JP2007144737A - Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure - Google Patents

Manufacturing method of three-dimensional structure and manufacturing method of three-dimensional resin structure Download PDF

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一男 仲前
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an manufacturing method of a three-dimensional structure capable of being enhanced in dimensional precision and a manufacturing method of a three-dimensional resin structure. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the three-dimensional structure comprises a process for forming an optically shaped resin part on a substrate by optical shaping performed by irradiating a photo-curable resin with a light and a process for forming the three-dimensional structure on the substrate on which the optically shaped resin part is formed by at least one kind of method selected from group consisting of an electrolytic plating method, an electroless plating method, a sputtering method, a CVD method and a vapor deposition method. The manufacturing method of a three-dimensional resin structure utilizes the three-dimensional structure obtained by this manufacturing method. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法に関し、特に寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure, and more particularly to a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure capable of improving dimensional accuracy.

従来、光造形を利用して成形金型や金属部品などを作製する方法が、特許文献1および特許文献2などに開示されている。   Conventionally, methods for producing a molding die, a metal part, and the like using stereolithography are disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2.

特許文献1の段落[0003]〜[0005]を参照すると、まず、光造形するモデルの三次元データに基づいて、形成対象物の各層ごとの断面のスライスデータを作成する。ここで、昇降可能なプラットホーム上には予めベースプレートを設置しておき、このベースプレート上に金属粉末を第1層目の厚み分だけ供給して、作成されたスライスデータに基づいてレーザ光を照射することによって金属粉末を焼結させてスライスデータで特定される形状に第1層目を硬化させるとともに、その第1層目とベースプレートとを結合する。   Referring to paragraphs [0003] to [0005] of Patent Document 1, first, slice data of a cross section for each layer of a formation target is created based on three-dimensional data of a model to be optically modeled. Here, a base plate is set in advance on a platform that can be moved up and down, a metal powder is supplied onto the base plate by the thickness of the first layer, and laser light is irradiated based on the created slice data. As a result, the metal powder is sintered to harden the first layer into the shape specified by the slice data, and the first layer and the base plate are bonded.

次に、プラットホームを降下させ、第2層目の厚み分だけ新たに金属粉末を供給して、作成されたスライスデータに基づいてレーザ光を照射することによって金属粉末を焼結させてスライスデータで特定される形状に第2層目を硬化させるとともに、その第2層目と第1層目とを結合する。   Next, the platform is lowered, new metal powder is supplied by the thickness of the second layer, and the metal powder is sintered by irradiating laser light based on the created slice data. The second layer is cured to the specified shape, and the second layer and the first layer are bonded.

このような処理を繰り返して、特許文献1においては、金属粉末を焼結した造形物である成形金型が作製されている。   By repeating such a process, in Patent Document 1, a molding die that is a shaped object obtained by sintering metal powder is produced.

また、特許文献2の段落[0007]〜[0013]を参照すると、まず、形成対象物となる樹脂型の3次元形状を数値的に示すデータ(3次元CADデータ)に基づいてレーザ光を照射して2次元形状の樹脂膜を層状に積み上げることにより、所定の形状の3次元形状の樹脂型を形成する。   Further, referring to paragraphs [0007] to [0013] of Patent Document 2, first, laser light is irradiated based on data (three-dimensional CAD data) that numerically indicates a three-dimensional shape of a resin mold that is a formation target. Then, a two-dimensional resin film is stacked in layers to form a three-dimensional resin mold having a predetermined shape.

次に、上記の光造形によって形成された樹脂型に樹脂製の枝部を介して樹脂製の湯口型を結合する。そして、樹脂型、枝部および湯口型の表面にそれぞれ、けい砂やアルミナをスラリ状にしたものをコーティングし、その後砂を振りかける処理を複数回繰り返すことにより、樹脂型などの表面に所定の厚みのシェル状の鋳型が形成される。   Next, a resin gate type is joined to the resin mold formed by the above-described stereolithography through a resin branch. Then, the surface of the resin mold, the branch part, and the gate is coated with a slurry of silica sand or alumina, and then the process of sprinkling the sand is repeated several times to obtain a predetermined thickness on the surface of the resin mold, etc. A shell-shaped mold is formed.

そして、上記のようにして形成した鋳型を十分乾燥させ加熱することにより鋳型はセラミックの様な材質に変性するとともに、樹脂製の樹脂型、枝部および湯口型は溶融して外部に流出することにより、内部が空洞の鋳型が完成する。   Then, by sufficiently drying and heating the mold formed as described above, the mold is modified into a ceramic-like material, and the resin-made resin mold, the branch part and the gate mold melt and flow out to the outside. As a result, a hollow mold is completed.

