JP2007142095A - Manufacturing method for semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は半導体装置の製造に関する技術で、特に空芯コイルの部品供給に用いられるバルクフィーダに適用して有効な技術である。 The present invention relates to a technique for manufacturing a semiconductor device, and is particularly effective when applied to a bulk feeder used for supplying air core coil components.
以下に説明する技術は、本発明を研究、完成するに際し、本発明者によって検討されたものであり、その概要は次のとおりである。 The technology described below has been studied by the present inventors in researching and completing the present invention, and the outline thereof is as follows.
携帯電話等の増幅部に用いられる高周波モジュールでは、回路インピーダンスの調整のため、インダクタが設けられている。かかるインダクタの内でも、特に空芯コイルの使用がその高性能化と共に低価格化の面で優れている。 In a high frequency module used in an amplifying unit such as a mobile phone, an inductor is provided for adjusting circuit impedance. Among such inductors, the use of an air-core coil is particularly excellent in terms of high performance and low cost.
かかる空芯コイルについては、例えば、特許文献1にその開示がある。また、特許文献2には、空芯コイルを用いた半導体装置、その製造方法及び、バルクフィーダに構成された空芯コイルの供給装置等についての開示がある。
本発明者は、空芯コイルの供給に使用する装置で、以下の課題があることを見出した。 The present inventor has found that the apparatus used for supplying the air-core coil has the following problems.
すなわち、空芯コイルの供給に際しては、バルクフィーダと呼ばれる装置を使用し、多数の空芯コイルを整列させて、1個ずつコレットで吸着して部品供給を行っている。 That is, when supplying the air-core coil, a device called a bulk feeder is used, a large number of air-core coils are aligned, and parts are supplied by being attracted by a collet one by one.
しかし、突然に、コレットによる空芯コイルの吸着が全く行われなくなる現象が発生した。あるいは、バルクフィーダでは複数の空芯コイルがコレットにより吸着されるべく吸着室に順番に供給されるが、かかる空芯コイルの吸着室への供給が突然できなくなる現象が発生した。そのためバルクフィーダの停止が相次ぎ、作業効率の低下が問題となった。 However, there suddenly occurred a phenomenon in which the air-core coil was not attracted at all by the collet. Alternatively, in the bulk feeder, a plurality of air-core coils are sequentially supplied to the suction chamber to be sucked by the collet, but a phenomenon has occurred in which supply of the air-core coils to the suction chamber cannot be suddenly performed. As a result, the bulk feeder stopped one after another, causing a reduction in work efficiency.
かかる原因を調査した結果、コレットがバルクフィーダの吸着室の壁に当たり、壁が変形することで、上記の如き吸着不全、あるいは供給不全が発生することを見いだした。吸着室の壁は金属製あるいは合成樹脂製で、一方コレットはダイヤモンド製で、硬さが格段に違う。そのため、コレットが吸着室の壁に当たることにより、当たった箇所が変形して、上記の如き吸着不全、あるいは供給不全が発生することが確認された。 As a result of investigating the cause, it was found that the collet hits the wall of the adsorption chamber of the bulk feeder and the wall is deformed to cause the above-mentioned adsorption failure or supply failure. The walls of the adsorption chamber are made of metal or synthetic resin, while the collet is made of diamond and has a very different hardness. For this reason, it was confirmed that when the collet hits the wall of the adsorption chamber, the hit location is deformed and the above-mentioned adsorption failure or supply failure occurs.
本発明の目的は、バルクフィーダ等の部品供給装置において、供給部品の吸着が確実に行えるように、部品供給装置側を適切に対応させることにある。 An object of the present invention is to appropriately correspond the component supply device side so that supply components can be reliably sucked in a component supply device such as a bulk feeder.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。 Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
すなわち、部品供給装置の提供した部品を吸着用装置で吸着するに際して、吸着用装置の出入りを行う出入り口の開口部を、吸着部品の待機場所より広く形成した。 That is, when the component provided by the component supply device is adsorbed by the adsorbing device, the opening of the entrance / exit through which the adsorbing device enters / exits is formed wider than the standby area of the adsorbing component.
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。 Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.
