by a specific user using the support system;
The provision price for providing the support information to the specific user who has transmitted the information on the usage mode is determined based on the information on the usage mode received by the receiving unit. The program described in.
請求項30〜36のいずれか一項に記載のプログラムを、コンピュータシステムで読み出して実行可能な状態で記録する記録媒体。   A recording medium for recording the program according to any one of claims 30 to 36 in a state in which the program is read and executed by a computer system. デバイス製造処理に関するデータ処理のため情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法であって、
前記情報を用いて処理される前記データのデータ量と、前記データ処理で処理される対象データの種類と、の少なくとも1つに基づいて所定演算を実行し、前記所定演算結果に応じて前記提供条件を決定することを特徴とする提供条件決定方法。
A provision condition determining method for determining provision conditions when providing information for data processing related to device manufacturing processing,
A predetermined calculation is executed based on at least one of a data amount of the data processed using the information and a type of target data processed by the data processing, and the provision is performed according to the predetermined calculation result A providing condition determining method, characterized by determining a condition.
複数種類のデバイス製造処理装置を用いるデバイス製造処理に関して、前記複数種類のデバイス製造処理装置の少なくとも1つの装置から出力されるデータを処理するために用いられる情報を提供する際の、情報の提供条件を決定する提供条件決定方法であって、
前記情報を用いて処理される前記データを出力するデバイス製造処理装置の種類に基づいて所定演算を実行し、前記所定演算結果に応じて前記提供条件を決定することを特徴とする請求項38に記載の提供条件決定方法。
Information provision conditions for providing information used to process data output from at least one of the plurality of types of device manufacturing processing apparatuses regarding device manufacturing processing using a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses A provision condition determination method for determining
The predetermined condition is executed based on a type of a device manufacturing processing apparatus that outputs the data processed using the information, and the provision condition is determined according to the predetermined calculation result. The providing condition determination method described.
特定ユーザに対してデバイス製造処理に関するデータ処理のための情報を提供する際の提供条件を決定する提供条件決定方法であって、
前記特定ユーザによる過去の購入実績に基づいて所定演算を実行し、前記所定演算結果に応じて前記提供条件を決定することを特徴とする請求項38に記載の提供条件決定方法。
A provision condition determination method for determining provision conditions when providing information for data processing related to device manufacturing processing to a specific user,
The provision condition determination method according to claim 38, wherein a predetermined calculation is executed based on a past purchase record by the specific user, and the provision condition is determined according to the predetermined calculation result.
前記提供される情報は、
2以上のデバイス製造処理装置の間を接続し、前記2以上のデバイス製造処理装置のいずれかから送信される情報を、当該情報の送信元のデバイス製造処理装置に適合させて受信し、受信した情報を送信先のデバイス製造処理装置に適合させて送信するコミュニケーション・サーバが使用する情報であって、
前記コミュニケーション・サーバが、前記送信元のデバイス製造処理装置から受信した情報を、前記送信先のデバイス製造処理装置に適合した情報に変換するために使用する変換情報であることを特徴とする請求項38〜40のいずれか一項に記載の提供条件決定方法。
The provided information is:
Two or more device manufacturing processing apparatuses are connected, and information transmitted from one of the two or more device manufacturing processing apparatuses is received in conformity with the device manufacturing processing apparatus that is the transmission source of the information. Information used by the communication server that transmits information adapted to the device manufacturing processing apparatus of the transmission destination,
The communication server is conversion information used for converting information received from the transmission source device manufacturing processing apparatus into information suitable for the transmission destination device manufacturing processing apparatus. The provision condition determination method according to any one of 38 to 40.
前記提供される情報は、
複数種類のデバイス製造処理装置に跨る連携デバイス製造処理を制御するための情報が記述された連携レシピファイルに基づいて、複数種類のデバイス製造処理装置を連携動作させる連携レシピサーバが使用する情報であって、
前記連携レシピファイルを提供することを特徴とする請求項38〜40のいずれか一項に記載の提供条件決定方法。
The provided information is:
Information used by a cooperative recipe server that operates a plurality of types of device manufacturing processing apparatuses in a coordinated manner based on a cooperative recipe file that describes information for controlling cooperative device manufacturing processing across multiple types of device manufacturing processing apparatuses. And
The provision condition determination method according to any one of claims 38 to 40, wherein the cooperation recipe file is provided.
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