JP2007152247A - Method and apparatus for manufacturing interlaminated film - Google Patents

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智巳 川村
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寿茂 上原
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信明 高根
Masato Nishimura
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide firstly a method and an apparatus for manufacturing a high-quality interlaminated film effectively at high productivity, and secondly a method and an apparatus for manufacturing effectively a high-quality interlaminated film by a role-to-role way. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the interlaminated film enables the execution of a predetermined number of times of each of an immersion treatment process for immersing a base material in a liquid containing a substance having a positive charge and an immersion treatment process for immersing the base material in a liquid containing a substance having a negative charge. The apparatus for manufacturing the interlaminated film comprises an immersion process tank capable of passing the base material and including an immersion treatment tank for storing or introducing the liquid containing the substance having the positive or negative charge, the immersion treatment tank having a slit-like opening provided vertically on a wall for the film-like or sheet-like base material to enter and a slit-like opening provided vertically on the wall for the base material to withdraw. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、交互積層膜の製造方法および製造装置に関するものであり、特に、各種電子機器のディスプレイ用の光学素子、種々のセンサやフィルタなどを量産する際に利用可能な技術に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an alternately laminated film, and more particularly to a technique that can be used when mass-producing optical elements for displays of various electronic devices, various sensors, filters, and the like.

ナノメータースケールの薄膜を溶液から形成する方法として、交互積層法(Layer−by−Layer Electrostatic Self−Assembly)が提案されている。交互積層法は、G.Decherらによって1992年に発表された有機薄膜を形成する方法である(非特許文献1参照)。この方法では、正電荷を有するポリマー電解質(ポリカチオン)と負電荷を有するポリマー電解質(ポリアニオン)の水溶液に、基材を交互に浸漬することで基板上に静電的引力によって吸着したポリカチオンとポリアニオンの組が積層して複合膜(交互積層膜)が得られるものである。   As a method for forming a nanometer-scale thin film from a solution, an alternate lamination method (Layer-by-Layer Electrostatic Self-Assembly) has been proposed. The alternate lamination method is described in G.H. This is a method of forming an organic thin film published in 1992 by Decher et al. (See Non-Patent Document 1). In this method, a polycation adsorbed on a substrate by electrostatic attraction by alternately immersing the base material in an aqueous solution of a polymer electrolyte having a positive charge (polycation) and a polymer electrolyte having a negative charge (polyanion). A combination of polyanions is laminated to obtain a composite film (alternate laminated film).

交互積層法では、静電的な引力によって、基材上に形成された材料の電荷と、溶液中の反対電荷を有する材料が引き合うことにより膜成長するので、吸着が進行して電荷の中和が起こるとそれ以上の吸着が起こらなくなる。したがって、ある飽和点までに至れば、それ以上膜厚が増加することはない。一回あたりの吸着膜厚が薄いため、精度高い膜厚を、積層する回数によって制御することができるという優れた特長をもつので、ナノメータサイズの光学的な薄膜形成には適当な成膜方法と言える。さらに、真空設備も必要とせず、低コストで高精度な薄膜形成方法である。また、チューブ状の基材の内部や織物の繊維や発泡材の内部など、溶液が浸透する部分にはコーティングが可能という、他の方法にない特徴を持っている。   In the alternating layering method, the film is grown by attracting the charge of the material formed on the substrate and the material having the opposite charge in the solution by electrostatic attraction, so that the adsorption proceeds and the charge is neutralized. When this occurs, no further adsorption occurs. Therefore, when reaching a certain saturation point, the film thickness does not increase any more. Since the adsorption film thickness per one time is thin, it has an excellent feature that the film thickness with high accuracy can be controlled by the number of laminations. I can say that. Furthermore, it is a low-cost and highly accurate thin film forming method that does not require vacuum equipment. In addition, it has a feature not found in other methods, such as the inside of a tube-shaped substrate, the inside of a textile fiber or foam material, and the like, which can be coated on a portion where the solution penetrates.

Rubnerらによって、基板上にポリアクリル酸とポリアリルアミン塩酸塩との交互積層膜を作製した後、塩酸などのpHを調整された酸溶液に浸すことにより、静電吸着した結合部分を部分的に切断して空隙構造をつくるという報告があり(非特許文献2参照)、これを応用した反射防止膜が提案されている(特許文献1及び非特許文献3参照)。   Rubner et al. Produced an alternating laminated film of polyacrylic acid and polyallylamine hydrochloride on a substrate, and then immersed the electrostatically adsorbed binding part partially by immersing it in an acid solution adjusted to pH such as hydrochloric acid. There is a report that a void structure is formed by cutting (see Non-Patent Document 2), and an antireflection film using this is proposed (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 3).

また、微粒子を積層することにより、多孔質膜を形成する方法が提案されている。Y.Lvovらは交互積層法を、微粒子に応用し、シリカやチタニア、セリアの各微粒子分散液を用いて、微粒子の表面電荷と反対電荷を有するポリマー電解質を交互積層法で積層する方法を報告している(非特許文献4参照)。しかし、この方法で形成された微粒子積層膜は、微粒子同士が主に水素結合のような弱い静電的引力によって吸着されているために、耐スクラッチ性に劣るという課題がある。   In addition, a method of forming a porous film by laminating fine particles has been proposed. Y. Lvov et al. Applied an alternate lamination method to fine particles, and reported a method of laminating a polymer electrolyte having a charge opposite to the surface charge of the fine particles by using an alternate lamination method using silica, titania, and ceria fine particle dispersions. (See Non-Patent Document 4). However, the fine particle laminated film formed by this method has a problem that it is inferior in scratch resistance because the fine particles are adsorbed mainly by a weak electrostatic attraction such as a hydrogen bond.

こうして作成された交互積層膜は、有機EL(Electro−Luminescence)素子をはじめとする種々の電子デバイスへの利用が期待されており、更に、表面に交互積層膜を形成することにより親水性を制御することが可能になるため、コンタクトレンズ表面へのコーティング技術への応用や生体関連材料への応用も注目を集めている。   The alternating multilayer film thus created is expected to be used for various electronic devices including organic EL (Electro-Luminescence) elements, and the hydrophilicity is controlled by forming the alternating multilayer film on the surface. Therefore, application to coating technology on contact lens surfaces and biomaterials is also attracting attention.

この交互積層膜の製造装置としては、基材がロボットアームにより2つの水槽に交互に浸される構成の交互積層膜の自動製造装置が提案されている(非特許文献5参照)。この装置を用いれば、基材上に交互積層膜が自動的に成膜される。   As an apparatus for producing this alternate laminated film, an automatic apparatus for producing an alternately laminated film having a structure in which a base material is alternately immersed in two water tanks by a robot arm has been proposed (see Non-Patent Document 5). If this apparatus is used, an alternating laminated film is automatically formed on a substrate.

また、交互積層膜の製造装置として、正の荷電粒子を含む溶液と負の荷電粒子を含む溶液とに被成膜材料を交互に複数回浸すことにより、多層構造を有する交互吸着膜を製造する装置であって、一方の荷電粒子を含む溶液を収容するための第1の溶液槽と、他方の荷電粒子を含む溶液を収容するための第2の溶液槽と、前記第1の溶液槽内から直接または他の槽を介して間接的に前記第2の溶液槽内へと進み、前記第2の溶液槽から直接または他の槽を介して間接的に再び前記第1の溶液槽内へと戻る循環路に沿って、環状の被成膜材料の各部を搬送することにより、前記環状の被成膜材料を前記循環路に沿って回転させる搬送装置と、を備えることを特徴とする交互吸着膜の製造装置が提案されている(特許文献2参照)。上記搬送装置としては、各槽内に設けられた槽内ローラと、槽外の循環路上に設けられた槽外ローラが具体的に示される。   In addition, as an alternately laminated film manufacturing apparatus, an alternately adsorbed film having a multilayer structure is manufactured by alternately immersing a film forming material in a solution containing positive charged particles and a solution containing negative charged particles multiple times. An apparatus, a first solution tank for containing a solution containing one charged particle, a second solution tank for containing a solution containing the other charged particle, and the first solution tank Directly into the second solution tank directly or through another tank, and again from the second solution tank directly into the first solution tank through another tank. And a transfer device that rotates the annular film-forming material along the circulation path by conveying each part of the annular film-forming material along the return path. An adsorption film manufacturing apparatus has been proposed (see Patent Document 2). Specific examples of the transfer device include an in-tank roller provided in each tank and an out-of-tank roller provided on a circulation path outside the tank.

また、ロールを用いる必要のない交互積層膜の製造装置として、正の電荷を有する正電荷物質と、負の電荷を有する負電荷物質とが被成膜材料表面に交互に積層されてなる交互吸着膜の製造装置であって、前記正電荷物質を含有する正電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する正電荷物質含有液塗布手段と、前記負電荷物質を含有する負電荷物質含有液を吐出することにより、被成膜材料の表面に液膜を形成するように塗布する負電荷物質含有液塗布手段とを少なくとも有し、得られる交互吸着膜が必要とする積層数を形成するために、前記正電荷物質含有液塗布手段および前記負電荷物質含有液塗布手段により、前記被成膜材料表面が複数回にわたり処理されるように構成されていることを特徴とする交互吸着膜の製造装置が提案されている(特許文献3参照)。   In addition, as an apparatus for producing an alternating laminated film that does not require the use of a roll, alternating adsorption in which a positively charged substance having a positive charge and a negatively charged substance having a negative charge are alternately laminated on the surface of the film forming material A film manufacturing apparatus, comprising: a positively charged substance-containing liquid application unit that applies a positively charged substance-containing liquid containing the positively charged substance so as to form a liquid film on the surface of the film forming material; And a negative charge substance-containing liquid coating means for applying the negative charge substance-containing liquid containing the negative charge substance so as to form a liquid film on the surface of the film forming material. In order to form the number of layers required for the alternately adsorbing film, the surface of the film-forming material is processed a plurality of times by the positively charged substance-containing liquid applying unit and the negatively charged substance-containing liquid applying unit. That has been Apparatus for producing alternate adsorption film to symptoms has been proposed (see Patent Document 3).

国際公開WO03/082481号公報International Publication WO03 / 082481 特開2001−62286号公報JP 2001-62286 A 特開2003−300274号公報JP 2003-3000274 A Thin Solid Films, 210/211, p831(1992)Thin Solid Films, 210/211, p831 (1992) Langmuir 16、p5017−5023(2000)Langmuir 16, p5017-5023 (2000) Nature Materials, Vol1 p59−63(2002)Nature Materials, Vol1 p59-63 (2002) Langmuir、Vol.13、(1997)p6195−6203Langmuir, Vol. 13, (1997) p6195-6203 A.C.Fon, O.Onitsuka, M.Ferreira, B.R. Hsieh and M.F.Rubner: J. Appl. Phys. 79(10) 15 May 1996A. C. Fon, O. Onitsuka, M .; Ferreira, B.M. R. Hsieh and M.M. F. Rubner: J.M. Appl. Phys. 79 (10) 15 May 1996

前記した交互積層膜の成膜技術は、現段階ではまだ量産化の域に達しておらず、電子デバイス、粒子センサ、フィルタなど、交互積層膜を利用した製品を商業的に生産するためには、解決すべき課題が残されている。   The above-described alternate layer film formation technology has not yet reached mass production at the present stage, and in order to commercially produce products using the alternate layer film, such as electronic devices, particle sensors, and filters. There are still problems to be solved.

前記した非特許文献5の方法では、例えば1m四方の大きさの交互積層膜を製造する場合、少なくとも1m四方の水槽と、この水槽内から基材を高さ2m程度吊りあげることができるロボットアームが必要になり、非常に大掛かりな装置を用いた大掛かりな作業が必要になるといった問題があった。   In the method of Non-Patent Document 5 described above, for example, when producing an alternately laminated film having a size of 1 m square, at least a 1 m square water tank and a robot arm capable of lifting a substrate about 2 m in height from the water tank There is a problem that a large-scale work using a very large apparatus is required.

特許文献2に記載の装置は、このような問題点を解決するために提案されたものであるが、基材をロールで支持する必要があることから、基材上に形成された交互積層膜がロールに接触して破壊される可能性があるといった問題があるが、これに対しては、同特許文献に搬送ロールの両端を盛り上げた構造とすることが提案されている。しかし、この技術には、被成膜材料にしわを発生させる恐れがあると共に、基材が蛇行する可能性がある等、高品質な交互積層膜を安定に製造することが困難であった。また、この方法では、ロール状の基材を切り取って交互積層膜を形成することから、一度に交互積層膜が形成できる長さが10m程度であり、数十から数百mの長さで一挙に交互積層膜を形成することができないという問題があった。   The apparatus described in Patent Document 2 has been proposed to solve such a problem, but it is necessary to support the base material with a roll. However, in this patent document, it is proposed to have a structure in which both ends of the transport roll are raised. However, with this technique, there is a risk of generating wrinkles in the film forming material, and the base material may meander, making it difficult to stably produce a high-quality alternating laminated film. Further, in this method, since the roll-shaped base material is cut to form the alternate laminated film, the length at which the alternate laminated film can be formed at a time is about 10 m, and the length is several tens to several hundreds m. However, there is a problem that the alternate laminated film cannot be formed.

特許文献3に記載の装置は、このような問題点を解決するために提案されたものである。この装置では、基材を水平面に対し90度以上180度未満に角度を設けて搬送することが好ましいとされるが、ロール・トゥ・ロールで搬送ロールを用いずに円滑に交互積層膜を製造するためには、水平面に対し90度ぐらいの角度で搬送することが必要であると考えられる。しかしながら、この場合、電荷物質を有する液を吐出することによって、交互積層膜を形成することから、吐出時の飛沫により作成した交互積層膜に膜厚ムラが発生する可能性があり、ロール・トゥ・ロールで数十から数百mの基材に高品質な交互積層膜を高効率で形成することが困難であった。   The device described in Patent Document 3 has been proposed in order to solve such problems. In this apparatus, it is preferable that the substrate is transported at an angle of 90 degrees or more and less than 180 degrees with respect to the horizontal plane. However, roll-to-roll can be used to smoothly produce an alternately laminated film without using a transport roll. In order to achieve this, it is considered necessary to transport the sheet at an angle of about 90 degrees with respect to the horizontal plane. However, in this case, since the alternating laminated film is formed by discharging the liquid having the charge substance, there is a possibility that the film thickness unevenness may occur in the alternating laminated film created by the droplets at the time of discharge. -It was difficult to form a high-quality alternating laminated film on a substrate of several tens to several hundreds of meters with high efficiency.

そこで、本発明は、高品質な交互積層膜を高効率で量産性よく製造する方法および装置を提供することを第1の課題とする。また、本発明は、ロール・トゥ・ロールにより効率的に高品質な交互積層膜を製造することができる方法および装置の提供することを第2の課題とするものである。   Therefore, a first object of the present invention is to provide a method and an apparatus for producing a high-quality alternating laminated film with high efficiency and high productivity. Moreover, this invention makes it the 2nd subject to provide the method and apparatus which can manufacture a high quality alternate laminated film efficiently by roll to roll.