本発明では、バルクフィーダ等の部品供給装置において、吸着室で待機する部品の吸着用装置が出入りする出入り口を、吸着部品の待機場所より広くすることで、吸着用部品の吸着室への衝突をなくした。このように構成することで、吸着室の変形による吸着不全、部品の供給不全を解消することができる。 In the present invention, in a component supply device such as a bulk feeder, the entrance / exit of the suction device for the component waiting in the suction chamber is made wider than the standby location for the suction component, so that the suction component collides with the suction chamber. Lost. By comprising in this way, the adsorption failure by the deformation | transformation of an adsorption | suction chamber and the supply failure of components can be eliminated.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiment, and the repetitive description thereof may be omitted.
本発明は、直接には、バルクフィーダで空芯コイルを供給するに際し、コレットによる吸着時の不都合を解消したものである。しかし、以下に説明する本発明は、かかるバルクフィーダと空芯コイル、コレットとの組み合わせだけに限定する必要はなく、部品吸着時の状況が同様の構成を有する部品供給装置、吸着部品、吸着用装置に当然に適用することができるものである。 In the present invention, when supplying an air-core coil with a bulk feeder, the disadvantage at the time of adsorption by a collet is solved. However, the present invention described below is not limited to the combination of the bulk feeder, the air-core coil, and the collet. The component supply device, the suction component, and the suction component having the same configuration at the time of component suction Of course, it can be applied to the device.
(実施の形態1)
図1は、本発明の半導体装置の製造方法により製造される半導体装置の全体構成を模式的に示す断面図である。図2(a)、(b)、(c)は、本発明で使用される部品の一例としての空芯コイルを模式的に示す側面図、断面図、正面図である。図3は、本発明の半導体装置の製造方法で使用する半導体製造装置としてのバルクフィーダの全体構成を模式的に示す説明図である。図4(a)、(b)は、バルクフィーダのバルク供給部の様子を模式的に示す部分断面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the entire configuration of a semiconductor device manufactured by the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention. 2A, 2B, and 2C are a side view, a cross-sectional view, and a front view schematically showing an air-core coil as an example of a component used in the present invention. FIG. 3 is an explanatory view schematically showing the overall configuration of a bulk feeder as a semiconductor manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention. 4A and 4B are partial cross-sectional views schematically showing the state of the bulk supply unit of the bulk feeder.
本発明に係る半導体装置10は、図1に示すように、RF(Radio Frequency)モジュール10a等に構成されている。かかる半導体装置10は、次のようにして製造される。
As shown in FIG. 1, a
例えば、図1に示すように、複数枚の絶縁体板(本実施の形態では、5枚のセラミック基板11a〜11eを例示して説明する)を用意し、かかるセラミック基板11a〜11eに複数個のビア12を形成する。このビア12の内部に導電性材料、例えば銅(Cu)または銀を充填する。
For example, as shown in FIG. 1, a plurality of insulator plates (in this embodiment, five ceramic substrates 11a to 11e will be described as an example) are prepared, and a plurality of such ceramic substrates 11a to 11e are prepared. The
