JP2007171407A - Lithographic printing original plate and plate making method for the same - Google Patents

Lithographic printing original plate and plate making method for the same Download PDF

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JP2007171407A JP2005366886A JP2005366886A JP2007171407A JP 2007171407 A JP2007171407 A JP 2007171407A JP 2005366886 A JP2005366886 A JP 2005366886A JP 2005366886 A JP2005366886 A JP 2005366886A JP 2007171407 A JP2007171407 A JP 2007171407A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing original plate capable of direct drawing with laser light and excellent in thin line reproducibility and printing durability, and a plate making method for the same. <P>SOLUTION: The lithographic printing original plate has on a support a photosensitive layer containing (A) a sensitizing dye of a specific structure, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound and (D) a binder polymer having a crosslinking group. The plate making method for the same is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明はレーザー光で直接描画可能なネガ型平版印刷版原版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a negative lithographic printing plate precursor capable of direct drawing with a laser beam and a plate making method thereof.

ネガ型平版印刷版原版は、一般に、粗面化処理されたアルミニウム板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、所望の画像を露光し、感光層露光部を重合あるいは架橋させて現像液に不溶化させ、感光層未露光部を現像液で溶出するプロセスにて画像形成が行われる。従来このような目的に使用される感光性組成物としては、光重合性組成物がよく知られており、一部が実用に供されている。また最近の可視光に高感度な光開始系技術を取り入れた高感度フォトポリマーは、可視レーザーによる直接製版に使用される領域まで高感度化が進み、いわゆるCTP版として普及している。   In general, a negative lithographic printing plate precursor is developed by coating a photosensitive composition on a roughened aluminum plate or the like, exposing a desired image, and polymerizing or crosslinking the exposed portion of the photosensitive layer. Image formation is carried out by a process of insolubilizing in the solution and eluting unexposed portions of the photosensitive layer with the developer. Conventionally, as a photosensitive composition used for such a purpose, a photopolymerizable composition is well known, and a part thereof is put into practical use. In addition, recent high-sensitivity photopolymers incorporating a photoinitiating technology that is highly sensitive to visible light have been increased in sensitivity to an area used for direct plate-making with a visible laser, and are widely used as so-called CTP plates.

より高生産性の追求としての描画速度向上に対応すべく、さらなる高感度化が必要であるばかりでなく、作業性の点で暗室ではなく黄色灯や白色灯下での取り扱い性(明室化)の要求も高まっている。さらに、上記高感度化のために光重合開始剤あるいは光重合開始系の設計開発がなされており、高感度な光重合開始剤として注目されるのが、ヘキサアリールビイミダゾール光重合開始剤である。このようなヘキサアリールビイミダゾール光重合開始剤は可視光に吸収のないものが多く、これを含有する感光性組成物は、波長300nm〜450nmの紫外−紫色レーザー及び800〜1200nmの赤外レーザーといった露光方式との組み合わせにより、明室化も可能となってきている。   In order to respond to the improvement in drawing speed as a pursuit of higher productivity, not only higher sensitivity is required, but also in terms of workability, it is easy to handle under a yellow or white light instead of a dark room. ) Is also increasing. Furthermore, a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiation system has been designed and developed to increase the sensitivity, and the hexaarylbiimidazole photopolymerization initiator attracts attention as a highly sensitive photopolymerization initiator. . Many of such hexaarylbiimidazole photopolymerization initiators do not absorb visible light, and photosensitive compositions containing them include ultraviolet-violet lasers with wavelengths of 300 nm to 450 nm and infrared lasers with wavelengths of 800 to 1200 nm. A bright room is also possible by combining with the exposure method.

しかしヘキサアリールビイミダゾール光重合開始剤のみでは感度が十分ではなく、増感色素や連鎖移動剤を添加する必要がある。連鎖移動剤としては一般にチオール化合物が用いられることが知られている(例えば、特許文献1参照)。また、増感色素としてオキサゾール化合物を用いることが提案されている(特許文献2参照)。しかしながら、これらの技術によっても未だ細線再現性および耐刷性は十分でない。
米国特許第5,256,520号明細書 国際公開第2004−074930号パンフレット
However, the sensitivity is not sufficient only with the hexaarylbiimidazole photopolymerization initiator, and it is necessary to add a sensitizing dye or a chain transfer agent. It is known that a thiol compound is generally used as the chain transfer agent (see, for example, Patent Document 1). It has also been proposed to use an oxazole compound as a sensitizing dye (see Patent Document 2). However, even with these techniques, fine line reproducibility and printing durability are still insufficient.
US Pat. No. 5,256,520 International Publication No. 2004-074930 Pamphlet

本発明の目的は、レーザー光で直接描画可能であり、細線再現性および耐刷性に優れた平版印刷版原版及びその製版方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of direct drawing with a laser beam and excellent in fine line reproducibility and printing durability, and a plate making method thereof.

本発明者は、種々研究の結果、特定の増感色素を含む重合開始系と架橋性基を有するバインダーポリマーとを組み合わせることによって上記課題が解決できることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。   As a result of various studies, the present inventor has found that the above problem can be solved by combining a polymerization initiation system containing a specific sensitizing dye and a binder polymer having a crosslinkable group. That is, the present invention is as follows.

1.支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および(D)架橋性基を有するバインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。   1. On the support, (A) a sensitizing dye represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a binder having a crosslinkable group A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing a polymer.

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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ここで、R1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
Here, R < 1 > -R < 14 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom each independently. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

2.(D)架橋性基を有するバインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体または側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。
3.感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする前記1又は2に記載の平版印刷版原版。
2. (D) The binder polymer having (D) a crosslinkable group is a (meth) acrylic acid copolymer having a crosslinkable group in a side chain or a polyurethane resin having a crosslinkable group in a side chain. Lithographic printing plate precursor.
3. The lithographic printing plate precursor as described in 1 or 2 above, wherein the photosensitive layer further contains (E) a chain transfer agent.

4.(E)連鎖移動剤が、下記一般式(A)で表されるチオール化合物であることを特徴とする前記3に記載の平版印刷版原版。   4). (E) The lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein the chain transfer agent is a thiol compound represented by the following general formula (A).

Figure 2007171407
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ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員または6員のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   Here, R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. And A may further have a substituent.

5.(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物またはメタロセン化合物であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
6.感光層上に、保護層を有することを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
5. (B) The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the polymerization initiator is a hexaarylbiimidazole compound or a metallocene compound.
6). 6. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5 above, which has a protective layer on the photosensitive layer.

7.前記1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜600nmのレーザで画像露光した後、現像液を用いて現像処理をすることを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。
8.前記現像液がポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする前記7に記載の平版印刷版原版の製版方法。
7). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 6 above, wherein the lithographic printing plate precursor is subjected to image development with a laser of 350 to 600 nm and then developed using a developer. .
8). The plate making method of a lithographic printing plate precursor as described in 7 above, wherein the developer contains a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.

本発明によれば、レーザー光で直接描画可能であり、細線再現性および耐刷性に優れた平版印刷版原版を提供できる。
本発明に係る特定の増感色素を含む重合開始系と架橋性基を有するバインダーポリマーとを組み合わせて用いることによって、露光部の硬化性が改良され、細線再現性および耐刷性が向上する。また、感光層に連鎖移動剤を添加することにより、更に良好な効果が発現される。
According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that can be directly drawn with a laser beam and has excellent fine line reproducibility and printing durability.
By using a combination of a polymerization initiating system containing a specific sensitizing dye according to the present invention and a binder polymer having a crosslinkable group, the curability of the exposed area is improved, and fine line reproducibility and printing durability are improved. Further, by adding a chain transfer agent to the photosensitive layer, a better effect is exhibited.

〔感光層〕
本発明の平版印刷版原版における感光層は、(A)一般式(I)又は(II)で表される増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および(D)架橋性基を有するバインダーポリマーを含有する。また感光層は、必要に応じて、(E)連鎖移動剤、さらにその他の成分を含有することができる。
以下、感光層の構成成分について詳細に説明する。
(Photosensitive layer)
The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention comprises (A) a sensitizing dye represented by formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D). Contains a binder polymer having a crosslinkable group. The photosensitive layer can contain (E) a chain transfer agent and other components as required.
Hereinafter, the components of the photosensitive layer will be described in detail.

(A)増感色素
本発明に用いられる増感色素は、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物である。
(A) Sensitizing dye The sensitizing dye used in the present invention is a compound represented by the following general formula (I) or (II).

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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ここで、R1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
Here, R < 1 > -R < 14 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom each independently. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

上記アルキル基及びアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、直鎖でも分岐でもよいが、分岐が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。
また、アルキル基及びアルコキシ基におけるアルキレン鎖中には、エステル結合、エーテル結合、またはチオエーテル結合が含まれていてもよい。
The alkyl group and alkoxy group may have a substituent and may be linear or branched, but is preferably branched. Examples of the substituent include a halogen atom and a hydroxyl group.
Further, the alkylene chain in the alkyl group and the alkoxy group may contain an ester bond, an ether bond, or a thioether bond.

1、R5、R6、R10、R11、R12、R13及びR14は、好ましくは、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、特にR1、R5、R6及びR10が水素原子、R2〜R4、R7〜R9が独立にアルコキシ基であり、その少なくとも2つが炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが好ましい。
また、R2、4、R7及びR9が、メトキシ基、R3及びR8が炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが特に好ましい。
R 1 , R 5 , R 6 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are preferably each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, particularly R 1 , R 5 , R 6 and R 10 are preferably a hydrogen atom, R 2 to R 4 and R 7 to R 9 are independently an alkoxy group, and at least two of them are preferably a branched alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms.
R 2, R 4 , R 7 and R 9 are particularly preferably a methoxy group, and R 3 and R 8 are each a branched alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms.