本発明は、次のものに関する。
1. 正電荷を有する物質と負電荷を有する物質とを基材に交互に積層する交互積層膜の製造方法において、基材を垂直に立てて水平方向に搬送しつつ、該基材を前記正電荷を有する物質を含む液に浸漬する浸漬処理工程と該基材を前記負電荷を有する物質を含む液に浸漬する浸漬処理工程をそれぞれ、所定回数行うことを特徴とする交互積層膜の製造方法。
2. 各浸漬処理工程のそれぞれの後に、基材を洗浄するリンス工程を含む項1記載の交互積層膜の製造方法。
3. 各浸漬処理工程のそれぞれの後に、それぞれの浸漬処理工程で使用したのと同一の液を基材にその上部又は上方からかける工程を含む項1記載の交互積層膜の製造方法。
4. 各浸漬処理工程のそれぞれの後であって、各浸漬処理工程後のリンス工程の前に、それぞれの浸漬処理工程で使用したのと同一の液を基材にその上部又は上方からかける工程を含む項2記載の交互積層膜の製造方法。
5. 各浸漬処理工程を、前記正電荷を有する物質又は負電荷を有する物質を含む液を収容した槽を、その槽に設けられた開口部から進入してその槽に設けられた別の開口部から退出するように、垂直に立てた基材を通過させることによって行う項1〜4のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。
6. 各開口部が垂直方向に設けられたスリット状の開口である項5記載の交互積層膜の製造方法。
7. 各槽の各開口部において、前記開口部の槽内側近傍に1対の柱状部材を隔離して配置し、この1対の柱状部材の間を基材に通過させる項5又は6記載の交互積層膜の製造方法。
8. 1対の柱状部材を隔離するための構造が、その上部と下部にスペーサを挟み込むことにより柱状部材を隔離する構造である項8記載の交互積層膜の製造方法。
9. 浸漬処理工程において、基材を浸漬されるための前記正電荷を有する物質又は負電荷を有する物質を含む液を循環使用する項1〜8のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。
10. 基材の搬送が、最初の工程の前におけるロール状基材を巻き出し、最後の工程の通過後の基材をロール状に巻き取ることにより行われる項1〜9のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。
11. 基材が、フィルム又は繊維材料の織布又は不織布である項1〜10のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。
12. 壁にフィルム状又はシート状の基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、正又は負の電荷を有する物質を含む液を収容又は導入するための浸漬処理槽を含み、基材が通過可能な浸漬工程槽を備えてなる交互積層膜製造装置。
13. 浸漬工程槽を複数個有する項12記載の交互積層膜製造装置。
14. 壁に浸漬工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、洗浄液を収容又は導入するためのリンス工程槽を備えてなる項12又は13記載の交互積層膜製造装置。
15. 最後のリンス工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、乾燥機構を備える乾燥工程槽備えてなる項14記載の交互積層膜製造装置。
16. 垂直に立てられ、ロール状に巻回されているフィルム状又はシート状の基材を保持し、巻き出すことができる基材保持部材、
垂直に立てられ、巻き出された保持部材を浸漬処理工程槽に誘導するための案内ロール、
最後の槽を通過した基材を誘導する案内ロール
及び
案内ロールにより案内された基材を巻き取るための垂直に立てられた巻き取りロール
を備えてなる項12〜15のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。
17. 巻き出された保持部材を浸漬処理工程槽に誘導するための案内ロール及び最後の槽を通過した基材を誘導する案内ロールによって、案内される基材が一直線上を移動可能なように、浸漬工程槽、リンス工程槽及び乾燥工程槽のスリット状開口部の位置を調節して各槽を配列してなる項16記載の交互積層膜製造装置。
18. 浸漬工程槽が浸漬処理槽のみからなる項12〜17のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。
19. 浸漬工程槽が、浸漬処理槽の直前又は直後に、その基材が進入又は退出するためのスリット状開口部から流出する浸漬液を受けるための回収槽を有する項12〜17のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。
20. 浸漬処理槽の各開口部において、該開口部の槽内側近傍に1対の柱状部材を隔離して配置し、この1対の柱状部材の間を基材に通過させる構造としてなる項18又は19記載の交互積層膜製造装置。
21. 1対の柱状部材を隔離するための構造が、その上部と下部にスペーサを挟み込むことにより柱状部材を隔離する構造である項20記載の交互積層膜製造装置。
22. 浸漬工程槽直後の回収槽が浸漬液を基材にその上部又は上方からかける機構を有する項19記載の交互積層膜製造装置。
23. 回収槽の底面又は側面に浸漬液の排出口を有する項19又は22記載の交互積層膜製造装置。
24. 回収槽の排出口から排出された浸漬液を浸漬処理槽に循環させる機構を有する項23記載の交互積層膜製造装置。
25. リンス工程槽が壁に浸漬工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、洗浄液を収容又は導入するためのリンス槽が1槽からなるか又は複数槽連ねてなるものである項12〜24のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。
26. リンス槽がその底面又は側面に洗浄液の排出口を備えてなるものである項25記載の交互積層膜製造装置。
27. リンス槽の排出口から排出された洗浄液をリンス槽に循環させる機構を有する項26記載の交互積層膜製造装置。
The present invention relates to the following.
1. In a method for producing an alternately laminated film in which a substance having a positive charge and a substance having a negative charge are alternately laminated on a base material, the base material is transported in a horizontal direction while the base material is conveyed vertically. A dipping process step of immersing the substrate in a liquid containing a substance and a dipping process step of immersing the substrate in a liquid containing a substance having a negative charge are each performed a predetermined number of times.
2. Item 2. The method for producing an alternately laminated film according to Item 1, further comprising a rinsing step for washing the substrate after each immersion treatment step.
3. Item 2. The method for producing an alternating laminated film according to Item 1, further comprising a step of applying the same liquid used in each immersion treatment step to the substrate from the upper part or from the upper side after each immersion treatment step.
4). After each immersion treatment step, before the rinsing step after each immersion treatment step, including the step of applying the same liquid used in each immersion treatment step to the substrate from above or above Item 3. A method for producing an alternating laminated film according to Item 2.
5. Each immersion treatment step is performed by entering a tank containing a liquid containing a substance having a positive charge or a substance having a negative charge from an opening provided in the tank and from another opening provided in the tank. Item 5. The method for producing an alternating laminated film according to any one of Items 1 to 4, which is carried out by passing a vertically standing substrate so as to exit.
6). Item 6. The method for producing an alternately laminated film according to Item 5, wherein each opening is a slit-like opening provided in the vertical direction.
7). Item 6. The alternating lamination according to item 5 or 6, wherein in each opening of each tank, a pair of columnar members are arranged separately in the vicinity of the inside of the tank of the opening, and the space between the pair of columnar members is passed through the substrate. A method for producing a membrane.
8). Item 9. The method for manufacturing an alternate laminated film according to Item 8, wherein the structure for isolating the pair of columnar members is a structure for isolating the columnar members by sandwiching spacers between the upper and lower portions.
9. Item 9. The method for producing an alternating laminated film according to any one of Items 1 to 8, wherein in the dipping treatment step, the liquid containing the positively charged substance or the negatively charged substance for dipping the substrate is circulated and used.
10. The alternating of any one of Items 1 to 9, wherein the transport of the base material is performed by unwinding the roll-shaped base material before the first step and winding the base material after passing through the last step into a roll shape. Manufacturing method of laminated film.
11. Item 11. The method for producing an alternately laminated film according to any one of Items 1 to 10, wherein the substrate is a woven or nonwoven fabric of a film or a fiber material.
12 It has a slit-like opening provided vertically for a film-like or sheet-like base material to enter the wall and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, positive or negative An alternating film manufacturing apparatus comprising a dipping process tank that contains a dipping treatment tank for containing or introducing a liquid containing a substance having a charge, and that is capable of passing a substrate.
13. Item 13. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 12, having a plurality of dipping process tanks.
14 It has a slit-like opening provided vertically for the base material that has passed through the dipping process tank to enter the wall and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, and contains cleaning liquid or Item 14. The apparatus for producing an alternating laminated film according to Item 12 or 13, comprising a rinsing process tank for introduction.
15. It has a slit-like opening provided vertically for the base material that has passed through the last rinsing process tank to enter and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, and is provided with a drying mechanism. Item 15. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 14, comprising a drying process tank.
16. A base material holding member that can stand up vertically and hold and unwind a film-like or sheet-like base material wound in a roll;
A guide roll for vertically guiding and unwinding the holding member to the immersion treatment process tank;
Item 16. The alternation according to any one of Items 12 to 15, comprising a guide roll that guides the base material that has passed through the last tank, and a winding roll that is vertically set up to take up the base material guided by the guide roll. Multilayer film manufacturing equipment.
17. Immersion so that the guided substrate can move in a straight line by the guide roll for guiding the unwound holding member to the immersion treatment process tank and the guide roll for guiding the substrate that has passed through the last tank. Item 17. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 16, wherein the tanks are arranged by adjusting the positions of the slit-shaped openings of the process tank, the rinse process tank, and the drying process tank.
18. Item 18. The alternately laminated film manufacturing apparatus according to any one of Items 12 to 17, wherein the dipping process tank is composed only of an immersion treatment tank.
19. The immersion process tank according to any one of Items 12 to 17, which has a recovery tank for receiving an immersion liquid flowing out from a slit-like opening through which the base material enters or exits immediately before or after the immersion treatment tank. Alternate film production equipment.
20. Item 18 or 19 has a structure in which a pair of columnar members are arranged separately in the vicinity of the inside of the tank of each of the immersion treatment tanks, and the pair of columnar members are passed through the base material. The alternately laminated film manufacturing apparatus as described.
21. Item 21. The alternating film manufacturing apparatus according to Item 20, wherein the structure for isolating the pair of columnar members is a structure for isolating the columnar members by sandwiching a spacer between the upper portion and the lower portion thereof.
22. Item 20. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 19, wherein the recovery tank immediately after the immersion process tank has a mechanism for applying the immersion liquid to the base material from above or from above.
23. Item 23. The alternating film manufacturing apparatus according to Item 19 or 22, wherein the recovery tank has an immersion liquid discharge port on a bottom surface or a side surface.
24. Item 24. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 23, which has a mechanism for circulating the immersion liquid discharged from the discharge port of the recovery tank to the immersion treatment tank.
25. The rinsing process tank has a vertically provided slit-like opening for allowing the base material that has passed through the immersion process tank to enter the wall and a vertically provided slit-like opening for the base material to exit, Item 25. The alternating film manufacturing apparatus according to any one of Items 12 to 24, wherein the rinse tank for containing or introducing the cleaning liquid is composed of one tank or a plurality of tanks.
26. Item 26. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 25, wherein the rinse tank is provided with a cleaning liquid discharge port on the bottom surface or side surface thereof.
27. Item 27. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to Item 26, which has a mechanism for circulating the cleaning liquid discharged from the discharge port of the rinse tank to the rinse tank.

本発明における交互積層膜の製造方法及び製造装置では、基材を垂直に立てて水平方向に搬送し、電荷物質を含む液に浸漬する工程を施すようになっており、また、リンス工程をも同様に行うことができ、高品質の交互積層膜を効率的に量産性よく製造することができる。本発明においては、液中で基材を折り返す必要がないことから液中に搬送ロールを必要とせず、交互積層膜が濡れた状態で搬送ロールに接触することにより形成された交互積層膜が破壊される等の問題を生じることがない。また、搬送過程における基材の折り返しも少なくできることから、基材を安定して搬送することが容易である。更に、液中に搬送ロールやロール駆動部が無いことから異物混入による液の劣化を抑制することができる。   In the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the alternately laminated film according to the present invention, the base material is set up vertically, transported in the horizontal direction, and immersed in a liquid containing a charged substance, and the rinsing process is also performed. This can be performed in the same manner, and a high-quality alternating laminated film can be efficiently produced with high productivity. In the present invention, since it is not necessary to fold the substrate in the liquid, the transport roll is not required in the liquid, and the alternating laminated film formed by contacting the transport roll in a wet state is destroyed. It does not cause problems such as being. Further, since the folding of the base material during the transport process can be reduced, it is easy to transport the base material stably. Furthermore, since there is no transport roll or roll drive unit in the liquid, it is possible to suppress the deterioration of the liquid due to foreign matter mixing.

本発明における交互積層膜の製造方法及び製造装置においては、浸漬処理槽に設けられた基材通過のための開口部の内側近傍に基材を挟むように1対の柱状部材を配置し、前記1対の柱状部材の上部と下部にスペーサを配置することにより基材が通過する隙間を確保することができ、開口部での傷発生を防止することができる。更に、柱状部材は、液圧によって開口部側壁に接触させるようにすることにより開口部側壁と柱状部材との間から液流出を抑制することもできる。
本発明における交互積層膜の製造方法及び製造装置においては、浸漬処理槽の前後に回収槽を配置すると、浸漬処理槽から流出する浸漬液を効率よく回収することができ、また、この浸漬液を循環使用することができる。
本発明においては、基材の搬送をロール・トゥ・ロールで行うこともできるので、効率的に高品質な交互積層膜を製造することができる。
本発明おいて、浸漬液や洗浄液は、循環使用することもできる。
In the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the alternately laminated film according to the present invention, a pair of columnar members are arranged so as to sandwich the substrate in the vicinity of the inside of the opening for passing the substrate provided in the immersion treatment tank, By arranging the spacers at the upper and lower portions of the pair of columnar members, a gap through which the base material passes can be secured, and scratches at the opening can be prevented. Furthermore, the columnar member can also suppress the outflow of liquid from between the opening side wall and the columnar member by bringing the columnar member into contact with the opening side wall by hydraulic pressure.
In the method and apparatus for producing an alternating laminated film according to the present invention, if a collection tank is arranged before and after the immersion treatment tank, the immersion liquid flowing out from the immersion treatment tank can be efficiently recovered. Can be used cyclically.
In the present invention, since the substrate can be transported by roll-to-roll, a high-quality alternating laminated film can be produced efficiently.
In the present invention, the immersion liquid and the cleaning liquid can be recycled.

(正電荷を有する物質および負電荷を有する物質)
本発明における正電荷物質としては、正の電荷を有するイオン性ポリマー、正の電荷を有する微粒子等を使用することができる。また、同様に本発明における負電荷物質としては、負の電荷を有するイオン性ポリマー、負の電荷を有する微粒子等を使用することができる。
上記正電荷物質及び負電荷物質は、媒体中に均一に溶解又は分散するものが好ましい。
(Substances with positive charge and substances with negative charge)
As the positively charged substance in the present invention, an ionic polymer having a positive charge, fine particles having a positive charge, and the like can be used. Similarly, as the negatively charged substance in the present invention, an ionic polymer having a negative charge, fine particles having a negative charge, and the like can be used.
It is preferable that the positively charged substance and the negatively charged substance are uniformly dissolved or dispersed in the medium.

