JP2007144737A - Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure - Google Patents
Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007144737A JP2007144737A JP2005340721A JP2005340721A JP2007144737A JP 2007144737 A JP2007144737 A JP 2007144737A JP 2005340721 A JP2005340721 A JP 2005340721A JP 2005340721 A JP2005340721 A JP 2005340721A JP 2007144737 A JP2007144737 A JP 2007144737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- dimensional structure
- substrate
- dimensional
- optical modeling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
Description
本発明は3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法に関し、特に寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure, and more particularly to a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure capable of improving dimensional accuracy.
従来、光造形を利用して成形金型や金属部品などを作製する方法が、特許文献1および特許文献2などに開示されている。
Conventionally, methods for producing a molding die, a metal part, and the like using stereolithography are disclosed in
特許文献1の段落[0003]〜[0005]を参照すると、まず、光造形するモデルの三次元データに基づいて、形成対象物の各層ごとの断面のスライスデータを作成する。ここで、昇降可能なプラットホーム上には予めベースプレートを設置しておき、このベースプレート上に金属粉末を第1層目の厚み分だけ供給して、作成されたスライスデータに基づいてレーザ光を照射することによって金属粉末を焼結させてスライスデータで特定される形状に第1層目を硬化させるとともに、その第1層目とベースプレートとを結合する。
Referring to paragraphs [0003] to [0005] of
次に、プラットホームを降下させ、第2層目の厚み分だけ新たに金属粉末を供給して、作成されたスライスデータに基づいてレーザ光を照射することによって金属粉末を焼結させてスライスデータで特定される形状に第2層目を硬化させるとともに、その第2層目と第1層目とを結合する。 Next, the platform is lowered, new metal powder is supplied by the thickness of the second layer, and the metal powder is sintered by irradiating laser light based on the created slice data. The second layer is cured to the specified shape, and the second layer and the first layer are bonded.
このような処理を繰り返して、特許文献1においては、金属粉末を焼結した造形物である成形金型が作製されている。
By repeating such a process, in
また、特許文献2の段落[0007]〜[0013]を参照すると、まず、形成対象物となる樹脂型の3次元形状を数値的に示すデータ(3次元CADデータ)に基づいてレーザ光を照射して2次元形状の樹脂膜を層状に積み上げることにより、所定の形状の3次元形状の樹脂型を形成する。
Further, referring to paragraphs [0007] to [0013] of
次に、上記の光造形によって形成された樹脂型に樹脂製の枝部を介して樹脂製の湯口型を結合する。そして、樹脂型、枝部および湯口型の表面にそれぞれ、けい砂やアルミナをスラリ状にしたものをコーティングし、その後砂を振りかける処理を複数回繰り返すことにより、樹脂型などの表面に所定の厚みのシェル状の鋳型が形成される。 Next, a resin gate type is joined to the resin mold formed by the above-described stereolithography through a resin branch. Then, the surface of the resin mold, the branch part, and the gate is coated with a slurry of silica sand or alumina, and then the process of sprinkling the sand is repeated several times to obtain a predetermined thickness on the surface of the resin mold, etc. A shell-shaped mold is formed.
そして、上記のようにして形成した鋳型を十分乾燥させ加熱することにより鋳型はセラミックの様な材質に変性するとともに、樹脂製の樹脂型、枝部および湯口型は溶融して外部に流出することにより、内部が空洞の鋳型が完成する。 Then, by sufficiently drying and heating the mold formed as described above, the mold is modified into a ceramic-like material, and the resin-made resin mold, the branch part and the gate mold melt and flow out to the outside. As a result, a hollow mold is completed.
この鋳型の内部の空洞に溶融金属を鋳込み、溶融金属を冷却固化した後に鋳型を破壊し、枝部および湯口型の部位を切断する。これにより、樹脂型と同一形状の金属部品が完成する。
しかしながら、特許文献1に記載の方法においては、レーザ光の照射によって金属粉末を溶融した後に冷却して成形しているために、冷却時に熱収縮が起こり、成形物である成形金型の形状が変形して、成形金型の寸法精度が悪くなるという問題があった。
However, in the method described in
また、特許文献2に記載の方法において、鋳型に低融点金属を流し込んだ場合には、特許文献1の場合と同様に、低融点金属の冷却時に熱収縮が起こり、金属部品の形状が変形して、金属部品の寸法精度が悪くなるという問題があった。
Further, in the method described in
上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法を提供することにある。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure, which can improve dimensional accuracy.
