JP2006021172A - Method for treating film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for obtaining a high-quality film without producing a wrinkle, a crack, the remains of a droplet or the like, and carrying out treatment such as liquid treatment and dry treatment of the film continuously and efficiently. <P>SOLUTION: The method for treating the film includes a process for applying an organic polymer on a substrate to dry and a process for carrying out the liquid treatment without removing an organic polymer film from the substrate. It is desirable that the liquid treatment is carried out by changing a direction of the organic polymer film having the substrate using a support body, the method includes a process for carrying out rinse treatment with a uniform and liquid film-like cleaning liquid using a slit nozzle for rinse after the liquid treatment, and the slit interval (gap) of the slit nozzle for rinse is 10 to 500 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、長尺の有機ポリマーフィルムの処理方法に関する。より詳しくは、有機ポリマーフィルムを液処理等する際に、フィルム表面に発生する傷、皺および液滴痕などを低減し、高品位のフィルムを効率的に処理することができる処理方法に関する。   The present invention relates to a method for treating a long organic polymer film. More specifically, the present invention relates to a processing method capable of efficiently processing a high-quality film by reducing scratches, wrinkles, and droplet traces generated on the surface of the film when liquid-treating an organic polymer film.

有機ポリマーフィルムは、一般的にTダイなどを用いた押出法や基材上にポリマー溶液を流延するキャスティング法などにより製膜される。製膜されたフィルムには、品質の向上や付加価値を設けるために、乾燥、延伸、表面処理などの様々な処理がなされる。これらの処理を効率的に行うために、フィルムを液中で取り扱うプロセスを用いることがある。   The organic polymer film is generally formed by an extrusion method using a T die or the like, or a casting method in which a polymer solution is cast on a substrate. The formed film is subjected to various treatments such as drying, stretching, and surface treatment in order to improve quality and provide added value. In order to perform these processes efficiently, a process of handling a film in a liquid may be used.

金属フィルムのように液を吸収しないフィルムの場合は、特別な工夫を行わずに、液中での搬送が可能であるが、樹脂フィルムの場合は、液を吸収することによりフィルムの物性が変化することがあり、また、空気中と同じ搬送条件ではフィルムの皺や傷などの品質不良やフィルムの破断などのトラブルを引き起こすことがある。特に、フィルムが膨潤してサイズが変わる場合、フィルムの弾性率や破断強度が下がる場合、フィルムが薄膜である場合などにおいては、非常に取り扱いが困難になる。   In the case of a film that does not absorb the liquid, such as a metal film, it can be transported in the liquid without special measures. In the case of a resin film, the physical properties of the film change by absorbing the liquid. In addition, under the same transport conditions as in the air, problems such as poor quality such as wrinkles and scratches on the film and breakage of the film may occur. In particular, handling becomes very difficult when the film swells and changes its size, when the elastic modulus and breaking strength of the film decrease, and when the film is a thin film.

また、液処理後のフィルムはエアーブローや吸水ロール等で液滴を除去した後に、乾燥処理するが、エアーブローでは充分に液滴除去がされず水滴跡が残ることがあり、吸水ロールではロールが乾燥途中のフィルムを挟むため皺発生の原因となる。さらに、吸水性が高く寸法変化率の大きいフィルムにおいては、乾燥とともにフィルムのサイズが変化するため、水滴の除去や乾燥を連続的に行うことが非常に難しいという問題がある。   In addition, the liquid-treated film is dried after removing the droplets with an air blow or water absorption roll, etc., but the air blow may not sufficiently remove the droplets, leaving water droplet traces. Will cause wrinkles because the film is being dried. Furthermore, in a film having a high water absorption and a large dimensional change rate, the size of the film changes with drying, and therefore there is a problem that it is very difficult to remove water droplets and dry them continuously.

このような問題を解決する方法としては、フィルムを枠などに固定して枚葉で液処理を行う方法も知られているが、生産効率を高めるためには連続処理プロセスが望ましい。
このように、フィルムを液中で搬送するには種々の問題点があり、特に傷が付きやすいフィルムや高品質が要求される光学用フィルムなどでは、品質と生産性を両立させることが非常に困難である。
As a method for solving such a problem, there is known a method in which a film is fixed to a frame or the like and liquid processing is performed on a single sheet, but a continuous processing process is desirable in order to increase production efficiency.
As described above, there are various problems in transporting the film in the liquid, and it is extremely difficult to achieve both quality and productivity, particularly in films that are easily damaged or optical films that require high quality. Have difficulty.