次に、各々のセラミック基板11a〜11eの表面に導電性材料、例えば銅または銀からなる表面導体パターンを印刷する。その後、これら5枚のセラミック基板11a〜11eを順次積層し、例えば800〜900℃程度の温度で焼成することにより、図1に示すように、積層基板11を形成する。
Next, a surface conductor pattern made of a conductive material such as copper or silver is printed on the surface of each of the ceramic substrates 11a to 11e. Thereafter, these five ceramic substrates 11a to 11e are sequentially laminated and fired at a temperature of, for example, about 800 to 900 ° C., thereby forming the laminated
このようにして形成された積層基板11を洗浄した後、積層基板11の裏面に導電性材料、例えば銅または銀からなる導体ペーストを印刷する。続いて、例えば150℃以下の温度で導体ペーストを焼き固めることにより、積層基板11の裏面に裏面導体パターンを形成する。
After cleaning the
さらに、図1に示すように、積層基板11の部品搭載面に、能動素子が形成された半導
体チップ13および受動素子が形成されたチップ部品14等の表面実装部品を搭載する。その後、これら表面実装部品を絶縁性の樹脂15によって覆うことにより、RFモジュール10aが完成する。尚、半導体チップ13、チップ部品14は、半田16を介して搭載されている。
Further, as shown in FIG. 1, surface-mounted components such as a
半導体チップ13は、例えば、Si−MOSFET等の電界効果トランジスタ13aに形成されている。半導体チップ13の主面に形成された複数のパッド(ボンディングパッド、電極等とも言う)と、これに対応する積層基板11の部品搭載面に形成された表面導体パターンとは、接合材により接続されている。ここでは、接合材には、例えば金(Au)線17aからなるワイヤボンディング17が用いられている。
The
チップ部品14は、例えばコンデンサ14a、チップコイル14b、レジスタ14c、空芯コイル14d等の受動素子に構成されている。チップ部品14の両端に形成された接続端子が、半田16を介して、積層基板11の部品搭載面に形成された表面導体パターンに接続されている。
The
ここで空芯コイル14dは、例えば、図2(a)に示すように、線材が螺旋状に複数回巻かれて、絶縁部分21とその両側に非絶縁部分22が形成された構成になっている。絶縁部分21は、図2(b)に示すように、芯線23が絶縁膜24に被覆されており、非絶縁部分22は芯線23が絶縁膜24により被覆されていない構成となっている。かかる構成を、図2(c)では、正面からみた様子を示した。
Here, for example, as shown in FIG. 2A, the air-
このように構成された空芯コイル14dは、絶縁部分21がインダクタンス部分として使用され、その両端側に設けられた非絶縁部分22が電極部分として用いられるようになっている。芯線23としては、例えば、銅(Cu)線あるいはCu系の合金材からなる導線に構成されている。絶縁膜24としては、例えば、耐熱性、絶縁性に優れたポリエステル材からなる樹脂製に形成されている。
In the air-
かかる構成の空芯コイル14dは、コンデンサ14a等に比べて背が高い部品なので、部品取付け時には、コンデンサ14a等の背の低い部品が取付けられた後で取付けられることとなる。
Since the air-
空芯コイル14dの取付けに際しては、図3に示すような部品供給装置としてのバルクフィーダ30aに構成した半導体製造装置30を用いて行われる。
The
かかるバルクフィーダ30aは、例えば空芯コイル14d等の円筒状部材等の筒状部材に構成されたバルクを収納するバルク収納ケース31を有している。さらに、バルク収納ケース31の下部には、それに接続されたホッパー32、ホッパー32に接続され先端のバルク供給部33まで空芯コイル14dを案内する搬送レール34とを有している。
The
バルク収納ケース31は、底面側が中央に向けて裾絞まりの薄い箱型構造に形成され、収納された多数の空芯コイル14dは、底面側中央に集められる。底面側中央に集められた空芯コイル14dは、空芯コイル14d1個分の縦方向分の通過断面積をほぼ有する筒状に構成されたホッパー32に通され、縦に整列された状態で搬送レール34を経由してバルク供給部33まで送られる。
The
ここで、空芯コイル14dの縦方向とは、図2(a)に示すように、芯線23を螺旋状に巻き回した方向に沿う方向である。
Here, the longitudinal direction of the air-
かかる空芯コイル14dの搬送に際しては、図示はしないが、バルク供給部33側からの真空吸引の制御により、その搬送が行われることとなる。
When the air-
バルク供給部33まで搬送された空芯コイル14dは、1個ずつ、コレット40a等に構成された吸着用装置40により吸着され、図3に示すように、例えば、前記説明のRFモジュール10aを構成する積層基板11上に移載され、その後リフローにより半田接続されて固定される。
The air-
搬送レール34は、より詳細には、図4(a)に示すように、搬送レール本体34b中に、例えば空芯コイル14dが縦列して通過できるようなガイド孔34aを形成することにより構成されている。かかるガイド孔34aが、バルク供給部33に至っている。このようにして、ガイド孔34a内を縦方向に整列された空芯コイル14dが、バルク供給部33に向けて複数個繋がるようにして連続的に供給されるようになっている。
More specifically, as shown in FIG. 4A, the