上記イオン性ポリマーとしては、荷電を有する官能基を主鎖または側鎖に持つ高分子を用いることができる。正の電荷を有するイオン性ポリマーとしては、一般に、4級アンモニウム基、アミノ基などの正荷電を帯びているか帯びることのできる官能基を有するもの、たとえば、ポリエチレンイミン(PEI)、ポリアリルアミン塩酸塩(PAH)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)、ポリビニルピリジン(PVP)、ポリリジンなどを用いることができる。負の電荷を有するイオン性ポリマーとしては、一般的に、スルホン酸、硫酸、カルボン酸など負電荷を帯びているか帯びることのできる官能基を有するものであり、たとえば、ポリスチレンスルホン酸(PSS)、ポリビニル硫酸(PVS)、デキストラン硫酸、コンドロイチン硫酸、ポリアクリル酸(PAA)、ポリメタクリル酸(PMA)、ポリマレイン酸、ポリフマル酸などが用いられる。これらの有機高分子イオンは、多くのものが水溶性あるいは水とアルコール、アセトン等の水溶性有機溶媒との混合液に可溶であり、ここに例示したものはいずれもこのような媒体に可溶である。   As the ionic polymer, a polymer having a charged functional group in the main chain or side chain can be used. As the ionic polymer having a positive charge, those having a positively charged or chargeable functional group such as a quaternary ammonium group or amino group, such as polyethyleneimine (PEI), polyallylamine hydrochloride (PAH), polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA), polyvinylpyridine (PVP), polylysine and the like can be used. The ionic polymer having a negative charge is generally one having a negatively charged or chargeable functional group such as sulfonic acid, sulfuric acid, carboxylic acid, such as polystyrene sulfonic acid (PSS), Polyvinyl sulfate (PVS), dextran sulfate, chondroitin sulfate, polyacrylic acid (PAA), polymethacrylic acid (PMA), polymaleic acid, polyfumaric acid and the like are used. Many of these organic polymer ions are water-soluble or soluble in a mixture of water and a water-soluble organic solvent such as alcohol or acetone, and any of the examples exemplified here can be used in such a medium. It is melted.

微粒子としては、無機微粒子又は有機高分子微粒子を使用することができる。
無機微粒子としては、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化アルミニウム(AlF)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、シリカ(SiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ジルコニア(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化ニオブ(Nb)、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)、セリア(CeO)、酸化イットリウム(Y)、酸化ビスマス(Bi)などが挙げられる。
As fine particles, inorganic fine particles or organic polymer fine particles can be used.
As the inorganic fine particles, magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), silica (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), Zirconia oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), ceria (CeO 2 ), Examples thereof include yttrium oxide (Y 2 O 3 ) and bismuth oxide (Bi 2 O 3 ).

有機高分子微粒子としては、ポリエチレン、アクリル系ポリマー、ポリスチレン、シリコンポリマー、フェノール樹脂、ポリアミド、天然高分子などが挙げられる。それらは液相から溶液噴霧法、脱溶媒法、水溶液反応法、エマルション法、懸濁重合法、分散重合法、アルコキシド加水分解法(ゾル−ゲル法)、水熱反応法、化学還元法、液中パルスレーザーアブレーション法などの製造方法で合成される。   Examples of the organic polymer fine particles include polyethylene, acrylic polymer, polystyrene, silicon polymer, phenol resin, polyamide, and natural polymer. From liquid phase to solution spray method, solvent removal method, aqueous solution reaction method, emulsion method, suspension polymerization method, dispersion polymerization method, alkoxide hydrolysis method (sol-gel method), hydrothermal reaction method, chemical reduction method, liquid It is synthesized by a manufacturing method such as medium pulse laser ablation.

金属酸化物の微粒子の表面には部分的に水酸基が存在し、それが水溶液中でイオン化(−O又は−OH )して、プラス又はマイナスの電荷を持たせることができる。また、カルボキシル基、アミノ基などの極性基やイオン性を有する界面活性剤を微粒子に化学的又は物理的に吸着させて表面に電荷を持たせることもできる。高分子微粒子には、その原料のポリマーに上記極性基やイオン性を有するものを用いることで表面に電荷を持たせることができる。 On the surface of the fine particles of the metal oxide is partially present hydroxyl, it ionized in aqueous solution (-O - or -OH 2 +), it is possible to have a positive or negative charge. In addition, a polar group such as a carboxyl group or an amino group or an ionic surfactant may be chemically or physically adsorbed on the fine particles to give a charge to the surface. The polymer fine particles can be charged on the surface by using a polymer as a raw material having the above polar group or ionicity.

本発明により作製した交互積層膜を光学素子として使用するためには、交互積層膜が透明であることが好ましいが、正電荷又は負電荷を有する物質として微粒子を用いる場合、交互積層膜が透明性を得るために、本発明で用いる媒体に分散されている微粒子は、平均一次粒子径が2〜100nmであることが好ましい。平均一次粒子径が2nm未満であると膜成長に時間がかかりすぎるし、100nmを超えると、膜厚の制御がしにくく、また光を散乱しやすくなり交互積層膜の透明性を損なう。また、正電荷又は負電荷を有する物質として微粒子を用いる場合、媒体に分散している微粒子は一次粒子であっても一次粒子が凝集したタイプの二次粒子であっても良い。このとき、微粒子の平均一次粒子径や平均二次粒子径の測定は公知の方法を用いて行うことができる。一次粒子が凝集せずに媒体に分散している場合、平均一次粒子径を動的散乱法により測定することができる。ただし、一次粒子が凝集した二次粒子等の場合、動的散乱法により測定されるのは平均一次粒子ではなく、平均二次粒子径である。二次粒子における平均一次粒子径はBET法や電子顕微鏡法によって測定できる。BET法では、窒素ガスのように占有面積の分かった分子を粒子表面に吸着させ、その吸着量と圧力の関係から比表面積を求め、この比表面積を換算表から粒子径に変換をすることで粒子径を測定できる。また、電子顕微鏡法では、まず厚さ数十nmのアモルファスカーボン膜が形成された銅製メッシュ上で微粒子を微粒子分散液からすくい取る、もしくはアモルファスカーボン膜上に微粒子を吸着させる。その微粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、次いで、撮影画像中の複数の微粒子の長さを測定しその相加平均を平均一次粒子径として求める。柱状粒子のように粒子の軸比が大きく異なる場合は、一般的に短軸の長さを測定し、その相加平均を平均一次粒子径とする。   In order to use the alternating laminated film produced according to the present invention as an optical element, the alternating laminated film is preferably transparent. However, when fine particles are used as a substance having a positive charge or a negative charge, the alternating laminated film is transparent. In order to obtain the above, the fine particles dispersed in the medium used in the present invention preferably have an average primary particle diameter of 2 to 100 nm. If the average primary particle size is less than 2 nm, it takes too much time for film growth, and if it exceeds 100 nm, it is difficult to control the film thickness, and light is likely to be scattered, thereby impairing the transparency of the alternately laminated film. Further, when fine particles are used as a substance having a positive charge or a negative charge, the fine particles dispersed in the medium may be primary particles or secondary particles of a type in which primary particles are aggregated. At this time, the average primary particle diameter and average secondary particle diameter of the fine particles can be measured using a known method. When the primary particles are dispersed in the medium without being aggregated, the average primary particle diameter can be measured by a dynamic scattering method. However, in the case of secondary particles or the like in which primary particles are aggregated, what is measured by the dynamic scattering method is not the average primary particles but the average secondary particle diameter. The average primary particle diameter in the secondary particles can be measured by a BET method or an electron microscope method. In the BET method, molecules with an occupied area such as nitrogen gas are adsorbed on the particle surface, the specific surface area is obtained from the relationship between the adsorbed amount and the pressure, and the specific surface area is converted from the conversion table into the particle diameter. The particle size can be measured. In electron microscopy, first, fine particles are scooped up from a fine particle dispersion on a copper mesh on which an amorphous carbon film having a thickness of several tens of nm is formed, or fine particles are adsorbed on the amorphous carbon film. The fine particles are observed with a transmission electron microscope, and then the lengths of a plurality of fine particles in the photographed image are measured, and the arithmetic average is obtained as the average primary particle diameter. When the axial ratios of the particles are greatly different as in the case of columnar particles, the length of the minor axis is generally measured, and the arithmetic average is taken as the average primary particle diameter.

(基材)
基材としてはフィルム、繊維材料の織布又は不織布、ガラス繊維を織り込んだクロス等、ロール状に巻き取とることができる程度に可撓性のものであればよい。また、極端に疎水性、撥水性のものまたは表面にそのような膜がコートしていないものがよい。現時点における用途展開等を考慮すると、可撓性を有する樹脂製の透明フィルムが好適に用いられる。樹脂製の透明フィルムの材質として具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトンなどが挙げられる。また、基材の表面に透明な樹脂膜や無機膜がコートされているものも本発明の基材に包含される。更に、表面に凹凸のあるフィルムも適応可能である。凹凸のあるフィルムの形成方法としては、サンドブラスト処理、紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射により硬化可能な光硬化性樹脂を表面に凹凸模様が形成された金型に押し当てて、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射する方法等により製造することができるが、その方法に特に限定はない。
(Base material)
The substrate may be a flexible material that can be wound up into a roll, such as a film, a woven or nonwoven fabric of a fiber material, or a cloth woven with glass fibers. Further, those having extremely hydrophobic and water repellent properties or those having no surface coated with such a film are preferable. In consideration of application development at the present time, a resin transparent film having flexibility is preferably used. Specific examples of the resin transparent film material include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyether sulfone, polyacrylic resin, polyurethane resin, polyester, polycarbonate, polysulfone, polyether, and polymethyl. Examples include pentene and polyether ketone. In addition, the base material of the present invention includes a base material whose surface is coated with a transparent resin film or inorganic film. Furthermore, a film having an uneven surface can also be applied. As a method of forming an uneven film, a photocurable resin that can be cured by irradiation of active energy rays such as sandblasting, ultraviolet rays, and electron beams is pressed against a mold having an uneven pattern on the surface, ultraviolet rays, Although it can manufacture by the method etc. of irradiating active energy rays, such as an electron beam, there is no limitation in particular in the method.

基材上に交互積層膜を形成するためには、基材がその表面に極性基を有することが必要である。極性基としては、水酸基、カルボシキル基、カルボニル基、スルホナート基、アミノ基、4級アンモニウム塩、イソシアネート基等が挙げられる。それらは分子内分極またはイオン化によって、局所的にプラスまたはマイナスの電荷を有するため、それと反対の電荷を有する物質を吸着させる。したがって、表面水酸基を有するポリエチレンテレフタレート等の基材をそのまま用いるか、またはそれらの表面にコロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、紫外線照射、オゾン処理、アルカリや酸などによる化学的エッチング処理、シランカップリング処理などによって極性を有する官能基を導入して基材の表面電荷をマイナスまたはプラスとする。基材表面へプラスの電荷を効率よく導入する方法としては、水溶液中でイオン化し、プラスの電荷を有する強電解質ポリマーであるポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド又はポリエチレンイミンを吸着させることによっても可能である〔アドバンスト マテリアル(Advanced Material)13巻52−54頁(2001年発行)参照〕。   In order to form an alternately laminated film on a base material, the base material needs to have a polar group on its surface. Examples of the polar group include a hydroxyl group, a carboxy group, a carbonyl group, a sulfonate group, an amino group, a quaternary ammonium salt, and an isocyanate group. Since they have a positive or negative charge locally by intramolecular polarization or ionization, they adsorb substances having the opposite charge. Accordingly, a base material such as polyethylene terephthalate having a surface hydroxyl group is used as it is, or corona discharge treatment, glow discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation, ozone treatment, chemical etching treatment with alkali or acid, silane, etc. A functional group having polarity is introduced by a coupling treatment or the like to make the surface charge of the substrate negative or positive. As a method for efficiently introducing a positive charge to the surface of the substrate, it is possible to ionize in an aqueous solution and adsorb polydiallyldimethylammonium chloride or polyethyleneimine, which is a strong electrolyte polymer having a positive charge [ Advanced Materials (Advanced Material) 13: 52-54 (issued in 2001)].

基材表面の極性基の量は、ゼータ電位で、絶対値が1〜35mVであることが好ましい。例えば、ガラスやポリエチレンテレフタレート等の基材表面のゼータ電位は−80から−30mV程度であり、前記基材にポリジアリルジメチルアンモニウムクロリドを吸着させた場合のゼータ電位は40〜60mV程度である。また、金属酸化物の微粒子のゼータ電位は、絶対値で1〜60mV程度である。ゼータ電位は、レーザーゼータ電位計ELS−8000(大塚電子株式会社製)等を用いて測定することができる。   The amount of polar groups on the substrate surface is preferably a zeta potential and an absolute value of 1 to 35 mV. For example, the zeta potential on the surface of a substrate such as glass or polyethylene terephthalate is about −80 to −30 mV, and the zeta potential when polydiallyldimethylammonium chloride is adsorbed on the substrate is about 40 to 60 mV. The zeta potential of the metal oxide fine particles is about 1 to 60 mV in absolute value. The zeta potential can be measured using a laser zeta electrometer ELS-8000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) or the like.

(交互積層膜の作製方法)
このように表面に極性基を有する基材を垂直方向に立てて水平方向に搬送し、この間に、正電荷物質を含む液および負電荷物質を含む液に交互に浸漬し、基材上に交互積層膜が作製される。基材の表面電荷がマイナスであればはじめに正電荷物質を含む液、基材の表面電荷がプラスであればはじめに負電荷物質を含む液に浸漬する工程を行う。基材は、適宜の形状で使用しておいてもよいが、条体のもの又は帯状のものが好ましく、これをロール状に巻いてある基材を巻き出して、上記の工程に従事するように搬送し、必要な工程を終えた後は、基材をロール状に巻き取るようにすることが好ましい。
(Method for producing alternating laminated film)
In this way, a substrate having a polar group on the surface is vertically conveyed and conveyed in the horizontal direction, and during this time, it is alternately immersed in a liquid containing a positively charged substance and a liquid containing a negatively charged substance, and alternately on the substrate. A laminated film is produced. If the surface charge of the base material is negative, a step of first immersing in a liquid containing a positively charged substance, and if the surface charge of the base material is positive, a step of first immersing in a liquid containing a negatively charged substance is performed. The base material may be used in an appropriate shape, but is preferably in the form of a strip or a belt, and the base material wound in a roll shape is unwound and engaged in the above steps. It is preferable that the base material is wound up in a roll shape after being transported and finished with necessary steps.

電荷物質を含む液中の溶解又は分散している電荷物質の濃度は、電荷物質及び媒体の種類や得られた交互膜の用途によって異なるが、0.1〜20重量%程度とすることが好ましい。   The concentration of the charged substance dissolved or dispersed in the liquid containing the charged substance varies depending on the kind of the charged substance and the medium and the use of the obtained alternating film, but is preferably about 0.1 to 20% by weight. .