本発明の課題は、皺や傷、液滴混などを発生させることなく、連続的かつ効率的にフィルムの液処理や乾燥処理などの処理を行い、高品位のフィルムを得る方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for obtaining a high-quality film by continuously and efficiently performing a liquid treatment or a drying treatment of a film without causing wrinkles, scratches, droplet mixing, etc. It is in.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、基材を有するフィルムを用いることにより、液中での搬送を容易にし、乾燥時の収縮による皺や傷などがない高品位のフィルムが効率よく得られることを見出した。さらに、液処理後のフィルムを特定の形状のノズルを用いてリンス処理およびエアーブロー処理することにより、液滴痕のない、より高品位のフィルムが得られることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have made it easy to transport in a liquid by using a film having a substrate, and have high quality without wrinkles or scratches due to shrinkage during drying. It has been found that a film can be obtained efficiently. Furthermore, it has been found that a film of higher quality having no droplet traces can be obtained by subjecting the film after the liquid treatment to a rinsing treatment and an air blowing treatment using a nozzle having a specific shape.

すなわち、本発明に係るフィルムの処理方法は、有機ポリマーを基材上に塗布し乾燥する工程、および得られた有機ポリマーフィルムを基材から剥離せずに液処理する工程を含むことを特徴とする。   That is, the film processing method according to the present invention includes a step of applying and drying an organic polymer on a substrate, and a step of liquid-treating the obtained organic polymer film without peeling off the substrate. To do.

上記フィルムの処理方法において、
前記液処理が、前記基材を有する有機ポリマーフィルムを支持体により方向転換させて液中を搬送させることにより行われること、
前記液処理後に、さらにリンス用スリットノズルを用いて均一な液膜状の洗浄液でリンス処理する工程を含むこと、
前記リンス用スリットノズルのスリット間隔(ギャップ)が10〜500μmであること、
前記基材を有する有機ポリマーフィルムを、5〜500N/mの張力をかけて液中搬送すること、
前記基材が、ポリエチレンテレフタレートフィルムであること、
前記有機ポリマーフィルムの乾燥状態の膜厚が1〜500μmであること、
前記有機ポリマーが、スルホン酸基を有するポリマーであること
が望ましい。
In the film processing method,
The liquid treatment is performed by changing the direction of the organic polymer film having the base material by a support and transporting the liquid,
After the liquid treatment, further comprising a step of rinsing with a uniform liquid film cleaning liquid using a rinsing slit nozzle,
The slit interval (gap) of the rinsing slit nozzle is 10 to 500 μm,
Transporting the organic polymer film having the base material in a liquid under a tension of 5 to 500 N / m,
The substrate is a polyethylene terephthalate film;
The dry thickness of the organic polymer film is 1 to 500 μm,
The organic polymer is preferably a polymer having a sulfonic acid group.

本発明によれば、簡便な方法で生産性を損なうことなく、品質に優れたフィルムを製造することができる。
本発明により得られたフィルムは、配光膜や位相差膜などの光学フィルムや、プロトン伝導膜などに好適に使用することができる。
According to the present invention, a film excellent in quality can be produced by a simple method without impairing productivity.
The film obtained by this invention can be used conveniently for optical films, such as a light distribution film and retardation film, and a proton conductive film.

以下、本発明に係るフィルムの処理方法について詳細に説明する。
本発明に係るフィルムの処理方法は、有機ポリマーフィルムを基材上に塗布して乾燥し、得られた有機ポリマーフィルムを基材から剥離せずに液処理する工程を含むことを特徴とする。
Hereinafter, the processing method of the film which concerns on this invention is demonstrated in detail.
The film processing method according to the present invention includes a step of applying an organic polymer film on a substrate and drying the solution, and then subjecting the obtained organic polymer film to a liquid treatment without peeling off the substrate.

本発明において処理に供されるフィルムを形成する有機ポリマーとしては、フィルムを形成できるものであれば特に限定されず、たとえば、主鎖にポリフェニレン、ポリアゾール、ポリイミド、ポリアリーレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾイミダゾール構造などを有する重合体が挙げられる。さらに上記重合体がスルホン酸基を有していてもよく、ナフィオン(登録商標)などのパーフルオロスルホン酸系ポリマーも挙げることができる。   In the present invention, the organic polymer that forms the film subjected to the treatment is not particularly limited as long as it can form a film. For example, polyphenylene, polyazole, polyimide, polyarylene sulfide, polysulfone, polyethersulfone is used as the main chain. , Polymers having a polyetherketone, a polyetheretherketone, a polybenzoxazole, a polybenzimidazole structure, and the like. Furthermore, the polymer may have a sulfonic acid group, and examples thereof include perfluorosulfonic acid polymers such as Nafion (registered trademark).

これらのフィルムの製造方法は特に限定されず、たとえばキャスティング法や押出成形法など従来公知の方法が採用される。また、いわゆるフィルム状であってもシート状であってもよいが、乾燥後の膜厚としては、通常1〜500μm、好ましくは3〜200μm、特に好ましくは10〜100μmである。膜厚が上記範囲内にあることにより、後工程において充分な洗浄効率を確保することができる。   The method for producing these films is not particularly limited, and conventionally known methods such as a casting method and an extrusion molding method are employed. Moreover, although it may be what is called a film form or a sheet form, as a film thickness after drying, it is 1-500 micrometers normally, Preferably it is 3-200 micrometers, Most preferably, it is 10-100 micrometers. When the film thickness is within the above range, sufficient cleaning efficiency can be ensured in the subsequent process.