本発明は、光硬化樹脂に光を照射して行なわれる光造形によって基板上に光造形樹脂部を形成する工程と、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部が形成された基板上に3次元構造体を形成する工程と、を含む、3次元構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。 The present invention is selected from the group consisting of a step of forming an optical modeling resin portion on a substrate by optical modeling performed by irradiating light to a photocurable resin, and electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition Forming a three-dimensional structure on a substrate on which an optical modeling resin portion is formed by at least one method. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved.
ここで、本発明の3次元構造体の製造方法においては、基板の表面に導電膜を形成し、光造形樹脂部の形成後に電解めっきにより導電膜上に3次元構造体を形成することができる。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができるとともに、導電膜を剥離することによって3次元構造体を容易に得ることができる。 Here, in the method for producing a three-dimensional structure according to the present invention, a conductive film can be formed on the surface of the substrate, and the three-dimensional structure can be formed on the conductive film by electrolytic plating after the formation of the optical modeling resin portion. . According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved, and the three-dimensional structure can be easily obtained by peeling off the conductive film.
また、本発明の3次元構造体の製造方法においては、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部上に導電層を形成した後に、電解めっきにより導電層上に3次元構造体を形成することもできる。この方法によれば、基板上の光造形樹脂部が密集して導電膜を露出できない場合であっても、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。 Moreover, in the manufacturing method of the three-dimensional structure of the present invention, after forming the conductive layer on the optical modeling resin portion by at least one method selected from the group consisting of electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition, A three-dimensional structure can also be formed on the conductive layer by electrolytic plating. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved even when the optical modeling resin portions on the substrate are densely packed and the conductive film cannot be exposed.
また、本発明は、少なくとも基板を液状の光硬化樹脂中に浸漬させる工程と、基板上に形成される光造形樹脂部の所定の高さの横断面の形状に光を光硬化樹脂に照射することによる樹脂膜の形成と基板の光硬化樹脂の深さ方向への移動とを交互に繰り返すことによって基板上に光造形樹脂部を形成する工程と、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部が形成された基板上に3次元構造体を形成する工程と、3次元構造体を基板から切り離す工程と、を含む、3次元構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。 Moreover, this invention irradiates light to a photocuring resin at the process of immersing at least a board | substrate in a liquid photocuring resin, and the shape of the cross section of the predetermined height of the optical modeling resin part formed on a board | substrate. Forming the resin molding resin portion on the substrate by alternately repeating the formation of the resin film and the movement of the photocurable resin in the depth direction of the substrate, and electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and Including a step of forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of vapor deposition and a step of separating the three-dimensional structure from the substrate. It is a manufacturing method of a dimensional structure. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved.
さらに、本発明は、上記のいずれかの方法により製造された3次元構造体を型として用いて樹脂を成形することによって3次元樹脂構造体を形成する工程を含む3次元樹脂構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元樹脂構造体の寸法精度を向上することができる。 Furthermore, the present invention provides a method for producing a three-dimensional resin structure, including a step of forming a three-dimensional resin structure by molding a resin using the three-dimensional structure produced by any of the above methods as a mold. It is. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional resin structure can be improved.
なお、本発明においては、基板の表面上には導電膜などが形成されてもよいため、基板と光造形樹脂部、並びに基板と3次元構造体はそれぞれ接していてもよく、接していなくてもよい。 In the present invention, since a conductive film or the like may be formed on the surface of the substrate, the substrate and the optical modeling resin portion, and the substrate and the three-dimensional structure may be in contact with each other or not. Also good.
また、本発明において、「光造形」とは、光硬化樹脂に光を照射することによって光造形樹脂部の底部から頂部までの横断面の形状の樹脂膜を順次形成し、これを積み上げていくことによって光造形樹脂部を形成する手法のことをいう。 Further, in the present invention, “optical modeling” means that resin films having a cross-sectional shape from the bottom part to the top part of the optical modeling resin part are sequentially formed by irradiating light to the photo-curing resin, and these are stacked. This means a method of forming the optical modeling resin part.