上記の各浸漬処理工程における浸漬時間は、積層する物質、積層したい膜厚等によって適宜調整する。浸漬時間は、基材の搬送速度、浸漬するための浸漬槽の長さ等により調整でき、1回当たりの膜厚は、正電荷物質又は負電荷物質を含む液の濃度およびpHを調整することにより行うこともできる。例えば、正電荷物質又は負電荷物質が微粒子の場合、微粒子が沈殿しない程度にpHを中性に近づけることにより微粒子を凝集させ、凝集した微粒子を基材に吸着させることで、1回当たりの膜厚を厚くすることが可能となる。また、正電荷物質又は負電荷物質を含む液への浸漬時間は、膜厚制御を容易にするために、電荷物質の吸着が飽和する時間以上行うことが好ましい。電荷物質の吸着が飽和する時間は電荷物質を含む液によって異なるが、好ましくは20〜600秒程度である。電荷物質の吸着状態は、基材を浸漬する際に、水晶振動子を同時に浸漬し、水晶振動子の発振周波数の変化を確認することで確認することできる(国際公開WO00/13806号公報参照)。   The immersion time in each of the above immersion treatment steps is appropriately adjusted according to the material to be laminated, the film thickness to be laminated, and the like. Immersion time can be adjusted by the transport speed of the substrate, the length of the immersion tank for immersion, etc. The film thickness per time is adjusted by adjusting the concentration and pH of the liquid containing positively charged substance or negatively charged substance Can also be performed. For example, in the case where the positively charged substance or the negatively charged substance is fine particles, the fine particles are aggregated by bringing the pH close to neutral so that the fine particles do not precipitate, and the aggregated fine particles are adsorbed to the base material, so The thickness can be increased. In addition, the immersion time in the liquid containing the positively charged substance or the negatively charged substance is preferably set to be longer than the time when the adsorption of the charged substance is saturated in order to facilitate the film thickness control. The time for which the adsorption of the charged substance is saturated varies depending on the liquid containing the charged substance, but is preferably about 20 to 600 seconds. The adsorbed state of the charged substance can be confirmed by immersing the quartz crystal resonator at the same time when immersing the base material, and confirming the change in the oscillation frequency of the quartz crystal resonator (see International Publication WO00 / 13806). .

第一の浸漬処理工程のあと、上記と同様にして次の浸漬処理工程においては、反対の電荷を有する物質を含む液が使用される。順次、反対の電荷を有する物質を含む液を使用して浸漬処理工程が必要回数行われる。これらの各浸漬処理工程のあとリンスする工程を行うことが好ましい。電荷を有する物質は基材に静電的に吸着しているが、それを超える量の電荷を有する物質、その他の余剰の物質はこれによって洗い流すことができる。また、次の工程で使用する反対電荷物質を含む液に、溶解又は分散する物質を持ち込むことを防ぐためにもリンスすることは好ましい。これをしない場合は、持ち込みによって溶液内で正電荷物質と負電荷物質が混ざり、沈殿を起こすことがある。リンス工程は、リンス液への浸漬又はスプレー等によるリンス液の噴きかけにより実施することができる。本発明で用いられるリンス液は、用いられる電荷物質を含む液の種類によって、適宜選択されて用いられる。具体的には、イオン交換水もしくは超純水(比抵抗18MΩ・cm)、アルコール、アルコールと水の混合液などが適宜用いられる。リンス時間は用途や電荷物質を含む液に応じて、適宜選択される。具体的には、数秒以上から数十秒以下の程度の時間実施することが好ましく、リンス工程は引き続いて複数回実施しても良い。   After the first immersion treatment step, a liquid containing a substance having an opposite charge is used in the next immersion treatment step in the same manner as described above. Sequentially, the dipping process is performed as many times as necessary using a liquid containing a substance having the opposite charge. It is preferable to perform the process of rinsing after each of these immersion treatment processes. The charged substance is electrostatically adsorbed on the substrate, but the substance having a charge exceeding that amount and other excess substances can be washed away. Further, it is preferable to rinse in order to prevent a substance to be dissolved or dispersed from being brought into the liquid containing the oppositely charged substance used in the next step. If this is not done, positive charge substances and negative charge substances may be mixed in the solution due to carry-in, and precipitation may occur. The rinsing step can be performed by spraying the rinsing liquid by immersion in the rinsing liquid or spraying. The rinsing liquid used in the present invention is appropriately selected and used depending on the type of liquid containing the charge substance used. Specifically, ion-exchanged water or ultrapure water (specific resistance 18 MΩ · cm), alcohol, a mixed solution of alcohol and water, and the like are appropriately used. The rinsing time is appropriately selected according to the use and the liquid containing the charged substance. Specifically, it is preferable to carry out for a time of about several seconds to several tens of seconds, and the rinsing process may be carried out a plurality of times.

本発明においては、リンス工程の後に、乾燥工程を行っても良い。乾燥の有無により得られる膜の特性が異なる場合があり、膜の種類によっては乾燥が必要な場合があるからである。乾燥した基材と濡れている基材とで積層される膜厚が変化する場合があり、搬送過程において乾燥部と未乾燥部とが発生することにより交互積層膜にムラが発生する可能性あるからである。また、乾燥させることにより、次の浸漬処理槽への水の持ち込みを低減することで処理液の濃度やPHの変化を抑制することもできる。乾燥工程は、最後のリンス工程の後1回だけ行ってもよい。   In the present invention, a drying step may be performed after the rinsing step. This is because the characteristics of the obtained film may differ depending on the presence or absence of drying, and drying may be necessary depending on the type of film. The film thickness that is laminated between the dried substrate and the wet substrate may change, and unevenness may occur in the alternating laminated film due to the generation of dry and undried parts in the transport process. Because. Further, by drying, it is possible to suppress changes in the concentration of the treatment liquid and PH by reducing the amount of water brought into the next immersion treatment tank. The drying step may be performed only once after the last rinsing step.

本発明においては、正電荷物質又は負電荷物質を含む液への浸漬処理工程の後、リンス工程を行うときはその前に、正電荷物質又は負電荷物質の薄膜を製膜した基材に、浸漬処理工程で使用した液と同一の液をかける工程を行うことが好ましい。浸漬処理工程において基材出口部から流出する電荷物質を有する液を回収するためには、リンス工程に入る前に流出する液を回収した方がよいが、そのために、槽浸漬処理工程とリンス工程の間に空搬送を必要とすることがある。この空搬送の間に、基材表面に余剰に付着している電荷物質を有する液が基材の上部から下部へと流れるため、搬送速度や空搬送距離によっては基材上部が乾燥し、余剰に付着した電荷物質が基材に付着することで膜厚ムラが発生する可能性がある。空搬送時に同一の液をかける工程を行うことにより、この膜厚ムラの発生を防止することができる。なお上記の流出する電荷物質を有する液を回収するために浸漬処理工程の前後に回収槽を設けることが、その液及び洗浄液の再利用の上で好ましい。浸漬処理工程の直後にリンス工程を実施することによっても基材上部の乾燥による膜厚ムラを防止することも可能であるが、この場合、浸漬工程において基材出口部から流出する電荷物質を有する液とリンス液が混ざるため、電荷物質を有する液を回収して再利用に際し、濃度調整等が必要になり、場合によっては、再利用せず、新たな液を供給使用することとなる。   In the present invention, after the immersion treatment step in the liquid containing the positively charged substance or the negatively charged substance, before performing the rinsing step, before that, on the substrate on which a thin film of the positively charged substance or the negatively charged substance is formed, It is preferable to perform the step of applying the same liquid as that used in the dipping process. In order to recover the liquid having the charged substance flowing out from the substrate outlet in the immersion treatment process, it is better to collect the liquid flowing out before entering the rinsing process. For that purpose, the bath immersion treatment process and the rinsing process are performed. In some cases, empty transport may be required. During this empty conveyance, the liquid containing the charged substance that is excessively attached to the substrate surface flows from the upper part to the lower part of the substrate, so that the upper part of the substrate is dried depending on the conveyance speed and the empty conveyance distance. There is a possibility that unevenness in film thickness may occur due to the charged substance adhering to the substrate adhering to the substrate. By performing the step of applying the same liquid during empty conveyance, the occurrence of this film thickness unevenness can be prevented. In order to recover the liquid having the charged substance flowing out, it is preferable to provide a recovery tank before and after the immersion treatment step in terms of reuse of the liquid and the cleaning liquid. It is also possible to prevent film thickness unevenness due to drying of the upper part of the base material by carrying out a rinsing process immediately after the immersion treatment process, but in this case, it has a charge substance that flows out from the outlet part of the base material in the immersion process. Since the liquid and the rinsing liquid are mixed, it is necessary to adjust the concentration when the liquid having the charged substance is collected and reused, and in some cases, a new liquid is supplied without being reused.

本発明においては、前述のような正電荷物質を含む液への浸漬工程および負電荷物質を含む液への浸漬処理工程、さらに必要に応じて 浸漬処理工程で使用した液と同一の液をかける工程及びリンス工程を、必要分繰り返した後乾燥を実施する。乾燥は、各リンス工程後に適宜行っても良い。最後の乾燥後は、交互積層膜が形成された基材をロール状に巻き取ることが好ましい。   In the present invention, the same liquid as that used in the immersion process is applied, and if necessary, the immersion process in the liquid containing the positively charged substance and the negatively charged substance. After repeating the process and the rinsing process as necessary, drying is performed. You may perform drying suitably after each rinse process. After the last drying, it is preferable to roll up the base material on which the alternating laminated film is formed in a roll shape.

本発明の製造工程において、正電荷物質を含む液及び負電荷物質を含む液の種類は、各1種類に限定されるものではなく、上述したように得られる交互積層膜の用途・機能に応じて複数種類のものが用いられてもよい。したがって、このような正電荷物質を含む液への浸漬処理工程および負電荷物質を含む液への浸漬処理工程を行うための装置の数は、得られる交互積層膜に必要とされる機能・用途に応じて適宜変えられる。   In the production process of the present invention, the kind of the liquid containing the positively charged substance and the liquid containing the negatively charged substance are not limited to one each, depending on the use / function of the alternately laminated film obtained as described above. A plurality of types may be used. Therefore, the number of apparatuses for performing the immersion treatment step in the liquid containing the positively charged substance and the immersion treatment step in the liquid containing the negatively charged substance is the function / use required for the obtained alternately laminated film. It can be changed according to the situation.

また、交互積層膜の積層回数は得られる交互積層膜に必要とされる機能・用途に応じて数十から数百となる場合がある。このような積層回数に見合った工程を行うだけの設備を用意することが困難な場合は、基材の巻き出しから巻取りまでの積層工程を数回から数十回にわたって繰り返すことにより、必要積層数を得ることもできる。
本発明よれば、基材の両面に同時に交互積層膜を形成することができるが、一方の面に極性基を存在させていない基材、たとえば、それ自身一方の面に極性基が存在しない基材、基材の一方の面に剥離可能性で表面に極性基を有しない保護フィルムを貼着するなどした基材などを使用することにより、片面にのみ交互積層膜を形成することも可能である。
In addition, the number of laminations of the alternate laminated film may be several tens to several hundreds depending on the functions and applications required for the obtained alternate laminated film. If it is difficult to prepare equipment that only performs the process corresponding to the number of laminations, the necessary lamination process is repeated by repeating the lamination process from unwinding to winding up the substrate several times to several tens of times. You can also get a number.
According to the present invention, an alternating laminated film can be formed simultaneously on both sides of a substrate, but the substrate does not have a polar group on one side, for example, a group that itself does not have a polar group on one side. It is also possible to form an alternating laminated film only on one side by using a base material such as a material that can be peeled on one side of the base material and a protective film that does not have a polar group on the surface. is there.

(交互積層膜の製造装置)
前述のような交互積層膜を製造するための装置について説明する。図1は、本発明に係る交互積層膜製造装置の一例を示す斜視図、図2はその平面図、図3はその正面図である。
(Alternate laminated film manufacturing equipment)
An apparatus for producing such an alternating laminated film will be described. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an alternate laminated film manufacturing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a front view thereof.

上記の装置は、ロール状に巻かれた条状又は帯状の基材を水平方向に伸ばし、基材の面を垂直に立てて搬送し、正電荷物質を含む液と負電荷物質を含む液への浸漬をそれぞれ1回づつ実施しロール状に巻取る装置である。本装置では、図1〜3に示すように、ロール状の基材1を保持し、巻き出すための基材巻き出し部2、交互積層膜が積層された基材1を巻き取り保持するための基材巻取り部3、及び、基材巻き出し部2と基材巻取り部3のあいだに位置し、基材1上に交互積層膜を形成するための加工部4とから構成されている。基材巻き出し部2は、ロール状の基材4を連続的に送り出すものであり、巻取り部3は、交互積層膜が形成された基材4を連続的にロール状に巻き取るものである。   The above apparatus stretches a strip-shaped or strip-shaped base material wound in a roll shape in the horizontal direction, conveys the base material in a vertical position, and transfers it to a liquid containing a positively charged substance and a liquid containing a negatively charged substance. Is a device that performs the above-mentioned immersion once and winds it up into a roll. In this apparatus, as shown in FIGS. 1-3, in order to hold | maintain the roll-shaped base material 1, the base material unwinding part 2 for unwinding, and the base material 1 on which the alternating laminated film was laminated | stacked and hold | maintained The base material winding unit 3 and the processing unit 4 for forming the alternately laminated film on the base material 1 are located between the base material winding unit 2 and the base material winding unit 3. Yes. The base material unwinding unit 2 continuously feeds the roll-shaped base material 4, and the winding unit 3 continuously winds the base material 4 on which the alternately laminated film is formed in a roll shape. is there.

巻き出し部2は、ロール状に巻かれた基材1の面を垂直に立てて水平に送り出すためのアンコイラー21が設けられている。アンコイラー21と加工部4との間には、アンコイラー21から送り出された条状又は帯状の基材を一定の位置に送り出すための入口ロール22が設けられている。入口ロール12を過ぎた基材は、加工部2へ導入される。   The unwinder 2 is provided with an uncoiler 21 for vertically feeding the surface of the substrate 1 wound in a roll shape vertically. Between the uncoiler 21 and the process part 4, the inlet roll 22 for sending out the strip | belt-shaped or strip | belt-shaped base material sent out from the uncoiler 21 to a fixed position is provided. The base material that has passed the inlet roll 12 is introduced into the processing unit 2.

巻取り部3では、加工部4を通過して出てきた交互積層膜が形成された基材1が、それに誘導するための駆動ロール31を経てリコイラー32にロール状に巻き取って回収される。駆動ロール31は、交互積層膜が形成された基材1を一定の位置に保ちつつ、所定の速度でリコイラー3に送る役目を担っている。
本実施形態において、入り口ロール22及び駆動ロール31は、基材1が壁に接触することなく加工部2の複数のスリット状開口部を通過するように基材1を誘導案内する役目を担っている。
In the winding unit 3, the base material 1 on which the alternately laminated film that has passed through the processing unit 4 is formed is wound around a recoiler 32 in a roll shape and collected via a driving roll 31 for guiding it. . The driving roll 31 plays a role of feeding the base material 1 on which the alternately laminated film is formed to a repositioner 3 at a predetermined speed while keeping the base material 1 at a fixed position.
In the present embodiment, the entrance roll 22 and the drive roll 31 have a role of guiding and guiding the base material 1 so that the base material 1 passes through the plurality of slit-like openings of the processed part 2 without contacting the wall. Yes.