この鋳型の内部の空洞に溶融金属を鋳込み、溶融金属を冷却固化した後に鋳型を破壊し、枝部および湯口型の部位を切断する。これにより、樹脂型と同一形状の金属部品が完成する。
特開2002−129203号公報 特開2001−219245号公報
Molten metal is cast into the cavity inside the mold, and after the molten metal is cooled and solidified, the mold is broken, and the branch part and the gate-type part are cut. Thereby, a metal part having the same shape as the resin mold is completed.
JP 2002-129203 A JP 2001-219245 A

しかしながら、特許文献1に記載の方法においては、レーザ光の照射によって金属粉末を溶融した後に冷却して成形しているために、冷却時に熱収縮が起こり、成形物である成形金型の形状が変形して、成形金型の寸法精度が悪くなるという問題があった。   However, in the method described in Patent Document 1, since metal powder is melted by laser light irradiation and then cooled and molded, thermal shrinkage occurs during cooling, and the shape of the molding die that is a molded product is There is a problem that the dimensional accuracy of the molding die deteriorates due to deformation.

また、特許文献2に記載の方法において、鋳型に低融点金属を流し込んだ場合には、特許文献1の場合と同様に、低融点金属の冷却時に熱収縮が起こり、金属部品の形状が変形して、金属部品の寸法精度が悪くなるという問題があった。   Further, in the method described in Patent Document 2, when a low melting point metal is poured into a mold, as in Patent Document 1, thermal shrinkage occurs during cooling of the low melting point metal, and the shape of the metal part is deformed. As a result, there is a problem that the dimensional accuracy of the metal parts deteriorates.

上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法を提供することにある。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a three-dimensional structure and a method for manufacturing a three-dimensional resin structure, which can improve dimensional accuracy.

本発明は、光硬化樹脂に光を照射して行なわれる光造形によって基板上に光造形樹脂部を形成する工程と、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部が形成された基板上に3次元構造体を形成する工程と、を含む、3次元構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。   The present invention is selected from the group consisting of a step of forming an optical modeling resin portion on a substrate by optical modeling performed by irradiating light to a photocurable resin, and electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition Forming a three-dimensional structure on a substrate on which an optical modeling resin portion is formed by at least one method. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved.

ここで、本発明の3次元構造体の製造方法においては、基板の表面に導電膜を形成し、光造形樹脂部の形成後に電解めっきにより導電膜上に3次元構造体を形成することができる。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができるとともに、導電膜を剥離することによって3次元構造体を容易に得ることができる。   Here, in the method for producing a three-dimensional structure according to the present invention, a conductive film can be formed on the surface of the substrate, and the three-dimensional structure can be formed on the conductive film by electrolytic plating after the formation of the optical modeling resin portion. . According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved, and the three-dimensional structure can be easily obtained by peeling off the conductive film.

また、本発明の3次元構造体の製造方法においては、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部上に導電層を形成した後に、電解めっきにより導電層上に3次元構造体を形成することもできる。この方法によれば、基板上の光造形樹脂部が密集して導電膜を露出できない場合であっても、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the three-dimensional structure of the present invention, after forming the conductive layer on the optical modeling resin portion by at least one method selected from the group consisting of electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition, A three-dimensional structure can also be formed on the conductive layer by electrolytic plating. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved even when the optical modeling resin portions on the substrate are densely packed and the conductive film cannot be exposed.

また、本発明は、少なくとも基板を液状の光硬化樹脂中に浸漬させる工程と、基板上に形成される光造形樹脂部の所定の高さの横断面の形状に光を光硬化樹脂に照射することによる樹脂膜の形成と基板の光硬化樹脂の深さ方向への移動とを交互に繰り返すことによって基板上に光造形樹脂部を形成する工程と、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により光造形樹脂部が形成された基板上に3次元構造体を形成する工程と、3次元構造体を基板から切り離す工程と、を含む、3次元構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。   Moreover, this invention irradiates light to a photocuring resin at the process of immersing at least a board | substrate in a liquid photocuring resin, and the shape of the cross section of the predetermined height of the optical modeling resin part formed on a board | substrate. Forming the resin molding resin portion on the substrate by alternately repeating the formation of the resin film and the movement of the photocurable resin in the depth direction of the substrate, and electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and Including a step of forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of vapor deposition and a step of separating the three-dimensional structure from the substrate. It is a manufacturing method of a dimensional structure. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved.

さらに、本発明は、上記のいずれかの方法により製造された3次元構造体を型として用いて樹脂を成形することによって3次元樹脂構造体を形成する工程を含む3次元樹脂構造体の製造方法である。この方法によれば、3次元樹脂構造体の寸法精度を向上することができる。   Furthermore, the present invention provides a method for producing a three-dimensional resin structure, including a step of forming a three-dimensional resin structure by molding a resin using the three-dimensional structure produced by any of the above methods as a mold. It is. According to this method, the dimensional accuracy of the three-dimensional resin structure can be improved.

