JP2007162959A - 廃ガス浄化処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】廃ガス浄化処理装置は、廃ガスを燃焼させ、発火性ガスと爆発性ガスとを除去するためのバーナー部と、バーナー部に並列に連結され、バーナー部で処理された廃ガスのうち水溶性の有毒性ガスを水に溶解させる湿式洗浄部及び、バーナー部と湿式洗浄部とを連結するための配管部を包含しており、そこで、バーナー部は、様々な種類の廃ガスを供給するための廃ガス供給マニホールドと、廃ガスを供給しながら直接火炎を発生させるための複数のガスバーナーノズルとを含むバーナー組立体からなり、廃ガス供給マニホールドを介して排出される廃ガスがガスバーナーノズルにより発生される直接火炎を用いて、間接火炎を発生させ且つ処理される。
【選択図】図3
Description
図3は、従来の廃ガス浄化処理装置の工程を示した概略図であって、本発明は、従来の廃ガス浄化処理装置の工程中にバーナー部50において該特徴を持つ。 図4及び図5は、本発明の一実施例による廃ガス浄化処理装置のバーナー部の構成示す平面図及び断面図である。
(化学式1)
CH4+202 → CO2+2H2O
本発明の実施例によれば、第1ないし第3のガスバーナーノズル120a、120b、120cを外側に正三角形の形態で配設し、直接に火炎を発生させる。そして、直接火炎を発生させずに、廃ガスを供給する廃ガス供給マニホールド110を中心とし、正三角形の形態で第1ないし第3のガスバーナーノズル120a、120b、120cがなす三角形に対して交差して配設し、間接火炎を用いて注入された廃ガスを処理する。
図11に示されたように、本発明による廃ガス浄化処理装置1000は、半導体装備に連結されており、処理すべきの廃ガスが注入され、一次的に浄化処理するためのバーナー組立体100、バーナー組立体100から一次的に処理された廃ガスを伝達され、湿式で浄化処理すべく、バーナー組立体100に並列に連結された第1湿式洗浄部200及び第2湿式洗浄部300を含む。
C4F8+4CH4+8O2→8HF+8CO2+4H2O
(化学式3)
C3F8+3CH4+6O2→8HF+6CO2+2H2O
(化学式4)
2C2F6+4CH4+9O2→12HF+8CO2+2H2O
(化学式5)
CF4+2CH4+4O2→4HF+3CO2+2H2O
101 N2ガス注入口
102 点火部
103 PUセンサー部
105 内部リング
106 セラミックチューブ
107 外部リング
109 主フランジ
110 廃ガス供給マニホールド
112 冷却水循環部
113 冷却水注入部
114 ロータリーアクチュエータアセンブリ
115 火炎センサー
118 ロータリーシャフト
119 ワイパー
120、120a、120b、120c 第1ないし第3ガスバーナーノズル
121 フランジ
121a 廃ガス供給直接火炎ノズル
122 第1メタル密封部
123 燃料ガス供給部
123a 燃料供給ノズル
124 酸化剤供給部
124a 酸化剤供給ノズル
125 冷却水供給部
126 ヘッドユニットベース
127 第2メタル密封部
128 廃ガス供給部
130 セラミックチューブ
200 第1湿式洗浄部
240 第1配管部
242 第2配管部
300 第2湿式洗浄部
Claims (13)
- 半導体製造工程や化学工程などから排出される廃ガスを浄化して放出する廃ガス浄化処理装置において、
前記廃ガスを燃焼させることから、発火性ガスと爆発性ガスとを除去するためのバーナー部と、
前記バーナー部に並列に連結され、前記バーナー部で処理された廃ガスのうち水溶性の有毒性ガスを水に溶解させる湿式洗浄部及び
前記バーナー部と前記湿式洗浄部とを連結するための配管部を包含し、
そこで、前記バーナー部は、主フランジと、
前記主フランジ内に設けられるセラミックチューブと、
前記主フランジと前記セラミックチューブとの間に設けられ、前記セラミックチューブ内の温度を調節する冷却水循環部と、
前記主フランジの上部中央に設けられ、様々な種類の廃ガスを供給するための廃ガス供給マニホールドと、
前記主フランジの上部に、前記廃ガス供給マニホールドを中心とし三角形状から成され、廃ガスを供給しながら直接火炎を発生させるための複数のガスバーナーノズルとを包含するバーナー組立体からなり、
