JP2007142384A - 高効率の二次高調波生成外部共振器型面発光レーザ - Google Patents

高効率の二次高調波生成外部共振器型面発光レーザ Download PDF

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Abstract

【課題】高効率の外部共振器型面発光レーザを提供する。
【解決手段】所定の波長を有するレーザ光を発生させるレーザチップ(21)と、レーザチップ上に形成された第1エタロンフィルタ層(23)と、第1エタロンフィルタ層上に形成された、第1エタロンフィルタ層の屈折率と異なる屈折率を有する第2エタロンフィルタ層(25)と、前記レーザチップの前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて、かつ前記面に対し斜めに配置された第1ミラー(32)と、第1ミラーから反射されたレーザ光を再び前記第1ミラーに反射し、レーザチップと共に共振器を形成する第2ミラー(34)と、第1ミラーと第2ミラーとの間の光路に配置されたものであって、レーザチップから放出されたレーザ光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶(33)と、を備えることを特徴とする外部共振器型面発光レーザ(20)である。
【選択図】図6

Description

本発明は、外部共振器型面発光レーザ(Vertical External Cavity Surface Emitting Laser;VECSEL)に係り、さらに詳細には、2個のエタロンフィルタを利用してレーザ光の半値幅(Full−Width at Half Maximum;FWHM)を小さくすることによって、二次高調波発生(Second Harmonic Generation;SHG)結晶の効率を向上させた外部共振器型面発光レーザに関する。
外部共振器型面発光レーザは、垂直共振器型面発光レーザ(Vertical Cavity Surface Emitting Laser;VCSEL)の上部ミラーを外部のミラーに替えて利得領域を拡大させることによって、数〜数十W以上の高出力を得るレーザ素子である。
図1は、このような外部共振器型面発光レーザの例示的な構造を概略的に示している。図1に示すように、従来の外部共振器型面発光レーザ10は、例えば、分布ブラッグ反射器(Distributed Bragg Reflector;DBR)層11及び活性層12を備えるレーザチップ18と、前記レーザチップ18を冷却させるための熱拡散素子13と、前記レーザチップ18の前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて、かつ前記面に対し斜めに配置された第1ミラー15と、前記第1ミラー15から反射されたレーザ光を更に第1ミラー15に反射する第2ミラー17と、を備える。また、前記第2ミラー17と第1ミラー15との間の光路には、光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶16が配置されており、第1ミラー15とレーザチップ18との間の光路には、複屈折フィルタ14が配置されている。前記活性層12は、例えば、RPG(Resonant Periodic Gain)構造を有する多重量子ウェル構造とすることができ、ポンプビームにより励起されて所定の波長を有する光を放出する。
前述した構造で、ポンプレーザ(図示せず)から放出されたポンプビームが活性層12に入射すると、前記活性層12が励起されつつ特定の波長の光を放出する。図1に示すように、外部共振器型面発光レーザ10は、活性層12の下面にポンプビームが入射するように構成されてもよく、活性層12の上面に斜めにポンプビームが入射するように構成されてもよい。活性層12で発生したレーザ光は、分布ブラッグ反射器層11により第1ミラー15に反射された後、更に第1ミラー15により第2ミラー17に反射される。この過程で、レーザ光の波長は、二次高調波発生結晶16により1/2に短縮される。例えば、活性層12で発生したレーザ光が、920nmの中心波長を有する赤外線領域の光であれば、二次高調波発生結晶16を通過した光は、460nmの中心波長を有する可視光線領域の光になる。
第2ミラー17は、波長変換された可視光線領域の光に対して高反射度を有する一方、波長変換されていない赤外線領域の光に対して若干の透過性を有するようにコーティングされうる。また、第1ミラー15は、波長変換された可視光線領域の光に対して若干の透過性を有する一方、波長変換されていない赤外線領域の光に対して高反射度を有するようにコーティングされうる。したがって、二次高調波発生結晶16により変換された光は、第2ミラー17により反射された後、第1ミラー15を通じて外部に出力される。また、波長変換されていない赤外線光は、第2ミラー17を通じて外部に出力されうる。一方、複屈折フィルタ14は、特定の波長のレーザ光のみを共振させる役割を有する。また、熱拡散素子13は、活性層12で発生する熱を外部に放出して前記活性層12を冷却させる役割を有する。
ところが、前記二次高調波発生結晶16は、図2の波長−効率グラフに示すように、非常に狭い波長領域でのみ高い波長変換効率を有する特性がある。すなわち、二次高調波発生結晶16は、一般的に、非常に狭い半値幅の波長−効率特性を有する。例えば、二次高調波発生結晶16として、PPSLT(Periodically Poled Stoichiometric Lithium Tantalate)を使用する場合、半値幅は、約0.1〜0.2nmである。これに対し、第2ミラー17を通じて出力される赤外線領域のレーザ光の半値幅は、相対的に大きいため、二次高調波発生結晶16の変換効率が低下するという問題が発生する。例えば、複屈折フィルタ14および熱拡散素子13がない場合、出力レーザ光の半値幅は、約1.6nmと大きいため、レーザ光の多くの部分が浪費されてしまう。