15、R19、R20、R24、R25〜R32は、好ましくは、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、特にR15、R19、R20及びR24が水素原子、R16〜R18、R21〜R23が独立にアルコキシ基であり、その少なくとも2つが炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが好ましい。
また、R16、R18、R21及びR23が、メトキシ基、R17及びR22が炭素数3〜15の分岐アルコキシ基であることが特に好ましい。
R 15 , R 19 , R 20 , R 24 and R 25 to R 32 are preferably each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, and in particular, R 15 , R 19 , R 20 and R 24 are It is preferable that a hydrogen atom, R < 16 > -R < 18 >, R < 21 > -R < 23 > is an alkoxy group independently, and at least 2 is a C3-C15 branched alkoxy group.
R 16 , R 18 , R 21 and R 23 are particularly preferably a methoxy group, and R 17 and R 22 are each a branched alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms.

以下に、一般式(I)又は(II)で表される増感色素の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sensitizing dye represented by formula (I) or (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007171407
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上記増感色素は、WO2005/029187に記載の方法など公知の方法にて合成することができる。   The sensitizing dye can be synthesized by a known method such as the method described in WO2005 / 029187.

本発明の増感色素は、1種以上の重合開始剤と組み合わせて用いることができる。
増感色素の添加量は特に限定はないが、感光層全固形分の0.2〜25質量%が好ましく、0.5〜15質量%が特に好ましい。
The sensitizing dye of the present invention can be used in combination with one or more polymerization initiators.
The addition amount of the sensitizing dye is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 25% by mass, and particularly preferably 0.5 to 15% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer.

(B)重合開始剤
本発明に使用される重合開始剤としては、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。
(B) Polymerization initiator The polymerization initiator used in the present invention includes trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, and organic boron compounds. , Disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable.

ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤としては、特公昭45−37377号、特
公昭44−86516号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Examples of the hexaarylbiimidazole polymerization initiator include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, for example, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′. , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5 5 ' Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.

トリハロメチル化合物としてはトリハロメチル-s-トリアジンが好ましく、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−アミノ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(P−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等の特開昭58−29803号記載のトリハロゲン置換メチル基を有するs−トリアジン誘導体等が挙げられる。   The trihalomethyl compound is preferably trihalomethyl-s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- Trimethyl compounds described in JP-A-58-29803 such as amino-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (P-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like. Examples thereof include s-triazine derivatives having a halogen-substituted methyl group.

オニウム塩としては、下記一般式(III)で表されるオニウム塩が挙げられる。   Examples of the onium salt include onium salts represented by the following general formula (III).

Figure 2007171407
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一般式(III)中、R11、R12およびR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。
-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
In general formula (III), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms.
Z represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and sulfonate ion, preferably perchlorate ion, hexa Fluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

チタノセン化合物としては、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。
具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム等を挙げることができる。
As the titanocene compound, for example, known compounds described in JP-A Nos. 59-152396 and 61-151197 can be appropriately selected and used.
Specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5, 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluoro Phen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2, 3, 5, 6 Tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis [2,6-difluoro-3- ( Pyr-1-yl) phenyl] titanium and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. And compounds described in JP 2000-80068 A.

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
The polymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0 mass%-10 mass%.

(C)重合性化合物
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the photosensitive layer in the invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and preferably has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably It is selected from compounds having two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) Examples include modified triacrylates and polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジ
エチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(B)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (B) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (B)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (B)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以
上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.

(D)バインダーポリマー
本発明では、感光層の皮膜特性や現像性の向上のため、バインダーポリマーを必須成分として用いる。また、本発明のバインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが特徴である。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
(D) Binder polymer In the present invention, a binder polymer is used as an essential component in order to improve the film properties and developability of the photosensitive layer. In addition, the binder polymer of the present invention is characterized by having crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(1)〜(3)で表される官能基が特に好ましい。   Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (1)-(3) is especially preferable.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

上記一般式(1)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、1価の有機基を表すが、R1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。また、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことから好ましい。 In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group, and R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom and a methyl group are preferable because of high radical reactivity. Further, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent group, a substituted An aryl group that may have a group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表し、R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。ここで、R12は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。 X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Here, examples of R 12 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   Here, examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, A sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

上記一般式(2)において、R4〜R8は、それぞれ独立に1価の有機基を表すが、R4〜R8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。 In the general formula (2), R 4 to R 8 each independently represents a monovalent organic group, and R 4 to R 8 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, Carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, substituted An aryloxy group which may have a group, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, a substituent Examples thereof include an arylsulfonyl group which may have a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent. .

導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Yは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表す。R12は、一般式(1)のR12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。 Examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in general formula (1), and preferred examples are also the same.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

上記一般式(3)において、R9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を
有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことから好ましい。
In the general formula (3), R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group has high radical reactivity. preferable. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, a substituent An arylamino group that may have, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, an arylsulfonyl group that may have a substituent, and the like, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 Here, examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Further, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 13) -, or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

本発明の側鎖に上記架橋性基を有するバインダーポリマーは、感光層の皮膜形成剤として機能するだけでなく、現像液、好ましくはアルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体であることが好ましい。そのため、本発明のバインダーポリマーは、側鎖に架橋性基の他にアルカリ可溶性基、例えばカルボキシル基などを有することが好ましい。
側鎖に架橋性基を有するバインダーポリマーが、水可溶性の有機高分子重合体である場合には水現像が可能になる。
The binder polymer having the crosslinkable group in the side chain of the present invention not only functions as a film-forming agent for the photosensitive layer, but also needs to be dissolved in a developer, preferably an alkali developer. It is preferably a swellable organic polymer. Therefore, the binder polymer of the present invention preferably has an alkali-soluble group such as a carboxyl group in the side chain in addition to the crosslinkable group.
When the binder polymer having a crosslinkable group in the side chain is a water-soluble organic polymer, water development is possible.

上記本発明のバインダーポリマーとしては、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているもの、すなわち、側鎖にアリル基、(メタ)アクリロイル基などの架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げられる。
また、本発明のバインダーポリマーとしては、同様に側鎖に上記架橋性基とカルボキシル基を有する、ポリウレタン、酸性セルロース誘導体および水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
上記の中でも、(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタンがより好ましい。特に、ポリウレタン樹脂は、感光層の酸価が低くとも未露光部の現像性を低下させることなく、露光部の現像ダメージを抑制することができ、良好な汚れ性と高い耐刷性を兼ね備えることができる点で好ましい。
以下に側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂について、さらに詳しく説明する。
Examples of the binder polymer of the present invention include those described in JP-A-59-53836 and JP-A-59-71048, that is, crosslinks such as allyl groups and (meth) acryloyl groups in the side chain. (Meth) acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer having a functional group.
Further, as the binder polymer of the present invention, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a crosslinkable group and a carboxyl group in the side chain, polyurethane, an acidic cellulose derivative and a hydroxyl group are also useful. It is.
Among the above, (meth) acrylic acid copolymer and polyurethane are more preferable. In particular, the polyurethane resin can suppress the development damage of the exposed area without lowering the developability of the unexposed area even if the acid value of the photosensitive layer is low, and has both good stain resistance and high printing durability. It is preferable at the point which can do.
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain will be described in more detail below.

本発明で特に好ましく用いられる側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、(i)ジイソシアネート化合物、(ii)カルボキシル基を有するジオール化合物、(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物および必要であれば(iv)カルボキシル基を有さないジオール化合物、を重付加反応させることにより得ることができる。
以下に上記ポリウレタン樹脂の原料であるジイソシアネート化合物およびジオール化合物について説明する。
The polyurethane resin having a crosslinkable group in the side chain particularly preferably used in the present invention includes (i) a diisocyanate compound, (ii) a diol compound having a carboxyl group, (iii) a diisocyanate compound having a crosslinkable group, and if necessary. (Iv) It can be obtained by subjecting a diol compound having no carboxyl group to a polyaddition reaction.
The diisocyanate compound and diol compound, which are raw materials for the polyurethane resin, will be described below.

(i)ジイソシアネート化合物
ジイソシアネート化合物としては、式(4)で表されるジイソシアネート化合物が挙げられる。
(I) Diisocyanate Compound Examples of the diisocyanate compound include a diisocyanate compound represented by the formula (4).

OCN−L−NCO (4)           OCN-L-NCO (4)

式中、Lは置換基を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。必要に応じ、Lはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。より具体的にはLは、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン基、炭素数6〜15個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、L中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。   In the formula, L represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. If necessary, L may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, and ureido groups. More specifically, L is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group which may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred). Indicates. Preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is shown. If necessary, L may have another functional group that does not react with an isocyanate group, for example, carbonyl, ester, urethane, amide, ureido, or ether group.

具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(または2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等のような脂環式ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のようなジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。   Specific examples include the following. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate Aromatic diisocyanate compounds such as 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate compounds; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate Nitrate, cycloaliphatic diisocyanate compounds such as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, etc .; reaction product of diol and diisocyanate such as adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate The diisocyanate compound etc. which are are mentioned.

ジイソシアネート化合物は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。耐刷性と汚れ性のバランスの点で、2種以上を組み合わせて用いるのが好ましく、芳香族ジイソシアネート化合物(Lが芳香族基)と脂肪族ジイソシアネート化合物(Lが脂肪族基)をそれぞれ少なくとも1種ずつ用いることが特に好ましい。   A diisocyanate compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. It is preferable to use a combination of two or more in terms of the balance between printing durability and stain resistance, and at least one aromatic diisocyanate compound (L is an aromatic group) and aliphatic diisocyanate compound (L is an aliphatic group). It is particularly preferred to use each species.

ジイソシアネートの使用量は、ジオール化合物に対してモル比で好ましくは0.8〜1.2、より好ましくは0.9〜1.1である。ジイソシアネート化合物をジオール化合物に対して過剰に用い、ポリマー末端にイソシアネート基が残存するような場合には、ウレタン化反応終了後にアルコール類またはアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成されることが好ましい。   The amount of diisocyanate used is preferably 0.8 to 1.2, more preferably 0.9 to 1.1 in terms of molar ratio to the diol compound. If the diisocyanate compound is used in excess relative to the diol compound, and the isocyanate group remains at the polymer end, the isocyanate group finally remains by treating with an alcohol or amine after completion of the urethanization reaction. It is preferable that they are synthesized in a form that does not.