本発明で用いられる基材としては、キャスティング法などによってフィルムを成形する際に通常用いられる基材であれば特に限定されないが、たとえば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエステルフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルムなどのプラスチック製基材や、金属製基材などが挙げられる。これらの中では、PETフィルムが好適に用いられる。   The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate that is usually used when forming a film by a casting method or the like. For example, polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene film, polypropylene film, polystyrene film , A plastic substrate such as a polyester film, a fluororesin film, a polycarbonate film, a polyamide film, or a metal substrate. Among these, a PET film is preferably used.

液処理等を行う前のフィルムには通常保護フィルムが積層されているため、巻き出す際に保護フィルムを剥離する必要がある。しかしながら、保護フィルムを剥離する際に、液
処理の効率を高めるために基材を予め剥離していた場合、フィルムに皺や傷が発生するという問題があった。また、フィルム搬送時においても同様に皺や傷が付くことがあり、さらに液処理後に液中からフィルムを取り出した際にも、フィルムが収縮してフィルムに皺や傷などが発生することがある。
Since the protective film is usually laminated on the film before liquid treatment or the like, it is necessary to peel off the protective film when unwinding. However, when the protective film is peeled off, if the substrate is peeled in advance in order to increase the efficiency of the liquid treatment, there is a problem that wrinkles and scratches are generated on the film. In addition, wrinkles and scratches may be similarly applied during film conveyance, and when the film is taken out from the liquid after the liquid treatment, the film may shrink and wrinkles or scratches may occur on the film. .

これに対し、本発明では、上記のように基材を有するフィルムから保護フィルムを剥離することにより、フィルムに発生する皺や傷を低減することができる。また、基材を有するフィルムを搬送することにより、搬送時や液からの取り出しの際に発生する皺や傷などを低減することができる。   On the other hand, in this invention, the wrinkles and damage | wound which generate | occur | produce in a film can be reduced by peeling a protective film from the film which has a base material as mentioned above. Further, by transporting the film having the base material, wrinkles, scratches, etc. that are generated during transportation or removal from the liquid can be reduced.

上記のようにして巻き出したフィルムを、フィルム中に残留している塗工溶媒や不純物などの抽出処理またはフィルムの表面改質処理などの液処理を行うために、液処理槽に搬送する。液処理は、液中においてフィルムをロールなどの接触型の支持体または非接触ターンバーのような非接触型の支持体で方向転換をさせて行う。   The film unwound as described above is conveyed to a liquid treatment tank in order to perform liquid treatment such as extraction treatment of coating solvent and impurities remaining in the film or surface modification treatment of the film. The liquid treatment is performed by changing the direction of the film in the liquid using a contact-type support such as a roll or a non-contact type support such as a non-contact turn bar.

上記支持体は、フィルムを液と接触させる液処理槽内に上下に交互に設置することが好ましく、このように設置することで、フィルムの進行方向を反転させ、液中を蛇行させることができるため、充分な洗浄効率などを得るための滞留時間を確保することができるとともに、装置を小型化することができる。なお、支持体の数は、フィルムの液中における滞留時間等により適宜決定することができる。   It is preferable that the support is alternately installed up and down in the liquid treatment tank in which the film is brought into contact with the liquid. By installing in this way, the traveling direction of the film can be reversed and the liquid can be meandered. Therefore, the residence time for obtaining sufficient cleaning efficiency can be ensured, and the apparatus can be miniaturized. The number of supports can be appropriately determined depending on the residence time of the film in the liquid.

被処理フィルムを基材を有する状態で液処理することで、液処理槽内においてもフィルムに適度な張力を加えることができる。液中での張力は基材として用いるフィルムの強度および厚さに依存するが、通常、5〜500N/m幅、好ましくは10〜100N/m幅を加えることができるため、液中の滞留時間を延ばすために液槽を大型化し、液中の滞留長さを伸ばした場合でも、フィルムを安定して搬送することができる
本発明に係る処理方法における液処理は、たとえば有機ポリマーを有機溶剤に溶解して溶液とした後、キャスティングにより基材上に流延し、フィルム状に成形する溶液流延法により製造したフィルムから溶媒を除去する方法に好適に用いることができる。溶媒が水溶性の場合、液処理槽に充填される液および支持体から押し出される液としては水を用いることができる。
By subjecting the film to be treated to liquid treatment with the substrate, appropriate tension can be applied to the film even in the liquid treatment tank. The tension in the liquid depends on the strength and thickness of the film used as the base material, but usually 5 to 500 N / m width, preferably 10 to 100 N / m width can be added, so the residence time in the liquid Even when the liquid tank is enlarged to extend the length and the residence length in the liquid is increased, the film can be stably conveyed. The liquid treatment in the treatment method according to the present invention, for example, converts an organic polymer into an organic solvent. After dissolving into a solution, it can be suitably used for a method of removing a solvent from a film produced by a solution casting method in which the solution is cast on a substrate by casting and formed into a film. When the solvent is water-soluble, water can be used as the liquid filled in the liquid treatment tank and the liquid pushed out from the support.