なお、本発明においては、基板の表面上には導電膜などが形成されてもよいため、基板と光造形樹脂部、並びに基板と3次元構造体はそれぞれ接していてもよく、接していなくてもよい。   In the present invention, since a conductive film or the like may be formed on the surface of the substrate, the substrate and the optical modeling resin portion, and the substrate and the three-dimensional structure may be in contact with each other or not. Also good.

また、本発明において、「光造形」とは、光硬化樹脂に光を照射することによって光造形樹脂部の底部から頂部までの横断面の形状の樹脂膜を順次形成し、これを積み上げていくことによって光造形樹脂部を形成する手法のことをいう。   Further, in the present invention, “optical modeling” means that resin films having a cross-sectional shape from the bottom part to the top part of the optical modeling resin part are sequentially formed by irradiating light to the photo-curing resin, and these are stacked. This means a method of forming the optical modeling resin part.

本発明によれば寸法精度を向上することができる3次元構造体の製造方法および3次元樹脂構造体の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the three-dimensional structure which can improve a dimensional accuracy, and the manufacturing method of a three-dimensional resin structure can be provided.

以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。   Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings of the present invention, the same reference numerals represent the same or corresponding parts.

(実施の形態1)
まず、図1の模式的断面図に示すように、たとえばガラスまたは石英などの基板1上に1μmの厚みでたとえばチタンからなる導電膜2をスパッタリング法などにより形成する。次に、図2の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって導電膜2上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 1)
First, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, a conductive film 2 made of titanium, for example, with a thickness of 1 μm is formed on a substrate 1 such as glass or quartz by a sputtering method or the like. Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2, for example, a diameter of 50 μm on the conductive film 2 is formed on the conductive film 2 by stereolithography by irradiating a conventionally known photocuring resin such as epoxy resin or acrylic resin with laser light. A 500 μm cone-shaped optical modeling resin portion 3 is formed.

ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図3(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のIIIB−IIIBに沿った横断面(図3(B))のデータ(以下、「スライスデータ」ということもある)を光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical modeling resin part 3 by optical modeling is performed as follows, for example.
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical modeling resin part 3 shown in the schematic side view of FIG. 3A, the cross section along the IIIB-IIIB of the optical modeling resin part 3 (FIG. 3). (B)) data (hereinafter also referred to as “slice data”) is created for all of the optical modeling resin part 3 from the bottom to the top (height h).

次に、図4(A)の模式的断面図に示すように、導電膜2が形成された基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。   Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4A, in the liquid photo-curing resin 4 accommodated in the container 5 in a state where the substrate 1 on which the conductive film 2 is formed is placed on the pedestal 6. Soak.

そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。   Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is irradiated with the laser light 7, whereby the portion of the photo-curing resin 4 irradiated with the laser light 7 is obtained. By curing, a resin film having the same shape as that of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is formed. Then, the board | substrate 1 is moved to the direction of the arrow 8 (depth direction of the photocurable resin 4).

そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。   And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical modeling resin part 3 of the position of the same height as the movement distance of the board | substrate 1 with the laser beam 7, it is the same as the cross section of the position. A resin film having a shape is formed. Thereafter, the substrate 1 is further moved in the direction of the arrow 8 (the depth direction of the photocurable resin 4).

このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図4(B)および図4(C)に示すように、導電膜2上に光造形樹脂部3が形成されることになる。   By alternately repeating the irradiation of the laser beam 7 onto the photocurable resin 4 and the movement of the substrate 1 in the direction of the arrow 8, the resin films are sequentially stacked, and FIG. 4B and FIG. As shown in C), the optical modeling resin portion 3 is formed on the conductive film 2.

続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後にニッケルめっき液中に浸漬して電解めっきを行なって、図5の模式的断面図に示すように、導電膜2上にニッケルからなる3次元構造体9を形成する。なお、本実施の形態においては電解めっきにより3次元構造体を形成する場合について説明したが、本発明においては電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体9を形成することができる。   Subsequently, the substrate 1 after the formation of the optical modeling resin portion 3 is taken out and washed, and then immersed in a nickel plating solution to perform electrolytic plating. As shown in the schematic sectional view of FIG. A three-dimensional structure 9 made of nickel is formed on 2. In the present embodiment, the case where a three-dimensional structure is formed by electrolytic plating has been described. However, in the present invention, at least one selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition is used. The three-dimensional structure 9 can be formed using this method.