(ii)少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物
少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物としては、式(5)、(6)、(7)のジオール化合物および/または、テトラカルボン酸2無水物をジオール化合物で開環させた化合物が挙げられる。カルボン酸2無水物を開環させるために使用されるジオール化合物を使用することができる。
(Ii) Diol compound having at least one carboxyl group As the diol compound having at least one carboxyl group, a diol compound of formula (5), (6), (7) and / or tetracarboxylic dianhydride is used. Examples thereof include compounds opened with a diol compound. The diol compound used to ring-open the carboxylic dianhydride can be used.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

1は水素原子、置換基(例えば、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、−CONH2、−COOR113、−OR113、−NHCONHR113、−NHCOOR113、−NHCOR113、−OCONHR113(ここで、R113は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアラルキル基を示す。)などの各基が含まれる。)を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。L10、L11、L12はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン基、炭素数6〜15個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、L10、L11、L12中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なおR1、L10、L11、L12のうちの2または3個で環を形成してもよい。Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数6〜15個の芳香族基を示す。 R 1 represents a hydrogen atom, a substituent (for example, cyano, nitro, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), —CONH 2 , —COOR 113 , —OR 113 , —NHCONHR 113 , —NHCOOR 113). , -NHCOR 113 , -OCONHR 113 (wherein R 113 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms). And may be an alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, or aryloxy group, preferably a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. L 10 , L 11 and L 12 may be the same or different, and may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred). A divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group is shown. Preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is shown. If necessary, L 10 , L 11 , and L 12 may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, ureido, and ether groups. A ring may be formed by 2 or 3 of R 1 , L 10 , L 11 and L 12 . Ar represents a trivalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms.

式(5)、(6)または(7)で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the diol compound having a carboxyl group represented by the formula (5), (6) or (7) include those shown below.

すなわち、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酪酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。   3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, Bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butyric acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-dihydroxyethylglycine N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-carboxy-propionamide and the like.

また、少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物の生成において用いられる好ましいテトラカルボン酸2無水物としては、式(8)、(9)、(10)で示されるものが挙げられる。   Moreover, as a preferable tetracarboxylic dianhydride used in the production | generation of the at least 1 sort (s) of diol compound which has an at least 1 carboxyl group, what is shown by Formula (8), (9), (10) is mentioned.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

式中、L21は単結合、置換基(例えばアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、エステル、アミドの各基が好ましい。)を有していてもよい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−CO−、−SO−、−SO2−、−O−または−S−を示す。好ましくは単結合、炭素数1〜15個の二価の脂肪族炭化水素基、−CO−、−SO2−、−O−または−S−を示す。R2、R3は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、またはハロゲノ基を示す。好ましくは、水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール、炭素数1〜8個のアルコキシ、またはハロゲノ基を示す。またL21、R2、R3のうちの2つが結合して環を形成してもよい。R4、R5は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリールまたはハロゲノ基を示す。好ましくは水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、または炭素数6〜15個のアリール基を示す。またL21、R4、R5のうちの2つが結合して環を形成してもよい。L22、L23は同一でも相違していてもよく、単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を示す。Aは単核または多核の芳香環を示す。好ましくは炭素数6〜18個の芳香環を示す。 In the formula, L 21 is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon which may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, halogeno, ester, amide groups are preferred). A group, —CO—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —S—; Preferably, it represents a single bond, a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, —CO—, —SO 2 —, —O— or —S—. R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, or halogeno group. Preferably, a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl, a C6-C15 aryl, a C1-C8 alkoxy, or a halogeno group is shown. Two of L 21 , R 2 and R 3 may be bonded to form a ring. R 4 and R 5 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl, aralkyl, aryl or halogeno group. Preferably a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl, or a C6-C15 aryl group is shown. The L 21, R 4, although two may form a ring of R 5. L 22 and L 23 may be the same or different and each represents a single bond, a double bond, or a divalent aliphatic hydrocarbon group. Preferably a single bond, a double bond, or a methylene group is shown. A represents a mononuclear or polynuclear aromatic ring. An aromatic ring having 6 to 18 carbon atoms is preferable.

式(8)、(9)または(10)で示される化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the compound represented by the formula (8), (9) or (10) include those shown below.

すなわち、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,4'−スルホニルジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二
無水物、4,4'−[3,3'−(アルキルホスホリルジフェニレン)−ビス(イミノカルボニル)]ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業(株)製、エピクロンB−4400)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
That is, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6 , 7-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-sulfonyldiphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4 Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4 ′-[3,3 ′-(alkylphosphoryldiphenylene) -bis (iminocarbonyl)] diphthalic acid Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as dianhydrides, adducts of hydroquinone diacetate and trimetic anhydride, diacetyldiamine and trimetic anhydride; 5- (2,5-dioxote Trahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., Epicron B-4400), 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic Alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as acid dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride; 1,2,3,4-butanetetra Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as carboxylic dianhydride and 1,2,4,5-pentanetetracarboxylic dianhydride may be mentioned.

これらのテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環することにより、(ii)少なくとも一つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物を合成することができる。ただし、ジオール化合物と(i)ジイソシアネート化合物との反応を初めに行い、この反応物と上記テトラカルボン酸二無水物とを反応させることにより本発明のポリウレタン樹脂を合成することも可能であり、この方法も本発明の観点に包含される。すなわち、テトラカルボン酸二無水物とジオール化合物から由来する構造単位をポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、以下の方法がある。   By ring-opening these tetracarboxylic dianhydrides with a diol compound, (ii) at least one diol compound having at least one carboxyl group can be synthesized. However, it is also possible to synthesize the polyurethane resin of the present invention by first reacting the diol compound with (i) the diisocyanate compound and reacting this reactant with the tetracarboxylic dianhydride. Methods are also encompassed by aspects of the present invention. That is, as a method for introducing a structural unit derived from tetracarboxylic dianhydride and a diol compound into a polyurethane resin, there are the following methods.

a)テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。
b)ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
a) A method of reacting an alcohol-terminated compound obtained by ring-opening tetracarboxylic dianhydride with a diol compound and a diisocyanate compound.
b) A method of reacting an alcohol-terminated urethane compound obtained by reacting a diisocyanate compound under an excess of a diol compound with tetracarboxylic dianhydride.

少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物のうち、一般式(5)で表される化合物は、溶剤溶解性が高く、合成が容易であるためより好ましい。また、少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物は、該ポリウレタン樹脂バインダーがカルボキシル基を0.2〜4.0meq/g、好ましくは0.3〜3.0meq/g、さらに好ましくは0.4〜2.0meq/g、特に好ましくは0.5〜1.5meq/g、最も好ましくは0.6〜1.2meq/gの範囲で有するような量においてポリウレタン樹脂バインダーに導入される。従って、少なくとも一つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物由来の構造のポリウレタン樹脂バインダー中における含有量は、カルボキシル基の数、他のジオール成分として何を用いるか、得られるポリウレタン樹脂バインダーの酸価や分子量、現像液の組成やpH等によって適宜選択されるが、例えば、5〜45モル%、好ましくは10〜40モル%、より好ましくは15〜35モル%である。   Of the at least one diol compound having at least one carboxyl group, the compound represented by the general formula (5) is more preferable because of high solvent solubility and easy synthesis. Further, at least one diol compound having at least one carboxyl group, the polyurethane resin binder has a carboxyl group of 0.2 to 4.0 meq / g, preferably 0.3 to 3.0 meq / g, more preferably Introduced into the polyurethane resin binder in such an amount as having a range of 0.4 to 2.0 meq / g, particularly preferably 0.5 to 1.5 meq / g, most preferably 0.6 to 1.2 meq / g. . Accordingly, the content in the polyurethane resin binder having a structure derived from at least one diol compound having at least one carboxyl group is the number of carboxyl groups, what is used as the other diol component, and the acid of the polyurethane resin binder obtained. Although it is appropriately selected depending on the value, molecular weight, developer composition, pH, etc., for example, it is 5 to 45 mol%, preferably 10 to 40 mol%, more preferably 15 to 35 mol%.

(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物
架橋性基を有するジイソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネート化合物と、架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物がある。
トリイソシアネート化合物としては、例えば下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
(Iii) Diisocyanate compound having a crosslinkable group As the diisocyanate compound having a crosslinkable group, for example, a triisocyanate compound and a monofunctional alcohol having a crosslinkable group or 1 equivalent of a monofunctional amine compound are subjected to an addition reaction. There is a product obtained.
Examples of the triisocyanate compound include those shown below, but are not limited thereto.

Figure 2007171407
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架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単官能のアミン化合物としては、例えば下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Examples of the monofunctional alcohol or monofunctional amine compound having a crosslinkable group include those shown below, but are not limited thereto.

Figure 2007171407
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ここで、ポリウレタン樹脂の側鎖に架橋性基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に架橋性基を含有するジイソシアネート化合物を用いる方法が好適である。トリイソシアネート化合物と架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単
官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、側鎖に架橋性基を有するものとしては、例えば、下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
Here, as a method for introducing a crosslinkable group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diisocyanate compound containing a crosslinkable group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is suitable. Examples of the diisocyanate compound that can be obtained by addition reaction of a triisocyanate compound and one equivalent of a monofunctional alcohol having a crosslinkable group or a monofunctional amine compound having a crosslinkable group in the side chain include, for example, Although the following are mentioned, it is not limited to this.

Figure 2007171407
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(iv)その他のジオール化合物
ポリウレタン樹脂の側鎖に不飽和基を導入する方法としては、前述の方法の他に、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法も好適である。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、不飽和基を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これら化合物の具体的な例として、下記に示す化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(Iv) Other diol compound As a method for introducing an unsaturated group into the side chain of the polyurethane resin, in addition to the above-described method, a diol compound containing an unsaturated group in the side chain is used as a raw material for polyurethane resin production. A method is also suitable. Such a diol compound may be a commercially available one such as trimethylolpropane monoallyl ether, a halogenated diol compound, a triol compound, an aminodiol compound, a carboxylic acid containing an unsaturated group, and an acid. It may be a compound that is easily produced by a reaction with a chloride, isocyanate, alcohol, amine, thiol, or alkyl halide compound. Specific examples of these compounds include, but are not limited to, the compounds shown below.

Figure 2007171407
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さらに別のその他のジオール化合物としては下記一般式(A’)で表されるエチレングリコール化合物を挙げることができる。   Still another diol compound includes an ethylene glycol compound represented by the following general formula (A ′).