前記廃ガス供給マニホールドを介して排出される廃ガスが、前記ガスバーナーノズルにより発生される直接火炎を用いて間接火炎を発生させ、処理されることを特徴とする廃ガス浄化処理装置。 - 前記主フランジ部の上部に設けられ、前記セラミックチューブ内の火炎を検出するためのセンサーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記廃ガス供給マニホールドと、前記複数のバーナーノズルの前記主フランジ内部に位置する一側端部とに設けられ、前記バーナー組立体内で発生されて吸着できる異物と副産物とを除去するためのワイパーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記ワイパーを駆動すべく、前記主フランジの上部中央に形成の前記廃ガス供給マニホールドの中心に設けられるロータリーアクチュエータアセンブリ及び
前記ワイパーと前記ロータリーアクチュエータアセンブリとの間に設けられ、前記ロータリーアクチュエータアセンブリの動力を前記ワイパーに伝達するためのロータリーシャフトをさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の廃ガス浄化処理装置。 - 前記セラミックチューブは、熱伝達係数の低い物質からなり、発生された熱を遮断する防炎作用を奏することによって、直接火炎を有する前記ガスバーナーノズルから発生される火炎が全体的に形成できるようにすることで、直接火炎を持たない前記廃ガス供給マニホールドにも同じ熱量を与え、間接火炎を発生させることを特徴とする請求項1に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記ガスバーナーノズルは、
廃ガス供給部及び廃ガス供給ノズルを形成し、廃ガスを注入するための構造を持つフランジと、
前記フランジの上側に設けられた第1メタル密封部と、
前記第1メタル密封部下側の前記フランジに組み合わされる燃料供給ノズルを備える燃料ガス供給部と、
前記燃料ガス供給部下側の前記フランジに組み合わされる酸化剤供給ノズルを備える酸化剤供給部と、
前記フランジの下側に取り付けられるヘッドユニットベースと、
前記酸化剤供給部下方の前記ヘッドユニットベース上に配設される冷却水供給部及び
前記フランジと前記ヘッドユニットベースとの間を封止するための第2密封部とを含むことを特徴とする請求項1に記載の廃ガス浄化処理装置。 - 前記ガスバーナーノズルの最も内側中心の同心円上に廃ガス供給ノズルが配設され、前記廃ガス供給ノズルの外側同心円上に前記廃ガス供給ノズルと同軸を成さずに、所定傾斜角を有しながら内側に傾けられて燃料供給ノズルが配設され、前記燃料供給ノズルの外側同心円上に等間隔で配設され、前記廃ガス供給ノズルと同軸をなす酸化剤供給ノズルが配設されることを特徴とする請求項6に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記第1メタル密封部は、前記燃料供給ノズルから供給された燃料が外部へ漏れないように封止する役割を果たしており、前記第2メタル密封部は、前記酸化剤供給部から注入された酸化剤が前記酸化剤供給ノズルから逆流し、外部に漏れないように封止することを特徴とする請求項6に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記直接火炎を発生させるための複数のガスバーナーノズルの中心軸は、前記主フランジの中心軸に対して所定勾配を保持するように設けられることを特徴とする請求項1ないし8のうちに、いずれかの一つに記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記廃ガス供給マニホールドの中心軸は、前記主フランジの中心軸に対して互いに平行に設けられることを特徴とする請求項9に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記酸化剤供給ノズルを介して噴射できる酸化剤の流速が、前記燃料供給ノズルを介して噴射できる燃料の流速より速いことを特徴とする請求項6ないし8のうちに、いずれかの一つに記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記湿式洗浄部は、前記バーナー部に並列に連結されて、一組を成すことを特徴とする請求項1に記載の廃ガス浄化処理装置。
- 前記湿式洗浄部は、
前記バーナ部を通過した廃ガスを1次に浄化するために網状から成された1次粉塵捕集部と、
前記バーナー部から注入された廃ガスにウォーターを噴射するために前記1次粉塵捕集部の下端に設けられた循環ウォータースプレーと、
前記1次粉塵捕集部を通過した廃ガスを2次に浄化するために網状から成された2次粉塵捕集部と、
前記2次粉塵捕集部の下端に設けられたフレッシュウォータースプレー及び、
前記1次及び2次粉塵捕集部間に充填されて、廃ガスとウォーターとの接触表面積を増加させる充填材を含むことを特徴とする請求項12に記載の廃ガス浄化処理装置。
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