出力レーザ光の半値幅は、前記複屈折フィルタ14および熱拡散素子13を通じてある程度減らすことはできる。一般的に、複屈折フィルタ14および熱拡散素子13の厚さが厚くなる場合、出力レーザ光の半値幅が小さくなることが知られている。例えば、300μmの厚さの熱拡散素子13と4mm厚さの複屈折フィルタ14とを使用する場合、920nmの中心波長で約0.29nmの半値幅を有し、1064nmの中心波長で約0.35nmの半値幅を有する。500μmの厚さの熱拡散素子13及び4mmの厚さの複屈折フィルタ14を使用する場合には、920nmの中心波長で約0.28nm、1064nmの中心波長で約0.3nmの半値幅を有する。また、500μmの厚さの熱拡散素子13及び6mm厚さの複屈折フィルタ14を使用する場合、920nmの中心波長で約0.26nm、1064nmの中心波長で約0.27nmの半値幅を有する。しかし、十分に小さな半値幅を得るためには、複屈折フィルタ14および熱拡散素子13の厚さが非常に厚くなる必要があるため、材料コストが大きく上昇し、外部共振器型面発光レーザの全体的なサイズも非常に大きくなる。さらに、複屈折フィルタ14および熱拡散素子13の厚さが厚くなる場合、レーザの出力が減少するという問題も発生する。したがって、複屈折フィルタ14および熱拡散素子13を厚くして半値幅を小さくするのには限界があり、実質的に実現がほとんど困難である。
本発明は、前述した従来の問題点を改善するためになされたものである。すなわち、本発明の目的は、簡単な方法でレーザ光の半値幅を小さくすることによって、二次高調波発生結晶の波長変換効率を向上させた高効率外部共振器型面発光レーザを提供することである。
本発明の一実施例に係る外部共振器型面発光レーザは、所定の波長を有するレーザ光を発生させるレーザチップと、前記レーザチップ上に形成された第1エタロンフィルタ層と、前記第1エタロンフィルタ層上に形成され、前記第1エタロンフィルタ層の屈折率と異なる屈折率を有する第2エタロンフィルタ層と、前記レーザチップの前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて、かつ前記面に対し斜めに配置された第1ミラーと、前記第1ミラーから反射されたレーザ光を再び前記第1ミラーに反射し、前記レーザチップと共に共振器を形成する第2ミラーと、前記第1ミラーと第2ミラーとの間の光路に配置されたものであって、前記レーザチップから放出されたレーザ光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶と、を備えることを特徴とする。
前記第1エタロンフィルタ層及び第2エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生したレーザ光に対して透過性のあることを特徴とする。
また、 前記第1エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生する熱を外部に放出できる熱拡散素子でありうる。例えば、 前記第1エタロンフィルタ層は、ダイアモンド、Al及びSiCを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第2エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなりうる。
また、前記第2エタロンフィルタ層は、例えば、GaAs、InP、SiC、ダイアモンド、Alを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第1エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなりうる。
一方、前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との間にコーティング層がさらに介在されうる。また、前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との間にコーティング層がさらに介在されうる。例えば、前記コーティング層は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されうる。
また、特定の波長のレーザ光のみを通過させる複屈折フィルタが、前記第1ミラーとレーザチップとの間により配置されうる。
本発明によれば、前記レーザチップは、ポンプビームにより励起されて所定の波長を有するレーザ光を発生させる多重量子ウェル構造の活性層と、前記活性層の下部に形成されたものであって、前記活性層で発生したレーザ光を前記第2ミラーに反射する分布ブラッグ反射器と、を備えることを特徴とする。
前記第2ミラーは、前記二次高調波発生結晶により周波数が変換されていないレーザ光に対して所定の透過率を有し、前記第1ミラーは、前記二次高調波発生結晶により周波数が変換されたレーザ光に対して所定の透過率を有することを特徴とする。
また、 前記第1ミラーは、凹ミラーであり、前記第2ミラーは、平面ミラーであることを特徴とする。
一方、本発明の他の実施例に係る外部共振器型面発光レーザは、所定の波長を有するレーザ光を発生させるレーザチップと、前記レーザチップ上に形成された第1エタロンフィルタ層と、前記第1エタロンフィルタ層上に形成され、前記第1エタロンフィルタ層の屈折率と異なる屈折率を有する第2エタロンフィルタ層と、前記レーザチップの前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて対向配置され、前記レーザチップで発生したレーザ光を前記レーザチップに反射して共振させるミラーと、前記レーザチップとミラーとの間の光路に配置されたものであって、前記レーザチップから放出されたレーザ光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、特定の波長のレーザ光のみを通過させる複屈折フィルタが前記二次高調波発生結晶とレーザチップとの間に配置されうる。