搬送レール本体34bでは、図4(a)に示すように、バルク供給部33側で凹部35が形成されている。そのため、ガイド孔34aは、搬送レール本体34b内をバルク供給部33まで至り、かかる凹部35部分で終了している。
In the
かかる凹部35内には摺動子36が組み込まれ、搬送レール34のレール方向に沿って前後移動可能に設けられている。摺動子36の左端側上方のガイド孔34aに当接する側には、空芯コイル14dが1個分落とし込める凹部に形成された吸着室37が設けられている。吸着室37に落とし込まれた空芯コイル14dの先端部分は、摺動子36に設けたストッパ部38で当接されるようになっている。
A
一方、ガイド孔34aは、バルク供給部33の凹部35に至る少し手前で上面が開放されている。その開放された上面部分は、搬送レール34のレール方向に沿って前後に移動するシャッター51で、開閉自在に覆われている。かかるシャッター51は、図4(a)に示すように、枠構造に構成された摺動子36との間にバネ52を介して設けられ、バネ52の付勢によりシャッター51が上記ガイド孔34aの上面開放部分を覆うことができるように構成されている。
On the other hand, the upper surface of the
かかる構成のバルク供給部33では、図4(b)に示すように、摺動子36、シャッター51が紙面右方向に移動することで、1個分の空芯コイル14dが落とし込まれた吸着室37の上方が開放される。かかる開放状態に合わせて、コレット40aで吸着室37にある空芯コイル14dを上方より吸着して、RFモジュール10aを構成する積層基板11上に空芯コイル14dを移載することができるようになっている。
In the
このようにバルクフィーダ30aにより提供された空芯コイル14dは、コレット40aにより吸着、移載されるが、かかる空芯コイル14dはバルクフィーダ30a内では、真空吸引機構に基づきその移動が行われる。
Thus, the air-
前記ストッパ部38の下方には、図4(a)に示すように、真空吸引通路60aが設けられ、摺動子36とシャッター51との間には真空吸引通路60bが設けられている。さらに、摺動子36、シャッター51、搬送レール本体34bには、それぞれ孔が設けられ、真空吸引通路60c、60d、60eに構成されている。この内、真空吸引通路60eが、図示はしない真空吸引機構とパイプ接続されている。
As shown in FIG. 4A, a
さらに、搬送レール本体34bの凹部35には、凹部35内を転動する球体61が設けられている。また、シャッター51には、球体61と接触可能な球体制御面62が構成されている。
Furthermore, a
図4(a)に示すように、摺動子36、シャッター51が左端のガイド孔34a側に寄った状態では、球体61がシャッター51に設けられた球体制御面62により左側に押されることとなる。球体61は、それまで塞いでいた真空吸引通路60dの孔を外れる。その結果、真空吸引機構に接続された真空吸引通路60eに連通する真空吸引通路60dは真空吸引状態になる。併せて、真空吸引通路60dは、真空吸引通路60c、60bを経て、真空吸引通路60aに連通され、空芯コイル14dが真空吸引されることになる。
As shown in FIG. 4A, when the
その後、摺動子36、シャッター51が、例えば図4(b)に示すように、紙面右方向に移動すると、シャッター51に設けられた球体制御面62も右側に移動する。それに合わせて、真空吸引力により球体61が真空吸引通路60d側に移動させられ、真空吸引通路60dを塞ぐこととなる。このようにして、空芯コイル14dに対する真空吸引作用は停止され、真空吸引作用が停止している間に、コレット40aで吸着され、移載されることとなる。
Thereafter, when the
かかるコレット40aによる空芯コイル14dの吸着に際しては、吸着室37のコレット40aの出入り口に当たる開口部は、これまでの場合よりも広く構成されている。図5(a)には、バルク供給部33の部分を拡大して示した。図5(b)は、バルク供給部33を模式的に示した平断面図であり、点線部分が吸着室37を示している。かかる吸着室37をX−X線で切断した様子を、図5(c)に模式的に示した。
When the
図5(c)に示すように、吸着室37では、コレット40aによる吸着動作が行われるまで、空芯コイル14dはその位置で待機していることとなる。すなわち、吸着室37は、空芯コイル14dがコレット40aにより吸着されるまでの待機場所として使用されていることとなる。
As shown in FIG. 5C, in the
尚、図に示すコレット40aでは、その吸着部が吸着させる空芯コイル14dに合わせて円弧状に形成されている。しかし、本発明はかかるコレット40aの吸着部の形状には関係がなく、円弧に形成されていなくても一向に構わない。
Incidentally, the
吸着室37は、空芯コイル14dのコレット40aによる吸着が行えるように、上方側が開口されている。かかる上方の開口部は、前記説明のように、シャッター51が左に移動したときには閉じられることとなるが、摺動子36、シャッター51が右方向に移動した際には開かれることとなる。
The
コレット40aは、空芯コイル14dを吸着する際には、吸着室37の上方が開口されるのに符合して、空芯コイル14dの上方に至ると共にある程度下降する。下降した状態で真空引きにより、空芯コイル14dを吸着する。
When the
かかる吸着動作に際して、コレット40aは、その駆動元のロータリヘッドの停止精度に合わせて停止位置にある程度の誤差を生ずる。また、バルクフィーダの取付け精度も、ある範囲で振れている。かかるロータリヘッドの停止精度とバルクフィーダの取付け精度との兼ね合いで、コレット40aの空芯コイル14dの吸着動作がある範囲で振れることとなり、場合によっては、吸着室37と接触することとなる。
During this suction operation, the