加工部4では、第1浸漬工程槽410、第1リンス工程槽500、第2浸漬工程槽710、第2リンス工程槽800及び乾燥工程槽900が順次連なっている。
第1浸漬工程槽410では、回収槽411、正電荷物質又は負電荷物質を含む液が収容される浸漬処理槽412及び回収槽413が順次連なっており、第1リンス工程槽500では第1リンス槽510、第2リンス槽520及び第3リンス槽530が順次連なっている。第2浸漬工程槽710では、回収槽711、浸漬処理槽412に収容される液に含まれる電荷物質と反対電荷を有する電荷物質を含む液が収容される浸漬処理槽712及び回収槽713が順次連なっている。第2リンス工程槽800では第1リンス槽810、第2リンス槽820及び第3リンス槽830が順次連なっている。
上記の各槽において、それを介して槽が隣り合っている壁には、垂直に立てて搬送される基材が通過するための縦長のスリット状開口部が設けられている。回収槽411及びエアーナイフ乾燥槽900の隣接する槽が存在しない側の壁にも垂直に立てて搬送される基材1が通過するための縦長のスリット状開口部が設けられている。
In the process part 4, the 1st immersion process tank 410, the 1st rinse process tank 500, the 2nd immersion process tank 710, the 2nd rinse process tank 800, and the drying process tank 900 are connected in order.
In the first immersion process tank 410, a recovery tank 411, an immersion treatment tank 412 in which a liquid containing a positively charged substance or a negatively charged substance is accommodated, and a recovery tank 413 are sequentially connected. In the first rinse process tank 500, the first rinse is performed. The tank 510, the second rinse tank 520, and the third rinse tank 530 are sequentially connected. In the second immersion process tank 710, an immersion treatment tank 712 and a recovery tank 713 that store a liquid containing a charge substance having a charge opposite to that of the charge substance contained in the liquid stored in the recovery tank 711 and the immersion treatment tank 412 are sequentially provided. It is lined up. In the 2nd rinse process tank 800, the 1st rinse tank 810, the 2nd rinse tank 820, and the 3rd rinse tank 830 are connected in order.
In each of the above-mentioned tanks, a vertically long slit-like opening through which a base material that is vertically conveyed is passed is provided on a wall adjacent to the tanks through the tanks. A vertically long slit-like opening through which the substrate 1 conveyed vertically stands also on the wall on the side where the adjacent tanks of the recovery tank 411 and the air knife drying tank 900 do not exist.

第1及び第2の浸漬工程槽において、浸漬処理槽412及び浸漬処理槽712の前後に配置される回収槽411、413、711及び713は、浸漬処理槽に設けられたスリット状開口部から流出する電荷物質を含む液を回収するための槽である。   In the first and second immersion process tanks, the recovery tanks 411, 413, 711, and 713 arranged before and after the immersion treatment tank 412 and the immersion treatment tank 712 flow out from the slit-shaped openings provided in the immersion treatment tank. It is a tank for recovering the liquid containing the charged substance.

第1及び第2リンス工程槽の合計6個のリンス槽510、520、530、810、820及び830は、ノズルによりリンス液を噴出し、立てて搬送された基材にリンス液をかけることでリンスを実施するようになっている。リンス方法は、電荷物質を含む液と同様に、リンス液に浸漬する方法で実施しても良く、直接基材に触れるなど、基材や積層膜にダメージを与えない方法であれば特に限定されない。浸漬する方法により行うときには、前記の浸漬処理槽のための回収槽と同様の回収槽をリンス槽の前後に設けることとなる。   A total of six rinsing tanks 510, 520, 530, 810, 820, and 830 of the first and second rinsing process tanks are formed by spraying the rinsing liquid from the nozzles and applying the rinsing liquid to the substrate conveyed upright. A rinse is to be implemented. The rinsing method may be carried out by a method of immersing in a rinsing solution, similar to a liquid containing a charged substance, and is not particularly limited as long as it does not damage the substrate or the laminated film, such as directly touching the substrate. . When the immersion method is used, a recovery tank similar to the recovery tank for the immersion treatment tank is provided before and after the rinse tank.

乾燥工程槽900は交互積層膜が形成された基材1を乾燥するためのものである。   The drying process tank 900 is for drying the base material 1 on which the alternately laminated film is formed.

このように、本実施形態による交互積層膜製造装置は、交互積層膜を形成する対象物であるロール状に巻かれた基材を垂直に立てて長手方向に搬送することにより、効率的に基材上に交互積層膜を形成することができる。さらには、加工部4において搬送ロールを必要としないことから、搬送ロール接触による交互積層膜の破壊やロール駆動部からの発塵による液の汚染といった問題が発生しない。   As described above, the alternate laminated film manufacturing apparatus according to the present embodiment efficiently bases the substrate wound in a roll shape, which is an object for forming the alternate laminated film, by vertically conveying it in the longitudinal direction. Alternately laminated films can be formed on the material. Furthermore, since the processing unit 4 does not require a transport roll, problems such as destruction of the alternately laminated film due to the transport roll contact and contamination of the liquid due to dust generation from the roll drive unit do not occur.

次に、本実施形態による交互積層膜製造装置の各構成要素についてさらに詳述する。
(1)基材巻き出し部2
アンコイラー21は、ロール状に巻かれた条状又は帯状の基材1をその面が垂直になるように立てて保持しつつ長手方向に送り出し、基材1は、入口ロール22を経て、加工部2に導入される。入口ロール22は基材1の巻き径が変化しても基材1のパスラインを一定に保つためのロールであり、基材1が加工部4の複数のスリット状開口部のほぼ中心を通過するようにセットされている。基材巻き出し部2には、アンコイラー21と入口ロール22の間に張力を一定に保つためのアキューム装置を設けてもよい。
Next, each component of the alternate laminated film manufacturing apparatus according to the present embodiment will be described in detail.
(1) Substrate unwinding part 2
The uncoiler 21 feeds the strip-shaped or strip-shaped substrate 1 wound in a roll shape in the longitudinal direction while holding the substrate 1 upright so that the surface thereof is vertical. 2 is introduced. The inlet roll 22 is a roll for keeping the pass line of the base material 1 constant even when the winding diameter of the base material 1 changes, and the base material 1 passes through almost the center of the plurality of slit-like openings of the processed portion 4. Is set to do. The substrate unwinding unit 2 may be provided with an accumulator for keeping the tension constant between the uncoiler 21 and the inlet roll 22.

(2)加工部4
(a)浸漬工程槽
図4は第1浸漬工程槽410の平面図、図5は第1浸漬工程槽410の正面図である。図6は図5のC−C断面図、図7は図4のD−D断面図である。これらは、図3のA部に対応する。
第1浸漬工程槽410は、底板421、側壁422、423、前方壁424及び後方壁425により構成され、二つのしきり壁426、427により3槽に区切られており、前方から順に回収槽411、浸漬処理槽412、回収槽413が隣接して一つの浸漬工程槽を形成している。
浸漬処理槽412は、基材1に電荷物質を吸着させるために、電荷物質を含む液に浸漬するための槽であり、槽内には電荷物質を有する液が収容される。
基材1が最初に通過する回収槽411の前方壁424、回収槽411と浸漬処理槽412で共有するしきり壁426、浸漬処理槽411と回収槽413で共有するしきり壁427及び回収槽413の後方壁425には、それぞれ、垂直に立てた基材1が通過するための縦長のスリット状開口部431、432、433、434が順次設けられている。
浸漬処理槽412に収容された電荷物質を含む液は、スリット状開口部432及び433から放物線状に絶えず流出する。回収槽411、413に流出した液は、排出口441,442から排出される。浸漬処理槽411から回収槽411、413に放射状に流出する液は、その大部分が直接排出口に441,442に流入するように配置することが好ましい。また、回収槽411、413に流出した液が別のスリット状開口部431、434からさらに流出しないようにスリット状開口部の高さ、回収槽の長さ等が調整されることが好ましい。
浸漬処理槽412から流出する電荷物質を含む液を回収し、第一リンス槽510への液持ち込みを少なくするために、回収槽411、413のサイズは、搬送方向で電荷物質を含む液の流出距離より長くすることが好まし。例えば、スリット状開口部522、523の長さが150mm程度であれば、回収槽411、413の長さは搬送方向に対して150mm程度であることが好ましく、スリット状開口部432、433の長さが300mm程度であれば、回収槽411、413の長さは搬送方向で250mm程度であることが好ましい。
浸漬処理槽412からは電荷物質を含む液が絶えず流出するため、浸漬処理槽412の槽内に電荷物質を含む液を十分な量だけ常に収容するためには流出する分の液を補充する必要がある。本装置においては、液供給システムにより、それが行われる。液供給システムは、タンク451に溜めておいた液を送液ポンプ452により送液配管453を介して、浸漬処理槽412の底部に設けられたノズル454の排出口455から浸漬処理槽412に送液する構造になっている。
送液を続けるためにはタンク451に液を補充する必要があり、このために前もって調製した電荷物質を含む液を絶えず補充するようにしてもよいが、本装置においては、回収槽411、413に流出した液を排出口441、442に接続されている回収配管456、457を介してタンク451に送液することで液を回収して補充し、送液ポンプ452によって循環させる構造になっている。
(2) Processing part 4
(A) Immersion process tank FIG. 4 is a plan view of the first immersion process tank 410, and FIG. 5 is a front view of the first immersion process tank 410. 6 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 5, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. These correspond to part A of FIG.
The first immersion process tank 410 includes a bottom plate 421, side walls 422, 423, a front wall 424, and a rear wall 425, and is divided into three tanks by two threshold walls 426, 427. A recovery tank 411, The immersion treatment tank 412 and the collection tank 413 are adjacent to each other to form one immersion process tank.
The immersion treatment tank 412 is a tank for immersing in a liquid containing a charged substance in order to cause the charged substance to be adsorbed on the substrate 1, and a liquid containing the charged substance is accommodated in the tank.
The front wall 424 of the recovery tank 411 through which the substrate 1 first passes, the threshold wall 426 shared by the recovery tank 411 and the immersion treatment tank 412, the threshold wall 427 shared by the immersion treatment tank 411 and the recovery tank 413, and the recovery tank 413. In the rear wall 425, vertically long slit-like openings 431, 432, 433, and 434 through which the vertically standing base material 1 passes are sequentially provided.
The liquid containing the charged substance stored in the immersion treatment tank 412 constantly flows out in a parabolic shape from the slit-shaped openings 432 and 433. The liquid that has flowed into the collection tanks 411 and 413 is discharged from the discharge ports 441 and 442. It is preferable to arrange the liquid that flows radially from the immersion treatment tank 411 to the collection tanks 411 and 413 so that most of the liquid flows directly into the discharge ports 441 and 442. In addition, it is preferable that the height of the slit-shaped opening, the length of the collection tank, and the like are adjusted so that the liquid that has flowed into the collection tanks 411 and 413 does not further flow out from the other slit-shaped openings 431 and 434.
In order to collect the liquid containing the charged substance flowing out from the immersion treatment tank 412 and reduce the amount of liquid brought into the first rinsing tank 510, the size of the collection tanks 411 and 413 is the outflow of the liquid containing the charged substance in the transport direction. It is preferable to make it longer than the distance. For example, if the length of the slit-shaped openings 522 and 523 is about 150 mm, the length of the collection tanks 411 and 413 is preferably about 150 mm with respect to the transport direction, and the length of the slit-shaped openings 432 and 433 If the length is about 300 mm, the length of the recovery tanks 411 and 413 is preferably about 250 mm in the transport direction.
Since the liquid containing the charged substance constantly flows out of the immersion treatment tank 412, it is necessary to replenish the liquid to be discharged in order to always store a sufficient amount of the liquid containing the charged substance in the tank of the immersion treatment tank 412. There is. In this apparatus, it is performed by the liquid supply system. In the liquid supply system, the liquid stored in the tank 451 is sent to the immersion treatment tank 412 from the discharge port 455 of the nozzle 454 provided at the bottom of the immersion treatment tank 412 by the liquid feed pump 452 via the liquid feed pipe 453. It is structured to liquefy.
In order to continue the liquid feeding, it is necessary to replenish the tank 451 with the liquid. For this purpose, the liquid containing the charged substance prepared in advance may be constantly replenished. The liquid that has flowed out to the tank 451 is sent to the tank 451 via the recovery pipes 456 and 457 connected to the discharge ports 441 and 442, so that the liquid is recovered and supplemented, and is circulated by the liquid feed pump 452. Yes.

浸漬処理槽412のスリット状開口部432,433においては、液の流出を低減するために流出する隙間が少ないことが好ましいが、前述したとおり交互積層膜は比較的耐スクラッチ性に劣ることから、形成した交互積層膜の破壊防止のためにスリット状開口部432、433での接触を抑制することが好ましい。そのための構造を図面を用いて説明する。
図8は図4のE−E断面図、図9は図4のF−F断面図である。図10(a)は浸漬処理槽を液で満たした場合の図8のG−G断面図(浸漬処理槽開口部付近)、図10(b)は図8に対応した平面図である。
浸漬処理槽412のしきり壁426には、縦長のスリット状開口部432が設けられている。縦長のスリット状開口部432は、しきり壁426の最下部まで開口していてもよいが、必ずしもその必要性はなく、適当な高さの位置、例えば20〜100mm程度の位置で開口されている。
スリット状開口部432付近には、それに平行して直立するように2本の柱状部材461、462が支持部材470、480により支えられている。支持部材470は、スリット状開口部432の下部又は下方に、前板471,側板472、473と底板474により囲むようにしきり壁426に取り付けられている。支持部材480はスリット状開口部432の上部に前板481及び側板482、483で上下に開通して囲むようにしきり壁426に取り付けられている。2本の柱状部材461、462は支持部材480から支持部材470の底板474に至るように挿入されている。そして、2本の柱状部材461と462が接触しないように棒状のスぺーサ475、485により隔離されている。スペーサ475は前板471にスリット状開口部432に対向するように、スペーサ485は前板481にスリット状開口部432に対向するように、支持されている。両者は同一形状であっても異なった形状でもよい。各柱状部材461、462は完全には固定されておらず、前板471、481、側板472、473、482、483、底板474及びスペーサ475、485で制限された範囲でフリーな状態となっている。スペーサ475、485の位置は、スリット状開口部の平面図による中心に対向しており、この中心線にほぼ沿って基材1が通過したときにも、基材1と柱状部材461と462が接触しないように十分な幅を有するスペーサ475、485が使用される。浸漬処理槽412内に液が収容されると液圧により、柱状部材461、462がしきり壁426およびスペーサ475、485に押し付けられてスペーサと同じ幅のスリットが形成され、液の流出を低減することができる。
例えば、スリット状開口部432のスリット幅を10mm、スペーサ475、485の幅を1mmとし、柱状部材461、462は、直径10mmのガラス丸棒を用いている。前板471、481としきり壁426との間隔は12mm、スペーサ475、485と側板472,482の間隔、スペーサ475、485と側板473、483の間隔も12mmとしている。
交互積層膜を形成する基材の厚みにもよるが、厚みが100μm程度であれば、スペーサによって形成されるスリット幅は0.5〜2mmであることが好ましい。このスリット幅が狭すぎると基材4と柱状部材461、462とが接触し、形成した交互積層膜が破壊される可能性があり、広すぎるとスリット部からの液流出が多くなるため、送液ポンプ452の容量も大きなものが必要となり、また、回収槽411、413のサイズを大きくすることが必要になることがある。
In the slit-like openings 432 and 433 of the immersion treatment tank 412, it is preferable that there are few gaps to flow out in order to reduce the outflow of the liquid, but as described above, the alternately laminated film is relatively inferior in scratch resistance, It is preferable to suppress contact at the slit-like openings 432 and 433 in order to prevent the formed alternating laminated film from being broken. The structure for this will be described with reference to the drawings.
8 is an EE cross-sectional view of FIG. 4, and FIG. 9 is an FF cross-sectional view of FIG. 10A is a cross-sectional view taken along the line G-G in FIG. 8 when the immersion treatment tank is filled with a liquid (FIG. 10B), and FIG. 10B is a plan view corresponding to FIG. 8.
A vertically long slit-shaped opening 432 is provided in the threshold wall 426 of the immersion treatment tank 412. The vertically long slit-shaped opening 432 may open to the lowermost part of the threshold wall 426, but is not necessarily required, and is opened at an appropriate height, for example, about 20 to 100 mm. .
Two columnar members 461 and 462 are supported by support members 470 and 480 in the vicinity of the slit-shaped opening 432 so as to stand upright in parallel therewith. The support member 470 is attached to the bottom wall 426 so as to be surrounded by the front plate 471, the side plates 472 and 473, and the bottom plate 474 below or below the slit-like opening 432. The support member 480 is attached to the top wall 426 so as to be opened and surrounded by the front plate 481 and the side plates 482 and 483 at the upper part of the slit-shaped opening 432. The two columnar members 461 and 462 are inserted from the support member 480 to the bottom plate 474 of the support member 470. The two columnar members 461 and 462 are separated by bar-shaped spacers 475 and 485 so that they do not contact each other. The spacer 475 is supported on the front plate 471 so as to face the slit-like opening 432, and the spacer 485 is supported on the front plate 481 so as to face the slit-like opening 432. Both may be the same shape or different shapes. The columnar members 461 and 462 are not completely fixed, and are free in a range limited by the front plates 471 and 481, the side plates 472, 473, 482 and 483, the bottom plate 474 and the spacers 475 and 485. Yes. The positions of the spacers 475 and 485 are opposed to the center of the slit-like opening in the plan view, and the base material 1 and the columnar members 461 and 462 are located even when the base material 1 passes substantially along the center line. Spacers 475, 485 having sufficient width so as not to contact are used. When the liquid is stored in the immersion treatment tank 412, the columnar members 461 and 462 are pressed against the threshold wall 426 and the spacers 475 and 485 due to the liquid pressure to form slits having the same width as the spacer, thereby reducing the outflow of the liquid. be able to.
For example, the slit width of the slit-shaped opening 432 is 10 mm, the widths of the spacers 475 and 485 are 1 mm, and the columnar members 461 and 462 are glass round bars having a diameter of 10 mm. The distance between the front plates 471 and 481 and the cut-off wall 426 is 12 mm, the distance between the spacers 475 and 485 and the side plates 472 and 482, and the distance between the spacers 475 and 485 and the side plates 473 and 483 are also 12 mm.
Although it depends on the thickness of the base material on which the alternately laminated film is formed, the slit width formed by the spacer is preferably 0.5 to 2 mm if the thickness is about 100 μm. If the slit width is too narrow, the base material 4 and the columnar members 461 and 462 may come into contact with each other, and the formed alternate laminated film may be destroyed. If the slit width is too wide, the liquid outflow from the slit portion increases. The liquid pump 452 needs to have a large capacity, and the collection tanks 411 and 413 may need to be increased in size.