その後、酸素プラズマアッシングによって導電膜2が除去されると同時に光造形樹脂部3が除去されて、3次元構造体9が基板1から切り離されて、図6の模式的断面図に示す3次元構造体9が得られる。ここで、チタンからなる導電膜2は、酸素プラズマアッシングによって除去できるため、基板1から3次元構造体9を簡単に切り離すことができる。なお、3次元構造体9の基板1からの切り離しは、酸素プラズマアッシングによる方法には限定されず、酸素プラズマアッシング以外にもたとえば機械的に切り離す方法などによっても可能である。   Thereafter, the conductive film 2 is removed by oxygen plasma ashing, and at the same time, the optical modeling resin portion 3 is removed, the three-dimensional structure 9 is separated from the substrate 1, and the three-dimensional structure shown in the schematic cross-sectional view of FIG. A body 9 is obtained. Here, since the conductive film 2 made of titanium can be removed by oxygen plasma ashing, the three-dimensional structure 9 can be easily separated from the substrate 1. The separation of the three-dimensional structure 9 from the substrate 1 is not limited to the method using oxygen plasma ashing, but can be performed by a method such as mechanical separation other than oxygen plasma ashing.

ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有しているため、3次元構造体9はインクジェットプリンタのノズル(インクジェットノズル)などの製造に利用することができる。   Here, since the three-dimensional structure 9 shown in FIG. 6 has a conical hole 10 having a diameter of 50 μm and a depth of 500 μm, for example, the three-dimensional structure 9 is a nozzle (inkjet nozzle) of an inkjet printer or the like. Can be used for manufacturing.

このように本実施の形態においては、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体を形成することができるため、3次元構造体の製造過程において3次元構造体に生じる熱収縮量を特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて低減することができる。したがって、本実施の形態においては、3次元構造体の寸法精度を向上することができる。   Thus, in the present embodiment, the three-dimensional structure can be formed using at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition. The amount of thermal shrinkage that occurs in the three-dimensional structure during the manufacturing process of the three-dimensional structure can be reduced as compared with the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2. Therefore, in this embodiment, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved.

(実施の形態2)
まず、図1の模式的断面図に示すように、たとえばガラスまたは石英などの基板1上に1μmの厚みでたとえばチタンからなる導電膜2をスパッタリング法などにより形成する。次に、図2の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって導電膜2上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 2)
First, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, a conductive film 2 made of titanium, for example, with a thickness of 1 μm is formed on a substrate 1 such as glass or quartz by a sputtering method or the like. Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2, for example, a diameter of 50 μm on the conductive film 2 is formed on the conductive film 2 by stereolithography by irradiating a conventionally known photocurable resin such as an epoxy resin or an acrylic resin with a laser beam. A 500 μm cone-shaped optical modeling resin portion 3 is formed.

ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図3(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のIIIB−IIIBに沿った横断面(図3(B))のスライスデータを光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical modeling resin part 3 by optical modeling is performed as follows, for example.
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical modeling resin part 3 shown in the schematic side view of FIG. 3A, the cross section along the IIIB-IIIB of the optical modeling resin part 3 (FIG. 3). The slice data of (B)) is created for all of the height (h) from the bottom to the top of the optical modeling resin portion 3.

次に、図4(A)の模式的断面図に示すように、導電膜2が形成された基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。   Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4A, in the liquid photo-curing resin 4 accommodated in the container 5 in a state where the substrate 1 on which the conductive film 2 is formed is placed on the pedestal 6. Soak.

そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。   Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is irradiated with the laser light 7, whereby the portion of the photo-curing resin 4 irradiated with the laser light 7 is obtained. By curing, a resin film having the same shape as that of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is formed. Then, the board | substrate 1 is moved to the direction of the arrow 8 (depth direction of the photocurable resin 4).

そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。   And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical modeling resin part 3 of the position of the same height as the movement distance of the board | substrate 1 with the laser beam 7, it is the same as the cross section of the position. A resin film having a shape is formed. Thereafter, the substrate 1 is further moved in the direction of the arrow 8 (the depth direction of the photocurable resin 4).

このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図4(B)および図4(C)に示すように、導電膜2上に光造形樹脂部3が形成されることになる。   By alternately repeating the irradiation of the laser beam 7 onto the photocurable resin 4 and the movement of the substrate 1 in the direction of the arrow 8, the resin films are sequentially stacked, and FIG. 4B and FIG. As shown in C), the optical modeling resin portion 3 is formed on the conductive film 2.