本発明によれば寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the three-dimensional structure which can improve a dimensional accuracy, and the manufacturing method of a three-dimensional resin structure can be provided.
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。 Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings of the present invention, the same reference numerals represent the same or corresponding parts.
(実施の形態1)
まず、図1の模式的断面図に示すように、たとえばガラスまたは石英などの基板1上に1μmの厚みでたとえばチタンからなる導電膜2をスパッタリング法などにより形成する。次に、図2の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって導電膜2上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 1)
First, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, a
ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図3(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のIIIB−IIIBに沿った横断面(図3(B))のデータ(以下、「スライスデータ」ということもある)を光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical
次に、図4(A)の模式的断面図に示すように、導電膜2が形成された基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4A, in the liquid photo-
そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。
Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical
そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。
And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical
このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図4(B)および図4(C)に示すように、導電膜2上に光造形樹脂部3が形成されることになる。
By alternately repeating the irradiation of the
続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後にニッケルめっき液中に浸漬して電解めっきを行なって、図5の模式的断面図に示すように、導電膜2上にニッケルからなる3次元構造体9を形成する。なお、本実施の形態においては電解めっきにより3次元構造体を形成する場合について説明したが、本発明においては電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体9を形成することができる。
Subsequently, the
その後、酸素プラズマアッシングによって導電膜2が除去されると同時に光造形樹脂部3が除去されて、3次元構造体9が基板1から切り離されて、図6の模式的断面図に示す3次元構造体9が得られる。ここで、チタンからなる導電膜2は、酸素プラズマアッシングによって除去できるため、基板1から3次元構造体9を簡単に切り離すことができる。なお、3次元構造体9の基板1からの切り離しは、酸素プラズマアッシングによる方法には限定されず、酸素プラズマアッシング以外にもたとえば機械的に切り離す方法などによっても可能である。
Thereafter, the
ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有しているため、3次元構造体9はインクジェットプリンタのノズル(インクジェットノズル)などの製造に利用することができる。
Here, since the three-
このように本実施の形態においては、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体を形成することができるため、3次元構造体の製造過程において3次元構造体に生じる熱収縮量を特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて低減することができる。したがって、本実施の形態においては、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。
Thus, in the present embodiment, the three-dimensional structure can be formed using at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition. The amount of thermal shrinkage that occurs in the three-dimensional structure during the manufacturing process of the three-dimensional structure can be reduced as compared with the methods described in
(実施の形態2)
まず、図1の模式的断面図に示すように、たとえばガラスまたは石英などの基板1上に1μmの厚みでたとえばチタンからなる導電膜2をスパッタリング法などにより形成する。次に、図2の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって導電膜2上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 2)
First, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, a
ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図3(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のIIIB−IIIBに沿った横断面(図3(B))のスライスデータを光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical
次に、図4(A)の模式的断面図に示すように、導電膜2が形成された基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4A, in the liquid photo-curing
そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。
Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical
そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。
And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical
このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図4(B)および図4(C)に示すように、導電膜2上に光造形樹脂部3が形成されることになる。
By alternately repeating the irradiation of the
続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後にニッケルめっき液中に浸漬して電解めっきを行なって、図5の模式的断面図に示すように、導電膜2上にニッケルからなる3次元構造体9を形成する。なお、本実施の形態においては電解めっきにより3次元構造体を形成する場合について説明したが、本発明においては電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体を形成することができる。
Subsequently, the