本発明における柱状部材は、外形が同様の筒状部材を包含する。本発明における柱状部材の断面形状は円形、楕円形、四角形、五角形等の多角形などがあるが、基材や形成した積層膜に傷が発生することを抑制するためには、鋭角な部分が無く、液の流出の乱れが少ないと考えられる円形又は楕円形が好ましい。また、柱状部材は、電荷物質を有する液によって影響を受けない材質で液圧によって破損することがなく、反りの発生が少ないものが好ましい。例えば、ガラス、ステンレス等の金属が挙げられる。スペーサとしては、ステンレス等の金属性の棒や板、ポリプロピレン、PVC等の樹脂製の板や棒などがあり、電荷物質を含む液によって影響を受けない材質がよい。   The columnar member in the present invention includes a cylindrical member having the same outer shape. The cross-sectional shape of the columnar member in the present invention includes a circular shape, an elliptical shape, a quadrangular shape such as a quadrilateral shape, a pentagonal shape, and the like. And a circular or elliptical shape, which is considered to be less disturbed by the outflow of liquid, is preferable. The columnar member is preferably made of a material that is not affected by the liquid containing the charged substance and that does not break due to the hydraulic pressure and causes less warping. Examples thereof include metals such as glass and stainless steel. As the spacer, there are a metal rod and plate such as stainless steel, a resin plate and rod such as polypropylene and PVC, and a material which is not affected by a liquid containing a charged substance is preferable.

基材が通過するスリットの形成方法としては、浸漬処理槽412内の壁426に直接柱状部材461、462を固定する方法もある。この他にも柱状部材の上端と下端をその中間よりも大きくする構造がある。この場合、柱状部材の中間部のサイズの小さい部分は浸漬処理槽412の壁426と接触しないため、壁426と柱状部材の間に隙間が発生し液の流出が増加する。この流出を抑制するために柱状部材の中間部と壁426の隙間に板状の部材を挟み込む等により隙間を低減することが好ましい。
壁427のスリット開口部433付近にも上記と同様の柱状部材、支持部材及びスペーサが設置される。
As a method for forming the slit through which the substrate passes, there is a method in which the columnar members 461 and 462 are directly fixed to the wall 426 in the immersion treatment tank 412. In addition, there is a structure in which the upper end and the lower end of the columnar member are made larger than the middle thereof. In this case, the small portion of the middle part of the columnar member does not come into contact with the wall 426 of the immersion treatment tank 412, so a gap is generated between the wall 426 and the columnar member, and the outflow of liquid increases. In order to suppress this outflow, it is preferable to reduce the gap by sandwiching a plate-like member in the gap between the intermediate portion of the columnar member and the wall 426.
Also in the vicinity of the slit opening 433 of the wall 427, the same columnar member, support member and spacer as described above are installed.

回収槽413においては、タンク451に溜められた浸漬処理で使用する液と同一の電荷物質を有する液が配管453とこれから分岐する配管491、さらにこれから分岐する送液配管492、493を通してノズル494、495に供給され、基材1上方から噴きかけて、基材1の搬送過程における基材1上部の乾燥を防止し、膜厚ムラの発生を防止するようになっている。図11に本装置で使用する液噴きかけ用ノズルの一例を斜視図で示す。送液配管492又は493にポリ塩化ビニルの配管部材496が水平に接続され、これに水平にスリット状の開口497を設けてカーテン状に電荷物質を有する液を噴出することで、基材上部から下部にかけて液を流すことにより乾燥防止を図ることができる。上記ノズルは、スリット状の開口を設けたポリ塩化ビニル製の配管継手チーズの両端を塞ぎ、配管パイプと組み合わせることで作製することができるが、材質は電荷物質を含む液やリンス液によって影響を受けない材質であれば特に限定されない。また、ノズル形状は、形成した交互積層膜にダメージを与える等の問題が発生しなければ特に限定されない。   In the recovery tank 413, a nozzle 494 passes through a pipe 453, a pipe 491 branched from the pipe 453, and a liquid feed pipe 492, 493 branched from the pipe 453. 495 is sprayed from above the base material 1 to prevent drying of the upper part of the base material 1 during the transport process of the base material 1 and to prevent occurrence of film thickness unevenness. FIG. 11 is a perspective view showing an example of a liquid spray nozzle used in the present apparatus. A polyvinyl chloride pipe member 496 is connected horizontally to the liquid supply pipe 492 or 493, and a slit-like opening 497 is provided horizontally to the liquid supply pipe 492 or 493. Drying can be prevented by flowing a liquid over the lower part. The nozzle can be made by closing both ends of a polyvinyl chloride piping joint cheese provided with slit-shaped openings and combining with the piping pipe, but the material is affected by the liquid containing the charged substance and the rinsing liquid. If it is a material which does not receive, it will not specifically limit. Further, the shape of the nozzle is not particularly limited as long as no problem such as damage to the formed alternate laminated film occurs.

第2浸漬工程槽710の構成は、第1浸漬工程槽410と同様である。浸漬処理槽712は、基材4に電荷物質を吸着させるために、電荷物質を有する液に浸漬するための槽であり、浸漬処理槽412に収容される液中の電荷物質と反対電荷の電荷物質を含む液が収容される。浸漬処理槽712の前後には回収槽711、713が隣接している。回収槽711、浸漬処理槽712及び回収槽713の構成は前記した回収槽411、浸漬処理槽412及び回収槽413の構成と同様である。ただし、回収槽711の浸漬処理槽712と反対側は、第1リンス工程槽の第3リンス槽530と隣接する点が、回収槽411には対応する隣接槽がない点で異なるが、この点の詳細は下記の記載から明らかである。
また、第2浸漬工程槽710における液供給システムは、第1浸漬工程槽410における液供給システムと同様である。なお、第2浸漬工程槽710における液供給システムにおけるタンク751、送液ポンプ752、配管753、配管756及び配管757は、それぞれ、第1浸漬工程槽410における液供給システムにおけるタンク451、送液ポンプ452、配管453、配管456及び配管457に対応している。
The configuration of the second immersion process tank 710 is the same as that of the first immersion process tank 410. The immersion treatment tank 712 is a tank for immersing in a liquid having a charge substance in order to adsorb the charge substance to the base material 4, and has a charge opposite to the charge substance in the liquid contained in the immersion treatment tank 412. A liquid containing the substance is contained. Recovery tanks 711 and 713 are adjacent to each other before and after the immersion treatment tank 712. The configurations of the recovery tank 711, the immersion treatment tank 712, and the recovery tank 713 are the same as those of the recovery tank 411, the immersion treatment tank 412, and the recovery tank 413 described above. However, the opposite side of the recovery tank 711 from the immersion treatment tank 712 is different in that the recovery tank 411 is adjacent to the third rinse tank 530 and the recovery tank 411 has no corresponding adjacent tank. The details will be apparent from the following description.
The liquid supply system in the second immersion process tank 710 is the same as the liquid supply system in the first immersion process tank 410. Note that the tank 751, liquid feed pump 752, pipe 753, pipe 756, and pipe 757 in the liquid supply system in the second immersion process tank 710 are the tank 451 and liquid feed pump in the liquid supply system in the first immersion process tank 410, respectively. 452, a pipe 453, a pipe 456, and a pipe 457.

(b)リンス工程槽
本装置における第1リンス工程槽500は第1リンス槽510、第2リンス槽520及び第3リンス槽530の三槽一組、第2リンス工程槽800は第1リンス槽810、第2リンス槽820及び第3リンス槽830の三槽一組からなる。どちらの構成も同様であるので、第1リンス工程槽500について説明する。
図12は第1リンス槽221を含む前後の平面図、図13はそれの正面図である。図14は図13のH−H断面図、図15は図12のI−I断面図、図16は図12のJ−J断面図である。これらは、図3のB部に対応する。
第1リンス工程槽500は、前記した浸漬工程槽410のように底板、側壁、前方壁及び後方壁により構成され、二つのしきり壁により3槽に区切られている。すなわち、第1リンス工程槽22は、底板611、側壁612、613、前方壁614及び後方壁(図示せず)により構成され、しきり壁616ともう一つのしきり壁(図示せず)により3槽に区切られており、前方から順に第1リンス槽510、第2リンス槽520、第3リンス槽530が連なっている。
第1リンス槽510、第2リンス槽520及び第3リンス槽530は互いに隣接する槽の間でしきり壁を共有している。それらの壁には、基材1が通過するためのスリット状開口部が浸漬処理槽におけるのと同様に形成されている。第1リンス槽510のもう一方の対向する前方壁614には、その隣接する回収槽413の壁(後方壁425)と接しており、スリット状開口部がちょうど重なるように構成されている。
第1リンス槽510には、基材1にリンス液を噴きかけるためのリンス液噴霧システムが組み込まれている。リンス液噴霧システムは、タンク511に溜めておいた液を送液ポンプ512により送液配管513及びそれに接続する分岐配管514、515を介して、第1リンス槽510の上部に設けられたノズル516、517からリンス液を噴射するようになっている。噴射されたリンス液は、第1リンス槽510の底部の排出口518から送液配管519によりタンク511に送液する構造になっている。
ノズル516、517は、前述の浸漬処理の後に実施する液噴きかけ用ノズルと同様なスリット状の開口を設けた構造をしたノズルがセットされている。
第2リンス槽520及び第3リンス槽530はそれぞれ、第1リンス槽510と同様に構成される。また、第2リンス槽520におけるリンス液噴霧システム及び第3リンス槽530のリンス液噴霧システムは、それぞれ、第1リンス槽510におけるリンス液噴霧システムと同様に構成される。
第1リンス槽510におけるタンク511、送液ポンプ512、送液配管513及び送液配管519は、それぞれ、第2リンス槽520のタンク521、送液ポンプ522、送液配管523及び送液配管529、第3リンス槽530のタンク531、送液ポンプ532、送液配管533及び送液配管539に対応している。
(B) Rinse process tank The first rinse process tank 500 in this apparatus is a set of three tanks of a first rinse tank 510, a second rinse tank 520, and a third rinse tank 530, and the second rinse process tank 800 is a first rinse tank. 810, the 2nd rinse tank 820, and the 3rd rinse tank 830 consist of 1 set of 3 tanks. Since both structures are the same, the 1st rinse process tank 500 is demonstrated.
FIG. 12 is a plan view of the front and rear including the first rinse tank 221, and FIG. 13 is a front view thereof. 14 is a cross-sectional view taken along line HH in FIG. 13, FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line II in FIG. 12, and FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line JJ in FIG. These correspond to part B in FIG.
The first rinsing process tank 500 includes a bottom plate, a side wall, a front wall, and a rear wall like the above-described dipping process tank 410, and is divided into three tanks by two threshold walls. That is, the first rinsing process tank 22 includes a bottom plate 611, side walls 612 and 613, a front wall 614, and a rear wall (not shown), and three tanks include a threshold wall 616 and another threshold wall (not shown). The 1st rinse tank 510, the 2nd rinse tank 520, and the 3rd rinse tank 530 are connected in order from the front.
The 1st rinse tank 510, the 2nd rinse tank 520, and the 3rd rinse tank 530 share the threshold wall between the mutually adjacent tanks. In those walls, slit-like openings for allowing the substrate 1 to pass are formed in the same manner as in the immersion treatment tank. The other opposite front wall 614 of the first rinse tank 510 is in contact with the wall (rear wall 425) of the adjacent collection tank 413, and is configured such that the slit-shaped opening portion just overlaps.
The first rinsing tank 510 incorporates a rinsing liquid spraying system for spraying the rinsing liquid onto the substrate 1. In the rinse liquid spraying system, a liquid stored in a tank 511 is fed by a liquid feed pump 512 via a liquid feed pipe 513 and branch pipes 514 and 515 connected to the nozzle 516 provided at the upper portion of the first rinse tank 510. Rinsing liquid is sprayed from 517. The sprayed rinse liquid is sent from the discharge port 518 at the bottom of the first rinse tank 510 to the tank 511 through the liquid feed pipe 519.
The nozzles 516 and 517 are set with nozzles having a structure in which slit-like openings similar to the liquid spray nozzles implemented after the above-described immersion treatment are provided.
The second rinse tank 520 and the third rinse tank 530 are each configured in the same manner as the first rinse tank 510. The rinse liquid spray system in the second rinse tank 520 and the rinse liquid spray system in the third rinse tank 530 are configured in the same manner as the rinse liquid spray system in the first rinse tank 510, respectively.
The tank 511, the liquid feed pump 512, the liquid feed pipe 513, and the liquid feed pipe 519 in the first rinse tank 510 are the tank 521, the liquid feed pump 522, the liquid feed pipe 523, and the liquid feed pipe 529 of the second rinse tank 520, respectively. , Corresponding to the tank 531, the liquid feed pump 532, the liquid feed pipe 533, and the liquid feed pipe 539 of the third rinse tank 530.