HO−(CH2CH2O)n−H (A’)
(式中、nは1以上の整数を表す。)
HO— (CH 2 CH 2 O) n —H (A ′)
(In the formula, n represents an integer of 1 or more.)

また、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダム共重合体やブロック共重合体も挙げられる。   Moreover, the random copolymer and block copolymer of ethylene oxide and propylene oxide which have a hydroxyl group at the terminal are also mentioned.

さらに、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が27以上100以下)、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が22以上100以下)、水添ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が23以上100以下)、水添ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が18以上100以下)も用いることができる。
より具体的には、一般式(A’)で表されるエチレングリコール化合物が汚れ性の点で好ましく、nが2〜50のエチレングリコール化合物がより好ましく、nが3〜30のエチレングリコール化合物がさらに好ましく、nが4〜10のエチレングリコール化合物が特に好ましい。
Furthermore, bisphenol A ethylene oxide adduct (addition number of ethylene oxide 27 to 100), bisphenol F ethylene oxide adduct (ethylene oxide addition number 22 to 100), hydrogenated bisphenol A ethylene oxide adduct (addition of ethylene oxide) The ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F (the number of addition of ethylene oxide is 18 or more and 100 or less) can also be used.
More specifically, the ethylene glycol compound represented by the general formula (A ′) is preferable in terms of soiling property, n is more preferably an ethylene glycol compound having 2 to 50, and n is an ethylene glycol compound having 3 to 30. More preferably, an ethylene glycol compound having n of 4 to 10 is particularly preferable.

具体的には、1,2−プロピレングリコール、ジ−1,2−プロピレングリコール、トリ−1,2−プロピレングリコール、テトラ−1,2−プロピレングリコール、ヘキサ−1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、ジ−1,3−プロピレングリコール、トリ−1,3−プロピレングリコール、テトラ−1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジ−1,3−ブチレングリコール、トリ−1,3−ブチレングリコール、ヘキサ−1,3−ブチレングリコール、平均分子量400のポリプロピレングリコール、平均分子量700のポリプロピレングリコール、平均分子量1000のポリプロピレングリコール、平均分子量2000のポリプロピレングリコール、平均分子量3000のポリプロピレングリコール、平均分子量4000のポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が26以下)、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が21以下)、水添ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が22以下)、水添ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が17以下)、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。   Specifically, 1,2-propylene glycol, di-1,2-propylene glycol, tri-1,2-propylene glycol, tetra-1,2-propylene glycol, hexa-1,2-propylene glycol, 1, 3-propylene glycol, di-1,3-propylene glycol, tri-1,3-propylene glycol, tetra-1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, di-1,3-butylene glycol, tri- 1,3-butylene glycol, hexa-1,3-butylene glycol, polypropylene glycol having an average molecular weight of 400, polypropylene glycol having an average molecular weight of 700, polypropylene glycol having an average molecular weight of 1000, polypropylene glycol having an average molecular weight of 2000, and polypropylene having an average molecular weight of 3000 Glycol, average molecular weight 4000 polypropylene glycol, neopentyl glycol, 2-butene-1,4-diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, hydrogenated bisphenol A , Hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A (ethylene oxide addition number of 26 or less), ethylene oxide adduct of bisphenol F (ethylene oxide addition number of 21 or less), hydrogenated bisphenol A ethylene oxide adduct (ethyleneoxy ), Hydrogenated bisphenol F ethylene oxide adduct (ethylene oxide addition number 17 or less), bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol F propylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A propylene oxide Adduct, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, dihydroxyethyl sulfone, bis (2-hydroxyethyl) -2,4-tolylene dicarbamate, 2,4-tolylene- Examples thereof include bis (2-hydroxyethylcarbamide), bis (2-hydroxyethyl) -m-xylylene dicarbamate, and bis (2-hydroxyethyl) isophthalate.

また、式(a)、(b)、(c)、(d)、(e)で表される化合物のポリエーテルジオール化合物も好適に用いることができる。   Moreover, the polyether diol compound of the compound represented by Formula (a), (b), (c), (d), (e) can also be used suitably.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

式中、R6は水素原子またはメチル基を表す。ただし、式(a)においては、R6はメチル基を表す。また、Xは、以下の基を表す。 In the formula, R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group. However, in the formula (a), R 6 represents a methyl group. X represents the following group.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

a,b,c,d,e,f,gはそれぞれ2以上の整数を示す。好ましくは2〜100の整数である。   a, b, c, d, e, f, and g each represent an integer of 2 or more. Preferably it is an integer of 2-100.

さらに、式(11)、(12)で表されるポリエステルジオール化合物も具体例として挙げることができる。   Furthermore, the polyester diol compound represented by Formula (11), (12) can also be mentioned as a specific example.

Figure 2007171407
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式中、L1、L2およびL3はそれぞれ同一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、L4は2価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは、L1、L2、L3はそれぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を示し、L4はアルキレン基を示す。またLl、L2、L3、L4中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n1、n2はそれぞれ2以上の整数であり、好ましくは2〜100の整数を示す。 In the formula, L 1 , L 2 and L 3 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and L 4 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group. Preferably, L 1 , L 2 and L 3 each represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group, and L 4 represents an alkylene group. In addition, L 1 , L 2 , L 3 , and L 4 contain other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group, or halogen atoms. May be. n1 and n2 are each an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

さらに、式(13)で表されるポリカーボネートジオール化合物も具体例として挙げることができる。   Furthermore, the polycarbonate diol compound represented by Formula (13) can also be mentioned as a specific example.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

式中、L5はそれぞれ同一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは、L5はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を示す。またL5中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n3はそれぞれ2以上の整数であり、好ましくは2〜100の整数を示す。 In the formula, L 5 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group. Preferably, L 5 represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group. In addition, other functional groups that do not react with the isocyanate group, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom may be present in L 5 . n3 is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

式(11)、(12)または(13)で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。具体例中のnは2以上の整数である。   Specific examples of the diol compound represented by the formula (11), (12) or (13) include those shown below. N in the specific examples is an integer of 2 or more.

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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また更に、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと反応しない他の置換基を有してもよいジオール化合物を用いることもできる。   Furthermore, a diol compound that does not have a carboxyl group and may have another substituent that does not react with isocyanate can also be used.

このようなジオール化合物としては、以下に示すものが含まれる。
HO−L6−O−CO−L7−CO−O−L6−OH (14)
HO−L7−CO−O−L6−OH (15)
Examples of such diol compounds include those shown below.
HO-L 6 -O-CO- L 7 -CO-O-L 6 -OH (14)
HO-L 7 -CO-O- L 6 -OH (15)

式中、L6、L7はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L6、L7中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおL6、L7で環を形成してもよい。 In the formula, L 6 and L 7 may be the same as or different from each other, and a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), A divalent aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have a group. If necessary, L 6 and L 7 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, for example, carbonyl, ester, urethane, amide, ureido group and the like. Note that L 6 and L 7 may form a ring.

式(14)または(15)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the compound represented by the formula (14) or (15) include those shown below.

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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また、下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。   Moreover, the diol compound shown below can also be used conveniently.

Figure 2007171407
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式中、R7、R8はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、好ましくは、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、−CONH2、−COOR、−OR、(ここで、Rは互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアリ−ル基、アラルキル基を示す。)などの各基を置換基として有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基を示す。 In the formula, R 7 and R 8 may be the same or different, and may be an alkyl group which may have a substituent, preferably cyano, nitro, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I ), - CONH 2, -COOR, -OR, ( wherein, R represents may be the same or different from each other, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, ants having 7 to 15 carbon atoms - group, aralkyl group An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have each group as a substituent.

式(16)で示されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。   Specific examples of the diol compound represented by the formula (16) include those shown below.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

式(17)としては、2−ブチン−1,4−ジオール、式(18)としては、cis−2−ブテン−1,4−ジオール、trans−2−ブテン−1,4−ジオール等が挙げられる。
また、下記式(19)、(20)に示すジオール化合物も好適に使用できる。
HO−L8−NH−CO−L9−CO−NH−L8−OH (19)
HO−L9−CO−NH−L8−OH (20)
Examples of the formula (17) include 2-butyne-1,4-diol, and examples of the formula (18) include cis-2-butene-1,4-diol and trans-2-butene-1,4-diol. It is done.
Moreover, the diol compound shown to following formula (19), (20) can also be used conveniently.
HO-L 8 -NH-CO- L 9 -CO-NH-L 8 -OH (19)
HO-L 9 -CO-NH- L 8 -OH (20)

式中、L8、L9はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L8、L9中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおL8、L9で環を形成してもよい。 In the formula, L 8 and L 9 may be the same as or different from each other, and a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), A divalent aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have a group. If necessary, L 8 and L 9 may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, ureido groups and the like. Note that L 8 and L 9 may form a ring.

式(19)または(20)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the compound represented by the formula (19) or (20) include those shown below.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

Figure 2007171407
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さらに、下記式(21)、(22)に示すジオール化合物も好適に使用できる。
HO−Ar2−(L16−Ar3n−OH (21)
HO−Ar2−L16−OH (22)
Furthermore, diol compounds represented by the following formulas (21) and (22) can also be suitably used.
HO-Ar 2 - (L 16 -Ar 3) n -OH (21)
HO-Ar 2 -L 16 -OH ( 22)

式中、L16は置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基を示す。必要に応じ、L16中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。 In the formula, L 16 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent (eg, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy and halogeno groups are preferable). If necessary, L 16 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, such as an ester, urethane, amide, or ureido group.

Ar2、Ar3は同一でも相違していてもよく、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数6〜15個の芳香族基を示す。nは0〜10の整数を示す。
式(21)または(22)で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。
Ar 2 and Ar 3 may be the same or different and each represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms. n represents an integer of 0 to 10.
Specific examples of the diol compound represented by the formula (21) or (22) include those shown below.