続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後にニッケルめっき液中に浸漬して電解めっきを行なって、図5の模式的断面図に示すように、導電膜2上にニッケルからなる3次元構造体9を形成する。なお、本実施の形態においては電解めっきにより3次元構造体を形成する場合について説明したが、本発明においては電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて3次元構造体を形成することができる。   Subsequently, the substrate 1 after the formation of the optical modeling resin portion 3 is taken out and washed, and then immersed in a nickel plating solution to perform electrolytic plating. As shown in the schematic sectional view of FIG. A three-dimensional structure 9 made of nickel is formed on 2. In the present embodiment, the case where a three-dimensional structure is formed by electrolytic plating has been described. However, in the present invention, at least one selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition is used. A three-dimensional structure can be formed using this method.

その後、酸素プラズマアッシングによって導電膜2が除去されると同時に光造形樹脂部3が除去されて、3次元構造体9が基板1から切り離されて、図6の模式的断面図に示す3次元構造体9が得られる。ここで、チタンからなる導電膜2は、酸素プラズマアッシングによって除去できるため、基板1から3次元構造体9を簡単に切り離すことができる。なお、3次元構造体9の基板1からの切り離しは、酸素プラズマアッシングによる方法には限定されず、酸素プラズマアッシング以外にもたとえば機械的に切り離す方法などによっても可能である。   Thereafter, the conductive film 2 is removed by oxygen plasma ashing, and at the same time, the optical modeling resin portion 3 is removed, the three-dimensional structure 9 is separated from the substrate 1, and the three-dimensional structure shown in the schematic cross-sectional view of FIG. A body 9 is obtained. Here, since the conductive film 2 made of titanium can be removed by oxygen plasma ashing, the three-dimensional structure 9 can be easily separated from the substrate 1. The separation of the three-dimensional structure 9 from the substrate 1 is not limited to the method using oxygen plasma ashing, but can be performed by a method such as mechanical separation other than oxygen plasma ashing.

ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有している。   Here, the three-dimensional structure 9 shown in FIG. 6 has, for example, a conical hole 10 having a diameter of 50 μm and a depth of 500 μm.

最後に、図6に示す3次元構造体9を型として用いて、穴10にアクリル樹脂などの樹脂を流し込んだ後に硬化することなどにより樹脂を成形することによって、図7に示す3次元樹脂構造体11を得ることができる。   Finally, using the three-dimensional structure 9 shown in FIG. 6 as a mold, the resin is molded by pouring a resin such as an acrylic resin into the hole 10 and then curing the resin, thereby forming the three-dimensional resin structure shown in FIG. The body 11 can be obtained.

このようにして得られた3次元樹脂構造体11は、たとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の突起を有しているため、3次元樹脂構造体11は、無痛針などに利用することができる。   The three-dimensional resin structure 11 thus obtained has, for example, a conical protrusion having a diameter of 50 μm and a height of 500 μm. Therefore, the three-dimensional resin structure 11 can be used for a painless needle or the like. it can.

このように本実施の形態においては、電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて型となる3次元構造体を形成することができるため、特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて3次元構造体の寸法精度を向上することができる。したがって、本実施の形態においては、寸法精度が向上した3次元構造体を型として用いて3次元樹脂構造体を成形することができるため、成形後の3次元樹脂構造体の寸法精度も向上する。   Thus, in the present embodiment, a three-dimensional structure serving as a mold can be formed using at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition. Therefore, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure can be improved as compared with the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2. Therefore, in this embodiment, since the three-dimensional resin structure can be molded using the three-dimensional structure with improved dimensional accuracy as a mold, the dimensional accuracy of the three-dimensional resin structure after molding is also improved. .

(実施の形態3)
まず、図8の模式的断面図に示すような、たとえばガラスまたは石英などの基板1を用意する。次に、図9の模式的断面図に示すように、たとえば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などの従来から公知の光硬化樹脂にレーザ光を照射する光造形によって基板1の表面上にたとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の光造形樹脂部3を形成する。
(Embodiment 3)
First, a substrate 1 such as glass or quartz as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 8 is prepared. Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 9, for example, a diameter of 50 μm is formed on the surface of the substrate 1 by optical modeling that irradiates a conventionally known photo-curing resin such as an epoxy resin or an acrylic resin with a laser beam, A cone-shaped optical modeling resin portion 3 having a height of 500 μm is formed.

ここで、光造形による光造形樹脂部3の形成はたとえば以下のようにして行なわれる。
まず最初に、図10(A)の模式的側面図に示される光造形樹脂部3の3次元形状を示すデータに基づいて、光造形樹脂部3のXB−XBに沿った横断面(図10(B))のスライスデータを光造形樹脂部3の底部から頂部まで(高さh)のすべてについて作成する。
Here, formation of the optical modeling resin part 3 by optical modeling is performed as follows, for example.
First, based on the data indicating the three-dimensional shape of the optical modeling resin portion 3 shown in the schematic side view of FIG. 10A, the cross section along the XB-XB of the optical modeling resin portion 3 (FIG. 10). The slice data of (B)) is created for all of the height (h) from the bottom to the top of the optical modeling resin portion 3.