(c)反対電荷の吸着
次いで、浸漬工程槽410において基材1に吸着させた電荷物質と反対電荷を有する電化物質を浸漬工程槽710で吸着させることにより正電荷を有する物質と負電荷を有する物質を1層ずつ積層することが可能となる。
(C) Adsorption of opposite charge Next, a substance having a positive charge and a negative charge are obtained by adsorbing in the immersion process tank 710 an electrified substance having a charge opposite to that of the charged substance adsorbed on the substrate 1 in the immersion process tank 410. It becomes possible to laminate the materials one by one.

(d)乾燥工程槽900
乾燥工程槽900は、たとえば、エアーナイフ乾燥槽を採用することができ、これは1対のエアーナイフが基材1を挟むように配置して設けられ、ブロア(図示せず)により空気を送風することで基材1に形成された交互積層膜を乾燥する。乾燥方法は、熱風や超乾燥空気を使用しても良く、形成された交互積層膜が破壊される等の問題が発生しない方法であれば特に限定されない。
(D) Drying process tank 900
As the drying process tank 900, for example, an air knife drying tank can be adopted, which is provided with a pair of air knives sandwiching the substrate 1, and blows air by a blower (not shown). By doing so, the alternate laminated film formed on the substrate 1 is dried. The drying method may be hot air or ultra-dry air, and is not particularly limited as long as it does not cause problems such as destruction of the formed alternate laminated film.

上記加工部4において、一つの浸漬工程槽及び一つのリンス工程槽を一組として、二組の繰り返しを有するが、適宜この組を増設することができる。この場合、組数は複数組にするのが交互積層膜を作製する上で好ましい。   In the processing unit 4, one set of one dipping process tank and one rinse process tank is used as a set, and there are two sets of repetition. However, this set can be added as appropriate. In this case, it is preferable that the number of sets is a plurality of sets in order to produce the alternately laminated film.

(3)巻取り部3
駆動ロール31は、加工部2において交互積層膜が形成された基材1をリコイラー32に送るものである。リコイラー32はそれ自体、一定の速度で回転するよう制御できる機構を有している。リコイラー32は、基材1が加工部2の各スリット状開口部の中心を通過するようにセットされ、基材1のパスラインを一定としている。リコイラー32は、駆動ロール31より垂直に立てて送られた基材1をロール状に巻き取って回収するものである。
(3) Winding unit 3
The drive roll 31 sends the base material 1 on which the alternately laminated film is formed in the processing unit 2 to the recoiler 32. The recoiler 32 itself has a mechanism that can be controlled to rotate at a constant speed. The recoiler 32 is set so that the base material 1 passes through the center of each slit-shaped opening of the processed part 2, and the pass line of the base material 1 is constant. The recoiler 32 takes up and collects the base material 1 that is vertically raised from the drive roll 31 in a roll shape.

本実施態様においては、正電荷物質を有する液への浸漬と負電荷物質を有する液への浸漬をそれぞれ1回ずつ実施することで、正電荷物質と負電荷物質を1層ずつ積層する装置構成となっている。交互積層膜が必要とする膜厚を得るために、複数回積層する必要がある場合には、巻き出しから巻取りまでの処理を必要とする膜厚となるまで繰り返し実施する必要がある。また、本実施態様においては、浸漬処理工程槽とリンス工程槽をさらに増設することにより、上記の繰り返し回数を低減することができることはいうまでもない。   In this embodiment, the apparatus configuration in which the positively charged substance and the negatively charged substance are stacked one by one by immersing in the liquid having the positively charged substance and the immersion in the liquid having the negatively charged substance once each. It has become. When it is necessary to laminate a plurality of times in order to obtain the film thickness required for the alternately laminated film, it is necessary to repeatedly carry out the process from unwinding to winding until the film thickness that requires treatment is obtained. Moreover, in this embodiment, it cannot be overemphasized that said repetition frequency can be reduced by further adding an immersion treatment process tank and a rinse process tank.

正電荷物質を含む液として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA、平均分子量100000、アルドリッチ製)水溶液、シリカ微粒子分散水溶液(ST−PS−S、日産化学製、コロイダルシリカ、スノーテックスPS−S、平均粒子径20nm)を用いた。基材として、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績株式会社製、150mm×10000mm×125μm厚)を用いた。   As a liquid containing a positively charged substance, an aqueous solution of polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA, average molecular weight 100000, manufactured by Aldrich), an aqueous silica fine particle dispersion (ST-PS-S, manufactured by Nissan Chemical Industries, colloidal silica, Snowtex PS-S, average) A particle diameter of 20 nm) was used. As the substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., 150 mm × 10000 mm × 125 μm thickness) was used.

図1〜3に示すような装置において、タンク451に0.3重量%のPDDA水溶液をタンク751に0.3重量%のST−PS−S水溶液と溜めておき、浸漬処理槽412および712に送液することで、浸漬処理槽内を液で満たした状態とした。浸漬処理槽内からその前後の回収槽に流出する液は、タンクに回収され循環使用される。
帯状のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(基材1)をロール状に巻いたものを垂直に立てて巻き出し部2から加工部2の各スリット状開口部を通して、巻取り部3に搬送し巻き取る間に、PDDA水溶液への浸漬処理とST−PS−S水溶液への浸漬処理を実施することで交互積層膜を形成した。
まず、浸漬工程槽410においてPDDAの膜を基材1に形成した。基材1は、回収槽411を通過後浸漬処理槽412でPDDA水溶液への浸漬処理に供され、回収槽413で乾燥防止のためにノズル494、495によりPDDA水溶液を基材の上方及び上部から噴きかけられた。次に、リンス工程槽500にて基材1はその上方及び上部からノズルによりリンス用の超純水(18MΩ)を噴きかけられるリンス工程にリンス槽510、520,530の3槽により3回供された。
次に、浸漬工程槽710において、浸漬工程槽410と同様にして、ST−PS−S膜が基材1のPDDAの膜の上に形成された。水溶液への浸漬処理、乾燥防止のための液噴きかけ、引き続く超純水によるリンス工程は上記と同様である。加工部4における最後の工程は、乾燥工程槽900による乾燥工程である。乾燥工程槽900は、垂直に立てて搬送された基材1を挟むように1対のエアーナイフを立てて配置し、ブロアでエアーを送風することにより乾燥を行う機構のものとした。加工部4を通過した基材1は、巻き取り部3により、ロール状に巻き取られた。この巻き出しから巻取りまでの作業を4回繰り返し、PDDA膜とST−PS−S膜が交互にそれぞれ4層積層された交互積層膜を形成した。形成された交互積層膜は、目視で確認できる外観ムラ及び傷の発生がなった。
In an apparatus as shown in FIGS. 1 to 3, a 0.3 wt% PDDA aqueous solution is stored in a tank 451 and a 0.3 wt% ST-PS-S aqueous solution is stored in a tank 751, and the immersion treatment tanks 412 and 712 are stored. By sending the solution, the immersion treatment tank was filled with the solution. The liquid that flows out from the immersion treatment tank to the collection tanks before and after the immersion treatment tank is collected in the tank and used in a circulating manner.
A roll of a belt-shaped polyethylene terephthalate (PET) film (base material 1) is vertically set up and conveyed from the unwinding part 2 through each slit-like opening of the processing part 2 to the winding part 3 for winding. In the meantime, the alternate lamination film was formed by performing the immersion treatment in the PDDA aqueous solution and the immersion treatment in the ST-PS-S aqueous solution.
First, a PDDA film was formed on the substrate 1 in the immersion process bath 410. After passing through the recovery tank 411, the base material 1 is subjected to immersion treatment in the PDDA aqueous solution in the immersion processing tank 412. In order to prevent drying in the recovery tank 413, the PDDA aqueous solution is supplied from above and above the base material by the nozzles 494 and 495. It was sprayed. Next, in the rinsing process tank 500, the substrate 1 is supplied three times by three tanks of rinsing tanks 510, 520, and 530 to the rinsing process in which ultrapure water (18 MΩ) for rinsing is sprayed from above and above the nozzle. It was done.
Next, in the immersion process tank 710, an ST-PS-S film was formed on the PDDA film of the substrate 1 in the same manner as the immersion process tank 410. The immersion process in the aqueous solution, the spraying of the liquid for preventing the drying, and the subsequent rinsing process with ultrapure water are the same as described above. The last process in the processing unit 4 is a drying process in the drying process tank 900. The drying process tank 900 has a mechanism in which a pair of air knives are vertically arranged so as to sandwich the substrate 1 conveyed vertically and air is blown by a blower to perform drying. The base material 1 that passed through the processed portion 4 was wound into a roll by the winding portion 3. This operation from unwinding to winding was repeated four times to form an alternately laminated film in which four PDDA films and ST-PS-S films were alternately laminated. The formed alternating laminated film was not visually observed and scratched.

上記において加工部4の全長は2000mm程度であり、幅150mm、高さ250mmとした。
浸漬処理槽412および712は、搬送方向に対して長さ100mm、回収槽411、413、711、713は、搬送方向に対して長さ150mmとした。
各層のスリット開口部は、それが設けられる壁の中央(平面図)に、その上端から長さ200mmで幅10mmとした。浸漬処理槽412および712のスリット開口部に配置する柱状部材として、直径10mmのガラス丸棒を使用し、スペーサとしては0.9mmのステンレス棒を使用した。
回収槽413及び713の液噴きかけ用ノズル並びにリンス槽510、520、530、810、820、830のリンス用ノズルとして、図11に示すようなノズルでそのスリット長さを50mmのものを用いた。ノズルスリットの噴出し口は、フィルム上端から3mm程度高く、フィルムから20mm程度離れた位置に配置した。
基材1(PETフィルム)は、0.2m/分の速度で搬送し、各浸漬処理槽での基材が浸漬されている時間を30秒とした。
浸漬処理槽412を電荷物質を含む液(PDDA又はST−PS−S)で満たすために補充するために50〜60リットル/分の流速で送液可能なポンプを用い、浸漬処理後の液噴きかけは、10〜20リットル/分の流速で送液可能なポンプを用いた。また、リンス液を循環し、噴きかけるために、10〜20リットル/分の流速で送液可能なポンプを用いた。
乾燥槽の長さは150mmとし、1対のエアーナイフをフィルムの良サイドに配置し、ブロアにより空気を送風することで乾燥を行った。
In the above description, the total length of the processed portion 4 is about 2000 mm, the width is 150 mm, and the height is 250 mm.
The immersion treatment tanks 412 and 712 have a length of 100 mm with respect to the transport direction, and the recovery tanks 411, 413, 711, and 713 have a length of 150 mm with respect to the transport direction.
The slit opening of each layer was 200 mm long and 10 mm wide from the upper end at the center (plan view) of the wall where it was provided. A glass round bar having a diameter of 10 mm was used as the columnar member disposed in the slit openings of the immersion treatment tanks 412 and 712, and a stainless steel bar having a diameter of 0.9 mm was used as the spacer.
As the nozzles for spraying the recovery tanks 413 and 713 and the rinsing tanks 510, 520, 530, 810, 820, and 830, nozzles having a slit length of 50 mm as shown in FIG. 11 were used. . The outlet of the nozzle slit was arranged at a position about 3 mm higher than the upper end of the film and about 20 mm away from the film.
The substrate 1 (PET film) was conveyed at a speed of 0.2 m / min, and the time during which the substrate was immersed in each immersion treatment tank was 30 seconds.
In order to replenish the immersion treatment tank 412 with a liquid containing a charged substance (PDDA or ST-PS-S), a pump capable of feeding at a flow rate of 50 to 60 liters / minute is used to replenish the liquid after the immersion treatment. For the application, a pump capable of feeding at a flow rate of 10 to 20 liters / minute was used. Moreover, in order to circulate and spray the rinse liquid, a pump capable of feeding at a flow rate of 10 to 20 liters / minute was used.
The length of the drying tank was 150 mm, a pair of air knives were placed on the good side of the film, and air was blown by a blower for drying.

比較例1
ロール状のPETフィルムを垂直に立てて巻き出し部から巻取り部に搬送し巻き取る間に、0.3重量%のPDDA水溶液および0.3重量%のST−PS−S水溶液をフィルム上部から噴きかけることで交互積層膜を形成した。まず、PDDA水溶液を図11のノズルを用いてフィルム上部から噴きかけ、次に、フィルム上部からノズルによりリンス用の超純水(18MΩ)を噴きかけるリンス工程を3回実施した。同様に、ST−PS−S水溶液の噴きかけ、リンスを実施し、1対のエアーナイフにより乾燥を行いロール状に巻き取った。この巻き出しから巻取りまでの作業を4回繰り返し、PDDAとST−PS−Sがそれぞれ4層積層された交互積層膜を形成した。形成された交互積層膜には、目視で確認できる斑点状の外観ムラが発生した。
Comparative Example 1
While the roll-shaped PET film is vertically set up and conveyed from the unwinding unit to the winding unit and wound, a 0.3 wt% PDDA aqueous solution and a 0.3 wt% ST-PS-S aqueous solution are applied from the top of the film. The alternate laminated film was formed by spraying. First, a rinsing step of spraying an aqueous PDDA solution from the upper part of the film using the nozzle of FIG. 11 and then spraying ultrapure water (18 MΩ) for rinsing with the nozzle from the upper part of the film was performed three times. Similarly, the ST-PS-S aqueous solution was sprayed and rinsed, dried by a pair of air knives, and wound into a roll. This operation from unwinding to winding was repeated four times to form an alternately laminated film in which four layers of PDDA and ST-PS-S were laminated. In the formed alternate laminated film, spotted appearance irregularities that could be visually confirmed occurred.

比較例2
ロール状のPETフィルムを横にしてウレタン製の搬送ロールにフィルムを接触させながら巻き出し部から巻取り部に搬送する。搬送路には、0.3重量%のPDDA水溶液が溜められた容器、0.3重量%のST−PS−S水溶液及びリンス用の超純水(18MΩ)が溜められた容器が溜められた容器を配置し、搬送ロールによりフィルムを各容器内にフ送ることで浸漬させて交互積層膜を形成した。まず、巻き出したフィルムを搬送ロールによりPDDA水溶液を溜めた容器内に送り浸漬させ、次に、超純水を溜めた容器に送り浸漬させるリンス工程を3回実施した。同様にして、ST−PS−S水溶液への浸漬及びリンスを実施し、1対のエアーナイフにより乾燥を行いロール状に巻き取った。この巻き出しから巻取りまでの作業を4回繰り返し、PDDAとST−PS−Sがそれぞれ4層積層された交互積層膜を形成した。形成された交互積層膜には、目視で確認できる点状の凹みが発生した。
Comparative Example 2
The roll-shaped PET film is laid sideways and conveyed from the unwinding unit to the winding unit while the film is brought into contact with a urethane conveyance roll. In the transport path, a container in which 0.3 wt% PDDA aqueous solution was stored, a container in which 0.3 wt% ST-PS-S aqueous solution and rinsing ultrapure water (18 MΩ) were stored were stored. The container was arrange | positioned and it was made to immerse by feeding a film into each container with a conveyance roll, and the alternating laminated film was formed. First, a rinsing step in which the unwound film was fed and immersed in a container in which the PDDA aqueous solution was stored by a transport roll and then was immersed in a container in which ultrapure water was stored was performed three times. Similarly, it was immersed in an ST-PS-S aqueous solution and rinsed, dried by a pair of air knives, and wound into a roll. This operation from unwinding to winding was repeated four times to form an alternately laminated film in which four layers of PDDA and ST-PS-S were laminated. In the alternately laminated film formed, dot-like dents that could be visually confirmed occurred.