すなわち、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン、4−メチルカテコール、4−t−ブチルカテコール、4−アセチルカテコール、3−メトキシカテコール、4−フェニルカテコール、4−メチルレゾルシン、4−エチルレゾルシン、4−t−ブチルレゾルシン、4−ヘキシルレゾルシン、4−クロロレゾルシン、4−ベンジルレゾルシン、4−アセチルレゾルシン、4−カルボメトキシレゾルシン、2−メチルレゾルシン、5−メチルレゾルシン、t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−アミルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノン、テトラクロロハイドロキノン、メチルカルボアミノハイドロキノン、メチルウレイドハイドロキノン、メチルチオハイドロキノン、ベンゾノルボルネン−3,6−ジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールS、3,3'−ジクロロビスフェノールS、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−チオジフェノール、2,2'−ジヒドロキシジフェニルメタン、3,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、1,4−ビス(2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピル)ベンゼン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メチルアミン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシアントラキノン、2−ヒドロキシベンジルアルコール、4−ヒドロキシベンジルアルコール、2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルアルコール、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルアルコール、4−ヒドロキシフェネチルアルコール、2−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、レゾルシンモノ−2−ヒドロキシエチルエーテル等が挙げられる。下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。   That is, catechol, resorcin, hydroquinone, 4-methylcatechol, 4-t-butylcatechol, 4-acetylcatechol, 3-methoxycatechol, 4-phenylcatechol, 4-methylresorcin, 4-ethylresorcin, 4-t-butyl Resorcin, 4-hexyl resorcin, 4-chlororesorcin, 4-benzyl resorcin, 4-acetyl resorcin, 4-carbomethoxy resorcin, 2-methyl resorcin, 5-methyl resorcin, t-butyl hydroquinone, 2,5-di-t -Butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, tetramethylhydroquinone, tetrachlorohydroquinone, methylcarboaminohydroquinone, methylureidohydroquinone, methylthiohydroquinone, benzonor Runene-3,6-diol, bisphenol A, bisphenol S, 3,3′-dichlorobisphenol S, 4,4′-dihydroxybenzophenone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-thiodiphenol, 2, 2′-dihydroxydiphenylmethane, 3,4-bis (p-hydroxyphenyl) hexane, 1,4-bis (2- (p-hydroxyphenyl) propyl) benzene, bis (4-hydroxyphenyl) methylamine, 1,3 -Dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxyanthraquinone, 2-hydroxybenzyl alcohol, 4-hydroxybenzyl alcohol, 2-hydroxy-3, 5-di-t-butylbenzyl Alcohol, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl alcohol, 4-hydroxyphenethyl alcohol, 2-hydroxyethyl-4-hydroxybenzoate, 2-hydroxyethyl-4-hydroxyphenyl acetate, resorcin mono-2- And hydroxyethyl ether. The diol compound shown below can also be used conveniently.

(v)その他のアミノ基含有化合物
本発明におけるポリウレタン樹脂バインダーにおいて、さらに下記式(31)、(32)に示すアミノ基含有化合物を組み合わせてジイソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成してポリウレタン樹脂の構造に組み込んでもよい。
(V) Other amino group-containing compound In the polyurethane resin binder of the present invention, the amino group-containing compound represented by the following formulas (31) and (32) is further combined and reacted with a diisocyanate compound to form a urea structure to form a polyurethane resin. It may be incorporated into the structure.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

式中、R106、R106'はそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、置換基(例えばアルコキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、エステル、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール基を示し、好ましくは水素原子、置換基としてカルボキシル基を有していてもよい炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。L17は置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L17中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド基などを有していてもよい。なおR106、L17、R106'のうちの2個で環を形成してもよい。 In the formula, R 106 and R 106 ′ may be the same or different, and each may be a hydrogen atom, a substituent (for example, alkoxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), ester, carboxyl group, etc. An alkyl group, an aralkyl group and an aryl group which may have a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl which may have a carboxyl group as a substituent, An aryl group having 6 to 15 carbon atoms is shown. L 17 has a substituent (for example, each group such as alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), carboxyl group and the like is included). And a divalent aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group. If necessary, L 17 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, such as a carbonyl group, an ester group, a urethane group or an amide group. Two of R 106 , L 17 and R 106 ′ may form a ring.

式(31)、(32)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the compounds represented by the formulas (31) and (32) include those shown below.

すなわち、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、プロパン−1,2−ジアミン、ビス(3−アミノプロピル)メチルアミン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルシロキサン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、4−アミノ−2,2−6,6−テトラメチルピペリジン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、リジン、L−シスチン、イソホロンジアミン等のような脂肪族ジアミン化合物;o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、ベンジジン、o−ジトルイジン、o−ジアニシジン、4−ニトロ−m−フェニレンジアミン、2,5−ジメトキシ−p−フェニレンジアミン、ビス−(4−アミノフェニル)スルホン、4−カルボキシ−o−フェニレンジアミン、3−カルボキシ−m−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノフェニルエーテル、1,8−ナフタレンジアミン等のような芳香族ジアミン化合物;2−アミノイミダゾール、3−アミノトリアゾール、5−アミノ−1H−テトラゾール、4−アミノピラゾール、2−アミノベンズイミダゾール、2−アミノ−5−カルボキシ−トリアゾール、2,4−ジアミノ−6−メチル−S−トリアジン、2,6−ジアミノピリジン、L−ヒスチジン、DL−トリプトファン、アデニン等のような複素環アミン化合物;エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、1−アミノ−2−プロパノール、1−アミノ−3−プロパノール、2−アミノエトキシエタノール、2−アミノチオエトキシエタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、o−アミノフェノール、4−メチル−2−アミノフェノール、2−クロロ−4−アミノフェノール、4−メトキシ−3−アミノフェノール、4−ヒドロキシベンジルアミン、4−アミノ−1−ナフトール、4−アミノサリチル酸、4−ヒドロキシ−N−フェニルグリシン、2−アミノベンジルアルコール、4−アミノフェネチルアルコール、2−カルボキシ−5−アミノ−1−ナフトール、L−チロシン等のようなアミノアルコールまたはアミノフェノール化合物。   That is, ethylenediamine, propylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, dodecamethylenediamine, propane-1,2-diamine, bis (3-aminopropyl) methylamine, 1 , 3-bis (3-aminopropyl) tetramethylsiloxane, piperazine, 2,5-dimethylpiperazine, N- (2-aminoethyl) piperazine, 4-amino-2,2-6,6-tetramethylpiperidine, N , N-dimethylethylenediamine, lysine, L-cystine, isophoronediamine, and the like; o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-tolylenediamine, benzidine, o- Toluidine, o-dianisidine, 4-nitro-m-phenylenediamine, 2,5-dimethoxy-p-phenylenediamine, bis- (4-aminophenyl) sulfone, 4-carboxy-o-phenylenediamine, 3-carboxy-m -Aromatic diamine compounds such as phenylenediamine, 4,4'-diaminophenyl ether, 1,8-naphthalenediamine, etc .; 2-aminoimidazole, 3-aminotriazole, 5-amino-1H-tetrazole, 4-aminopyrazole 2-aminobenzimidazole, 2-amino-5-carboxy-triazole, 2,4-diamino-6-methyl-S-triazine, 2,6-diaminopyridine, L-histidine, DL-tryptophan, adenine, etc. Heterocyclic amine compounds; ethanolamine, N- Tylethanolamine, N-ethylethanolamine, 1-amino-2-propanol, 1-amino-3-propanol, 2-aminoethoxyethanol, 2-aminothioethoxyethanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol P-aminophenol, m-aminophenol, o-aminophenol, 4-methyl-2-aminophenol, 2-chloro-4-aminophenol, 4-methoxy-3-aminophenol, 4-hydroxybenzylamine, 4 -Amino-1-naphthol, 4-aminosalicylic acid, 4-hydroxy-N-phenylglycine, 2-aminobenzyl alcohol, 4-aminophenethyl alcohol, 2-carboxy-5-amino-1-naphthol, L-tyrosine, etc. Such as amino alcohol or amino Lumpur compound.

本発明のバインダーポリマーとしては、ポリウレタン合成時に側鎖に架橋性基を導入して得られる上記のポリウレタン樹脂のほかに、特開2003−270775号公報に記載ようなカルボキシル基を有するポリウレタンに高分子反応で架橋性基を導入して得られるポリウレタン樹脂を用いることもできる。   As the binder polymer of the present invention, in addition to the polyurethane resin obtained by introducing a crosslinkable group into the side chain during the synthesis of polyurethane, a polymer having a carboxyl group as described in JP-A-2003-270775 is used. A polyurethane resin obtained by introducing a crosslinkable group by reaction can also be used.

本発明におけるバインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。   The molecular weight of the binder polymer in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.

本発明おいて用いられるバインダーポリマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらに、架橋性基をもたない他のバインダーポリマーを1種以上併用して、混合物として用いてもよい。併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のアルカリ可溶性または膨潤性バインダーを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等が好ましく用いられる。   The binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. Further, one or more other binder polymers having no crosslinkable group may be used in combination as a mixture. As the binder polymer that can be used in combination, a conventionally known alkali-soluble or swellable binder can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, or the like often used in the industry is preferably used.

感光層中での架橋性基を有するバインダーポリマーおよび併用してもよいバインダーポリマーの合計量は、適宜決めることができるが、感光層中の不揮発性成分の総質量に対し、通常、10〜90質量%であり、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。   Although the total amount of the binder polymer having a crosslinkable group in the photosensitive layer and the binder polymer that may be used in combination can be determined as appropriate, it is generally 10 to 90 with respect to the total mass of nonvolatile components in the photosensitive layer. It is mass%, Preferably it is 20-80 mass%, More preferably, it is the range of 30-70 mass%.

(E)連鎖移動剤
本発明の感光層には、連鎖移動剤を含有させることが好ましい。連鎖移動剤は感度および保存安定性向上に寄与する。連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
(E) Chain transfer agent The photosensitive layer of the invention preferably contains a chain transfer agent. Chain transfer agents contribute to improved sensitivity and storage stability. As the compound that acts as a chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.

本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
なかでも、下記一般式(A)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
In the photosensitive layer of the present invention, in particular, a thiol compound (for example, 2-mercaptobenzimidazoles) can be preferably used as a chain transfer agent.
Especially, the thiol compound represented by the following general formula (A) is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, the problem of odor and sensitivity reduction due to evaporation from the photosensitive layer and diffusion to other layers are avoided, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

一般式(A)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員または6員のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In the general formula (A), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A is a 5-membered or 6-membered carbon atom having an N═C—N moiety. Represents a group of atoms forming a member heterocycle, and A may further have a substituent.