そこで、コレット40aが空芯コイル14dの吸着のために出入りする場所を、図5(c)に示すように、空芯コイル14dの待機場所より広げることで、コレット40aの吸着動作に際しての振れによる衝突を防ぐようにした。吸着室37の側壁37aの底面39側に対しての立ち上げ角度を、例えば90度より大きくすることで、これまでの構成の立ち上げ角度90度の場合(波線で表示)より、出入り口41の開口部を広くすることができる。
Therefore, by expanding the place where the
そのため、コレット40aのダイヤモンド製のノズルは、吸着室37を構成するアルミニウム製等の金属部分、あるいは樹脂部分の側壁37aに衝突することがなくなり、その部分の衝突による変形に起因する吸着不全、あるいは供給不全が解消された。因みに、樹脂製の側壁37aはカバーに構成されている。
Therefore, the diamond nozzle of the
図6(a)に拡大して示すように、側壁37aの吸着室37の底面39側に対する立ち上げ角度は、原則的には90度より大きく、180度未満であればよいが、実際的には、100度以上、115度以下であればよい。かかる範囲の立ち上げ角度を有していれば、バルクフィーダ取付け精度と、ロータリヘッドの停止精度を考慮したコレット40aの吸着動作時の振れに纏わるクリアランスを十分に持たせることができ、コレット40aと吸着室37の側壁37aとの衝突を回避することができる。
As shown in an enlarged view in FIG. 6A, the rising angle of the
これまでは、図6(b)に拡大して示すように、吸着室37の側壁37aの立ち上がり角度は90度、すなわち垂直に構成されていたため、バルクフィーダ取付け精度と、ロータリヘッドの停止精度を考慮したクリアランスを十分に持たせることができなかった。
Up to now, as shown in an enlarged view in FIG. 6 (b), the rising angle of the
そのため、例えば、図7に模式的に示すように、側壁37aの金属側にコレット40aが衝突して、空芯コイル14dを吸着することができない障害が発生した。あるいは、コレット40aが、樹脂製の側壁37aに衝突して、コレット40aで吸着した空芯コイル14dを、吸着室37から無事に吸着した状態で搬出することができない障害が発生した。
Therefore, for example, as schematically shown in FIG. 7, the
かかる吸着ミスについては、図8に側方から見た様子を断面図として模式的に示した。あるいは、後続の空芯コイル14dを、新たに吸着室37に供給することができない障害が発生した。かかる吸着室37への空芯コイル14dの供給不全については、図9に模式的に示した。
About this adsorption | suction mistake, the mode seen from the side was typically shown as sectional drawing in FIG. Or the failure which cannot supply the succeeding air-
しかし、コレット40aの出入り口41を、コレット40aの停止精度等を考慮して上記の如く広く形成しておくことで、出入り口41の変更後は、図10(a)、(b)に示すように、コレット40aと側壁37aとの衝突が起きない。そのため、吸着ミス(吸着不全)や供給不全を誘うような変形が発生せず、かかる不全が解消した。
However, by forming the entrance /
実際にかかる出入り口41の開口部を広く形成する変更を行うことで、吸着に関連したミスがどの程度低減したかを調べた。その結果を、図11に示した。吸着ミス等を含めた吸着に関する総ミスの全体が、変更前は0.64%あったものが、変更後には0.48%に低減した。0.16%の減少に相当する。
It was examined how much mistakes related to adsorption were reduced by actually changing the opening of the entrance /
一方、吸着ミスに関しては、変更前の0.48%から、変更後の0.32%に低減した。0.16%の低減効果である。両結果を比較すると、吸着ミスの低減効果が、そのまま総ミスの低減効果に現れていることがわかる。吸着ミスの割合が、総ミスに占める割合は無視できないくらいに大きな影響を及ぼしているが、その吸着ミスを低減させるためのコレット40aの出入り口41を広げる対策が、簡単な構成でありながら、極めて有効であることが確認できた。
On the other hand, the adsorption error was reduced from 0.48% before the change to 0.32% after the change. The reduction effect is 0.16%. When both results are compared, it can be seen that the effect of reducing adsorption mistakes is directly reflected in the effect of reducing total errors. Although the ratio of adsorption mistakes has such a great influence that the ratio of total mistakes cannot be ignored, the countermeasure for widening the entrance /
(実施の形態2)
本実施の形態では、前記実施の形態1で述べた本発明に関しての変形例について説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a modified example related to the present invention described in Embodiment 1 will be described.