本発明おける交互積層膜は、反射防止膜などの各種電子機器のディスプレイ用の光学素子、種々のセンサやフィルタなどを量産する際に利用可能な技術である。   The alternate laminated film according to the present invention is a technique that can be used for mass production of optical elements for various electronic devices such as antireflection films, various sensors, filters, and the like.

本発明に係る交互積層膜製造装置の一例を示す斜視図。The perspective view which shows an example of the alternate laminated film manufacturing apparatus which concerns on this invention. 図1の交互積層膜製造装置の平面図。The top view of the alternate laminated film manufacturing apparatus of FIG. 図1の交互積層膜製造装置の正面図。The front view of the alternate laminated film manufacturing apparatus of FIG. 図1の浸漬処理槽前後の平面図。The top view before and behind the immersion treatment tank of FIG. 図1の浸漬処理槽前後の正面図。The front view before and behind the immersion treatment tank of FIG. 図5のC−C断面図。CC sectional drawing of FIG. 図4のD−D断面図。DD sectional drawing of FIG. 図4のE−E断面図。EE sectional drawing of FIG. 図4のF−F断面図。FF sectional drawing of FIG. 浸漬処理槽開口部付近の断面図及び平面図。Sectional drawing and top view of immersion processing tank opening vicinity vicinity. ノズルの一例を示す斜視図。The perspective view which shows an example of a nozzle. 第1リンス槽前後の平面図。The top view before and behind the 1st rinse tank. 第1リンス槽前後の正面図。The front view before and behind the 1st rinse tank. 図13のH−H断面図。HH sectional drawing of FIG. 図12のI−I断面図。II sectional drawing of FIG. 図12のJ−J断面図。JJ sectional drawing of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・基材
2・・・巻き出し部
3・・・巻取り部
4・・・加工部
21・・・アンコイラー
22・・・入口ロール
31・・・駆動ロール
32・・・リコイラー
410・・・第1浸漬工程槽
411・・・回収槽
412・・・浸漬処理槽
413・・・回収槽
432・・・スリット状開口部
451・・・タンク
454・・・浸漬処理槽412の底部に設けられたノズル
461,462・・・柱状部材
470・・・支持部材
475・・・スペーサ
480・・・支持部材
485・・・スペーサ
494、495・・・液ふきかけようのノズル
500・・・第1リンス工程槽
510・・・第1リンス槽
511・・・タンク
516、517・・・ノズル
520・・・第2リンス槽
521・・・タンク
530・・・第3リンス槽
531・・・タンク
710・・・第2浸漬工程槽
711・・・回収槽
712・・・浸漬処理槽
713・・・回収槽
751・・・タンク
800・・・第2リンス工程槽
810・・・第1リンス槽
811・・・タンク
820・・・第2リンス槽
821・・・タンク
830・・・第3リンス槽
831・・・タンク

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Unwinding part 3 ... Winding part 4 ... Processing part 21 ... Uncoiler 22 ... Inlet roll 31 ... Drive roll 32 ... Recoiler 410- .. First immersion process tank 411... Recovery tank 412... Immersion process tank 413 .. recovery tank 432... Slit-like opening 451. Provided nozzles 461, 462 ... columnar member 470 ... support member 475 ... spacer 480 ... support member 485 ... spacer 494, 495 ... nozzle 500 for spraying liquid ... 1st rinse process tank 510 ... 1st rinse tank 511 ... Tank 516, 517 ... Nozzle 520 ... 2nd rinse tank 521 ... Tank 530 ... 3rd rinse tank 531 ... Tank 710 ... 2 immersion process tank 711 ... recovery tank 712 ... immersion treatment tank 713 ... recovery tank 751 ... tank 800 ... second rinse process tank 810 ... first rinse tank 811 ... tank 820 ... 2nd rinse tank 821 ... Tank 830 ... 3rd rinse tank 831 ... Tank

Claims (27)

正電荷を有する物質と負電荷を有する物質とを基材に交互に積層する交互積層膜の製造方法において、基材を垂直に立てて水平方向に搬送しつつ、該基材を前記正電荷を有する物質を含む液に浸漬する浸漬処理工程と該基材を前記負電荷を有する物質を含む液に浸漬する浸漬処理工程をそれぞれ、所定回数行うことを特徴とする交互積層膜の製造方法。   In a method for producing an alternately laminated film in which a substance having a positive charge and a substance having a negative charge are alternately laminated on a base material, the base material is transported in a horizontal direction while the base material is conveyed vertically. A dipping process step of immersing the substrate in a liquid containing a substance and a dipping process step of immersing the substrate in a liquid containing a substance having a negative charge are each performed a predetermined number of times. 各浸漬処理工程のそれぞれの後に、基材を洗浄するリンス工程を含む請求項1記載の交互積層膜の製造方法。   The manufacturing method of the alternating laminated film of Claim 1 including the rinse process which wash | cleans a base material after each of each immersion treatment process. 各浸漬処理工程のそれぞれの後に、それぞれの浸漬処理工程で使用したのと同一の液を基材にその上部又は上方からかける工程を含む請求項1記載の交互積層膜の製造方法。   The method for producing an alternating laminated film according to claim 1, further comprising a step of applying the same liquid used in each immersion treatment step to the substrate from above or above after each immersion treatment step. 各浸漬処理工程のそれぞれの後であって、各浸漬処理工程後のリンス工程の前に、それぞれの浸漬処理工程で使用したのと同一の液を基材にその上部又は上方からかける工程を含む請求項2記載の交互積層膜の製造方法。   After each immersion treatment step, before the rinsing step after each immersion treatment step, including the step of applying the same liquid used in each immersion treatment step to the substrate from above or above The manufacturing method of the alternating laminated film of Claim 2. 各浸漬処理工程を、前記正電荷を有する物質又は負電荷を有する物質を含む液を収容した槽を、その槽に設けられた開口部から進入してその槽に設けられた別の開口部から退出するように、垂直に立てた基材を通過させることによって行う請求項1〜4のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。   Each immersion treatment step is performed by entering a tank containing a liquid containing a substance having a positive charge or a substance having a negative charge from an opening provided in the tank and from another opening provided in the tank. The manufacturing method of the alternating laminated film in any one of Claims 1-4 performed by letting the base material stood up vertically to pass out. 各開口部が垂直方向に設けられたスリット状の開口である請求項5記載の交互積層膜の製造方法。   6. The method for producing an alternate laminated film according to claim 5, wherein each opening is a slit-like opening provided in a vertical direction. 各槽の各開口部において、前記開口部の槽内側近傍に1対の柱状部材を隔離して配置し、この1対の柱状部材の間を基材に通過させる請求項5又は6記載の交互積層膜の製造方法。   7. The alternation according to claim 5 or 6, wherein in each opening of each tank, a pair of columnar members are arranged separately in the vicinity of the inside of the tank of the opening, and the space between the pair of columnar members is passed through the base material. Manufacturing method of laminated film. 1対の柱状部材を隔離するための構造が、その上部と下部にスペーサを挟み込むことにより柱状部材を隔離する構造である請求項8記載の交互積層膜の製造方法。   9. The method for producing an alternating laminated film according to claim 8, wherein the structure for isolating the pair of columnar members is a structure for isolating the columnar members by sandwiching a spacer between the upper portion and the lower portion thereof. 浸漬処理工程において、基材を浸漬されるための前記正電荷を有する物質又は負電荷を有する物質を含む液を循環使用する請求項1〜8のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。   The method for producing an alternately laminated film according to any one of claims 1 to 8, wherein in the dipping treatment step, a liquid containing the substance having a positive charge or the substance having a negative charge for dipping the substrate is circulated. 基材の搬送が、最初の工程の前におけるロール状基材を巻き出し、最後の工程の通過後の基材をロール状に巻き取ることにより行われる請求項1〜9のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。   The conveyance of a base material is performed by unwinding the roll-shaped base material before the 1st process, and winding up the base material after the passage of the last process in roll shape. A method for producing an alternating laminated film. 基材が、フィルム又は繊維材料の織布又は不織布である請求項1〜10のいずれかに記載の交互積層膜の製造方法。   The method for producing an alternately laminated film according to any one of claims 1 to 10, wherein the base material is a woven or non-woven fabric of a film or a fiber material. 壁にフィルム状又はシート状の基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、正又は負の電荷を有する物質を含む液を収容又は導入するための浸漬処理槽を含み、基材が通過可能な浸漬工程槽を備えてなる交互積層膜製造装置。   It has a slit-like opening provided vertically for a film-like or sheet-like base material to enter the wall and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, positive or negative An alternating film manufacturing apparatus comprising a dipping process tank that contains a dipping treatment tank for containing or introducing a liquid containing a substance having a charge, and that is capable of passing a substrate. 浸漬工程槽を複数個有する請求項12記載の交互積層膜製造装置。   The alternating laminated film manufacturing apparatus of Claim 12 which has two or more immersion process tanks. 壁に浸漬工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、洗浄液を収容又は導入するためのリンス工程槽を備えてなる請求項12又は13記載の交互積層膜製造装置。   It has a slit-like opening provided vertically for the base material that has passed through the dipping process tank to enter the wall and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, and contains cleaning liquid or The alternating laminated film manufacturing apparatus of Claim 12 or 13 provided with the rinse process tank for introducing. 最後のリンス工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、乾燥機構を備える乾燥工程槽備えてなる請求項14記載の交互積層膜製造装置。   It has a slit-like opening provided vertically for the base material that has passed through the last rinsing process tank to enter and a slit-like opening provided vertically for the base material to exit, and is provided with a drying mechanism. The apparatus for producing an alternating laminated film according to claim 14, comprising a drying process tank. 垂直に立てられ、ロール状に巻回されているフィルム状又はシート状の基材を保持し、巻き出すことができる基材保持部材、
垂直に立てられ、巻き出された保持部材を浸漬工程槽に誘導するための案内ロール、
最後の槽を通過した基材を誘導する案内ロール
及び
案内ロールにより案内された基材を巻き取るための垂直に立てられた巻き取りロール
を備えてなる請求項12〜15のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。
A base material holding member that can stand up vertically and hold and unwind a film-like or sheet-like base material wound in a roll;
A guide roll for vertically guiding and unwinding the holding member to the dipping process tank;
The guide roll which guide | induces the base material which passed the last tank, and the winding roll set up vertically for winding up the base material guided by the guide roll are provided in any one of Claims 12-15 Alternating film production equipment.
巻き出された保持部材を浸漬工程槽に誘導するための案内ロール及び最後の槽を通過した基材を誘導する案内ロールによって、案内される基材が一直線上を移動可能なように、浸漬工程槽、リンス工程槽及び乾燥工程槽のスリット状開口部の位置を調節して各槽を配列してなる請求項16記載の交互積層膜製造装置。   The dipping process so that the guided base material can move in a straight line by the guide roll for guiding the unwound holding member to the dipping process tank and the guide roll for guiding the base material that has passed through the last tank. The alternating laminated film manufacturing apparatus of Claim 16 which adjusts the position of the slit-shaped opening part of a tank, a rinse process tank, and a drying process tank, and arranges each tank. 浸漬工程槽が浸漬処理槽のみからなる請求項12〜17のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。   The alternating film production apparatus according to any one of claims 12 to 17, wherein the dipping process tank comprises only an immersion treatment tank. 浸漬工程槽が、浸漬処理槽の直前又は直後に、その基材が進入又は退出するためのスリット状開口部から流出する浸漬液を受けるための回収槽を有する請求項12〜17のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。   The immersion process tank has a recovery tank for receiving an immersion liquid flowing out from a slit-like opening for entering or leaving the base material immediately before or after the immersion treatment tank. The alternately laminated film manufacturing apparatus as described. 浸漬処理槽の各開口部において、該開口部の槽内側近傍に1対の柱状部材を隔離して配置し、この1対の柱状部材の間を基材に通過させる構造としてなる請求項18又は19記載の交互積層膜製造装置。   19. In each opening of the immersion treatment tank, a pair of columnar members are arranged separately in the vicinity of the inside of the tank of the opening, and the space between the pair of columnar members is passed through the base material. 19. The apparatus for producing an alternating laminated film according to 19. 1対の柱状部材を隔離するための構造が、その上部と下部にスペーサを挟み込むことにより柱状部材を隔離する構造である請求項20記載の交互積層膜製造装置。   21. The apparatus for producing an alternate laminated film according to claim 20, wherein the structure for isolating the pair of columnar members is a structure for isolating the columnar members by sandwiching a spacer between an upper portion and a lower portion thereof. 浸漬工程槽直後の回収槽が浸漬液を基材にその上部又は上方からかける機構を有する請求項19記載の交互積層膜製造装置。   The alternating laminated film manufacturing apparatus according to claim 19, wherein the recovery tank immediately after the immersion process tank has a mechanism for applying the immersion liquid to the substrate from above or from above. 回収槽の底面又は側面に浸漬液の排出口を有する請求項19又は22記載の交互積層膜製造装置。   The alternating laminated film manufacturing apparatus according to claim 19 or 22, further comprising an immersion liquid discharge port on a bottom surface or a side surface of the collection tank. 回収槽の排出口から排出された浸漬液を浸漬処理槽に循環させる機構を有する請求項23記載の交互積層膜製造装置。   The alternating laminated film manufacturing apparatus according to claim 23, further comprising a mechanism for circulating the immersion liquid discharged from the discharge port of the recovery tank to the immersion treatment tank. リンス工程槽が壁に浸漬工程槽を通過した基材が進入するための垂直に設けられたスリット状開口部及びその基材が退出するための垂直に設けられたスリット状開口部を有し、洗浄液を収容又は導入するためのリンス槽が1槽からなるか又は複数槽連ねてなるものである請求項12〜24のいずれかに記載の交互積層膜製造装置。   The rinsing process tank has a vertically provided slit-like opening for allowing the base material that has passed through the immersion process tank to enter the wall and a vertically provided slit-like opening for the base material to exit, The apparatus for producing an alternating laminated film according to any one of claims 12 to 24, wherein the rinsing tank for containing or introducing the cleaning liquid is composed of one tank or a plurality of tanks. リンス槽がその底面又は側面に洗浄液の排出口を備えてなるものである請求項25記載の交互積層膜製造装置。   26. The apparatus for manufacturing an alternate laminated film according to claim 25, wherein the rinse tank is provided with a cleaning liquid discharge port on a bottom surface or a side surface thereof. リンス槽の排出口から排出された洗浄液をリンス槽に循環させる機構を有する請求項26記載の交互積層膜製造装置。
27. The alternating laminated film manufacturing apparatus according to claim 26, further comprising a mechanism for circulating the cleaning liquid discharged from the discharge port of the rinsing tank to the rinsing tank.
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