さらに好ましくは下記一般式(IV)または一般式(V)で表されるものが使用される。   More preferably, those represented by the following general formula (IV) or general formula (V) are used.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

一般式(IV)および式(V)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、Xはハロゲン原子、アルコキシル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。   In general formulas (IV) and (V), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and X represents a halogen atom, an alkoxyl group or a substituent. The alkyl group which may have or the aryl group which may have a substituent is represented.

以下に、一般式(A)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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Figure 2007171407
Figure 2007171407

これら連鎖移動剤(チオール化合物)の使用量は感光層の全固形分の質量に対し、好ま
しくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0〜10質量%である。
The amount of these chain transfer agents (thiol compounds) used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0-10 mass%.

(F)その他の添加剤
平版印刷版原版の製造中あるいは保存中において感光層における不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、感光層を構成する全固形分に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
本発明の感光層には必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体等の添加量は、感光層を構成する全固形分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
更に感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料(C.I.Pigment Blue 15:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。着色剤の添加量は感光層全固形分の約0.5質量%〜約20質量%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は感光層全固形分の10質量%以下が好ましい。
(F) Other additives It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization in the photosensitive layer during the production or storage of the lithographic printing plate precursor. Suitable thermal polymerization inhibitors include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol) 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer.
If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the photosensitive layer of the present invention to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and the surface of the photosensitive layer is dried during coating. May be unevenly distributed. The addition amount of the higher fatty acid derivative or the like is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer.
Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments (CIPigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dye, anthraquinone. There are dyes and cyanine dyes. The addition amount of the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 20% by mass based on the total solid content of the photosensitive layer. In addition, in order to improve the physical properties of the cured film, an additive such as an inorganic filler or a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added. These addition amounts are preferably 10% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer.

〔感光層の形成〕
感光層の塗設に際しては、上記各成分を溶媒に溶解し塗布液を調製する。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライト、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート−3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチ
ロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどの有機溶媒がある。溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。
塗布溶液中の固形分の濃度は通常1〜50質量%である。
[Formation of photosensitive layer]
In coating the photosensitive layer, the above components are dissolved in a solvent to prepare a coating solution. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichlorite, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether. , Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, di Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate-3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are organic solvents such as ethyl. A solvent can be used individually or in mixture.
The density | concentration of the solid content in a coating solution is 1-50 mass% normally.

また、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することもできる。   In addition, a surfactant can be added to improve the coating surface quality.

感光層の被覆量は乾燥後の質量で、通常約0.1〜約10g/m2、好ましくは0.3〜5g/m2、より好ましくは0.5〜3g/m2である。 The coverage of the photosensitive layer in the weight after drying is generally about 0.1 to about 10 g / m 2, preferably from 0.3 to 5 g / m 2, more preferably 0.5 to 3 g / m 2.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは1.5≦A≦12 (mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦8.0 (mL/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably provided with a protective layer (oxygen blocking layer) on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention preferably has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day). When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. Conversely, when the oxygen permeability A exceeds 20 (mL / m 2 · day) and is too high, the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably in the range of 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), more preferably 2.0 ≦ A ≦ 8.0 (mL / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It is desirable that it can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl are used. Examples include water-soluble polymers such as alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, and polyacrylamide. Or they can be mixed. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、あるいはアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解率が71〜100モル%、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100 mol% and a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. In a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60%. It is 15 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の高分子化合物の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the polymer compound such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を高分子化合物に
対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を高分子化合物に対して数質量%添加することができる。保護層の膜厚は、0.5〜5μmが適当であり、特に1〜3μmが好適である。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the polymer compound to give flexibility. Also, sodium alkyl sulfate, sodium alkyl sulfonate Anionic surfactants such as: amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers are added to the polymer compound by several mass% be able to. The thickness of the protective layer is suitably 0.5 to 5 μm, particularly 1 to 3 μm.

また、感光層との密着性や、耐傷性も平版印刷版原版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the photosensitive layer and scratch resistance are extremely important in handling the planographic printing plate precursor. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method for the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

保護層の塗設量は、乾燥質量として、一般的に0.1〜10g/m2、好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the protective layer is a dry weight, generally 0.1 to 10 g / m 2, preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

〔支持体〕
本発明における平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

陽極酸化処理を施した後、必要に応じて、アルミニウム板の表面に親水化処理を施す。親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   After the anodizing treatment, the surface of the aluminum plate is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

〔中間層〕
上記の処理を行った後、本発明では、さらに、感光層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層と呼ぶ場合もある。)を設けてもよい。例えば、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホ基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに特開平7−159983号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
[Middle layer]
After the above treatment, in the present invention, an intermediate layer (sometimes referred to as an undercoat layer) may be provided for the purpose of improving the adhesion and soiling between the photosensitive layer and the support. Good. For example, a water-soluble resin such as polyvinyl phosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfo group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (for example, zinc borate) or a yellow dye, an amine salt or the like is primed. Those are also suitable. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A-7-159983 is covalently used.

他の好ましい例として、任意の支持体上に表面層として耐水性の親水性層を設けたもの
も上げることができる。この様な表面層としては例えば米国特許第3055295号明細書や、特開昭56−13168号公報記載の無機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号公報記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号公報記載の酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜等を上げる事ができる。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするために施される以外に、その上に設けられる感光層の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性向上等のために施されるものである。
As another preferred example, a substrate provided with a water-resistant hydrophilic layer as a surface layer on an arbitrary support can be raised. Examples of such a surface layer include a layer composed of an inorganic pigment and a binder described in US Pat. No. 3,055,295 and JP-A-56-13168, and a hydrophilic swelling described in JP-A-9-80744. A layer, a sol-gel film made of titanium oxide, polyvinyl alcohol, silicic acid or the like described in JP-A-8-507727 can be raised. These hydrophilic treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions of the photosensitive layer provided thereon, and to improve the adhesion of the photosensitive layer, etc. It is to be given.

中間層のその他の例として、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352824号、特開2001−209170号の各公報等に記載のものを挙げることができる。   Other examples of the intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3 JP-A-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, JP-A-8-320551, JP-A-9- JP 34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP 10-282682. JP-A-11-84684, JP-A-11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-1 -301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-11-327152, JP2000-10292, JP2000-235254, JP2000- No. 352824, JP-A-2001-209170, and the like.

〔バックコート〕
支持体に表面処理を施した後または中間層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat]
After the surface treatment is applied to the support or the intermediate layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

〔製版方法〕
次に本発明の平版印刷版原版の製版方法について詳細に説明する。上述した平版印刷版原版は画像露光した後、アルカリ水溶液で現像される。以下に、本発明の製版方法に用いられる現像液について説明する。
[Plate making method]
Next, the plate making method of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail. The above-described lithographic printing plate precursor is subjected to image exposure and then developed with an alkaline aqueous solution. Below, the developing solution used for the plate making method of this invention is demonstrated.

(現像液)
本発明の平版印刷版原版の製版方法に使用される現像液は、特に限定されないが、例えば、無機アルカリ塩と界面活性剤を含有し、通常pHが11.0〜12.7であるものが好適に使用される。
(Developer)
The developer used in the plate making method of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited. For example, a developer containing an inorganic alkali salt and a surfactant and usually having a pH of 11.0 to 12.7. Preferably used.

無機アルカリ塩としては適宜使用可能であるが、例えば、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、珪酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、および同アンモニウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いても良い。   The inorganic alkali salt can be used as appropriate. For example, sodium hydroxide, potassium, ammonium, lithium, sodium silicate, potassium, ammonium, lithium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium Inorganic alkaline agents such as sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogen carbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, and ammonium. These may be used alone or in combination of two or more.

珪酸塩を使用する場合には、珪酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ酸化物M2O(Mはアルカリ金属またはアンモニウム基を表す。)との混合比率および濃度の調製により、現像性を容易に調節することが出来る。前記アルカリ水溶液の中でも前記酸化珪素
SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(SiO2/M2O:モル比)が0.5〜3.0のものが好ましく、1.0〜2.0のものが好ましい。前記SiO2/M2Oの添加量は、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量%が最も好ましい。この濃度が前記の範囲において、現像性、処理能力の低下がなく、沈澱や結晶の生成もなく、さらに廃液時の中和の際にゲル化もなく、廃液処理に支障をきたすことがない。
In the case of using silicate, developability can be achieved by adjusting the mixing ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali oxide M 2 O (M represents an alkali metal or ammonium group). Can be easily adjusted. Among the alkaline aqueous solutions, those having a mixing ratio (SiO 2 / M 2 O: molar ratio) of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O of 0.5 to 3.0 are preferable, and 1.0 to 2 0.0 is preferred. The addition amount of the SiO 2 / M 2 O is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 3 to 8% by mass, and most preferably 4 to 7% by mass with respect to the mass of the alkaline aqueous solution. When this concentration is within the above-mentioned range, there is no decrease in developability and processing capacity, no precipitation or crystal formation, no gelation during neutralization during waste liquid, and no trouble in waste liquid processing.

また、アルカリ濃度の微妙な調整、感光層の溶解性を補う目的で、補足的に有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等をあげることができる。これらのアルカリ剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。   In addition, an organic alkali agent may be supplementarily used in order to finely adjust the alkali concentration and supplement the solubility of the photosensitive layer. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

界面活性剤としては、適宜使用可能であるが、例えば、ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤;ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤等を挙げることができるが、特に好ましいのはポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤である。   The surfactant can be used as appropriate. For example, nonionic surfactants having a polyoxyalkylene ether group, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate Nonionic surfactants such as sorbitan alkyl esters such as sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, and monoglyceride alkyl esters such as glycerol monostearate and glycerol monooleate; Alkyl benzene sulfonates such as sodium acetate, sodium butyl naphthalene sulfonate, sodium pentyl naphthalene sulfonate, sodium hexyl naphthalene sulfonate Anion interfaces such as alkyl naphthalene sulfonates such as sodium, sodium octyl naphthalene sulfonate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate, and sulfosuccinate esters such as sodium dilauryl sulfosuccinate Activators: Alkyl betaines such as lauryl betaine and stearyl betaine, amphoteric surfactants such as amino acids, and the like can be mentioned. Particularly preferred are nonionic surfactants having a polyoxyalkylene ether group.