フィルムを水に浸漬する際には、フィルム1重量部に対し、水が10重量部以上、好ましくは30重量部以上の接触比となるようにすることが好ましい。得られるフィルムの残存溶媒量をより少なくするためには、できるだけ大きな接触比を維持することが好ましい。また、浸漬に使用する水をオーバーフローさせて、常に水中の有機溶媒濃度を一定濃度以下に維持しておくことも、得られるフィルムの残存溶媒量の低減に有効である。フィルム中に残存する有機溶媒量の面内分布を小さく抑えるためには、水中の有機溶媒濃度を撹拌等によって均質化させることは効果がある。   When the film is immersed in water, it is preferable that the water has a contact ratio of 10 parts by weight or more, preferably 30 parts by weight or more with respect to 1 part by weight of the film. In order to reduce the residual solvent amount of the obtained film, it is preferable to maintain a contact ratio as large as possible. Moreover, it is effective in reducing the amount of residual solvent of the film obtained by overflowing the water used for immersion and always maintaining the organic solvent concentration in water below a certain concentration. In order to suppress the in-plane distribution of the amount of the organic solvent remaining in the film, it is effective to homogenize the concentration of the organic solvent in the water by stirring or the like.

フィルムを水に浸漬する際の水の温度は、好ましくは5〜80℃の範囲である。高温ほど、有機溶媒と水との置換速度は速くなるが、フィルムの吸水量も大きくなるので、乾燥後に得られるフィルムの表面状態が荒れる懸念がある。通常、置換速度と取り扱いやすさから10〜60℃の温度範囲が好都合である。   The temperature of water when immersing the film in water is preferably in the range of 5 to 80 ° C. The higher the temperature, the faster the replacement rate of the organic solvent and water, but the greater the amount of water absorbed by the film, so there is a concern that the surface state of the film obtained after drying will be rough. Usually, a temperature range of 10 to 60 ° C. is convenient because of the replacement speed and ease of handling.

浸漬時間は、初期の残存溶媒量や接触比、処理温度にもよるが、通常1分〜24時間の範囲である。好ましくは3分〜5時間の範囲である。
上記のようにして液処理することにより、フィルムが基材を有していても充分にフィルム中の有機溶媒を除去することができる。また、フィルムの膜厚を薄くすることにより、除去効率をさらに向上することができる。
The immersion time is usually in the range of 1 minute to 24 hours, although depending on the initial residual solvent amount, contact ratio, and treatment temperature. Preferably, it is in the range of 3 minutes to 5 hours.
By performing the liquid treatment as described above, the organic solvent in the film can be sufficiently removed even if the film has a substrate. Further, the removal efficiency can be further improved by reducing the film thickness.

上記のようにして液処理したフィルムの表面には処理液が付着しており、このまま乾燥処理を行うと液滴痕が残り、また処理液によっては不純物がフィルム表面に残留することになる。フィルムの用途によっては、このような液滴痕や不純物の残留が問題となることもある。したがって、液処理後のフィルムを、洗浄液を用いてすすぎ洗浄処理(リンス処理)を行うことを検討したが、このリンス処理の方法によっては、洗浄液の液滴が残留することになる。   The treatment liquid adheres to the surface of the film that has been subjected to the liquid treatment as described above, and if the drying treatment is performed as it is, droplet marks remain, and depending on the treatment liquid, impurities may remain on the film surface. Depending on the application of the film, such droplet traces and residual impurities may become a problem. Therefore, it has been studied that the film after the liquid treatment is subjected to a rinsing treatment (rinsing treatment) using a washing liquid. Depending on the rinsing method, droplets of the washing liquid may remain.

そこで本発明の処理方法では、液処理後のフィルムをリンス用スリットノズルを用いて均一な液膜状の洗浄液、通常、純水でリンス処理する。このようにスリット形状のノズルを用いて洗浄液を噴射することにより、フィルム表面が均一で切れ目のない液膜でムラなく洗浄されるため、フィルム表面の不純物や液滴を効率良く除去することができ、さらにフィルム表面に残る液滴も大幅に低減される。   Therefore, in the treatment method of the present invention, the film after the liquid treatment is rinsed with a uniform liquid film cleaning liquid, usually pure water, using a rinsing slit nozzle. By injecting the cleaning liquid using the slit-shaped nozzle in this way, the film surface can be cleaned evenly with a uniform and continuous liquid film, so that impurities and droplets on the film surface can be efficiently removed. In addition, the droplets remaining on the film surface are greatly reduced.