また、レーザ光を前記二次高調波発生結晶上にフォーカシングするレンズ素子が、前記複屈折フィルタと二次高調波発生結晶との間にさらに配置されうる。
本発明によれば、エタロンフィルタを利用することによって、複屈折フィルタ及び熱拡散素子の厚さを厚くせずとも、簡単な方法でレーザ光の半値幅を小さくすることができる。したがって、比較的に簡単で、かつ低コストで二次高調波発生結晶の波長変換効率を向上させることが可能である。その結果、出力が向上し、非常に狭いスペクトル幅を有する高性能高効率の外部共振器型面発光レーザを提供することができる。
以下、添付された図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
図3及び図4は、外部共振器型面発光レーザで出力レーザ光の半値幅を小さくするための本発明の望ましい実施例に係る例示的な構造を概略的に示している。図3及び図4には、第2ミラー及び二次高調波発生結晶などの図示が省略され、レーザチップを中心にした本発明の特徴部を示している。
まず、図3に示すように、本発明の望ましい実施例によれば、レーザチップ21上に第1エタロンフィルタ層23、コーティング層24及び第2エタロンフィルタ層25が順次に形成されている。
前記レーザチップ21は、図3に示すように、活性層21b及び分布ブラッグ反射器層21aを備える。前記活性層21bは、RPG(Resonant Periodic Gain)構造を有する多重量子ウェル構造であって、ポンプビームにより励起されて所定の波長を有する光を放出する。分布ブラッグ反射器層21aは、前記活性層21aから発生したレーザ光を外部のミラー(図示せず)に反射して、レーザ光を外部のミラーと分布ブラッグ反射器層21aとの間で共振させる高反射率のミラー層である。一般的に、前記活性層21bを構成する複数の量子ウェルは、分布ブラッグ反射器層21aと外部のミラーとの間で共振するレーザ光のうち、中心波長を有するレーザ光の正常波のアンチノードに位置する。
また、第1エタロンフィルタ層23及び第2エタロンフィルタ層25は、前記活性層21bで発生するレーザ光に対して透過性のある物質からなる。後述する通り、前記第1エタロンフィルタ層23及び第2エタロンフィルタ層25は、それぞれ前記活性層21bで発生して、分布ブラッグ反射器層21aと外部のミラーとの間で共振するレーザ光の半値幅を小さくする役割を有する。特に、前記第1エタロンフィルタ層23は、前記レーザチップ21で発生する熱を外部に放出できる熱拡散素子の機能を同時に有することが望ましい。したがって、前記第1エタロンフィルタ層23は、一般的な熱拡散素子と同じ材料、例えば、ダイアモンドや炭化ケイ素(SiC)またはAlのように、熱拡散能の大きな材料を使用できる。また、第2エタロンフィルタ層25は、前記第1エタロンフィルタ層23の屈折率と異なる屈折率を有する材料からなる。例えば、前記第2エタロンフィルタ層25として、GaAs、InP、SiC、ダイアモンド、Alなどを使用できる。
一方、前記コーティング層24は、前記第1エタロンフィルタ層23と第2エタロンフィルタ層25との界面での透過率を向上させるためのものである。このために、前記コーティング層24は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されうる。例えば、半導体物質を使用する場合には、GaAs層及びAlAs層を2〜3回交互に反復積層することによって、前記コーティング層24を形成できる。しかし、層数が多くなれば、むしろコーティング層24での反射率が高まるので、反復回数は2〜3回程度が適当である。このようなコーティング層24は、透過率の改善のために選択的に使用されうる。したがって、前記第1エタロンフィルタ層23上にコーティング層24を設けないで、第2エタロンフィルタ層25を直接形成してもよい。
以下、前述した構造でレーザ光の半値幅を小さくする原理を説明する。
一般的に、分布ブラッグ反射器層21aと外部のミラーとの間の共振器で共振するレーザ光は、たった一つの波長のみを有するのではなく、中心波長でピークを有するスペクトルからなる。また、このようなスペクトルは、連続的な波長からならず、共振条件を満たす複数の不連続的な波長からなる。しかし、共振器の長さが長くなる場合、このような不連続的な波長間の間隔が相対的に狭くなるため、スペクトルがほぼ連続的な波長からなるともいえる。この場合、レーザ光の半値幅は、中心波長の強度の1/2である強度を有する二つの波長間の幅になる。
本発明に係る第1エタロンフィルタ層23及び第2エタロンフィルタ層25は、前記複数の波長のうち、特定のモードの波長のみを分離するファブリー・ペローエタロンフィルタの役割を有する。さらに具体的に、活性層21bで発生して第1エタロンフィルタ層23の内部に入射したレーザ光は、前記第1エタロンフィルタ層23と第2エタロンフィルタ層25との界面で部分的に反射された後、さらに、前記第1エタロンフィルタ層23と活性層21bとの界面で部分的に反射される。その結果、第1エタロンフィルタ層23の上面と下面との間でレーザ光が反復的に反射されるので、前記第1エタロンフィルタ層23の内部で干渉が複合的に発生する。これにより、第1エタロンフィルタ層23の透過率が波長の変化によって周期的に変わる。すなわち、波長の整数倍が、第1エタロンフィルタ層23の上面と下面との間の光学的距離に該当するレーザ光のみが前記第1エタロンフィルタ層23の上面を通じて出射されうる。例えば、500μmの厚さのダイアモンドを第1エタロンフィルタ層23として使用する場合、FSR(Free Spectral Range)は、約0.8nmであり、半値幅は、約0.3nmになる。したがって、活性層21bで発生したレーザ光のうち、特定のモードの波長のみが第1エタロンフィルタ層23を通過し、この過程でレーザ光の半値幅が小さくなる。