次に、図11(A)の模式的断面図に示すように、基板1を台座6上に設置した状態で容器5に収容された液状の光硬化樹脂4中に浸漬させる。   Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 11A, the substrate 1 is immersed in the liquid photocurable resin 4 accommodated in the container 5 in a state where the substrate 1 is placed on the base 6.

そして、上記のようにして作成されたスライスデータに基づいて、まず光造形樹脂部3の底面の形状にレーザ光7を照射することによって、レーザ光7が照射された部分の光硬化樹脂4が硬化して光造形樹脂部3の底面の形状と同一の形状の樹脂膜が形成される。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)に移動させる。   Then, based on the slice data created as described above, first, the shape of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is irradiated with the laser light 7, whereby the portion of the photo-curing resin 4 irradiated with the laser light 7 is obtained. By curing, a resin film having the same shape as that of the bottom surface of the optical modeling resin portion 3 is formed. Then, the board | substrate 1 is moved to the direction of the arrow 8 (depth direction of the photocurable resin 4).

そして、上記のスライスデータに基づいて、基板1の移動距離と同一の高さの位置の光造形樹脂部3の横断面の形状にレーザ光7を照射することによってその位置の横断面と同一の形状の樹脂膜を形成する。その後、基板1を矢印8の方向(光硬化樹脂4の深さ方向)にさらに移動させる。   And based on said slice data, by irradiating the shape of the cross section of the optical modeling resin part 3 of the position of the same height as the movement distance of the board | substrate 1 with the laser beam 7, it is the same as the cross section of the position. A resin film having a shape is formed. Thereafter, the substrate 1 is further moved in the direction of the arrow 8 (the depth direction of the photocurable resin 4).

このレーザ光7の光硬化樹脂4への照射と基板1を矢印8の方向への移動とを交互に繰り返すことによって、樹脂膜が順次積み上げられていって、図11(B)および図11(C)に示すように、光造形樹脂部3が形成されることになる。   By alternately repeating the irradiation of the laser beam 7 onto the photocurable resin 4 and the movement of the substrate 1 in the direction of the arrow 8, the resin films are sequentially stacked, and FIG. 11B and FIG. As shown in C), the optical modeling resin portion 3 is formed.

続いて、光造形樹脂部3が形成された後の基板1を取り出して洗浄した後に無電解ニッケルめっき液中に浸漬して無電解めっきを行なって、図12の模式的断面図に示すように、光造形樹脂部3の表面上にニッケルからなる導電層12を形成する。なお、本実施の形態においては無電解めっきにより導電層12を形成する場合について説明したが、本発明においては無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法を用いて導電層12を形成することができる。   Subsequently, the substrate 1 after the formation of the optical modeling resin portion 3 is taken out and washed, and then immersed in an electroless nickel plating solution to perform electroless plating, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. The conductive layer 12 made of nickel is formed on the surface of the optical modeling resin portion 3. In the present embodiment, the case where the conductive layer 12 is formed by electroless plating has been described. However, in the present invention, at least one method selected from the group consisting of electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition is used. The conductive layer 12 can be formed.

そして、電解めっきによって、図13の模式的断面図に示すように、導電層12の表面上に3次元構造体9を形成する。   Then, a three-dimensional structure 9 is formed on the surface of the conductive layer 12 by electrolytic plating, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG.

その後、導電層12から3次元構造体9が切り離されて、図6の模式的断面図に示すような形状を有する3次元構造体9が得られる。   Thereafter, the three-dimensional structure 9 is separated from the conductive layer 12, and the three-dimensional structure 9 having a shape as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 6 is obtained.

ここで、図6に示す3次元構造体9は、たとえば直径50μm、深さ500μmの円錐状の穴10を有している。   Here, the three-dimensional structure 9 shown in FIG. 6 has, for example, a conical hole 10 having a diameter of 50 μm and a depth of 500 μm.

最後に、図6に示す3次元構造体9を型として用いて、穴10にアクリル樹脂などの樹脂を流し込んだ後に硬化することなどにより樹脂を成形することによって、図7に示す3次元樹脂構造体11を得ることができる。   Finally, using the three-dimensional structure 9 shown in FIG. 6 as a mold, the resin is molded by pouring a resin such as an acrylic resin into the hole 10 and then curing the resin, thereby forming the three-dimensional resin structure shown in FIG. The body 11 can be obtained.