本発明で用いられるリンス用スリットノズルのスリット間隔(ギャップ)は、純水を均一な液膜状で噴射することができれば特に限定されないが、通常、10〜500μm、好ましくは50〜300μmである。また、ノズルの横幅は、フィルム全体に純水を噴射することができる幅であることが望ましく、複数のノズルを並列してもよい。   The slit interval (gap) of the rinsing slit nozzle used in the present invention is not particularly limited as long as pure water can be jetted in a uniform liquid film form, but is usually 10 to 500 μm, preferably 50 to 300 μm. The horizontal width of the nozzle is preferably a width that allows pure water to be sprayed onto the entire film, and a plurality of nozzles may be arranged in parallel.

上記リンス処理に用いられる洗浄液(純水)の温度は、洗浄効率や取り扱い性などを考慮すれば、通常5〜80℃、好ましくは10〜60℃程度である。洗浄液の量としては、通常、片面の幅1m当たり0.2〜10m3/h 好ましくは0.5〜5m3/hである。また、洗浄液を噴射する際の圧力は、ノズルの間隙や洗浄水量に依存するが、通常、5〜300kPaである。このようにして液膜を用いてリンス処理することにより、フィルムが基材を有していても充分な洗浄効果が得られるとともに、フィルム表面に残留する液滴を大幅に低減(ほぼ完全に除去)することができる。 The temperature of the cleaning liquid (pure water) used for the rinsing treatment is usually about 5 to 80 ° C., preferably about 10 to 60 ° C., considering the cleaning efficiency and handling properties. The amount of the washing liquid, usually preferably 0.2 to 10 m 3 / h per 1m width of one side is 0.5 to 5 m 3 / h. Moreover, although the pressure at the time of injecting a cleaning liquid depends on the gap | interval of a nozzle and the amount of cleaning water, it is 5-300 kPa normally. By rinsing with the liquid film in this way, a sufficient cleaning effect can be obtained even if the film has a base material, and the droplets remaining on the film surface are greatly reduced (almost completely removed). )can do.

上記のようにしてリンス処理したフィルムを、さらにエアーブロー用ノズルによる均一なエアーブローまたは吸水ロールにより、フィルム表面に残っている液滴を除去することもできる。このようにリンス処理においてスリットノズルを用いて連続的に処理することにより、液滴の除去効率を大幅に向上することができる。したがって、乾燥後のフィルムに液滴痕はほとんど発生しなくなり、高品位のフィルムを得ることができる。   The film rinsed as described above can be further removed with a uniform air blow or water-absorbing roll using an air blow nozzle to remove droplets remaining on the film surface. In this way, the continuous removal process using the slit nozzle in the rinsing process can greatly improve the droplet removal efficiency. Therefore, almost no droplet marks are generated on the dried film, and a high-quality film can be obtained.

エアーブロー用スリットノズルのスリット間隔(ギャップ)は、通常、10〜1000μm、好ましくは50〜300μmである。スリット幅が上記範囲内にあることにより、フィルム表面に付着した液滴を効率的に除去することができる。   The slit interval (gap) of the air blow slit nozzle is usually 10 to 1000 μm, preferably 50 to 300 μm. When the slit width is within the above range, the droplets adhering to the film surface can be efficiently removed.

上記エアーブロー処理におけるエアーは水滴を飛ばすことが目的であり、温度に関わらず十分な効果が得られるため、室内の空気をそのまま利用することができるが、乾燥工程を兼ねる場合などでは、30〜200℃、好ましくは40〜100℃の温風も用いられる。また、エアーの噴射量は、通常、片面の幅1m当たり100〜2000L/min 好
ましくは200〜1000L/minであり、エアーブローする際の圧力は、通常、0.
005〜0.5MPa 好ましくは0.01 〜0.2MPaである。
The air in the air blowing process is intended to blow water droplets, and a sufficient effect can be obtained regardless of the temperature, so that the indoor air can be used as it is, but in the case where it also serves as a drying step, 30 to Hot air at 200 ° C., preferably 40-100 ° C. is also used. The air injection amount is usually 100 to 2000 L / min per 1 m width on one side, preferably 200 to 1000 L / min.
005 to 0.5 MPa, preferably 0.01 to 0.2 MPa.

上記のようにしてリンス処理をし、必要に応じてさらにエアーブロー処理したフィルムを乾燥処理する。乾燥処理は、一般的なフィルムの乾燥処理方法および条件で行うことができる。たとえば、熱風ドライヤーなどを用いて、乾燥温度30〜150℃で1分〜10時間乾燥処理することにより所望の乾燥フィルムが得られる。また、フィルムが基材を有していることにより、エアーブローや乾燥時におけるフィルムの寸法変化を基材の変化率に抑えることができるため、PETフィルムなどの吸水性が非常に低い基材を選択するこ
とで、皺の発生を防ぎ、品質を大幅に向上することができる。
Rinse treatment is performed as described above, and the air blown film is further dried as necessary. The drying treatment can be performed by a general film drying treatment method and conditions. For example, a desired dry film can be obtained by drying using a hot air dryer or the like at a drying temperature of 30 to 150 ° C. for 1 minute to 10 hours. In addition, since the film has a base material, the dimensional change of the film at the time of air blowing or drying can be suppressed to the rate of change of the base material. By selecting, the generation of wrinkles can be prevented and the quality can be greatly improved.