前記第1エタロンフィルタ層23から出射されたレーザ光は、コーティング層24を透過して第2エタロンフィルタ層25に入射する。第2エタロンフィルタ層25の内部でも、前述した第1エタロンフィルタ層23と同じ現象が発生する。したがって、前記第1エタロンフィルタ層23を透過したレーザ光のうち、さらに特定のモードの波長のみが第2エタロンフィルタ層25を通過し、この過程でレーザ光の半値幅はさらに小さくなる。本発明の望ましい実施例で、第1エタロンフィルタ層23と第2エタロンフィルタ層25との界面で反射が起こるように、前記第1エタロンフィルタ層23の屈折率は、第2エタロンフィルタ層25の屈折率と異なる必要がある。
一方、図4は、本発明の他の実施例を示す。図4に示す本発明の他の実施例によれば、レーザチップ21上にコーティング層24、第1エタロンフィルタ層23及び第2エタロンフィルタ層25が順次に形成されている。すなわち、図3の実施例と比較するとき、コーティング層24の位置が、第1エタロンフィルタ層23と第2エタロンフィルタ層25との間から、レーザチップ21と第1エタロンフィルタ層23との間に変更されている。図4に示す実施例の場合、単にコーティング層24の位置のみが変わり、他の構成及び動作原理は図3の実施例と同じである。前述したように、コーティング層24は、単に透過率を改善するための目的のものであるので、省略してもよい。この場合、図3及び図4は、同じ実施例となる。
図5のグラフは、本発明に係る半値幅の縮小効果を確認するためのものであって、エタロンフィルタ層を透過するレーザ光の波長による透過率の変化を表している。まず、図5のグラフで、(1)で表示された曲線は、図1に示す従来の技術のように、レーザチップ上に熱拡散素子(すなわち、第1エタロンフィルタ層)のみがある場合である。また、図5のグラフで、(2)及び(3)で表示された曲線は、それぞれ図3及び図4に示す本発明の二つの実施例で測定した結果である。曲線(1)を通じて分かるように、レーザチップ上に一つの熱拡散素子のみがある場合、前記熱拡散素子を透過したレーザ光は、約0.19nmの比較的に大きな半値幅を有する。一方、本発明によれば、二つのエタロンフィルタ層を透過したレーザ光は、図3の場合に、約0.05nmの半値幅を有し、図4の場合に、約0.03nmの半値幅を有すると確認された。
前述したように、従来の技術の場合、第2ミラーを通じて外部に出力される赤外線領域のレーザ光の半値幅は、約0.26nmないし0.3nmの範囲にあった。一方、図5に示すように、熱拡散素子を透過したレーザ光の半値幅が0.19nm程度であるので、レーザ光の半値幅は、外部に出力される過程である程度大きくなるということが分かる。本発明によれば、二つのエタロンフィルタ層を透過したレーザ光の半値幅が約0.03nm、0.05nm程度であるので、レーザ光が出力される過程で、半値幅がある程度大きくなるということに鑑みても、レーザ光の半値幅は、二次高調波発生結晶の効率を向上させるために要求される狭い半値幅を満たしうるということが分かる。
図6及び図7は、図3及び図4に示す構造を利用して外部共振器型面発光レーザを完成した例である。
まず、図6に示すように、本発明の一実施例に係る外部共振器型面発光レーザ20は、分布ブラッグ反射器層21a及び活性層21bを備えるレーザチップ21、前記レーザチップ21上に形成されたコーティング層24、前記コーティング層24上に形成された第1エタロンフィルタ層23、前記第1エタロンフィルタ層23上に形成された第2エタロンフィルタ層25、前記レーザチップ21から離隔されて斜めに配置された第1ミラー32、前記第1ミラー32から反射されたレーザ光をさらに第1ミラー32に反射して、分布ブラッグ反射器層21aと共に共振器を形成する第2ミラー34、及び前記第1ミラー32と第2ミラー34との間の光路に配置された二次高調波発生結晶33を備える。また、前記レーザチップ21と第1ミラー32との間の光路には、複屈折フィルタ31がさらに配置されうる。望ましくは、前記第1ミラー32及び第2ミラー34は、波長によって異なる反射度及び透過度を有するようにコーティングされる。例えば、第1ミラー32は、二次高調波発生結晶33により波長変換されたレーザ光に対して若干の透過性を有する一方、波長変換されていないレーザ光に対して高反射度を有するようにコーティングされうる。また、第2ミラー34は、波長変換されたレーザ光に対して高反射度を有する一方、波長変換されていないレーザ光に対して若干の透過性を有するようにコーティングされうる。
図6に示す外部共振器型面発光レーザ20は、図4に示す構造を利用しているが、前述したように、前記コーティング層24の位置は変更できる。また、前記コーティング層24は、省略されてもよい。ポンプビームは、ポンプレーザ(図示せず)の位置によって、レーザチップ21の下面に入射してもよく、レーザチップ21の上面に入射してもよい。複屈折フィルタ31は、前記第2エタロンフィルタ層25を透過したレーザ光のうち、特定の波長のレーザ光のみを通過させて、前記特定の波長のレーザ光のみを共振に参与させる役割を有する。
複屈折フィルタ31を通過したレーザ光は、第1ミラー32により反射されて二次高調波発生結晶33を通過する。一般的に、二次高調波発生結晶33の変換効率は、入射光の強度が高いほど向上する。したがって、レーザ光が前記二次高調波発生結晶33にフォーカシングされるように、前記第1ミラー32の反射面は、凹面であることが望ましい。二次高調波発生結晶33により周波数が2倍の周波数に増加されたレーザ光、例えば、可視光線領域のレーザ光は、第2ミラー34により再び第1ミラー32に反射された後、前記第1ミラー32を通じて外部に出力される。したがって、第2ミラー34は、二次高調波発生結晶33により周波数が変換されたレーザ光に対して非常に高い反射度(例えば、約99.9%)を有する。また、第2ミラー34の反射面は、反射されたレーザ光が最初の経路に沿って戻れるように平面であることが望ましい。一方、第1ミラー32を経て前記第2ミラー34と分布ブラッグ反射器層21aとの間で共振するレーザ光のうち、前記二次高調波発生結晶33により周波数が変換されていない、例えば、赤外線領域のレーザ光は、第2ミラー34を通じて外部に出力することも可能である。