このようにして得られた3次元樹脂構造体11は、たとえば直径50μm、高さ500μmの円錐状の突起を有しているため、3次元樹脂構造体11は、無痛針などに利用することができる。   The three-dimensional resin structure 11 thus obtained has, for example, a conical protrusion having a diameter of 50 μm and a height of 500 μm. Therefore, the three-dimensional resin structure 11 can be used for a painless needle or the like. it can.

このように本実施の形態においては、電解めっきによって型となる3次元構造体を形成することができるため、特許文献1および特許文献2に記載された方法と比べて3次元構造体の寸法精度を向上することができる。したがって、本実施の形態においては、寸法精度が向上した3次元構造体を型として用いて3次元樹脂構造体を成形することができるため、成形後の3次元樹脂構造体の寸法精度も向上することができる。   As described above, in the present embodiment, a three-dimensional structure that becomes a mold can be formed by electrolytic plating. Therefore, the dimensional accuracy of the three-dimensional structure is compared with the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2. Can be improved. Therefore, in this embodiment, since the three-dimensional resin structure can be molded using the three-dimensional structure with improved dimensional accuracy as a mold, the dimensional accuracy of the three-dimensional resin structure after molding is also improved. be able to.

さらに、本実施の形態においては、無電解めっきなどによって導電層を形成した後に電解めっきにより3次元構造体を形成することができるため、基板上の光造形樹脂部が密集して導電膜を露出できない場合であっても、電解めっきによって寸法精度が向上した3次元構造体を導電層上に製造することができる。   Furthermore, in this embodiment, since a three-dimensional structure can be formed by electroplating after forming a conductive layer by electroless plating or the like, the optical modeling resin portion on the substrate is densely exposed to expose the conductive film. Even if this is not possible, a three-dimensional structure with improved dimensional accuracy can be produced on the conductive layer by electrolytic plating.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明は、インクジェットノズル、無痛針、ネブライザまたはマイクロレンズアレイなどの製造に好適に利用することができる。   The present invention can be suitably used for manufacturing an inkjet nozzle, a painless needle, a nebulizer, a microlens array, or the like.

本発明において導電膜を形成した後の基板の一例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of an example of the board | substrate after forming the electrically conductive film in this invention. 本発明において図1に示す導電膜上に光造形樹脂部を形成した後の基板の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the board | substrate after forming the optical modeling resin part on the electrically conductive film shown in FIG. 1 in this invention. (A)は本発明において形成される光造形樹脂部の一例の模式的な側面図であり、(B)は(A)に示す光造形樹脂部のIIIB−IIIBに沿った横断面を模式的に示す図である。(A) is a typical side view of an example of the optical modeling resin part formed in this invention, (B) is a cross section along IIIB-IIIB of the optical modeling resin part shown to (A) typically. FIG. (A)は本発明において図1に示す基板を台座上に設置して容器に収容された液状の光硬化樹脂中に浸漬させる工程の一例を図解する模式的な断面図であり、(B)は本発明において光造形樹脂部を形成する途中の工程の一例を図解する模式的な断面図であり、(C)は本発明において光造形樹脂部の完成後の状態の一例を示す模式的な断面図である。(A) is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the step of immersing the substrate shown in FIG. 1 on a pedestal in the present invention and immersing it in a liquid photo-curing resin accommodated in a container. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a process in the middle of forming an optical modeling resin portion in the present invention, and (C) is a schematic diagram illustrating an example of a state after completion of the optical modeling resin portion in the present invention. It is sectional drawing. 本発明において光造形樹脂部が形成された図4(C)に示す基板上に3次元構造体を形成した後の状態の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example after forming a three-dimensional structure on the board | substrate shown in FIG.4 (C) in which the optical modeling resin part was formed in this invention. 本発明において基板から切り離した後の図5に示す3次元構造体を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the three-dimensional structure shown in FIG. 5 after cut | disconnecting from the board | substrate in this invention. 本発明において図6に示す3次元構造体を型として用いて樹脂を成形する工程の一例を図解する模式的な断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a step of molding a resin using the three-dimensional structure shown in FIG. 6 as a mold in the present invention. 本発明において用いられる基板の他の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows another example of the board | substrate used in this invention. 本発明において図1に示す基板上に光造形樹脂部を形成した後の基板の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the board | substrate after forming the optical modeling resin part on the board | substrate shown in FIG. 1 in this invention. (A)は本発明において形成される光造形樹脂部の一例の模式的な側面図であり、(B)は(A)に示す光造形樹脂部のXB−XBに沿った横断面を模式的に示す図である。(A) is a typical side view of an example of the optical modeling resin part formed in this invention, (B) is a cross section along XB-XB of the optical modeling resin part shown to (A) typically. FIG. (A)は本発明において図9に示す基板を台座上に設置して容器に収容された液状の光硬化樹脂中に浸漬させる工程の一例を図解する模式的な断面図であり、(B)は本発明において光造形樹脂部を形成する途中の工程の一例を図解する模式的な断面図であり、(C)は本発明において光造形樹脂部の完成後の状態の一例を示す模式的な断面図である。(A) is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the step of immersing the substrate shown in FIG. 9 on a pedestal in the present invention and immersing it in a liquid photo-curing resin accommodated in a container. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a process in the middle of forming an optical modeling resin portion in the present invention, and (C) is a schematic diagram illustrating an example of a state after completion of the optical modeling resin portion in the present invention. It is sectional drawing. 本発明において光造形樹脂部が形成された図11(C)に示す基板上に導電層を形成した後の状態の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example after forming a conductive layer on the board | substrate shown in FIG.11 (C) in which the optical modeling resin part was formed in this invention. 本発明において図12に示す導電層上に3次元構造体を形成した後の状態の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example after forming a three-dimensional structure on the conductive layer shown in FIG. 12 in this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板、2 導電膜、3 光造形樹脂部、4 光硬化樹脂、5 容器、6 台座、7 レーザ光、8 矢印、9 3次元構造体、10 穴、11 3次元樹脂構造体、12 導電層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate, 2 Conductive film, 3 Stereolithography resin part, 4 Photocurable resin, 5 Container, 6 Base, 7 Laser beam, 8 Arrow, 9 Three-dimensional structure, 10 Hole, 11 Three-dimensional resin structure, 12 Conductive layer .