乾燥処理後のフィルムは基材を有したまま巻き取られ、そのまま製品として供給することもでき、基材を剥がし製品単体で巻き取ることもできる。
次に、図面を参照しつつ本発明を具体的に説明する。
The film after the drying treatment is wound up with the base material, and can be supplied as a product as it is, or the base material can be peeled off and the product can be wound up alone.
Next, the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係るフィルムの処理方法に用いられる処理装置の一例を示す。図1に示すように、この処理装置では、処理に供されるフィルムを巻き出す手段としての巻き出し装置1と、ガイドローラ11と、液処理槽2内に設けられた支持体としての水中ロール12a、12b、12cと、リンス用スリットノズル13と、エアーブロー用スリットノズル14と、エアーターンバー15と、乾燥手段としてのドライヤー16と、処理を施したフィルムを巻き取る手段としての巻き取り装置3とを有している。   FIG. 1 shows an example of a processing apparatus used in a film processing method according to the present invention. As shown in FIG. 1, in this processing apparatus, the unwinding apparatus 1 as a means to unwind the film used for a process, the guide roller 11, and the underwater roll as a support body provided in the liquid processing tank 2 12a, 12b, 12c, rinsing slit nozzle 13, air blow slit nozzle 14, air turn bar 15, dryer 16 as drying means, and winding device 3 as means for winding the processed film And have.

巻き出し装置1において、必要に応じて保護フィルム17が剥離されて、連続的に送り出された基材を有するフィルム10は、液処理槽2中に上下に計3本設置された水中ロール12a、12b、12cの外周面に巻回されることにより、進行方向が反転され液処理槽2中において蛇行するように支持される。水中ロールの代替として非接触式の水中ターンバーなどを用いてもよい。なお、図1では、支持体としてのロールは3本設置されているが、本発明ではフィルムの液中での滞留時間等により適宜変更することができる。   In the unwinding device 1, the protective film 17 is peeled off as necessary, and the film 10 having the substrate continuously fed out is a submerged roll 12 a in which a total of three underwater rolls 12 a are installed in the liquid treatment tank 2. By being wound around the outer peripheral surfaces of 12 b and 12 c, the traveling direction is reversed and supported so as to meander in the liquid treatment tank 2. As an alternative to the underwater roll, a non-contact underwater turn bar or the like may be used. In FIG. 1, three rolls as the support are installed, but in the present invention, the roll can be appropriately changed depending on the residence time of the film in the liquid.

液処理槽2中において液と接触させたフィルム10は、リンス用スリットノズル13により液膜洗浄処理され、液滴の除去と表面の洗浄が行われ、エアーブロー用スリットノズル14により残存する液が除去された後、ドライヤー16により乾燥され、巻き取り装置3により巻き取られる。なお、液処理槽2中には、液供給管18により処理液を供給するとともに、液排出管19から液を排出することにより、液処理槽2中の処理液の量が一定の量となるようにしている。   The film 10 brought into contact with the liquid in the liquid processing tank 2 is subjected to a liquid film cleaning process by a rinsing slit nozzle 13 to remove droplets and clean the surface, and the liquid remaining by the air blowing slit nozzle 14 is removed. After being removed, it is dried by the dryer 16 and taken up by the take-up device 3. In addition, while supplying the processing liquid into the liquid processing tank 2 through the liquid supply pipe 18 and discharging the liquid from the liquid discharge pipe 19, the amount of the processing liquid in the liquid processing tank 2 becomes a constant amount. I am doing so.

上記のような本発明によると、基材を有する長尺の有機ポリマーフィルムを液中で移動させながら連続的に液と接触させる際に、フィルム表面を傷つけることなくフィルムを搬送することができるとともに、フィルムを液処理槽内を蛇行させて搬送することができるため、フィルムの液中の滞留時間を長くすることができ、かつ処理装置を小型化することができる。   According to the present invention as described above, the film can be transported without damaging the film surface when continuously contacting the liquid while moving the long organic polymer film having the substrate in the liquid. Since the film can be conveyed in a meandering manner in the liquid treatment tank, the residence time of the film in the liquid can be increased, and the processing apparatus can be downsized.