また、図7に示すように、本発明の他の実施例に係る外部共振器型面発光レーザ30は、分布ブラッグ反射器層21a及び活性層21bを備えるレーザチップ21、前記レーザチップ21上に形成されたコーティング層24、前記コーティング層24上に形成された第1エタロンフィルタ層23、前記第1エタロンフィルタ層23上に形成された第2エタロンフィルタ層25、前記レーザチップ21と対向するように一定距離をおいて配置された第2ミラー34、及び前記第2ミラー34とレーザチップ21との間の光路に配置された二次高調波発生結晶33を備える。ここで、前述したように、前記コーティング層24は、位置が変更されてもよく、または省略されてもよい。また、ポンプビームは、ポンプレーザ(図示せず)の位置によって、レーザチップ21の下面に入射してもよく、レーザチップ21の上面に入射してもよい。
図7に示すように、前記レーザチップ21と二次高調波発生結晶33との間の光路には、第2エタロンフィルタ層25を透過したレーザ光のうち、特定の波長のレーザ光のみを通過させる複屈折フィルタ31がさらに配置されうる。また、二次高調波発生結晶33の変換効率を向上させるために、レーザ光を前記二次高調波発生結晶33上にフォーカシングするレンズ素子37が、前記複屈折フィルタ31と二次高調波発生結晶33との間により配置されることが望ましい。例えば、前記レンズ素子37は、凸レンズでありうる。
したがって、図7に示す外部共振器型面発光レーザ30は、図6に示す第1ミラー32をレンズ素子37に替えたと見られる。図7の外部共振器型面発光レーザ30の場合、レーザ光は、第2ミラー34と分布ブラッグ反射器層21aとの間で反復的に反射されて共振を行う。第2ミラー34は、二次高調波発生結晶33により周波数が変換されたレーザ光に対して所定の透過率を有するので、周波数変換されたレーザ光の一部が、前記第2ミラー34を通じて外部に垂直に出力されうる。
本発明は、高出力外部共振器型面発光レーザの製造に利用されうる。
従来の外部共振器型面発光レーザの構造を概略的に示す図面である。 波長による二次高調波発生結晶の効率特性を示すグラフである。 本発明の一実施例に係るレーザチップ及びエタロンフィルタ層の構造を概略的に示す図面である。 本発明の他の実施例に係るレーザチップ及びエタロンフィルタ層の構造を概略的に示す図面である。 本発明によってレーザチップ上に二つのエタロンフィルタ層を使用する場合と、従来の技術によってレーザチップ上に熱拡散素子のみがある場合との透過率を比較して示すグラフである。 本発明の一実施例に係る外部共振器型面発光レーザの構造を概略的に示す図面である。 本発明の他の実施例に係る外部共振器型面発光レーザの構造を概略的に示す図面である。
符号の説明
13 熱拡散素子、
18、21 レーザチップ、
11、21a 分布ブラッグ反射器(DBR)層、
12、21b 活性層、
23 第1エタロンフィルタ層、
24 コーティング層、
25 第2エタロンフィルタ層、
10、20、30 外部共振器型面発光レーザ、
14、31 複屈折フィルタ、
15、32 第1ミラー、
16、33 二次高調波発生(SHG)結晶、
17、34 第2ミラー、
37 レンズ素子。

Claims (24)

  1. 所定の波長を有するレーザ光を発生させるレーザチップと、
    前記レーザチップ上に形成された第1エタロンフィルタ層と、
    前記第1エタロンフィルタ層上に形成され、前記第1エタロンフィルタ層の屈折率と異なる屈折率を有する第2エタロンフィルタ層と、
    前記レーザチップの前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて、かつ前記面に対し斜めに配置された第1ミラーと、
    前記第1ミラーから反射されたレーザ光を再び前記第1ミラーに反射させ、前記レーザチップと共に共振器を形成する第2ミラーと、
    前記第1ミラーと第2ミラーとの間の光路に配置されたものであって、前記レーザチップから放出されたレーザ光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶と、を備えることを特徴とする外部共振器型面発光レーザ。
  2. 前記第1エタロンフィルタ層及び第2エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生したレーザ光に対して透過性のあることを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  3. 前記第1エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生する熱を外部に放出できる熱拡散素子であることを特徴とする請求項2に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  4. 前記第1エタロンフィルタ層は、ダイアモンド、Al及びSiCを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第2エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項3に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  5. 