ポリオキシアルキレンエーテル基を含有する界面活性剤としては、下記一般式(VI)の構造を有する物が好適に使用される。   As the surfactant containing a polyoxyalkylene ether group, one having a structure of the following general formula (VI) is preferably used.

40−O−(R41−O)pH (VI) R 40 —O— (R 41 —O) pH (VI)

式中、R40は、3〜15のアルキル基、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基、または炭素数4〜15の複素芳香族環基(尚、置換基としては炭素数1〜20のアルキレン基、Br、Cl、I等のハロゲン原子、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基、炭素数7〜17のアラルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシ−カルボニル基、炭素数2〜15のアシル基が挙げられる。)を示し、R41は、炭素数1〜100のアルキレン基を示し、pは1〜100の整数を表す。なお、これら各基は置換基を有していてよく、置換基気としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15の芳香族炭化水素基等が挙げられる。 In the formula, R 40 is an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms, or a heteroaromatic ring group having 4 to 15 carbon atoms (in addition, the substituent is 1 to 20 carbon atoms). An alkylene group, a halogen atom such as Br, Cl, or I, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 17 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms An alkoxy-carbonyl group and an acyl group having 2 to 15 carbon atoms.), R 41 represents an alkylene group having 1 to 100 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 100. Each of these groups may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms.

上記式(VI)の定義において、「芳香族炭化水素基」の具体例としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アンスリル基、ビフェニル基、フェナンスリル基等が挙げられ、また「複素芳香族環基」の具体例としては、フリル基、チオニル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピラニル基、ピリジニル基、アクリジニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾ
チオニル基、ベンゾピラニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基等が挙げられる。
In the definition of the above formula (VI), specific examples of the “aromatic hydrocarbon group” include phenyl group, tolyl group, naphthyl group, anthryl group, biphenyl group, phenanthryl group and the like, and “heteroaromatic ring” Specific examples of the “group” include furyl group, thionyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, pyranyl group, pyridinyl group, acridinyl group, benzofuranyl group, benzothionyl group, benzopyranyl group, benzooxazolyl group, benzoimidazolyl group, and the like. It is done.

また式(VI)の(R41−O)pの部分は、上記範囲であれば、2種または3種の基であっても良い。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダムまたはブロック状に連なったもの等が挙げられる。本発明において、ポリオキシアルキレンエーテル基を有する界面活性剤は単独または複合系で使用され、現像液中1〜30質量%、好ましくは2〜20質量%添加することが効果的である。添加量が少ないと現像性の低下することがあり、逆に多すぎると現像のダメージが強くなり、印刷版の耐刷性を低下させてしまうことがある。 In addition, the part of (R 41 —O) p in the formula (VI) may be two or three groups as long as it is in the above range. Specific examples include random or block combinations of ethyleneoxy and propyleneoxy groups, ethyleneoxy and isopropyloxy groups, ethyleneoxy and butyleneoxy groups, ethyleneoxy groups and isobutylene groups, and the like. . In the present invention, the surfactant having a polyoxyalkylene ether group is used alone or in combination, and it is effective to add 1 to 30% by mass, preferably 2 to 20% by mass in the developer. If the addition amount is small, the developability may be deteriorated. On the other hand, if the amount is too large, the development damage becomes strong and the printing durability of the printing plate may be deteriorated.

また上記式(VI)で表されるポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類が挙げられる。   Examples of the nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group represented by the above formula (VI) include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, and polyoxyethylene stearyl ether. Polyoxyethylene aryl ethers such as polyoxyethylene phenyl ether and polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ethers such as polyoxyethylene methyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether and polyoxyethylene nonyl phenyl ether Kind.

界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。   Surfactants can be used alone or in combination.

本発明の製版方法で使用される現像液のpHは、画像形成および露光部の現像でのダメージの点から、通常11.0〜12.7、好ましくは11.5〜12.5である。   The pH of the developer used in the plate-making method of the present invention is usually 11.0 to 12.7, preferably 11.5 to 12.5, from the viewpoint of damage during image formation and development of the exposed area.

また、本発明で使用される現像液の導電率は、3〜30mS/cmである事が好ましい。下回ると、通常、アルミニウム板支持体表面の感光層成分の溶出が困難となり、印刷で汚れを伴ってしまうことがあり、逆に範囲を超えると、塩濃度が高いため、感光層の溶出速度が極端に遅くなり、未露光部に残膜が生じることがあるからである。特に好ましい導電率は、5〜20mS/cmの範囲である。   Moreover, it is preferable that the electrical conductivity of the developing solution used by this invention is 3-30 mS / cm. If the ratio is lower than normal, the elution of the photosensitive layer components on the surface of the aluminum plate support becomes difficult and printing may be accompanied by stains. Conversely, if the range is exceeded, the salt concentration is high, so the elution rate of the photosensitive layer is increased. This is because the film is extremely slow and a remaining film may be formed in the unexposed area. Particularly preferred conductivity is in the range of 5-20 mS / cm.

(露光および現像処理)
本発明における平版印刷版原版を、例えば、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、FD・YAGレーザー、ヘリウムネオレーザー、半導体レーザー(350nm〜600nm)等の従来公知の活性光線で画像露光した後、現像液により現像処理することにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。露光光源としては350〜600nmのレーザが好ましい。
画像露光後、現像までの間に、感光層の硬化率を高める目的で50℃〜140℃の温度で1秒〜5分の時間の加熱プロセスを設けることを行っても良い。加熱温度が前記の範囲において、硬化率アップの効果があり、未露光部での暗重合による残膜も生じない。
(Exposure and development processing)
The lithographic printing plate precursor in the present invention is, for example, a carbon arc lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, an argon ion laser, an FD / YAG laser, a helium neolaser, An image can be formed on the surface of the aluminum plate support by image exposure with a conventionally known actinic ray such as a semiconductor laser (350 nm to 600 nm) and then developing with a developer. As the exposure light source, a laser of 350 to 600 nm is preferable.
A heating process for 1 second to 5 minutes may be performed at a temperature of 50 ° C. to 140 ° C. for the purpose of increasing the curing rate of the photosensitive layer between image exposure and development. When the heating temperature is in the above range, there is an effect of increasing the curing rate, and a residual film due to dark polymerization in the unexposed area does not occur.

本発明における平版印刷版原版の感光層の上に保護層が設けられている場合には、現像液を用いて、保護層の除去と感光層の未露光部の除去を同時に行う方法、または、水、温水で保護層を先に除去し、その後未露光部の感光層を現像で除去する方法が知られている。これらの水または温水には特開平10−10754号公報に記載の防腐剤等、特開平8−278636号公報に記載の有機溶剤等を含有させることができる。   When a protective layer is provided on the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, using a developer, a method of simultaneously removing the protective layer and removing the unexposed portion of the photosensitive layer, or A method is known in which the protective layer is first removed with water or warm water, and then the unexposed photosensitive layer is removed by development. These water or warm water can contain a preservative described in JP-A-10-10754, an organic solvent described in JP-A-8-278636, and the like.

本発明における平版印刷版原版を現像処理する際に用いる現像液としては、ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することが好ましい。   The developer used for developing the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.

本発明における平版印刷版原版の前記現像液による現像は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。   The development of the lithographic printing plate precursor in the present invention with the developer is carried out by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in the developer at a temperature of about 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., according to a conventional method. For example, rubbing with a brush.

さらに自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。このようにして現像処理された平版印刷版原版は特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、通常、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムやデンプン誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明において平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
上記のような処理により得られた印刷版は特開2000−89478号公報に記載の方法による後露光処理やバーニングなどの加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
Further, when developing using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. The lithographic printing plate precursor thus developed is usually washed with water, interface, as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045 and 59-58431. It is post-treated with a rinsing solution containing an active agent and the like, a desensitizing solution containing gum arabic, starch derivatives and the like. In the present invention, these treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor.
The printing plate obtained by the above treatment can be improved in printing durability by post-exposure treatment or heating treatment such as burning according to the method described in JP-A-2000-89478.
The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下、実施例および比較例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention in detail, the present invention is not limited to these.

1、平版印刷版原版の作製   1. Preparation of lithographic printing plate precursor

〔実施例1〕
(1)支持体の作製
厚さ0.3mmのアルミニウム板を10質量%水酸化ナトリウム水溶液に60℃で25秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、20質量%硝酸水溶液で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1質量%硝酸水溶液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30質量%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20質量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2の条件で陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理した。その表面粗さを測定したところ、0.3μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Example 1]
(1) Production of support body An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in a 10% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, and then neutralized and washed with a 20% by mass nitric acid aqueous solution. Then, it was washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by mass sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. Anodization was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 under the condition of dm 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.3 μm (Ra display according to JIS B0601).

このように処理されたアルミニウム板に、まずバーコーターを用いて次の中間層液を塗布したあと80℃で20秒間乾燥した。乾燥後の中間層塗布質量は10mg/m2であった。 The aluminum plate thus treated was first coated with the next intermediate layer solution using a bar coater and then dried at 80 ° C. for 20 seconds. A coating amount of the intermediate layer after drying was 10 mg / m 2.

中間層液
・下記ゾル液 100g
・メタノール 900g
Intermediate layer solution ・ 100g of the following sol solution
・ Methanol 900g

ゾル液
・ホスマーPE(ユニケミカル(株)製) 5g
・メタノール 45g
・水 10g
・85質量%リン酸 5g
・テトラエトキシシラン 20g
・3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン 15g
Sol solution ・ Phosmer PE (Unichemical Co., Ltd.) 5g
・ Methanol 45g
・ Water 10g
・ 85% phosphoric acid 5g
・ Tetraethoxysilane 20g
・ 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 15g

(2)感光層の形成
上記中間層上に、下記組成の光重合性組成物P−1を乾燥塗布質量が1.4g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥させ、感光層を形成した。
(2) Formation of photosensitive layer On the intermediate layer, a photopolymerizable composition P-1 having the following composition was applied so that the dry coating mass was 1.4 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. A photosensitive layer was formed.