その後、酸素プラズマアッシングによって導電膜2が除去されると同時に光造形樹脂部3が除去されて、3次元構造体9が基板1から切り離されて、図6の模式的断面図に示す3次元構造体9が得られる。ここで、チタンからなる導電膜2は、酸素プラズマアッシングによって除去できるため、基板1から3次元構造体9を簡単に切り離すことができる。なお、3次元構造体9の基板1からの切り離しは、酸素プラズマアッシングによる方法には限定されず、酸素プラズマアッシング以外にもたとえば機械的に切り離す方法などによっても可能である。
Thereafter, the
ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有している。
Here, the three-
最後に、図6に示す3次元構造体9を型として用いて、穴10にアクリル樹脂などの樹脂を流し込んだ後に硬化することなどにより樹脂を成形することによって、図7に示す3次元樹脂構造体11を得ることができる。
Finally, using the three-
このようにして得られた3次元樹脂構造体11は、たとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の突起を有しているため、3次元樹脂構造体11は、無痛針などに利用することができる。
The three-
このように本実施の形態においては、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて型となる3次元構造体を形成することができるため、特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて3次元構造体の寸法精度を向上することができる。したがって、本実施の形態においては、寸法精度が向上した3次元構造体を型として用いて3次元樹脂構造体を成形することができるため、成形後の3次元樹脂構造体の寸法精度も向上する。
Thus, in the present embodiment, a three-dimensional structure serving as a mold can be formed using at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition. Therefore, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved as compared with the methods described in
(実施の形態3)
まず、図8の模式的断面図に示すような、たとえばガラスまたは石英などの基板1を用意する。次に、図9の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって基板1の表面上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 3)
First, a
ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図10(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のXB−XBに沿った横断面(図10(B))のスライスデータを光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical
次に、図11(A)の模式的断面図に示すように、基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 11A, the
そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。
Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical
そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。
And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical
このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図11(B)および図11(C)に示すように、光造形樹脂部3が形成されることになる。
By alternately repeating the irradiation of the
続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後に無電解ニッケルめっき液中に浸漬して無電解めっきを行なって、図12の模式的断面図に示すように、光造形樹脂部3の表面上にニッケルからなる導電層12を形成する。なお、本実施の形態においては無電解めっきにより導電層12を形成する場合について説明したが、本発明においては無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて導電層12を形成することができる。
Subsequently, the
そして、電解めっきによって、図13の模式的断面図に示すように、導電層12の表面上に3次元構造体9を形成する。
Then, a three-
その後、導電層12から3次元構造体9が切り離されて、図6の模式的断面図に示すような形状を有する3次元構造体9が得られる。
Thereafter, the three-
ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有している。
Here, the three-
最後に、図6に示す3次元構造体9を型として用いて、穴10にアクリル樹脂などの樹脂を流し込んだ後に硬化することなどにより樹脂を成形することによって、図7に示す3次元樹脂構造体11を得ることができる。
Finally, using the three-
このようにして得られた3次元樹脂構造体11は、たとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の突起を有しているため、3次元樹脂構造体11は、無痛針などに利用することができる。
The three-
このように本実施の形態においては、電解めっきによって型となる3次元構造体を形成することができるため、特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて3次元構造体の寸法精度を向上することができる。したがって、本実施の形態においては、寸法精度が向上した3次元構造体を型として用いて3次元樹脂構造体を成形することができるため、成形後の3次元樹脂構造体の寸法精度も向上することができる。
As described above, in the present embodiment, a three-dimensional structure that becomes a mold can be formed by electrolytic plating. Therefore, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure is compared with the methods described in
さらに、本実施の形態においては、無電解めっきなどによって導電層を形成した後に電解めっきにより3次元構造体を形成することができるため、基板上の光造形樹脂部が密集して導電膜を露出できない場合であっても、電解めっきによって寸法精度が向上した3次元構造体を導電層上に製造することができる。 Furthermore, in this embodiment, since a three-dimensional structure can be formed by electroplating after forming a conductive layer by electroless plating or the like, the optical modeling resin portion on the substrate is densely exposed to expose the conductive film. Even if this is not possible, a three-dimensional structure with improved dimensional accuracy can be produced on the conductive layer by electrolytic plating.
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
本発明は、インクジェットノズル、無痛針、ネブライザまたはマイクロレンズアレイなどの製造に好適に利用することができる。 The present invention can be suitably used for manufacturing an inkjet nozzle, a painless needle, a nebulizer, a microlens array, or the like.