前記実施の形態1では、コレット40aと吸着室37との衝突により側壁37a部分に変形が生じ、かかる変形が原因でコレット40aによる吸着不全、あるいは空芯コイル14dの供給不全が生じていた。そのため、図6(a)に示すように、吸着室37の上方に位置するコレット40aの出入り口41に相当する部分を広くする対策を施した。要は、コレット40aが空芯コイル14dの吸着に際して、吸着室37に出入りする際に、コレット40aと吸着室37とが接触しないように構成されていればよかった。
In the first embodiment, the
そこで、コレット40aと吸着室37とが接触しないようにする構成としては、前記実施の形態1で説明した場合以外にも、図12(a)に示す構成でも構わない。すなわち、図12(a)に示す構成では、コレット40aが吸着室37内に出入りする範囲で、出入り口41の開口部を広げるように構成したものである。
Therefore, as a configuration for preventing the
空芯コイル14dが載置される箇所は、これまで通りの吸着室37の大きさで側壁37aを立ち上げ、コレット40aの出入りが関与する辺りの空芯コイル14dの途中から段部42を形成して上方間口を大きく形成した。所謂、逆凸型に開口させた場合である。
At the place where the
図12(b)に示す構成では、前記図12(a)に示す段部42の構成を、円弧面に形成したものである。所謂、逆フラスコ型に開口させた場合である。図12(c)に示す構成は、前記実施の形態1で説明した側壁37aの形状を、円弧状に変形したもので、所謂逆半円形に構成した場合である。
In the configuration shown in FIG. 12B, the configuration of the stepped
実際的には、前記実施の形態1で示した形状が加工しやすさの点では好ましいが、本実施の形態2で述べたような構成でも、前記実施の形態1で述べたと構成と同様の効果を有する。 Actually, the shape shown in the first embodiment is preferable in terms of ease of processing, but the configuration described in the second embodiment is the same as the configuration described in the first embodiment. Has an effect.
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.
前記実施の形態の説明では、例えば、本発明を半導体装置の製造方法で把握した場合について説明したが、本発明は、バルクフィーダ等の半導体製造装置として把握することもできる。さらに、本発明は、かかる半導体製造装置、あるいは半導体装置の製造方法により製造された半導体装置として把握することも可能である。 In the description of the above embodiment, for example, the case where the present invention is grasped by the semiconductor device manufacturing method has been described, but the present invention can also be grasped as a semiconductor manufacturing apparatus such as a bulk feeder. Furthermore, the present invention can also be understood as a semiconductor device manufactured by such a semiconductor manufacturing apparatus or a semiconductor device manufacturing method.
前記実施の形態では、少なくともコレットの長さにほぼ相当する分は、出入り口を広く形成したが、吸着する部品によってはコレットの長さが部品長さの一部だけでよい場合もある。しかし、かかる場合でも、コレットのほぼ長さ分は、出入り口を広く形成しておくことが必要である。 In the above-described embodiment, the entrance / exit is formed wide enough to correspond to at least the length of the collet. However, depending on the part to be adsorbed, the collet may be only a part of the part length. However, even in such a case, it is necessary to form a wide entrance for the length of the collet.
前記実施の形態では、部品供給装置としてバルクフィーダに構成した場合を例に挙げて説明したが、本発明は、バルクフィーダと同様の部品待機機能を有する吸着室状の箇所が設けられ、かかる箇所にコレット等の吸着用装置が出入りする構成を有するものであれば、当然に適用することができる。 In the above-described embodiment, the case where the part feeder is configured as a bulk feeder has been described as an example. However, the present invention is provided with a suction chamber-like part having a part standby function similar to that of the bulk feeder, and the part. Of course, the present invention can be applied to any device having a structure in which an adsorbing device such as a collet enters and exits.