光重合性組成物P−1
・重合性化合物(1) 4.5質量部
・バインダーポリマー(1) 5.3質量部
・増感色素(1) 0.4質量部
・重合開始剤(1) 0.9質量部
・連鎖移動剤(1) 0.5質量部
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.9質量部
(顔料:15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合モル比83/17)):10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF780 0.02質量部
(大日本インキ化学工業(株)製))
・熱重合禁止剤 0.03質量部
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・メチルエチルケトン 58質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 53質量部
Photopolymerizable composition P-1
Polymerizable compound (1) 4.5 parts by mass Binder polymer (1) 5.3 parts by mass Sensitizing dye (1) 0.4 parts by mass Polymerization initiator (1) 0.9 parts by mass Chain transfer Agent (1) 0.5 part by mass-Dispersion of ε-phthalocyanine pigment 0.9 part by mass (Pigment: 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 83/17)) : 10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
・ Fluorine-based nonionic surfactant (Megafac F780 0.02 parts by mass (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.))
-Thermal polymerization inhibitor 0.03 parts by mass
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
・ Methyl ethyl ketone 58 parts by mass ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 53 parts by mass

Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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Figure 2007171407
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(3)保護層の形成
上記の感光層上に、下記組成の保護層塗布液を乾燥塗布質量が2.3g/m2となるように塗布し、125℃、75秒間乾燥させ、保護層を形成し、平版印刷版原版1を得た。
(3) Formation of protective layer A protective layer coating solution having the following composition was applied on the photosensitive layer so that the dry coating mass was 2.3 g / m 2, and dried at 125 ° C. for 75 seconds. The lithographic printing plate precursor 1 was obtained.

保護層塗布液
ポリビニルアルコール(ケン化度95モル%、重合度500) 36質量部
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 9質量部
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.5質量部
界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)0.5質量部
水 950質量部
Coating liquid for protective layer Polyvinyl alcohol (saponification degree 95 mol%, polymerization degree 500) 36 parts by weight Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 9 parts by weight Poly (vinylpyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 70,000 0.5 Part by weight Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5 part by weight Water 950 parts by weight

〔比較例1〕
実施例1の光重合性組成物P−1のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(2)に変更する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版Aを得た。
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate precursor A was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binder polymer (1) of the photopolymerizable composition P-1 of Example 1 was changed to the following binder polymer (2).

Figure 2007171407
Figure 2007171407

〔実施例2〕
実施例1の光重合性組成物P−1のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(3)に変更する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版2を得た。
[Example 2]
A lithographic printing plate precursor 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binder polymer (1) of the photopolymerizable composition P-1 of Example 1 was changed to the following binder polymer (3).

Figure 2007171407
Figure 2007171407

〔実施例3〕
実施例1の光重合性組成物P−1のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(4)に変更する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版3を得た。
Example 3
A lithographic printing plate precursor 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binder polymer (1) of the photopolymerizable composition P-1 of Example 1 was changed to the following binder polymer (4).

Figure 2007171407
Figure 2007171407

〔実施例4〜5〕
実施例1の光重合性組成物P−1の増感色素(1)を各々、下記増感色素(2)または(3)に変更する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版4〜5を得た。
[Examples 4 to 5]
A lithographic printing plate in the same manner as in Example 1 except that the sensitizing dye (1) of the photopolymerizable composition P-1 in Example 1 is changed to the following sensitizing dye (2) or (3), respectively. Original plates 4 to 5 were obtained.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

Figure 2007171407
Figure 2007171407

〔実施例6〜10〕
実施例1の光重合性組成物P−1の連鎖移動剤(1)を各々、下記連鎖移動剤(2)〜(6)に変更する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版6〜10を得た。
[Examples 6 to 10]
A lithographic printing plate in the same manner as in Example 1 except that the chain transfer agent (1) of the photopolymerizable composition P-1 in Example 1 is changed to the following chain transfer agents (2) to (6), respectively. Original plates 6 to 10 were obtained.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

〔実施例11〕
実施例1の光重合性組成物P−1の重合開始剤(1)を下記重合開始剤(2)に変更し、さらに、下記増感助剤(1)を0.3質量部添加する以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版原版11を得た。
Example 11
Except for changing the polymerization initiator (1) of the photopolymerizable composition P-1 of Example 1 to the following polymerization initiator (2) and further adding 0.3 parts by mass of the following sensitization aid (1). Produced a planographic printing plate precursor 11 in the same manner as in Example 1.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

Figure 2007171407

増感助剤(1)
Figure 2007171407

Sensitization aid (1)

〔実施例12〕
以下により作製した支持体を用いる以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版12を得た。
支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム板表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
Example 12
A lithographic printing plate precursor 12 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the support prepared as described below was used.
Preparation of support In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and the hair diameter was 0. The surface of the aluminum plate was grained using three .3 mm bundled nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm.sup.3) having a median diameter of 25 .mu.m and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム2.5質量%水溶液にて30℃で10秒処理した。このアルミニウム板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 Next, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. This plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15 mass% sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5 mass% of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water and dried. Further, it was treated with a 2.5% by mass aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds. When the center line average roughness (Ra) of this aluminum plate was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.51 μm.

〔実施例13〕
実施例12の光重合性組成物P−1の増感色素(1)を下記増感色素(4)に変更する以外は、実施例12と同様にして、平版印刷版原版13を得た。
Example 13
A lithographic printing plate precursor 13 was obtained in the same manner as in Example 12 except that the sensitizing dye (1) of the photopolymerizable composition P-1 of Example 12 was changed to the following sensitizing dye (4).

Figure 2007171407

増感色素(4)
Figure 2007171407

Sensitizing dye (4)

2.平版印刷版原版の評価
(1)耐刷性
得られた平版印刷版原版を富士写真フイルム(株)製Vx9600CTP(光源波長:405nm)にて平版印刷版原版上の露光量が0.05mJ/cm2になるように調整し画像状に描き込みを行った。その後、下記組成のアルカリ現像液を仕込んだG&J社製PSプロセッサーIP850HDを用い、プレヒート温度115℃/12秒、現像液温を25℃に保ち、現像時間28秒で現像した。フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:3水希釈液を用いた。
得られた平版印刷版を、(株)小森コーポレーション製のリスロン印刷機で、インキとして大日本インキ化学工業(株)製のDIC−GEOS(N)墨、湿し水として富士写真フイルム(株)製エッチ液EU−3/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比)混合液を用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。
2. Evaluation of lithographic printing plate precursor (1) Printing durability The exposure amount on the lithographic printing plate precursor was 0.05 mJ / cm by using Vx9600CTP (light source wavelength: 405 nm) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The image was adjusted to 2 and drawn in an image. Thereafter, using a PS processor IP850HD manufactured by G & J Co., which was charged with an alkaline developer having the following composition, development was performed at a preheating temperature of 115 ° C./12 seconds, a developer temperature of 25 ° C., and a development time of 28 seconds. As the finisher, a 1: 3 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
The resulting lithographic printing plate was printed on a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation, and DIC-GEOS (N) ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Ltd. as ink and Fuji Photo Film Co., Ltd. as dampening water. Printed using a mixture of etchant EU-3 / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio), and the number of printed sheets at the time when it was visually recognized that the density of the solid image began to fade, The printability was evaluated.

(アルカリ現像液組成)
・水酸化カリウム 0.15g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル(n=13) 5.0g
・キレスト400(キレート剤) 0.1g
・水 94.75g
(Alkali developer composition)
・ Potassium hydroxide 0.15g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether (n = 13) 5.0 g
・ Chillest 400 (chelating agent) 0.1g
・ Water 94.75g

(2)細線再現性
上述のように印刷を実施し、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて4900枚の印刷を行った。合計5000枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100および200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。
評価結果を下記表1に示す。
(2) Fine line reproducibility Printing was carried out as described above, and after 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 4900 sheets were continuously printed. A fine line chart of the 5000th printed material (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100 and 200 μm fine line exposed) with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated based on the fine line width that was observed and reproduced with ink without interruption.
The evaluation results are shown in Table 1 below.

Figure 2007171407
Figure 2007171407

上記の結果から、本発明の平版印刷版原版は耐刷性および細線再現性に優れていることが明らかである。   From the above results, it is clear that the lithographic printing plate precursor according to the invention is excellent in printing durability and fine line reproducibility.

Claims (8)

支持体上に、(A)下記一般式(I)又は(II)で表される増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および(D)架橋性基を有するバインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
Figure 2007171407


Figure 2007171407


ここで、R1〜R14は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
15〜R32は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは、炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
On the support, (A) a sensitizing dye represented by the following general formula (I) or (II), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a binder having a crosslinkable group A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing a polymer.
Figure 2007171407


Figure 2007171407


Here, R < 1 > -R < 14 > represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom each independently. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
R 15 to R 32 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
(D)架橋性基を有するバインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体または側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。   (D) The binder polymer having a crosslinkable group is a (meth) acrylic acid copolymer having a crosslinkable group in a side chain or a polyurethane resin having a crosslinkable group in a side chain. The lithographic printing plate precursor described. 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, further comprising a chain transfer agent (E) in the photosensitive layer. (E)連鎖移動剤が、下記一般式(A)で表されるチオール化合物であることを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版原版。
Figure 2007171407


ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員または6員のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein the chain transfer agent (E) is a thiol compound represented by the following general formula (A).
Figure 2007171407


Here, R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring having a carbon atom together with an N = CN moiety. And A may further have a substituent.
(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物またはメタロセン化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   (B) The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the polymerization initiator is a hexaarylbiimidazole compound or a metallocene compound. 感光層上に、保護層を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, further comprising a protective layer on the photosensitive layer. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜600nmのレーザで画像露光した後、現像液を用いて現像処理をすることを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。   The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6, wherein the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6 is image-exposed with a laser of 350 to 600 nm and then developed with a developer. Method. 前記現像液がポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする請求項7に記載の平版印刷版原版の製版方法。   The plate making method of a lithographic printing plate precursor according to claim 7, wherein the developer contains a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.
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