1 基板、2 導電膜、3 光造形樹脂部、4 光硬化樹脂、5 容器、6 台座、7 レーザ光、8 矢印、9 3次元構造体、10 穴、11 3次元樹脂構造体、12 導電層。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により前記光造形樹脂部が形成された前記基板上に3次元構造体を形成する工程と、
を含む、3次元構造体の製造方法。 Forming an optical modeling resin portion on the substrate by optical modeling performed by irradiating light to the photocurable resin; and
Forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition;
A method for manufacturing a three-dimensional structure including:
前記基板上に形成される光造形樹脂部の所定の高さの横断面の形状に光を前記光硬化樹脂に照射することによる樹脂膜の形成と前記基板の前記光硬化樹脂の深さ方向への移動とを交互に繰り返すことによって前記基板上に前記光造形樹脂部を形成する工程と、
電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により前記光造形樹脂部が形成された前記基板上に3次元構造体を形成する工程と、
前記3次元構造体を前記基板から切り離す工程と、
を含む、3次元構造体の製造方法。 Immersing at least the substrate in a liquid photo-curing resin; and
Formation of a resin film by irradiating the photocuring resin with light in a shape of a cross section of a predetermined height of the optical modeling resin portion formed on the substrate, and in the depth direction of the photocuring resin of the substrate Forming the stereolithographic resin portion on the substrate by alternately repeating the movement of
Forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition;
Separating the three-dimensional structure from the substrate;
A method for manufacturing a three-dimensional structure including:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005340721A JP2007144737A (en) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005340721A JP2007144737A (en) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007144737A true JP2007144737A (en) | 2007-06-14 |
Family
ID=38206724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005340721A Withdrawn JP2007144737A (en) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007144737A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8066842B2 (en) | 2007-08-06 | 2011-11-29 | Airbus Operations Limited | Method and apparatus for manufacturing a composite material |
JP2017218604A (en) * | 2016-06-02 | 2017-12-14 | 株式会社イクシス | Method for forming plating film on stereolithographic article |
-
2005
- 2005-11-25 JP JP2005340721A patent/JP2007144737A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8066842B2 (en) | 2007-08-06 | 2011-11-29 | Airbus Operations Limited | Method and apparatus for manufacturing a composite material |
JP2017218604A (en) * | 2016-06-02 | 2017-12-14 | 株式会社イクシス | Method for forming plating film on stereolithographic article |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5641448A (en) | Method of producing plastic injection molds for prototype parts | |
JP6431939B2 (en) | Casting using first metal part and second metal part | |
US20080153069A1 (en) | Method, machine-readable medium and computer concerning the manufacture of dental prostheses | |
CN107457988B (en) | Device and method for generatively producing three-dimensional objects | |
EP3175972B1 (en) | Method for producing a mold, and mold | |
KR100574268B1 (en) | Method of manufacturing a three dimensional object | |
JP2005171299A (en) | Method for manufacturing three-dimensionally formed article | |
JP2011256434A (en) | Method for manufacturing three-dimensionally shaped structure and three-dimensionally shaped structure obtained thereby | |
CN107848212B (en) | Method for manufacturing three-dimensional shaped object | |
CA2717834A1 (en) | Method to apply multiple materials with selective laser melting on a 3d article | |
JP2017094540A (en) | Three-dimensional shaping device, three-dimensional shaping method, program, and recording medium | |
US20170246679A1 (en) | Casting with graded core components | |
JP2010121187A (en) | Three-dimensional shaped article and method for producing the same | |
JP2006257463A (en) | Powdery material to be sintered by laser, manufacturing method therefor, three-dimensional structure and manufacturing method therefor | |
JP6628024B2 (en) | Method for manufacturing three-dimensionally shaped object and three-dimensionally shaped object | |
JP2002066844A (en) | Method of manufacturing discharge machining electrode using metal powder sintering type laminated molding | |
JP4500962B2 (en) | Manufacturing method of microstructure | |
JP2007144737A (en) | Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure | |
JP2000301289A (en) | Production of lost form pattern | |
JP2001254107A (en) | Three-dimensional model structure and molding structure by photo-molding, and molding method by photo-molding | |
KR100848707B1 (en) | mold for injection molding | |
JPWO2017126094A1 (en) | Laminated shaped article, apparatus having the same, and shaping method | |
KR102127648B1 (en) | Method of manufacturing salt core | |
JP4368208B2 (en) | Mold manufacturing method | |
JP3865667B2 (en) | Electrode for electrical discharge machining and manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20090203 |