前記実施の形態では、部品供給装置から供給される部品として空芯コイルを例に挙げて説明したが、空芯コイル以外の他の部品でも構わない。例えば、空芯コイルとは異なった円筒状部品でも、さらには非円筒状部品であっても構わない。要は、コレット等の吸着用装置による吸着時に、吸着室と吸着用装置の衝突が防げるように、出入り口が広く構成されていればよい。 In the above embodiment, the air core coil has been described as an example of the component supplied from the component supply device, but other components other than the air core coil may be used. For example, a cylindrical part different from the air-core coil or a non-cylindrical part may be used. In short, it is only necessary that the entrance / exit is wide so that collision between the adsorption chamber and the adsorption device can be prevented during adsorption by an adsorption device such as a collet.
本発明は半導体装置の製造分野で、特にバルクフィーダを用いて部品供給する分野で有効に利用することができる。 The present invention can be effectively used in the field of manufacturing semiconductor devices, particularly in the field of supplying parts using a bulk feeder.
10 半導体装置
10a RFモジュール
11 積層基板
11a セラミック基板
11b セラミック基板
11c セラミック基板
11d セラミック基板
11e セラミック基板
12 ビア
13 半導体チップ
13a 電界効果トランジスタ
14 チップ部品
14a コンデンサ
14b チップコイル
14c レジスタ
14d 空芯コイル
15 樹脂
16 半田
17 ワイヤボンディング
17a 金線
21 絶縁部分
22 非絶縁部分
23 芯線
24 絶縁膜
30 半導体製造装置
30a バルクフィーダ
31 バルク収納ケース
32 ホッパー
33 バルク供給部
34 搬送レール
34a ガイド孔
34b 搬送レール本体
35 凹部
36 摺動子
37 吸着室
37a 側壁
38 ストッパ部
39 底面
40 吸着用装置
40a コレット
41 出入り口
42 段部
51 シャッター
52 バネ
60a 真空吸引通路
60b 真空吸引通路
60c 真空吸引通路
60d 真空吸引通路
60e 真空吸引通路
61 球体
62 球体制御面
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記吸着室の前記吸着用装置が出入りする開口部は、前記部品が前記吸着用装置で吸着されるまで待機される前記吸着室の待機場所より広く形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device comprising a step of adsorbing a component in an adsorption chamber of a component supply device with an adsorption device,
An opening of the suction chamber through which the suction device enters and exits is formed wider than a standby place of the suction chamber where the component is waited until the component is sucked by the suction device. Production method.
前記部品の前記吸着用装置による吸着前に待機させられる待機場所よりも、前記部品を吸着するために前記吸着用装置が出入りする、前記待機場所より上方位置に設けた出入り口の方が広く形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device comprising a step of adsorbing a component provided by a component supply device with an adsorption device,
The entrance / exit provided at a position above the standby location where the suction device enters and exits to adsorb the component is formed wider than the standby location where the component is allowed to stand by before the adsorption by the adsorption device. A method for manufacturing a semiconductor device.
前記部品が前記吸着用装置で吸着されるまで待機する待機場所に対して、周囲の壁が90度より大きい角度で立ち上げられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device comprising a step of adsorbing a component provided by a component supply device with an adsorption device,
A manufacturing method of a semiconductor device, wherein a surrounding wall is raised at an angle larger than 90 degrees with respect to a standby place where the part is on standby until the component is picked up by the suction device.
前記円筒状部品が前記吸着用装置で吸着されるまで待機する待機場所より、前記円筒状部品を吸着するために前記吸着用装置が出入りする、前記待機場所より上方位置に設けた
出入り口の方が広く形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method for manufacturing a semiconductor device comprising a step of adsorbing a cylindrical part provided by a bulk feeder with an adsorption device,
The entrance / exit provided at a position above the standby location from which the suction device enters / exits in order to adsorb the cylindrical component from the standby location where the cylindrical component waits until the cylindrical device is adsorbed by the adsorption device. A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the semiconductor device is widely formed.
前記空芯コイルが前記コレットで吸着されるまで待機する待機場所より、前記空芯コイルを吸着するために前記コレットが出入りする出入り口が広く形成されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method for manufacturing a semiconductor device comprising a step of adsorbing an air-core coil provided by a bulk feeder with a collet,
2. A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein an entrance through which the collet enters and exits in order to adsorb the air-core coil is formed wider than a standby place where the air-core coil is adsorbed by the collet.
Priority Applications (1)
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-
2005
- 2005-11-17 JP JP2005332881A patent/JP2007142095A/en active Pending
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