前記第2エタロンフィルタ層は、GaAs、InP、SiC、ダイアモンド、Alを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第1エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項2に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  6. 前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との間に介在されるコーティング層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  7. 前記コーティング層は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されたことを特徴とする請求項6に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  8. 前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との間に介在されるコーティング層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  9. 前記コーティング層は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されたことを特徴とする請求項8に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  10. 前記第1ミラーとレーザチップとの間に配置されたものであって、特定の波長のレーザ光のみを通過させる複屈折フィルタをさらに備えることを特徴とする請求項1ないし請求項9のうちいずれか1項に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  11. 前記第2ミラーは、前記二次高調波発生結晶により周波数が変換されていないレーザ光に対して所定の透過率を有し、前記第1ミラーは、前記二次高調波発生結晶により周波数が変換されたレーザ光に対して所定の透過率を有することを特徴とする請求項1ないし請求項9のうちいずれか1項に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  12. 前記第1ミラーは、凹ミラーであり、前記第2ミラーは、平面ミラーであることを特徴とする請求項11に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  13. 所定の波長を有するレーザ光を発生させるレーザチップと、
    前記レーザチップ上に形成された第1エタロンフィルタ層と、
    前記第1エタロンフィルタ層上に形成され、前記第1エタロンフィルタ層の屈折率と異なる屈折率を有する第2エタロンフィルタ層と、
    前記レーザチップの前記第1エタロンフィルタが形成された面から一定距離をおいて対向配置され、前記レーザチップで発生したレーザ光を前記レーザチップに反射して共振させるミラーと、
    前記レーザチップとミラーとの間の光路に配置されたものであって、前記レーザチップから放出されたレーザ光の周波数を2倍の周波数に変換する二次高調波発生結晶と、を備えることを特徴とする外部共振器型面発光レーザ。
  14. 前記第1エタロンフィルタ層及び第2エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生したレーザ光に対して透過性のあることを特徴とする請求項13に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  15. 前記第1エタロンフィルタ層は、前記レーザチップで発生する熱を外部に放出できる熱拡散素子であることを特徴とする請求項14に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  16. 前記第1エタロンフィルタ層は、ダイアモンド、Al及びSiCを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第2エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項15に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  17. 前記第2エタロンフィルタ層は、GaAs、InP、SiC、ダイアモンド、Alを含む群から選択された少なくとも一つの材料であって、前記第1エタロンフィルタ層と異なる屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項14に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  18. 前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記レーザチップと第1エタロンフィルタ層との間に介在されるコーティング層をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  19. 前記コーティング層は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されたことを特徴とする請求項18に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  20. 