したがって、本発明の処理方法によれば、従来の処理法と比較して、皺、傷および液滴痕などが大幅に低減された高品位のフィルムを効率的に得ることができる。
本発明の方法により処理されたフィルムは、電解質膜や光学部品用として有用であり、また、電子・電気部品、包装材料にも使用することができる。なかでも、燃料電池用部品やTFT型LCD、STN型LCD、PDPなどの表示デバイスの基板などの部品、導光板、保護フィルム、位相差フィルム、タッチパネル、透明電極基板、CD、MD、DVDなどの光学記録基板などに用いられる。
Therefore, according to the processing method of the present invention, it is possible to efficiently obtain a high-quality film in which wrinkles, scratches, droplet traces, and the like are significantly reduced as compared with conventional processing methods.
The film treated by the method of the present invention is useful for electrolyte membranes and optical parts, and can also be used for electronic / electrical parts and packaging materials. Among them, components for fuel cells, TFT-type LCDs, STN-type LCDs, display device substrates such as PDPs, light guide plates, protective films, retardation films, touch panels, transparent electrode substrates, CDs, MDs, DVDs, etc. Used for optical recording substrates and the like.

〔実施例〕
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されることはない。なお、得られたフィルムについては下記の方法により評価した。
〔Example〕
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples at all. In addition, about the obtained film, it evaluated by the following method.

[評価方法]
〈残溶媒〉
フィルム0.2gを溶媒DMAc(ジメチルアセトアミド)5gに浸漬させ一昼夜おいた後、ガスクロマトグラフ(島津製作所製GC−14B)を用いて測定した。
[Evaluation methods]
<Residual solvent>
After 0.2 g of film was immersed in 5 g of solvent DMAc (dimethylacetamide) and left overnight, measurement was performed using a gas chromatograph (GC-14B manufactured by Shimadzu Corporation).

〈表面性状〉
目視および光学顕微鏡50倍にて判断し、皺および傷の大きさや頻度、液滴痕の有無からA〜C(A:良品、B:合格品だが用途によってはNG品、C:NG品)の3ランクに分類した。
<Surface properties>
Judging by visual and optical microscope 50 times, the size and frequency of wrinkles and scratches, and the presence or absence of droplet marks, A to C (A: non-defective product, B: accepted product but NG product, C: NG product depending on the application) Classified into 3 ranks.

[製造例1]処理前フィルムの製造法
〈ポリマー合成〉
2,5−ジクロロ−4'−(4−フェノキシフェノキシベンゾフェノン)と、4,4−ジ
クロロベンゾフェノンと、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンから得られる4−クロロベンゾイル末端のオリゴマー(数平均分子量11,200)とから得られる共重合体(数平均分子量;50,000)をスルホン化し、スルホン酸当量2.08ミリ当量/gのスルホン化ポリマーを得た。
[Production Example 1] Method for producing film before treatment <Polymer synthesis>
2,5-dichloro-4 '-(4-phenoxyphenoxybenzophenone), 4,4-dichlorobenzophenone and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) 1,1,1,3,3,3-hexa A copolymer (number average molecular weight; 50,000) obtained from 4-chlorobenzoyl-terminated oligomer (number average molecular weight 11,200) obtained from fluoropropane is sulfonated to give a sulfonic acid equivalent of 2.08 meq / g. A sulfonated polymer was obtained.

〈キャスト〜一次乾燥〉
このスルホン化ポリマーを、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)とメタノールからなる混合溶媒(重量比1/1)に溶解して、該スルホン化ポリマーの15wt%溶液を調製し、これをPETフィルム(厚み125μm)上に流延し、150℃のオーブンで1時間乾燥させることにより厚さ20μmのフィルムAを得た。このフィルムの幅は430mmであり、乾燥後のフィルムA中の残留NMP量は20重量%であった。
<Cast to primary drying>
This sulfonated polymer was dissolved in a mixed solvent (weight ratio 1/1) consisting of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and methanol to prepare a 15 wt% solution of the sulfonated polymer, and this was added to a PET film. A film A having a thickness of 20 μm was obtained by casting on (thickness 125 μm) and drying in an oven at 150 ° C. for 1 hour. The width of this film was 430 mm, and the amount of residual NMP in film A after drying was 20% by weight.

〔実施例1〕
図1に示した処理装置を用い、製造例1で得られたPETフィルム(基材)を有するフィルムAの溶媒抽出を行った。この処理装置の液処理槽は幅0.8m×長さ0.8m×高さ1m(液浸0.8m)の大きさであり槽には純水が400L/h供給されている。液処理槽中にはフィルムの進行方向を反転させるためのロールがが上下に計3本設置されており、フィルムのパスラインを蛇行させることで液中の滞留長さは3.0mの距離が得られている。
[Example 1]
Using the processing apparatus shown in FIG. 1, solvent extraction of the film A having the PET film (base material) obtained in Production Example 1 was performed. The liquid processing tank of this processing apparatus has a size of width 0.8 m × length 0.8 m × height 1 m (immersion 0.8 m), and 400 L / h of pure water is supplied to the tank. In the liquid treatment tank, a total of three rolls for reversing the traveling direction of the film are installed up and down, and the length of stay in the liquid is 3.0 m by meandering the pass line of the film. Has been obtained.