Claims (5)

光硬化樹脂に光を照射して行なわれる光造形によって基板上に光造形樹脂部を形成する工程と、
電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により前記光造形樹脂部が形成された前記基板上に3次元構造体を形成する工程と、
を含む、3次元構造体の製造方法。
Forming an optical modeling resin portion on the substrate by optical modeling performed by irradiating light to the photocurable resin; and
Forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition;
A method for manufacturing a three-dimensional structure including:
前記基板の表面には導電膜が形成され、前記光造形樹脂部の形成後に電解めっきにより前記導電膜上に前記3次元構造体が形成されることを特徴とする、請求項1に記載の3次元構造体の製造方法。   The conductive film is formed on the surface of the substrate, and the three-dimensional structure is formed on the conductive film by electrolytic plating after the formation of the optical modeling resin portion. A manufacturing method of a dimensional structure. 無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により前記光造形樹脂部上に導電層を形成した後に、電解めっきにより前記導電層上に前記3次元構造体が形成されることを特徴とする、請求項1に記載の3次元構造体の製造方法。   After the conductive layer is formed on the optical modeling resin portion by at least one method selected from the group consisting of electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition, the three-dimensional structure is formed on the conductive layer by electrolytic plating. The method for manufacturing a three-dimensional structure according to claim 1, wherein the three-dimensional structure is formed. 少なくとも基板を液状の光硬化樹脂中に浸漬させる工程と、
前記基板上に形成される光造形樹脂部の所定の高さの横断面の形状に光を前記光硬化樹脂に照射することによる樹脂膜の形成と前記基板の前記光硬化樹脂の深さ方向への移動とを交互に繰り返すことによって前記基板上に前記光造形樹脂部を形成する工程と、
電解めっき、無電解めっき、スパッタリング、CVDおよび蒸着からなる群から選択された少なくとも1種の方法により前記光造形樹脂部が形成された前記基板上に3次元構造体を形成する工程と、
前記3次元構造体を前記基板から切り離す工程と、
を含む、3次元構造体の製造方法。
Immersing at least the substrate in a liquid photo-curing resin; and
Formation of a resin film by irradiating the photocuring resin with light in a shape of a cross section of a predetermined height of the optical modeling resin portion formed on the substrate, and in the depth direction of the photocuring resin of the substrate Forming the stereolithographic resin portion on the substrate by alternately repeating the movement of
Forming a three-dimensional structure on the substrate on which the optical modeling resin portion is formed by at least one method selected from the group consisting of electrolytic plating, electroless plating, sputtering, CVD, and vapor deposition;
Separating the three-dimensional structure from the substrate;
A method for manufacturing a three-dimensional structure including:
請求項1から4のいずれかの方法により製造された3次元構造体を型として用いて樹脂を成形することによって3次元樹脂構造体を形成する工程を含む、3次元樹脂構造体の製造方法。   A method for producing a three-dimensional resin structure, comprising a step of forming a three-dimensional resin structure by molding a resin using the three-dimensional structure produced by the method according to any one of claims 1 to 4 as a mold.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017218604A (en) * 2016-06-02 2017-12-14 株式会社イクシス Method for forming plating film on stereolithographic article

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