前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との界面での透過率を向上させるために、前記第1エタロンフィルタ層と第2エタロンフィルタ層との間に介在されるコーティング層をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  21. 前記コーティング層は、相異なる屈折率を有する二つの半導体物質または誘電体物質を交互に反復積層することによって形成されたことを特徴とする請求項20に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  22. 前記二次高調波発生結晶とレーザチップとの間に配置されたものであって、特定の波長のレーザ光のみを通過させる複屈折フィルタをさらに備えることを特徴とする請求項13ないし請求項21のうちいずれか1項に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  23. 前記複屈折フィルタと二次高調波発生結晶との間に配置されたものであって、レーザ光を前記二次高調波発生結晶上にフォーカシングするレンズ素子をさらに備えることを特徴とする請求項22に記載の外部共振器型面発光レーザ。
  24. 前記レーザチップは、ポンプビームにより励起されて、所定の波長を有するレーザ光を発生させる多重量子ウェル構造の活性層と、前記活性層の前記ミラーと対向する面と反対側の面に形成されたものであって、前記活性層で発生したレーザ光を前記ミラーに反射する分布ブラッグ反射層と、を備えることを特徴とする請求項13ないし請求項21のうちいずれか1項に記載の外部共振器型面発光レーザ。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007103943A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh 表面発光半導体レーザ素子、及び、同表面発光半導体レーザ素子を備えた光学投影装置

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0328007D0 (en) * 2003-12-04 2004-01-07 Univ Strathclyde Improved vertical external cavity surface emitting laser
US20080013586A1 (en) * 2005-09-06 2008-01-17 Spence David E Narrow band diode pumping of laser gain materials
KR20070052059A (ko) * 2005-11-16 2007-05-21 삼성전자주식회사 펌프 빔의 재활용이 가능한 외부 공진기형 면발광 레이저
KR101100432B1 (ko) * 2005-12-23 2011-12-30 삼성전자주식회사 고효율 2차 조화파 생성 수직 외부 공진기형 면발광 레이저시스템
KR20070076251A (ko) * 2006-01-18 2007-07-24 삼성전자주식회사 외부 공진기형 면발광 레이저
DE102008036254A1 (de) * 2008-08-04 2010-02-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterlaser
US10038304B2 (en) 2009-02-17 2018-07-31 Trilumina Corp. Laser arrays for variable optical properties
US8995493B2 (en) 2009-02-17 2015-03-31 Trilumina Corp. Microlenses for multibeam arrays of optoelectronic devices for high frequency operation
US20130223846A1 (en) 2009-02-17 2013-08-29 Trilumina Corporation High speed free-space optical communications
US10244181B2 (en) 2009-02-17 2019-03-26 Trilumina Corp. Compact multi-zone infrared laser illuminator
US8995485B2 (en) 2009-02-17 2015-03-31 Trilumina Corp. High brightness pulsed VCSEL sources
US8979338B2 (en) 2009-12-19 2015-03-17 Trilumina Corp. System for combining laser array outputs into a single beam carrying digital data
CN102959811B (zh) * 2009-12-19 2016-06-29 三流明公司 用于组合用于数字输出的激光器阵列的系统和方法
US8611383B2 (en) * 2011-04-25 2013-12-17 Coherent, Inc. Optically-pumped surface-emitting semiconductor laser with heat-spreading compound mirror-structure
US11095365B2 (en) 2011-08-26 2021-08-17 Lumentum Operations Llc Wide-angle illuminator module
US8866149B2 (en) 2012-02-17 2014-10-21 The Regents Of The University Of California Method for the reuse of gallium nitride epitaxial substrates