この中にPETフィルムを有するフィルムAを0.05m/minの速度および40Nの張力で非接触搬送しNMPの抽出を行った(液処理槽における滞留時間:1時間)。抽出後に、リンス用スリットノズル(スリット間隔100μm)を用いて純水で洗浄し、エアーブロー用スリットノズル(スリット間隔100μm)を用いて液滴を除去した後、50℃の熱風ドライヤーで5分間乾燥しフィルムA−1を得た。この処理を行ったフィルムA−1の評価結果を表1に示す。   In this, the film A having a PET film was conveyed in a non-contact manner at a speed of 0.05 m / min and a tension of 40 N to extract NMP (residence time in the liquid treatment tank: 1 hour). After extraction, rinse with pure water using a rinsing slit nozzle (slit spacing 100 μm), remove droplets using an air blow slit nozzle (slit spacing 100 μm), and then dry with a hot air dryer at 50 ° C. for 5 minutes. Film A-1. Table 1 shows the evaluation results of the film A-1 subjected to this treatment.

〔比較例1〕
実施例1において、予めフィルムAから基材であるPETフィルムを剥離して処理したこと以外は実施例1と同様にして処理を行い、フィルムA−2を得た。この処理したフィルムA−2の評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, it processed like Example 1 except having peeled and processed PET film which is a substrate from film A beforehand, and obtained film A-2. The evaluation results of this processed film A-2 are shown in Table 1.

〔比較例2〕
実施例1において、リンス処理せずにエアーブローのみ行ったこと以外は実施例1と同様にして基材を有するフィルムAを処理し、フィルムA−3を得た。この処理を行って得られたフィルムA−3の評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
In Example 1, film A-3 having a substrate was processed in the same manner as in Example 1 except that only air blowing was performed without rinsing to obtain film A-3. Table 1 shows the evaluation results of Film A-3 obtained by this treatment.

Figure 2006021172
Figure 2006021172

表1に示すように、本発明の処理法(実施例1)により得られたフィルムは、表面に皺や傷などが発生しておらず、フィルム中の残留溶媒量についても充分に低減されていた。   As shown in Table 1, the film obtained by the treatment method of the present invention (Example 1) is free from wrinkles and scratches on the surface, and the amount of residual solvent in the film is sufficiently reduced. It was.

フィルムの液処理を行うための装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the apparatus for performing the liquid processing of a film.

符号の説明Explanation of symbols

1 …フィルム巻き出し装置
2 …液処理槽
3 …フィルム巻き取り装置
10…フィルム
11…ガイドローラ
12a、12b、12c…水中ロール
13…リンス用スリットノズル
14…エアーブロー用スリットノズル
15…エアーターンバー
16…ドライヤー
17…保護フィルム
18…液供給管
19…液排出管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film unwinding apparatus 2 ... Liquid processing tank 3 ... Film winding apparatus 10 ... Film 11 ... Guide roller 12a, 12b, 12c ... Underwater roll 13 ... Slit nozzle 14 for rinsing ... Air slit nozzle 15 ... Air turn bar 16 ... Dryer 17 ... Protective film 18 ... Liquid supply pipe 19 ... Liquid discharge pipe

Claims (8)

有機ポリマーを基材上に塗布し乾燥する工程、および
得られた有機ポリマーフィルムを基材から剥離せずに液処理する工程を含むことを特徴とするフィルムの製造方法。
The manufacturing method of the film characterized by including the process of apply | coating an organic polymer on a base material, and drying, and the process of liquid-processing without peeling the obtained organic polymer film from a base material.
前記液処理が、前記基材を有する有機ポリマーフィルムを支持体により方向転換させて液中を搬送させることにより行われることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the liquid treatment is performed by changing the direction of the organic polymer film having the base material by a support and transporting the liquid. 前記液処理後に、さらにリンス用スリットノズルを用いて均一な液膜状の洗浄液でリンス処理する工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。   The method according to claim 1, further comprising a step of rinsing with a uniform liquid film-like cleaning liquid using a rinsing slit nozzle after the liquid treatment. 前記リンス用スリットノズルのスリット間隔が10〜500μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフィルムの処理方法。   The film processing method according to claim 1, wherein a slit interval of the rinsing slit nozzle is 10 to 500 μm. 前記基材を有する有機ポリマーフィルムを、5〜500N/m幅の張力をかけて液中搬送することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフィルムの処理方法。   The method for processing a film according to any one of claims 1 to 4, wherein the organic polymer film having the substrate is transported in the liquid under a tension of 5 to 500 N / m width. 前記基材が、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のフィルムの処理方法。   The method for processing a film according to claim 1, wherein the substrate is a polyethylene terephthalate film. 前記有機ポリマーフィルムの乾燥状態の膜厚が1〜500μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のフィルムの処理方法。   The film processing method according to claim 1, wherein the organic polymer film has a dry film thickness of 1 to 500 μm. 前記有機ポリマーが、スルホン酸基を有するポリマーであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のフィルムの処理方法。   The method for treating a film according to claim 1, wherein the organic polymer is a polymer having a sulfonic acid group.
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