US9124062B2 (en) 2012-03-22 2015-09-01 Palo Alto Research Center Incorporated Optically pumped surface emitting lasers incorporating high reflectivity/bandwidth limited reflector
US9112331B2 (en) * 2012-03-22 2015-08-18 Palo Alto Research Center Incorporated Surface emitting laser incorporating third reflector
US9112332B2 (en) 2012-06-14 2015-08-18 Palo Alto Research Center Incorporated Electron beam pumped vertical cavity surface emitting laser
WO2014015337A2 (en) * 2012-07-20 2014-01-23 The Regents Of The University Of California Structure and method for the fabrication of a gallium nitride vertical cavity surface emitting laser
WO2014120371A2 (en) * 2012-12-26 2014-08-07 Newport Corporation Diamond-based supercontinuum generation system
JP2016503196A (ja) * 2013-01-14 2016-02-01 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 色覚異常者の色識別性を向上させるためのフィルター
KR20160023838A (ko) 2013-06-24 2016-03-03 테크놀로지 이노베이션 모멘텀 펀드 (이스라엘) 리미티드 파트너쉽 컬러 이미지 취득을 위한 시스템 및 방법
EP2947729A1 (en) * 2014-05-21 2015-11-25 Universite De Montpellier Vertical external cavity surface emitting laser devices allowing high coherence, high power and large tunability
KR20180054572A (ko) 2015-07-15 2018-05-24 테크놀로지 이노베이션 모멘텀 펀드 (이스라엘) 리미티드 파트너쉽 튜너블 멤스 에탈론
WO2024121825A1 (en) * 2022-12-10 2024-06-13 Pavilion Integration Corporation Low noise non-resonant gain structure semiconductor lasers
CN117578187A (zh) * 2023-12-12 2024-02-20 重庆师范大学 一种基于宽带增益谱的可见光单频激光器

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6452669B1 (en) * 1998-08-31 2002-09-17 Digital Optics Corp. Transmission detection for vertical cavity surface emitting laser power monitor and system
US5991318A (en) 1998-10-26 1999-11-23 Coherent, Inc. Intracavity frequency-converted optically-pumped semiconductor laser
US6097742A (en) * 1999-03-05 2000-08-01 Coherent, Inc. High-power external-cavity optically-pumped semiconductor lasers
US6735234B1 (en) * 2000-02-11 2004-05-11 Giga Tera Ag Passively mode-locked optically pumped semiconductor external-cavity surface-emitting laser
DE10147888A1 (de) * 2001-09-28 2003-04-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optisch gepumpter vertikal emittierender Halbleiterlaser
KR20070052059A (ko) 2005-11-16 2007-05-21 삼성전자주식회사 펌프 빔의 재활용이 가능한 외부 공진기형 면발광 레이저
KR20070076251A (ko) 2006-01-18 2007-07-24 삼성전자주식회사 외부 공진기형 면발광 레이저

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007103943A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh 表面発光半導体レーザ素子、及び、同表面発光半導体レーザ素子を備えた光学投影装置

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